JP2019049255A - 真空ポンプの磁気支承部のマグネットリングのマーキングの為の方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、真空ポンプの磁気支承部のマグネットリングを、真空発生を損なうことなくマーキングすることである。
【解決手段】課題は、真空ポンプ（１１１）、特にターボ分子ポンプの磁気支承部（１８３）のマグネットリング（１９５，１９７）のマーキングの為の方法であって、この方法において、マグネットリング（１９５，１９７）の表面に、当該表面において、マグネットリング（１９５，１９７）の他の残りの表面と比較して異なる表面特性が加熱によって生じることによって、マーキング（２２５，２２７）が生じることを特徴とする方法により解決される。
【選択図】 図１

Description

本発明は、真空ポンプ、特にターボ分子真空ポンプの磁気支承部のマグネットリングをマーキングする方法、少なくとも一つのマグネットリングを有する磁気支承部を有する真空ポンプに関する。

真空ポンプの模範的な磁気支承部は、複数のマグネットリングを有する。これらは、例えば極性のような方向に応じた特性を有する。よって磁気支承部の組立の為には、通常、マグネットリングにマーキングを付す。これらは、方向に応じた特性を見分けることが可能となる。

先行技術においては、そのようなマーキングは例えば、フェルトペンによりマグネットリングに施される。しかしこれは、真空の汚染に通じ得る。特に、フェルトペンマーキングは、一般的に、溶剤によって可溶であり、そして溶剤は、真空ポンプの組立の際、しばしば必要不可欠だからである。更に、可溶性のフェルトペンカラーは流れ、及び／又は視認可能な残留物を形成し得る。

本発明の課題は、真空ポンプの磁気支承部のマグネットリングを、真空発生を損なうことなくマーキングすることである。

この課題は、請求項１に記載の方法によって、特にマーキングが、マグネットリングの表面に形成されること、当該表面において加熱によってマグネットリングの残りの表面と比較して異なる表面特性が形成されることによって解決される。

これによって色が省略され、そしてこれと関連する問題が回避されることが可能となる。色の省略によって、特に高真空において存在する部材（ここでは磁気支承部のようなもの）のガス放出特性が減少されることが可能である。これは、必要な排ポンプ時間を短縮し、そして達成可能なより低い最終圧力を可能とする。よって真空、又はポンプは、全体として極めて清潔に保持されることも可能である。その上、発明に係るマーキングは、耐溶剤性である。よって、場合によっては発生する溶剤との接触の際にも、マーキングの流れと残留が効率的に防止されることができる。

異なる表面特性は、例えば、異なる組成、及び／又は異なる粗さを含み得る。異なる表面特性は、特に視覚的に知覚可能、又は視認可能である。

一つの実施形においては、レーザーによる加熱が実施される。これは、特に正確かつ迅速なマーキングを可能とする。特に、これによってマグネットリングの表面の加熱が正確に制御されることが可能だからである。これはまた、マーキングの領域における局所的な加熱を、強烈に制限することも可能とする。マグネットは、通常、その磁性特性が極めて温度に敏感であるので、よって、脱磁は少なくとも基本的に、又はほぼ防止されることが可能である。マーキングの領域における脱磁が発生した場合、これはレーザーパラメーターを適当に選択することによって低く保たれることが可能である。例えばレーザーによるマーキングが、支承性能及びポンプ性能に関する磁気的特徴値に応じて通常行われるマグネットリングのカテゴリー化に影響しないということも示された。

マーキングの適当な位置決めとレーザーパラメーターの選択によって、例えば不均一磁場が生じることによって乱流が派生した結果としての加熱といった悪影響が支承性能及びポンプ性能に及ばないようにすることも可能である。理想的なレーザーパラメーターは、通常、レーザーの焦点直径と、磁石の材料特性及び表面特性に応じる。

レーザーとして、例えばファイバーレーザー、ダイオードレーザー、固体レーザー、又はガスレーザーが意図され得る。レーザーは、パルス化して、特にナノセカンド領域のパルス幅で、連続運転で作動することが可能である。レーザーの波長は、有利には、少なくとも７００ｎｍ、特に少なくとも１０００ｎｍ、及び／又は最高１５００ｎｍ、特に最高１１００ｎｍ、特に約１０６４ｎｍであり得る。特に好ましくは、約１０６４ｎｍの波長と、ナノセカンド領域のパルス幅を有するパルス化されたファイバーレーザーが使用され得る。

