JP2019000978A - Grinding tool and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、研削工具および研削工具の製造方法に関する。 The present invention relates to a grinding tool and a method for manufacturing a grinding tool.
研削および/または研磨技術は、一般に、金属、セラミックもしくはガラス部分、または半導体ウエハなどの剛性部分の望ましい表面粗さや平面を作るために用いられる。そのために、研削および/または研磨技術では、剛性表面を磨耗させることが可能な研磨部材を有する工具を使用する。 Grinding and / or polishing techniques are generally used to create the desired surface roughness or plane of a rigid portion such as a metal, ceramic or glass portion, or semiconductor wafer. To that end, grinding and / or polishing techniques use a tool having an abrasive member capable of wearing a rigid surface.
よく知られた研磨技術が、半導体製造過程で用いられる化学機械研磨(CMP)技術である。CMPは、研磨パッドと一緒に腐食性の化学スラリを使用して望ましくない残留物を取り除き、セラミック、シリコン、ガラス、サファイアまたは金属で作製され得るウエハの表面を平坦にするものである。
研磨パッドを一定期間にわたって使用した後は、研磨パッドの研削作用が低減する可能性がある。したがって、通常は追加の研削工具(「コンディショナ」とも呼ばれる)を使用して、研磨パッドの最適な研削効果を維持するために研磨パッドの表面を粗くすることがある。
A well-known polishing technique is a chemical mechanical polishing (CMP) technique used in semiconductor manufacturing processes. CMP uses a corrosive chemical slurry with a polishing pad to remove unwanted residues and to planarize the surface of a wafer that can be made of ceramic, silicon, glass, sapphire, or metal.
After using the polishing pad for a certain period of time, the grinding action of the polishing pad may be reduced. Thus, additional grinding tools (also referred to as “conditioners”) are typically used to roughen the surface of the polishing pad in order to maintain the optimum grinding effect of the polishing pad.
従来、研削工具の切削率は、研削工具に備わっている研磨部材の分布密度を上げることによって改善されることがある。これには研削工具の研磨部材を増量する必要があり、それによって研削工具の製造により多くの費用がかかる。 Conventionally, the cutting rate of a grinding tool may be improved by increasing the distribution density of an abrasive member provided in the grinding tool. This requires an increase in the amount of abrasive material in the grinding tool, which makes it more expensive to manufacture the grinding tool.
図1は、コンディショナ1を製造する従来技術を示す概略図である。金型14内に配置した研磨部材11の高さを位置決めして制御するために網板13を使用できる。次に、金型14の内部にある研磨部材11の上全体に接着剤または樹脂12を塗布できる。接着剤または樹脂12内に空気ボイドが形成されるのを低減するために圧力および真空を適用できる。
一旦接着剤または樹脂12が硬化すれば、その接着剤または樹脂を金型14から取り除いて、硬化した接着剤または樹脂12に接着している研磨部材11からなる図2に示したコンディショナ1が得られる。実際には、前述のコンディショナ1は、いくつかの欠点を有する可能性がある。例えば、硬化した接着剤または樹脂12は、腐食性の化学スラリと接触して変質を被るおそれがあり、それによって研磨部材11がはずれてしまうおそれがある。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a conventional technique for manufacturing a conditioner 1. The
Once the adhesive or
したがって、費用対効果の高い方法で製造でき、研磨部材を確実に取り付けられ、少なくとも前述の課題に対処できる改善した研削工具に対する需要がある。 Accordingly, there is a need for an improved grinding tool that can be manufactured in a cost-effective manner, can be securely attached to an abrasive member, and can at least address the aforementioned problems.
本明細書は、研磨小片を確実に取り付けられ、費用対効果の高い方法で製造できる研削工具を説明している。研削工具は、基板および複数の研磨小片を備えている。基板は、第1の面および第2の面ならびに複数の孔を有し、各々の孔は基板を通って延在し、それぞれが第1の開口を第1の面に、第2の開口を第2の面に有し、第2の開口は第1の開口よりも大きい。研磨小片は、それぞれが孔内に配置され、複数の接着部を介して基板に取り付けられ、各々の研磨小片は、第1の面から外向きに突出する先端と、対応する孔の内部で接着部のうちの1つで覆われた残りの部分とを有し、孔の第1の開口は、研磨小片よりも小さく、研磨小片はそれぞれが孔内に保持される。 This specification describes a grinding tool to which abrasive pieces can be securely attached and manufactured in a cost-effective manner. The grinding tool includes a substrate and a plurality of polishing pieces. The substrate has a first surface and a second surface and a plurality of holes, each hole extending through the substrate, each having a first opening on the first surface and a second opening. The second opening is larger than the first opening. Each of the polishing pieces is disposed in the hole and is attached to the substrate via a plurality of bonding portions. Each polishing piece is bonded to the tip protruding outward from the first surface and inside the corresponding hole. The first opening of the hole is smaller than the abrasive piece, each of which is held in the hole.
