JP2018194744A - Pellicle frame and production method thereof - Google Patents

Pellicle frame and production method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2018194744A
JP2018194744A JP2017100200A JP2017100200A JP2018194744A JP 2018194744 A JP2018194744 A JP 2018194744A JP 2017100200 A JP2017100200 A JP 2017100200A JP 2017100200 A JP2017100200 A JP 2017100200A JP 2018194744 A JP2018194744 A JP 2018194744A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
frame
pellicle frame
pellicle
inner member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017100200A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
木村 幸広
Yukihiro Kimura
幸広 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP2017100200A priority Critical patent/JP2018194744A/en
Publication of JP2018194744A publication Critical patent/JP2018194744A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

To provide a pellicle frame and a production method thereof, which can suppress the generation of particles.SOLUTION: Since an inside member 25 that constitutes an inside surface 23 of a bottom hole 17 of a pellicle frame 1 is formed of a material (a resin, for example, such as an epoxy resin) having the hardness lower than a material that constitutes a frame body 2 of the pellicle frame, even when, for example, a stainless tool pin 19 is frequently inserted in and removed from the bottom hole 17 and the tool pin 19 comes into contact frequently with the inside member 25, the tool pin 19 is difficult to be worn. Therefore, since generation of particles due to wear of the tool pin 19 can be suppressed, when producing, for example, semiconductor components, generation of defect of a wiring pattern can be suppressed. Furthermore, the frequency of exchange of the tool pin 19 can be reduced.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、ペリクル枠及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a pellicle frame and a manufacturing method thereof.

半導体製造において、半導体ウェハに配線パターンを形成する露光工程ではフォトマスクが用いられるが、このフォトマスクに異物(パーティクル等)が付着すると配線パターンの欠陥が生じる。   In semiconductor manufacturing, a photomask is used in an exposure process for forming a wiring pattern on a semiconductor wafer. If foreign matter (particles or the like) adheres to the photomask, a defect in the wiring pattern occurs.

この対策として、即ち防塵するために、フォトマスクの表面を覆うような透明な薄い膜(ペリクル膜)が張設されたペリクルが用いられる。
また、ペリクル膜をフォトマスクから所定距離離して配置するために、ペリクル枠という長方形の枠体が用いられる。このペリクル枠は、フォトマスクの変形を抑えるために、高い平面度と剛性が要求されるので、その材料としては、例えばアルミナ等の高い剛性や高い硬度を有するセラミックス材料が好適であるとされている。
As a countermeasure against this, that is, in order to prevent dust, a pellicle on which a transparent thin film (pellicle film) covering the surface of the photomask is stretched is used.
Also, a rectangular frame called a pellicle frame is used to dispose the pellicle film at a predetermined distance from the photomask. Since this pellicle frame is required to have high flatness and rigidity in order to suppress deformation of the photomask, a ceramic material having high rigidity and high hardness such as alumina is suitable as the material. Yes.

また、ペリクル枠には、自身の把持、搬送、位置決め等のために、図9に示すように、ペリクル枠100の外周に複数の有底孔110を設けている。つまり、ペリクル枠100の把持、搬送、位置決め等を行う場合には、仮枠等から延びる治具ピン120を有底孔110に嵌め、この治具ピン120によってペリクル枠100を保持して、ペリクル枠100の移動等の作業を行っている(特許文献1参照)。   In addition, the pellicle frame is provided with a plurality of bottomed holes 110 on the outer periphery of the pellicle frame 100 as shown in FIG. That is, when gripping, transporting, positioning, etc. of the pellicle frame 100, a jig pin 120 extending from the temporary frame or the like is fitted into the bottomed hole 110, and the pellicle frame 100 is held by the jig pin 120 to Work such as moving the frame 100 is performed (see Patent Document 1).

特開平9−204039号公報JP-A-9-204039

ところで、例えばセラミックス製のペリクル枠等の場合には、ペリクル枠を傷つけにくいように、ペリクル枠よりも硬度の低い例えばステンレス製の治具ピンを用いることがあるが、その場合には、治具ピンの摩耗によって、パーティクルの発生や、治具ピンの交換頻度が高くなるという問題がある。   By the way, in the case of a pellicle frame made of ceramic, for example, a jig pin made of stainless steel having a lower hardness than the pellicle frame may be used so as not to damage the pellicle frame. There is a problem that due to the wear of the pins, the generation of particles and the replacement frequency of the jig pins increase.

つまり、治具ピンは、ペリクル枠の有底孔に何度も抜き差しされるので、例えばセラミックス製のペリクル枠のように硬度が高いペリクル枠の場合には、硬度の低い治具ピンの先端等が摩耗して、パーティクルが発生しやすい(即ち発塵しやすい)という問題がある。   In other words, the jig pin is repeatedly inserted into and removed from the bottomed hole of the pellicle frame. For example, in the case of a pellicle frame with a high hardness such as a ceramic pellicle frame, the tip of the jig pin with a low hardness, etc. Wears and particles are likely to be generated (that is, dust is likely to be generated).

また、治具ピンが摩耗してしまい、交換のために工程を停止させる頻度が高くなるという問題もある。
例えば、ペリクル枠からパーティクルが発生すると、上述したように配線パターンの欠陥の原因となるので、パーティクルの発生を抑制することが望まれるが、その対策は必ずしも十分ではない。
There is also a problem that the jig pin is worn and the frequency of stopping the process for replacement becomes high.
For example, generation of particles from the pellicle frame causes a defect in the wiring pattern as described above. Therefore, it is desired to suppress the generation of particles, but the countermeasure is not always sufficient.

本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、パーティクルの発生を抑制し、生産工程を煩雑化させないペリクル枠及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a pellicle frame that suppresses the generation of particles and does not complicate the production process, and a method for manufacturing the pellicle frame.

(1)本発明の第1局面は、ヤング率150GPa以上で、且つ、ビッカース硬度800Hv以上の枠体を備えると共に、枠体の外周面側の表面に開口する有底孔を備えた、ペリクル膜を張設用のペリクル枠に関するものである。なお、枠体の外周面側とは、枠体自身で囲まれた内周面側と反対の側である。   (1) A first aspect of the present invention is a pellicle membrane comprising a frame having a Young's modulus of 150 GPa or more and a Vickers hardness of 800 Hv or more, and having a bottomed hole opened on the outer peripheral surface of the frame. This relates to a pellicle frame for tensioning. In addition, the outer peripheral surface side of the frame body is a side opposite to the inner peripheral surface side surrounded by the frame body itself.

このペリクル枠の有底孔は、少なくとも、枠体を貫通する貫通孔と、貫通孔の内周面の少なくとも一部を被覆し、該貫通孔を閉塞する閉塞部を有する内側部材と、から構成されており、内側部材は、枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる。   The bottomed hole of the pellicle frame includes at least a through hole that penetrates the frame body, and an inner member that covers at least a part of the inner peripheral surface of the through hole and has a closed portion that closes the through hole. The inner member is made of a material whose hardness is lower than that of the material constituting the frame.

本第1局面では、ペリクル枠の貫通孔の内周面の少なくとも一部を被覆し、該貫通孔を閉塞する閉塞部を有する内側部材は、枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなるので、有底孔に治具ピンが何度も抜き差しされ、それによって、治具ピンが何度も内側部材に接触した場合でも、治具ピンが摩耗しにくい。そのため、治具ピンの摩耗によるパーティクル(塵)の発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できるという顕著な効果を奏する。さらに、治具ピンの摩耗を抑制できるので、治具ピンの交換頻度を少なくすることが可能となる。   In the first aspect, the inner member that covers at least a part of the inner peripheral surface of the through hole of the pellicle frame and has a closing portion that closes the through hole is made of a material having a hardness lower than that of the material constituting the frame. Therefore, even when the jig pin is inserted into and removed from the bottomed hole many times and the jig pin contacts the inner member many times, the jig pin is not easily worn. For this reason, generation of particles (dust) due to wear of the jig pins can be suppressed, so that a remarkable effect can be achieved, for example, that generation of defects in a wiring pattern in manufacturing a semiconductor component can be suppressed. Furthermore, since the wear of the jig pins can be suppressed, the frequency of replacing the jig pins can be reduced.

また、本第1局面では、ペリクル枠の有底孔は、貫通孔(詳しくは有底孔が開口する外周面と反対の内周面側)を閉塞部にて閉塞するように構成されているので、有底孔の形成が容易である。   Further, in the first aspect, the bottomed hole of the pellicle frame is configured to close the through hole (specifically, the inner peripheral surface side opposite to the outer peripheral surface where the bottomed hole opens) at the closing portion. Therefore, it is easy to form a bottomed hole.

つまり、セラミックス等の高い硬度を有するペリクル枠の枠体に対して、例えばドリル加工によって有底孔を形成することは容易ではない。また、導電性セラミックスを用いて放電加工を適用すれば、素材の硬度にかかわらず穴加工が可能となるが、型彫り放電加工によって有底孔を形成する場合には、スラッジの排出等のために加工速度が遅く、また、穴形状は電極棒の形状に倣うため、電極棒の頻繁な交換が必要になり、生産性が悪い。   That is, it is not easy to form a bottomed hole by drilling, for example, for a frame body of a pellicle frame having high hardness such as ceramics. In addition, if electric discharge machining is applied using conductive ceramics, drilling is possible regardless of the hardness of the material. However, when bottomed holes are formed by die-sinking electric discharge machining, sludge is discharged. In addition, the machining speed is slow, and the hole shape follows the shape of the electrode rod. Therefore, frequent exchange of the electrode rod is required, resulting in poor productivity.

