JP2018535521A - Esd保護のための自然閉成型memsスイッチ - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019899 RuO Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/60—Protection against electrostatic charges or discharges, e.g. Faraday shields
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H1/00—Contacts
- H01H1/0036—Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS]
- H01H2001/0078—Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS] with parallel movement of the movable contact relative to the substrate
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Abstract
Description
そこに配置された第1アンカー電極およびRF電極を有する基板と、
応力(stress)層、下部層および上部層を含むスイッチング素子とを備え、
下部層は、第1端で上部層と連結しており、
下部層は、第2端でアンカー電極と連結しており、
応力層は、引張応力を受けている。
Claims (16)
- そこに配置された第1アンカー電極およびRF電極を有する基板と、
応力層、下部層および上部層を含むスイッチング素子とを備え、
下部層は、第1端で上部層と連結しており、
下部層は、第2端でアンカー電極と連結しており、
応力層は、引張応力を受けており、
応力層は、下部層の下面と接触している、MEMSデバイス。 - アンカー電極と下部層との間に配置されたアンカーコンタクトをさらに備える請求項1記載のMEMSデバイス。
- 第2アンカー電極をさらに備え、
スイッチング素子は、第2アンカー電極から離隔して電気的に絶縁され、スイッチング素子は、RF電極に向けて自然に下向きに偏向するようにした請求項1記載のMEMSデバイス。 - RF電極の上に配置されたRFコンタクトをさらに備え、
応力層は、RFコンタクトに接触する位置およびRFコンタクトから離隔した位置から移動する請求項1記載のMEMSデバイス。 - 応力層の下面に配置された絶縁層をさらに備え、
絶縁層は、RFコンタクトに対応する場所に開口を有し、応力層の一部が露出してRFコンタクトと接触するようにした請求項4記載のMEMSデバイス。 - 応力層内の応力は、下部層内の応力より大きい引張である請求項1記載のMEMSデバイス。
- 応力層の下面に配置された絶縁層をさらに備え、
絶縁層は、RF電極に対応する場所に開口を有し、応力層の一部が露出するようにした請求項1記載のMEMSデバイス。 - スイッチング素子の上に配置されたプルアップ電極と、
上部層と上部層との間に配置された絶縁層とを備え、
上部層は、第1場所において絶縁層と連結され接触している請求項1記載のMEMSデバイス。 - 上部層は、第1場所において下部層から離隔している請求項8記載のMEMSデバイス。
- 上部層は、RF電極に近接した場所において下部層と連結される請求項9記載のMEMSデバイス。
- スイッチング素子は、第1電圧をプルアップ電極に印加することによって、RF電極から離れて第1距離まで移動可能である請求項10記載のMEMSデバイス。
- スイッチング素子は、第2電圧を印加した場合、RF電極から離れて第2距離まで移動可能であり、第2距離は第1距離より大きく、第2電圧は第1電圧より大きい請求項11記載のMEMSデバイス。
- 第2距離にある場合、上部層は絶縁層と接触する請求項12記載のMEMSデバイス。
- 第2電圧が除去された場合、上部層は、絶縁層と接触したままであり、応力層は、RF電極から離隔したままである請求項13記載のMEMSデバイス。
- 第1電圧が除去された場合、応力層は、RFコンタクトと接触する位置に戻る請求項14記載のMEMSデバイス。
- 応力層がRFコンタクトと接触した場合、上部層は、絶縁層と接触したままである請求項8記載のMEMSデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562256045P | 2015-11-16 | 2015-11-16 | |
US62/256,045 | 2015-11-16 | ||
PCT/US2016/061937 WO2017087341A1 (en) | 2015-11-16 | 2016-11-15 | Naturally closed mems switch for esd protection |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018535521A true JP2018535521A (ja) | 2018-11-29 |
JP6864684B2 JP6864684B2 (ja) | 2021-04-28 |
Family
ID=57442817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018525370A Active JP6864684B2 (ja) | 2015-11-16 | 2016-11-15 | Esd保護のための自然閉成型memsスイッチ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10964505B2 (ja) |
EP (1) | EP3378087B1 (ja) |
JP (1) | JP6864684B2 (ja) |
KR (1) | KR102632493B1 (ja) |
CN (1) | CN108352277B (ja) |
WO (1) | WO2017087341A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109411278A (zh) * | 2017-08-16 | 2019-03-01 | 致伸科技股份有限公司 | 防静电放电的按键结构 |
EP3725028A1 (en) * | 2017-12-13 | 2020-10-21 | Nchain Holdings Limited | System and method for securely sharing cryptographic material |
US11746002B2 (en) | 2019-06-22 | 2023-09-05 | Qorvo Us, Inc. | Stable landing above RF conductor in MEMS device |
US11705298B2 (en) * | 2019-06-22 | 2023-07-18 | Qorvo Us, Inc. | Flexible MEMS device having hinged sections |
US11667516B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-06-06 | Qorvo Us, Inc. | MEMS device having uniform contacts |