本明細書は、研削工具の製造方法をさらに説明している。本方法は、第1の面および第2の面ならびに複数の孔を有する基板であって、各々の孔は、基板を通って延在し、それぞれが第1の開口を第1の面に、第2の開口を第2の面に有し、第2の開口は第1の開口よりも大きい、基板を提供することと、複数の研磨小片それぞれを第2の開口を通して孔に配置し、研磨小片は全体的に第1の開口よりも大きく、第1の開口から外向きに部分的に突出していることと、複数の位置決め凹部を有する固定支持体上に基板を配置し、第1の開口から突出する研磨小片は、それぞれが位置決め凹部に部分的に受け入れられることと、複数の接着部それぞれを第2の開口を通して孔の中に適用し、それによって接着部はそれぞれ孔の内部にある研磨小片を被覆し、研磨小片を基板にしっかりと取り付けることとを含む。 The present description further describes a method of manufacturing a grinding tool. The method includes a substrate having a first surface and a second surface and a plurality of holes, each hole extending through the substrate, each having a first opening in the first surface, Providing a substrate having a second opening in the second surface, wherein the second opening is larger than the first opening, and each polishing piece is disposed in the hole through the second opening and polished. The small piece is generally larger than the first opening, partially protrudes outward from the first opening, and the substrate is disposed on a fixed support having a plurality of positioning recesses, and the first opening The abrasive pieces projecting from each of the abrasive pieces are partially received in the positioning recesses, and each of the plurality of adhesive portions is applied through the second opening into the hole, whereby the adhesive portions are each in the interior of the hole. Cover the small piece and attach the abrasive piece firmly to the substrate Including the.
図3は、研削工具2の一実施形態を示す概略上面図であり、図4は、研削工具2を示す断面図である。
図3および図4を参照する。研削工具2は、基板21、および基板21にしっかりと取り付けられた複数の研磨小片22を備えていてよい。基板21は、単一の剛性体であってよい。基板21は、頑強で化学的に安定した材料でできていてよく、これには、ステンレス鋼、セラミックなどの金属材料を例示的に挙げ得る。一実施形態によれば、基板21は、研削工具2が酸性またはアルカリ性のスラリと接触した状態で使用されたときに研削工具が化学変質にあまりさらされないように、ステンレス鋼でできている。
基板21のサイズに課された特定の制限はない。一実施形態によれば、基板21は、直径が約4インチで厚みが約2mm〜約3mmである略円形の円板であってよい。基板21は、2つの相対する面211および212を有していてよく、面211は研削工具2の作業面であり、面212は研削工具2の非作業面である。研磨小片22は、基板21の面211全体にわたって分布でき、この面から外向きに突出できる。
FIG. 3 is a schematic top view showing an embodiment of the
Please refer to FIG. 3 and FIG. The
There is no specific limit imposed on the size of the
研磨小片22は、硬度の高い任意の適切な材料で作製され得る。研磨小片22に適切な材料の例として、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、酸化アルミニウム、および炭化ケイ素などを挙げ得るがこれに限定されない。研磨小片22の形状は限定されず、例示的に正六八面体(hexoctahedron)の結晶形態であってもよい。さらに、研磨小片22は、研削工具2に要求される機能に応じて任意の適切なサイズであってよい。一実施形態によれば、研磨小片22のサイズは、例示的に約20〜約30USメッシュであってよく、すなわち研磨小片22を濾過するのに使用されるメッシュスクリーンには、1平方インチあたり約20〜約30の開口があってよく、研磨小片22の平均最大幅は約800μm〜約1000μmである。一実施形態によれば、基板21には約60〜約300個の研磨小片22が備わっていてよい。
