JP2019018583A - Laminated film - Google Patents

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Abstract

To provide a laminated film having a release film bonded thereto, which has small peeling strength, the peeling strength being hard to increase even when time elapses in a state of being bonded to an adhesive layer, does not reduce adhesive strength of the laminated adhesive layer, has excellent peelability and, when handling the release film, acquires little electric charge amount when the release film is peeled off from the adherend.SOLUTION: A release film for surface protection is a release film 5 having a release agent layer with a two layer structure obtained by laminating a first release agent layer 2 containing an antistatic agent and no fine particle on at least one surface of a substrate film 1 and a second release agent layer 4 containing fine particles 3 in this order. Total thickness of the first release agent layer 2 and the second release agent layer 4 is 0.4 to 2.0 μm. A projection height from a surface of the second release agent layer 4 to a top of the fine particles 3 is equal to or greater than the above total thickness, and both of the release agent layers 2 and 4 contain a silicone-based release agent.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、各種の粘着製品や粘着剤層を有する光学部材において、粘着剤層の保護に使用される離型フィルムに関する。さらに詳細には、剥離力が小さく、粘着剤層に貼合した状態で時間経過しても、剥離力が増大し難く、粘着剤層へのシリコーン成分の移行が少ないため、貼合した粘着剤層の粘着力を低下させない、剥離性に優れた離型フィルムであり、かつ、離型フィルムの取扱い時、及び離型フィルムを被着体から剥離する時の帯電量が少ない離型フィルムに関するものである。   The present invention relates to a release film used for protecting an adhesive layer in an optical member having various adhesive products and an adhesive layer. More specifically, the adhesive strength is small, and the adhesive strength is less likely to increase even after time has elapsed in the state of being bonded to the pressure-sensitive adhesive layer, and there is little migration of the silicone component to the pressure-sensitive adhesive layer. A release film that does not reduce the adhesive strength of the layer and has excellent releasability, and has a small charge amount when the release film is handled and when the release film is peeled off from the adherend. It is.

従来から、各種の用途に対して、離型フィルム（剥離フィルムと呼ばれることもある）が使用されている。中でもセラミック積層コンデンサー、セラミック基板等の各種セラミック製電子部品の製造時に使用されるグリーンシートの成形用離型フィルム、偏光板、光学フィルター、フラットパネルディスプレーなどの製造時に使用される粘着剤層を有する光学部材用の離型フィルム、タッチパネル部材や光学部材同士を貼合するための、光学部材貼合用の粘着剤層用の離型フィルムなどに、広く使用されている。   Conventionally, release films (sometimes referred to as release films) have been used for various applications. Above all, it has a pressure-sensitive adhesive layer used in the production of green sheet molding release films, polarizing plates, optical filters, flat panel displays, etc. used in the production of various ceramic electronic parts such as ceramic multilayer capacitors and ceramic substrates. Widely used for release films for optical members, touch panel members, release films for adhesive layers for bonding optical members, and the like.

セラミック積層コンデンサー、セラミック基板等の各種セラミック製電子部品の製造時に使用されるグリーンシートは、セラミック積層コンデンサーの小型化及び大容量化に伴い、薄膜化が進んでいる。グリーンシートを離型フィルムから剥離する際に、離型フィルムの剥離力が大きい場合には、グリーンシートが破損することから、従来に比べて剥離力の小さい離型フィルムが求められている。   Green sheets used in the production of various ceramic electronic components such as ceramic multilayer capacitors and ceramic substrates are becoming thinner as ceramic multilayer capacitors become smaller and larger in capacity. When a green sheet is peeled from a release film, if the release force of the release film is large, the green sheet is damaged. Therefore, a release film having a smaller peel force than the conventional one is required.

一方、液晶ディスプレイを構成する部材である偏光板、位相差板などの光学部材においては、該光学部材に形成された光学部材同士又は他の部材と貼り合わせる用途の粘着剤層を保護するために、離型フィルムが使用されている。
当該用途に使用される離型フィルムは、ディスプレイの大型化に伴い、偏光板などの光学部材及び離型フィルムの寸法が大きくなり、剥離面積が大きくても軽く剥離できることが必要とされている。そのため、従来に比べて剥離力の小さい離型フィルムが求められている。また、タッチパネルの構成部材や光学部材同士を貼合するための、光学部材用の粘着剤層については、タブレットＰＣ、タブレット端末、タッチパネルなどの薄型化に伴い、薄膜の粘着剤層でも光学部材の段差（例えば、携帯端末のカバーガラス等に用いられる額縁印刷の段差など）に追従できるように、凝集力の弱い粘着剤層が使用されている。しかし、凝集力の弱い粘着剤層を用いた場合、離型フィルムの剥離力が大き過ぎると光学部材用の粘着剤層が変形してしまうことから、従来に比べて剥離力の小さい離型フィルムが求められている。 On the other hand, in an optical member such as a polarizing plate and a retardation plate that are members constituting a liquid crystal display, in order to protect an adhesive layer for use in bonding with optical members formed on the optical member or with other members A release film is used.
The release film used for the application needs to be able to be peeled lightly even if the peel area is large, as the size of the optical member such as a polarizing plate and the release film increase as the display becomes larger. Therefore, there is a demand for a release film having a smaller peeling force than conventional ones. Moreover, about the adhesive layer for optical members for bonding the structural member and optical members of a touch panel, with thinning of tablet PC, a tablet terminal, a touch panel, etc., even a thin adhesive layer of an optical member A pressure-sensitive adhesive layer having a weak cohesive force is used so as to follow a step (for example, a step of frame printing used for a cover glass of a portable terminal). However, when a pressure-sensitive adhesive layer having a weak cohesive force is used, the release film having a smaller peeling force than conventional ones will be deformed if the release force of the release film is too large. Is required.

このように、セラミックグリーンシートの成形用離型フィルム、及び各種の粘着剤層を有する光学部材用の離型フィルムでは、従来に比べて剥離力の小さい離型フィルムが求められている。こうしたことを背景にして、特許文献１では、分子中にビニル基を１個のみ持つシリコーンを含有する硬化シリコーンを用いた離型フィルムが提案されている。
また、特許文献２では、ポリエステルフィルムの片面にオリゴマーの析出防止層を施し、その上に無溶剤系の付加反応硬化型シリコーンを含有する離型層を有し、テープ剥離力が１５ｍＮ／ｃｍ以下であり、かつ、シリコーン系成分の移行性評価接着率が９０％以上の離型フィルムが提案されている。
さらに、特許文献３では、官能基を有しないポリジメチルシロキサンなどの、軽剥離成分を添加していない付加反応型シリコーンを用い、５０〜６５℃の環境下で２０時間以上熱処理を施した離型フィルムであって、アクリル系粘着剤の剥離力が０．１５Ｎ／５０ｍｍ以下で残留接着率が９０％以上の離型フィルムが提案されている。 As described above, a release film for forming a ceramic green sheet and a release film for an optical member having various pressure-sensitive adhesive layers are required to have a release film having a smaller peeling force than conventional ones. Against this background, Patent Document 1 proposes a release film using a cured silicone containing silicone having only one vinyl group in the molecule.
Further, in Patent Document 2, an oligomer precipitation preventing layer is applied to one side of a polyester film, and a release layer containing a solventless addition reaction curable silicone is provided thereon, and the tape peeling force is 15 mN / cm or less. In addition, a release film having a migration evaluation adhesion rate of silicone components of 90% or more has been proposed.
Furthermore, in patent document 3, the release which performed the heat processing for 20 hours or more in 50-65 degreeC environment using the addition reaction type silicone which does not add the light peeling component, such as polydimethylsiloxane which does not have a functional group. A release film having a peeling force of acrylic pressure-sensitive adhesive of 0.15 N / 50 mm or less and a residual adhesive rate of 90% or more has been proposed.

特許文献１〜３においては、いずれも、剥離力が小さく、かつ、貼合した粘着剤層の粘着力を低下させない離型フィルムが提案されている。しかし、特許文献１に記載の離型フィルムでは、分子中にビニル基を１個のみ持つシリコーンを含有する硬化シリコーンを用いるため、ビニル基を完全に反応させないと、ビニル基を１個のみ持つシリコーンが粘着剤層に移行してしまい、粘着剤層の粘着力が低下してしまうことが懸念される。
また、特許文献２に記載の離型フィルムについては、オリゴマーの析出防止層を設けていることが、従来の離型フィルムと異なる。しかし、無溶剤系の付加反応硬化型シリコーンを使用しているため、剥離性能に関しては、従来の離型フィルムの剥離性能を超えるものではない。さらに、特許文献３に記載の離型フィルムでは、軽剥離成分を添加していない付加反応型シリコーンをエージングすることにより軽剥離化したものである。この場合、軽剥離の割には、貼合した粘着剤層の粘着力を低下させない離型フィルムが得られるが、さらに剥離力を低減することが困難である。 In each of Patent Documents 1 to 3, a release film is proposed that has a small peeling force and does not reduce the adhesive strength of the bonded adhesive layer. However, since the release film described in Patent Document 1 uses a cured silicone containing silicone having only one vinyl group in the molecule, silicone having only one vinyl group unless the vinyl group is completely reacted. Is likely to move to the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced.
Moreover, about the release film of patent document 2, it is different from the conventional release film that the precipitation prevention layer of an oligomer is provided. However, since a solventless addition reaction curable silicone is used, the peeling performance does not exceed the peeling performance of the conventional release film. Furthermore, the release film described in Patent Document 3 is lightly peeled by aging addition-reactive silicone to which no lightly peeling component is added. In this case, a release film that does not decrease the adhesive strength of the bonded adhesive layer is obtained for light peeling, but it is difficult to further reduce the peeling force.

また、特許文献４に記載の離型フィルムは、ポリエステルフィルムに所定の粒子径の不活性粒子を含むシリコーン剥離層を、所定の厚さに積層したものである。シリコーン剥離層を厚くした際に生じるブロッキング（離型フィルムをロール状に巻いた時に、離型フィルムの背面と剥離層が疑似接着をしてしまい、うまく巻き取れない現象）を、所定粒子径の不活性粒子をシリコーン剥離層に入れることで解決したものである。しかし、不活性粒子により、シリコーン剥離層が不連続になってしまうため、溶剤が接触すると、不活性粒子とシリコーンの界面に溶剤が浸透し、シリコーンが脱落する恐れがある。また、シリコーン剥離層の厚さに比べて粒子径の大きな不活性粒子を添加するために、離型フィルムを粘着剤層の表面保護に使用した場合に、不活性粒子が、粘着剤層側に付着し、粘着剤層の粘着力を低下させることがある。   The release film described in Patent Document 4 is obtained by laminating a polyester release layer containing inert particles having a predetermined particle diameter on a polyester film to a predetermined thickness. Blocking that occurs when the silicone release layer is thickened (a phenomenon in which when the release film is rolled into a roll, the back surface of the release film and the release layer are pseudo-bonded and cannot be wound well) This is solved by putting inert particles in the silicone release layer. However, since the silicone release layer is discontinuous due to the inert particles, when the solvent comes into contact with the solvent, the solvent may permeate the interface between the inert particles and the silicone, and the silicone may fall off. In addition, when adding a release film to protect the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in order to add inert particles having a particle size larger than the thickness of the silicone release layer, the inert particles are placed on the pressure-sensitive adhesive layer side. It may adhere and reduce the adhesive strength of the adhesive layer.

