JP2018527559A - サイトメータ測定を調整するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
910 非染色試料の1又は2以上の散乱値及び蛍光強度値を測定
920 1又は2以上の蛍光強度値を1又は2以上のFSC−SSCプロット領域に関連付け
930 染色試料の1又は2以上の散乱値及び蛍光強度値を測定
940 染色試料の1又は2以上のイベントのFSC−SSCプロット位置を特定
950 蛍光強度値を減算
Claims (17)
- 前方散乱検出器と、側方散乱検出器と、各々が蛍光チャネルに対応する複数の蛍光放射検出器とを有するフローサイトメータの動作方法であって、
前記フローサイトメータを用いて、非染色試料の1又は2以上のイベントの、前記前方散乱検出器における1又は2以上の前方散乱値と、前記側方散乱検出器における1又は2以上の側方散乱値と、前記複数の蛍光放射検出器のうちの1又は2以上の蛍光放射検出器における1又は2以上の蛍光強度値とを測定するステップと、
前記非染色試料の前記1又は2以上のイベントを測定する前記ステップに少なくとも部分的に基づいて、前記複数の蛍光放射検出器のうちの1又は2以上の蛍光放射検出器の前記1又は2以上の蛍光強度値を1又は2以上の前方散乱−側方散乱プロット領域に関連付けるステップと、
前記フローサイトメータを用いて、染色試料の1又は2以上のイベントの、1又は2以上の前方散乱値と、1又は2以上の側方散乱値と、前記複数の蛍光放射検出器のうちの1又は2以上の蛍光放射検出器における1又は2以上の蛍光強度値とを測定するステップと、
前記染色試料の前記1又は2以上のイベントの前方散乱−側方散乱プロット位置を特定するステップと、
前記染色試料の前記1又は2以上のイベントの各々について、前記複数の蛍光放射検出器のうちの少なくとも1つの蛍光放射検出器において測定された、前記前方散乱−側方散乱プロット位置における前記染色試料のイベントの測定蛍光強度値から、前記複数の蛍光放射検出器のうちの前記少なくとも1つの蛍光放射検出器の、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する蛍光強度値を減算するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記非染色試料について測定された前記イベントと、前記染色試料について測定された前記イベントとの比較に少なくとも部分的に基づいて、前記非染色試料について測定された前記イベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を調整するステップをさらに含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記調整するステップは、前記非染色試料のイベント位置を前記染色試料のイベント位置にさらに厳密に一致させるように前記非染色試料の前記イベントの前方散乱−側方散乱プロットのスケールを調整するステップを含む、
請求項2に記載の方法。 - 前記複数の蛍光放射検出器のうちの1つの蛍光放射検出器の各前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する前記蛍光強度値は、前記複数の蛍光放射検出器のうちの前記1つの蛍光放射検出器の、各それぞれの領域内に位置する前記非染色試料のイベントに関連する前記測定蛍光強度値の中央値又は平均値である、
請求項1に記載の方法。 - 前方散乱−側方散乱プロット領域は、一連の重複しない前方散乱強度値及び側方散乱強度値の範囲として定められる、
請求項4に記載の方法。 - 前記領域は正方形である、
請求項5に記載の方法。 - 前記領域の寸法は、イベントの前記前方散乱−側方散乱プロット内の異なる位置におけるイベントの密度に少なくとも部分的に基づいて選択される、
請求項5に記載の方法。 - 非染色試料の1又は2以上のイベントの1又は2以上の蛍光強度値を測定するステップは、前記複数の蛍光放射検出器において実行され、染色試料の1又は2以上のイベントの1又は2以上の蛍光強度値を測定するステップは、前記非染色試料の前記1又は2以上の蛍光強度値を測定するために使用される同じ複数の蛍光放射検出器において実行される、
請求項1に記載の方法。 - 前記染色試料の前記1又は2以上のイベントの各々について、前記複数の蛍光放射検出器において測定された、前記前方散乱−側方散乱プロット位置における前記染色試料のイベントの複数の測定蛍光強度値から、前記複数の蛍光放射検出器の、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する複数の蛍光強度値を減算するステップを含み、前記染色試料の測定蛍光強度値から減算される、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する各蛍光強度値は、前記染色試料の前記測定蛍光強度値と同じ蛍光放射検出器に関連する、
請求項8に記載の方法。 - 前記非染色試料及び前記染色試料は、複数の細胞型を含む、
請求項1に記載の方法。 - フローサイトメータであって、
励起レーザーと、
1又は2以上の試料からの粒子を前記励起レーザーのビーム経路内に移送するように構成された流体工学システムと、
1又は2以上の検出器と、
処理回路と、
を備え、前記1又は2以上の検出器は、
非染色試料の1又は2以上のイベントの1又は2以上の前方散乱値と、1又は2以上の側方散乱値と、1又は2以上の蛍光強度値とを測定し、
染色試料の1又は2以上のイベントの1又は2以上の前方散乱値と、1又は2以上の側方散乱値と、1又は2以上の蛍光強度値とを測定する、
ように構成され、前記処理回路は、
前記非染色試料の1又は2以上のイベントの前記1又は2以上の前方散乱値、1又は2以上の側方散乱値及び1又は2以上の蛍光強度値の測定に少なくとも部分的に基づいて、1又は2以上の蛍光強度値を1又は2以上の前方散乱−側方散乱プロット領域に関連付け、
前記染色試料の前方散乱−側方散乱プロット位置を特定し、
前記染色試料の前記1又は2以上のイベントの各々について、前記前方散乱−側方散乱プロット位置における前記染色試料のイベントの測定蛍光強度値から、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する蛍光強度値を減算する、
ように構成される、
ことを特徴とするフローサイトメータ。 - 前記処理回路は、前記非染色試料について測定された前記イベントと、前記染色試料について測定された前記イベントとの比較に少なくとも部分的に基づいて、前記非染色試料について測定された前記イベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を調整するようにさらに構成される、
請求項11に記載のフローサイトメータ。 - 前記プロセッサは、前記非染色試料のイベント位置を前記染色試料のイベント位置にさらに厳密に一致させるように前記非染色試料の前記イベントの前方散乱−側方散乱プロットのスケールを調整するように構成される、
請求項12に記載のフローサイトメータ。 - 前記1又は2以上の検出器は、1又は2以上の蛍光チャネルにおいて測定を行うように構成される、
請求項11に記載のフローサイトメータ。 - 前記非染色試料及び前記染色試料は、複数の細胞型を含む、
請求項12に記載のフローサイトメータ。 - 前記1又は2以上の検出器は、複数の蛍光放射検出器を含み、各検出器は、非染色試料の1又は2以上のイベントの蛍光強度値を測定するように構成され、各蛍光放射検出器は、染色試料の1又は2以上のイベントの蛍光強度値を測定するようにさらに構成される、
請求項11に記載のフローサイトメータ。 - 前記処理回路は、前記染色試料の前記1又は2以上のイベントの各々について、前記複数の蛍光放射検出器の各々の、前記前方散乱−側方散乱プロット位置における前記染色試料のイベントの複数の測定蛍光強度値から、前記複数の蛍光放射検出器の各々の、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する複数の蛍光強度値を減算するように構成され、前記染色試料の測定蛍光強度値から減算される、前記染色試料のイベントの前記前方散乱−側方散乱プロット位置を含む前記前方散乱−側方散乱プロット領域に関連する各蛍光強度値は、前記染色試料の前記測定蛍光強度値と同じ蛍光放射検出器に関連する、
請求項16に記載のフローサイトメータ。
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