レーザーは、一つの実施形に従い、転向ユニット、特にスキャナー、特に２Ｄスキャナーによってマグネットリングの表面にわたって細かく平行線を引くように（ハッチングするように、独語：ｓｃｈｒａｆｆｉｅｒｅｎｄ）転向されることが可能である。スキャナーは、例えば一、又は複数のガルボミラー（独語：Ｇａｌｖｏｓｐｉｅｇｅｌ）を有し得る。光学装置、特に少なくとも一つのレンズがレーザーの為に、特にスキャナーに、又はそｎ出口に設けられていることが可能である。これは、少なくとも５ｃｍ、特に少なくとも２０ｃｍ、及び／又は最高７０ｃｍ、特に最高５０ｃｍの焦点距離を有する。レーザーの焦点は、例えば少なくとも０．０２ｍｍ、及び／又は最高１ｍｍの直径を有し得る。転向ユニットは、レーザー線を、例えば周期的に、マーキングの領域の表面にわたって移動し、これを塗りつぶす、及び／又はハッチングする（独語：ｓｃｈｒａｆｆｉｅｒｅｎ）。代替的に、レーザーの線は、転向されることなくマーキングすべき表面へと向けられることも可能である。その際、レーザー、及び／又はマグネットリングは、ある面積をもつ（独語：ｆｌａｅｃｈｉｇ）マーキングの製造の為に移動させられる。

レーザーは、マーキングの際、例えば、少なくとも１０ワット、及び／又は最高４０ワット、特に少なくとも２０ワット、及び／又は最高３０の出力で運転されることが可能である。

パルス周波数、又は繰り返し周波数は、例えば少なくとも５０ｋＨｚ、特に少なくとも１５０ｋＨｚ、及び／又は最高４００ｋＨｚ、特に最高２５０ｋＨｚ、特に約２００ｋＨｚの値を取り得る。代替として、例えば連続的に放射するレーザー、又は「ＣＷ」レーザーが設けられていることが可能である。

例えば、レーザーが、マーキングの領域の加熱を、特に細かく平行線を引くように（ハッチングするように）、少なくとも一回、及び／又は最高２０回繰り返すことが意図されていることが可能である。特に有利には、例えば少なくとも２回、及び／又は、せいぜい５回マーキング実施、又はハッチングの実施が行われる。好ましくは、少なくとも一度のマーキング実施、又はハッチングの実施は、前回のマーキング実施、又はハッチングの実施に対して向きを反転するように（独語：ｇｅｄｒｅｈｔ）行われることが可能である。

レーザーによるマーキングの別の有利なパラメーターには、レーザー線、特にその焦点のの送り速度、特にコーティングされたマグネットリングにおいては少なくとも５０ｍｍ／ｓ、特に少なくとも５００ｍｍ／ｓ、及び／又は、最高２５００ｍｍ／ｓ、特に最高２０００ｍｍ／ｓ、及び／又は、特にコーティングされていない特に希土類を含むマグネットにおいては、少なくとも１００ｍｍ／ｓ、及び／又は最高５００ｍｍ／ｓの送り速度が含まれる。

さらなる発展形においては、マーキングが、レーザーの焦点面の外側に存在し、特に少なくとも０ｍｍ、及び／又は最高５０ｍｍ、特に少なくとも０ｍｍ、及び／又は最高３０ｍｍ、特に少なくとも０ｍｍ、及び／又は最高２０ｍｍ、特に最高１０ｍｍ、特に最高７ｍｍの間隔分だけ焦点面の外側に存在するよう、レーザー、及び／又はマグネットリングは形成されている。

稜線形成がされない程度のみ、表面が加熱されると有利である。よって表面はなめらかなままであり、そして、例えばポリッシングのような更なる処理が必要とされることなく、例えばマグネットリングの圧入に関与することが可能である。上述した有利なレーザーパラメーターは、少ない稜線形成に有利に働き、又はこれを完全に防止することができる。