The
図4を参照する。基板21は、複数の孔213を含んでいてよい。研磨小片22は、それぞれが孔213に配置されてよく、それぞれが複数の接着部216を介して基板21に取り付けられてよい。そのようにして取り付けられた各研磨小片22は、基板21の面211から突出する先端221と、基板21の孔213の内部にある接着部216で全体が覆われた残り部分とを有し得る。換言すれば、研磨小片22は、基板21の面211から外向きに突出しているが、基板21の面212からは突出していない。
Please refer to FIG. The
各孔213は、基板21を通って延在でき、それぞれが2つの相対する面212および211に2つの開口212Aおよび211Aを形成できる。構造の一例によれば、開口212Aおよび211Aは、円形であってよく、開口212Aは開口211Aよりも大きくてよい。さらに、研磨小片22は、全体的に開口211Aよりも大きい。例えば、各開口211Aの直径は、全体的に各研磨小片22よりも小さくてよく、例えば研磨小片22の平均サイズまたは平均最大幅よりも小さくてよい。一実施形態によれば、開口212Aの直径は、1mm〜2mm、例えば1mmであってよく、開口211Aの直径は、0.4mm〜0.75mm、例えば750mであってよい。一実施形態によれば、開口211Aと開口212Aとのサイズの比率(例えば直径の比率)は、約0.2〜約0.75の間、例えば0.4〜0.375であってよい。このようにサイズが異なる構成にすると、小さい方の開口211Aは研磨小片22が通るのを阻止できるため、研磨小片22を孔213に保持できる。その結果、研磨小片22は、使用中に研削工具2から落下するのを防止され得る。研磨小片22が孔213に位置決めされれば、研磨小片22は、基板21の面211にある開口211Aから外向きに部分的に突出できる。
Each
一実施形態によれば、各孔213は、サイズおよび形状が異なる互いにつながっている2つの孔区画215および214を含んでよい。孔区画215は、例示的に円筒形であってよく、もう一方の孔区画214は、例示的に台形円錐のような形状であってよい。孔区画215は、開口212Aを通って面212に開口でき、面212に対して実質的に垂直な内側壁を有していてよい。孔区画214は、開口211Aを通って面211に開口でき、面211に向かって狭くなる先細り形状であってよい。例えば、孔区画214の内側壁と面211との間の材料角度は、約70〜約89度であってよい。
孔区画215の直径は、先細りした孔区画214のどこの直径よりも全体的に大きいため、孔区画215から孔区画214に向かって流れて接着部216を形成する接着材料が孔213を完全に充填でき、それによって接着部216の内部の空気ボイドが発生するのを低減できる。孔213の内部に受け入れられた研磨小片22の部分は、接着部216と接触しており、これによって実質的に研磨小片22を基板21に取り付けることが可能である。接着部216に適切な材料の例として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびこれらの任意の組み合わせなどを挙げ得る。
According to one embodiment, each
Since the diameter of the
図5は、研削工具3の一変形例の構造を示す断面図である。
図5を参照する。研削工具3は、基板21、基板21に取り付けられた研磨小片22、およびベース基板31を備えていてよい。ベース基板31は、研削工具3の剛性をさらに強化するために備えられてよい。基板21は、前述した同じ構造であってもよく、研磨小片22は、同様の方法で基板21に取り付けられてもよい。さらに詳細には、前述した同じ孔213が基板21に設けられて基板21の2つの相対する面211および212を通って延在してもよい。
研磨小片22は、それぞれが孔213に配置されてよく、それぞれが接着部216を介して基板21に取り付けられてよい。そのようにして取り付けられた各研磨小片22は、基板21の面211から突出する先端221と、基板21の孔213の内部にある接着部216で全体が覆われた残り部分とを有し得る。ベース基板31は、このベース基板の主要面に設けられた凹部311を有していてよく、基板21は、凹部311に配置され、外向きに突出している研磨小片22を含むベース基板31に取り付けられてよい。一実施形態によれば、ベース基板31の主要面に複数の凹部311が設けられてもよく、研磨小片22を含む複数の基板21は、それぞれが凹部311に配置されてよい。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a modified example of the grinding tool 3.
Please refer to FIG. The grinding tool 3 may include a
Each of the polishing
図6は、研削工具4の別の変形例の構造を示す断面図である。
図6を参照する。研削工具4は、基板41、および複数の研磨小片22を備えていてよく、研磨小片はそれぞれが基板41に取り付けられる。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the structure of another modification of the grinding tool 4.
