JP2018194718A - Manufacturing method for led display panel - Google Patents

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Abstract

To provide an LED display panel manufacturing method which manufactures an LED display panel efficiently.SOLUTION: An LED display panel manufacturing method includes the steps of: preparing an LED wafer split by a planned split line and having a plurality of LEDs arranged, via a buffer layer, on a surface of an epitaxy substrate; preparing a display substrate including electrodes arranged in rows and columns; positioning the LED wafer to face the electrodes of the display substrate; irradiating the display substrate or the LED wafer arranged facing each other by the LED wafer positioning step with a laser beam having a transparent wavelength, to connect electrodes of the LEDs to the electrodes of the display substrate corresponding to the LED electrodes; and irradiating the buffer layer of the LED with the laser beam having the transparent wavelength with respect to the display substrate or the LED wafer, to destroy the buffer layer, and separates the LED from the epitaxy substrate to be arranged in the display substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、LEDを用いたLEDディスプレーパネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an LED display panel using LEDs.

サファイア基板、SiC基板等のエピタキシー基板の上面にエピタキシャル成長によってバファー層、N型半導体層、発光層、及びP型半導体層等からなるエピタキシャル層と、N型半導体層、及びP型半導体層に配設された電極とによって構成された複数のLEDが分割予定ラインによって区画されて形成されたウエーハは、分割予定ラインがレーザー光線等によってエピタキシー基板と共に切断されて個々のLEDに生成される(例えば、特許文献1を参照。)。   An epitaxial layer such as a buffer layer, an N-type semiconductor layer, a light-emitting layer, and a P-type semiconductor layer, and an N-type semiconductor layer and a P-type semiconductor layer are disposed on the upper surface of an epitaxial substrate such as a sapphire substrate or SiC substrate by epitaxial growth. A wafer formed by dividing a plurality of LEDs configured by the divided electrodes by the planned dividing lines is cut into the individual LEDs by cutting the planned dividing lines together with the epitaxy substrate by a laser beam or the like (for example, Patent Documents). 1).

また、エピタキシー基板の裏面からレーザー光線を照射してバッファー層を破壊してエピタキシャル層をエピタキシー基板から剥離する技術も提案されている(例えば、特許文献2を参照。)。   In addition, a technique for irradiating a laser beam from the back surface of the epitaxy substrate to break the buffer layer and peeling the epitaxial layer from the epitaxy substrate has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

そして、剥離されたLEDは、赤色LED、緑色LED、青色LED、さらにはその他の色を発色するLEDを含め一体にしたモジュールチップとして組み立てられ、モジュールチップの集合体として形成されるモニター等に使用される。   The peeled LEDs are assembled as an integrated module chip including red LEDs, green LEDs, blue LEDs, and LEDs that emit other colors, and used for monitors formed as an assembly of module chips. Is done.

特開平10−305420号公報JP-A-10-305420 特開2002−314053号公報JP 2002-314053 A

従来知られた構成によれば、個々のLEDをモジュールチップに組み込む場合、まずLEDを構成するエピタキシャル層をエピタキシー基板から剥離して、1つ1つのLEDを個片化し、各個片化されたLEDをモジュールに実装するために一時的に保持するサブストレートに所定の間隔をもって再配置し、その後、該サブストレートに再配置されたLEDを、モジュール側に組み込む等の工程を実行する必要があり、複数種類のLEDを搭載した個々のモジュールチップを得るまでに多くの手間が掛かる。特にマイクロLEDを採用するモニターを生産するためには、大量のモジュールチップを必要としつつ、微小なモジュールチップを集積してLEDディスプレーパネルを組み立てることになるため、効率よくLEDディプレーパネルを製造することは困難であり、LEDディスプレーパネルの製造に対する更なる高効率化が望まれている。なお、本発明でいう「マイクロLED」とは、LEDの1辺の寸法がμmオーダー(1000μm未満、例えば10μm×10μm)のLEDを指す。   According to a conventionally known configuration, when an individual LED is incorporated in a module chip, the epitaxial layer constituting the LED is first peeled off from the epitaxy substrate, and each LED is separated into individual LEDs. In order to mount the LED on the module, it is necessary to perform rearrangement at a predetermined interval on the substrate that is temporarily held, and then, for example, to incorporate the LED rearranged on the substrate into the module side. It takes a lot of time to obtain individual module chips equipped with a plurality of types of LEDs. In particular, in order to produce a monitor that uses a micro LED, a large amount of module chips are required, and a small module chip is integrated to assemble an LED display panel. Therefore, an LED display panel is efficiently manufactured. This is difficult, and further improvement in the efficiency of manufacturing LED display panels is desired. The “micro LED” referred to in the present invention refers to an LED having a side dimension of the LED of the order of μm (less than 1000 μm, for example, 10 μm × 10 μm).

本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、LEDディスプレーパネルを効率よく製造するLEDディスプレーパネルの製造方法を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said fact, The main technical subject is to provide the manufacturing method of the LED display panel which manufactures an LED display panel efficiently.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、LEDディスプレーパネルを製造するLEDディスプレーパネルの製造方法であって、分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介してLEDを複数備えたLEDウエーハを準備するLEDウエーハ準備工程と、複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程と、ディスプレー基板の電極に対応してLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程と、該LEDウエーハ位置付け工程により対面させられたディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を照射して、LEDの電極と該LEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結する電極連結工程と、ディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊し該LEDをエピタキシー基板から剥離してディスプレー基板に配設するLED配設工程と、を少なくとも含み構成されるLEDディスプレーパネルの製造方法が提供される。   In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, there is provided an LED display panel manufacturing method for manufacturing an LED display panel, wherein a plurality of LEDs are partitioned on a surface of an epitaxy substrate through a buffer layer. An LED wafer preparation process for preparing the provided LED wafer, a display board preparation process for preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns, and an LED wafer facing the electrodes of the display substrate LED wafer positioning step for positioning, and a display substrate or a display substrate corresponding to the LED electrode by irradiating a laser beam having a wavelength that is transparent to the display substrate or the LED wafer faced by the LED wafer positioning step Electrode connection to connect with other electrodes Then, a laser beam having a wavelength that is transparent to the display substrate or the LED wafer is irradiated to the buffer layer of the LED positioned on the display substrate to break the buffer layer, and the LED is peeled off from the epitaxy substrate to form the display substrate. There is provided a method for manufacturing an LED display panel including at least an LED disposing step.

また、本発明によれば、LEDディスプレーパネルを製造するLEDディスプレーパネルの製造方法であって、分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介して第一のLEDを複数備えた第一のLEDウエーハと、分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介して第二のLEDを複数備えた第二のLEDウエーハとを少なくとも準備するLEDウエーハ準備工程と、
複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程と、ディスプレー基板の電極に対応して第一のLEDウエーハ、第二のLEDウエーハのいずれかのLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程と、該LEDウエーハ位置付け工程によって対面させられたディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を照射してLEDの電極と、該LEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結する電極連結工程と、ディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊し該LEDをエピタキシー基板から剥離して第一のLED、第二のLEDをディスプレー基板に配設するLED配設工程と、を少なくとも含み構成されるLEDディスプレーパネルの製造方法が提供される。
According to the present invention, there is also provided an LED display panel manufacturing method for manufacturing an LED display panel. An LED wafer preparation step for preparing at least a second LED wafer having a plurality of second LEDs on a surface of an epitaxy substrate that is partitioned by a division line and having a plurality of second LEDs on a surface thereof;
A display substrate preparation step of preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns, and a first LED wafer or a second LED wafer facing each other in correspondence with the electrodes of the display substrate LED wafer positioning step for positioning, and a laser beam having a wavelength having transparency to the display substrate or the LED wafer faced by the LED wafer positioning step corresponds to the LED electrode and the LED electrode An electrode connecting step for connecting the electrodes of the display substrate, and a laser beam having a wavelength that is transmissive to the display substrate or the LED wafer is irradiated to the buffer layer of the LED positioned on the display substrate to destroy the buffer layer. Is removed from the epitaxy substrate and the first LE At least includes method for producing configured LED display panel and LED disposed step, the disposing a second LED on the display substrate.

該ディスプレー基板は、第一のディスプレー基板、第二のディスプレー基板、を少なくとも備え、該電極連結工程において、第一のLEDウエーハの表面を第一のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第一のLEDの電極を該第一のディスプレー基板の電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第一のディスプレー基板の該電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを第一のディスプレー基板に配設するAステップと、第二のLEDウエーハの表面を第二のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第二のディスプレー基板の該電極に位置付けて第二のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第二のディスプレー基板に配設するBステップと、該Aステップにおいて第一のLEDが所定の間隔をもって配設された第一のディスプレー基板の表面に該Bステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第二のLEDの電極を第一のディスプレー基板の該電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第一のディスプレー基板に配設するCステップと、該Bステップにおいて第二のLEDが所定の間隔をもって配設された第二のディスプレー基板の表面に該Aステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第一のLEDの電極を第二のディスプレー基板の電極に位置付けて第二のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に該LED配設工程を実施して第一のLEDを第二のディスプレー基板に配設するDステップと、を少なくとも含み構成されることが好ましい。   The display substrate includes at least a first display substrate and a second display substrate, and in the electrode connecting step, the surface of the first LED wafer faces the surface of the first display substrate, and has a predetermined interval. Position the electrodes of the first LED corresponding to the electrodes disposed in the rows and columns of the first display substrate to the electrodes of the first display substrate, with respect to the first display substrate or the first LED wafer. And irradiating a transparent laser beam to connect the electrode of the first LED and the electrode of the first display substrate, and performing the LED disposing step to connect the first LED to the first display substrate. A step disposed on the surface of the second LED wafer and the surface of the second LED wafer face the surface of the second display substrate. The second LED electrode corresponding to the electrodes arranged in the rows and columns of the substrate is positioned on the electrode of the second display substrate and transmitted to the second display substrate or the second LED wafer. The second LED is disposed on the second display substrate by irradiating the second LED electrode and the second display substrate electrode by irradiating a laser beam having a property and performing the LED disposing step. B step, and the second LED wafer used in the B step is faced to the surface of the first display substrate on which the first LEDs are arranged at a predetermined interval in the A step. The electrodes of the second LED corresponding to the electrodes arranged in the rows and columns of the display substrate are positioned on the electrodes of the first display substrate, and the first display substrate or the second L A laser beam having transparency to the D wafer is irradiated to connect the electrode of the second LED and the electrode of the first display substrate, and at the same time, the LED arranging step is performed to connect the second LED to the first LED. The first LED wafer used in the A step is made to face the surface of the second display substrate in which the second LED is disposed at a predetermined interval in the B step and the C step disposed on the display substrate. The second display substrate or the first LED wafer is positioned by positioning the electrodes of the first LED corresponding to the electrodes arranged in the rows and columns of the second display substrate at predetermined intervals on the electrodes of the second display substrate. The first LED electrode and the second display substrate electrode are connected to each other by irradiating a laser beam having transparency to the LED, and the LED arranging step is performed. In addition, it is preferable to include at least a D step of disposing the first LED on the second display substrate.

また、該ディスプレー基板は、第一のディスプレー基板、第二のディスプレー基板、第三のディスプレー基板、第四のディスプレー基板を少なくとも備え、該電極連結工程において、第一のLEDウエーハの表面を第一のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第一のLEDの電極を該第一のディスプレー基板の電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第一のディスプレー基板の該電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを第一のディスプレー基板に配設する第1のステップと、第二のLEDウエーハの表面を第二のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第二のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第二のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第二のディスプレー基板に配設する第2のステップと、該第2のステップで用いた第二のLEDウエーハの表面を第三のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって該第三のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第三のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第三のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第三のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第三のディスプレー基板に配設する第3のステップと、第三のLEDウエーハの表面を第四のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第三のLEDの電極を該第四のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第四のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第4のステップと、該第1のステップにおいて、第一のLEDが所定の間隔をもって配設された第一のディスプレー基板の表面に該第3のステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第二のLEDの電極を第一のディスプレー基板の電極に位置付けて該第一のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第一のディスプレー基板に配設する第5のステップと、該第2のステップ又は第3のステップにおいて、第二のLEDが所定の間隔をもって配設された第二のディスプレー基板又は第三のディスプレー基板のいずれか一方のディスプレー基板を選択し、選択された一方のディスプレー基板の表面に第4のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該一方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該一方のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該一方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該一方のディスプレー基板に配設する第6のステップと、
該第6のステップにおいて選択されなかった第二のLEDが所定の間隔をもって配設された他方のディスプレー基板の表面に第1のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該他方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該他方のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該他方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを該他方のディスプレー基板に配設する第7のステップと、該第4のステップにおいて、第三のLEDが所定の間隔をもって配設された第四のディスプレー基板の表面に該第5のステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第二のLEDの電極を位置付けて該第四のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第8のステップと、該第5のステップにおいて、第一のLEDと第二のLEDが配設された第一のディスプレー基板に該第6のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該第一のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該第一のディスプレー基板に配設する第9のステップと、
第二のLEDと第三のLEDが配設された該第6のステップにおける該一方のディスプレー基板に該第7のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該一方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該一方のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該一方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該一方のディスプレー基板に配設する第10のステップと、該第8のステップにおいて、第二のLEDと第三のLEDが配設された該第四のディスプレー基板に該第10のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該第四のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第11のステップと、第二のLEDと第一のLEDが配設された該第7のステップにおける該他方のディスプレー基板に該第9のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該他方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該他方のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該他方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該他方のディスプレー基板に配設する第12のステップと、を少なくとも含み構成されていてもよい。
The display substrate includes at least a first display substrate, a second display substrate, a third display substrate, and a fourth display substrate. In the electrode connecting step, the surface of the first LED wafer is the first display substrate. The electrodes of the first LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the first display substrate with a predetermined interval facing the surface of the display substrate are positioned on the electrodes of the first display substrate. A laser beam having transparency to the first display substrate or the first LED wafer is irradiated to connect the electrode of the first LED and the electrode of the first display substrate, and the LED arranging step And a first step of disposing the first LED on the first display substrate and the surface of the second LED wafer on the second display. The electrodes of the second LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the second display substrate with a predetermined interval facing the surface of the substrate are positioned on the electrodes of the second display substrate. A laser beam having transparency to the second display substrate or the second LED wafer is irradiated to connect the electrode of the second LED and the electrode of the second display substrate, and the LED arranging step And a second step of arranging the second LED on the second display substrate, and the surface of the second LED wafer used in the second step is made to face the surface of the third display substrate. The electrodes of the second LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the third display substrate with a predetermined interval are positioned on the electrodes of the third display substrate. A laser beam having transparency to the play substrate or the second LED wafer is irradiated to connect the electrode of the second LED and the electrode of the third display substrate, and the LED arranging step is performed. A third step of disposing a second LED on the third display substrate; a surface of the third LED wafer facing the surface of the fourth display substrate; The electrodes of the third LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns are positioned on the electrodes of the fourth display substrate so as to be transparent to the fourth display substrate or the third LED wafer. The third LED is connected to the electrode of the fourth display substrate by irradiating a laser beam having the third LED, and the third LED is connected to the fourth display by performing the LED disposing step. A fourth step disposed on the spray substrate, and a second step used in the third step on the surface of the first display substrate in which the first LEDs are disposed at a predetermined interval in the first step. The electrode of the second LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the first display substrate with a predetermined interval facing each other is positioned on the electrode of the first display substrate, and the first display substrate is positioned. A laser beam having transparency to the substrate or the second LED wafer is irradiated to connect the electrode of the second LED and the electrode of the first display substrate, and the LED arranging step is performed to perform the second step. In the fifth step of arranging the LEDs on the first display substrate, and in the second step or the third step, the second LED is arranged at a predetermined interval. One of the display substrates or the third display substrate is selected, and the third LED wafer used in the fourth step is made to face the surface of the selected one display substrate with a predetermined interval. The electrode of the third LED is positioned on the electrode arranged in the row and the column of one display substrate, and a laser beam having transparency to the one display substrate or the third LED wafer is irradiated to form a third LED. A sixth step of connecting the electrode of the LED and the electrode of the one display substrate and performing the LED disposing step to dispose a third LED on the one display substrate;
The second LED that was not selected in the sixth step is placed on the surface of the other display substrate on which the second LED is arranged at a predetermined interval, and the first LED wafer used in the first step is made to face the predetermined LED. The electrode of the first LED is positioned on the electrode arranged in the row and column of the other display substrate, and the first display wafer or the first LED wafer is irradiated with a laser beam having transparency. A seventh step of connecting the electrode of the LED to the electrode of the other display substrate and performing the LED disposing step to dispose the first LED on the other display substrate; In the step, the second LED wafer used in the fifth step is opposed to the surface of the fourth display substrate in which the third LEDs are arranged at a predetermined interval. The electrode of the second LED is positioned on the electrodes arranged in rows and columns of the fourth display substrate at a predetermined interval, and is transparent to the fourth display substrate or the second LED wafer. A laser beam is irradiated to connect the electrode of the second LED and the electrode of the fourth display substrate, and the LED disposing step is performed to dispose the second LED on the fourth display substrate. In the eighth step and the fifth step, the third LED wafer used in the sixth step is faced to the first display substrate on which the first LED and the second LED are arranged. The electrodes of the third LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the first display substrate with a distance of and are transparent to the first display substrate or the third LED wafer. A laser beam is applied to connect the electrode of the third LED and the electrode of the first display substrate, and the LED disposing step is performed to dispose the third LED on the first display substrate. A ninth step;
The first LED wafer used in the seventh step is made to face the one display substrate in the sixth step in which the second LED and the third LED are arranged, and the one display is provided at a predetermined interval. The electrodes of the first LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the substrate and irradiated with a laser beam having transparency to the one display substrate or the first LED wafer. In the tenth step and the eighth step, the third LED is disposed on the one display substrate by performing the LED disposing step and connecting the electrode of the one display substrate to the electrode of the one display substrate. The first LED wafer used in the tenth step faces the fourth display substrate on which the second LED and the third LED are arranged, and the first LED wafer used in the tenth step is faced to the fourth LED substrate. The electrodes of the first LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the display substrate, and a laser beam having transparency to the fourth display substrate or the first LED wafer is irradiated to the first LED. An eleventh step of connecting the electrode of the LED and the electrode of the fourth display substrate and performing the LED disposing step to dispose the first LED on the fourth display substrate; The third LED wafer used in the ninth step is made to face the other display substrate in the seventh step in which the LED of the first and the first LED are arranged, and the other display substrate of the other display substrate is placed at a predetermined interval. Position the third LED electrode on the electrodes arranged in rows and columns and irradiate the other display substrate or the third LED wafer with a laser beam having transparency. At least a twelfth step of connecting the electrodes of the three LEDs and the electrodes of the other display substrate and performing the LED disposing step to dispose the third LED on the other display substrate. It may be included.