それに対して、本第1局面では、例えば細孔放電加工によって貫通孔を開ける場合には、中心に貫通穴のある電極棒を使用するため、型彫り放電加工に比べて、スラッジの排出が容易であり、加工時間が短い。また、電極棒の先端が消耗しても、電極棒を貫通させればいいので、型彫り放電加工のような頻繁な電極棒の交換が不要であり、しかも、穴径が安定するという利点がある。   On the other hand, in this first aspect, for example, when a through hole is formed by fine hole electric discharge machining, an electrode rod having a through hole at the center is used, so that sludge can be easily discharged compared to die-sinking electric discharge machining. And processing time is short. In addition, even if the tip of the electrode rod is consumed, it is only necessary to penetrate the electrode rod, so there is no need for frequent electrode rod replacement such as die-sinking electric discharge machining, and the hole diameter is stable. is there.

そして、貫通孔を開けた後には、有底孔の底部となる貫通孔の一方の開口端を、樹脂等で閉塞すれば良いので、全体として、有底孔の形成が容易であるという顕著な効果を奏する。   And after opening a through-hole, since one opening end of the through-hole used as the bottom part of a bottomed hole should just be obstruct | occluded with resin etc., it is remarkable that formation of a bottomed hole is easy as a whole. There is an effect.

(2)本発明の第2局面では、有底孔の内側部材を構成する材料は、ビッカース硬度(HV)200より低い材料、又は、ロックウェル硬度(HRM)130より低い材料であってもよい。   (2) In the second aspect of the present invention, the material constituting the inner member of the bottomed hole may be a material lower than Vickers hardness (HV) 200 or a material lower than Rockwell hardness (HRM) 130. .

本第2局面では、有底孔の内側部材を構成する材料として、例えばステンレス等からなる治具ピンに摩耗が発生しにくいような、十分に硬度が低い材料を例示している。
なお、ロックウェル硬度は、Mスケールのものを示している。
In the second aspect, as the material constituting the inner member of the bottomed hole, for example, a material having a sufficiently low hardness such that wear on a jig pin made of stainless steel or the like is hardly generated is illustrated.
The Rockwell hardness is M scale.

(3)本発明の第3局面では、枠体を構成する材料は、セラミックスを主成分とする材料であってもよい。
本第3局面では、枠体を構成する材料として好適な材料を例示している。セラミックスを主成分とする枠体は、高いヤング率及び高いビッカース硬度を有しており、高い平面度と剛性が要求されるペリクル枠の材料として好適である。
(3) In the third aspect of the present invention, the material constituting the frame may be a material mainly composed of ceramics.
In the third aspect, a material suitable as a material constituting the frame is illustrated. A frame body mainly composed of ceramics has a high Young's modulus and a high Vickers hardness, and is suitable as a material for a pellicle frame that requires high flatness and rigidity.

(4)本発明の第4局面では、有底孔の内側部材を構成する材料は、樹脂であってもよい。
本第4局面では、内側部材を構成する材料として好適な材料を例示している。つまり、貫通孔を形成した後に、貫通孔に樹脂を充填して成形することにより、容易に内側部材を設けることができる。
(4) In the fourth aspect of the present invention, the material constituting the inner member of the bottomed hole may be a resin.
In this 4th aspect, the material suitable as a material which comprises an inner member is illustrated. That is, after the through hole is formed, the inner member can be easily provided by filling the through hole with resin and molding.

(5)本発明の第5局面では、枠体の貫通孔における内周面側の開口端には、閉塞板を備える構成としてもよい。
本第5局面では、閉塞板により、内側部材をペリクル枠の内周面に露出させることを防止することが可能となる。これにより、内側部材の劣化によるパーティクルの発生も抑制することが可能となる。
(5) In the fifth aspect of the present invention, the opening end on the inner peripheral surface side in the through hole of the frame body may be provided with a closing plate.
In the fifth aspect, the closing plate can prevent the inner member from being exposed to the inner peripheral surface of the pellicle frame. Thereby, it is possible to suppress generation of particles due to deterioration of the inner member.

(6)本発明の第6局面は、第1〜第5局面のいずれかのペリクル枠の製造方法に関するものである。
このペリクル枠の製造方法では、ペリクル枠の枠体に対して、有底孔の形成箇所に、貫通孔を形成する工程と、貫通孔に、内側部材を構成する材料を充填して有底孔を形成する工程と、を有している。
(6) A sixth aspect of the present invention relates to a method for manufacturing a pellicle frame according to any one of the first to fifth aspects.
In this method for manufacturing a pellicle frame, a step of forming a through hole in a bottomed hole forming portion with respect to the frame body of the pellicle frame, and a material for forming the inner member in the through hole are filled with the bottomed hole. Forming a step.

本発明の第6局面では、ペリクル枠の枠体に貫通孔を形成した後に、その貫通孔に内側部材を構成する材料を充填することにより、例えば充填した部分を加工する等によって、容易に有底孔を形成することができる。   In the sixth aspect of the present invention, after the through hole is formed in the frame body of the pellicle frame, the material constituting the inner member is filled in the through hole, for example, by processing the filled portion. A bottom hole can be formed.

(7)本発明の第7局面では、貫通孔を、放電加工又はドリル加工によって形成してもよい。
本第7局面では、貫通孔を形成する好適な方法を例示している。例えばペリクル枠の枠体が導電性を有する場合には、例えば細孔放電加工によって、容易に貫通孔を形成できる。また、例えばペリクル枠の枠体が導電性を有しない場合等には、ドリル加工によって、貫通孔を形成できる。
(7) In the seventh aspect of the present invention, the through hole may be formed by electric discharge machining or drilling.
In the seventh aspect, a suitable method for forming a through hole is illustrated. For example, when the frame body of the pellicle frame has conductivity, the through hole can be easily formed by, for example, pore electric discharge machining. Further, for example, when the frame body of the pellicle frame does not have conductivity, the through hole can be formed by drilling.

(8)本発明の第8局面では、有底孔を形成する場合には、貫通孔に内側部材を構成する材料を充填し、その充填した材料に対して、有底孔の孔形状となる加工を行ってもよい。   (8) In the eighth aspect of the present invention, when the bottomed hole is formed, the through hole is filled with the material constituting the inner member, and the holed shape of the bottomed hole is formed with respect to the filled material. Processing may be performed.

本第8局面では、有底孔を目的とする形状とする好適な方法を例示している。
例えば貫通孔に樹脂材料を充填して固化させた後に、ドリル等によって凹部を形成して、有底孔としてもよい。また、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合には、充填した樹脂中に有底孔の形状の治具(パンチ等)を挿入しておき、加熱して硬化させて有底孔の形状としてもよい。或いは、樹脂として熱可塑性樹脂を用いる場合には、充填した柔軟な樹脂中に有底孔の形状の治具を挿入しておき、その後硬化させて有底孔の形状としてもよい。
In the eighth aspect, a suitable method for making the bottomed hole into a desired shape is illustrated.
For example, after filling the through hole with a resin material and solidifying, a recess may be formed by a drill or the like to form a bottomed hole. When a thermosetting resin is used as the resin, a bottomed hole shape jig (such as a punch) is inserted into the filled resin and cured by heating to form a bottomed hole shape. Good. Alternatively, when a thermoplastic resin is used as the resin, a bottomed hole-shaped jig may be inserted into the filled flexible resin and then cured to form the bottomed hole.

<以下、本発明の構成について説明する>
・ペリクル枠の枠体の材料としては、導電性又は非導電性の材料を採用できる。例えば、導電性の材料としては、アルミナ・炭化チタン、アルミナ・炭化チタン・窒化チタン、ジルコニア・炭化チタン、超硬、サーメット等を採用できる。非導電性の材料としては、例えば、アルミナ、窒化ケイ素、ジルコニア等のセラミックスなどを採用できる。
<The configuration of the present invention is described below>
-As the material of the frame of the pellicle frame, a conductive or non-conductive material can be adopted. For example, alumina / titanium carbide, alumina / titanium carbide / titanium nitride, zirconia / titanium carbide, carbide, cermet, or the like can be used as the conductive material. As the non-conductive material, for example, ceramics such as alumina, silicon nitride, and zirconia can be employed.

ただし、放電加工により枠体へ貫通孔を形成するためには、導電性の材料により枠体を形成することが好ましい。ここで、枠体の材料に導電性の材料を用いた場合、工程流動中や輸送中にペリクル枠が帯電したとしても除電が容易であり、ペリクル枠へのパーティクル等の吸着を抑制することができる。   However, in order to form a through hole in the frame body by electric discharge machining, it is preferable to form the frame body from a conductive material. Here, when a conductive material is used as the frame material, even if the pellicle frame is charged during process flow or transportation, it is easy to remove static electricity and suppress adsorption of particles or the like to the pellicle frame. it can.