Please refer to FIG. The grinding tool 4 may include a
基板41は、全体が単一の剛性体として形成されてよい。特に、基板41は、頑強で化学的に安定した材料でできていてよく、これには、ステンレス鋼、セラミックなどを例示的に挙げ得る。一実施形態によれば、基板41は、研削工具4が酸性またはアルカリ性のスラリと接触した状態で使用されたときに研削工具が化学変質にあまりさらされないように、ステンレス鋼でできている。
基板41のサイズに課された特定の制限はない。一実施形態によれば、基板41は、直径が約4インチの略円形の円板であってよい。さらに、基板41は、研削工具4の剛性が増すように、前述した基板21の厚みよりも大きい厚みを有していてもよい。例えば、基板41の厚みは、5mm〜6.35mmであってよい。
The
There is no specific limit imposed on the size of the
基板41は、基板41の2つの相対する面411および412を通って延在する複数の孔413を含んでいてよい。研磨小片22は、それぞれが孔413に配置されてよく、それぞれが接着部416を介して基板41に取り付けられてよい。そのようにして取り付けられた各研磨小片22は、基板41の面411から突出する先端421と、基板41の孔413の内部にある接着部416で全体が覆われた残り部分とを有し得る。換言すれば、研磨小片22は、基板41の面411から外向きに部分的に突出しているが、基板41の面412からは突出していない。
The
図6を参照する。基板41を通って延在している各孔413は、それぞれが2つの相対する面412および411に2つの開口412Aおよび411Aを有していてよい。構造の一例によれば、開口412Aおよび411Aは、円形であってよく、開口412Aは開口411Aよりも大きくてよい。さらに、研磨小片22は、全体的に開口411Aよりも大きい。例えば、各開口411Aの直径は、全体的に各研磨小片22よりも小さくてよく、例えば研磨小片22の平均サイズまたは平均最大幅よりも小さくてよい。一実施形態によれば、開口412Aの直径は、1mm〜2mm、例えば2mmであってよく、開口411Aの直径は、0.4mm〜0.75mm、例えば750μmであってよい。
このようにサイズが異なる構成にすると、小さい方の開口411Aは研磨小片22が通るのを阻止できるため、研磨小片22を孔413に保持できる。その結果、研磨小片22は、使用中に研削工具4から落下するのを防止され得る。研磨小片22が孔413に位置決めされれば、研磨小片22は、基板41の面411にある開口411Aから外向きに部分的に突出できる。
Please refer to FIG. Each
When the sizes are different from each other in this way, the
図6に示した実施形態では、各孔413は、互いにつながっている3つの孔区画415、417および414を含んでいてよく、孔区画417は、2つの孔区画415と414との間に位置し、両区画とつながっている。孔区画415は、開口412Aを通って面412に開口でき、孔区画414は、開口411Aを通って面411に開口できる。孔区画415は、例示的に、内側壁が面412に対して実質的に垂直な円筒形であってよい。孔区画417は、円筒形で、直径がその軸に沿って全体的に一様であってよく、この直径は例示的に約1mmであってよい。
孔区画414は、例示的に、面411に向かって狭くなる先細り形状であってよい(例えば台形円錐)。例えば、孔区画414の内側壁と面411との間の材料角度は、約70〜約89度であってよい。孔区画415の直径は、孔区画417の直径よりも全体的に大きく、孔区画417は孔区画414よりも全体的に大きいため、孔区画415から孔区画417を通って孔区画414に向かって流れる接着材料は、孔413を完全に充填でき、それによって接着部416の内部の空気ボイドが発生するのを低減できる。
孔413の内部に受け入れられた研磨小片22の部分は、接着部416と接触しており、これによって実質的に研磨小片22を基板41に取り付けることが可能である。
In the embodiment shown in FIG. 6, each
The
The portion of the polishing
図7は、前述した研削工具2、3または4を製造する例示的な方法工程のフローチャートである。図8〜図11は、図7に示した方法工程に従って研削工具を製造する様々な中間段階を示す概略図である。
図7および図8を参照する。孔213を含む基板21は、研削工具2または3を製造する最初の工程S110で提供されてよい。各孔213は、それぞれが2つの開口212Aおよび211Aを介して基板21の2つの相対する面212および211に開口し、開口212Aは開口211Aよりも大きい。
FIG. 7 is a flowchart of exemplary method steps for manufacturing the grinding
Please refer to FIG. 7 and FIG. The
一実施形態によれば、孔213ならびに開口212Aおよび211Aは、機械加工具を用いて基板21に穿孔することで形成されてもよい。例えば、工程S110は、基板21の面212を通って大きい方の孔区画215および開口212Aを穿孔し、その後、基板21の面211を通って小さい方の孔区画214および開口211Aを穿孔することを含んでよい。孔213を含む基板21を製造するために他の技術を用いてもよいことは理解されるであろう。例えば、別の実施形態では、粉末冶金によって孔213を含む基板21を直接形成してもよく、粉末冶金は金属粉末をプレス、焼結して孔213を含む基板21を形成することを含み得る。
