JP2019029349A - 導電フィルム - Google Patents
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Abstract
Description
基材は、中間層及び金属部を支持する基材である。
中間層は、基材と、金属部との間に配置される層であり、金属酸化物を有する層である。上記金属酸化物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明に係る導電フィルムは、金属部を有する。本発明に係る導電フィルムは、導電部を有していてもよい。本発明に係る導電フィルムは、金属部と導電部とで、導電層が形成されていてもよい。
本発明に係る導電フィルムは、透明電極部材として好適に用いられる。本発明に係る導電フィルムは、有機ELデバイスの透明電極部材、液晶表示装置の透明電極部材又は調光フィルムの透明電極部材としてより好適に用いられる。本発明に係る導電フィルムは、有機ELデバイスの透明電極部材として用いられてもよく、液晶表示装置の透明電極部材としても用いられてもよく、調光フィルムの透明電極部材として用いられてもよい。上記透明電極部材は、タッチパネルに用いられてもよい。本発明に係る導電フィルムは、有機ELディスプレイ、有機EL照明装置、タッチパネル式の液晶表示装置又は調光ガラスに好適に用いられる。
ポリエチレンテレフタレート樹脂基材(東レ社製「ルミラー」、厚み50μm、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム)
スズ酸化物(SnOx)層
亜鉛酸化物(ZnOx)層
亜鉛酸化物:アルミニウム酸化物(ZnO:Al2О3)層
ケイ素酸化物(SiOx)層
酸化インジウムスズ(In2O3:SnO2)層
銀(20℃での密度10.49g/cm3)
中間層の形成(基材と中間層との積層体の作製):
ポリエチレンテレフタレート樹脂基材を真空装置内に設置し、5.0×10−4Pa以下となるまで真空排気した。続いて、アルゴンガスを導入して、MFマグネトロンスパッタリング法により、基材のバリア層側の表面上に、中間層としてスズ酸化物(SnOx)層(厚み1.9nm)を形成した。
さらに、DCマグネトロンスパッタ法により、中間層の表面上に銀(Ag)層(厚み98nm)を設けた。このようにして、導電フィルムを得た。
金属部の厚み、中間層の金属酸化物の種類、及び中間層の厚みを下記の表1のように変更したこと以外は実施例1と同様にして導電フィルムを得た。
(1)抵抗率
得られた導電フィルムの金属部の厚みを、蛍光X線分析装置(Rigaku社製「ZSX PrimusIII+」)を用いて得られた付着量と用いた金属種の密度(20℃)から算出した。また、導電フィルムの抵抗値を、抵抗率計(三菱ケミカルアナリテック社製「ロレスタAX MCP−T370」)を用いて測定した。得られた金属部の厚み、及び抵抗値より、導電フィルムの抵抗率を算出した。
○○:抵抗率が40Ωnm以下
○:抵抗率が40Ωnmを超え、45Ωnm未満
×:抵抗率が45Ωnm以上
得られた導電フィルムについて、以下のようにして、碁盤目試験(JIS K5400)を行った。1mm間隔で碁盤目に、導電フィルムの金属部に切り込みが入るように100マス分カッターで作成し、次に切り込み部分を有する導電フィルムにセロハンテープ(JIS Z1522)を十分に貼りつけて、テープの一端を60度の角度で強く引き剥がして金属部の剥離状態を確認した。剥離状態をJISに従い分類した。分類0、1、2の場合に、剥離した碁盤目の数は0である。表1には、金属部の剥離が生じなかった碁盤目の数を記載した。
上記碁盤目試験で、碁盤目枠外の金属部の剥離の有無を確認した。なお、碁盤目枠外の方が、上記(2)で確認した碁盤目よりも金属部の剥離が生じやすい。
基材と中間層との積層体の波長550nmにおける全光線透過率を測定した。上記全光線透過率は、分光光度計(日本分光社製「V−670」)を用いて測定した。なおディテクターには積分球を用いた。
基材と中間層との積層体において、菱化システム社製の三次元表面粗計「VertScan2.0」を用いて測定を行い、中間層の金属部側の表面の算術平均粗さSaを求めた。測定視野は470μm×353μmである。算術平均粗さSaは、ISO 25178に準拠して測定した。
2…基材
3…中間層
4…金属部
5…導電部
21…基材本体
22…バリア層
Claims (7)
- 基材と、
該基材の一方の表面上に配置された中間層と、
該中間層の前記基材側とは反対の表面上に配置された金属部とを備え、
前記中間層は、金属酸化物として、亜鉛酸化物、スズ酸化物、アルミニウム酸化物、ゲルマニウム酸化物、ガリウム酸化物、チタン酸化物、又はニオブ酸化物を含み、
前記中間層に含まれる金属酸化物の全体100質量%中、前記亜鉛酸化物、前記スズ酸化物、前記アルミニウム酸化物、前記ゲルマニウム酸化物、前記ガリウム酸化物、前記チタン酸化物、及び前記ニオブ酸化物の合計の含有量が90質量%以上である、導電フィルム。 - 前記中間層に含まれる金属酸化物の全てが、前記亜鉛酸化物、前記スズ酸化物、前記アルミニウム酸化物、前記ゲルマニウム酸化物、前記ガリウム酸化物、前記チタン酸化物、及び前記ニオブ酸化物のいずれかである、請求項1に記載の導電フィルム。
- 前記基材は樹脂フィルムを有し、該樹脂フィルムの材料が、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、又はポリウレア樹脂である、請求項1又は2に記載の導電フィルム。
- 前記金属部は、金、銀、銅、又は白金を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電フィルム。
- 前記中間層の前記基材側とは反対の表面上に、前記金属部が部分的に配置されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電フィルム。
- 前記基材と前記中間層との積層体の波長550nmにおける全光線透過率が80%以上である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電フィルム。
- 前記中間層の前記金属部側の表面の算術平均粗さSaが、0.5nm以上5nm以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電フィルム。
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JP2018138306A Pending JP2019029349A (ja) | 2017-07-25 | 2018-07-24 | 導電フィルム |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011024756A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | 東海ゴム工業株式会社 | 透明積層フィルムおよびその製造方法 |
JP2016068470A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 株式会社カネカ | 透明導電積層体および静電容量方式タッチパネル |
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- 2018-07-24 JP JP2018138306A patent/JP2019029349A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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WO2011024756A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | 東海ゴム工業株式会社 | 透明積層フィルムおよびその製造方法 |
JP2016068470A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 株式会社カネカ | 透明導電積層体および静電容量方式タッチパネル |
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