また、第一のLEDは赤を発し、第二のLEDは緑を発し、第三のLEDは青を発するものを選択することができ、該電極連結構造において、ディスプレー基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板の裏側から照射してLEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結し、該LED配設工程において、LEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をLEDウエーハの裏面からディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊しLEDをエピタキシー基板から剥離してLEDをディスプレー基板に配設するようにしてもよい。   In addition, the first LED emits red, the second LED emits green, and the third LED emits blue, and the electrode connection structure is transparent to the display substrate. A laser beam of a wavelength having a wavelength is irradiated from the back side of the display substrate to connect the LED electrode and the corresponding electrode of the display substrate. The LED buffer layer positioned on the display substrate may be irradiated from the back surface of the LED to destroy the buffer layer, and the LED may be peeled off from the epitaxy substrate to dispose the LED on the display substrate.

本発明は、LEDディスプレーパネルを製造するLEDディスプレーパネルの製造方法であって、分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介してLEDを複数備えたLEDウエーハを準備するLEDウエーハ準備工程と、複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程と、ディスプレー基板の電極に対応してLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程と、該LEDウエーハ位置付け工程により対面させられたディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を照射して、LEDの電極と該LEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結する電極連結工程と、ディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊し該LEDをエピタキシー基板から剥離してディスプレー基板に配設するLED配設工程と、を少なくとも含み構成されているので、直接ディスプレーパネルにLEDを配設することが可能となり、従来に比して格段に効率よくLEDディスプレーパネルを製造することが可能になる。   The present invention relates to an LED display panel manufacturing method for manufacturing an LED display panel, and an LED wafer preparation step for preparing an LED wafer having a plurality of LEDs on a surface of an epitaxy substrate, which is partitioned by lines to be divided, via a buffer layer. A display substrate preparation step of preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns, an LED wafer positioning step of positioning the LED wafer so as to face the electrodes of the display substrate, and positioning the LED wafer An electrode connecting step of connecting the electrode of the LED and the electrode of the display substrate corresponding to the LED electrode by irradiating the display substrate or LED wafer faced by the step with a laser beam having a wavelength that is transparent; Display substrate or LED way LED disposing step of irradiating the buffer layer of the LED positioned on the display substrate with a laser beam having a wavelength transmissive to the LED substrate, destroying the buffer layer, peeling the LED from the epitaxy substrate, and disposing the LED on the display substrate; Therefore, it is possible to arrange the LED directly on the display panel, and it is possible to manufacture the LED display panel much more efficiently than in the past.

本発明に基づいて構成されるLEDディスプレーパネル製造方法を実施するためのレーザー加工装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the laser processing apparatus for enforcing the LED display panel manufacturing method comprised based on this invention. 図1に記載されたレーザー加工装置の保持手段とその作動を説明するための一部斜視図である。It is a partial perspective view for demonstrating the holding means and its operation | movement of the laser processing apparatus described in FIG. 本発明のLEDディスプレーパネル製造方法に適用されるLEDウエーハの斜視図である。It is a perspective view of the LED wafer applied to the LED display panel manufacturing method of this invention. 本発明のLEDディスプレーパネル製造方法に適用されるディスプレー基板の斜視図である。It is a perspective view of a display substrate applied to the LED display panel manufacturing method of the present invention. 本発明のLEDウエーハ位置付け工程を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the LED wafer positioning process of this invention. 本発明の第1のステップ(Aステップ)を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 1st step (A step) of this invention. 図6に示す第1のステップを実施することによって獲得されるディスプレー基板の一部を拡大した斜視図である。FIG. 7 is an enlarged perspective view of a part of a display substrate obtained by performing the first step shown in FIG. 6. 本発明の第2ステップ(Bステップ)を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 2nd step (B step) of this invention. 本発明の第3ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 3rd step of this invention. 本発明の第4ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 4th step of this invention. 本発明の第5ステップ(Cステップ)を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 5th step (C step) of this invention. 本発明の第6ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 6th step of this invention. 本発明の第7ステップ(Dステップ)を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 7th step (D step) of this invention. 本発明の第8ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 8th step of this invention. 本発明の第9ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 9th step of this invention. 本発明の第10ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 10th step of this invention. 本発明の第11ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 11th step of this invention. 本発明の第12ステップを説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the 12th step of this invention. 本発明の第1〜12ステップを実施することにより獲得されるディスプレー基板の一部を拡大した斜視図である。It is the perspective view which expanded some display substrates acquired by implementing the 1st-12th step of the present invention.

以下、本発明によるLEDディスプレーパネルの製造方法について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing an LED display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

まず、本発明のLEDディスプレーパネルの製造方法の実施に好適なレーザー加工装置の一実施形態について説明する。   First, an embodiment of a laser processing apparatus suitable for carrying out an LED display panel manufacturing method of the present invention will be described.

図1には、レーザー加工装置40が示されている。図に示すレーザー加工装置40は、基台41と、被加工物となるディスプレー基板を保持する保持手段42と、保持手段42を移動させる移動手段43と、レーザー光線を照射するレーザー光線照射手段44と、基台41の上面から上方に延び、次いで実質上水平に延びるレーザー光線照射手段44が内蔵された枠体45と、コンピュータにより構成される図示しない制御手段と、を備え、該制御手段により各手段が制御されるように構成されている。また、水平に延びる枠体45の先端部の下面には、レーザー光線照射手段44を構成するfθレンズを含む集光器44aと、集光器44aに対して図中矢印Xで示す方向に並び隣接して配設された、LEDウエーハを保持するLEDウエーハ保持手段50と、被加工物の加工領域を撮像するための撮像手段48が配設されている。   FIG. 1 shows a laser processing apparatus 40. A laser processing apparatus 40 shown in the figure includes a base 41, a holding means 42 for holding a display substrate to be processed, a moving means 43 for moving the holding means 42, a laser beam irradiation means 44 for irradiating a laser beam, A frame 45 containing a laser beam irradiation means 44 extending upward from the upper surface of the base 41 and then extending substantially horizontally, and control means (not shown) constituted by a computer are provided. It is configured to be controlled. Further, a concentrator 44a including an fθ lens constituting the laser beam irradiation means 44 and a concentrator 44a are arranged in the direction indicated by the arrow X in FIG. The LED wafer holding means 50 for holding the LED wafer and the imaging means 48 for imaging the processing area of the workpiece are provided.

保持手段42は、図中に矢印Xで示すX方向において移動自在に基台41に搭載された矩形状のX方向可動板60と、図中に矢印Yで示すY方向において移動自在にX方向可動板60に搭載された矩形状のY方向可動板61と、Y方向可動板61の上面に固定された円筒状の支柱62と、支柱62の上端に固定された矩形状の保持テーブル63とを含む。該保持テーブル63上の中央部には、矩形状の枠体から構成される保持フレーム64が配設され、保持フレーム64は、被加工物である第一のディスプレー基板の外周を吸引保持するように構成されている。支柱62の内部には、上記したレーザー光線照射手段44と同様にfθレンズを含む集光器等の構成を有する図示しないレーザー光線照射手段が備えられており(図示は省略する。)、保持フレーム64上に吸引保持される被加工物に向けてレーザー光線を照射することが可能に構成されている。なお、本実施形態でいうX方向とは図1に矢印Xで示す方向であり、Y方向は図1に矢印Yで示す方向であってX方向に直交する方向である。X方向、Y方向で規定される平面は実質上水平である。   The holding means 42 includes a rectangular X-direction movable plate 60 that is mounted on the base 41 so as to be movable in the X direction indicated by an arrow X in the figure, and an X direction that is freely movable in the Y direction indicated by an arrow Y in the figure. A rectangular Y-direction movable plate 61 mounted on the movable plate 60, a cylindrical column 62 fixed to the upper surface of the Y-direction movable plate 61, and a rectangular holding table 63 fixed to the upper end of the column 62 including. A holding frame 64 composed of a rectangular frame is disposed in the center of the holding table 63, and the holding frame 64 sucks and holds the outer periphery of the first display substrate, which is a workpiece. It is configured. Inside the support 62, similarly to the laser beam irradiation means 44 described above, laser beam irradiation means (not shown) having a configuration such as a condenser including an fθ lens is provided (not shown), and on the holding frame 64. It is configured to be able to irradiate a laser beam toward a work piece that is sucked and held by the laser beam. In this embodiment, the X direction is a direction indicated by an arrow X in FIG. 1, and the Y direction is a direction indicated by an arrow Y in FIG. 1 and is a direction orthogonal to the X direction. The plane defined by the X direction and the Y direction is substantially horizontal.

移動手段43は、X方向移動手段80と、Y方向移動手段82と、を含む。X方向移動手段80は、X方向移動手段80は、モータの回転運動を直線運動に変換してX方向可動板60に伝達し、基台41上の案内レールに沿ってX方向可動板60をX方向において進退させる。Y方向移動手段82は、モータの回転運動を直線運動に変換し、Y方向可動板61に伝達し、X方向可動板60上の案内レールに沿ってY方向可動板61をY方向において進退させる。なお、図示は省略するが、X方向移動手段80、Y方向移動手段82には、それぞれ位置検出手段が配設されており、保持テーブルのX方向の位置、Y方向の位置、周方向の回転位置が正確に検出され、後述する制御手段から指示される信号に基づいてX方向移動手段80、Y方向移動手段82が駆動され、任意の位置および角度に上記保持テーブルを正確に位置付けることが可能になっている。   The moving means 43 includes an X direction moving means 80 and a Y direction moving means 82. The X direction moving means 80 converts the rotational motion of the motor into a linear motion and transmits it to the X direction movable plate 60, and moves the X direction movable plate 60 along the guide rail on the base 41. Advance and retreat in the X direction. The Y-direction moving means 82 converts the rotational motion of the motor into a linear motion, transmits it to the Y-direction movable plate 61, and advances and retracts the Y-direction movable plate 61 in the Y direction along the guide rail on the X-direction movable plate 60. . Although not shown, the X direction moving means 80 and the Y direction moving means 82 are provided with position detecting means, respectively, and the holding table is positioned in the X direction, the Y direction, and the circumferential direction. The position is accurately detected, and the X-direction moving means 80 and the Y-direction moving means 82 are driven based on a signal instructed by the control means described later, so that the holding table can be accurately positioned at an arbitrary position and angle. It has become.

該撮像手段48は、顕微鏡を構成する光学系と撮像素子(CCD)を備えており、撮像した画像信号を該制御手段に送り、図示しない表示手段に表示することが可能に構成されている。なお、撮像手段48は、必要に応じて赤外光照射手段と、赤外光を撮像可能な撮像素子を備えていてもよい。該制御手段は、コンピュータにより構成され、制御プログラムに従って演算処理する中央演算処理装置(CPU)と、制御プログラム等を格納するリードオンリメモリ(ROM)と、検出した検出値、演算結果等を一時的に格納するための読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)と、入力インターフェース、及び出力インターフェースとを備えている(詳細についての図示は省略する。)。   The image pickup means 48 includes an optical system and an image pickup device (CCD) constituting a microscope, and is configured to send a picked up image signal to the control means and display it on a display means (not shown). Note that the imaging unit 48 may include an infrared light irradiation unit and an imaging element capable of imaging infrared light as necessary. The control means is constituted by a computer, and a central processing unit (CPU) that performs arithmetic processing according to a control program, a read-only memory (ROM) that stores a control program, and the like, and temporarily detects detected values and arithmetic results. A random access memory (RAM) that can be read and written, an input interface, and an output interface (details are not shown).