別の実施形は、マグネットリングが、少なくともマーキングの領域において、コーティングされておらず、マーキングの領域の表面が焼き戻されるが、しかし溶融されないということが意図されている。ここで磁石材料は、直接、かつ表面近傍において加熱され、そして高性能磁石材料は、しばしば融解の後に不均一に固まるのみで、そして稜線を形成するので、これによって稜線形成の防止しつつ、しかし良好に視認可能なマーキングが作られることが可能である。また、そのようにして脱磁も低く保たれることが可能である。

他の実施形に従い、表面は、少なくともマーキングの領域において、マグネットリングのコーティングによって形成されており、そしてマーキングの領域の表面は、短時間で溶ける。コーティング材料は、融解の後も、特に冷却の際の溶融層の表面応力に基づいて、稜線を形成しないので、これはここでは無害である。更に、コーティング材料は、焼き戻しによって着色を行わないことが意図され得る。その代りに、この実施形に従い溶融によって、視認可能な変化、例えば平滑化（独語：Ｇｌａｅｔｔｕｎｇ）が、コーティング材料の表面構造中に形成される。平滑化は、特に表面応力によって引き起こされる。これは、特にコーティングが化学的にガルバニックに、又はスパッタプロセス、スプレープロセス、若しくは浴潜プロセスによって施され、そしてこれらの方法に典型的な表面を有し、しかしこの表面が、状態変化の後、当該表面と視覚上異なっているとき、特に有利に可能である。更に、コーティングのみが溶かされるとき有利である。その際、コア材料の磁化は、非本質的にのみ影響を受ける。

例えば、マグネットリングは、ニッケルコーティングを有し得る。マグネットリングは特に、コバルト合金を含み得る。マグネットリングは、サマリウム、又は他の希土類を含み得る。有利には、マグネットリングは、ＳｍＣｏ５、又はＳｍ_２Ｃｏ_１７を含む。

発展形においては、マーキングがマグネットリングの外側面、及び／又は正面に配置されていることが意図されている。これらは、特に簡単に発明に従い加熱される、又はマーキングされることが可能である。これ、又はこれらはレーザーによって行われる。

有利には、まさに一つのマーキングがマグネットリング上に設けられていることが可能である。例えば、発明に係る方法は、更に、マグネットリングの磁石極性の検出と、方向依存する更なる特性の検出を含む。これは特に、エラー箇所、例えば角度エラーや、不均一性や、その優先方向である。その際、唯一のマーキングが施される。このマーキングは、極性も、方向依存する別の特性も検出可能とする。

磁気支承部が複数のマグネットリングを有する真空ポンプの製造の為の有利な方法においては、少なくとも一つのマグネットリングが、その特性に応じて、本発明に係るマーキング方法によってマーキングされ、そしてマグネットリングは、真空ポンプの磁気支承部内でマーキングに応じて配置される。

この製造方法の発展形においては、マグネットリングは圧入によって真空ポンプ内で固定され、そしてマーキングは、例えばマグネットリングの圧入に関与する面に配置されている。

本発明の課題は、独立装置請求項に従う真空ポンプによって解決され、これは特に、マグネットリングが表面にマーキングを有し、その際、表面が、マーキングの領域において、マグネットリングの他の残された表面と比較して異なる表面特性を有することによって解決される。

発明に係るマーキング方法は、有利には、ここで記載した製造方法及び真空ポンプの実施形の意味においても形成されることが可能であり、そしてその逆も可能である。

以下に本発明を、添付の図面を参照しつつ、有利な実施形に基づいて例示的に説明する。

ターボ分子ポンプの斜視図 図１のターボ分子ポンプの下側の図 図２に示された切断線Ａ−Ａに沿うターボ分子ポンプの断面図 図２に示された切断線Ｂ−Ｂに沿うターボ分子ポンプの断面図 図２に示された切断線Ｃ−Ｃに沿うターボ分子ポンプの断面図 図２のターボ分子ポンプの磁気支承部の二つのマグネットリング