According to one embodiment, the
図7および図9を参照する。工程S120で研磨小片22は、それぞれが開口212Aを通して挿入され、基板21の孔213の中に配置されてよい。開口211Aは研磨小片22よりも小さいため、研磨小片22は、それぞれが孔213の孔区画214に保持され得る。
Please refer to FIG. 7 and FIG. In step S120, each of the polishing
図7および図10を参照する。次の工程S130では、研磨小片22を含む基板21は、固定支持体5上に配置されて、基板21の面211が固定支持体5と接触した状態になることが可能である。固定支持体5は、深さが正確に制御された複数の位置決め凹部51を含んでいてよく、基板21は、固定支持体5上に配置されて、研磨小片22(特に研磨小片の先端221)が開口211Aから突出してそれぞれが位置決め凹部51に少なくとも部分的に受け入れられ、位置決め凹部51の底と接触できる。その結果、孔213内での研磨小片22の位置は、研磨小片22の先端221が基板21の面211から所望の高さに突出できるように調整され得る。特に、それによって研磨小片22の先端221どうしは、同じ高さになり、基板21の面211から突出して実質的に等しい高さになることが可能で、研磨小片22の残りの部分は孔213の内部に位置する。例えば、位置決め凹部51の深さは、約0.01mm〜約0.3mmであってよく、研磨小片22の先端221は、基板21の面211から高さ約100μmの所に外側に突出できる。研磨小片22の高さが設定できる研削工具は、対象物の面を均一に研磨するためのコンディショナとして有利に使用され得る。
Please refer to FIG. 7 and FIG. In the next step S <b> 130, the
図7および図11を参照する。基板21は固定支持体5上の位置に維持されている間に、工程S140で接着部216はそれぞれ、研磨小片22を基板21にしっかりと取り付ける接着ディスペンサ6を用いて開口212Aを通って孔213の中に適用され得る。開口212Aを通して挿入される接着材の量は、接着部216が孔213を完全に充填して孔213の内部にある研磨小片22の部分を被覆できるように制御され得る。接着部216に適切な材料の例として、エポキシ、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびこれらの任意の組み合わせを挙げ得る。
Please refer to FIG. 7 and FIG. While the
本明細書に記載した工程S110、S120、S130およびS140は、孔413を設けた基板41に基づいて研削工具4を製造するためにも同様に適用され得ることが理解されるであろう。この場合、孔413を含む基板41は、最初の工程S110で提供されてよい。例えば、工程S110は、基板41に孔区画415を穿孔し、その後、孔区画415とつながっている孔区画417を穿孔し、最終的に孔区画415および417と連通する孔区画414を穿孔することを含んでよい。
このようにして形成された孔区画415および414は、それぞれが基板41の2つの相対する面412および411に開口412Aおよび411Aを有し得る。続いて、工程S120で研磨小片22は、それぞれが開口412Aに挿入されて基板41の孔413に配置されてよい。次に工程S130を実施して研磨小片22を孔413に適切に位置決めできる。最終的に、工程S140で接着部416を、それぞれ開口412Aを通して孔413の中に適用して研磨小片22を基板41にしっかりと取り付けることが可能である。
It will be appreciated that the steps S110, S120, S130 and S140 described herein can be similarly applied to manufacture the grinding tool 4 based on the
The
一実施形態によれば、方法工程は、中に研磨小片22が固定されている基板21をベース基板31に取り付けて図5に示した研削工具3を形成することをさらに含んでいてもよい。ベース基板31は凹部311を含んでいてもよく、基板21は、凹部311内に位置決めされ取り付けられてよい。
According to one embodiment, the method steps may further include attaching a
本明細書に記載した構造および方法の利点は、費用対効果の高い方法で研削工具を製造する能力を含む点である。研削工具は、実質的に空気ボイドのない接着部を含む基板に固定される研磨小片を備えることが可能で、それによって研磨小片の確実な取り付けを実現できる。 An advantage of the structures and methods described herein includes the ability to manufacture grinding tools in a cost effective manner. The grinding tool can comprise an abrasive strip that is secured to a substrate that includes a substantially air void-free bond, thereby providing a secure attachment of the abrasive strip.