LEDウエーハ保持手段50について、図2を参照しながら詳細に説明する。図2(a)に示すように、三色のLEDウエーハ、すなわち赤色LEDウエーハ20、緑色LEDウエーハ22、青色LEDウエーハ24を保持するLEDウエーハ保持手段50は、ウエーハ保持リング52と、ウエーハ保持リング52を支持する保持アーム54とから構成されており、保持アーム54は、水平に延びる枠体45の先端部の下面に配設された保持基体56に、保持基体56の開口孔56aを介して保持基体56に内蔵された駆動手段(図示は省略する。)に連結されている。ウエーハ保持リング52は、LEDウエーハの寸法に合わせて形成された環状の開口部58を有しており、内側には、LEDウエーハが載置される環状の段差部52aがウエーハ保持リング52の内側に沿って配設されている。段差部52aの上面には、載置されるLEDウエーハを吸引保持するための吸引孔52bが周方向に所定の間隔をおいて複数配設されており、LEDウエーハを保持する場合には、例えば、図2(b)に示すように、開口部58に対してLEDウエーハ20の表面20aを上方に向けて位置付け、段差部52a上に載置する。この際、ウエーハ保持リング52に形成された直線部52cに、LEDウエーハ20のオリエンテーションフラットOFを対向させて位置付けて載置することで、基板保持手段52に保持されるLEDウエーハ20の方向を正確に規定することが可能である。吸引孔52bは、ウエーハ保持リング52、及び保持アーム54の内部に形成された吸引通路を介して図示しない吸引手段に連結されており、該吸引手段を作動させることにより、LEDウエーハ20を吸引保持する。   The LED wafer holding means 50 will be described in detail with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, an LED wafer holding means 50 for holding three color LED wafers, that is, a red LED wafer 20, a green LED wafer 22, and a blue LED wafer 24, includes a wafer holding ring 52 and a wafer holding ring. The holding arm 54 supports the holding base 56 disposed on the lower surface of the distal end portion of the horizontally extending frame 45 through the opening hole 56 a of the holding base 56. It is connected to driving means (not shown) built in the holding base 56. The wafer holding ring 52 has an annular opening 58 formed in accordance with the dimensions of the LED wafer, and an annular stepped portion 52 a on which the LED wafer is placed is located inside the wafer holding ring 52. It is arranged along. In the upper surface of the stepped portion 52a, a plurality of suction holes 52b for sucking and holding the LED wafer to be placed are arranged at a predetermined interval in the circumferential direction. When holding the LED wafer, for example, As shown in FIG. 2B, the surface 20a of the LED wafer 20 is positioned upward with respect to the opening 58 and placed on the stepped portion 52a. At this time, the direction of the LED wafer 20 held by the substrate holding means 52 is accurately determined by placing the orientation flat OF of the LED wafer 20 so as to face the linear portion 52c formed in the wafer holding ring 52. Can be specified. The suction hole 52b is connected to a suction means (not shown) via a suction passage formed inside the wafer holding ring 52 and the holding arm 54. By operating the suction means, the LED wafer 20 is sucked and held. To do.

LEDウエーハ20を保持したウエーハ保持リング52は、保持アーム54を該保持基体56に配設された該駆動手段により、図2(c)の矢印54aで示す方向に回転させることが可能になっており、LEDウエーハ20の表面20a、裏面20bのいずれをも上方に向けることができる。さらに、ウエーハ保持リング52は、上記制御手段の指令により、矢印54bで示す上下方向に移動させることが可能に構成され、所望の高さ位置に正確に制御することが可能になっている。   The wafer holding ring 52 holding the LED wafer 20 can rotate the holding arm 54 in the direction indicated by the arrow 54 a in FIG. 2C by the driving means disposed on the holding base 56. Thus, both the front surface 20a and the back surface 20b of the LED wafer 20 can be directed upward. Further, the wafer holding ring 52 can be moved in the vertical direction indicated by the arrow 54b in accordance with a command from the control means, and can be accurately controlled to a desired height position.

レーザー加工装置40は、概ね上記したような構成を備えており、レーザー加工装置40を使用して実行される、本発明のLEDディスプレーパネル製造方法について、以下に説明する。   The laser processing apparatus 40 is generally provided with the above-described configuration, and the LED display panel manufacturing method of the present invention that is executed using the laser processing apparatus 40 will be described below.

まず、第一のLED(以下「赤色LED」という。)を複数備えた第一のLEDウエーハ(以下「赤色LEDウエーハ」という。)と、第二のLED(以下「緑色LED」という。)を複数備えた第二のLEDウエーハ(以下「緑色LEDウエーハ」という。)と、第三のLED(以下「青色LED」という。)を複数備えた第三のLEDウエーハ(以下「青色LEDウエーハ」と、を準備するLEDウエーハ準備工程を実施する。   First, a first LED wafer (hereinafter referred to as “red LED wafer”) including a plurality of first LEDs (hereinafter referred to as “red LEDs”) and a second LED (hereinafter referred to as “green LEDs”). A plurality of second LED wafers (hereinafter referred to as “green LED wafers”) and a third LED wafer (hereinafter referred to as “blue LED wafers”) including a plurality of third LEDs (hereinafter referred to as “blue LEDs”). The LED wafer preparation process for preparing is performed.

図3(a)には、本発明のLEDウエーハ準備工程で準備される赤色LED21が形成される赤色LEDウエーハ20が示され、図3(b)には、緑色LED23が形成される緑色LEDウエーハ22、図3(c)には、青色LED25が形成されるLEDウエーハ24が示され、それぞれの一部拡大断面図A−A、B−B、C−Cも合わせて示されている。各LEDウエーハは図に示すように、略円板状をなし、直径4インチ≒100mmのサイズで構成されている。各LEDウエーハは、いずれもサファイア基板、又はSiC基板等のエピタキシー基板201、221、241の上面に、Ga化合物(例えば、窒化ガリウム:GaN)からなるバッファー層BFを介して赤色に発光をする赤色LED21、緑色に発光をする緑色LED23、青色に発光する青色LED25を構成するLED層が形成されている。該赤色LED21、緑色LED23、青色LED25は、N型半導体層、発光層、P型半導体層からなるエピタキシャル層と、該エピタキシャル層の上面に配設されるP型半導体、N型半導体からなる電極とによって構成される(図示は省略する。)。各LEDウエーハにおいては隣接するLEDが、所定の間隔202、222、242をもって区画されて形成されており、各LEDが1つ配設される領域の寸法は、平面視で10μm×10μmとなるように設定されている。各LED間を構成する所定の間隔202、222、242が形成されている領域は、エピタキシー基板201、221、241が露出した状態となっている。   3A shows a red LED wafer 20 on which the red LED 21 prepared in the LED wafer preparation step of the present invention is formed, and FIG. 3B shows a green LED wafer on which the green LED 23 is formed. 22 and FIG. 3C show an LED wafer 24 on which a blue LED 25 is formed, and partially enlarged sectional views AA, BB, and CC are also shown. As shown in the figure, each LED wafer has a substantially disk shape and is configured with a diameter of 4 inches≈100 mm. Each LED wafer emits red light on the upper surface of an epitaxial substrate 201, 221, 241 such as a sapphire substrate or SiC substrate via a buffer layer BF made of a Ga compound (eg, gallium nitride: GaN). LED layers constituting the LED 21, the green LED 23 that emits green light, and the blue LED 25 that emits blue light are formed. The red LED 21, the green LED 23, and the blue LED 25 include an epitaxial layer composed of an N-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a P-type semiconductor layer, and an electrode composed of a P-type semiconductor and an N-type semiconductor disposed on the upper surface of the epitaxial layer. (Illustration is omitted). In each LED wafer, adjacent LEDs are partitioned and formed at predetermined intervals 202, 222, and 242. The size of a region in which each LED is arranged is 10 μm × 10 μm in plan view. Is set to In regions where predetermined intervals 202, 222, and 242 constituting the LEDs are formed, the epitaxy substrates 201, 221, and 241 are exposed.

各LEDウエーハの外周には、結晶方位を示す直線部分、所謂オリエンテーションフラットOFが形成されており、各LEDウエーハの上面に形成される赤色LED21、緑色LED23、青色LED25は、該結晶方位を基準にして所定の方向に配列される。赤色LED21、緑色LED23、青色LED25における赤色、緑色、青色の発光は、発光層を構成する材料を変更することにより得ることが知られており、例えば、赤色LED21はアルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、緑色LED23はリン化ガリウム(GaP)、青色LED25は窒化ガリウム(GaN)が使用される。なお、本発明の赤色LED21、緑色LED23、青色LED25を形成する材料はこれに限定されず、各色を発光させるための公知の材料を採用することができ、他の材料を用いて各色を発光させることも可能である。さらにいえば、本発明は上記した三色に限定されるわけではなく、他の色のLED、例えば黄色LED等を使用するものでもよい。また、本実施形態では、図3(a)〜(c)に示すように、赤色LED21、緑色LED23、青色LED25を表面に備えたLEDウエーハ20、22、24は、同数のLEDデバイスが同様の配列で配設されている。   On the outer periphery of each LED wafer, a linear portion indicating the crystal orientation, so-called orientation flat OF is formed. The red LED 21, green LED 23, and blue LED 25 formed on the upper surface of each LED wafer are based on the crystal orientation. Arranged in a predetermined direction. It is known that red, green, and blue light emission in the red LED 21, green LED 23, and blue LED 25 is obtained by changing the material constituting the light emitting layer. For example, the red LED 21 is made of aluminum gallium arsenide (AlGaAs), green The LED 23 uses gallium phosphide (GaP), and the blue LED 25 uses gallium nitride (GaN). In addition, the material which forms red LED21 of this invention, green LED23, and blue LED25 is not limited to this, The well-known material for light-emitting each color can be employ | adopted, and each color is light-emitted using another material. It is also possible. Furthermore, the present invention is not limited to the three colors described above, and other color LEDs such as yellow LEDs may be used. Moreover, in this embodiment, as shown to Fig.3 (a)-(c), LED wafer 20,22,24 provided with red LED21, green LED23, and blue LED25 on the surface has the same number of LED devices. Arranged in an array.

上記したLEDウエーハ準備工程と合わせ、複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程を実施する。本実施形態では、例えば、ガラス板から構成される4インチサイズ(横4.98cm、縦8.84cm)で同一の構成を備えたディスプレー基板を4枚(第一〜第四のディスプレー基板10A〜10D)準備するものとし、図4には、該ディスプレー基板準備工程によって準備される第一のディスプレー基板10Aが示されている。本実施形態の各ディスプレー基板の上面には、ディスプレー基板の一部を拡大して示す拡大部11aから理解されるように、行方向に並んだ2つの電極124が列方向、行方向に複数配設されており、各LEDを配設する際には各LEDのアノード電極、カソード電極が行方向に並んだ2つの電極124それぞれに連結される。該2つの電極124は、列方向に3組(124a、124b、124c)約10μmの間隔で配設され、それぞれに赤色LED21、緑色LED23、青色LED25が配設される。各ディスプレー基板上には該3組の電極124が複数組配設され、それぞれの間には3つのLEDが同じ間隔で収まる程度の間隔が設定される。なお、上記LEDウエーハ準備工程、ディスプレー基板準備工程は、いずれを先に実施してもよい。   In combination with the LED wafer preparation step described above, a display substrate preparation step of preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns is performed. In the present embodiment, for example, four display substrates (first to fourth display substrates 10 </ b> A to 10 </ b> A to 10 </ b> A to 4 </ b> A) having the same configuration with a 4-inch size (horizontal 4.98 cm, vertical 8.84 cm) made of a glass plate. 10D) FIG. 4 shows a first display substrate 10A prepared by the display substrate preparation step. On the upper surface of each display substrate of this embodiment, as can be understood from the enlarged portion 11a showing an enlarged part of the display substrate, a plurality of two electrodes 124 arranged in the row direction are arranged in the column direction and the row direction. When each LED is disposed, the anode electrode and cathode electrode of each LED are connected to two electrodes 124 arranged in the row direction. The two electrodes 124 are arranged at intervals of about 10 μm in three sets (124a, 124b, 124c) in the column direction, and a red LED 21, a green LED 23, and a blue LED 25 are arranged respectively. A plurality of sets of the three sets of electrodes 124 are arranged on each display substrate, and an interval is set so that the three LEDs are accommodated at the same interval. Any of the LED wafer preparation step and the display substrate preparation step may be performed first.

図に基づいて、上記LEDウエーハ準備工程、ディスプレー基板準備工程に続く工程について説明する。上記LEDウエーハ準備工程、ディスプレー基板準備工程を実施したならば、図1に示すレーザー加工装置40を使用して、LEDウエーハをディスプレー基板に位置付けて、ディスプレー基板の電極124に対応してLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程を実施する。   Based on the drawings, a process following the LED wafer preparation process and the display substrate preparation process will be described. When the LED wafer preparation step and the display substrate preparation step are performed, the LED wafer is positioned on the display substrate using the laser processing apparatus 40 shown in FIG. An LED wafer positioning process is performed to face and position the LED wafer.

より具体的には、まず、図1に示すレーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図中手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、図4に示すように、保持テーブル63の上面の保持フレーム64の段差部64a上に、第一のディスプレー基板10Aの電極124が形成された表面10Aaを上方にして載置し、図示しない吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第一のディスプレー基板10Aを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持し第一のディスプレー基板10Aを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第一のディスプレー基板10Aの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   More specifically, first, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 shown in FIG. 1 is moved to the front substrate mounting region in the figure by operating the moving means 43. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the electrode 124 of the first display substrate 10A is formed on the stepped portion 64a of the holding frame 64 on the upper surface of the holding table 63 as shown in FIG. The surface 10Aa thus placed is placed upward, and suction means (not shown) is operated to apply suction force to the suction hole 64b to hold it by suction. If the first display substrate 10A is sucked and held on the holding frame 64, the first display substrate 10A is picked up and held on the holding frame 64, and the first display substrate 10A is imaged using the imaging means 48 described above. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the first display substrate 10A.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりLEDウエーハ保持手段50を図2(a)で示す状態とし、赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。なお、上述したように、赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に保持する際には、上述したように赤色LEDウエーハ20のオリエンテーションフラットOFを、ウエーハ保持リング52の直線部52cに位置付けて載置することによりウエーハ保持リング52に対して所望の方向に正確に位置付けることができる(図2(b)を参照。)。   When the alignment is completed by completing the alignment, the LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. Placed on the part 52a. As described above, when the red LED wafer 20 is held on the wafer holding ring 52, the orientation flat OF of the red LED wafer 20 is positioned and placed on the straight portion 52c of the wafer holding ring 52 as described above. By doing so, it is possible to accurately position the wafer holding ring 52 in a desired direction (see FIG. 2B).

該段差部52aに赤色LEDウエーハ20を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し赤色LEDウエーハ20を吸引保持状態とする。赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて赤色LEDウエーハ20の裏面20b側を上方に露出させ、赤色LED21が形成された表面20aが下方を向くように方向を転換する。赤色LEDウエーハ20をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第一のディスプレー基板10Aを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第一のディスプレー基板10Aがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第一のディスプレー基板10Aの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる(図5を参照)。なお、図5では、第一のディスプレー基板10Aの一部11aを拡大した図も合わせて示している。このとき、赤色LEDウエーハ20と第一のディスプレー基板10Aとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図6(a)から理解されるように、赤色LEDウエーハ20を第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaに向けて下降させることにより、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21側の電極が、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaにおいて対応する電極124aと対面する位置に位置付けられる。そして、この状態からLEDウエーハ保持手段50を作動させて下降させて、赤色LED21側の電極が、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaにおいて対応する電極124aと当接させられる。これが本発明の位置付け工程となる。なお、図6では該LEDウエーハを保持するウエーハ保持リング52、及び第一のディスプレー基板10Aを保持する保持フレーム64は説明の都合上省略されている。   When the red LED wafer 20 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the red LED wafer 20 from the suction hole 52b and bring the red LED wafer 20 into a suction holding state. When the red LED wafer 20 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the rear surface 20b side of the red LED wafer 20 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 20a on which the red LED 21 is formed faces downward. If the red LED wafer 20 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the first display substrate 10A held on the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the first display substrate 10A is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the first display substrate 10A by a predetermined amount is moved. Lower (see FIG. 5). FIG. 5 also shows an enlarged view of a part 11a of the first display substrate 10A. At this time, as can be understood from FIG. 6A which specifically shows the positional relationship when the red LED wafer 20 and the first display substrate 10A are viewed from the side in the column direction, the red LED wafer 20 is the first one. The electrode on the red LED 21 side of the red LED wafer 20 is positioned at a position facing the corresponding electrode 124a on the surface 10Aa of the first display substrate 10A by being lowered toward the surface 10Aa of the display substrate 10A. Then, the LED wafer holding means 50 is operated and lowered from this state, and the electrode on the red LED 21 side is brought into contact with the corresponding electrode 124a on the surface 10Aa of the first display substrate 10A. This is the positioning process of the present invention. In FIG. 6, the wafer holding ring 52 for holding the LED wafer and the holding frame 64 for holding the first display substrate 10A are omitted for convenience of explanation.