なお、上記導電性の材料としては、ペリクル枠として形成された状態で、20℃における体積抵抗率が、1.0×10−3Ω・cm以下となる材料であることが好ましい。
なお、セラミックス材料としては、例えば、ビッカース硬度(Hv)が1000〜2000Hvのものを採用できる。
The conductive material is preferably a material having a volume resistivity at 20 ° C. of 1.0 × 10 −3 Ω · cm or less when formed as a pellicle frame.
In addition, as a ceramic material, the thing of Vickers hardness (Hv) 1000-2000Hv is employable, for example.

・閉塞部を備えた内側部材は、全体が同じ材料で構成されていても、部分的に異なる材料で構成されていてもよい。例えば内側部材のうち、閉塞部と他の部分(例えば貫通孔の内周面を被覆する被覆部分)とが異なる材料で構成されていてもよい。例えば、閉塞部よりも被覆部分のほうが硬度が低い材料であることが好ましい。なお、貫通孔の内周面の全体が内側部材で覆われていることが望ましい。   -Even if the inner member provided with the obstruction | occlusion part is comprised with the same material as a whole, it may be comprised with a partially different material. For example, in the inner member, the blocking portion and other portions (for example, a covering portion that covers the inner peripheral surface of the through hole) may be made of different materials. For example, it is preferable that the covering portion is made of a material having a lower hardness than the closing portion. It is desirable that the entire inner peripheral surface of the through hole is covered with the inner member.

・内側部材の材料としては、例えば、エポキシ樹脂(ビスフェノール系)、フェノール樹脂(ノボラック系)、ポリイミド樹脂、PET樹脂、PEEK樹脂等の樹脂などを採用できる。   As the material for the inner member, for example, an epoxy resin (bisphenol type), a phenol resin (novolak type), a polyimide resin, a PET resin, a PEEK resin, or the like can be used.

なお、上述の樹脂のロックウェル硬度(Mスケール)としては60〜120HRMのものを採用できる。
・治具ピンの材料としては、汎用性の高い材料が採用されやすく、例えば枠体を構成する材料よりも硬度の低い材料が採用されうる。また、内側部材を構成する材料よりも硬度の高い材料が採用されうる。例えば、ステンレス(SUS304、SUS430)等の金属が挙げられる。なお、ステンレスのビッカース硬度としては180〜190Hvものが挙げられる。
In addition, as a Rockwell hardness (M scale) of the above-mentioned resin, the thing of 60-120 HRM is employable.
-As a material of a jig | tool pin, a highly versatile material is easy to be employ | adopted, for example, the material whose hardness is lower than the material which comprises a frame can be employ | adopted. In addition, a material having higher hardness than the material constituting the inner member can be adopted. For example, metals, such as stainless steel (SUS304, SUS430), are mentioned. In addition, as a Vickers hardness of stainless steel, the thing of 180-190Hv is mentioned.

・上述のビッカース硬度については、JIS 2244:2009に準拠して測定する。また、上述のロックウェル硬度については、JIS 7202−2:2001に準拠して、「Mスケール(HRM)」にて測定する。   -About the above-mentioned Vickers hardness, it measures based on JIS2244: 2009. Moreover, about the above-mentioned Rockwell hardness, it measures by "M scale (HRM)" based on JIS7202-2: 2001.

第1実施形態のペリクル枠を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the pellicle frame of 1st Embodiment. 第1実施形態のペリクル枠をXY平面に沿って破断した断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross section which fractured | ruptured the pellicle frame of 1st Embodiment along XY plane. 図1におけるA−A断面図である。It is AA sectional drawing in FIG. 第1実施形態のペリクル枠の有底孔の使用方法を示すために、ペリクル枠をXY平面に沿って破断した断面の一部を拡大して示す断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a part of a cross section of the pellicle frame cut along the XY plane in order to show how to use the bottomed hole of the pellicle frame of the first embodiment. (a)は第1実施形態のペリクル枠を外周面側から見た状態を示す平面図、(b)は図5(a)におけるB−B断面図である。(A) is a top view which shows the state which looked at the pellicle frame of 1st Embodiment from the outer peripheral surface side, (b) is BB sectional drawing in Fig.5 (a). 第1実施形態のペリクル枠の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the pellicle frame of 1st Embodiment. 第1実施形態のペリクル枠の製造方法のうち、有底孔の形成方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the formation method of a bottomed hole among the manufacturing methods of the pellicle frame of 1st Embodiment. 第2実施形態のペリクル枠等を示し、ペリクル枠をXY平面に沿って破断した断面の一部を拡大して示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a pellicle frame and the like according to a second embodiment, with an enlarged part of a cross section obtained by breaking the pellicle frame along the XY plane. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art.

以下、本発明が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.全体構成]
まず、第1実施形態のペリクル枠の全体構成について説明する。
Embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.
[1. First Embodiment]
[1-1. overall structure]
First, the overall configuration of the pellicle frame of the first embodiment will be described.

図1〜図3に示すように、ペリクル枠1は、自身の片面(図3の上方)にペリクル膜3(図3参照)が張設される部材である。このペリクル枠1は、主として、セラミックス製の枠体(例えばアルミナを主成分とし、炭化チタンを含有する導電性セラミックスからなる枠体)2によって構成されている。なお、図1及び図2では、ペリクル枠1自体を示し、図3では、ペリクル枠1の片面にペリクル膜3が張設されたペリクル5を示している。   As shown in FIGS. 1 to 3, the pellicle frame 1 is a member in which a pellicle film 3 (see FIG. 3) is stretched on one side (upper side of FIG. 3). The pellicle frame 1 is mainly composed of a ceramic frame (for example, a frame made of conductive ceramics mainly composed of alumina and containing titanium carbide) 2. 1 and 2 show the pellicle frame 1 itself, and FIG. 3 shows a pellicle 5 in which a pellicle film 3 is stretched on one side of the pellicle frame 1.

また、以下では、ペリクル枠1の全ての面のうち、ペリクル枠1自身で囲まれた内側の面を内周面7、内側と反対側の外側の面を外周面9とよぶ。また、内周面7と外周面9とに連接され面のうち、ペリクル膜3が張設された側を上面11、反対の面を下面13とよぶ。なお、これらの面を区別する必要がない場合には、単に表面と呼ぶことがある。   Hereinafter, among all the surfaces of the pellicle frame 1, an inner surface surrounded by the pellicle frame 1 itself is referred to as an inner peripheral surface 7, and an outer surface opposite to the inner side is referred to as an outer peripheral surface 9. Of the surfaces connected to the inner peripheral surface 7 and the outer peripheral surface 9, the side on which the pellicle film 3 is stretched is referred to as the upper surface 11, and the opposite surface is referred to as the lower surface 13. In addition, when it is not necessary to distinguish these surfaces, they may be simply referred to as surfaces.

図1に示すように、直交するX軸、Y軸、Z軸の座標系において、ペリクル枠1は、Z方向から見た平面視で、長方形状の枠体(即ち環状の部材)であり、中央には平面視で長方形の中央貫通孔15を有している。   As shown in FIG. 1, in the orthogonal X-axis, Y-axis, and Z-axis coordinate systems, the pellicle frame 1 is a rectangular frame (that is, an annular member) in a plan view as viewed from the Z direction. The center has a central through hole 15 that is rectangular in plan view.

つまり、ペリクル枠1(従って枠体2)は、同一平面上にて、平面視で、上下左右の四方に配置された長尺の枠部からなる。詳しくは、ペリクル枠1は、X軸に平行に配置された第1枠部1a及び第2枠部1bと、Y軸に平行に配置された第3枠部1c及び第4枠部1dとによって構成されている。   That is, the pellicle frame 1 (and hence the frame body 2) is composed of long frame portions arranged in four directions, top, bottom, left, and right, in a plan view on the same plane. Specifically, the pellicle frame 1 includes a first frame portion 1a and a second frame portion 1b arranged parallel to the X axis, and a third frame portion 1c and a fourth frame portion 1d arranged parallel to the Y axis. It is configured.

なお、ペリクル枠1の外形の寸法は、例えば、縦(Y方向)約149mm×横(X方向 )約120mm×厚み(Z方向)約3mmである。また、ペリクル枠1の各枠部1a〜1dは四角柱であり、その幅の寸法(Z方向から見た幅の寸法)は、同一(即ち約2mm)である。   The dimension of the outer shape of the pellicle frame 1 is, for example, about 149 mm in length (Y direction) × about 120 mm in width (X direction) × about 3 mm in thickness (Z direction). Moreover, each frame part 1a-1d of the pellicle frame 1 is a quadratic prism, and the dimension of the width (dimension of the width seen from the Z direction) is the same (namely, about 2 mm).

また、このペリクル枠1の枠体2は、ヤング率が150GPa以上、且つ、ビッカース硬度が800Hv以上の特性を有している。なお、ペリクル枠1(従って枠体2)の平面度は10μm以下である。   Further, the frame body 2 of the pellicle frame 1 has the characteristics that the Young's modulus is 150 GPa or more and the Vickers hardness is 800 Hv or more. The flatness of the pellicle frame 1 (and hence the frame body 2) is 10 μm or less.

