JP2018513989A - 放射センサ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2015年3月3日に出願された欧州出願第15157391.2号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
共振条件は以下によって与えられ得る。
Claims (45)
- 放射ビームの位置及び/又はパワーを決定するための放射センサ装置であって、前記放射センサ装置は、
第1の開口及び第2の開口を、放射ビームが前記第1の開口から入射し、概ね軸に沿って内部を伝搬し、前記第2の開口を通って出射できるように備えたガスを収容するチャンバと、
各々が前記軸の周りの前記チャンバの領域から放出される放射を受光及び検出するように構成された1つ以上のセンサと、
前記1つ以上のセンサが検出した前記放射を使用して、概ね前記軸に沿って前記チャンバ内を伝搬する前記放射ビームの位置及び/又はパワーを決定するように動作可能なプロセッサと、を備えた放射センサ装置。 - 前記1つ以上のセンサは、1つ以上の放射帯域をフィルタ除去するように構成されたフィルタリング光学部品を備える、請求項1に記載の放射センサ装置。
- 各々が前記軸の周りの前記チャンバの領域から異なる方向に放出される放射を受光及び検出するように構成された2つのセンサを備える、請求項1又は請求項2に記載の放射センサ装置。
- 前記2つのセンサは、前記軸の周りの前記チャンバの領域から概ね垂直な2つの方向に放出される放射を受光及び検出するように構成された、請求項3に記載の放射センサ装置。
- 前記1つ以上のセンサは、前記領域から放出される放射を集束させるように構成されたフォーカス光学部品を備える、請求項1〜4のいずれかに記載の放射センサ装置。
- 前記フォーカス光学部品は前記1つ以上のセンサの各々のためのフォーカスレンズを含む、請求項5に記載の放射センサ装置。
- 前記フォーカス光学部品は前記1つ以上のセンサの各々のためのフォーカスレンズのアレイを含む、請求項5に記載の放射センサ装置。
- 前記1つ以上のセンサの各々は前記チャンバの外側に配置され、前記チャンバは前記領域からの放射を前記1つ以上のセンサの1つに透過させるように構成された1つ以上のウィンドウを備える、請求項1〜7のいずれかに記載の放射センサ装置。
- 前記チャンバ内にガスを供給するように構成されたガス供給機構を更に備える、請求項1〜8のいずれかに記載の放射センサ装置。
- 前記ガス供給機構は前記チャンバ内のガスの圧力を一定に維持するように構成された、請求項9に記載の放射センサ装置。
- 前記ガス供給機構は、
前記チャンバ内にガスを供給するように動作可能なガス供給と、
前記チャンバからガスを排出するように動作可能なポンプと、
前記チャンバ内のガスの圧力をモニタするように動作可能な圧力センサと、
を備える、請求項9又は請求項10に記載の放射センサ装置。 - 前記第1及び第2の開口は、前記第1及び第2の開口の各々の間の圧力差を維持できるようにする機構を備える、請求項1〜11のいずれかに記載の放射センサ装置。
- 前記1つ以上のセンサの各々は、各々が前記センサの検知方向に異なる位置を有する複数の検知要素を含む、請求項1〜12のいずれかに記載の放射センサ装置。
- 前記1つ以上のセンサの各々は、各々が放射に感応する検知要素のアレイを含み、前記プロセッサは、前記1つ以上のセンサの各々の検知方向における前記放射ビームの位置をそのセンサが受ける強度分布の重心に決定する、請求項13に記載の放射センサ装置。
- 前記検知要素のアレイは一次元アレイである、請求項13に記載の放射センサ装置。
- 前記一次元アレイの軸は、前記センサの検知方向に対して斜角を成して配置される、請求項15に記載の放射センサ装置。
- 前記検知要素のアレイは二次元アレイである、請求項13に記載の放射センサ装置。
- 前記1つ以上のセンサの各々は、各々が放射に感応する2つの検知要素を含み、前記プロセッサは、前記1つ以上のセンサの各々の検知方向における前記放射ビームの位置を、前記2つの検知要素の中点から測定される際、前記2つの検知要素からの信号の差に比例するように決定する、請求項13〜17のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 放射ビームのパワーを決定するための放射センサ装置であって、前記放射センサ装置は、
第1の開口及び第2の開口を、放射ビームが前記第1の開口から入射し、概ね軸に沿って内部を伝搬し、前記第2の開口を通って出射できるように備えたガスを収容する共振空洞と、
前記共振空洞内の電磁波を励起するように動作可能なソースと、
前記共振空洞の共振周波数、又は前記共振空洞の共振周波数を示す量を測定し、そして、前記測定した共振周波数、又は前記共振周波数を示す量を使用して前記第1及び第2の開口間を伝搬する放射ビームのパワーを決定するように動作可能なプロセッサと、
を備えた放射センサ装置。 - 前記プロセッサは、前記ソースにより前記共振空洞内で励起された電磁波の周波数を制御するように動作可能である、請求項19に記載の放射センサ装置。
- 前記プロセッサは、前記共振空洞内の電磁波の振幅をモニタすると同時に、前記共振空洞内の異なる周波数を有する複数の定常波を連続的に励起するように前記ソースを制御するように動作可能である、請求項20に記載の放射センサ。
- 前記プロセッサは、前記共振空洞の前記共振周波数を、前記共振空洞内の前記電磁波の振幅が極大になる周波数に決定するように動作可能である、請求項21に記載の放射センサ。