該LEDウエーハ位置付け工程により、第一のディスプレー基板10Aの電極124aに、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21が位置付けられて、赤色LED21側のアノード電極、カソード電極が第一のディスプレー基板10Aの2つの電極124aに当接させられたならば、電極連結工程が実施される。より具体的には、該制御手段からの指令により支柱62に内蔵された図示しないレーザー光線照射手段のレーザー発振器、及びガルバノミラーの位置を制御して、fθレンズに対するレーザー光線の入射位置を調整し、図6(c)に示すように、第一のディスプレー基板10Aの裏面10Ab側から、第一のディスプレー基板10Aに対しては透過性を有し、該電極124に対しては吸収性を有する波長(例えば、1030nm)のレーザー光線LB1を、集光点が該電極124aの位置近傍になるように調整して照射する。なお、上述したように、各LEDには電極が2つあるため、レーザー光線LB1の照射位置は、列方向に調整されて2回照射される。これにより、ターゲットとなる赤色LED21の電極と、第一のディスプレー基板10Aの電極124a同士が溶融して連結される。なお、本実施形態では、第一のディスプレー基板10A側の列方向に等間隔で配設される電極124aの間隔は、赤色LEDウエーハ20上に等間隔で配設される赤色LED21がその間にちょうど5つ収まるように設定されており、列方向に複数並ぶ赤色LED21は、6個毎に該電極124aと対面するように設定されている。よって、図中最も左側の赤色LED21の電極と第一のディスプレー基板10A側の電極124aとを上述した方法で電気的に連結したならば、次に、fθレンズに対するレーザー光線LB1の入射位置を調整して、列方向で見て6つ隣の赤色LED21にレーザー光線LB1を照射し、次の赤色LED21の電極を、対面している電極124aに連結する。このようにして、第一のディスプレー基板10Aの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124aに対応する赤色LED21に対してレーザー光線LB1を照射し、赤色LED21の電極が第一のディスプレー基板10Aの全ての電極124aに連結されて該電極連結工程が完了する。   Through the LED wafer positioning step, the red LED 21 of the red LED wafer 20 is positioned on the electrode 124a of the first display substrate 10A, and the anode electrode and the cathode electrode on the red LED 21 side are the two electrodes of the first display substrate 10A. If it is made to contact | abut to 124a, an electrode connection process will be implemented. More specifically, the position of the laser oscillator and the galvano mirror (not shown) built in the support 62 is controlled by the command from the control means to adjust the incident position of the laser beam on the fθ lens. 6 (c), from the back surface 10Ab side of the first display substrate 10A, the first display substrate 10A has a transmission wavelength and the electrode 124 has an absorption wavelength ( For example, a laser beam LB1 of 1030 nm is irradiated with adjustment so that the focal point is in the vicinity of the position of the electrode 124a. As described above, since each LED has two electrodes, the irradiation position of the laser beam LB1 is adjusted in the column direction and irradiated twice. As a result, the electrode of the red LED 21 serving as the target and the electrode 124a of the first display substrate 10A are melted and connected. In this embodiment, the interval between the electrodes 124a arranged at equal intervals in the column direction on the first display substrate 10A side is the same as that between the red LEDs 21 arranged at equal intervals on the red LED wafer 20. The number of red LEDs 21 that are arranged in the column direction is set to face the electrode 124a every six. Therefore, if the leftmost electrode of the red LED 21 and the electrode 124a on the first display substrate 10A side are electrically connected by the method described above, then the incident position of the laser beam LB1 on the fθ lens is adjusted. Then, six adjacent red LEDs 21 as viewed in the column direction are irradiated with the laser beam LB1, and the electrode of the next red LED 21 is connected to the facing electrode 124a. In this way, the laser beam LB1 is irradiated to the red LEDs 21 corresponding to all the electrodes 124a arranged in the column direction and the row direction of the first display substrate 10A, and the electrodes of the red LED 21 are applied to the first display substrate 10A. The electrode connection process is completed by connecting to all the electrodes 124a.

該電極連結工程が完了したならば、次に、赤色LEDウエーハ20のエピタキシー基板201に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第一のディスプレー基板10A上の電極連結工程が施された赤色LED21のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し該赤色LED21をエピタキシー基板201から剥離して第一のディスプレー基板10Aに配設するLED配設工程が実施される。   When the electrode connecting step is completed, a laser beam LB2 having a wavelength that is transparent to the epitaxy substrate 201 of the red LED wafer 20 and absorbable to the buffer layer BF is then displayed. An LED arrangement in which the buffer layer BF of the red LED 21 subjected to the electrode connecting step on the substrate 10A is irradiated to destroy the buffer layer BF, and the red LED 21 is peeled off from the epitaxy substrate 201 and disposed on the first display substrate 10A. The installation process is carried out.

該LED配設工程について、より具体的に説明する。該制御手段からの指令により、レーザー光線照射手段44の図示しないレーザー発振器に指令が送られる。さらに、ガルバノミラーを制御して、fθレンズに対する入射位置を調整し、赤色LEDウエーハ20の裏面20b側から、エピタキシー基板201に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対しては吸収性を有する波長(例えば、1030nm)のレーザー光線LB2が、上記した電極連結工程によって電極が第一のディスプレー基板10Aの電極124aに連結された赤色LED21の裏面に位置するバッファー層BFに向けて照射される(図6(d)を参照。)。これにより、バッファー層BFが破壊されて、エピタキシー基板201と、赤色LED21との境界面にガス層が形成され、該赤色LED21がエピタキシー基板201から剥離され、赤色LED21が赤色LED20と完全に分離され、第一のディスプレー基板10A側に固定された状態となる。なお、該レーザー光線LB2のスポット径は適宜調整が可能であり、例えば、該赤色LED21のバッファー層BFが形成された裏面側の略全面を覆うスポット径(例えば、8〜9μm)であれば1回のパルスレーザー光線によって剥離させることが可能であり、また、それよりも小さいスポット径(例えば、4μm)のパルスレーザー光線であれば、赤色LED21の裏面にあるバッファー層BFの全面を破壊するようにfθレンズに入射されるレーザー光線の入射位置を変えて、4回程度のパルスレーザー光線LB2を照射するによって、赤色LED21を赤色ウエーハ220から剥離することができる。このようなレーザー光線LB2の照射を、第一のディスプレー基板10A側の電極124aに対して連結された全ての赤色LED21に対して実施し、ウエーハ保持リング52を上昇させ(図6(e)を参照。)、該LED配設工程が完了し、第一のディスプレー基板10Aの一部(11a)を拡大して示す図7に示されているように、第一のディスプレー基板10A上の各電極124aに赤色LED21が配設された状態となる。上記した第一のディスプレー基板10Aに対して赤色LED21を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第1のステップ」とする。   The LED placement process will be described more specifically. In response to a command from the control means, a command is sent to a laser oscillator (not shown) of the laser beam irradiation means 44. Furthermore, the galvanometer mirror is controlled to adjust the incident position with respect to the fθ lens. From the back surface 20b side of the red LED wafer 20, the epitaxy substrate 201 is transparent and the buffer layer BF is absorptive. A laser beam LB2 having a wavelength (for example, 1030 nm) is irradiated toward the buffer layer BF located on the back surface of the red LED 21 in which the electrode is connected to the electrode 124a of the first display substrate 10A by the electrode connecting step described above. (See FIG. 6D.) As a result, the buffer layer BF is destroyed, a gas layer is formed at the interface between the epitaxy substrate 201 and the red LED 21, the red LED 21 is peeled off from the epitaxy substrate 201, and the red LED 21 is completely separated from the red LED 20. , The first display substrate 10A is fixed. The spot diameter of the laser beam LB2 can be adjusted as appropriate. For example, once the spot diameter (for example, 8 to 9 μm) covers the substantially entire back surface of the red LED 21 where the buffer layer BF is formed. Fθ lens so that the entire surface of the buffer layer BF on the back surface of the red LED 21 is destroyed if the pulse laser beam has a smaller spot diameter (for example, 4 μm). The red LED 21 can be peeled from the red wafer 220 by changing the incident position of the laser beam incident on the laser beam and irradiating the pulse laser beam LB2 about four times. Such irradiation with the laser beam LB2 is performed on all the red LEDs 21 connected to the electrode 124a on the first display substrate 10A side, and the wafer holding ring 52 is raised (see FIG. 6E). .), The LED arrangement process is completed, and each electrode 124a on the first display substrate 10A is enlarged as shown in FIG. 7 showing an enlarged part (11a) of the first display substrate 10A. In this state, the red LED 21 is disposed. The electrode connection process for arranging the red LED 21 on the first display substrate 10A and the LED arrangement process are referred to as a “first step”.

上述した実施形態では、電極連結工程において使用したレーザー光線LB1は、第一のディスプレー基板10Aの裏面側(図中下方側)から、バッファー層LED配設工程において使用したレーザー光線LB2は、赤色LEDウエーハ20の裏面側(図中上方側)から照射するものとした。しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、枠体45内に配設したレーザー光線照射手段44を使用して、電極連結工程においても上方側から赤色LEDウエーハ20の上方側からレーザー光線LB1を照射することもできる。その場合には、レーザー光線発振器により発振されるレーザー光線をLB1、LB2とで切り替えることができる構成とし、使用されるレーザー光線LB1の波長は、赤色LEDウエーハ20のエピタキシー基板201に対して透過性を有し、電極を溶融させることができる波長が選択される。同様に、支柱62内に配置したレーザー光線照射手段を用いて、レーザー光線LB1、LB2のいずれをも照射できる構成とし、保持フレーム64の下方から電極連結工程、LED配設工程を実施するようにしてもよい。これは、以下に説明する第2のステップ以降においても同様であり、レーザー光線が照射される方向については、特に限定されるものではない。ただし、LEDへの影響を考慮すると、電極連結工程を実施する場合のレーザー光線は、保持フレーム64に保持されたディスプレー基板の下方側から照射するようにすることが好ましく、バッファー層BFを破壊するためのレーザー光線は、LEDウエーハの上方側から照射することが好ましい。   In the embodiment described above, the laser beam LB1 used in the electrode connecting step is the red LED wafer 20 from the back surface side (lower side in the drawing) of the first display substrate 10A and the laser beam LB2 used in the buffer layer LED arranging step. Irradiation was performed from the back side (upper side in the figure). However, the present invention is not limited to this, and the laser beam irradiation means 44 disposed in the frame 45 is used to emit the laser beam LB1 from the upper side of the red LED wafer 20 from the upper side even in the electrode connecting step. Irradiation is also possible. In that case, the laser beam oscillated by the laser beam oscillator can be switched between LB1 and LB2, and the wavelength of the laser beam LB1 used is transparent to the epitaxy substrate 201 of the red LED wafer 20. The wavelength at which the electrode can be melted is selected. Similarly, it is possible to irradiate both the laser beams LB1 and LB2 using the laser beam irradiation means disposed in the support column 62, and to perform the electrode connecting process and the LED arranging process from below the holding frame 64. Good. This is the same in the second and subsequent steps described below, and the direction in which the laser beam is irradiated is not particularly limited. However, in consideration of the influence on the LED, it is preferable to irradiate the laser beam when performing the electrode connecting process from the lower side of the display substrate held by the holding frame 64 in order to destroy the buffer layer BF. It is preferable to irradiate the laser beam from above the LED wafer.

該第1のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図中手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、第1のステップで使用した第一のディスプレー基板10Aを取り外し、該保持フレーム64の段差部64a上に、LEDが何も配設されていない第二のディスプレー基板10Bの電極124が形成された側を上方にして載置し、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第二のディスプレー基板10Bを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第二のディスプレー基板10Bを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第二のディスプレー基板10Bの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   When the first step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the front substrate mounting region in the figure by operating the moving means 43. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, the first display substrate 10A used in the first step is removed, and the holding frame 64 is removed. The second display substrate 10B on which no LED is arranged is placed on the stepped portion 64a with the side on which the electrode 124 is formed facing upward, and suction force is applied to the suction hole 64b for suction holding. To do. If the second display substrate 10B is sucked and held on the holding frame 64, the second display substrate 10B sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the above-described imaging means 48, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the second display substrate 10B.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第1のステップで保持されていた赤色LEDウエーハ20を取り出し、緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。なお、上述したように、緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52に保持する際には、上述したように緑色LEDウエーハ22のオリエンテーションフラットOFを、ウエーハ保持リング52の直線部52cに位置付けて載置することによりウエーハ保持リング52に対して所望の方向に正確に位置付けることができる。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. Then, the LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, the red LED wafer 20 held in the first step is taken out, and the green The LED wafer 22 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52. As described above, when the green LED wafer 22 is held on the wafer holding ring 52, the orientation flat OF of the green LED wafer 22 is positioned and placed on the straight portion 52c of the wafer holding ring 52 as described above. By doing so, it is possible to accurately position the wafer holding ring 52 in a desired direction.

該段差部52aに緑色LEDウエーハ22を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて緑色LEDウエーハ22を吸引保持状態とする。緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて緑色LEDウエーハ22の裏面22b側を上方に露出させ、緑色LED23が形成された表面22aが下方を向くように方向を転換する。緑色LEDウエーハ22をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第二のディスプレー基板10Bを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第二のディスプレー基板10Bがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第二のディスプレー基板10Bの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、緑色LEDウエーハ22と第二のディスプレー基板10Bとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図8(a)から理解されるように、緑色LEDウエーハ22を第二のディスプレー基板10Bの表面10Baに向けて下降させることにより、緑色LEDウエーハ20の緑色LED23側の電極が、第二のディスプレー基板10Bの表面10Baにおいて対応する電極124bと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the green LED wafer 22 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to bring the green LED wafer 22 into a suction holding state. When the green LED wafer 22 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 22b side of the green LED wafer 22 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 22a on which the green LED 23 is formed faces downward. If the green LED wafer 22 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the second display substrate 10B held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. When the second display substrate 10B is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher by a predetermined amount than the height position of the second display substrate 10B is moved. Lower. At this time, as can be understood from FIG. 8A showing the positional relationship when the green LED wafer 22 and the second display substrate 10B are viewed from the side in the column direction, the green LED wafer 22 is replaced with the second LED substrate 22 as shown in FIG. The electrode on the green LED 23 side of the green LED wafer 20 faces the corresponding electrode 124b on the surface 10Ba of the second display substrate 10B by being lowered toward the surface 10Ba of the display substrate 10B. (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第二のディスプレー基板10Bの電極124bに、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23が位置付けられて、緑色LED23側のアノード電極、カソード電極が第二のディスプレー基板10Bの2つの電極124bに当接させられたならば、上記第1のステップと同様に電極連結工程が実施される(図8(c)を参照。)。なお、上記第1のステップに対し、電極が連結されるLEDが緑色LED23であること、緑色LED23の電極が連結される第二のディスプレー基板10B側の電極が電極124bであること以外は第1のステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第二のディスプレー基板10Bの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124bに対応する緑色LED23に対してレーザー光線LB1を照射し、緑色LED23の電極が第二のディスプレー基板10Bの全ての電極124bに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the green LED 23 of the green LED wafer 22 is positioned on the electrode 124b of the second display substrate 10B, and the anode electrode and the cathode electrode on the green LED 23 side are the two electrodes of the second display substrate 10B. If it is made to contact | abut to 124b, an electrode connection process will be implemented similarly to the said 1st step (refer FIG.8 (c)). Note that the first step is the first step except that the LED to which the electrode is connected is the green LED 23 and that the electrode on the second display substrate 10B side to which the electrode of the green LED 23 is connected is the electrode 124b. Since this is the same as the electrode connecting step in step, detailed description is omitted. In this way, the laser beam LB1 is applied to the green LEDs 23 corresponding to all the electrodes 124b arranged in the column direction and the row direction of the second display substrate 10B, and the electrodes of the green LED 23 are applied to the second display substrate 10B. It connects with all the electrodes 124b (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図8(d)に示すように、緑色LEDウエーハ22のエピタキシー基板221に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第二のディスプレー基板10Bに位置付けられた緑色LED23のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し、該緑色LED23をエピタキシー基板221から剥離して第二のディスプレー基板10Bに配設するLED配設工程を実施する。なお、該LED配設工程についても、対象となるLEDが緑色LED23であること以外は、第1のステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、電極124bに対して電極が連結された全ての緑色LED23に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図8(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第二のディスプレー基板10B上の各電極124bに緑色LED23が配設された状態となる。上記した第二のディスプレー基板10Bに対して緑色LED23を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第2のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 8D, the wavelength of the green LED wafer 22 is such that it has transparency to the epitaxy substrate 221 and absorbs to the buffer layer BF. The buffer layer BF of the green LED 23 positioned on the second display substrate 10B is irradiated with the laser beam LB2 to destroy the buffer layer BF, and the green LED 23 is peeled off from the epitaxy substrate 221 and disposed on the second display substrate 10B. The LED disposing step is performed. The LED disposing step is the same as the first step except that the target LED is the green LED 23, and therefore a detailed description thereof will be omitted. If the irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the green LEDs 23 connected to the electrode 124b, the wafer holding ring 52 is raised (see FIG. 8E). As a result, the LED disposing step is completed, and the green LED 23 is disposed on each electrode 124b on the second display substrate 10B. The electrode connection process for disposing the green LED 23 on the second display substrate 10B and the LED disposition process are referred to as a “second step”.