一方、離型フィルムを、粘着剤層などの被着体から剥離させる際に、剥離帯電が発生する場合がある。このため、光学部材の加工現場においては、剥離帯電による異物等の付着、或いは巻き込みによる不具合のみならず、静電気障害によって、配設された電子素子が損傷を受け、製品不良が発生する等の不具合を生じることがあった。そのため、帯電防止機能を有した離型フィルムが求められている。こうしたことを背景にして、特許文献５〜７に記載の離型フィルムでは、基材フィルムの表面に帯電防止層を形成し、その表面にシリコーン系離型剤層を形成した離型フィルムが提案されている。これらの提案は、いずれも、基材フィルムと離型剤層との間に帯電防止層を設けることで、帯電防止性能と離型性能とを両立させたものであるが、剥離性能の点では、通常の離型フィルムの剥離性能とは大差がなく、従来技術を越えるものではない。   On the other hand, when the release film is peeled off from an adherend such as an adhesive layer, peeling electrification may occur. For this reason, in the processing site of optical members, not only defects due to adhesion or entrainment of foreign matters due to peeling electrification, but also defects such as product failure due to damage to the arranged electronic elements due to electrostatic failure May occur. Therefore, a release film having an antistatic function is demanded. Against this background, in the release films described in Patent Documents 5 to 7, a release film in which an antistatic layer is formed on the surface of the base film and a silicone release agent layer is formed on the surface is proposed. Has been. Both of these proposals are to achieve both antistatic performance and release performance by providing an antistatic layer between the base film and the release agent layer. The release performance of ordinary release films is not much different and does not exceed the prior art.

特開２００８−２６５２２７号公報JP 2008-265227 A 特開２０１２−１３６６１２号公報JP 2012-136612 A 特開２００６−００７６８９号公報JP 2006-007689 A 特開２０１３−２０８８９７号公報JP2013-208897A 特許第２８０１４３６号公報Japanese Patent No. 2801436 特開２００５−１５３２５０号公報JP 2005-153250 A 特開２０１４−０２４２０４号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-024204

本発明は、剥離力が小さく、粘着剤層に貼合した状態で時間が経過しても、剥離力が増大し難く、粘着剤層へのシリコーン成分の移行が少ないため、貼合した粘着剤層の粘着力を低下させない、剥離性に優れた離型フィルムであり、かつ、離型フィルムの取扱い時、及び離型フィルムを被着体から剥離する時の帯電量が少ない離型フィルムを提供することを課題とする。   The present invention has a small peel force, and even if time passes in the state of being stuck to the pressure-sensitive adhesive layer, the peel force is hardly increased and the silicone component does not migrate to the pressure-sensitive adhesive layer. Provides a release film that does not reduce the adhesive strength of the layer and has excellent releasability, and has a low charge when the release film is handled and when the release film is peeled off from the adherend. The task is to do.

こうした課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、粘着剤層の粘着力を低下させないためには、離型フィルムに使用するシリコーン系離型剤（剥離剤と呼ばれることもある）を、粘着剤層の表面に移行するシリコーンが少ないものにする必要があることが判明した。また、粘着剤層の表面に移行するシリコーンが少ないシリコーン系離型剤を使用した場合でも、離型剤層の厚さを特定の厚さ以上にすることにより、剥離力を小さくできることが判明した。しかし、離型剤層の厚さを厚くした場合には、離型フィルムの製造工程において、離型フィルムをロール形状に巻き取り、離型剤層が、離型フィルムの背面に合わさった際にブロッキングを起こしてしまい、離型フィルムをロール状にきれいに巻き取れないという不具合が生じた。一般的に、離型フィルムに使用される基材フィルムは、その製造工程において、基材フィルムをロール形状に巻き取ってもブロッキングを起こさないようにするために、基材フィルムには、滑剤粒子を含有させて成膜している。
このため、基材フィルムの表面は、滑剤粒子によって凹凸構造を有しているので、基材フィルム単体をロール形状に巻き取った際には、表面同士が密着せず、ブロッキングを起こさないはずである。従って、離型フィルムの背面において、基材フィルムの表面は、凹凸構造を有しているが、離型剤層の厚さを厚くしたことにより、基材フィルム表面の凹凸構造を、離型剤層が埋めてしまうことが、ブロッキングを起こした原因と考えられる。 As a result of intensive studies to solve these problems, in order not to reduce the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone-based mold release agent (sometimes called a release agent) used for a release film is used. It has been found that less silicone needs to migrate to the surface of the layer. In addition, it was found that even when using a silicone-based mold release agent with little silicone that migrates to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the release force can be reduced by setting the thickness of the mold release agent layer to a specific thickness or more. . However, when the thickness of the release agent layer is increased, in the production process of the release film, the release film is wound into a roll shape, and the release agent layer is combined with the back surface of the release film. Blocking occurred and the release film could not be rolled up into a roll. In general, the base film used for the release film is made of lubricant particles in the base film in order to prevent blocking even when the base film is wound into a roll shape. Is formed.
For this reason, since the surface of the base film has a concavo-convex structure due to the lubricant particles, when the base film itself is wound into a roll shape, the surfaces should not adhere to each other and should not cause blocking. is there. Therefore, on the back surface of the release film, the surface of the base film has a concavo-convex structure. By increasing the thickness of the release agent layer, the concavo-convex structure on the surface of the base film is changed to a release agent. The fact that the layer is buried is considered to cause the blocking.

また、剥離性と耐ブロッキング性とを両立させる方法を、さらに鋭意検討し、本発明を完成させることができた。本発明に係わる離型フィルムは、粘着剤層の表面に移行するシリコーン成分が少ない離型剤を使用した場合でも、剥離力を小さくするために、２層構成の離型剤層の総厚さを０．４μｍ以上としている。また、本発明に係わる離型フィルムは、２層構成の離型剤層と、離型フィルムの背面とのブロッキングを防ぐために、２層構成の離型剤層の最表面に適度な表面粗さの凹凸形状を形成することにより、剥離性と耐ブロッキング性とを両立させることを技術思想としている。このため、離型剤層に適度な凹凸形状を形成する手段として、離型剤層に、微粒子として、無機微粒子および／またはポリマー微粒子を含有させている。但し、基材フィルムに、単に微粒子を含有した離型剤層を設けるだけでは、溶剤が接触すると、微粒子と離型剤との隙間から離型剤層と基材フィルムとの界面に溶剤が浸透し、離型剤層が基材フィルムから剥離する恐れがある。このため、本発明に係わる離型フィルムでは、溶剤が離型剤層と基材フィルムとの界面まで浸透しないように、基材フィルムと、微粒子を含有した第２の離型剤層との間に、微粒子を含有しない第１の離型剤層を設けることで、耐溶剤性を改善し、かつ、剥離性と耐ブロッキング性を両立させている。   In addition, the present invention has been completed by further diligently studying a method for achieving both peelability and blocking resistance. The release film according to the present invention has a two-layer total release agent layer thickness in order to reduce the peel force even when a release agent with a small amount of silicone component transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is used. Is 0.4 μm or more. Further, the release film according to the present invention has an appropriate surface roughness on the outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure in order to prevent blocking between the release agent layer having a two-layer structure and the back surface of the release film. The technical idea is to achieve both releasability and anti-blocking property by forming a concavo-convex shape. For this reason, as a means for forming an appropriate uneven shape in the release agent layer, the release agent layer contains inorganic fine particles and / or polymer fine particles as fine particles. However, by simply providing a release agent layer containing fine particles on the base film, when the solvent comes into contact with the solvent, the solvent penetrates from the gap between the fine particles and the release agent to the interface between the release agent layer and the base film. In addition, the release agent layer may be peeled off from the base film. For this reason, in the release film according to the present invention, the base film and the second release agent layer containing fine particles are prevented so that the solvent does not penetrate to the interface between the release agent layer and the base film. Further, by providing the first release agent layer that does not contain fine particles, the solvent resistance is improved, and both the peelability and the blocking resistance are achieved.

一方、離型フィルムに、帯電防止機能を付与する方法については、上記のとおり、第２の離型剤層と基材フィルムとの間（基材フィルムの表面）に、帯電防止剤層を設ければ良い。しかし、この場合、（１）基材フィルムに、帯電防止剤層を加工する工程、（２）微粒子を含有しない第１の離型剤層を加工する工程、（３）微粒子を含有した第２の離型剤層を加工する工程の、３段階の工程が必要となり、離型フィルムの製造コストが高くなるという問題がある。この問題を解決するため、鋭意検討を進めた結果、粒子を含有しない第１の離型剤層に、帯電防止剤を含有させることにより、優れた剥離性能と帯電防止性能とを両立させた離型フィルムが得られることが分かり、本発明を完成させた。   On the other hand, as to the method for imparting an antistatic function to the release film, as described above, an antistatic agent layer is provided between the second release agent layer and the base film (surface of the base film). Just do it. However, in this case, (1) a step of processing the antistatic agent layer on the base film, (2) a step of processing the first release agent layer not containing fine particles, and (3) a second step containing fine particles. There is a problem that a three-step process of processing the mold release agent layer is required, and the production cost of the release film is increased. As a result of diligent studies to solve this problem, as a result of incorporating an antistatic agent into the first release agent layer that does not contain particles, a release that achieves both excellent peeling performance and antistatic performance. It was found that a mold film was obtained, and the present invention was completed.

本発明は、基材フィルムの少なくとも一方の面に、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層と、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子を含有する第２の離型剤層とが、この順に積層された２層構成の離型剤層を有する離型フィルムであって、前記第１の離型剤層と、前記第２の離型剤層との総厚さが０．４〜２．０μｍであり、前記第２の離型剤層の表面から前記微粒子の頂点までの突出高さが、前記総厚さ以上であり、かつ、前記第１の離型剤層及び前記第２の離型剤層が、シリコーン系離型剤を含むことを特徴とする離型フィルムを提供する。   The present invention provides a second release agent containing a first release agent layer containing an antistatic agent and not containing fine particles, and fine particles comprising inorganic fine particles and / or polymer fine particles on at least one surface of the base film. The mold release layer is a release film having a release agent layer having a two-layer structure laminated in this order, and the total thickness of the first release agent layer and the second release agent layer 0.4 to 2.0 μm, a protruding height from the surface of the second release agent layer to the top of the fine particles is not less than the total thickness, and the first release The release layer is characterized in that the agent layer and the second release agent layer contain a silicone release agent.

前記第２の離型剤層に含有された微粒子が、シリカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、カオリン、ガラス粉末、タルクからなる無機粒子群から選択された１種以上の無機微粒子、および／または、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂からなる高分子樹脂粒子群から選択された１種以上のポリマー微粒子であることが好ましい。   The fine particles contained in the second release agent layer are one or more inorganic fine particles selected from the group of inorganic particles consisting of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, talc, and / or One or more kinds of polymer fine particles selected from a group of polymer resin particles consisting of silicone resin, acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, and epoxy resin Preferably there is.

また、前記基材フィルムがポリエステルフィルムであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said base film is a polyester film.

また、前記２層構成の離型剤層の最表面の表面抵抗率が１．０×１０１３Ω／□以下である離型フィルムが好ましい。 Moreover, the release film whose surface resistivity of the outermost surface of the said 2 layer structure release agent layer is 1.0 * 10 < 13 > (omega | ohm) / square or less is preferable.

また、本発明は、少なくとも片面に粘着剤層が積層された、１つ以上の粘着剤層を有する積層体と、請求項１から４のいずれかに記載の離型フィルムとを備え、前記積層体の粘着剤層の表面に、前記離型フィルムの前記第２の離型剤層が貼合してなる積層フィルムを提供する。   Moreover, this invention is equipped with the laminated body which has one or more adhesive layers by which the adhesive layer was laminated | stacked on the at least single side | surface, and the release film in any one of Claim 1 to 4, The said lamination | stacking Provided is a laminated film in which the second release agent layer of the release film is bonded to the surface of the body pressure-sensitive adhesive layer.

本発明によれば、セラミックグリーンシートの成形用離型フィルム、各種の粘着剤層を有する光学部材用の剥離性に優れた離型フィルムを提供できる。本発明の離型フィルムは、剥離力が小さく、粘着剤層に貼合した状態で時間が経過しても、剥離力が増大し難く、かつ、粘着剤層へのシリコーン成分の移行が少ないため、貼合した粘着剤層の粘着力を低下させない、剥離性に優れた離型フィルムであり、かつ、離型フィルムの取扱い時、及び離型フィルムを被着体から剥離する時の帯電量が少ない離型フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the mold release film for shaping | molding of a ceramic green sheet and the mold release film excellent in the peelability for optical members which have various adhesive layers can be provided. The release film of the present invention has a small peel force, and even if time passes in the state of being bonded to the pressure-sensitive adhesive layer, it is difficult for the peel force to increase, and there is little migration of the silicone component to the pressure-sensitive adhesive layer. , A release film with excellent releasability that does not reduce the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer, and the amount of charge when the release film is handled and when the release film is peeled off from the adherend. A small release film can be provided.

本発明の離型フィルムの一例を、模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the release film of this invention typically. 本発明の積層フィルムの第１形態例を、模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the 1st form example of the laminated | multilayer film of this invention. 本発明の積層フィルムの第２形態例を、模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the 2nd form example of the laminated | multilayer film of this invention. 図１におけるＡ部の拡大図である。It is an enlarged view of the A section in FIG.

以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。
図１は、本発明の離型フィルムの一例を、模式的に示す断面図である。図１において、基材フィルム１の片面に、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層２と、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子３を含有する第２の離型剤層４とが、この順に積層され２層の離型剤層を構成している。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the release film of the present invention. In FIG. 1, a second release agent containing a first release agent layer 2 containing an antistatic agent and containing no fine particles, and fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles on one surface of a substrate film 1. The mold agent layer 4 is laminated in this order to form two release agent layers.

本発明の離型フィルム５において、基材フィルム１として用いる樹脂フィルムは、用途に合わせて選定すればよいが、ポリエステル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、アセテート樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルムなどが挙げられる。
中でも、光学特性や耐熱特性などの特性面や価格面、外観の品位などの面から、ポリエステル樹脂フィルムが好適である。ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレートとポリエチレンテレフタレートの共重合体、ポリブチレンテレフタレートなどが挙げられる。これらの中でも、コストや光学特性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が特に好ましい。また、光学特性の点からすると、１軸延伸または２軸延伸した光学用のポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム１の表面に、プラズマ放電やコロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。 In the release film 5 of the present invention, the resin film used as the base film 1 may be selected according to the use, but the polyester resin film, polyamide resin film, polyimide resin film, polyolefin resin film, polyvinyl chloride resin film. , Polystyrene resin film, acrylic resin film, acetate resin film, polyphenylene sulfide resin film, and the like.
Among these, a polyester resin film is preferable from the viewpoints of characteristics such as optical characteristics and heat resistance, price, and appearance. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, a copolymer of polyethylene isophthalate and polyethylene terephthalate, and polybutylene terephthalate. Among these, polyethylene terephthalate (PET) is particularly preferable from the viewpoint of cost and optical properties. From the viewpoint of optical properties, a uniaxially or biaxially stretched polyethylene terephthalate film for optics is preferable.
Further, if necessary, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by plasma discharge or corona discharge, application of an anchor coating agent, and the like.

基材フィルム１の厚さは、特に制限はないが、離型フィルム５としての取扱いの容易さや、離型フィルム５をロール状に巻き取ることを想定すると、基材フィルム１の厚さは、１０〜２００μｍの範囲が好ましく、２５〜１５０μｍの範囲がより好ましい。   The thickness of the base film 1 is not particularly limited, but assuming the ease of handling as the release film 5 and winding the release film 5 in a roll shape, the thickness of the base film 1 is The range of 10-200 micrometers is preferable, and the range of 25-150 micrometers is more preferable.

本発明の離型フィルムでは、基材フィルムの少なくとも一方の面に、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層２と、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子３を含有する第２の離型剤層４とが、この順に積層され２層の離型剤層を構成している。
第１の離型剤層２は、離型フィルムの離型剤処理面の耐溶剤性を向上させるために、基材フィルム１と、微粒子３を含有する第２の離型剤層４とを接着する機能と、離型剤としての機能（離型フィルムを、被着体である粘着剤層等から剥離する際に、剥離時の応力により、離型剤層の被膜がエラストマーとして微小変形し、粘着剤層と離型剤層との界面に応力が集中するようにする機能）とを有している。
また、第１の離型剤層２は、帯電防止剤を含有することにより、離型フィルムに帯電防止性能を付与している。２層構成の離型剤層２、４の表面抵抗率は、１．０×１０１３Ω／□以下（未満）であることが好ましい。ここで、２層構成の離型剤層２、４の表面抵抗率とは、離型フィルム５に積層された２層構成の離型剤層２、４の最表面に対して測定される、表面抵抗率（表面抵抗値ともいう）である。 In the release film of the present invention, the first release agent layer 2 containing an antistatic agent and not containing fine particles, and fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles are formed on at least one surface of the base film. The contained second release agent layer 4 is laminated in this order to form two release agent layers.
The first release agent layer 2 comprises a base film 1 and a second release agent layer 4 containing fine particles 3 in order to improve the solvent resistance of the release agent-treated surface of the release film. Adhesive function and release agent function (When the release film is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer that is the adherend, the release layer is slightly deformed as an elastomer by the stress at the time of peeling. And a function of concentrating stress on the interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the release agent layer).
Moreover, the 1st mold release agent layer 2 is providing antistatic performance to the release film by containing an antistatic agent. The surface resistivity of the two-layered release agent layers 2 and 4 is preferably 1.0 × 10 13 Ω / □ or less (less than). Here, the surface resistivity of the release agent layers 2 and 4 having a two-layer structure is measured with respect to the outermost surfaces of the release agent layers 2 and 4 having a two-layer structure laminated on the release film 5. Surface resistivity (also referred to as surface resistance value).

第１の離型剤層２に使用する離型剤としては、シリコーン系離型剤が挙げられる。シリコーン系離型剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系離型剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系離型剤として市販されている製品には、例えば、ＫＳ−７７６Ａ、ＫＳ−７７６Ｌ、ＫＳ−８４７、ＫＳ−８４７Ｔ、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８３７、ＫＳ−７７８、ＫＳ−８３０、ＫＳ−７７４、ＫＳ−３５６５、Ｘ−６２−２８２９、ＫＳ−３６５０、ＫＮＳ−３０５１、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＮＳ−３１６、ＫＮＳ−３００２、Ｘ−６２−１３８７（信越化学工業(株)製）、ＳＲＸ−２１１、ＳＲＸ−３４５、ＳＲＸ−３５７、ＳＤ７３３３、ＳＤ７２２０、ＳＤ７２２３、ＬＴＣ−３００Ｂ、ＬＴＣ−３５０Ｇ、ＬＴＣ−３１０、ＬＴＣ−７５０Ａ、ＳＰ−７０２５、ＳＰ−７２４８Ｓ、ＳＰ−７０１５、ＳＰ−７２５９、ＬＴＣ−１００６Ｌ、ＬＴＣ−１０５６Ｌ（東レダウコーニング(株)製）、ＴＰＲ−６７２２、ＴＰＲ−６７２１、ＴＰＲ−６７０２、ＴＰＲ−６７００、ＴＰＲ−６６００、ＳＬ６６２５（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、ＳＲＸ−２９０、ＳＹＬＯＦＦ−２３（東レダウコーニング(株)製）、ＹＳＲ−３０２２（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、ＴＰＲ−６５０１、ＴＰＲ−６５０２、ＴＰＲ−６５００、ＵＶ９３００、ＶＵ９３１５、ＵＶ９４３０（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）、Ｘ６２−７６２２、Ｘ−６２−７６６０、Ｘ−６２−７６５５（信越化学工業(株)製）などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、ＫＦ−２００５、Ｘ６２−７２０５（信越化学工業(株)製）などが挙げられる。粘着剤層へのシリコーン成分の移行の少ない離型剤としては、軽剥離添加成分（付加反応に関与する有機官能基を有しないシリコーン、例えば、ポリジメチルシロキサン等）を含有しないシリコーン系離型剤が挙げられる。   Examples of the release agent used for the first release agent layer 2 include silicone release agents. Examples of the silicone release agent include known silicone release agents such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type. Examples of products that are commercially available as addition reaction type silicone release agents include KS-776A, KS-776L, KS-847, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, and KS-830. , KS-774, KS-3565, X-62-2829, KS-3650, KNS-3051, KNS-320A, KNS-316, KNS-3002, X-62-1387 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310, LTC-750A, SP-7025, SP-7248S, SP-7015, SP-7259, LTC-1006L, LTC-1056L (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TPR-6 722, TPR-6721, TPR-6702, TPR-6700, TPR-6600, SL6625 (manufactured by Momentive Performance Materials). Examples of the products marketed as the condensation reaction type include SRX-290, SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning), YSR-3022 (manufactured by Momentive Performance Materials). Examples of products marketed as a cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6502, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622, X-62. -7660, X-62-7655 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of products marketed as radical polymerization types include KF-2005, X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like. Silicone mold release agent that does not contain a light release additive component (silicone that does not have an organic functional group involved in an addition reaction, such as polydimethylsiloxane) as a mold release agent with little migration of the silicone component to the adhesive layer Is mentioned.

第１の離型剤層２を形成するシリコーン系離型剤は、１種類を単独で使用しても良いし、複数の品種を混合して使用しても良い。また、後述する帯電防止剤と共に、シランカップリング剤や、濡れ性改良剤などシリコーン系離型剤以外の成分を添加しても良く、剥離性、塗工性、硬化性などを考慮して決めればよい。   One type of silicone-based mold release agent for forming the first mold release agent layer 2 may be used alone, or a plurality of types may be mixed and used. In addition to the antistatic agent described below, components other than silicone release agents such as silane coupling agents and wettability improvers may be added, and are determined in consideration of releasability, coating properties, curability, and the like. That's fine.

