JP2018533489A - 基礎層及びこれに取付けられた窓を有する研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1A
Description
Claims (31)
- 第1弾性率を有する基礎層と、
前記基礎層に取付けられた、前記第1弾性率よりも小さい第2弾性率を有する研磨層と、
前記研磨層を貫通する第1開口と、前記基礎層を貫通する第2開口とを備え、前記第1開口は前記第2開口の少なくとも一部分を露出し、かつ前記基礎層の一部分を露出し、更に、
前記第1開口内に配置されていると共に前記基礎層の前記露出部分に取付けられた窓を備える、基板を研磨する研磨パッド。 - 前記第1開口は、前記第2開口の全体を露出する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、前記基礎層の前記露出部分に、感圧接着剤(PSA)層と、2成分型エポキシ層、UV硬化樹脂層、シリコーンベースの接着剤層、転写テープ層、及び、ホットメルト層からなるグループから選択される接着剤層により取付けられている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記接着剤層は、非ディファレンシャルタイプの両面テープPSA層である、請求項3に記載の研磨パッド。
- 前記接着剤層は、第1両面テープPSA層であり、前記研磨層は、前記窓を前記基礎層に取付けている前記第1両面テープPSA層の厚さとほぼ同じ厚さを有する第2両面テープPSA層を使用して、前記基礎層に取付けられている、請求項3に記載の研磨パッド。
- 前記接着剤層は、ディファレンシャルタイプの両面テープPSA層である、請求項3に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、前記基礎層の前記露出部分に、溶接領域により取付けられている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記溶接領域は、スポット溶接領域、ライン溶接領域、及び、マルチライン溶接領域からなるグループから選択される領域である、請求項7に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、前記基礎層の前記露出部分に、スナップ嵌め機構により取付けられている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 更に、
前記研磨層と反端側の前記基礎層の側で前記基礎層に取付けられたサブパッドと、
前記サブパッドを貫通する第3開口とを備え、前記第3開口は前記第2開口と実質的に同じサイズでかつ整合している、請求項1に記載の研磨パッド。 - 前記窓は、前記第2開口内に延びている部分を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、前記第2開口内に配置されている部分がない、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層を平面視で見て、前記窓は前記第1開口と実質的に同じ形状を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記形状は、円形、楕円形、正方形、矩形、及び、丸められた角部を有する矩形からなるグループから選択される、請求項13に記載の研磨パッド。
- 前記窓の周囲は、前記第1開口の周囲に対してほぼ5〜15ミルの範囲の量だけ前記周囲の全部分のサイズが縮小されている、請求項13に記載の研磨パッド。
- 前記基礎層について、前記窓は、前記研磨層の最上面よりも下方に最上面を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層を平面視で見て、前記第1開口は前記第2開口と実質的に同じ形状を有し、前記第2開口の周囲は、前記第1開口の周囲に対して、ほぼ10〜500ミルの範囲の量だけ、前記周囲の全部分におけるサイズが減少している、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記第2開口の前記周囲は、前記第1開口の前記周囲に対してほぼ100〜300ミルの範囲の量だけ、前記周囲の全部分のサイズが縮小されている、請求項17に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、前記基礎層に、接着剤層により取付けられている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、前記基礎層に、前記基礎層に対する前記研磨層の共有結合を介して取付けられている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、ポリエチレンテレフタレート材料、ポリウレタン材料、環状オレフィンコポリマー材料、ポリカーボネート材料、ポリエステル材料、ポリプロピレン材料、及び、ポリエチレン材料からなるグループから選択される材料を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記窓は、ほぼ300〜800ナノメートルの範囲の広域スペクトル照射に対して透明な材料を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記基礎層は、40℃、1/Paでほぼ100KELより小さいエネルギ損失係数を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記基礎層は、ポリカーボネート材料、エポキシ基板材料、ポリウレタン材料、複合繊維基板、ポリメチルメタクリレート(PMMA)材料、及び、環状オレフィンコポリマー材料からなるグループから選択される材料を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、40℃、1/Paでほぼ1000KELより大きいエネルギ損失係数を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記基礎層と前記研磨層との組み合わせは、40℃、1/Paでほぼ1000KELより小さいエネルギ損失係数を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、熱硬化性ポリウレタン材料を有し、前記基礎層は、ポリカーボネート層を有し、前記窓は、ポリエチレンテレフタレート材料を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、摂氏40度においてほぼ50MPa〜100MPaの範囲の弾性貯蔵弾性率(E’)を有し、前記基礎層は、摂氏40度においてほぼ1500MPa〜3000MPaの範囲の弾性貯蔵弾性率(E’)を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記基礎層は、ほぼ70〜90ショアDの範囲の硬度を有し、前記研磨層は、ほぼ20〜65ショアDの範囲の硬度を有する、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨層は、前記研磨層の中に配置された溝を有し、前記溝は、前記研磨層の全厚さのほぼ10%〜60%の深さに形成されている、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記溝は、前記研磨層の全厚さのほぼ半分の深さに形成されている、請求項30に記載の研磨パッド。
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