該第2のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図中手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、緑色LED23が配設された第二のディスプレー基板10Bを取り出し、該保持フレーム64の段差部64a上に、LEDが何も配設されていない第三のディスプレー基板10Cの電極124が形成された側を上方にして載置し、図示しない吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第三のディスプレー基板10Cを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第三のディスプレー基板10Cを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第三のディスプレー基板10Cの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   When the second step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the front substrate mounting region in the figure by operating the moving means 43. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, the second display substrate 10B provided with the green LED 23 is taken out, and the holding frame 64 is removed. The third display substrate 10C on which no LED is arranged is placed on the stepped portion 64a with the side where the electrode 124 is formed facing upward, and a suction means (not shown) is operated to suck the suction hole 64b. A suction force is applied to and held. If the third display substrate 10C is sucked and held on the holding frame 64, the third display substrate 10C sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the above-described imaging means 48, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment for aligning the optical device 44a with the processing position of the third display substrate 10C is executed.

ここで、本ステップでは、第2のステップで保持リング52に保持された緑色LEDウエーハ22をそのまま用いるため、図8(e)で示す状態に維持されている。つまり、緑色LEDウエーハ22の裏面22b側が上方に露出され、緑色LED23が形成された表面22aが下方を向いた状態で維持されている。この状態で、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第三のディスプレー基板10Cを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第三のディスプレー基板10Cがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第三のディスプレー基板10Cの高さ位置よりも所定量高い位置に維持されているウエーハ保持リング52を下降させる(図9(a)、(b)を参照)。このときの緑色LEDウエーハ22と第三のディスプレー基板10Cとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図9(a)から理解されるように、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23は、6つおきに第二のディスプレー基板10Bに対して既に配設した後であり、第三のディスプレー基板10Cの表面10Caに向けて下降させることによって、緑色LEDウエーハ22に残っている緑色LED23のうち図中最も左側の緑色LED23の電極が、第三のディスプレー基板10Cの表面10Baにおいて対応する最も左側の電極124bと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   Here, in this step, since the green LED wafer 22 held by the holding ring 52 in the second step is used as it is, the state shown in FIG. 8E is maintained. That is, the back surface 22b side of the green LED wafer 22 is exposed upward, and the front surface 22a on which the green LED 23 is formed is maintained facing downward. In this state, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the third display substrate 10 </ b> C held by the holding frame 64 is moved to the condenser 44 a and the wafer holding ring 52. Position directly below. When the third display substrate 10C is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 maintained at a position higher by a predetermined amount than the height position of the third display substrate 10C is lowered. (See FIGS. 9A and 9B). The green LED 23 of the green LED wafer 22 is understood from FIG. 9 (a), which specifically shows the positional relationship when the green LED wafer 22 and the third display substrate 10C are viewed from the side in the column direction. Are already arranged on the second display substrate 10B every six, and are lowered toward the surface 10Ca of the third display substrate 10C, whereby the green LEDs 23 remaining on the green LED wafer 22 are removed. Among them, the electrode of the leftmost green LED 23 in the drawing is positioned so as to face and contact the corresponding leftmost electrode 124b on the surface 10Ba of the third display substrate 10C (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第三のディスプレー基板10Cの電極124bに、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23が位置付けられて、緑色LED23側のアノード電極、カソード電極が第三のディスプレー基板10Cの2つの電極124bに当接させられたならば、第2のステップと同様に電極連結工程が実施される(図9(c)を参照。)。なお、上記第2のステップに対し、電極が連結される緑色LED23の位置が異なること以外は第2のステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第三のディスプレー基板10Cの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124bに対応する緑色LED23に対してレーザー光線LB1を照射し、緑色LED23の電極が第三のディスプレー基板10Cの全ての電極124bに連結される(電極連結工程)。   Through the LED wafer positioning step, the green LED 23 of the green LED wafer 22 is positioned on the electrode 124b of the third display substrate 10C, and the anode electrode and the cathode electrode on the green LED 23 side are the two electrodes of the third display substrate 10C. If it is made to contact | abut to 124b, an electrode connection process will be implemented like a 2nd step (refer FIG.9 (c)). In addition, since it is the same as that of the electrode connection process of a 2nd step except the position of the green LED 23 to which an electrode is connected with respect to the said 2nd step, specific description is abbreviate | omitted. In this way, the laser beam LB1 is applied to the green LEDs 23 corresponding to all the electrodes 124b arranged in the column direction and the row direction of the third display substrate 10C, and the electrodes of the green LED 23 are applied to the third display substrate 10C. It connects with all the electrodes 124b (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図9(d)に示すように、緑色LEDウエーハ22のエピタキシー基板221に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第二のディスプレー基板10Bに位置付けられた緑色LED23のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し該緑色LED23をエピタキシー基板221から剥離して第三のディスプレー基板10Cに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、対象となる緑色LED23の位置が異なること以外は、第2のステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第三のディスプレー基板10C側の電極124bに対して電極が連結された全ての緑色LED23に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図9(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第三のディスプレー基板10C上の各電極124bに緑色LED23が配設された状態となる。上記した第三のディスプレー基板10Cに対して緑色LED23を配設するための上記電極連結工程、及びLED配設工程を「第3のステップ」とする。なお、この時点では、上記した第2のステップにより得られる第二のディスプレー基板10Bと、本第3のステップにより得られる第三のディスプレー基板10Cは、全く同一の構成となっている。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 9 (d), the wavelength of the green LED wafer 22 is such that it has transparency to the epitaxy substrate 221 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is irradiated to the buffer layer BF of the green LED 23 positioned on the second display substrate 10B to destroy the buffer layer BF, and the green LED 23 is peeled off from the epitaxy substrate 221 and disposed on the third display substrate 10C. An LED arrangement process is performed. In addition, since this LED arrangement | positioning process is the same as that of a 2nd step except the position of the green LED 23 used as object, specific description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the green LEDs 23 connected to the electrode 124b on the third display substrate 10C side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 9 ( See e).). As a result, the LED arrangement process is completed, and the green LED 23 is arranged on each electrode 124b on the third display substrate 10C. The electrode connecting step and the LED disposing step for disposing the green LED 23 on the third display substrate 10C are referred to as a “third step”. At this point, the second display substrate 10B obtained by the second step and the third display substrate 10C obtained by the third step have the same configuration.

該第3のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、第三のディスプレー基板10Cを取り外し、該保持フレーム64の段差部64a上に、LEDが何も配設されていない第四のディスプレー基板10Dの電極124が形成された側を上方にして載置し、図示しない吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第四のディスプレー基板10Dを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第四のディスプレー基板10Dを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第四のディスプレー基板10Dの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   When the third step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, the third display substrate 10C is removed, and the step 64a of the holding frame 64 is The fourth display substrate 10D on which no LED is arranged is placed with the side where the electrode 124 is formed facing upward, and a suction means (not shown) is operated to apply a suction force to the suction hole 64b. Hold by suction. If the fourth display substrate 10D is sucked and held on the holding frame 64, the fourth display substrate 10D sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the collection of the laser beam irradiation means 44 is performed. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the fourth display substrate 10D.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第3のステップを実行している際に保持されていた緑色LEDウエーハ22を取り出し、青色LEDウエーハ24を載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The green LED held when the LED wafer holding means 50 is in the state shown in FIG. 2B and the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped and the third step is executed. The wafer 22 is taken out and a blue LED wafer 24 is placed.

該段差部52aに青色LEDウエーハ24を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し青色LEDウエーハ24を吸引保持する。青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて青色LEDウエーハ24の裏面24b側を上方に露出させ、青色LED24が形成された表面24aが下方を向くように方向を転換する。青色LEDウエーハ24をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第四のディスプレー基板10Dを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第四のディスプレー基板10Dがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第四のディスプレー基板10Dの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、青色LEDウエーハ24と第四のディスプレー基板10Dとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図10(a)、(b)から理解されるように、青色LEDウエーハ24を第四のディスプレー基板10Dの表面10Daに向けて下降させることにより、青色LEDウエーハ24の各青色LED25側の電極が、第四のディスプレー基板10Dの表面10Daにおいて対応する電極124cと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the blue LED wafer 24 is placed on the stepped portion 52a, a suction unit (not shown) is operated to suck the blue LED wafer 24 by suction from the suction hole 52b. When the blue LED wafer 24 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 24b side of the blue LED wafer 24 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 24a on which the blue LED 24 is formed faces downward. If the blue LED wafer 24 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the positional information obtained by executing the alignment, and the fourth display substrate 10D held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the fourth display substrate 10D is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the fourth display substrate 10D by a predetermined amount is moved. Lower. At this time, the blue LED wafer 24 and the fourth display substrate 10D are seen from the side in the column direction, and as shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b), the blue LED wafer is understood. 24 is lowered toward the surface 10Da of the fourth display substrate 10D, so that the electrodes on the blue LED 25 side of the blue LED wafer 24 face the corresponding electrodes 124c on the surface 10Da of the fourth display substrate 10D. It is positioned in contact (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第四のディスプレー基板10Dの電極124cに、青色LEDウエーハ24の青色LED25が位置付けられて、青色LED25側のアノード電極、カソード電極が第四のディスプレー基板10Dの2つの電極124cに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図10(c)を参照。)。なお、上記の各ステップに対しては、電極が連結されるLEDが青色LED25であること、青色LED25の電極が連結される第四のディスプレー基板10D側の電極が電極124cであること以外は上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第四のディスプレー基板10Dの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124cに対応する青色LED25に対してレーザー光線LB1を照射し、青色LED25の電極が第四のディスプレー基板10Dの全ての電極124cに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is positioned on the electrode 124c of the fourth display substrate 10D, and the anode electrode and the cathode electrode on the blue LED 25 side are the two electrodes of the fourth display substrate 10D. If it is made to contact | abut to 124c, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.10 (c)). For each of the steps described above, the LED is connected to the blue LED 25, and the electrode on the fourth display substrate 10D to which the electrode of the blue LED 25 is connected is the electrode 124c. Since it is the same as the electrode connection process of each step, detailed description is abbreviate | omitted. In this way, the laser beam LB1 is applied to the blue LEDs 25 corresponding to all the electrodes 124c arranged in the column direction and the row direction of the fourth display substrate 10D, and the electrodes of the blue LED 25 are applied to the fourth display substrate 10D. It connects with all the electrodes 124c (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図10(d)に示すように、青色LEDウエーハ24のエピタキシー基板241に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第四のディスプレー基板10Dに位置付けられた青色LED25のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し該青色LED25をエピタキシー基板241から剥離して第四のディスプレー基板10Dに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、対象となるLEDが青色LED25であること以外は、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第四のディスプレー基板10D側の電極124cに対して電極が連結された全ての青色LED25に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図10(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第四のディスプレー基板10D上の全ての電極124cに青色LED25が配設された状態となる。上記した第四のディスプレー基板10Dに対して青色LED25を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第4のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 10D, the wavelength of the blue LED wafer 24 is such that it is transmissive to the epitaxy substrate 241 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is irradiated to the buffer layer BF of the blue LED 25 positioned on the fourth display substrate 10D to destroy the buffer layer BF, and the blue LED 25 is peeled off from the epitaxy substrate 241 and disposed on the fourth display substrate 10D. An LED arrangement process is performed. In addition, about this LED arrangement | positioning process, since the LED used as object is the blue LED25, it is the same as that of said each step, Therefore Detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed for all the blue LEDs 25 connected to the electrode 124c on the fourth display substrate 10D side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 10 ( See e).). Thereby, the LED arrangement process is completed, and the blue LEDs 25 are arranged on all the electrodes 124c on the fourth display substrate 10D. The electrode connection process for arranging the blue LED 25 on the fourth display substrate 10D and the LED arrangement process are referred to as a “fourth step”.

該第4のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、第四のディスプレー基板10Dを取り外し、該保持フレーム64の段差部64a上に、第1のステップによって赤色LED21が配設された第一のディスプレー基板10Aを載置し、図示しない吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第一のディスプレー基板10Aを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第一のディスプレー基板10Aを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第一のディスプレー基板10Aの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   When the fourth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, the fourth display substrate 10D is removed, and the stepped portion 64a of the holding frame 64 is In the first step, the first display substrate 10A on which the red LEDs 21 are arranged is placed, and a suction means (not shown) is operated to suck and hold the suction holes 64b by applying a suction force. If the first display substrate 10A is sucked and held on the holding frame 64, the first display substrate 10A sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the first display substrate 10A.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動して、さらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第4のステップを実行している際に保持されていた青色LEDウエーハ24を取り出し、第2、及び3のステップにおいて緑色LED23が移設された緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. Then, the LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, and the blue color held when the fourth step is executed. The LED wafer 24 is taken out, and the green LED wafer 22 to which the green LED 23 is transferred in the second and third steps is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに緑色LEDウエーハ22を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し緑色LEDウエーハ22を吸引保持状態とする。緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて緑色LEDウエーハ22の裏面22b側を上方に露出させ、緑色LED22が形成された表面22aが下方を向くように方向を転換する。緑色LEDウエーハ22をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第一のディスプレー基板10Aを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第一のディスプレー基板10Aがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第一のディスプレー基板10Aの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、緑色LEDウエーハ22と第一のディスプレー基板10Aとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図11(a)及び(b)から理解されるように、緑色LEDウエーハ22は、左から2列の緑色LED23、及びそこから列方向でみて4列置きに2列の緑色LED23が既に上記ディスプレー基板に移設されている。そこで、残っている4列の緑色LED23のうち左側の緑色LED23の電極が、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaの電極124bに当接するように位置付けて下降させることにより、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23側の電極が、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaにおいて対応する電極124bと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the green LED wafer 22 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the green LED wafer 22 from the suction hole 52b and bring the green LED wafer 22 into a suction holding state. When the green LED wafer 22 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 22b side of the green LED wafer 22 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 22a on which the green LED 22 is formed faces downward. If the green LED wafer 22 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the first display substrate 10A held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the first display substrate 10A is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the first display substrate 10A by a predetermined amount is moved. Lower. At this time, as understood from FIGS. 11 (a) and 11 (b) that specifically show the positional relationship when the green LED wafer 22 and the first display substrate 10A are viewed from the side in the column direction, the green LED wafer is understood. 22, two rows of green LEDs 23 from the left, and two rows of green LEDs 23 are already transferred to the display substrate every four rows when viewed in the row direction. Therefore, the green LED 23 on the left side among the remaining four rows of green LEDs 23 is positioned so as to be in contact with the electrode 124b of the surface 10Aa of the first display substrate 10A, thereby lowering the green color of the green LED wafer 22. The electrode on the LED 23 side is positioned in a state where it faces and contacts the corresponding electrode 124b on the surface 10Aa of the first display substrate 10A (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第一のディスプレー基板10Aの電極124bに、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23が位置付けられて、緑色LED23側のアノード電極、カソード電極が第一のディスプレー基板10Aの2つの電極124bに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図11(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第一のディスプレー基板10Aの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124bに対応する緑色LED23に対してレーザー光線LB1を照射し、緑色LED23の電極が第一のディスプレー基板10Aの全ての電極124bに連結される(電極連結工程)。   Through the LED wafer positioning step, the green LED 23 of the green LED wafer 22 is positioned on the electrode 124b of the first display substrate 10A, and the anode electrode and the cathode electrode on the green LED 23 side are the two electrodes of the first display substrate 10A. If it is made to contact | abut to 124b, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.11 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the green LEDs 23 corresponding to all the electrodes 124b arranged in the column direction and the row direction of the first display substrate 10A, and the electrodes of the green LED 23 are applied to the first display substrate 10A. It connects with all the electrodes 124b (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図11(d)に示すように、緑色LEDウエーハ23のエピタキシー基板221に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第一のディスプレー基板10Aに位置付けられた緑色LED23のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し該緑色LED23をエピタキシー基板221から剥離して第一のディスプレー基板10Aに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第一のディスプレー基板10A側の電極124bに対して電極が連結された全ての緑色LED23に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図11(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第一のディスプレー基板10A上の全ての電極124bに緑色LED23が配設され、その結果、第一のディスプレー基板10Aには、赤色LED21、及び緑色LED23が配設された状態となる。上記した第一のディスプレー基板10Aに対して緑色LED23を配設するための上記電極連結工程、及びLED配設工程を「第5のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 11 (d), the wavelength of the green LED wafer 23 is transmissive to the epitaxy substrate 221 and absorbs to the buffer layer BF. The buffer layer BF of the green LED 23 positioned on the first display substrate 10A is irradiated with the laser beam LB2 to destroy the buffer layer BF, and the green LED 23 is peeled off from the epitaxy substrate 221 and disposed on the first display substrate 10A. An LED arrangement process is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the green LEDs 23 connected to the electrode 124b on the first display substrate 10A side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 11 ( See e).). As a result, the LED disposing step is completed, and the green LEDs 23 are disposed on all the electrodes 124b on the first display substrate 10A. As a result, the red LED 21 and the green LED 23 are disposed on the first display substrate 10A. Is in a state of being disposed. The electrode connecting step and the LED disposing step for disposing the green LED 23 on the first display substrate 10A are referred to as “fifth step”.