前記ペリクル枠1(詳しくは枠体2)には、平面視で、図2に示すように、X方向における両枠部(即ち第3枠部1c、第4枠部1d)に、それぞれ2箇所(合計4個所)に、外周面9側に開口する窪みである有底孔17a、17b、17c、17d(17と総称する)が設けられている。   As shown in FIG. 2, the pellicle frame 1 (specifically, the frame body 2) has two locations on both frame portions (that is, the third frame portion 1c and the fourth frame portion 1d) in the X direction, as shown in FIG. Bottomed holes 17a, 17b, 17c, and 17d (generally referred to as 17), which are depressions that open to the outer peripheral surface 9 side, are provided at (total of four locations).

この有底孔17は、図3に示すように、例えばφ1.5mm、深さ1.2mmの有底の丸穴であり、底部は円錐形状に整えられている。
有底孔17は、ペリクル5の製造およびその後のフォトマスク(図示せず)に取り付ける際の位置決め等に用いられる。例えば、位置決めに際しては、図示しないペリクル製造装置あるいはペリクル取り付け装置に設けられた図4に示す各治具ピン19が、同図の矢印方向に移動して、各有底孔(即ち4個所の)17に嵌め込まれる。
As shown in FIG. 3, the bottomed hole 17 is a bottomed round hole having a diameter of 1.5 mm and a depth of 1.2 mm, for example, and the bottom is arranged in a conical shape.
The bottomed hole 17 is used for the manufacture of the pellicle 5 and subsequent positioning for attachment to a photomask (not shown). For example, at the time of positioning, each jig pin 19 shown in FIG. 4 provided in a pellicle manufacturing apparatus or pellicle mounting apparatus (not shown) moves in the direction of the arrow in FIG. 17 is fitted.

なお、前記図1及び図2に示すように、ペリクル枠1(詳しくは枠体2)の第3枠部1cには、例えばφ0.5mmの貫通孔20が設けられている。この貫通孔20は、フォトマスクにペリクル5が取り付けられた後、ペリクル5とフォトマスクに囲まれた空間と外部環境との気圧調整に用いられる。なお、外部環境から粉塵が侵入しないよう、貫通孔20には、図示しないフィルタが設けられる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the third frame portion 1c of the pellicle frame 1 (specifically, the frame body 2) is provided with a through hole 20 having a diameter of 0.5 mm, for example. The through-hole 20 is used to adjust the atmospheric pressure between the pellicle 5 and the space surrounded by the photomask and the external environment after the pellicle 5 is attached to the photomask. Note that a filter (not shown) is provided in the through hole 20 so that dust does not enter from the external environment.

[1−2.有底孔の構成]
次に、本第1実施形態の要部である有底孔17の構成について、詳しく説明する。
なお、各有底孔17の構成は同じであるので、ここで、例えば第3枠部1cの有底孔17aを例に挙げて説明する。
[1-2. Configuration of bottomed hole]
Next, the configuration of the bottomed hole 17 that is a main part of the first embodiment will be described in detail.
Since the configuration of each bottomed hole 17 is the same, here, for example, the bottomed hole 17a of the third frame portion 1c will be described as an example.

図5に示すように、枠体2(詳しくは第3枠部1c)には、幅方向(図3の左右方向:X方向)に貫通するように、例えばφ2mmの貫通孔21が設けられている。そして、貫通孔21内には、貫通孔21の前記内周面7側(図5(b)の下方)を閉塞するとともに、貫通孔21の内周面23の全面を覆うように、内側部材25が配置されている。   As shown in FIG. 5, the frame body 2 (specifically, the third frame portion 1c) is provided with a through hole 21 having a diameter of 2 mm, for example, so as to penetrate in the width direction (left-right direction in FIG. 3: X direction). Yes. In the through hole 21, the inner member 7 is closed so as to close the inner peripheral surface 7 side of the through hole 21 (below in FIG. 5B) and cover the entire inner peripheral surface 23 of the through hole 21. 25 is arranged.

内側部材25は、軸中心部分が凹んだ凹部27を有するカップ形状であり、この貫通孔21内に配置された内側部材25(詳しくは窪みである凹部27)によって、有底孔17aが形成されている。   The inner member 25 has a cup shape having a recess 27 whose center portion is recessed, and a bottomed hole 17a is formed by the inner member 25 (specifically, the recess 27 which is a recess) disposed in the through hole 21. ing.

詳しくは、図5(b)に示すように、内側部材25は、貫通孔21を閉塞する円盤形状の閉塞部29と、閉塞部29から外周面9側に延びて貫通孔21の内周面23を覆う(即ち凹部27の壁面を構成する)円筒形状の内側部31とから構成されている。   Specifically, as shown in FIG. 5B, the inner member 25 includes a disk-shaped blocking portion 29 that closes the through-hole 21, and an inner peripheral surface of the through-hole 21 that extends from the blocking portion 29 toward the outer peripheral surface 9. And a cylindrical inner portion 31 that covers the wall 23 (that constitutes the wall surface of the recess 27).

特に本第1実施形態では、内側部材25を構成する材料は、ペリクル枠1の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる。例えばエポキシ樹脂等の樹脂からなる。つまり、内側部材25を構成する材料は、枠体2を構成する材料よりも柔らかい材料、言い換えれば、枠体2に比べて治具ピン19を傷つけにくい材料からなる。   Particularly in the first embodiment, the material constituting the inner member 25 is made of a material having a lower hardness than the material constituting the frame body 2 of the pellicle frame 1. For example, it consists of resin, such as an epoxy resin. That is, the material constituting the inner member 25 is made of a material that is softer than the material constituting the frame body 2, in other words, the material that hardly damages the jig pins 19 as compared with the frame body 2.

例えば、ペリクル枠1の枠体2は、ビッカース硬度が800Hv以上であるので、内側部材25を構成する材料としては、ビッカース硬度が200Hvより低い材料や、ロックウェル硬度が130HRMより低い材料を用いることができる。   For example, since the frame body 2 of the pellicle frame 1 has a Vickers hardness of 800 Hv or higher, a material having a Vickers hardness lower than 200 Hv or a material having a Rockwell hardness lower than 130 HRM is used as the material constituting the inner member 25. Can do.

なお、治具ピン19の材料としては、ペリクル枠1の枠体2よりも硬度が低く、内側部材25よりも硬度が高い、例えばステンレス等の金属などが用いられる。
[1ー3.ペリクル枠の製造方法の概略]
次に、ペリクル枠1の製造方法の概略について説明する。
As a material of the jig pin 19, a metal having a lower hardness than the frame body 2 of the pellicle frame 1 and a higher hardness than the inner member 25, for example, a metal such as stainless steel is used.
[1-3. Outline of Pellicle Frame Manufacturing Method]
Next, an outline of a method for manufacturing the pellicle frame 1 will be described.

(第1工程P1)
図6に示すように、ペリクル枠1の枠体2の原料である粉体(即ち素地粉末)を作製した。
(First step P1)
As shown in FIG. 6, a powder (that is, a base powder) that is a raw material of the frame 2 of the pellicle frame 1 was produced.

ここで粉体とは、枠体2を構成する焼結体の元になる物質であり、後述する様に、アルミナや導電性材料などの原料粉末に、焼結助剤などを適宜加え湿式混合した後、噴霧乾燥法によって50μm〜100μmの顆粒に作製したものである。   Here, the powder is a substance that becomes the basis of the sintered body constituting the frame 2, and as will be described later, a sintering aid is appropriately added to the raw material powder such as alumina or conductive material, and wet mixing is performed. After that, it is produced into granules of 50 μm to 100 μm by a spray drying method.

なお、原料粉末の粒径の測定は、レーザー回折・散乱法により行なったが、動的光散乱法や沈降法により行なってもよい。
(第2工程P2)
次に、この粉体を成形し、ペリクル枠1の枠体2の原形を形成した。
The particle size of the raw material powder was measured by the laser diffraction / scattering method, but may be measured by a dynamic light scattering method or a sedimentation method.
(Second process P2)
Next, this powder was molded to form the original shape of the frame 2 of the pellicle frame 1.

(第3工程P3)
次に、前記粉体の成形後、これを所定温度で焼成した。
この焼成温度は、粉体の組成によるが、一般に1500℃以上である。焼成することにより、高いヤング率と硬度とを持つ焼結体が得られる。
(Third step P3)
Next, after forming the powder, it was fired at a predetermined temperature.
This firing temperature depends on the composition of the powder, but is generally 1500 ° C. or higher. By firing, a sintered body having a high Young's modulus and hardness can be obtained.

(第4工程P4)
次に、焼結体に対して、その厚さを調節する厚さ加工(具体的には研削加工)を行った。
(4th process P4)
Next, thickness processing (specifically grinding processing) which adjusts the thickness was performed to the sintered compact.