本発明が意図されていることが可能である図１に示されたターボ分子ポンプ１１１は、インレットフランジ１１３によって取り囲まれるポンプインレット１１５を有する。ポンプインレットには、公知の方法で図示されないレシーバーが接続されることが可能である。レシーバーからのガスは、ポンプインレット１１５を介してレシーバーから吸引され、そしてポンプを通してポンプアウトレット１１７へと搬送されることが可能である。これには、予真空ポンプ（例えばロータリーベーンポンプのようなもの）が接続されていることが可能である。

インレットフランジ１１３は、図１の真空ポンプの向きにおいて、真空ポンプ１１１のハウジングの上側の端部を形成する。ハウジング１１９は、下部分１２１を有する。これには、側方にエレクトロニクスハウジング１２３が設けられている。エレクトロニクスハウジング１２３内には、電気的、及び／又は電子的な真空ポンプ１１１のコンポーネントが入れられている。これは例えば、真空ポンプ内に配置された電動モーター１２５の駆動の為のものである。エレクトロニクスハウジング１２３は、アクセサリの為の複数の接続部１２７を設けられている。その上、データインターフェース１２９、例えばＲＳ４８５スタンダードに従うものと、電流供給接続部１３１がエレクトロニクスハウジング１２３に設けられている。

ターボ分子ポンプ１１１のハウジング１１９には、フラットインレット１３３、特にフラットバルブの形式のものが設けられている。下部分１２１の領域には、更に、シールガス接続部１３５が設けられている。これは、洗浄ガス接続部とも称される。これを介して、ポンプによってモーター室１３７内に搬送されるガスに対する電動モーター１２５の保護の為の洗浄ガスが、運ばれることが可能である。モーター室１３７内には、真空ポンプ１１１内の電動モーター１２５が入れられている。下部分１２１内には、更に、二つの冷却媒体接続部１３９が設けられている。その際、冷却媒体の為の冷却媒体接続部の一方はインレットとして、そして冷却媒体接続部の他方は、アウトレットとして設けられている。これは、冷却目的で真空ポンプ内に導かれることができる。

真空ポンプの下側の面１４１は、起立面として使用されるので、真空ポンプ１１は下側面１４１状に起立して運転されることが可能である。しかしまた、真空ポンプ１１１は、インレットフランジ１１３を介してレシーバーに固定されることも可能である。これによっていわば懸吊・懸架されて運転されることができる。その上、真空ポンプ１１１は、図１に示されているのとことなるように向けられているとき、これが運転されることが可能であるよう形成されていることも可能である。下側面１４１が、下に向かってでなく、当該側の方に向けて、又は上に向けられて配置されることも可能である真空ポンプの実施形も実現可能である。

図２に表されている下側面１４１には、いくつかのスクリュー１４３が設けられている。これによって、ここでは更に特定されない真空ポンプの部材が互いに固定されている。例えば、支承部カバー１４５が下側面１４１に固定されている。

下側面１４１には、更に複数の固定孔１４７が設けられている。これを介して、ポンプ１１１が、例えば当接面に固定されることが可能である。

図２から５には、冷却媒体配管１４８が表されている。この中で、冷却媒体接続部１３９を介して導入及び導出される冷却媒体が循環されることが可能である。

図３から５の断面図に示すように、真空ポンプは、複数のポンプ段を有する。ポンプインレット１１５におよぶプロセスガスをポンプアウトレット１１７に搬送するためのものである。

ハウジング１１９内には、ローター１４９が設けられている。これは、回転軸１５１を中心として回転可能なローターシャフト１５３を有している。

ターボ分子ポンプ１１１は、ポンプ効果を奏するよう互いにシリアルに接続された複数のターボ分子ポンプ段を有する。これは、ローターシャフト１５３に固定された半径方向の複数のローターディスク１５５と、ローターディスク１５５の間に配置され、ハウジング１１９内に固定されて複数のステーターディスク１５７を有する。その際、ローターディスク１５５、および隣接するステーターディスク１５７は、各一のポンプ段を形成する。ステーターディスク１５７は、スペーサーリング１５９によって所望の軸方向間隔に互いに保持されている。