該第5のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、第一のディスプレー基板10Aを取り外す。ここで、次に該保持フレーム64の段差部64a上に搭載されるディスプレー基板は、上記した第2のステップ、又は第3のステップによって緑色LED23が配設された第二のディスプレー基板10B、又は第三のディスプレー基板10Cのいずれか一方から選択し、その一方のディスプレー基板を載置する。上記したように、第2のステップ、及び第3のステップによって得られる第二、第三のディスプレー基板10B、10Cは、同一の構成を備えているため、いずれを選んでも変わりはない。よって、本実施形態では、第二のディスプレー基板10Bを「一方のディスプレー基板」として選択し、保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。第二のディスプレー基板10Bを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第二のディスプレー基板10Bを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第二のディスプレー基板10Bの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   When the fifth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the first display substrate 10A is removed. Here, the display substrate mounted next on the stepped portion 64a of the holding frame 64 is the second display substrate 10B on which the green LED 23 is disposed in the second step or the third step described above, or One of the third display substrates 10C is selected and the one display substrate is placed. As described above, since the second and third display substrates 10B and 10C obtained by the second step and the third step have the same configuration, any one is selected. Therefore, in the present embodiment, the second display substrate 10B is selected as “one display substrate”, placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and suction is applied to the suction holes 64b to perform suction. Hold. If the second display substrate 10B is sucked and held on the holding frame 64, the second display substrate 10B sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the above-described imaging means 48, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the second display substrate 10B.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第5のステップにおいて使用されていた緑色LEDウエーハ22を取り出し、第4のステップを実行している際に保持されていた青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The LED wafer holding means 50 is set to the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, and the green LED wafer 22 used in the fifth step is taken out. The blue LED wafer 24 held during the execution of step 4 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに青色LEDウエーハ24を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し青色LEDウエーハ24を吸引保持状態とする。青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて青色LEDウエーハ24の裏面24b側を上方に露出させ、青色LED25が形成された表面24aが下方を向くように方向を転換する。青色LEDウエーハ24をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第二のディスプレー基板10Bを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第二のディスプレー基板10Bがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第二のディスプレー基板10Bの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、青色LEDウエーハ24と第二のディスプレー基板10Bとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図12(a)、(c)から理解されるように、青色LEDウエーハ24の青色LED25は、第4のステップにおいて6つおきに第四のディスプレー基板10Dに対して既に配設した後であり、第二のディスプレー基板10Bの表面10Baに向けて下降させることによって、青色LEDウエーハ24に残っている青色LED25のうち図中最も左側の青色LED25の電極が、第二のディスプレー基板10Bの表面10Baにおいて対応する最も左側の電極124cと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the blue LED wafer 24 is placed on the stepped portion 52a, a suction unit (not shown) is operated to suck the blue LED wafer 24 from the suction hole 52b. When the blue LED wafer 24 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 24b side of the blue LED wafer 24 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 24a on which the blue LED 25 is formed faces downward. If the blue LED wafer 24 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the second display substrate 10B held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. When the second display substrate 10B is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher by a predetermined amount than the height position of the second display substrate 10B is moved. Lower. At this time, the blue LED wafer 24 and the second display substrate 10B are seen from the side in the column direction, and as shown in FIGS. 12A and 12C, the blue LED wafer is understood. Twenty-four blue LEDs 25 are already disposed on the fourth display substrate 10D every six in the fourth step, and the blue LEDs 25 are lowered toward the surface 10Ba of the second display substrate 10B. Of the blue LEDs 25 remaining on the LED wafer 24, the electrode of the leftmost blue LED 25 in the figure is positioned in a state where it faces and contacts the corresponding leftmost electrode 124c on the surface 10Ba of the second display substrate 10B ( LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第二のディスプレー基板10Bの電極124cに、青色LEDウエーハ24の青色LED25が位置付けられて、青色LED25側のアノード電極、カソード電極が第二のディスプレー基板10Bの2つの電極124cに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図12(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第二のディスプレー基板10Bの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124cに対応する青色LED25に対してレーザー光線LB1を照射し、青色LED25の電極が第二のディスプレー基板10Bの全ての電極124cに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is positioned on the electrode 124c of the second display substrate 10B, and the anode electrode and the cathode electrode on the blue LED 25 side are the two electrodes of the second display substrate 10B. If it is made to contact | abut to 124c, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.12 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the blue LEDs 25 corresponding to all the electrodes 124c arranged in the column direction and the row direction of the second display substrate 10B, and the electrodes of the blue LED 25 are applied to the second display substrate 10B. It connects with all the electrodes 124c (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図12(d)に示すように、青色LEDウエーハ24のエピタキシー基板241に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第二のディスプレー基板10Bに位置付けられた青色LED25のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し該青色LED25をエピタキシー基板241から剥離して第二のディスプレー基板10Bに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第二のディスプレー基板10B側の電極124cに対して電極が連結された全ての青色LED25に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図12(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第二のディスプレー基板10B上の全ての電極124cに青色LED25が配設され、その結果、第二のディスプレー基板10Bには、緑色LED23、及び青色LED25が配設された状態となる。上記した第二のディスプレー基板10Bに対して青色LED25を配設するための上記電極連結工程、及びLED配設工程を「第6のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 12 (d), the wavelength of the blue LED wafer 24 is such that it is transparent to the epitaxy substrate 241 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is irradiated to the buffer layer BF of the blue LED 25 positioned on the second display substrate 10B to destroy the buffer layer BF, and the blue LED 25 is peeled off from the epitaxy substrate 241 and disposed on the second display substrate 10B. An LED arrangement process is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the blue LEDs 25 connected to the electrode 124c on the second display substrate 10B side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 12 ( See e).). Thus, the LED disposing step is completed, and the blue LEDs 25 are disposed on all the electrodes 124c on the second display substrate 10B. As a result, the green LEDs 23 and the blue LEDs 25 are disposed on the second display substrate 10B. Is in a state of being disposed. The electrode connecting step and the LED disposing step for disposing the blue LED 25 on the second display substrate 10B are referred to as “sixth step”.

該第6のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第二のディスプレー基板10Aを取り外す。ここで、次に該保持フレーム64の段差部64a上に搭載されるディスプレー基板は、上記した第6のステップにおいて、第二のディスプレー基板10B、第三のディスプレー基板10Cのうち選択されなかった第三のディスプレー基板10Cを「他方のディスプレー基板」として選択し、該第三のディスプレー基板10Cを載置する。第三のディスプレー基板10Cを保持フレーム64に載置したならば、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。なお、上記した第6のステップにおいて、第二のディスプレー基板10Bではなく、第三のディスプレー基板10Cが選択されていた場合は、本ステップにおいて、第二のディスプレー基板10Bが他方のディスプレー基板として選択される。   When the sixth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the second display substrate 10A placed thereon is removed. Here, the display substrate mounted on the stepped portion 64a of the holding frame 64 is not selected from the second display substrate 10B and the third display substrate 10C in the sixth step. The third display substrate 10C is selected as “the other display substrate”, and the third display substrate 10C is placed thereon. When the third display substrate 10C is placed on the holding frame 64, the suction means is operated to suck and hold the suction holes 64b by applying a suction force. If the third display substrate 10C is selected instead of the second display substrate 10B in the sixth step, the second display substrate 10B is selected as the other display substrate in this step. Is done.

第三のディスプレー基板10Cを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第三のディスプレー基板10Bを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第二のディスプレー基板10Bの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the third display substrate 10C is sucked and held on the holding frame 64, the third display substrate 10B sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the collection of the laser beam irradiation means 44 is performed. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the second display substrate 10B.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第6のステップにおいて使用されていた青色LEDウエーハ24を取り出し、第1のステップを実行している際に保持されていた赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, and the blue LED wafer 24 used in the sixth step is taken out. The red LED wafer 20 held during the execution of step 1 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに赤色LEDウエーハ20を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し赤色LEDウエーハ20を吸引保持状態とする。赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて赤色LEDウエーハ20の裏面20b側を上方に露出させ、赤色LED21が形成された表面20aが下方を向くように方向を転換する。赤色LEDウエーハ20をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第三のディスプレー基板10Cを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第三のディスプレー基板10Cがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第三のディスプレー基板10Cの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、赤色LEDウエーハ20と第三のディスプレー基板10Cとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図13(a)から理解されるように、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21は、第1のステップにおいて6つおきに第一のディスプレー基板10Aに対して既に配設した後である。すなわち、赤色LEDウエーハ20上には、1列を飛ばして、5列ずつ赤色LED21が残っている。ここで、第三のディスプレー基板10Cの表面10Baには、既に電極124bに対応して緑色LED23が配設されているため、赤色LEDウエーハ20の最も左側の赤色LED21は、第三のディスプレー基板10Cの最も左側の電極124aに位置付けることはできない。そこで、赤色LEDウエーハ20に残っている最も左側の5列の赤色LED21のうち右側の赤色LED21を、図13(a)に示すように、第三のディスプレー基板10Cの最も左側の電極124aに位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させることによって、赤色LEDウエーハ20に残っている赤色LED21が、第三のディスプレー基板10Cに既に配設されている緑色LED23と重ならず表面10Aaにおいて対応する各電極124aと対面し当接した状態に位置付けられる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the red LED wafer 20 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the red LED wafer 20 from the suction hole 52b and bring the red LED wafer 20 into a suction holding state. When the red LED wafer 20 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the rear surface 20b side of the red LED wafer 20 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 20a on which the red LED 21 is formed faces downward. If the red LED wafer 20 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the third display substrate 10C held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the third display substrate 10C is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the third display substrate 10C by a predetermined amount. Lower. At this time, the red LED 21 of the red LED wafer 20 is understood as shown in FIG. 13A, which specifically shows the positional relationship when the red LED wafer 20 and the third display substrate 10C are viewed from the side in the column direction. Is after having already been disposed on the first display substrate 10A every six in the first step. That is, one row is skipped on the red LED wafer 20 and the red LEDs 21 remain in five rows. Here, since the green LED 23 is already arranged on the surface 10Ba of the third display substrate 10C corresponding to the electrode 124b, the leftmost red LED 21 of the red LED wafer 20 is the third display substrate 10C. Cannot be positioned on the leftmost electrode 124a. Therefore, among the leftmost five rows of red LEDs 21 remaining on the red LED wafer 20, the right red LED 21 is positioned on the leftmost electrode 124a of the third display substrate 10C as shown in FIG. . By lowering the wafer holding ring 52 in such a state, the red LED 21 remaining on the red LED wafer 20 corresponds to the surface 10Aa without overlapping with the green LED 23 already arranged on the third display substrate 10C. Each electrode 124a is positioned so as to face and contact each other (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第三のディスプレー基板10Cの電極124aに、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21が位置付けられて、赤色LED21側のアノード電極、カソード電極が第三のディスプレー基板10Cの2つの電極124aに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図13(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第三のディスプレー基板10Cの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124aに対応する赤色LED21に対してレーザー光線LB1を照射し、赤色LED21の電極が第三のディスプレー基板10Cの全ての電極124aに連結される(電極連結工程)。   Through the LED wafer positioning step, the red LED 21 of the red LED wafer 20 is positioned on the electrode 124a of the third display substrate 10C, and the anode electrode and the cathode electrode on the red LED 21 side are the two electrodes of the third display substrate 10C. If it is made to contact | abut to 124a, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.13 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the red LEDs 21 corresponding to all the electrodes 124a arranged in the column direction and the row direction of the third display substrate 10C, and the electrodes of the red LED 21 are applied to the third display substrate 10C. It connects with all the electrodes 124a (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図13(d)に示すように、赤色LEDウエーハ20のエピタキシー基板201に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第三のディスプレー基板10Cに位置付けられた赤色LED21のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し赤色LED21をエピタキシー基板201から剥離して第三のディスプレー基板10Cに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第三のディスプレー基板10C側の電極124aに対して電極が連結された全ての赤色LED21に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図13(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第三のディスプレー基板10C上の全ての電極124aに赤色LED21が配設され、その結果、第三のディスプレー基板10Cには、赤色LED21及び緑色LED23が配設された状態となる。上記した第三のディスプレー基板10Cに対して赤色LED21を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第7のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 13 (d), the wavelength of the red LED wafer 20 is transmissive to the epitaxy substrate 201 and has absorption to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is applied to the buffer layer BF of the red LED 21 positioned on the third display substrate 10C to destroy the buffer layer BF, and the red LED 21 is peeled off from the epitaxy substrate 201 and disposed on the third display substrate 10C. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the red LEDs 21 connected to the electrode 124a on the third display substrate 10C side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 13 ( See e).). As a result, the LED disposing step is completed, and the red LEDs 21 are disposed on all the electrodes 124a on the third display substrate 10C. As a result, the red LEDs 21 and the green LEDs 23 are disposed on the third display substrate 10C. It will be in the state where it was arranged. The electrode connecting step for arranging the red LED 21 on the third display substrate 10C and the LED arranging step are referred to as “seventh step”.

該第7のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第三のディスプレー基板10Cを取り外す。第三のディスプレー基板10Cを取り外したならば、第4のステップにて使用された第四のディスプレー基板10Dを載置する。上記したように、第四のディスプレー基板10Dの電極124cには、既に青色LED25が配設されている。第四のディスプレー基板10Dを保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。   When the seventh step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the third display substrate 10C placed thereon is removed. When the third display substrate 10C is removed, the fourth display substrate 10D used in the fourth step is placed. As described above, the blue LED 25 is already disposed on the electrode 124c of the fourth display substrate 10D. The fourth display substrate 10D is placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and a suction force is applied to the suction hole 64b to hold it by suction.