なお、ここでは、後述する精密平面加工(第10工程P10)の研磨代(例えば0.05〜0.10mm)を残して厚さを揃えた。
(第5工程P5)
次に、厚さ加工後の焼結体に対して、内形・外形加工を行った。
Here, the thickness was made uniform except for a polishing allowance (for example, 0.05 to 0.10 mm) of precision planar processing (tenth process P10) described later.
(5th process P5)
Next, the inner shape / outer shape processing was performed on the sintered body after the thickness processing.

詳しくは、保持治具(図示せず)で焼結体の外周面を把持し、焼結体の内周面と外周面とに対してワイヤー放電加工を行い、内形や外形を目的とする寸法に加工した。
(第6工程P6)
次に、内形・外形加工後の焼結体に対して、放電加工面の表面処理を行った。
Specifically, the outer peripheral surface of the sintered body is gripped by a holding jig (not shown), wire electric discharge machining is performed on the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the sintered body, and the inner shape and outer shape are aimed. Processed to dimensions.
(6th process P6)
Next, surface treatment of the electric discharge machining surface was performed on the sintered body after the inner shape / outer shape machining.

詳しくは、サンドブラスト処理により、放電加工によって生じた熱変質層を除去した。
(第7工程P7)
次に、放電加工面の表面処理後の焼結体に対して、穴開け加工を行った。
Specifically, the thermally deteriorated layer generated by the electric discharge machining was removed by sandblasting.
(Seventh step P7)
Next, drilling was performed on the sintered body after the surface treatment of the electric discharge machining surface.

詳しくは、細穴放電加工機(図示せず)によって、ペリクル枠1の枠体2の側面に、気圧調整用の貫通孔20を1箇所形成し、また、有底孔用の貫通孔21を4箇所形成した。
(第8工程P8)
次に、各貫通孔20、21に対して、放電加工面の表面処理を行った。
Specifically, by using a fine hole electric discharge machine (not shown), one through-hole 20 for adjusting atmospheric pressure is formed on the side surface of the frame 2 of the pellicle frame 1 and the through-hole 21 for bottomed hole is formed. Four places were formed.
(Eighth process P8)
Next, the surface treatment of the electric discharge machining surface was performed on each of the through holes 20 and 21.

詳しくは、サンドブラスト処理により、放電加工によって貫通孔20、21の内周面に生じた熱変質層を除去した。
(第9工程P9)
次に、貫通孔21に、ペリクル枠1の枠体2より硬度が低い樹脂等の異種材料(即ち内側部材25の材料)を充填し、所望の形状に成形して、有底孔17を形成した。
Specifically, the thermally deteriorated layer generated on the inner peripheral surfaces of the through holes 20 and 21 by electric discharge machining was removed by sandblasting.
(9th process P9)
Next, the through hole 21 is filled with a different material such as a resin having a lower hardness than the frame body 2 of the pellicle frame 1 (that is, the material of the inner member 25), and formed into a desired shape, thereby forming the bottomed hole 17. did.

(第10工程P10)
次に、異種材料の充填後の焼結体に対して、精密平面加工を行った。
(第11工程P11)
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。
(10th process P10)
Next, precision plane processing was performed on the sintered body after being filled with the different material.
(11th process P11)
Thereafter, chamfering may be performed on the frame body 2 of the pellicle frame 1.

なお、前記第7〜第9工程P7〜P9では、平面度の変動はないので、第7工程P7の前に第10工程P10を実施してもよい。
[1ー4.実施例]
次に、ペリクル枠1の製造方法の具体的な実施例について、詳細に説明する。
In the seventh to ninth steps P7 to P9, since the flatness does not vary, the tenth step P10 may be performed before the seventh step P7.
[1-4. Example]
Next, specific examples of the method for manufacturing the pellicle frame 1 will be described in detail.

(第1工程P1)
この素地の作製工程では、平均粒径0.5μmのα−アルミナ粉末63体積%、平均粒径1.0μmの炭化チタン10体積%、平均粒径1.0μmの窒化チタン25体積%、残部をMgO:Y=1:1の焼結助剤からなる複合材料を調製した。
(First step P1)
In the production process of this substrate, 63% by volume of α-alumina powder having an average particle size of 0.5 μm, 10% by volume of titanium carbide having an average particle size of 1.0 μm, 25% by volume of titanium nitride having an average particle size of 1.0 μm, and the balance A composite material composed of a sintering aid of MgO: Y 2 O 3 = 1: 1 was prepared.

そして、この複合材料を湿式混合し、成形用有機バインダを加えた後、通常の噴霧乾燥法により、アルミナ・炭化チタン・窒化チタンの複合セラミックス素地粉末を作製した。
(第2工程P2)
この成形工程では、複合セラミックス素地粉末を、金型プレス法により、外形寸法を縦182mm×横147mm×厚さ6mm、枠幅5mm程度に枠形状に成形し、ペリクル枠1の原型(粉末成形体)を作製した。
Then, this composite material was wet-mixed, an organic binder for molding was added, and then a composite ceramic base powder of alumina / titanium carbide / titanium nitride was produced by an ordinary spray drying method.
(Second process P2)
In this forming step, the composite ceramic base powder is formed into a frame shape with a size of about 182 mm in length, 147 mm in width, 6 mm in thickness, and 5 mm in frame width by a die pressing method, and the original pellicle frame 1 (powder compact) ) Was produced.

ここでは、後述する焼成工程により、ペリクル枠1の枠体2の外形は、20〜30%程度縮むため、予め、焼成後のペリクル枠1の枠体2より大きく成形する。なお、ペリクル枠1の枠体2は、半導体露光装置における露光用マスクの大きさに合わせて種々の大きさが可能である。   Here, the outer shape of the frame body 2 of the pellicle frame 1 shrinks by about 20 to 30% by a baking process described later, and therefore, it is formed in advance larger than the frame body 2 of the pellicle frame 1 after baking. The frame body 2 of the pellicle frame 1 can have various sizes according to the size of the exposure mask in the semiconductor exposure apparatus.

(第3工程P3)
この焼成工程では、粉末成形体を脱バインダし、不活性ガス中にて1700℃で2時間保持して焼成し、導電性を有する緻密なセラミックス焼結体を得た。
(Third step P3)
In this firing step, the powder compact was removed from the binder, fired in an inert gas at 1700 ° C. for 2 hours, and a dense ceramic sintered body having electrical conductivity was obtained.

この焼結体の寸法は、縦151mm×横122mm×厚さ5mm、枠幅4mm程度であった。なお、0.3mm程度の歪みがあった。
(第4工程P4)
この厚さ加工工程では、焼結体の上下面(厚さ方向の両面)を、平面研削盤にてほぼ同量研削し、厚さ3.1mmに加工した。なお、平面研削後の平面度は、20〜40μmであった。
The dimensions of the sintered body were about 151 mm long × 122 mm wide × 5 mm thick, and a frame width of about 4 mm. There was a distortion of about 0.3 mm.
(4th process P4)
In this thickness processing step, the upper and lower surfaces (both surfaces in the thickness direction) of the sintered body were ground by the same amount with a surface grinder and processed to a thickness of 3.1 mm. In addition, the flatness after the surface grinding was 20 to 40 μm.

(第5工程P5)
この内形・外形加工工程では、ワイヤー放電加工により、焼結体の内形及び外形を、縦149mm×横120mm、枠幅2mmに加工した。なお、この際に、稜部(コーナー部)のR加工を行ってもよい。
(5th process P5)
In this inner shape / outer shape processing step, the inner shape and outer shape of the sintered body were processed into a length of 149 mm × width of 120 mm and a frame width of 2 mm by wire electric discharge machining. In addition, you may perform R process of a ridge part (corner part) in this case.

(第6工程P6)
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理によって、放電加工面の熱変質層を除去した。サンドブラスト処理では、粒度#600(平均粒径約30μm)の炭化ケイ素砥粒を使用した。除去した層の厚みは、5μm程度であった。
(6th process P6)
In the surface treatment process of the electric discharge machining surface, the heat-affected layer on the electric discharge machining surface was removed by sandblasting. In the sandblast treatment, silicon carbide abrasive grains having a particle size of # 600 (average particle size of about 30 μm) were used. The thickness of the removed layer was about 5 μm.

(第7工程P7)
この穴開け加工処理では、図7(a)に示すように、貫通下穴(有底孔用の貫通孔21)を形成した。
(Seventh step P7)
In this drilling process, as shown in FIG. 7 (a), a through pilot hole (through hole 21 for a bottomed hole) was formed.

詳しくは、細穴放電加工によって、有底孔17の下穴として、ペリクル枠1の枠体2の対向する長辺の枠部(第3枠部1c及び第4枠部1d)に、それぞれφ2.0mmの貫通孔21を形成した。   More specifically, φ2 is applied to the opposite long side frame portions (third frame portion 1c and fourth frame portion 1d) of the frame body 2 of the pellicle frame 1 as a prepared hole of the bottomed hole 17 by thin hole electric discharge machining. A through-hole 21 of 0.0 mm was formed.