また、第１の離型剤層２に含有させる帯電防止剤としては、離型剤溶液に対して分散性又は溶解性の良いもので、かつ、離型剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としてはイオン性化合物、シリケート系化合物、導電性フィラー、導電性ウィスカー、導電性高分子、各種界面活性剤などの１種又は２種以上が挙げられる。離型剤層の耐溶剤性や、シリコーン系離型剤との相性の観点から、シリコーン系離型剤に溶解して微粒子を生じない帯電防止剤が好ましく、中でもイオン性化合物、シリケート系化合物、シリコーン系界面活性剤、もしくはこれらの帯電防止剤を併用したものが好適である。   The antistatic agent contained in the first release agent layer 2 is preferably one that has good dispersibility or solubility in the release agent solution and does not inhibit the release agent from curing. Examples of such an antistatic agent include one or more of ionic compounds, silicate compounds, conductive fillers, conductive whiskers, conductive polymers, various surfactants, and the like. From the viewpoint of the solvent resistance of the release agent layer and the compatibility with the silicone release agent, an antistatic agent that dissolves in the silicone release agent and does not generate fine particles is preferable. Among them, ionic compounds, silicate compounds, A silicone surfactant or a combination of these antistatic agents is preferred.

イオン性化合物としては、カチオンとアニオンを有するイオン性化合物であって、カチオンとしては、アルカリ金属カチオン、ピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピリミジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン等の含窒素オニウムカチオンや、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン等が挙げられる。含窒素オニウムカチオンは、アルキル基等の有機基や置換基を有してもよい。好ましくは４級含窒素オニウムカチオンであり、１−アルキルピリジニウム（２〜６位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級ピリジニウムカチオンや、１，３−ジアルキルイミダゾリウム（２，４，５位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級イミダゾリウムカチオン、Ｎ−アルキルピリミジニウム（２位及び４〜６位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級ピリミジニウムカチオン、１，２−ジアルキルピラゾリウム（３〜５位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級ピラゾリウムカチオン、１，１−ジアルキルピロリジニウム（２〜５位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級ピロリジニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウム等の４級アンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、テトラアルキルホスホニウム等の、有機基を有するホスホニウムカチオンが挙げられる。スルホニウムカチオンとしては、トリアルキルスルホニウム等の、有機基を有するスルホニウムカチオンが挙げられる。
また、アニオンとしては、ＣｎＨ２ｎ＋１ＣＯＯ−、ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＯＯ−、ＮＯ３ −、ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ３ −、（ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ２）３Ｃ−、ＲＣ６Ｈ４ＳＯ３ −、ＰＯ４ ３−、ＡｌＣｌ４ −、Ａｌ２Ｃｌ７ −、ＣｌＯ４ −、ＢＦ４ −、ＰＦ６ −、ＡｓＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＳＣＮ−等が挙げられる。これらのイオン性化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。 The ionic compound is an ionic compound having a cation and an anion, and the cation includes an alkali metal cation, a pyridinium cation, an imidazolium cation, a pyrimidinium cation, a pyrazolium cation, a pyrrolidinium cation, and an ammonium cation. And nitrogen-containing onium cations such as phosphonium cations and sulfonium cations. The nitrogen-containing onium cation may have an organic group such as an alkyl group or a substituent. A quaternary nitrogen-containing onium cation is preferable, and a quaternary pyridinium cation such as 1-alkylpyridinium (the carbon atom at the 2-6 position may be substituted or unsubstituted), or 1,3-dialkyl Quaternary imidazolium cations such as imidazolium (carbon atoms at 2, 4, and 5 positions may be substituted or unsubstituted), N-alkylpyrimidinium (carbons at positions 2 and 4 to 6) A quaternary pyrimidinium cation such as an atom may be substituted or unsubstituted), 1,2-dialkylpyrazolium (the carbon atom at the 3 to 5 position may be substituted or unsubstituted) Or quaternary pyrazolium cations such as 1,4-dialkylpyrrolidinium (the carbon atom at the 2-5 position may be substituted or unsubstituted). Cation, tetraalkylammonium, etc. Quaternary ammonium cations and the like. Examples of the phosphonium cation include phosphonium cations having an organic group, such as tetraalkylphosphonium. Examples of the sulfonium cation include a sulfonium cation having an organic group such as trialkylsulfonium.
The anions include C n H 2n + 1 COO − , C n F 2n + 1 COO − , NO 3 − , C n F 2n + 1 SO 3 − , (C n F 2n + 1 SO 2 ) 2 N − , (C n F 2n + 1 SO 2 ) 3 C − , RC 6 H 4 SO 3 − , PO 4 3− , AlCl 4 − , Al 2 Cl 7 − , ClO 4 − , BF 4 − , PF 6 − , AsF 6 − , SbF 6 − , SCN -, and the like. These ionic compounds may be used alone or in admixture of two or more. In order to stabilize the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

中でも、カチオンとしてアルカリ金属カチオンを持ったイオン性化合物（アルカリ金属塩）が好適である。アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩が挙げられ、具体的には、例えば、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋よりなるカチオンと、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＢＦ４ −、ＰＦ６ −、ＳＣＮ−、ＣｌＯ４ −、ＣＦ３ＳＯ３ −、（ＦＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−よりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。これらのなかでも特に、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＢＦ４、ＬｉＰＦ６、ＬｉＳＣＮ、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＣＦ３ＳＯ３、Ｌｉ（ＦＳＯ２）２Ｎ、Ｌｉ（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ、Ｌｉ（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ、Ｌｉ（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃなどのリチウム塩が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。 Among these, an ionic compound (alkali metal salt) having an alkali metal cation as a cation is preferable. Examples of the alkali metal salt include a metal salt composed of lithium, sodium, and potassium. Specifically, for example, a cation composed of Li + , Na + , and K + , Cl − , Br − , I − , and BF 4 are used. − , PF 6 − , SCN − , ClO 4 − , CF 3 SO 3 − , (FSO 2 ) 2 N − , (CF 3 SO 2 ) 2 N − , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N − , ( A metal salt composed of an anion composed of CF 3 SO 2 ) 3 C — is preferably used. Among these, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li (FSO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 Lithium salts such as SO 2 ) 2 N and Li (CF 3 SO 2 ) 3 C are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. In order to stabilize the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

シリケート系化合物としては、エチルシリケートや各種アルコキシシラン、そのオリゴマー（アルコキシシロキサン）等、また、これらの部分加水分解物、重縮合反応物などが挙げられる。塗布時に用いられるシリケート系化合物が、酸等の触媒やアルコール等の溶媒を含む溶液（組成物）であってもよい。シリケート系化合物の加水分解反応や重縮合反応が、離型剤の塗布後に進行してもよい。シリケート系帯電防止剤は、反応が進行した場合でも、耐溶剤性に優れた離型剤層が得られるので、好ましい。   Examples of the silicate compound include ethyl silicate, various alkoxysilanes, oligomers thereof (alkoxysiloxane), and the like, and partial hydrolysates and polycondensation reaction products thereof. The silicate compound used at the time of application may be a solution (composition) containing a catalyst such as an acid or a solvent such as an alcohol. The hydrolysis reaction or polycondensation reaction of the silicate compound may proceed after application of the release agent. Silicate antistatic agents are preferred because a release agent layer having excellent solvent resistance can be obtained even when the reaction proceeds.

導電性フィラーとしては、カーボンブラック、黒鉛などのカーボン系フィラー、銀・銅・ニッケルなどの金属微粉末、酸化亜鉛・酸化錫などの金属酸化物粒子などが挙げられる。   Examples of the conductive filler include carbon-based fillers such as carbon black and graphite, fine metal powders such as silver, copper, and nickel, and metal oxide particles such as zinc oxide and tin oxide.

導電性ウィスカーとしては、グラファイトウィスカー、チタン酸カリウムウィスカー、アルミナ系ウィスカー、炭化ケイ素ウィスカー、窒化ケイ素ウィスカー、ホウ酸マグネシウムウィスカー、酸化亜鉛ウィスカー、ホウ化チタンウィスカーなどが挙げられる。   Examples of the conductive whisker include graphite whisker, potassium titanate whisker, alumina-based whisker, silicon carbide whisker, silicon nitride whisker, magnesium borate whisker, zinc oxide whisker, and titanium boride whisker.

導電性高分子としては、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロールなどが挙げられる。   Examples of the conductive polymer include polythiophene, polyaniline, and polypyrrole.

界面活性剤としては、ノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系などが挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、プロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレン変性シリコーン類などが挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩類、ジアルキルジメチルアンモニウム塩類、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩類などが挙げられる。アニオン系界面活性剤としては、モノアルキル硫酸塩類、アルキルポリオキシエチレン硫酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、モノアルキルリン酸塩類などが挙げられる。両性系界面活性剤としては、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどが挙げられる。   Examples of the surfactant include nonionic, cationic, anionic, and amphoteric systems. Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, propylene glycol Examples include fatty acid esters and polyoxyalkylene-modified silicones. Examples of the cationic surfactant include alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium salts, and alkylbenzyldimethylammonium salts. Examples of the anionic surfactant include monoalkyl sulfates, alkyl polyoxyethylene sulfates, alkylbenzene sulfonates, and monoalkyl phosphates. Examples of amphoteric surfactants include alkyl dimethylamine oxide and alkyl carboxybetaine.

離型剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や離型剤との親和性の度合いにより異なり、帯電防止性能と離型剤の硬化性および剥離性を考慮して設定すればよい。また、種類の異なる帯電防止剤を併用しても良い。   The amount of antistatic agent added to the release agent varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, and should be set in consideration of the antistatic performance and the curability and release properties of the release agent. Good. Different types of antistatic agents may be used in combination.

離型剤と、帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。離型剤に、帯電防止剤を添加して、混合した後に離型剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、離型剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちに帯電防止剤と離型剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、離型剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤を添加しても良い。   There is no particular limitation on the method of mixing the release agent and the antistatic agent. A method of adding an antistatic agent to the mold release agent, mixing and then adding and mixing a catalyst for curing the mold release agent, and after diluting the mold release agent with an organic solvent in advance, the antistatic agent and the mold release agent Any method may be used, such as a method of adding and mixing a curing catalyst, a method of diluting a release agent in an organic solvent in advance, adding and mixing the catalyst, and then adding and mixing an antistatic agent. Moreover, you may add adhesion improvement agents, such as a silane coupling agent, as needed.