第四のディスプレー基板10Dを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第四のディスプレー基板10Dを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第四のディスプレー基板10Dの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the fourth display substrate 10D is sucked and held on the holding frame 64, the fourth display substrate 10D sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the collection of the laser beam irradiation means 44 is performed. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the fourth display substrate 10D.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第7のステップにおいて使用されていた赤色LEDウエーハ21を取り出し、第5のステップにて使用された緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The LED wafer holding means 50 is set to the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, the red LED wafer 21 used in the seventh step is taken out, and the first The green LED wafer 22 used in step 5 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに緑色LEDウエーハ22を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し緑色LEDウエーハ22を吸引保持状態とする。緑色LEDウエーハ22をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて緑色LEDウエーハ22の裏面22b側を上方に露出させ、緑色LED23が形成された表面22aが下方を向くように方向を転換する。緑色LEDウエーハ22をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第四のディスプレー基板10Dを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第四のディスプレー基板10Dがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第四のディスプレー基板10Dの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、緑色LEDウエーハ22と第四のディスプレー基板10Dとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図14(a)から理解されるように、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23は、第2、3、5のステップにおいて第一〜三のディスプレー基板10A〜10Cに対して既に配設した後である。すなわち、緑色LEDウエーハ22上には、3列を飛ばして、3列ずつ緑色LED23が残っている。ここで、第四のディスプレー基板10Dの表面10Daには、既に電極124cに対応して青色LED25が配設されているため、該3列に並んだ緑色LEDウエーハ23の最も左側の緑色LED23を、第四のディスプレー基板10Dの最も左側の電極124bにそのまま位置付けることはできない。そこで、緑色LEDウエーハ22に残っている最も左側の3列の緑色LED23のうち右側の緑色LED23を、図14(a)に示すように、第四のディスプレー基板10Dの最も左側の電極124bの上方に位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させる(図14(b)を参照。)ことによって、緑色LEDウエーハ22に残っている緑色LED23を、第四のディスプレー基板10Dの表面10Daにおいて対応する各電極124bと対面し当接した状態に位置付けることができる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the green LED wafer 22 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the green LED wafer 22 from the suction hole 52b and bring the green LED wafer 22 into a suction holding state. When the green LED wafer 22 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 22b side of the green LED wafer 22 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 22a on which the green LED 23 is formed faces downward. If the green LED wafer 22 is thus rotated, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the fourth display substrate 10D held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the fourth display substrate 10D is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the fourth display substrate 10D by a predetermined amount is moved. Lower. At this time, the green LED 23 of the green LED wafer 22 is understood as shown in FIG. Is after the first to third display substrates 10A to 10C have already been arranged in the second, third and fifth steps. That is, on the green LED wafer 22, three rows are skipped, and the green LED 23 remains in three rows. Here, since the blue LED 25 is already disposed on the surface 10Da of the fourth display substrate 10D corresponding to the electrode 124c, the leftmost green LED 23 of the green LED wafers 23 arranged in the three rows is arranged. It cannot be positioned as it is on the leftmost electrode 124b of the fourth display substrate 10D. Accordingly, among the leftmost three rows of green LEDs 23 remaining on the green LED wafer 22, the right green LED 23 is positioned above the leftmost electrode 124b of the fourth display substrate 10D as shown in FIG. Position. By lowering the wafer holding ring 52 in such a state (see FIG. 14B), the green LEDs 23 remaining on the green LED wafer 22 are made to correspond to each other on the surface 10Da of the fourth display substrate 10D. The electrode 124b can be positioned facing the electrode 124b (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第四のディスプレー基板10Dの電極124bに、緑色LEDウエーハ22の緑色LED23が位置付けられて、緑色LED23側のアノード電極、カソード電極が第四のディスプレー基板10Dの2つの電極124bに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図14(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第四のディスプレー基板10Dの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124bに対応する緑色LED23に対してレーザー光線LB1を照射し、緑色LED23の電極が第四のディスプレー基板10Dの全ての電極124bに連結される(電極連結工程)。   Through the LED wafer positioning step, the green LED 23 of the green LED wafer 22 is positioned on the electrode 124b of the fourth display substrate 10D, and the anode electrode and the cathode electrode on the green LED 23 side are the two electrodes of the fourth display substrate 10D. If it is made to contact | abut to 124b, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.14 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the green LEDs 23 corresponding to all the electrodes 124b arranged in the column direction and the row direction of the fourth display substrate 10D, and the electrodes of the green LED 23 are applied to the fourth display substrate 10D. It connects with all the electrodes 124b (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図14(d)に示すように、緑色LEDウエーハ22のエピタキシー基板221に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第四のディスプレー基板10Dに位置付けられた緑色LED23のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し緑色LED23をエピタキシー基板221から剥離して第四のディスプレー基板10Dに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第四のディスプレー基板10D側の電極124bに対して電極が連結された全ての緑色LED23に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図14(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第四のディスプレー基板10D上の全ての電極124bに緑色LED23が配設され、その結果、第四のディスプレー基板10Dには、緑色LED23及び青色LED25が配設された状態となる。上記した第四のディスプレー基板10Dに対して緑色LED23を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第8のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 14 (d), the wavelength of the green LED wafer 22 is such that it has transparency to the epitaxy substrate 221 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is applied to the buffer layer BF of the green LED 23 positioned on the fourth display substrate 10D to destroy the buffer layer BF, and the green LED 23 is peeled off from the epitaxy substrate 221 and disposed on the fourth display substrate 10D. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation with the laser beam LB2 is performed on all the green LEDs 23 connected to the electrode 124b on the fourth display substrate 10D side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 14 ( See e).). As a result, the LED disposing step is completed, and the green LEDs 23 are disposed on all the electrodes 124b on the fourth display substrate 10D. As a result, the green LED 23 and the blue LED 25 are disposed on the fourth display substrate 10D. It will be in the state where it was arranged. The electrode connection process for arranging the green LED 23 and the LED arrangement process for the fourth display substrate 10D described above are referred to as an “eighth step”.

該第8のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第四のディスプレー基板10Dを取り外す。第四のディスプレー基板10Dを取り外したならば、第5のステップにて使用された第一のディスプレー基板10Aを載置する。上記したように、第一のディスプレー基板10Aの電極124a、124bには、既に赤色LED21、緑色LED23が配設されている。第一のディスプレー基板10Aを保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。   When the eighth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the mounted fourth display substrate 10D is removed. If the fourth display substrate 10D is removed, the first display substrate 10A used in the fifth step is placed. As described above, the red LED 21 and the green LED 23 are already arranged on the electrodes 124a and 124b of the first display substrate 10A. The first display substrate 10A is placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and the suction force is applied to the suction holes 64b to be sucked and held.

第一のディスプレー基板10Aを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第一のディスプレー基板10Aを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第一のディスプレー基板10Aの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the first display substrate 10A is sucked and held on the holding frame 64, the first display substrate 10A sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the first display substrate 10A.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第8のステップにおいて使用されていた緑色LEDウエーハ22を取り出し、第6のステップで使用された青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. Then, the LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, and the green LED wafer 22 used in the eighth step is taken out, The blue LED wafer 24 used in step 6 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに青色LEDウエーハ24を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し青色LEDウエーハ24を吸引保持状態とする。青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて青色LEDウエーハ24の裏面24b側を上方に露出させ、青色LED25が形成された表面24aが下方を向くように方向を転換する。青色LEDウエーハ24をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第一のディスプレー基板10Aを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第一のディスプレー基板10Aがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第一のディスプレー基板10Aの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、青色LEDウエーハ24と第一のディスプレー基板10Aとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図15(a)から理解されるように、青色LEDウエーハ24の青色LED25は、第4、6のステップにおいて第二、四のディスプレー基板10B、10Dに対して既に配設した後である。すなわち、青色LEDウエーハ24上には、2列を飛ばして、4列ずつ青色LED25が残っている。ここで、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaには、既に電極124a、124bに対応して赤色LED21、緑色LED23が配設されている。そこで、青色LEDウエーハ24に残っている最も左側の4列の青色LED25のうち左側の青色LED25を、図15(a)に示すように、第一のディスプレー基板10Aの最も左側の電極124cの上方に位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させることによって、青色LEDウエーハ24に残っている青色LED25が、第一のディスプレー基板10Aの表面10Aaにおいて対応する各電極124cと対面し当接した状態に位置付けることができる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the blue LED wafer 24 is placed on the stepped portion 52a, a suction unit (not shown) is operated to suck the blue LED wafer 24 from the suction hole 52b. When the blue LED wafer 24 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the back surface 24b side of the blue LED wafer 24 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 24a on which the blue LED 25 is formed faces downward. If the blue LED wafer 24 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the first display substrate 10A held on the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the first display substrate 10A is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the first display substrate 10A by a predetermined amount is moved. Lower. At this time, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is understood as shown in FIG. 15A, which specifically shows the positional relationship when the blue LED wafer 24 and the first display substrate 10A are viewed from the side in the column direction. Is after the second and fourth display substrates 10B and 10D have already been disposed in the fourth and sixth steps. That is, two rows are skipped on the blue LED wafer 24, and the blue LEDs 25 remain in four rows. Here, the red LED 21 and the green LED 23 are already arranged on the surface 10Aa of the first display substrate 10A corresponding to the electrodes 124a and 124b. Therefore, among the leftmost four rows of blue LEDs 25 remaining on the blue LED wafer 24, the left blue LED 25 is positioned above the leftmost electrode 124c of the first display substrate 10A as shown in FIG. Position. By lowering the wafer holding ring 52 in such a state, the blue LED 25 remaining on the blue LED wafer 24 is brought into contact with and in contact with the corresponding electrode 124c on the surface 10Aa of the first display substrate 10A. It can be positioned (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第一のディスプレー基板10Aの電極124cに、青色LEDウエーハ24の青色LED25が位置付けられて、青色LED25側のアノード電極、カソード電極が第一のディスプレー基板10Aの2つの電極124cに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図15(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第一のディスプレー基板10Aの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124cに対応する青色LED25に対してレーザー光線LB1を照射し、青色LED25の電極が第一のディスプレー基板10Aの全ての電極124cに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is positioned on the electrode 124c of the first display substrate 10A, and the anode electrode and the cathode electrode on the blue LED 25 side are the two electrodes of the first display substrate 10A. If it is made to contact | abut to 124c, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.15 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the blue LEDs 25 corresponding to all the electrodes 124c arranged in the column direction and the row direction of the first display substrate 10A, and the electrodes of the blue LED 25 are applied to the first display substrate 10A. It connects with all the electrodes 124c (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図15(d)に示すように、青色LEDウエーハ24のエピタキシー基板241に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第一のディスプレー基板10Aに位置付けられた青色LED25のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し青色LED25をエピタキシー基板241から剥離して第一のディスプレー基板10Aに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第一のディスプレー基板10A側の電極124cに対して電極が連結された全ての青色LED25に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図15(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第一のディスプレー基板10A上の全ての電極124cに青色LED25が配設され、その結果、第一のディスプレー基板10Aには、赤色LED21、緑色LED23、及び青色LED25が配設された状態となる。すなわち、第一のディスプレー基板10Aの一部11aを拡大して示す図19から明らかなように、第一のディスプレー基板10Aの電極124a、124b、124cの全てに所定のLEDが配設され、第一のディスプレー基板10Aが三色のLED光源を有するディスプレーパネルとして完成した状態となる。上記した第一のディスプレー基板10Aに対して青色LED25を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第9のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 15D, the wavelength of the blue LED wafer 24 is transmissive to the epitaxy substrate 241 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is applied to the buffer layer BF of the blue LED 25 positioned on the first display substrate 10A to destroy the buffer layer BF, and the blue LED 25 is peeled off from the epitaxy substrate 241 and disposed on the first display substrate 10A. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation with the laser beam LB2 is performed on all the blue LEDs 25 connected to the electrode 124c on the first display substrate 10A side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 15 ( See e).). As a result, the LED disposing step is completed, and the blue LEDs 25 are disposed on all the electrodes 124c on the first display substrate 10A. As a result, the red LED 21, the green LED 23, And blue LED25 will be in the state arrange | positioned. That is, as is clear from FIG. 19 showing an enlarged portion 11a of the first display substrate 10A, predetermined LEDs are arranged on all of the electrodes 124a, 124b, and 124c of the first display substrate 10A. One display substrate 10A is completed as a display panel having LED light sources of three colors. The above-described electrode connection process for arranging the blue LED 25 on the first display substrate 10A and the LED arrangement process are referred to as a “ninth step”.

該第9のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第一のディスプレー基板10Aを取り外す。第一のディスプレー基板10Aを取り外したならば、第6のステップにて使用された第二のディスプレー基板10Bを載置する。上記したように、第二のディスプレー基板10Bの電極124b、124cには、既に緑色LED23、青色LED25が配設されている。第二のディスプレー基板10Bを保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。   When the ninth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the placed first display substrate 10A is removed. When the first display substrate 10A is removed, the second display substrate 10B used in the sixth step is placed. As described above, the green LED 23 and the blue LED 25 are already arranged on the electrodes 124b and 124c of the second display substrate 10B. The second display substrate 10B is placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and the suction force is applied to the suction holes 64b to be sucked and held.