真空ポンプは、その上、軸方向において互いに入れ子式に配置され、そしてポンプ効果を奏するよう互いにシリアルに接続されたホルベックポンプ段を有している。ホルベックポンプ段のローターは、ローターシャフト１５３に設けられたローターハブ１６１と、ローターハブ１６１に固定され、そしてこれによって担持されるシリンダー側面形状の二つのホルベックロータースリーブ１６３，１６６を有する。これらは、回転軸１５１に対して同軸に向けられており、そして半径方向で互いに入れ子式に接続されている。更に、二つのシリンダー側面形状のホルベックステータースリーブ１６７，１６９が設けられている。これらは、どうように回転軸１５１に対して同軸に向けられており、半径歩行でみて互いに入れ子式に接続されている。

ホルベックポンプ段のポンプ効果を発する表面は、ホルベックロータースリーブ１６３，１６５とホルベックステータースリーブ１６７，１６９の側面によって、つまり半径方向内側面及び／又は外側面形成されている。外側のホルベックステータースリーブ１６７の半径方向内側面は、外側のホルベックロータースリーブ１６３の半径方向外側面と、半径方向のホルベック間隙１７１を形成しつつ向かい合っており、そしてこれともに、ターボ分子ポンプ段に続く第一のホルベックポンプ段を形成する。外側のホルベックロータースリーブ１６３の半径方向内側面は、内側のホルベックステータースリーブ１６９の半径方向外側面と、半径方向のホルベック間隙１７３を形成しつつ向かい合っており、そしてこれとともに、第二のホルベックポンプ段を形成する。内側のホルベックスタータースリーブ１６９の半径方向内側面は、内側のホルベックロータースリーブ１６５の半径方向外側面と半径方向のホルベック間隙１７５を形成しつつ向かい合っており、そしてこれと共に、第三のホルベックポンプ段を形成する。

ホルベックロータースリーブ１６３の下側の端部には、半径方向に推移するチャネルが設けられていることが可能である。これを介して、半径方向外側に位置するホルベック間隙１７１が中央のホルベック間隙１７３と接続されている。更に、内側のホルベックステータースリーブ１６９の上側の端部には、半径方向に推移するチャネルが設けられていることが可能である。これを介して、中央のホルベック間隙１７３が半径方向内側のホルベック間隙１７５と接続されている。これによって、互いに入れ子式に接続されたホルベックポンプ段が、互いにシリアルに接続される。半径方向内側に位置するホルベックロータースリーブ１６５の下側の端部は、更に、アウトレット１１７への接続チャネル１７９を設けられていることが可能である。

ホルベックステータースリーブ１６３，１６５の上述したポンプ効果を発する表面は、其々、回転軸１５１の周りを軸方向にらせん形状に推移する複数のホルベック溝を有する。他方で、ホルベックロータースリーブ１６３，１６５の向かい合った側面は滑らかに形成されており、そしてガスを真空ポンプ１１１の運転の為、ホルベック溝内へと促進する。

ローターシャフト１５３の回転可能な支承の為に、ローラー支承部１８１がポンプアウトレット１１７の領域に設けられ、そして永久磁石支承部１８３がポンプインレット１１５の領域内に設けられている。

ローラー支承部１８１の領域内には、ローターシャフト１５３に円すい形のスプラッシュナット１８５が設けられている。これは、ローラー支承部１８１の方に向かって増加する外直径を有している。スプラッシュナット１８５は、少なくとも一つのスキマー（作動媒体貯蔵部のスキマー）と滑り接触している。作動媒体貯蔵部は、互いに積層された吸収性の複数のディスク１８７を有する。これは、ローラー支承部１８１の為の作動媒体、例えば潤滑剤を染み込ませられている。

真空ポンプ１１の運転中、作動媒体を毛細管効果によって作動媒体貯蔵部からスキマーを介して、回転するスプラッシュナット１８５へと伝達する。そして遠心力によってスプラッシュナット１８５に沿って大きくなる外直径１８５（スプラッシュナット９２の外直径）の方へと、ローラー支承部１８１に向かって搬送される。そこで例えば潤滑機能を発揮する。ローラー支承部１８１と作動媒体貯蔵部は、槽形状のインサート１８９と支承部カバー１４５によって真空ポンプ内にはめ込まれている。