本発明に係わる離型フィルムにおいて、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層２の形成は、帯電防止剤を含有した離型剤を、基材フィルム１にコーティングして設ければよい。塗工方法は、特に限定されるものではなく、微粒子３を含有しない第１の離型剤層２を形成する離型剤の粘度、塗布量に合わせて公知の塗工方法から選定すれば良い。一例としては、メイヤーバー工法、グラビア工法、リバースロール工法、エアーナイフ工法、多段ロール工法などが挙げられる。第１の離型剤層２の硬化方法は、加熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化、加熱と紫外線照射の併用などの方法が挙げられるが、離型剤の種類に合わせて、適した方法を選択して採用すればよい。第１の離型剤層２の厚さは、特に限定されないが、耐溶剤性を十分に確保するためには、０．１μｍ以上であることが好ましい。
図４に示すように、微粒子を含有しない第１の離型剤層２の厚さｈ１〔μｍ〕と、微粒子３を含有する第２の離型剤層４の厚さｈ２〔μｍ〕（微粒子３のない部分の平均的な厚さ）とを合計した総厚さＨ〔μｍ〕（以下、２層の離型剤層２及び４の総厚さとする）が、０．４〜２．０μｍの範囲に入るのが好ましく、０．５〜１．８μｍの範囲がより好ましい。 In the release film according to the present invention, the first release agent layer 2 containing an antistatic agent and not containing fine particles is formed by coating the base film 1 with a release agent containing an antistatic agent. What is necessary is just to provide. The coating method is not particularly limited, and may be selected from known coating methods according to the viscosity and the coating amount of the release agent that forms the first release agent layer 2 that does not contain the fine particles 3. . Examples include the Mayer bar method, the gravure method, the reverse roll method, the air knife method, and the multi-stage roll method. Examples of the curing method of the first release agent layer 2 include methods such as heat curing, ultraviolet curing, electron beam curing, combined use of heating and ultraviolet irradiation, and a suitable method according to the type of the release agent. Select and adopt. Although the thickness of the 1st mold release agent layer 2 is not specifically limited, In order to ensure sufficient solvent resistance, it is preferable that it is 0.1 micrometer or more.
As shown in FIG. 4, the thickness h1 [μm] of the first release agent layer 2 containing no fine particles and the thickness h2 [μm] of the second release agent layer 4 containing the fine particles 3 (fine particles The total thickness H [μm] (hereinafter referred to as the total thickness of the two release agent layers 2 and 4) is 0.4 to 2.0 μm. Is preferably in the range of 0.5 to 1.8 μm.

本発明では、基材フィルムの少なくとも一方の面に、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層２と、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子３を含有する第２の離型剤層４とが、この順に積層され２層の離型剤層を構成している。無機微粒子および／またはポリマーからなる微粒子３は、シリコーン系離型剤を含む第２の離型剤層４の厚さを厚くしても、第２の離型剤層４が、離型フィルム５の背面（基材フィルム１の表面）に合わさった際にブロッキングを起こさないように、第２の離型剤層４の表面に凹凸形状を形成させるために用いるものである。
ブロッキング防止用の微粒子３である無機微粒子および／またはポリマー微粒子としては、無機化合物の微粒子である無機微粒子や、高分子樹脂の微粒子であるポリマー微粒子が挙げられる。無機微粒子とポリマー微粒子とは、いずれか一方を用いてもよく、また両者を併用してもよい。無機微粒子が、シリカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、カオリン、ガラス粉末、タルクからなる無機粒子群から選択された１種以上であることが好ましい。また、ポリマー微粒子が、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂からなる高分子樹脂粒子群から選択された１種以上であることが好ましい。
微粒子３の形状は、特に限定されるものではなく、球状、棒状、鱗片状、半球状、凸レンズ状、マッシュルーム状、不定形などいずれでも良いが、球形や球形に近い形状の方が、ブロッキング防止性能が高まるため、より好適である。
また、図４に示すように、微粒子３の体積基準平均粒子径は、第２の離型剤層４の厚さｈ２〔μｍ〕よりも大きいものが良く、第２の離型剤層４の表面から微粒子３の頂点までの高さＴ〔μｍ〕（微粒子３の突出高さ）が、第１の離型剤層２の厚さｈ１〔μｍ〕と、第２の離型剤層４の厚さｈ２〔μｍ〕とを合計した総厚さＨ〔μｍ〕以上になるような体積基準平均粒子径の微粒子を選定すれば良い。微粒子３の頂点は、第２の離型剤層４の表面から最も離れた点であればよく、頂点が尖っているか、丸みを帯びているかは、問わない。 In the present invention, the first release agent layer 2 containing an antistatic agent and not containing fine particles and the fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles are contained on at least one surface of the base film. The release agent layer 4 is laminated in this order to form two release agent layers. Even if the fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer are thickened with the second release agent layer 4 containing the silicone-based release agent, the second release agent layer 4 is not removed from the release film 5. It is used to form a concavo-convex shape on the surface of the second release agent layer 4 so as not to cause blocking when it is combined with the back surface (surface of the base film 1).
Examples of the inorganic fine particles and / or polymer fine particles that are the fine particles 3 for blocking prevention include inorganic fine particles that are fine particles of an inorganic compound and polymer fine particles that are fine particles of a polymer resin. Either inorganic fine particles or polymer fine particles may be used, or both may be used in combination. The inorganic fine particles are preferably at least one selected from the group of inorganic particles consisting of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, and talc. In addition, the polymer fine particles are selected from a group of polymer resin particles composed of silicone resin, acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, and epoxy resin. The above is preferable.
The shape of the fine particles 3 is not particularly limited, and may be any of spherical, rod-like, scale-like, hemispherical, convex lens-like, mushroom-like, and indeterminate shapes. Since the performance is increased, it is more preferable.
As shown in FIG. 4, the volume-based average particle diameter of the fine particles 3 is preferably larger than the thickness h2 [μm] of the second release agent layer 4. The height T [μm] from the surface to the top of the fine particles 3 (projection height of the fine particles 3) is equal to the thickness h1 [μm] of the first release agent layer 2 and the second release agent layer 4. Fine particles having a volume-based average particle diameter that is equal to or greater than the total thickness H [μm] of the total thickness h2 [μm] may be selected. The vertex of the fine particles 3 may be a point farthest from the surface of the second release agent layer 4, and it does not matter whether the vertex is pointed or rounded.

無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子３のバインダー樹脂としても機能する、第２の離型剤層４を形成する離型剤としては、シリコーン系離型剤が挙げられる。シリコーン系離型剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系離型剤が挙げられる。
シリコーン系離型剤は、１種類を単独で使用しても良いし、複数の品種を混合して使用しても良い。また、シランカップリング剤や帯電防止剤、濡れ性改良剤などシリコーン系離型剤以外の成分を添加しても良く、剥離性、塗工性、硬化性などを考慮して決めればよい。第２の離型剤層４を形成するシリコーン系離型剤は、第１の離型剤層２を形成する離型剤と同じシリコーン系離型剤でもよく、異なるものでもよい。 Examples of the release agent that forms the second release agent layer 4 that also functions as a binder resin of the fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles include silicone-based release agents. Examples of the silicone release agent include known silicone release agents such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type.
One type of silicone release agent may be used alone, or a plurality of types may be mixed and used. In addition, components other than silicone release agents such as a silane coupling agent, an antistatic agent, and a wettability improver may be added, and may be determined in consideration of releasability, coatability, curability, and the like. The silicone release agent that forms the second release agent layer 4 may be the same silicone release agent as the release agent that forms the first release agent layer 2, or may be different.

微粒子３は、第２の離型剤層４を形成するシリコーン系離型剤を含有する離型剤に混合されて、第１の離型剤層２の上に塗布される。図４に示すように、微粒子３の一部（上部）は、第２の離型剤層４の厚さｈ２〔μｍ〕（微粒子３のない部分の平均的な厚さ）より突出する。微粒子３の上部表面に第２の離型剤層４の離型剤が薄く付着しても良いし、或いは付着しなくても、構わない。微粒子３の下部は、第２の離型剤層４に埋め込まれているが、基材フィルム１には接していない。これは、微粒子を含有しない第１の離型剤層２が介在するためである。   The fine particles 3 are mixed with a release agent containing a silicone release agent that forms the second release agent layer 4, and are applied onto the first release agent layer 2. As shown in FIG. 4, a part (upper part) of the fine particles 3 protrudes from the thickness h <b> 2 [μm] of the second release agent layer 4 (average thickness of the part without the fine particles 3). The release agent of the second release agent layer 4 may be thinly attached to the upper surface of the fine particles 3 or may not be attached. The lower part of the fine particles 3 is embedded in the second release agent layer 4 but is not in contact with the base film 1. This is because the first release agent layer 2 containing no fine particles is interposed.

微粒子３を、離型剤に混合・分散させる方法については、離型剤および微粒子の種類に合わせて既知の方法で行えばよい。離型剤に、微粒子が分散し易い系であれば、スパチュラなどの手動の器具で撹拌混合すればよい。離型剤に、微粒子が分散し難い組み合わせや、分散し易い系であっても、離型剤および微粒子が多量の場合には、ホモジナイザーやホモミキサーなどの分散機を使用して分散混合させても良い。また、第２の離型剤層４には、微粒子および離型剤のほかに、必要に応じて着色剤、帯電防止剤、レベリング剤、密着性向上剤などを添加しても良い。
本発明に係わる離型フィルムにおいて、第２の離型剤層４は、帯電防止剤を含まなくてもよい。これは、２層の離型剤層２及び４の総厚さが、例えば０．４〜２．０μｍの範囲と薄いので、第１の離型剤層２が帯電防止性能を有すれば、離型フィルム５の２層構成の離型剤層２，４の最表面に帯電防止性能を付与できるためである。また、第２の離型剤層４に帯電防止剤を添加する場合、その帯電防止剤としては、第１の離型剤層２に添加されるのと同様な帯電防止剤が挙げられる。また、第１の離型剤層２の上に第２の離型剤層４を積層する際、または積層後に、第１の離型剤層２に含有される帯電防止剤の一部が、第２の離型剤層４の内部に移行してもよい。 The method for mixing and dispersing the fine particles 3 in the release agent may be performed by a known method according to the type of the release agent and the fine particles. If the release agent is a system in which fine particles are easily dispersed, the mixture may be stirred and mixed with a manual instrument such as a spatula. Even if the release agent is a combination in which fine particles are difficult to disperse or a system that is easy to disperse, if the release agent and fine particles are in large quantities, they can be dispersed and mixed using a disperser such as a homogenizer or homomixer. Also good. In addition to the fine particles and the release agent, the second release agent layer 4 may contain a colorant, an antistatic agent, a leveling agent, an adhesion improver, and the like as necessary.
In the release film according to the present invention, the second release agent layer 4 may not contain an antistatic agent. This is because the total thickness of the two release agent layers 2 and 4 is as thin as, for example, 0.4 to 2.0 μm, so that the first release agent layer 2 has antistatic performance. This is because antistatic performance can be imparted to the outermost surfaces of the release agent layers 2 and 4 having a two-layer structure of the release film 5. Moreover, when adding an antistatic agent to the 2nd mold release agent layer 4, the antistatic agent similar to that added to the 1st mold release agent layer 2 is mentioned as the antistatic agent. In addition, when the second release agent layer 4 is laminated on the first release agent layer 2 or after lamination, a part of the antistatic agent contained in the first release agent layer 2 is You may transfer to the inside of the 2nd mold release agent layer 4. FIG.

