JP2018508995A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 計測システムであって、
一定量の照明光を発生するように構成された照明源と、
前記照明源からの一定量の照明光を、測定対象の試料の表面上の測定スポットに、入射面内の1つ以上の入射角で向けるように構成された照明光学素子サブシステムと、
入射光に感応する平坦な二次元表面を有し、その表面上の波長分散方向に対して垂直な方向に複数画素の電荷を集積することにより前記一定量の照明光への前記試料の応答を表す複数の出力信号を生成するように構成された検出器と、
試料の表面上の測定スポットからの一定量の収集光を収集して、収集された一定量の収集光を前記検出器の表面に向けるように構成された収集光学素子サブシステムを備え、前記収集光学素子サブシステムは、ウェハ表面上の入射面と整列した方向が検出器表面上の波長分散の方向に対して垂直に配向するように、前記測定スポットを前記検出器の表面上にイメージングする、計測システム。 - 前記一定量の照明光は、少なくとも500ナノメートルにわたる波長範囲を含む広帯域照明光である、請求項1に記載の計測システム。
- 前記一定量の照明光の少なくとも一部は、直角入射角で前記試料に提供される、
請求項1に記載の計測システム。 - 前記一定量の照明光の少なくとも一部は、偏斜入射角で前記試料に提供される、請求項1に記載の計測システム。
- 前記計測システムは、分光楕円偏光計と分光反射率計のうち任意の1つ以上として構成される、請求項1に記載の計測システム。
- 前記照明光学素子の偏光スリットの射影が前記計測システムの分光計スリットに満たない、請求項1に記載の計測システム。
- 前記照明源はレーザー駆動光源である、請求項1に記載の計測システム。
- 前記照明光学素子サブシステムは、前記試料上に射影される照明フィールドを前記入射面に直交する方向に限定するように構成されたプログラマブル照明フィールドストップを含む、請求項1に記載の計測システム。
- 検出器表面上の波長分散の方向に沿って所望の点広がり関数を達成するために、照明フィールドストップの状態を変えるために前記プログラマブル照明フィールドストップにコマンド信号を伝送するように構成されたコントローラをさらに備えた、請求項1に記載の計測システム。
- 前記試料の表面に射影される前記一定量の照明光のビームサイズは、試料の表面上で測定される測定ターゲットよりも小さい、請求項1に記載の計測システム。
- 前記検出器は電荷結合素子(CCD)検出器である、請求項1に記載の計測システム。
- 装置であって、
照明源からの一定量の広帯域照明光を、測定対象の試料の表面上の測定スポットに、入射面内の1つ以上の入射角で向けるように構成された照明システムと、
入射光に感応する平坦な二次元表面を有し、検出器表面上の波長分散の方向に対して垂直な方向に複数の画素にわたり電荷を集積することによって複数の出力信号を生成するように構成された分光検出器と、
試料の表面上の測定スポットからの一定量の収集光を収集して、前記一定量の収集光を前記分光検出器の表面に向けるように構成された収集光学素子サブシステムを備え、前記収集光学素子サブシステムは、ウェハ表面上の入射面と整列した方向が、検出器表面上の波長分散の方向に対して垂直に配向するように、前記測定スポットを前記分光検出器の表面上にイメージングする、装置。 - 前記照明システムは、前記試料上に射影される照明フィールドを、前記入射面に直交する方向に限定するように構成されたプログラマブル照明フィールドストップを含む、請求項12に記載の装置。
- 検出器表面上の波長分散の方向に沿って所望の点広がり関数を達成するために、照明フィールドストップの状態を変えるために前記プログラマブル照明フィールドストップにコマンド信号を伝送するように構成されたコントローラをさらに備えた、請求項13に記載の装置。
- 方法であって、
照明源からの一定量の広帯域照明光を、測定対象の試料の表面上の測定スポットに、入射面内の1つ以上の入射角で射影し、
前記試料表面上の入射面と整列した方向が、検出器表面上の波長分散の方向に対して垂直に配向するように、測定スポットからの一定量の収集光を二次元検出器の表面上にイメージングし、
前記一定量の照明光に対する前記試料の応答を表す複数の出力信号を生成し、複数の出力信号を生成することは、検出器表面上の波長分散の方向に垂直な方向に複数の画素にわたり電荷を集積することを含む、方法。 - 構造的パラメータの予測を、少なくとも部分的に前記複数の出力信号に基づいて確定することをさらに含む、請求項15に記載の方法。
- 前記一定量の広帯域照明光は少なくとも500ナノメートルにわたる波長範囲を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記1つ以上の入射角の少なくとも1つは偏斜入射角である、請求項15に記載の方法。
- 前記試料の表面に射影される照明フィールドの範囲を、入射面に直交する方向に限定することをさらに含む、請求項15に記載の方法。
- 前記照明フィールドの範囲を限定することは、検出器表面上の波長分散の方向に沿って所望の点広がり関数を達成するために、前記照明フィールドストップの状態を変えるために前記プログラマブル照明フィールドストップにコマンド信号を伝送することを含む、請求項19に記載の方法。
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US5859424A (en) | 1997-04-08 | 1999-01-12 | Kla-Tencor Corporation | Apodizing filter system useful for reducing spot size in optical measurements and other applications |
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US7006221B2 (en) * | 2001-07-13 | 2006-02-28 | Rudolph Technologies, Inc. | Metrology system with spectroscopic ellipsometer and photoacoustic measurements |
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US6775015B2 (en) * | 2002-06-18 | 2004-08-10 | Timbre Technologies, Inc. | Optical metrology of single features |
US20040207836A1 (en) | 2002-09-27 | 2004-10-21 | Rajeshwar Chhibber | High dynamic range optical inspection system and method |
US6891158B2 (en) * | 2002-12-27 | 2005-05-10 | Revera Incorporated | Nondestructive characterization of thin films based on acquired spectrum |
US9386241B2 (en) * | 2003-07-02 | 2016-07-05 | Verity Instruments, Inc. | Apparatus and method for enhancing dynamic range of charge coupled device-based spectrograph |
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US8879073B2 (en) * | 2012-02-24 | 2014-11-04 | Kla-Tencor Corporation | Optical metrology using targets with field enhancement elements |
US9581430B2 (en) | 2012-10-19 | 2017-02-28 | Kla-Tencor Corporation | Phase characterization of targets |
US9217717B2 (en) * | 2012-12-17 | 2015-12-22 | Kla-Tencor Corporation | Two dimensional optical detector with multiple shift registers |
US10769320B2 (en) | 2012-12-18 | 2020-09-08 | Kla-Tencor Corporation | Integrated use of model-based metrology and a process model |
US9291554B2 (en) | 2013-02-05 | 2016-03-22 | Kla-Tencor Corporation | Method of electromagnetic modeling of finite structures and finite illumination for metrology and inspection |
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