永久磁石支承部１８３は、ローター側の支承半部１９１とステーター側の支承半部１９３を有する。これらは、其々、リング積層部を有する。リング積層部は、軸方向に連続して積層された永久磁石の複数のリング１９５，１９７から成っている。リングマグネット１９５，１９７は、互いに半径方向の支承間隙１９９を形成しつつ互いに向かい合っている。その際、ローター側のリングマグネット１９５は半径方向外側に配置され、そしてステーター側のリングマグネット１９７は半径方向内側に配置されている。支承間隙１９９内に存在する磁場は、磁気的な反発力をリングマグネット１９５，１９７の間に引き起こす。これは、ローターシャフト１５３の半径方向の支承を実現する。ローター側のリングマグネット１９５は、ローターシャフト１５３の担持部分２０１によって担持されている。これはリングマグネット１９５を半径方向外側で取り囲んでいる。ステーター側のリングマグネット１９７は、ステーター側の担持部分により担持されている。これは、リングマグネット１９７を通って延在し、そしてハウジング１１９の半径方向の支柱に懸架されている。回転軸１５１に平行に、ローター側のリングマグネット１９５が担持部分２０３と連結あされたカバー要素２０７によって固定されている。ステーター側のリングマグネット１９７は、回転軸１５１に平行に、一方の方向で担持部分２０３と接続される固定リングによって、及び担持部分２０３と接続される固定リング２１１によって固定されている。固定リング２１１とリングマグネット１９７の間には、更にさらばね２１３が設けられていることが可能である。

磁石支承部の内部には、緊急用又は安全用支承部２１５が設けられている。これは、真空ポンプの通常の運転では非接触で空転し、そしてローター１４９がステーターに対して半径方向に過剰に偏向した際に初めて係合するに至り、ローター１４９のための半径方向のストッパーを形成する。ローター側の構造がステーター側の構造と衝突するのを防止するためである。安全用支承部２１５は、潤滑されていないローラー支承部として形成されており、そしてローター、及び／又はステーターと半径方向の間隙を形成する。この間隙は、安全用支承部２１５が通常運転中は、係合外であることを実現する。安全用支承部２１５が係合する半径方向の偏向は、十分大きくとられているので、安全用支承部２１５は真空ポンプの通常の運転では係合せず、そして同時に十分小さいので、ローター側の構造がステーター側の構造と衝突することがあらゆる状況で防止される。

真空ポンプ１１１は、ローター１４９の回転駆動の為の電動モーター１２５を有する。電動モーター１２５のアンカーは、ローター１４９によって形成されている。そのローターシャフト１５３は、モーターステーター２１７を通って延在している。モーターステーター２１７を通って延在するローターシャフト１５３の部分には、永久磁石装置が半径方向外側に配置されているか、又は埋め込まれて配置されていることが可能である。モーターステーター２１７とモーターステーター２１７を通って延在するローター１４９の部分の間には、中間空間２１９が設けられている。この中間空間は、半径方向のモーター間隙を有する。これを介してモーターステーター２１７と永久磁石が駆動トルク伝達のため磁気的に影響することが可能である。

モーターステーター２１７は、ハウジング内、電動モーター１２５の為に設けられるモーター室１３７内に固定されている。シールガス接続部１３５を介して、シールガス（洗浄ガスとも称され、そして例えば空気又は窒素であることが可能である）がモーター室１３７内へと至る。シールガスを介して、電動モーター１２５がプロセスガス（例えば腐食性に作用するプロセスガスの部分）から保護されることが可能である。モーター室１３は、ポンプアウトレット１１７を介して真空引きされることも可能である。つまりモーター室１３７内は、少なくとも近似的に、ポンプアウトレット１１７に接続される予真空ポンプによって引き起こされる真空圧となっている。

ローターハブ１６１とモーター室１３７の間を画成する壁部２２１は、更に一つのいわゆる、それ自体公知であるラビリンスシール２２３を設けられていることが可能である。特に、半径方向外側に位置するホルベックポンプ段に対するモーター室２１７のより良好なシールを達成するためである。