微粒子３を含有した第２の離型剤層４を形成する方法は、微粒子３を含有した離型剤を、基材フィルム１に形成された第１の離型剤層２の上にコーティングして設ければよい。塗工方法は、特に限定されるものではなく、微粒子３を含有した離型剤の粘度、塗布量に合わせて公知の塗工方法から選定すれば良い。一例としては、メイヤーバー工法、グラビア工法、リバースロール工法、エアーナイフ工法、多段ロール工法などが挙げられる。   In the method of forming the second release agent layer 4 containing the fine particles 3, the release agent containing the fine particles 3 is coated on the first release agent layer 2 formed on the base film 1. Should be provided. The coating method is not particularly limited, and may be selected from known coating methods according to the viscosity and the coating amount of the release agent containing fine particles 3. Examples include the Mayer bar method, the gravure method, the reverse roll method, the air knife method, and the multi-stage roll method.

微粒子３を含有した第２の離型剤層４の硬化または固化は、離型剤の種類に合わせて行えばよい。例えば、加熱乾燥による溶剤または水などの除去や、紫外線照射や電子線照射などによる離型剤層の硬化などを行えばよい。   The second release agent layer 4 containing the fine particles 3 may be cured or solidified according to the type of the release agent. For example, the solvent or water may be removed by heat drying, or the release agent layer may be cured by ultraviolet irradiation or electron beam irradiation.

第２の離型剤層４の厚さは、特に限定されないが、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子３のバインダー樹脂としての機能を十分確保するためには、微粒子３の体積基準平均粒子径の２５％以上であることが好ましい。微粒子３の体積基準平均粒子径と、２層の離型剤層２及び４の総厚さ（０．４〜２．０μｍの範囲）とを考慮しながら設定すればよい。２層の離型剤層２及び４の総厚さが０．４μｍより小さいと、剥離力が増大し易い。また、２層の離型剤層２及び４の総厚さの上限は、特に問題とならないが、２層の離型剤層２及び４の総厚さを大きくした場合には、コストが高くなる問題や、微粒子３の体積基準平均粒子径を大きくすることにより離型フィルムの外観が白っぽくなるという問題がある。このため、２層の離型剤層２及び４の総厚さを、２．０μｍ以下までに抑えるのが好ましく、１．８μｍ以下がより好ましい。   The thickness of the second release agent layer 4 is not particularly limited, but in order to sufficiently ensure the function of the fine particles 3 made of inorganic fine particles and / or polymer fine particles as a binder resin, the volume-based average particles of the fine particles 3 are used. It is preferably 25% or more of the diameter. What is necessary is just to set, considering the volume reference | standard average particle diameter of the microparticles | fine-particles 3, and the total thickness (range of 0.4-2.0 micrometers) of the two release agent layers 2 and 4. If the total thickness of the two release agent layers 2 and 4 is smaller than 0.4 μm, the peeling force tends to increase. Further, the upper limit of the total thickness of the two release agent layers 2 and 4 is not particularly problematic, but when the total thickness of the two release agent layers 2 and 4 is increased, the cost is high. There is a problem that the appearance of the release film becomes whitish by increasing the volume-based average particle diameter of the fine particles 3. For this reason, it is preferable to suppress the total thickness of the two release agent layers 2 and 4 to 2.0 μm or less, and more preferably 1.8 μm or less.

本発明の離型フィルム５を、各種セラミック製電子部品の製造時に使用されるグリーンシートの成形用離型シートに使用する場合、グリーンシートは、セラミック粒子を有機溶剤に分散したスラリーの塗布、乾燥により形成される。このような、グリーンシートを保護する用途に使用される離型フィルム５では、第２の離型剤層４に対して、耐溶剤性が要求される。本発明の離型フィルム５は、基材フィルム１と、微粒子３を含有する第２の離型剤層４との間に、微粒子を含有しない第１の離型剤層２を設けている。このため、溶剤が、第２の離型剤層４の離型剤と微粒子３との隙間から第２の離型剤層４と第１の離型剤層２との界面に浸透しても、第１の離型剤層２と基材フィルム１との界面には溶剤は達しないため、第１の離型剤層２が基材フィルム１から剥離することがなく、耐溶剤性も良好であり、グリーンシートを保護する用途に好適に使用できる。また、本発明の離型フィルム５は、グリーンシートに限らず、導体ペースト、絶縁体ペースト等、各種粉体を分散した塗膜や、溶剤を含む塗膜の表面を保護する用途に好適に使用できる。   When the release film 5 of the present invention is used as a release sheet for forming a green sheet used in the production of various ceramic electronic parts, the green sheet is coated with a slurry in which ceramic particles are dispersed in an organic solvent, and dried. It is formed by. In such a release film 5 used for protecting the green sheet, the second release agent layer 4 is required to have solvent resistance. In the release film 5 of the present invention, the first release agent layer 2 containing no fine particles is provided between the base film 1 and the second release agent layer 4 containing the fine particles 3. Therefore, even if the solvent penetrates into the interface between the second release agent layer 4 and the first release agent layer 2 through the gap between the release agent of the second release agent layer 4 and the fine particles 3. Since the solvent does not reach the interface between the first release agent layer 2 and the substrate film 1, the first release agent layer 2 is not peeled off from the substrate film 1, and the solvent resistance is also good. And can be suitably used for the purpose of protecting the green sheet. In addition, the release film 5 of the present invention is not limited to a green sheet, and is suitably used for the purpose of protecting the surface of a coating film in which various powders such as a conductor paste and an insulator paste are dispersed and a coating film containing a solvent it can.

図２は、本発明の積層フィルムの第１形態例を、模式的に示す断面図である。図２の粘着付き光学フィルム８は、本発明の離型フィルム５を、光学フィルム７に積層した粘着剤層６を保護する用途に使用したものである。図１の本発明の離型フィルム５に、粘着剤層６を介して光学フィルム７が貼合されている。このような粘着付き光学フィルム８の製造方法は、離型フィルム５に溶剤型粘着剤を塗布、乾燥した後、光学フィルム７を貼合してもよい。このような、粘着剤層６を保護する用途に使用される離型フィルム５では、離型剤層２、４に対して、耐溶剤性が要求される。本発明の離型フィルム５は、基材フィルム１と、微粒子３を含有する第２の離型剤層４との間に、微粒子を含有しない第１の離型剤層２を設けている。このため、溶剤が、第２の離型剤層４の離型剤と微粒子３との隙間から第２の離型剤層４と第１の離型剤層２との界面に浸透しても、第１の離型剤層２と基材フィルム１との界面には溶剤は達しないため、第１の離型剤層２が基材フィルム１から剥離することがなく、耐溶剤性も良好である。粘着剤層６を含む積層体は、１又は２以上の樹脂フィルムと、１又は２以上の粘着剤層とを含むことができる。例えば、光学フィルム７の両面に粘着剤層６を設け、それぞれの粘着剤層６に、本発明の離型フィルム５を貼合してもよい。他の製造方法としては、光学フィルム７の片面に粘着剤層６を設けた積層体１０に、本発明の離型フィルム５を貼合してもよい。あるいは、無溶剤型粘着剤を塗布した後、離型フィルム５と光学フィルム７との間で、光や熱等により粘着剤層６を硬化させることもできる。使用時には、粘着付き光学フィルム８から離型フィルム５を剥離することにより、離型フィルム５から積層体１０を分離し、粘着剤層６の表面（粘着面）を露出することができる。一般に、光学フィルム７と粘着剤層６との間の密着力は、粘着剤層６から離型フィルム５を剥離する時の剥離力より大きい。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of the laminated film of the present invention. 2 is used for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6 laminated on the optical film 7 with the release film 5 of the present invention. An optical film 7 is bonded to the release film 5 of the present invention shown in FIG. In such a method for producing the optical film 8 with pressure-sensitive adhesive, the optical film 7 may be bonded after the solvent-type pressure-sensitive adhesive is applied to the release film 5 and dried. In such a release film 5 used for protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6, solvent resistance is required for the release agent layers 2 and 4. In the release film 5 of the present invention, the first release agent layer 2 containing no fine particles is provided between the base film 1 and the second release agent layer 4 containing the fine particles 3. Therefore, even if the solvent penetrates into the interface between the second release agent layer 4 and the first release agent layer 2 through the gap between the release agent of the second release agent layer 4 and the fine particles 3. Since the solvent does not reach the interface between the first release agent layer 2 and the substrate film 1, the first release agent layer 2 is not peeled off from the substrate film 1, and the solvent resistance is also good. It is. The laminate including the pressure-sensitive adhesive layer 6 can include one or more resin films and one or more pressure-sensitive adhesive layers. For example, the adhesive layer 6 may be provided on both surfaces of the optical film 7, and the release film 5 of the present invention may be bonded to each adhesive layer 6. As another manufacturing method, you may bond the release film 5 of this invention to the laminated body 10 which provided the adhesive layer 6 in the single side | surface of the optical film 7. FIG. Alternatively, the adhesive layer 6 can be cured between the release film 5 and the optical film 7 by light, heat, or the like after applying the solventless adhesive. At the time of use, the release film 5 is peeled from the optical film 8 with adhesive, whereby the laminate 10 can be separated from the release film 5 and the surface (adhesive surface) of the adhesive layer 6 can be exposed. In general, the adhesive force between the optical film 7 and the pressure-sensitive adhesive layer 6 is larger than the peeling force when peeling the release film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 6.

また、図３は、本発明の積層フィルムの第２形態例を、模式的に示す断面図である。図３の光学粘着シート９は、タッチパネル部材や光学部材の貼合に用いられる粘着剤層６に、本発明の離型フィルム５を、該粘着剤層６を保護するために貼り合わせたものである。光学粘着シート９は、２枚の離型フィルム５で粘着剤層６を挟んだ形態になっている。このような光学粘着シート９の製造方法では、一方の離型フィルム５に溶剤型粘着剤を塗布、乾燥した後、もう一方の離型フィルム５を貼合するのが一般的である。このような、粘着剤層６を保護する用途に使用される離型フィルム５では、離型剤層２、４に対して、耐溶剤性が要求される。本発明の離型フィルム５は、耐溶剤性も良好なため、粘着剤層６を保護する用途に好適に使用できる。   Moreover, FIG. 3 is sectional drawing which shows typically the 2nd form example of the laminated | multilayer film of this invention. The optical pressure-sensitive adhesive sheet 9 in FIG. 3 is obtained by bonding the release film 5 of the present invention to the pressure-sensitive adhesive layer 6 used for bonding a touch panel member or an optical member in order to protect the pressure-sensitive adhesive layer 6. is there. The optical adhesive sheet 9 has a form in which the adhesive layer 6 is sandwiched between two release films 5. In such a method for producing the optical pressure-sensitive adhesive sheet 9, a solvent-type pressure-sensitive adhesive is applied to one release film 5 and dried, and then the other release film 5 is bonded. In such a release film 5 used for protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6, solvent resistance is required for the release agent layers 2 and 4. Since the release film 5 of the present invention has good solvent resistance, it can be suitably used for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6.