FR3138657A1 (fr) | 2022-08-08 | 2024-02-09 | Airmems | Commutateur MEMS à multiples déformations et commutateur comprenant un ou plusieurs commutateurs MEMS |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5638946A (en) * | 1996-01-11 | 1997-06-17 | Northeastern University | Micromechanical switch with insulated switch contact |
DE19736674C1 (de) * | 1997-08-22 | 1998-11-26 | Siemens Ag | Mikromechanisches elektrostatisches Relais und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6127908A (en) * | 1997-11-17 | 2000-10-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Microelectro-mechanical system actuator device and reconfigurable circuits utilizing same |
US6046659A (en) * | 1998-05-15 | 2000-04-04 | Hughes Electronics Corporation | Design and fabrication of broadband surface-micromachined micro-electro-mechanical switches for microwave and millimeter-wave applications |
US6765300B1 (en) * | 1999-02-04 | 2004-07-20 | Tyco Electronics Logistics, Ag | Micro-relay |
US6236491B1 (en) * | 1999-05-27 | 2001-05-22 | Mcnc | Micromachined electrostatic actuator with air gap |
US6426687B1 (en) * | 2001-05-22 | 2002-07-30 | The Aerospace Corporation | RF MEMS switch |
US6869169B2 (en) * | 2002-05-15 | 2005-03-22 | Eastman Kodak Company | Snap-through thermal actuator |
US7352266B2 (en) * | 2004-02-20 | 2008-04-01 | Wireless Mems, Inc. | Head electrode region for a reliable metal-to-metal contact micro-relay MEMS switch |
US7372348B2 (en) * | 2004-08-20 | 2008-05-13 | Palo Alto Research Center Incorporated | Stressed material and shape memory material MEMS devices and methods for manufacturing |
US20070236307A1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Lianjun Liu | Methods and apparatus for a packaged MEMS switch |
JP4234737B2 (ja) * | 2006-07-24 | 2009-03-04 | 株式会社東芝 | Memsスイッチ |
JP2008210640A (ja) | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Murata Mfg Co Ltd | 静電駆動素子およびそれを備えた静電駆動デバイス |
US7754986B1 (en) * | 2007-02-27 | 2010-07-13 | National Semiconductor Corporation | Mechanical switch that reduces the effect of contact resistance |
JP2010129371A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Toshiba Corp | スイッチ及びesd保護素子 |
JP6165730B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2017-07-19 | キャベンディッシュ・キネティックス・インコーポレイテッドCavendish Kinetics, Inc. | Memsデバイス・アンカリング |
JP6397913B2 (ja) * | 2013-08-01 | 2018-09-26 | キャベンディッシュ・キネティックス・インコーポレイテッドCavendish Kinetics, Inc. | Mems抵抗スイッチおよびmimキャパシタを利用したdvc |
-
2016
- 2016-11-15 WO PCT/US2016/061937 patent/WO2017087341A1/en active Application Filing
- 2016-11-15 US US15/772,132 patent/US10964505B2/en active Active
- 2016-11-15 JP JP2018525370A patent/JP6864684B2/ja active Active
- 2016-11-15 CN CN201680066444.2A patent/CN108352277B/zh active Active
- 2016-11-15 EP EP16804970.8A patent/EP3378087B1/en active Active
- 2016-11-15 KR KR1020187016998A patent/KR102632493B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10964505B2 (en) | 2021-03-30 |
WO2017087341A1 (en) | 2017-05-26 |
EP3378087B1 (en) | 2021-12-01 |
CN108352277A (zh) | 2018-07-31 |
CN108352277B (zh) | 2021-02-26 |
JP6864684B2 (ja) | 2021-04-28 |
US20190066958A1 (en) | 2019-02-28 |
EP3378087A1 (en) | 2018-09-26 |
KR20180072837A (ko) | 2018-06-29 |
KR102632493B1 (ko) | 2024-02-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191008 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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