貫通孔21の形成の際には、電極棒(図示せず)の先端が消耗した分、電極棒の送り込み加工長さを大きくすることができるので、電極棒の交換は不要であった。なお、加工時間は、約2分/孔であった。また、貫通孔21と電極棒との放電ギャップは、直径で0.05mmであった。   When the through hole 21 is formed, the electrode rod feeding process length can be increased by the amount of consumption of the tip of the electrode rod (not shown), so that it is not necessary to replace the electrode rod. The processing time was about 2 minutes / hole. Further, the discharge gap between the through hole 21 and the electrode rod was 0.05 mm in diameter.

また、同様に、気圧調整用の貫通孔20を形成した。
詳しくは、細穴放電加工によって、ペリクル枠1の枠体2に対して、第3枠部1cの中央の位置に、φ0.5mmの貫通孔20を形成した。
Similarly, a through hole 20 for adjusting the atmospheric pressure was formed.
Specifically, a through hole 20 having a diameter of 0.5 mm was formed at the center position of the third frame portion 1c with respect to the frame body 2 of the pellicle frame 1 by thin hole electric discharge machining.

貫通孔20の形成の際には、電極棒の先端が消耗した分、電極棒の送り込み加工長さを大きくすることができるので、電極棒の交換は不要であった。なお、加工時間は、約2分/孔であった。なお、貫通孔20と電極棒との放電ギャップは、直径で0.05mmであった。   When the through-hole 20 is formed, the electrode rod feeding process length can be increased by the amount of consumption of the tip of the electrode rod, so that it is not necessary to replace the electrode rod. The processing time was about 2 minutes / hole. The discharge gap between the through hole 20 and the electrode rod was 0.05 mm in diameter.

(第8工程P8)
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理により、放電加工された貫通孔20、21の内周面の熱変質層を除去した。
(Eighth process P8)
In the surface treatment process of the electric discharge machining surface, the heat-affected layer on the inner peripheral surfaces of the through holes 20 and 21 subjected to electric discharge machining was removed by sandblasting.

サンドブラスト処理では、粒度#600(平均粒径約30μm)の炭化ケイ素砥粒を使用した。除去した層の厚みは、5μm程度であった。
なお、放電ギャップを設定及び熱変質層の除去により、加工後の貫通孔20、21の孔径が広がるので、貫通孔20の加工に用いる電極棒はφ0.4mmとし、貫通孔21の加工に用いる電極棒は貫通孔21の内径より小径のφ1.9mmとした。
In the sandblast treatment, silicon carbide abrasive grains having a particle size of # 600 (average particle size of about 30 μm) were used. The thickness of the removed layer was about 5 μm.
In addition, since the hole diameter of the through-holes 20 and 21 after processing increases by setting the discharge gap and removing the heat-affected layer, the electrode rod used for processing the through-hole 20 is set to φ0.4 mm and used for processing the through-hole 21. The electrode rod had a diameter of φ1.9 mm smaller than the inner diameter of the through hole 21.

(第9工程P9)
この有底孔17の形成工程では、まず、図7(b)に示すように、遮蔽板治具41上にペリクル枠1を載置し、貫通孔21内に未硬化のエポキシ樹脂を充填して、充填部43を形成した。
(9th process P9)
In the step of forming the bottomed hole 17, first, as shown in FIG. 7B, the pellicle frame 1 is placed on the shielding plate jig 41 and an uncured epoxy resin is filled in the through hole 21. Thus, the filling portion 43 was formed.

次に、図7(c)に示すように、充填部43に、φ1.5mmのパンチ45を深さ1.2mmまで押し込み、120℃で60分間熱処理を行って、エポキシ樹脂を硬化させて、有底孔17の形状となるパンチ形状を転写した。   Next, as shown in FIG. 7C, a φ45 mm punch 45 is pushed into the filling portion 43 to a depth of 1.2 mm, and heat treatment is performed at 120 ° C. for 60 minutes to cure the epoxy resin, The punch shape which is the shape of the bottomed hole 17 was transferred.

硬化後、図7(d)に示すように、パンチ45を抜き取り、有底孔17の内部形状を完成させた。この際、パンチ45に抜きテーパを付けておくこととしてもよい。
また、紫外線硬化性樹脂を用いてパンチ形状を転写してもよい。紫外線硬化性樹脂を使用する場合、樹脂の仮硬化が短時間で行えることで有底孔17の形成が短時間で行える。なお、上記の仮硬化後にパンチ45を抜き取り、熱処理にて樹脂を完全に硬化させることとしてもよい。
After curing, as shown in FIG. 7 (d), the punch 45 was extracted to complete the inner shape of the bottomed hole 17. At this time, the punch 45 may be punched and tapered.
Alternatively, the punch shape may be transferred using an ultraviolet curable resin. When an ultraviolet curable resin is used, the bottomed hole 17 can be formed in a short time because the resin can be temporarily cured in a short time. Note that the punch 45 may be extracted after the temporary curing and the resin may be completely cured by heat treatment.

パンチ45を抜き取り後、図7(e)に示すように、エポキシ樹脂のはみ出し部分43a(即ち上部又は底部のはみ出し部分)を、機械加工にて除去し、目的とする有底孔17を得た。つまり、貫通孔21内に、有底孔17の形状の凹部27を有する内側部材25が配置された構成が得られた。   After extracting the punch 45, as shown in FIG. 7E, the protruding portion 43a of the epoxy resin (that is, the protruding portion of the top or bottom) was removed by machining to obtain the desired bottomed hole 17. . That is, a configuration in which the inner member 25 having the concave portion 27 in the shape of the bottomed hole 17 is disposed in the through hole 21 was obtained.

(第10工程P10)
この精密平面加工では、焼結体の片面25〜50μmずつ研磨加工を行い、厚さ3.0mm、平面度を10μm未満に加工した。これによって、ペリクル枠1が完成した。
(10th process P10)
In this precision planar processing, the sintered body was polished at a rate of 25 to 50 μm on each side to process a thickness of 3.0 mm and a flatness of less than 10 μm. Thereby, the pellicle frame 1 was completed.

(第11工程P11)
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。例えば、枠体2の稜部をブラシ研磨加工によって、0.03〜0.05mmのR半径となるように、R加工を行ってもよい。
(11th process P11)
Thereafter, chamfering may be performed on the frame body 2 of the pellicle frame 1. For example, the R processing may be performed so that the ridge portion of the frame body 2 has an R radius of 0.03 to 0.05 mm by brush polishing.

以上の処理により、主として、アルミナを主成分とする枠体2からなるペリクル枠1を得た。このペリクル枠1の枠体2のヤング率とビッカース硬度とを計測したところ、ヤング率420GPa、ビッカース硬度2100Hvであった。   Through the above-described treatment, a pellicle frame 1 composed mainly of a frame 2 mainly composed of alumina was obtained. When the Young's modulus and the Vickers hardness of the frame 2 of the pellicle frame 1 were measured, the Young's modulus was 420 GPa and the Vickers hardness was 2100 Hv.

[1−5.効果]
(1)本第1実施形態では、ペリクル枠1の有底孔17の内周面23を構成する内側部材25は、ペリクル枠1の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)からなるので、有底孔17に例えばステンレス製の治具ピン19が何度も抜き差しされて、治具ピン19が何度も内側部材25に接触した場合でも、治具ピン19が摩耗しにくい。そのため、治具ピン19の摩耗によるパーティクルの発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できるという顕著な効果を奏する。また、治具ピン19が摩耗してしまい、治具ピン19の交換のために工程を停止させる頻度が高くなることも抑制し、生産工程を煩雑化させることも抑制できる。
[1-5. effect]
(1) In the first embodiment, the inner member 25 constituting the inner peripheral surface 23 of the bottomed hole 17 of the pellicle frame 1 is made of a material having a lower hardness than the material constituting the frame body 2 of the pellicle frame 1 (for example, Even if the jig pin 19 made of, for example, stainless steel is repeatedly inserted into and removed from the bottomed hole 17 and the jig pin 19 contacts the inner member 25 many times, the jig The pin 19 is not easily worn. Therefore, since the generation of particles due to wear of the jig pins 19 can be suppressed, for example, there is a remarkable effect that the generation of wiring pattern defects during the manufacture of semiconductor components can be suppressed. Further, it is possible to prevent the jig pin 19 from being worn out, and to increase the frequency of stopping the process for exchanging the jig pin 19, and to suppress the complication of the production process.

(2)また、本第1実施形態では、ペリクル枠1の有底孔17は、ペリクル枠1の枠体2を貫通する貫通孔21を内側部材25の閉塞部29により閉塞するように構成されているので、有底孔17の形成が容易である。   (2) In the first embodiment, the bottomed hole 17 of the pellicle frame 1 is configured to close the through hole 21 that penetrates the frame body 2 of the pellicle frame 1 by the closing portion 29 of the inner member 25. Therefore, formation of the bottomed hole 17 is easy.

つまり、細孔放電加工によって枠体2に貫通孔21を開けることができるので、型彫り放電加工に比べて加工時間が短く、しかも、型彫り放電加工のような頻繁な電極棒の交換が不要であり、その上、穴径が安定するという利点がある。   In other words, since the through-hole 21 can be opened in the frame body 2 by pore electric discharge machining, the machining time is shorter than that of die-sinking electric discharge machining, and frequent electrode rod replacement as in die-sinking electric discharge machining is unnecessary. In addition, there is an advantage that the hole diameter is stabilized.