図６には、二つのリングマグネット、又はマグネットリング１９５及び１９７が示されている。これらは、其々マーキング２２５又は２２７を有する。マグネットリング１９５は、図３に示された磁気支承部１８３の外側のリングである。マグネットリング１９７は、これと反対に磁気支承部１８３の内側のリングである。

外側のマグネットリング１９５は、外側面にマーキング２２５を有する。マグネットリング１９５は、ローター軸１５３のキャリア部分２０１と圧入を介して接続されている。このしまり嵌めには、マグネットリング１９５のマーキングされた外側面が関与している。

内側のマグネットリング１９７は、正面にそのマーキング２２７を有する。運転中、外側のマグネットリング１９５の内側面と、内側のマグネットリング１９７の外側面の間には、支承間隙１９９が形成されている。マーキング２２５及び２２７は、つまり両方とも支承間隙と反対側の面に配置されている。よって場合によっては、マーキング２２５及び２２７によって引き起こされる磁性劣化（独語：Ｍａｇｎｅｔｉｓｉｅｒｕｎｇｓｖｅｒｓｃｈｌｅｃｈｔｅｒｕｎｇｅｎ）は、間隙内の磁場に影響を与えない、又はごく僅かのみ影響を与えるということが可能である。マーキング２２５及び２２７は、よって、ローター１４９の回転特性に全く、又はほとんど影響しない。

マーキング２２５及び２２７は、其々、磁極性も、方向依存する別の特性（特に角度エラー、不均質性エラー、及び／又はマグネットリング１９５又は１９７のベクトル上の優先方向（独語：Ｖｏｒｚｕｇｓｒｉｃｈｔｕｎｇ））も表示しているように配置され、そして形成されている。その際、マーキング２２５は矢印として形成されている。これは、その方向によって極性を示し、そしてマグネットリング１９５の周囲におけるその位置によって、方向依存する別の特性と、ベクトル上の優先方向を示す。マーキング２２７は、これと反対に点として形成されている。これは、その軸方向の位置いよって極性を示し、そしてマグネットリング１９７の周囲におけるその位置によってベクトル上の優先方向を示す。

１１１ ターボ分子ポンプ
１１３ インレットフランジ
１１５ ポンプインレット
１１７ ポンプアウトレット
１１９ ハウジング
１２１ 下部分
１２３ エレクトロニクスハウジング
１２５ 電動モーター
１２７ アクセサリー接続部
１２９ データインターフェース
１３１ 電源供給接続部
１３３ フローインレット
１３５ シールガス接続部
１３７ モーター室
１３９ 冷却媒体接続部
１４１ 下側
１４３ スクリュー
１４５ 支承部カバー
１４７ 固定穴
１４８ 冷却媒体配管
１４９ ローター
１５１ 回転軸
１５３ ローター軸
１５５ ローターディスク
１５７ ステーターディスク
１５９ スペーサーリング
１６１ ローターハブ
１６３ ホルベックロータースリーブ
１６５ ホルベックロータースリーブ
１６７ ホルベックステータースリーブ
１６９ ホルベックステータースリーブ
１７１ ホルベック間隙
１７３ ホルベック間隙
１７５ ホルベック間隙
１７９ 接続チャネル
１８１ ローラー支承部
１８３ 永久磁石支承部
１８５ スプラッシュナット
１８７ ディスク
１８９ インサート
１９１ ローター側の支承半部
１９３ ステーター側の支承半部
１９５ リングマグネット
１９７ リングマグネット
１９９ 支承間隙
２０１ キャリア部分
２０３ キャリア部分
２０５ 半径方向の支柱
２０７ カバー要素
２０９ 支持リング
２１１ 固定リング
２１３ さらばね
２１５ 緊急用、又は安全用支承部
２１７ モーターステーター
２１９ 中間空間
２２１ 壁部
２２３ ラビリンスシール
２２５ マーキング
２２７ マーキング

Claims (15)