本発明の積層フィルムの粘着剤層６に使用される粘着剤は、水系、非水系（溶剤系）でも無溶剤タイプでも良い。粘着剤としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤等、いずれでもよい。アクリル系粘着剤は、透明性、耐候性に優れるため、好ましい。
積層フィルムに用いられる樹脂フィルムは、光学フィルム７に限らず、不透明の樹脂フィルムであってもよい。光学フィルムとしては、偏光フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、防眩（アンチグレア）フィルム、紫外線吸収フィルム、赤外線吸収フィルム、光学補償フィルム、輝度向上フィルム、高透明フィルム等が挙げられる。
本発明の積層フィルムは、離型フィルムの離型剤層が粘着剤層の表面（粘着面）に貼り合わせてなる積層フィルムであり、図３に示すように、離型フィルム５と粘着剤層６とのみからなる積層フィルムでもよく、図２に示すように、光学フィルム７のような樹脂フィルム（粘着剤層６の支持体）などを含む積層フィルムでもよい。 The pressure-sensitive adhesive used for the pressure-sensitive adhesive layer 6 of the laminated film of the present invention may be water-based, non-aqueous (solvent-based) or solvent-free type. As the pressure-sensitive adhesive, any of an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, and the like may be used. An acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable because it is excellent in transparency and weather resistance.
The resin film used for the laminated film is not limited to the optical film 7 and may be an opaque resin film. Examples of the optical film include a polarizing film, a retardation film, an antireflection film, an antiglare (antiglare) film, an ultraviolet absorption film, an infrared absorption film, an optical compensation film, a brightness enhancement film, and a highly transparent film.
The laminated film of the present invention is a laminated film in which the release agent layer of the release film is bonded to the surface (adhesive surface) of the adhesive layer, and as shown in FIG. 3, the release film 5 and the adhesive layer. 6 or a laminated film including a resin film (a support for the pressure-sensitive adhesive layer 6) such as the optical film 7 as shown in FIG.

以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

（実施例１の離型フィルム）
付加反応型シリコーン（東レダウコーニング(株)製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド０．７５重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング(株)製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例１の第１の離型剤層（以下、離型剤層Ａとする）を形成する塗料を調整した。
厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の離型剤層Ａを形成する塗料を、乾燥後の厚みが０．１μｍになるようにメイヤーバーにて塗布した後、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間加熱して離型剤層Ａを形成した。
その後、離型剤層Ａの表面に、付加反応型シリコーン（東レ・ダウコーニング(株)製、ＬＴＣ−１０５６Ｌ）３０重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒７０重量部、白金触媒（東レダウコーニング(株)製、品名：ＳＲＸ−２１２）１重量部と平均粒子径（体積基準平均粒子径）が２μｍのシリコーン系樹脂ポリマー微粒子（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製、品名：トスパール（登録商標）１２０）０．０１６６重量部を混ぜ合わせて、実施例１の第２の離型剤層（以下、離型剤層Ｂとする）を形成する塗料を調整した。
実施例１の離型剤層Ｂを形成する塗料を、離型剤層Ｂ（微粒子の突出高さを除いた付加反応型シリコーン系離型剤）の乾燥後の厚さが０．９μｍになるように、メイヤーバーにて離型剤層Ａの表面に塗工した後、１２０℃の熱風循環式乾燥器にて１分間加熱して離型剤層Ｂを形成し、実施例１の離型フィルムを得た。 (Release film of Example 1)
5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 0.75 parts by weight of lithium bis (fluorosulfonyl) imide, 95 parts by weight of 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate , Platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212) 0.05 parts by weight are mixed, stirred and mixed, and the first release agent layer of Example 1 (hereinafter, release agent) The coating material forming the layer A) was prepared.
After applying the paint for forming the release agent layer A of Example 1 on a surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying becomes 0.1 μm, hot air at 120 ° C. A release agent layer A was formed by heating in a circulation oven for 1 minute.
Then, 30 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., LTC-1056L), 70 parts by weight of 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum catalyst on the surface of the release agent layer A (Product name: SRX-212 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 1 part by weight of silicone resin polymer fine particles having an average particle size (volume-based average particle size) of 2 μm (product of Momentive Performance Materials Co., Ltd.) 0.0166 parts by weight of Tospearl (registered trademark) 120) was mixed to prepare a coating material for forming the second release agent layer (hereinafter referred to as release agent layer B) of Example 1.
In the coating material forming the release agent layer B of Example 1, the thickness after drying of the release agent layer B (addition reaction type silicone release agent excluding the protruding height of fine particles) becomes 0.9 μm. Thus, after coating on the surface of the release agent layer A with a Mayer bar, the release agent layer B is formed by heating for 1 minute in a hot air circulation dryer at 120 ° C. A film was obtained.

（実施例２の離型フィルム）
離型剤層Ａに含有させる帯電防止剤として、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド０．７５重量部の代わりに、エチルシリケート系帯電防止剤（コルコート(株)製コルコート（登録商標）Ｎ−１０３Ｘ）を２０重量部にし、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒を７５重量部にした以外は、実施例１と同様にして、実施例２の離型フィルムを得た。 (Release film of Example 2)
As an antistatic agent contained in the release agent layer A, instead of 0.75 part by weight of lithium bis (fluorosulfonyl) imide, an ethyl silicate antistatic agent (Colcoat (registered trademark) N-103X manufactured by Colcoat Co., Ltd.) Was 20 parts by weight, and a release film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixed solvent of 1: 1 toluene and ethyl acetate was 75 parts by weight.

（実施例３の離型フィルム）
離型剤層Ａの乾燥後の厚さを０．３μｍにし、離型剤層Ｂの乾燥後の厚さを０．７μｍにし、シリコーン系樹脂ポリマー微粒子（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製、品名：トスパール（登録商標）１２０）の代わりに体積基準平均粒子径２．７μｍの無定形シリカ（富士シリシア化学(株)製、品名：サイリシア（登録商標）３１０Ｐ）にした以外は、実施例２と同様にして実施例３の離型フィルムを得た。 (Release film of Example 3)
The thickness of the release agent layer A after drying is set to 0.3 μm, the thickness of the release agent layer B after drying is set to 0.7 μm, and silicone resin polymer fine particles (manufactured by Momentive Performance Materials, Example 2 except that amorphous silica having a volume-based average particle diameter of 2.7 μm (manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., product name: Cylicia (registered trademark) 310P) was used instead of Tospearl (registered trademark) 120). In the same manner, a release film of Example 3 was obtained.

（実施例４の離型フィルム）
離型剤層Ｂの乾燥後の厚さを０．４μｍにした以外は、実施例２と同様にして実施例４の離型フィルムを得た。 (Release film of Example 4)
A release film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the release agent layer B after drying was changed to 0.4 μm.

（実施例５の離型フィルム）
離型剤層Ａの乾燥後の厚さを０．３μｍにし、離型剤層Ｂの乾燥後の厚さを１．７μｍにし、シリコーン系樹脂ポリマー微粒子（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製、品名：トスパール（登録商標）１２０）の代わりに、体積基準平均粒子径４．５μｍのシリコーン系樹脂ポリマー微粒子（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製、品名：トスパール（登録商標）１４５）にした以外は、実施例２と同様にして実施例５の離型フィルムを得た。 (Release film of Example 5)
The thickness of the release agent layer A after drying is set to 0.3 μm, the thickness of the release agent layer B after drying is set to 1.7 μm, and silicone resin polymer fine particles (manufactured by Momentive Performance Materials, Product name: Tospearl (registered trademark) 120), instead of silicone resin polymer fine particles having a volume-based average particle diameter of 4.5 μm (product name: Tospearl (registered trademark) 145) manufactured by Momentive Performance Materials, Inc. Obtained the release film of Example 5 like Example 2. FIG.

（比較例１）
離型剤層Ａを設けなかった以外は、実施例１と同様にして比較例１の離型フィルムを作成した。 (Comparative Example 1)
A release film of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the release agent layer A was not provided.

（比較例２）
離型剤層Ｂの乾燥後の厚さを１．２μｍにした以外は、実施例１と同様にして比較例２の離型フィルムを得た。 (Comparative Example 2)
A release film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the release agent layer B after drying was changed to 1.2 μm.

（比較例３）
厚さ３８μｍの、片面にコロナ処理を施したポリエステルフィルムのコロナ処理面に、実施例１の離型剤層Ｂを形成する塗料から微粒子を除いた付加反応型シリコーン系離型剤及び白金触媒の溶液のみを、乾燥後の厚さが０．２μｍとなるように、メイヤーバーにて塗工した後、１２０℃の熱風循環式乾燥器にて１分間加熱し、比較例３の離型フィルムを得た。 (Comparative Example 3)
An addition reaction type silicone release agent and a platinum catalyst obtained by removing fine particles from the coating material for forming the release agent layer B of Example 1 on the corona treatment surface of a polyester film having a thickness of 38 μm and subjected to corona treatment on one side. Only the solution was coated with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and then heated for 1 minute with a 120 ° C. hot-air circulating dryer, and the release film of Comparative Example 3 was obtained. Obtained.

（比較例４）
離型剤層Ａに帯電防止剤として、リチウムビス（フルオロスルホニル）イミドを含有させなかった以外は、実施例１と同様にして比較例４の離型フィルムを得た。 (Comparative Example 4)
A release film of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release agent layer A did not contain lithium bis (fluorosulfonyl) imide as an antistatic agent.

（離型剤層の表面抵抗率の測定）
離型フィルムの測定用サンプルの、２層構成の離型剤層の最表面の表面抵抗率（Ω／□）を、高性能高抵抗率計（三菱化学アナリテック社製ハイレスタ（登録商標）−ＵＰ）を用いて、印加電圧１００Ｖ、測定時間３０秒の条件にて測定した。 (Measurement of surface resistivity of release agent layer)
The surface resistivity (Ω / □) of the outermost surface of the two-layered release agent layer of the release film measurement sample was measured with a high performance high resistivity meter (Hiresta (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) UP) was measured under the conditions of an applied voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds.

（ブロッキングの有無の確認）
離型フィルムを３枚重ねたサンプルを作成し、ステンレス板（ＳＵＳ３０４）２枚の間に挟む。このサンプルに２０ｇ／ｃｍ２｛０．１９６Ｎ／ｃｍ２｝の荷重を掛けた状態で、２３℃、５０％ＲＨの環境で２４時間放置する。その後、３枚重なった離型フィルムを取り出し、離型フィルムを１枚ずつ手で剥がすことによりブロッキング状態を確認した。
ブロッキング状態の判定基準として、ブロッキングがなく、離型フィルムが軽く剥がれたものをブロッキング性良好（○）、離型フィルムの剥離時に抵抗があったものをブロッキング性不良（×）とした。 (Check for blocking)
A sample in which three release films are stacked is prepared and sandwiched between two stainless plates (SUS304). The sample is allowed to stand in an environment of 23 ° C. and 50% RH for 24 hours under a load of 20 g / cm 2 {0.196 N / cm 2 }. Then, the release film which overlapped 3 sheets was taken out, and the blocking state was confirmed by peeling a release film one sheet at a time.
As the criteria for determining the blocking state, blocking was good and the release film was lightly peeled off was evaluated as good blocking property (◯), and the resistance when the release film was peeled off was determined as poor blocking property (x).