また、ドリル加工によって枠体2に貫通孔21を開けることとしてもよい。ドリル加工で貫通孔21を形成する場合でも、型彫り放電加工のような頻繁な電極棒の交換が不要である。しかし、貫通孔21付近における枠体2の欠け等を考慮する場合は、ドリル加工よりも細孔放電加工によって貫通孔21を形成することが、枠体2の欠け等を抑制できる点で好ましい。   Moreover, it is good also as opening the through-hole 21 in the frame 2 by drilling. Even when the through hole 21 is formed by drilling, it is not necessary to frequently replace the electrode rod as in die-sinking electric discharge machining. However, when considering the chipping or the like of the frame body 2 in the vicinity of the through-hole 21, it is preferable to form the through-hole 21 by pore electric discharge machining rather than drilling because the chipping of the frame body 2 can be suppressed.

(3)さらに、本第1実施形態では、ペリクル枠1の枠体2に貫通孔21を形成した後に、その貫通孔21に内側部材25を構成する材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)を充填する。そして、その充填部43にパンチ45等によって有底孔17となる穴を形成する。従って、有底孔17の形成が容易であるという利点がある。   (3) Further, in the first embodiment, after forming the through hole 21 in the frame 2 of the pellicle frame 1, the through hole 21 is filled with a material constituting the inner member 25 (for example, a resin such as epoxy resin). To do. And the hole used as the bottomed hole 17 is formed in the filling part 43 with the punch 45 grade | etc.,. Therefore, there is an advantage that the bottomed hole 17 can be easily formed.

[1−6.応用例]
(1)ペリクル枠1の枠体を構成する材料としては、例えば下記表1に記載の導電性セラミックスなどを採用できる。また、例えば下記表2に記載の非導電性セラミックスを採用できる。
[1-6. Application example]
(1) As a material constituting the frame of the pellicle frame 1, for example, conductive ceramics described in Table 1 below can be adopted. Further, for example, non-conductive ceramics described in Table 2 below can be employed.

また、導電性セラミックスの組成(配合組成)としては、下記表3の組成を採用できる。また、(セラミックス以外の)導電性材料の組成としては、下記表4の組成を採用できる。さらに、非導電性セラミックスの組成としては、下記表5の組成を採用できる。   Moreover, as a composition (compounding composition) of electroconductive ceramics, the composition of following Table 3 is employable. Further, as the composition of the conductive material (other than ceramics), the composition shown in Table 4 below can be adopted. Furthermore, the composition shown in Table 5 below can be adopted as the composition of the nonconductive ceramic.

なお、表1のNo.1〜3と表3のNo.10〜12は同じ材料である。表1のNo.4〜6と表4のNo.13〜15は同じ材料である。表2のNo.7〜9と表5のNo.16〜18は同じ材料である。   Note that Nos. 1 to 3 in Table 1 and Nos. 10 to 12 in Table 3 are the same material. Nos. 4-6 in Table 1 and Nos. 13-15 in Table 4 are the same material. Nos. 7-9 in Table 2 and Nos. 16-18 in Table 5 are the same material.

(2)有底孔17を形成するために充填する樹脂としては、エポキシ樹脂以外に、フェノール樹脂やポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。また、PET樹脂やPEEK樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。   (2) As resin with which the bottomed hole 17 is formed, thermosetting resin such as phenol resin or polyimide resin can be used in addition to the epoxy resin. Further, a thermoplastic resin such as a PET resin or a PEEK resin can be used.

(3)有底孔17を形成する場合には、貫通孔21に充填した樹脂を硬化させ、その硬化した樹脂に対して、ドリル等により、有底孔17を開けてもよい。
(4)樹脂の材料としては、紫外線に対する耐久性が高いものやパーティクルが発生し難いものが好ましい。また、樹脂の色は、適宜選択することができる。
(3) When the bottomed hole 17 is formed, the resin filled in the through hole 21 may be cured, and the bottomed hole 17 may be opened by a drill or the like with respect to the cured resin.
(4) As the material of the resin, a material having high durability against ultraviolet rays or a material that hardly generates particles is preferable. The color of the resin can be selected as appropriate.

[1−7.文言の対応関係]
第1実施形態の、ペリクル枠1、枠体2、ペリクル膜3、有底孔17、貫通孔21、内側部材25、閉塞部29は、それぞれ、本発明の、ペリクル枠、枠体、ペリクル膜、有底孔、貫通孔、内側部材、閉塞部の一例に相当する。
[1-7. Correspondence of wording]
In the first embodiment, the pellicle frame 1, the frame body 2, the pellicle film 3, the bottomed hole 17, the through hole 21, the inner member 25, and the closing portion 29 are respectively the pellicle frame, the frame body, and the pellicle film of the present invention. This corresponds to an example of a bottomed hole, a through hole, an inner member, and a closed portion.

[2.第2実施形態]
次に、第2実施形態について説明するが、第1実施形態と同様な内容については、その説明は省略又は簡略化する。
[2. Second Embodiment]
Next, the second embodiment will be described, but the description of the same contents as the first embodiment will be omitted or simplified.

[2−1.構成]
図8に示すように、本第2実施形態におけるペリクル枠51は、第1実施形態と同様に、主として、セラミックス製の枠体52から構成されており、第1実施形態と同様な各枠部53を備えている。
[2-1. Constitution]
As shown in FIG. 8, the pellicle frame 51 in the second embodiment is mainly composed of a ceramic frame body 52, as in the first embodiment, and is similar to each frame portion in the first embodiment. 53.

そして、各枠部53のうち、長辺に対応する第1実施形態と同様な第3、第4枠部には、有底孔55が形成されている。なお、図8では、第3枠部53cを例示している。
特に本第2実施形態では、有底孔55が形成される部分及びその周囲の部分の外周面57(図8の上方)側は、他の部分より外側に張り出すように(即ち幅が大きくなるように)構成されている。
And the bottomed hole 55 is formed in the 3rd, 4th frame part similar to 1st Embodiment corresponding to a long side among each frame part 53. As shown in FIG. In addition, in FIG. 8, the 3rd frame part 53c is illustrated.
Particularly in the second embodiment, the outer peripheral surface 57 (upper side in FIG. 8) side of the portion where the bottomed hole 55 is formed and the surrounding portion is projected outward (ie, the width is larger). Is configured).

詳しくは、枠部53の外周面57側は、幅が大きくなるように、一定の厚みで突出する凸部59が形成されており、この凸部59が形成されている部分において、枠部53を貫通するように、貫通孔61が形成されている。   Specifically, the outer peripheral surface 57 side of the frame portion 53 is formed with a convex portion 59 that protrudes with a certain thickness so as to increase in width, and in the portion where the convex portion 59 is formed, the frame portion 53. A through hole 61 is formed so as to pass through the.

また、貫通孔61の内周面63(図8の下方)側の開口部65は、例えばペリクル枠51と同様な材料からなるセラミックス製の板材(閉塞板)67によって封止されている。また、貫通孔61には例えばエポキシ樹脂等の樹脂が充填され、この樹脂により第1実施形態と同様なカップ形状の内側部材69が形成されている。   Further, the opening 65 on the inner peripheral surface 63 (lower side in FIG. 8) side of the through-hole 61 is sealed by a ceramic plate (blocking plate) 67 made of the same material as the pellicle frame 51, for example. The through-hole 61 is filled with a resin such as an epoxy resin, and a cup-shaped inner member 69 similar to that of the first embodiment is formed from this resin.

なお、内側部材69の凹部71によって、第1実施形態と同様に有底孔55が構成されている。
[2−2.製造方法]
本第2実施形態におけるペリクル枠51の製造方法は、基本的には第1実施形態と同様であるので、異なる点を中心にして説明する。
In addition, the bottomed hole 55 is comprised by the recessed part 71 of the inner member 69 similarly to 1st Embodiment.
[2-2. Production method]
Since the manufacturing method of the pellicle frame 51 in the second embodiment is basically the same as that in the first embodiment, the description will focus on the differences.

まず、凸部59を有するペリクル枠51の枠体52は、第1実施形態と同様に、ワイヤー放電加工によって作製することができる。
そして、図8に示すように、枠体52の凸部59のある部分において、枠体52に貫通孔61を形成し、その貫通孔61の開口部65を塞ぐように、閉塞板67を配置する。
First, the frame body 52 of the pellicle frame 51 having the convex portions 59 can be produced by wire electric discharge machining as in the first embodiment.
Then, as shown in FIG. 8, in the portion where the convex portion 59 of the frame body 52 is located, the through hole 61 is formed in the frame body 52, and the closing plate 67 is disposed so as to close the opening 65 of the through hole 61. To do.

その後、貫通孔61の閉塞されていない側(開口側:図8の上方)から、エポキシ樹脂を充填し、第1実施形態と同様に、パンチ等を用いて有底孔55を形成する。なお、閉塞板67は、エポキシ樹脂の硬化に伴って一体に固定される。   Thereafter, an epoxy resin is filled from the side where the through hole 61 is not closed (opening side: the upper side in FIG. 8), and the bottomed hole 55 is formed using a punch or the like as in the first embodiment. The closing plate 67 is fixed integrally with the curing of the epoxy resin.