1. 真空ポンプ（１１１）、特にターボ分子ポンプの磁気支承部（１８３）のマグネットリング（１９５，１９７）のマーキングの為の方法であって、この方法において、マグネットリング（１９５，１９７）の表面に、当該表面において、マグネットリング（１９５，１９７）の他の残りの表面と比較して異なる表面特性が加熱によって生じることによって、マーキング（２２５，２２７）が生じることを特徴とする方法。
2. 加熱が、レーザーによって実施され、特にファイバーレーザーによって、特にナノセカンド領域のパルス幅、及び／又は約１０６４の波長を有するファイバーレーザーによって、及び／又は、その際、特にレーザーが、スキャナーによってマグネットリングの表面にわたってハッチングするよう転向され、及び／又は、その際、レーザーの為の光学装置、特にスキャナーに、５ｃｍから７０ｃｍの間の焦点距離で設けられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. レーザーがマーキングの際に、１０ワットから４０ワットの出力により運転されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
4. レーザーが、マーキングの際、５０ｋＨｚから４００ｋＨｚの間のパルス周波数でもって運転されることを特徴とする請求項２または３に記載の方法。
5. レーザーが、マーキング（２２５，２２７）の領域の加熱を少なくとも一回繰り返すことを特徴とする請求項２から４の少なくとも一項に記載の方法。
6. マーキング（２２５，２２７）が、レーザーの焦点面の外に位置する、特に０ｍｍから２０ｍｍの間の間隔で焦点面の外に位置するように、レーザー、及び／又はマグネットリングが整向されることを特徴とする請求項２から５の少なくとも一項に記載の方法。
7. 表面が、稜線形成が行われない程度のみ加熱されることを特徴とする請求項１から６の少なくとも一項に記載の方法。
8. マグネットリング（１９５，１９７）が、少なくともマーキング（１９５，１９７）の領域においてコーティングを施されておらず、及び表面が、マーキング（１９５，１９７）の領域において焼き戻されるが、しかし溶融しないことを特徴とする請求項１から７の少なくとも一項に記載の方法。
9. 表面が、少なくともマーキング（２２５，２２７）の領域において、マグネットリング（１９５，１９７）のコーティングによって形成されており、そして表面がマーキング（１９５，１９７）の領域において短時間溶融され、特に、表面が後続する硬化の後に、変化した表面粗さを有するよう溶融されることを特徴とする請求項１から８の少なくとも一項に記載の方法。
10. マグネットリング（１９５，１９７）が、ニッケルコーティング、及び／又はコバルト合金を有することを特徴とする請求項１から９の少なくとも一項に記載の方法。
11. マーキング（２２５，２２７）が、マグネットリング（１９５，１９７）の外側面、及び／又は正面に配置されていることを特徴とする請求項１から１０の少なくとも一項に記載の方法。
12. 方法が、更に、マグネットリング（１９５，１９７）の極性と、方向依存する更なる特性の検出を含み、その際、唯一のマーキング（２２５，２２７）が施され、このマーキングが、方向依存する特性に相当するマグネットリングの角度位置に配置されることによって、マーキングが、極性も、方向依存する別の特性も認識可能とさせることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 複数のマグネットリング（１９５，１９７）を有する磁気支承部（１８３）を有する真空ポンプ（１１１）の製造の為の方法であって、この方法において、
    少なくとも一つのマグネットリング（１９５，１９７）が、その特性の一つに応じて請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法によってマーキングされ、そして、
    マグネットリング（１９５，１９７）が、マーキングに応じて真空ポンプの磁気支承部（１８３）内に配置されることを特徴とする方法。
14. マグネットリング（１９５，１９７）が、圧入によって真空ポンプ（１１１）内で固定され、そしてマーキング（１９５，１９７）が圧入に関与するマグネットリング（１９５，１９７）の表面に配置されていることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
15. 少なくとも一つのマグネットリング（１９５，１９７）を有する磁気支承部（１８３）を有する真空ポンプ（１１１）であって、
    その際、マグネットリング（１９５，１９７）が、表面にマーキング（２２５，２２７）を有し、その際、当該表面が、マーキング（２２５，２２７）の領域において、マグネットリングの他の残りの表面と比較して異なる表面特性を有することを特徴とする真空ポンプ。

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