研削工具の製作およびその製造過程を、特定の実施形態の文脈で説明してきた。これらの実施形態は、例示的なものであって限定的なものではないことを意味している。多くの変形、修正、追加、および改善が可能である。これらおよびその他の変形、修正、追加、および改善は、以下の請求項に規定した本発明の範囲内に収まり得る。 The manufacture of the grinding tool and its manufacturing process have been described in the context of a particular embodiment. These embodiments are meant to be illustrative and not limiting. Many variations, modifications, additions and improvements are possible. These and other variations, modifications, additions and improvements may fall within the scope of the invention as defined in the following claims.
Claims (20)
第1の面および第2の面ならびに複数の孔を有する基板であって、各々の前記孔は、前記基板を通って延在し、それぞれが第1の開口を第1の面に、第2の開口を第2の面に有し、前記第2の開口は前記第1の開口よりも大きい、基板と、
複数の研磨小片であって、それぞれが前記孔内に配置され、複数の接着部を介して前記基板に取り付けられ、各々の前記研磨小片は、前記第1の面から外向きに突出する先端と、対応する前記孔の内部で前記接着部のうちの1つで覆われた残りの部分とを有する、複数の研磨小片と、を含む研削工具において、
前記孔の前記第1の開口は、前記研磨小片よりも小さく、前記研磨小片はそれぞれが前記孔内に保持されることを特徴とする、
研削工具。 A grinding tool,
A substrate having a first surface and a second surface and a plurality of holes, each of the holes extending through the substrate, each having a first opening on the first surface and a second surface A second surface, wherein the second opening is larger than the first opening, and
A plurality of polishing pieces, each disposed in the hole and attached to the substrate via a plurality of adhesive portions, each polishing piece having a tip protruding outward from the first surface; A plurality of abrasive pieces having a remaining portion covered with one of the adhesive portions within the corresponding hole, and a grinding tool comprising:
The first opening of the hole is smaller than the polishing piece, and each of the polishing pieces is held in the hole,
Grinding tool.
第1の面および第2の面ならびに複数の孔を有する基板であって、各々の前記孔は、前記基板を通って延在し、それぞれが第1の開口を第1の面に、第2の開口を第2の面に有し、前記第2の開口は前記第1の開口よりも大きい、基板を提供することと、
複数の研磨小片それぞれを前記第2の開口を通して前記孔に配置し、前記研磨小片は全体的に前記第1の開口よりも大きく、前記第1の開口から外向きに部分的に突出していることと、
複数の位置決め凹部を有する固定支持体上に前記基板を配置し、前記第1の開口から突出する前記研磨小片は、それぞれが前記位置決め凹部に部分的に受け入れられることと、
複数の接着部それぞれを前記第2の開口を通して前記孔の中に適用し、それによって前記接着部はそれぞれ前記孔の内部にある前記研磨小片を被覆し、前記研磨小片を前記基板にしっかりと取り付けることと、を含む、
方法。 A method for manufacturing a grinding tool, comprising:
A substrate having a first surface and a second surface and a plurality of holes, each of the holes extending through the substrate, each having a first opening on the first surface and a second surface Providing a substrate having a second opening on the second surface, wherein the second opening is larger than the first opening;
Each of a plurality of polishing pieces is disposed in the hole through the second opening, and the polishing piece is generally larger than the first opening and partially protrudes outward from the first opening. When,
Disposing the substrate on a fixed support having a plurality of positioning recesses, each of the polishing pieces protruding from the first opening being partially received in the positioning recess;
Each of a plurality of adhesive portions is applied through the second opening and into the hole, whereby the adhesive portions each cover the abrasive pieces inside the holes and securely attach the abrasive pieces to the substrate. Including,
Method.
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