- 前記共振空洞内の前記電磁波をモニタし、そして前記共振空洞内の前記電磁波の振幅及び/又は位相を示す信号を出力するように動作可能なレシーバを更に備え、前記プロセッサは前記レシーバからの前記信号を受信するように構成された、請求項19〜22のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記ソースが受けた反射波をモニタし、そして前記反射波の前記振幅及び/又はを示す信号を出力するように動作可能な方向性カプラを更に備え、前記プロセッサは、前記方向性カプラからの前記信号を受信するように構成された、請求項19〜23のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記方向性カプラは更に、前記ソースの電源が発生させた波をモニタし、そして前記ソースの前記電源が発生させた前記波の振幅及び/又は位相を示す信号を出力するように動作可能であり、前記プロセッサは、前記方向性カプラからの前記信号を受信するように構成された、請求項24に記載の放射センサ装置。
- 前記プロセッサは、前記ソースの電源が供給する電磁波と、前記ソースが前記共振空洞内で励起した前記電磁波との間の相対位相を決定するように動作可能である、請求項19〜25のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記プロセッサは更に、前記決定された相対位相に応じて前記共振空洞の前記共振周波数を決定するように動作可能である、請求項26に記載の放射センサ装置。
- 前記共振空洞内にガスを供給するように構成されたガス供給機構を更に備える、請求項19〜27のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記ガス供給機構は、
前記共振空洞内にガスを供給するように動作可能なガス供給と、
前記共振空洞内のガスの圧力をモニタするように動作可能な圧力センサと、
を備える、請求項28に記載の放射センサ装置。 - 前記ガス供給及び圧力センサは、前記共振空洞内のガスの圧力を制御するように動作可能なフィードバックループを形成する、請求項29に記載の放射センサ装置。
- 前記ガス供給機構は前記共振空洞内のガスの圧力を一定に維持するように構成された、請求項30に記載の放射センサ装置。
- 前記ガス供給機構は更に、前記共振空洞からガスを排出するように動作可能なポンプを備える、請求項28〜31のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記共振空洞内のガスの圧力を一定に維持するように構成された機構を更に備える、請求項19〜32のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記第1及び第2の開口は、前記第1及び第2の開口の各々の間の圧力差を維持できるようにする機構を備える、請求項19〜33のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記放射センサ装置は、電磁放射ビームのパワーを決定するのに適切である、請求項19〜34のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- 前記放射センサ装置は、パルス放射ビームのパワーを決定するのに適切である、請求項19〜35のいずれか1項に記載の放射センサ装置。
- メイン放射ビームを供給するように構成された放射源と、
前記メイン放射ビーム又は前記メイン放射ビームの一部のパワー及び/又は位置を決定するように構成された、請求項1〜36のいずれかに記載の放射センサ装置と、
を備えたシステム。 - 少なくとも1つのリソグラフィ装置と、
前記メイン放射ビームの少なくとも一部を前記又は各リソグラフィ装置に誘導するように構成されたビームデリバリシステムと、
を更に備える、請求項37に記載のシステム。 - 前記放射源はEUVメイン放射ビームを供給するように構成された、請求項37又は請求項38に記載のシステム。
- 前記放射源はパルス放射ビームを供給するように構成された、請求項37〜39のいずれか1項に記載のシステム。
- 前記放射源は自由電子レーザを含む、請求項37〜40のいずれか1項に記載のシステム。
- 放射ビームの位置及び/又はパワーを決定するための方法であって、前記方法は、
第1の開口及び第2の開口を、前記放射ビームが前記第1の開口から入射し、概ね軸に沿って内部を伝搬し、前記第2の開口を通って出射するように備えたガスを収容するチャンバ内で前記放射ビームを誘導することと、
前記軸の周りの前記チャンバの領域から放出される放射を受光及び検出することと、
前記検出された放射に応じて、概ね前記軸に沿って前記チャンバ内を伝搬する放射ビームの位置及び/又はパワーを決定することと、
を含む方法。 - 放射ビームのパワーを決定するための方法であって、前記方法は、
第1の開口及び第2の開口を、前記放射ビームが前記第1の開口から入射し、内部を伝搬し、前記第2の開口を通って出射するように備えたガスを収容する共振空洞内で前記放射ビームを誘導することと、
前記共振空洞内の電磁波を励起することと、
前記共振空洞内の前記電磁波をモニタすることと、
前記共振空洞の共振周波数を決定することと、
前記決定された共振周波数に応じて、前記第1及び第2の開口間を伝搬する放射ビームのパワーを決定することと、
を含む方法。 - 前記放射ビームはDUV又はEUV範囲の電磁放射を含む、請求項42又は請求項43に記載の方法。
- 前記放射ビームはパルス放射ビームである、請求項42〜44のいずれか1項に記載の方法。
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