[2−3.効果]
本第2実施形態では、第1実施形態と同様な効果を奏する。
また、本第2実施形態では、貫通孔61の開口部65を硬質な閉塞板67で塞ぐので、エポキシ樹脂がペリクル枠51の内周面63側に露出していない。よって、エポキシ樹脂等からなる内側部材69が劣化することを抑制し、ペリクル枠51の内周面63側にパーティクルが排出されにくいという利点がある。
[2-3. effect]
The second embodiment has the same effects as the first embodiment.
In the second embodiment, since the opening 65 of the through hole 61 is closed by the hard blocking plate 67, the epoxy resin is not exposed to the inner peripheral surface 63 side of the pellicle frame 51. Therefore, there is an advantage that deterioration of the inner member 69 made of epoxy resin or the like is suppressed, and particles are hardly discharged to the inner peripheral surface 63 side of the pellicle frame 51.

さらに、貫通孔61を開ける部分の厚み(即ち枠体2の厚み)が大きくなっているので、強度が高いという利点がある。
[3.その他の実施形態]
尚、本発明は、前記実施形態等に何ら限定されるものではなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態を採り得ることはいうまでもない。
Furthermore, since the thickness of the part which opens the through-hole 61 (namely, thickness of the frame 2) is large, there exists an advantage that intensity | strength is high.
[3. Other Embodiments]
In addition, this invention is not limited to the said embodiment etc. at all, Of course, as long as it belongs to the technical scope of this invention, it can take various forms.

(1)例えば、ペリクル枠の枠体を形成するセラミックス材料としては、例えば特開2016−122091号公報に開示されているように、窒化ケイ素、ジルコニア、アルミナと炭化チタンの複合セラミックス等、各種の材料を採用できる。   (1) For example, as the ceramic material forming the frame of the pellicle frame, various materials such as silicon nitride, zirconia, composite ceramics of alumina and titanium carbide, as disclosed in, for example, JP-A-2016-122091 Material can be adopted.

なお、同公報に開示されているように(実施形態2、3参照)、例えばジルコニアを用いたペリクル枠(即ち枠体)は、ヤング率210GPa、ビッカース硬度1200Hvであり、アルミナと炭化チタンの複合セラミックスを用いたペリクル枠は、ヤング率420GPa、ビッカース硬度2100Hvである。   As disclosed in the publication (see Embodiments 2 and 3), for example, a pellicle frame (that is, a frame) using zirconia has a Young's modulus of 210 GPa and a Vickers hardness of 1200 Hv, and is a composite of alumina and titanium carbide. The pellicle frame using ceramics has a Young's modulus of 420 GPa and a Vickers hardness of 2100 Hv.

(2)なお、上記各実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を、省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本発明の実施形態である。   (2) In addition, the function which one component in each said embodiment has may be shared by a some component, or the function which a some component has may be exhibited by one component. Moreover, you may abbreviate | omit a part of structure of each said embodiment. In addition, at least a part of the configuration of each of the above embodiments may be added to or replaced with the configuration of another embodiment. In addition, all the aspects included in the technical idea specified from the wording described in the claims are embodiments of the present invention.

1、51…ペリクル枠
1a、1b、1c、1d、53c…枠部
2、52…枠体
3…ペリクル膜
5…ペリクル
17、55…有底孔
21、61…貫通孔
25、69…内側部材
29…閉塞部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 51 ... Pellicle frame 1a, 1b, 1c, 1d, 53c ... Frame part 2, 52 ... Frame body 3 ... Pellicle film 5 ... Pellicle 17, 55 ... Bottom hole 21, 61 ... Through-hole 25, 69 ... Inner member 29 ... Blocking part

Claims (8)

ヤング率150GPa以上で、且つ、ビッカース硬度800Hv以上の枠体を備えると共に、前記枠体の外周面側の表面に開口する有底孔を備えた、ペリクル膜を張設用のペリクル枠であって、
前記有底孔は、少なくとも、前記枠体を貫通する貫通孔と、該貫通孔の内周面の少なくとも一部を被覆し、該貫通孔を閉塞する閉塞部を有する内側部材と、から構成されており、
前記内側部材は、前記枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる、
ペリクル枠。
A pellicle frame having a Young's modulus of 150 GPa or more and having a Vickers hardness of 800 Hv or more and a bottomed hole that opens on the outer peripheral surface of the frame, ,
The bottomed hole includes at least a through hole that penetrates the frame body, and an inner member that covers at least a part of the inner peripheral surface of the through hole and has a closed portion that closes the through hole. And
The inner member is made of a material whose hardness is lower than that of the material constituting the frame,
Pellicle frame.
前記有底孔の前記内側部材を構成する材料は、ビッカース硬度200Hvより低い、又は、ロックウェル硬度130HRMより低い、
請求項1に記載のペリクル枠。
The material constituting the inner member of the bottomed hole is lower than Vickers hardness 200 Hv or lower than Rockwell hardness 130 HRM,
The pellicle frame according to claim 1.
前記枠体を構成する材料は、セラミックを主成分とする材料からなる、
請求項1又は2に記載のペリクル枠。
The material constituting the frame is made of a material whose main component is ceramic,
The pellicle frame according to claim 1 or 2.
前記有底孔の前記内側部材を構成する材料は、樹脂からなる、
請求項1〜3のいずれか1項に記載のペリクル枠。
The material constituting the inner member of the bottomed hole is made of resin.
The pellicle frame according to any one of claims 1 to 3.
前記枠体の前記貫通孔における内周面側の開口端には、閉塞板を備える、
請求項1〜4のいずれか1項に記載のペリクル枠。
The opening end on the inner peripheral surface side in the through hole of the frame body is provided with a closing plate,
The pellicle frame according to any one of claims 1 to 4.
前記請求項1〜5のいずれか1項に記載のペリクル枠の製造方法であって、
前記ペリクル枠の前記枠体に対して、前記有底孔の形成箇所に、前記貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に、前記内側部材を構成する材料を充填して前記有底孔を形成する工程と、
を有する、ペリクル枠の製造方法。
A method for producing a pellicle frame according to any one of claims 1 to 5,
Forming the through hole at the bottomed hole forming portion with respect to the frame of the pellicle frame;
Filling the through hole with a material constituting the inner member to form the bottomed hole;
A method for manufacturing a pellicle frame.
前記貫通孔を、放電加工又はドリル加工によって形成する、
請求項6に記載のペリクル枠の製造方法。
Forming the through hole by electric discharge machining or drilling;
A method for manufacturing a pellicle frame according to claim 6.
前記有底孔を形成する場合には、前記貫通孔に前記内側部材を構成する材料を充填し、該充填した材料に対して、前記有底孔の孔形状となる加工を行う、
請求項6又は7に記載のペリクル枠の製造方法。
In the case of forming the bottomed hole, the through hole is filled with a material constituting the inner member, and the filled material is processed into a hole shape of the bottomed hole.
A method for manufacturing a pellicle frame according to claim 6 or 7.
JP2017100200A 2017-05-19 2017-05-19 Pellicle frame and production method thereof Pending JP2018194744A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017100200A JP2018194744A (en) 2017-05-19 2017-05-19 Pellicle frame and production method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017100200A JP2018194744A (en) 2017-05-19 2017-05-19 Pellicle frame and production method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018194744A true JP2018194744A (en) 2018-12-06

Family

ID=64570282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017100200A Pending JP2018194744A (en) 2017-05-19 2017-05-19 Pellicle frame and production method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018194744A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6001675B2 (en) Mounting member and manufacturing method thereof
TWI533988B (en) Abrasive article with solid core and methods of making the same
KR102123889B1 (en) Substrate holding device and method for manufacturing the same
JP6592188B2 (en) Adsorption member
CN109015339B (en) Grinding tool and method for manufacturing the same
JP2015048260A (en) Scribing wheel, holder unit, and scribing device
JP2018194744A (en) Pellicle frame and production method thereof
JP2018194743A (en) Pellicle frame and production method thereof
JP2011014783A (en) Chuck table for cutting device
JP2020042105A (en) Pellicle frame and pellicle
JP2018194742A (en) Pellicle frame
KR20140097033A (en) Pin for scribing wheel, holder unit, and scribing apparatus
JP2005177979A (en) Dressing tool
JP7096063B2 (en) Manufacturing method of pellicle frame
JP2014189415A (en) Scribing wheel, holder unit, scribing device, scribing method, and production method of scribing wheel
KR102208776B1 (en) Cutter wheel and method of manufacturing the same
KR102229135B1 (en) CMP pad conditioner with individually attached tips and method for producing the same
JP2018200380A (en) Pellicle frame and method for manufacturing the same
WO2019225503A1 (en) Pellicle frame, photomask, and method for manufacturing pellicle frame
CN110114731A (en) Reduce the axis spring bearing of friction
JP2019040983A (en) Substrate holding device
JP2010161181A (en) Blade for dividing substrate and substrate dividing method
JP2018144173A (en) Cutting blade and method for manufacturing the same
JP7336864B2 (en) cutting blade
WO2020009169A1 (en) Pellicle frame