（剥離力の測定）
離型フィルムの２層構成の離型剤層の最表面に、ポリエステル粘着テープ（日東電工株式会社製、商品名：ポリエステルテープＮｏ．３１Ｂ）を貼り合わせ、２０ｇ／ｃｍ２の荷重下、７０℃で２０時間エージングした後、卓上型精密万能試験機（島津製作所社製、オートグラフ（登録商標））にて剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°にて引き剥がした際の剥離強度を、剥離力（ｍＮ／５０ｍｍ）として測定した。 (Measurement of peel force)
A polyester pressure-sensitive adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corporation, product name: polyester tape No. 31B) is bonded to the outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure of the release film, and 70 ° C. under a load of 20 g / cm 2. After peeling off at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° with a desktop precision universal testing machine (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph (registered trademark)) Measured as force (mN / 50 mm).

（残留接着率の測定）
上記（剥離力の測定）による試験後の、離型フィルムから引き剥がした粘着テープを被着体（ステンレス板）に対してローラで圧着し、２３℃、５５％ＲＨの環境下で１時間放置した後、卓上型精密万能試験機（島津製作所社製、オートグラフ（登録商標））にて、剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°にて当該被着体から剥離するときの剥離力を測定して残留接着力とした。
これとは別に、未使用の粘着テープを、同一材質の被着体に圧着して剥離するときの剥離力を、残留接着力と同様に測定して基準粘着力とした。
残留接着率は、残留接着率＝（残留粘着力）／（基準粘着力）×１００（％）という式により算出した。 (Measurement of residual adhesion rate)
After the test according to the above (measurement of peel force), the adhesive tape peeled off from the release film is pressure-bonded to the adherend (stainless steel plate) with a roller and left in an environment of 23 ° C. and 55% RH for 1 hour. Then, using a desktop precision universal testing machine (manufactured by Shimadzu Corp., Autograph (registered trademark)), the peeling force when peeling from the adherend at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° is measured. The residual adhesive strength was obtained.
Separately from this, the peeling force when an unused adhesive tape was pressure-bonded to an adherend of the same material and peeled was measured in the same manner as the residual adhesive force, and used as a reference adhesive strength.
The residual adhesive rate was calculated by the following formula: residual adhesive rate = (residual adhesive force) / (reference adhesive force) × 100 (%).

（離型剤層の密着性の確認）
上記（剥離力の測定）による試験後の、離型フィルムの２層構成の離型剤層の最表面を、指の腹で強く３回擦った後、擦った部分を目視で観察した。基材フィルムから、離型剤層が脱落していることの有無を目視にて確認し、離型剤層の脱落がほとんどなかったものを（○）、離型剤層の脱落が著しかったものを（×）として評価した。 (Confirmation of adhesion of release agent layer)
After the test according to the above (measurement of peel force), the outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure of the release film was rubbed strongly three times with the belly of the finger, and the rubbed portion was visually observed. Visually confirmed that the release agent layer had fallen off from the base film. (○), where the release agent layer was almost free. Was evaluated as (×).

（離型剤層の耐溶剤性の確認）
離型フィルムの２層構成の離型剤層の最表面を、酢酸エチルを染み込ませた不織布（旭化成せんい社製ベンコット（登録商標）Ｍ−１）を用いて、２００ｇの分銅で荷重を掛けた状態で一往復擦る。その後、離型フィルムの２層構成の離型剤層の最表面を目視で観察することにより、離型フィルムの２層構成の離型剤層の耐溶剤性を確認した。２層構成の離型剤層の最表面を目視にて確認し、外観に変化の無かったものを（○）、２層構成の離型剤層が脱落したものを（×）と判定した。 (Confirmation of solvent resistance of release agent layer)
The outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure of the release film was loaded with a 200 g weight using a nonwoven fabric impregnated with ethyl acetate (Bencot (registered trademark) M-1 manufactured by Asahi Kasei Fibers). Rub once in the state. Thereafter, the outermost surface of the two-layer release agent layer of the release film was visually observed to confirm the solvent resistance of the two-layer release agent layer of the release film. The outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure was visually confirmed, and (◯) indicates that there was no change in appearance, and (x) indicates that the two-layer release agent layer was dropped.

（評価結果）
実施例１〜５の離型フィルム、および比較例１〜４の離型フィルムの評価結果を、表１に示す。表１において、「オーバーレンジ」の意味は、表面抵抗計（ハイレスタ−ＵＰ）の測定範囲を越えたことを意味し、すなわち、２層構成の離型剤層の最表面の表面抵抗率が１．０×１０１３Ω／□以上であることを意味する。また、表面抵抗率は、ＪＩＳ Ｘ ０２１０に規定する指数表現により表記した。例えば、３．２Ｅ＋１１は３．２×１０の１１乗を意味する。 (Evaluation results)
Table 1 shows the evaluation results of the release films of Examples 1 to 5 and the release films of Comparative Examples 1 to 4. In Table 1, the meaning of “overrange” means that the measurement range of the surface resistance meter (HIRESTA-UP) has been exceeded, that is, the surface resistivity of the outermost surface of the two-layered release agent layer is 1. 0.0 × 10 13 Ω / □ or more. Further, the surface resistivity was expressed by an index expression defined in JIS X 0210. For example, 3.2E + 11 means 3.2 × 10 11th power.

Figure 2019018583
Figure 2019018583

（まとめ）
本発明に係わる実施例１〜５の離型フィルムは、剥離力が小さく、かつ、残留接着率が高い数値を示した。さらに、２層構成の離型剤層の最表面の表面抵抗率が、低い値となった。また、実施例１〜５の離型フィルムは、ブロッキングの有無の確認試験において、第２の離型剤層と離型フィルムの背面とがブロッキングを起こしておらず、微粒子を含有する第２の離型剤層の密着性、耐溶剤性が良好であった。
これに対して、比較例１の離型フィルムは、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層を設けなかったために、微粒子を含有する第２の離型剤層が、基材フィルムに接した構造となっていて、耐溶剤性が悪く、かつ、帯電防止性能が劣る結果となった。
また、比較例２の離型フィルムは、微粒子を含有する第２の離型剤層の凹凸が小さく、離型フィルムがブロッキングしてしまい、剥離力も大きい結果となった。
また、比較例３の離型フィルムは、帯電防止剤及び微粒子を含有しないシリコーン系離型剤層のみを、一般的な塗布量で塗工して離型剤層が形成されており、本発明に係わる実施例１〜５の離型フィルムよりも剥離力が極めて大きく、かつ、帯電防止性能が劣る結果となった。
また、比較例４の離型フィルムは、第１の離型剤層及び第２の離型剤層に、帯電防止剤を含有していないために、２層構成の離型剤層の最表面の表面抵抗率がオーバーレンジ（１．０×１０１３Ω／□以上）であり、帯電防止性能が劣る結果であった。 (Summary)
The release films of Examples 1 to 5 according to the present invention exhibited a numerical value with a small peel force and a high residual adhesion rate. Furthermore, the surface resistivity of the outermost surface of the two-layered release agent layer was a low value. Moreover, the release film of Examples 1-5 WHEREIN: In the confirmation test of the presence or absence of blocking, the 2nd mold release agent layer and the back surface of a release film do not raise | generate blocking, but contain the 2nd fine particle. The release agent layer had good adhesion and solvent resistance.
On the other hand, since the release film of Comparative Example 1 did not provide the first release agent layer containing an antistatic agent and not containing fine particles, the second release agent layer containing fine particles was The structure was in contact with the base film, resulting in poor solvent resistance and poor antistatic performance.
Moreover, the unevenness | corrugation of the 2nd mold release agent layer containing microparticles | fine-particles of the release film of the comparative example 2 was small, the release film blocked, and the result was also large.
Further, the release film of Comparative Example 3 has a release agent layer formed by coating only a silicone release agent layer containing no antistatic agent and fine particles with a general coating amount. As compared with the release films of Examples 1 to 5 relating to the above, the peel force was extremely large and the antistatic performance was inferior.
Moreover, since the release film of Comparative Example 4 does not contain an antistatic agent in the first release agent layer and the second release agent layer, the outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure. The surface resistivity was an overrange (1.0 × 10 13 Ω / □ or more), and the antistatic performance was poor.

１…基材フィルム、２…第１の離型剤層、３…微粒子、４…第２の離型剤層、５…離型フィルム、６…粘着剤層、７…光学フィルム、８…粘着付き光学フィルム、９…光学粘着シート、１０…積層体。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... 1st mold release agent layer, 3 ... Fine particle, 4 ... 2nd mold release agent layer, 5 ... Release film, 6 ... Adhesive layer, 7 ... Optical film, 8 ... Adhesion Attached optical film, 9 ... optical adhesive sheet, 10 ... laminate.

Claims (2)

基材の片面に粘着剤層が積層された積層体の、前記粘着剤層の表面に、離型剤層が設けられた表面保護用離型フィルムが、前記離型剤層を介して貼り合せてなる積層フィルムであって、
前記積層フィルムから、前記積層体を剥がした表面保護用離型フィルムが、被着体の表面保護に使用されるものであり、
前記表面保護用離型フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に、帯電防止剤を含有し微粒子を含有しない第１の離型剤層と、無機微粒子および／またはポリマー微粒子からなる微粒子を含有する第２の離型剤層とが、この順に積層された２層構成の離型剤層を有してなり、
前記第１の離型剤層と、前記第２の離型剤層との総厚さが０．４〜２．０μｍであり、前記第２の離型剤層の表面から前記微粒子の頂点までの突出高さが、前記総厚さ以上であり、かつ、前記第１の離型剤層及び前記第２の離型剤層が、シリコーン系離型剤を含むことを特徴とする積層フィルム。 A release film for surface protection in which a release agent layer is provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of a laminate in which a pressure-sensitive adhesive layer is laminated on one side of a substrate is bonded via the release agent layer. A laminated film comprising:
From the laminated film, the release film for surface protection obtained by peeling off the laminated body is used for protecting the surface of the adherend.
The release film for surface protection contains a first release agent layer containing an antistatic agent and not containing fine particles and fine particles comprising inorganic fine particles and / or polymer fine particles on at least one surface of the base film. And a second release agent layer that has a two-layer release agent layer laminated in this order,
The total thickness of the first release agent layer and the second release agent layer is 0.4 to 2.0 μm, from the surface of the second release agent layer to the top of the fine particles And the first release agent layer and the second release agent layer contain a silicone-type release agent. 前記第２の離型剤層に含有された微粒子が、シリカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、カオリン、ガラス粉末、タルクからなる無機粒子群から選択された１種以上の無機微粒子、および／または、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂からなる高分子樹脂粒子群から選択された１種以上のポリマー微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の積層フィルム。   The fine particles contained in the second release agent layer are one or more inorganic fine particles selected from the group of inorganic particles consisting of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, talc, and / or One or more kinds of polymer fine particles selected from a group of polymer resin particles consisting of silicone resin, acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, and epoxy resin The laminated film according to claim 1, wherein the laminated film is provided.
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