第二のディスプレー基板10Bを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第二のディスプレー基板10Bを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第二のディスプレー基板10Bの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the second display substrate 10B is sucked and held on the holding frame 64, the second display substrate 10B sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the above-described imaging means 48, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the second display substrate 10B.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第9のステップにおいて使用されていた青色LEDウエーハ24を取り出し、第7のステップで使用された赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, the blue LED wafer 24 used in the ninth step is taken out, The red LED wafer 20 used in step 7 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに赤色LEDウエーハ20を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し赤色LEDウエーハ20を吸引保持状態とする。赤色LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて赤色LEDウエーハ20の裏面20b側を上方に露出させ、赤色LED21が形成された表面20aが下方を向くように方向を転換する。赤色LEDウエーハ20をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第二のディスプレー基板10Bを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第二のディスプレー基板10Bがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第二のディスプレー基板10Bの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、赤色LEDウエーハ20と第二のディスプレー基板10Bとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図16(a)から理解されるように、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21は、第1、7のステップにおいて第一、三のディスプレー基板10A、10Cに対して既に配設した後である。すなわち、赤色LEDウエーハ20上には、2列を飛ばして4列ずつ赤色LED21が残っている。ここで、第二のディスプレー基板10Bの表面10Baには、既に電極124b、124cに対応して緑色LED23、青色LED25が配設されているため、該4列に並んだ赤色LEDウエーハ20の最も左側の赤色LED21は、第二のディスプレー基板10Bの最も左側の電極124aに位置付けることはできない。そこで、赤色LEDウエーハ20に残っている最も左側の4列の赤色LED21のうち右側の赤色LED21を、図16(a)に示すように、第二のディスプレー基板10Bの最も左側の電極124aの上方に位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させることによって、赤色LEDウエーハ20に残っている赤色LED21が、第二のディスプレー基板10Bの表面10Baにおいて対応する各電極124aと対面し当接した状態に位置付けることができる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the red LED wafer 20 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the red LED wafer 20 from the suction hole 52b and bring the red LED wafer 20 into a suction holding state. When the red LED wafer 20 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. Then, the rear surface 20b side of the red LED wafer 20 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 20a on which the red LED 21 is formed faces downward. If the red LED wafer 20 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the positional information obtained by executing the alignment, and the second display substrate 10B held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. When the second display substrate 10B is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher by a predetermined amount than the height position of the second display substrate 10B is moved. Lower. At this time, the red LED 21 of the red LED wafer 20 can be understood from FIG. 16 (a), which specifically shows the positional relationship when the red LED wafer 20 and the second display substrate 10B are viewed from the side in the column direction. Is after the first and third display substrates 10A and 10C have already been disposed. That is, on the red LED wafer 20, two rows are skipped and the red LEDs 21 remain in four rows. Here, since the green LED 23 and the blue LED 25 are already arranged on the surface 10Ba of the second display substrate 10B in correspondence with the electrodes 124b and 124c, the leftmost of the red LED wafers 20 arranged in the four rows. The red LED 21 cannot be positioned on the leftmost electrode 124a of the second display substrate 10B. Therefore, among the leftmost four rows of red LEDs 21 remaining on the red LED wafer 20, the right red LED 21 is positioned above the leftmost electrode 124a of the second display substrate 10B as shown in FIG. Position. By lowering the wafer holding ring 52 in such a state, the red LED 21 remaining on the red LED wafer 20 is brought into contact with and in contact with the corresponding electrodes 124a on the surface 10Ba of the second display substrate 10B. It can be positioned (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第二のディスプレー基板10Bの電極124aに、赤色LEDウエーハ20の赤色LED2が位置付けられて、赤色LED21側のアノード電極、カソード電極が第二のディスプレー基板10Bの2つの電極124aに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図16(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第二のディスプレー基板10Bの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124aに対応する赤色LED21に対してレーザー光線LB1を照射し、赤色LED21の電極が第二のディスプレー基板10Bの全ての電極124aに連結される(電極連結工程)。   In the LED wafer positioning step, the red LED 2 of the red LED wafer 20 is positioned on the electrode 124a of the second display substrate 10B, and the anode electrode and the cathode electrode on the red LED 21 side are the two electrodes of the second display substrate 10B. If it is made to contact | abut to 124a, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.16 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the red LEDs 21 corresponding to all the electrodes 124a arranged in the column direction and the row direction of the second display substrate 10B, and the electrodes of the red LED 21 are applied to the second display substrate 10B. It connects with all the electrodes 124a (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図16(d)に示すように、赤色LEDウエーハ20のエピタキシー基板201に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第二のディスプレー基板10Bに位置付けられた赤色LED21のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し赤色LED21をエピタキシー基板201から剥離して第二のディスプレー基板10Bに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第二のディスプレー基板10B側の電極124aに対して電極が連結された全ての赤色LED21に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図16(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第二のディスプレー基板10B上の全ての電極124aに赤色LED21が配設され、その結果、第二のディスプレー基板10Bには、赤色LED21、緑色LED23、及び青色LED25が配設された状態となる。すなわち、第二のディスプレー基板10Bの電極124a、124b、124cの全てに三色のLEDが配設され、第二のディスプレー基板10Bが三色のLED光源を有するディスプレーパネルとして完成した状態となる(図19を参照。)。上記した第二のディスプレー基板10Bに対して赤色LED25を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第10のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 16D, the wavelength of the red LED wafer 20 is transmissive to the epitaxy substrate 201 and absorbs to the buffer layer BF. LED which irradiates the buffer layer BF of the red LED 21 positioned on the second display substrate 10B with the laser beam LB2 to break the buffer layer BF, peels the red LED 21 from the epitaxy substrate 201, and is disposed on the second display substrate 10B. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation with the laser beam LB2 is performed on all the red LEDs 21 connected to the electrode 124a on the second display substrate 10B side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 16 ( See e).). Thus, the LED disposing step is completed, and the red LEDs 21 are disposed on all the electrodes 124a on the second display substrate 10B. As a result, the red LED 21, the green LED 23, And blue LED25 will be in the state arrange | positioned. That is, three-color LEDs are arranged on all the electrodes 124a, 124b, and 124c of the second display substrate 10B, and the second display substrate 10B is completed as a display panel having three-color LED light sources ( See FIG. The electrode connecting step for arranging the red LED 25 on the second display substrate 10B and the LED arranging step are referred to as “tenth step”.

該第10のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第二のディスプレー基板10Bを取り外す。第二のディスプレー基板10Bを取り外したならば、第8のステップにて使用された第四のディスプレー基板10Dを載置する。上記したように、第四のディスプレー基板10Dの電極124b、124cには、既に緑色LED23、青色LED25が配設されている。第四のディスプレー基板10Dを保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。   When the tenth step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the second display substrate 10B placed thereon is removed. When the second display substrate 10B is removed, the fourth display substrate 10D used in the eighth step is placed. As described above, the green LED 23 and the blue LED 25 are already arranged on the electrodes 124b and 124c of the fourth display substrate 10D. The fourth display substrate 10D is placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and a suction force is applied to the suction hole 64b to hold it by suction.

第四のディスプレー基板10Dを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第四のディスプレー基板10Dを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第四のディスプレー基板10Dの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the fourth display substrate 10D is sucked and held on the holding frame 64, the fourth display substrate 10D sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the imaging means 48 described above, and the collection of the laser beam irradiation means 44 is performed. Alignment is performed to align the optical device 44a with the processing position of the fourth display substrate 10D.

ここで、本ステップでは、第10のステップで保持リング52に保持された赤色LEDウエーハ20をそのまま用いるため、赤色LEDウエーハ20を保持リング52から取り出すことなく、図16(e)で示す状態に維持されている。つまり、赤色LEDウエーハ20の裏面20b側が上方に露出され、赤色LED21が形成された表面20aが下方を向いた状態で維持されている。この状態で、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第四のディスプレー基板10Dを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。   Here, in this step, since the red LED wafer 20 held in the holding ring 52 in the tenth step is used as it is, the red LED wafer 20 is not taken out from the holding ring 52, and the state shown in FIG. Maintained. That is, the back surface 20b side of the red LED wafer 20 is exposed upward, and the front surface 20a on which the red LED 21 is formed is maintained in a state of facing downward. In this state, the moving means 43 is operated based on the positional information obtained by executing the alignment, and the fourth display substrate 10D held by the holding frame 64 is collected by the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Position directly below.

第四のディスプレー基板10Dがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第四のディスプレー基板10Dの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、赤色LEDウエーハ20と第四のディスプレー基板10Dとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図17(a)から理解されるように、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21は、第1、7、10のステップにおいて第一〜三のディスプレー基板10A〜10Cに対して既に配設した後である。すなわち、赤色LEDウエーハ20上には、3列を飛ばして、3列ずつ赤色LED21が残っている。ここで、第四のディスプレー基板10Dの表面10Daには、既に電極124b、124cに対応して緑色LED23、青色LED25が配設されているため、該3列に並んだ赤色LEDウエーハ20の最も左側の赤色LED21は、第四のディスプレー基板10Dの最も左側の電極124aに位置付けることはできない。そこで、赤色LEDウエーハ20に残っている最も左側の3列の赤色LED21のうち右側の赤色LED21を、図17(a)に示すように、第四のディスプレー基板10Dの最も左側の電極124aの上方に位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させることによって(図17(b)を参照。)、赤色LEDウエーハ20に残っている赤色LED21が、第四のディスプレー基板10Dの表面10Baにおいて対応する各電極124aと対面し、既に配設されたLEDと重なることなく当接した状態に位置付けることができる(LEDウエーハ位置付け工程)。   If the fourth display substrate 10D is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher by a predetermined amount than the height position of the fourth display substrate 10D is lowered. . At this time, the red LED 21 of the red LED wafer 20 is understood as shown in FIG. 17A which specifically shows the positional relationship of the red LED wafer 20 and the fourth display substrate 10D as viewed from the side in the column direction. Is after the first to third display substrates 10A to 10C are already disposed in the first, seventh and tenth steps. That is, on the red LED wafer 20, three rows are skipped, and the red LED 21 remains in three rows. Here, since the green LED 23 and the blue LED 25 are already arranged on the surface 10Da of the fourth display substrate 10D corresponding to the electrodes 124b and 124c, the leftmost of the red LED wafers 20 arranged in the three rows. The red LED 21 cannot be positioned on the leftmost electrode 124a of the fourth display substrate 10D. Therefore, among the leftmost three rows of red LEDs 21 remaining on the red LED wafer 20, the right red LED 21 is positioned above the leftmost electrode 124a of the fourth display substrate 10D as shown in FIG. Position. By lowering the wafer holding ring 52 in such a state (see FIG. 17B), the red LEDs 21 remaining on the red LED wafer 20 correspond to the corresponding surfaces 10Ba of the fourth display substrate 10D. It can be positioned in a state where it faces the electrode 124a and abuts the already arranged LED without overlapping (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第四のディスプレー基板10Dの電極124aに、赤色LEDウエーハ20の赤色LED21が位置付けられて、赤色LED21側のアノード電極、カソード電極が第四のディスプレー基板10Dの2つの電極124aに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図17(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第四のディスプレー基板10Dの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124aに対応する赤色LED21に対してレーザー光線LB1を照射し、赤色LED21の電極が第四のディスプレー基板10Dの全ての電極124aに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the red LED 21 of the red LED wafer 20 is positioned on the electrode 124a of the fourth display substrate 10D, and the anode electrode and the cathode electrode on the red LED 21 side are the two electrodes of the fourth display substrate 10D. If it is made to contact | abut to 124a, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.17 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the red LEDs 21 corresponding to all the electrodes 124a arranged in the column direction and the row direction of the fourth display substrate 10D, and the electrodes of the red LED 21 are applied to the fourth display substrate 10D. It connects with all the electrodes 124a (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図17(d)に示すように、赤色LEDウエーハ20のエピタキシー基板201に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第四のディスプレー基板10Dに位置付けられた赤色LED21のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し赤色LED21をエピタキシー基板201から剥離して第四のディスプレー基板10Dに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第四のディスプレー基板10D側の電極124aに対して電極が連結された全ての赤色LED21に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図17(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第四のディスプレー基板10D上の全ての電極124aに赤色LED21が配設され、その結果、第四のディスプレー基板10Dには、赤色LED21、緑色LED23、及び青色LED25が配設された状態となる。すなわち、第四のディスプレー基板10Dの電極124a、124b、124cの全てに三色のLEDが配設され、第四のディスプレー基板10Dが三色のLED光源を有するディスプレーパネルとして完成した状態となる(図19を参照。)。上記した第四のディスプレー基板10Dに対して赤色LED21を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第11のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 17 (d), the wavelength of the red LED wafer 20 is such that it has transparency to the epitaxy substrate 201 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is applied to the buffer layer BF of the red LED 21 positioned on the fourth display substrate 10D to destroy the buffer layer BF, and the red LED 21 is peeled off from the epitaxy substrate 201 and disposed on the fourth display substrate 10D. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation of the laser beam LB2 is performed on all the red LEDs 21 connected to the electrode 124a on the fourth display substrate 10D side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 17 ( See e).). Thereby, the LED disposing step is completed, and the red LEDs 21 are disposed on all the electrodes 124a on the fourth display substrate 10D. As a result, the red LED 21, the green LED 23, And blue LED25 will be in the state arrange | positioned. That is, three-color LEDs are arranged on all the electrodes 124a, 124b, and 124c of the fourth display substrate 10D, and the fourth display substrate 10D is completed as a display panel having three-color LED light sources ( See FIG. The electrode connecting step for arranging the red LED 21 and the LED arranging step for the fourth display substrate 10D described above are referred to as “eleventh step”.

該第11のステップが実施されたならば、レーザー加工装置40における保持テーブル63を、移動手段43を作動することにより、図1の手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル63を図1で示す位置に移動させたならば、保持フレーム64に作用している吸引手段を停止し、載置されている第四のディスプレー基板10Dを取り外す。第四のディスプレー基板10Dを取り外したならば、第7のステップにて使用された第三のディスプレー基板10Cを載置する。上記したように、第三のディスプレー基板10Cの電極124a、124bには、既に赤色LED21、緑色LED23が配設されている。第三のディスプレー基板10Cを保持フレーム64に載置し、吸引手段を作動させて、吸引孔64bに吸引力を作用させて吸引保持する。   When the eleventh step is performed, the holding table 63 in the laser processing apparatus 40 is moved to the substrate mounting area on the near side in FIG. If the holding table 63 is moved to the position shown in FIG. 1, the suction means acting on the holding frame 64 is stopped, and the mounted fourth display substrate 10D is removed. When the fourth display substrate 10D is removed, the third display substrate 10C used in the seventh step is placed. As described above, the red LED 21 and the green LED 23 are already arranged on the electrodes 124a and 124b of the third display substrate 10C. The third display substrate 10C is placed on the holding frame 64, the suction means is operated, and the suction force is applied to the suction holes 64b to be sucked and held.

第三のディスプレー基板10Cを保持フレーム64に吸引保持したならば、保持フレーム64上に吸引保持した第三のディスプレー基板10Cを、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、第三のディスプレー基板10Cの加工位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   If the third display substrate 10C is sucked and held on the holding frame 64, the third display substrate 10C sucked and held on the holding frame 64 is imaged using the above-described imaging means 48, and the laser beam irradiation means 44 is collected. Alignment for aligning the optical device 44a with the processing position of the third display substrate 10C is executed.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52を上方に移動してさらに図2(c)に矢印54aで示す方向に回転させることで、LEDウエーハ保持手段50を図2(b)で示す状態とし、該ウエーハ保持リング52に作用している吸引手段を停止して第11のステップにおいて使用されていた赤色LEDウエーハ20を取り出し、第9のステップで使用された青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。   When the alignment is completed by performing the alignment, the wafer holding ring 52 is moved upward by a command from a control means (not shown) and further rotated in the direction indicated by the arrow 54a in FIG. The LED wafer holding means 50 is brought into the state shown in FIG. 2B, the suction means acting on the wafer holding ring 52 is stopped, and the red LED wafer 20 used in the eleventh step is taken out. The blue LED wafer 24 used in step 9 is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52.

該段差部52aに青色LEDウエーハ24を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引し青色LEDウエーハ24を吸引保持状態とする。青色LEDウエーハ24をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図2(c)に示すように図中矢印54aの方向に180°回転させて青色LEDウエーハ24の裏面20b側を上方に露出させ、青色LED25が形成された表面24aが下方を向くように方向を転換する。青色LEDウエーハ24をこのように回転させたならば、該アライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持フレーム64に保持された第三のディスプレー基板10Cを集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける。そして、第三のディスプレー基板10Cがウエーハ保持リング52の直下に移動させられたならば、第三のディスプレー基板10Cの高さ位置よりも所定量高い位置に移動させられているウエーハ保持リング52を下降させる。このとき、青色LEDウエーハ24と第三のディスプレー基板10Cとを列方向の側方から見た位置関係を具体的に示す図18(a)から理解されるように、青色LEDウエーハ24の青色LED25は、第4、6、9のステップにおいて第一、二、四のディスプレー基板10A、10B、10Dに対して既に配設した後である。すなわち、青色LEDウエーハ24上には、3列を飛ばして、3列ずつ青色LED25が残っている。ここで、第三のディスプレー基板10Cの表面10Caには、既に電極124a、124bに対応して赤色LED21、緑色LED23が配設されており、該3列に並んだ青色LEDウエーハ24の最も左側の青色LED25を、第三のディスプレー基板10Cの最も左側の電極124aに位置付けることができる。そこで、青色LEDウエーハ24に残っている3列の青色LED25のうち左側の青色LED25を、図18(a)に示すように、第三のディスプレー基板10Cの最も左側の電極124aの上方に位置付ける。このような状態でウエーハ保持リング52を下降させることによって(図18(b)を参照。)、青色LEDウエーハ24に残っている青色LED25が、第三のディスプレー基板10Cの表面10Caにおいて対応する各電極124cと対面し既に配設されたLEDと重なることなく当接した状態に位置付けることができる(LEDウエーハ位置付け工程)。   When the blue LED wafer 24 is placed on the stepped portion 52a, a suction unit (not shown) is operated to suck the blue LED wafer 24 from the suction hole 52b. When the blue LED wafer 24 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow 54a in the drawing as shown in FIG. The rear surface 20b side of the blue LED wafer 24 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 24a on which the blue LED 25 is formed faces downward. If the blue LED wafer 24 is rotated in this way, the moving means 43 is operated based on the position information obtained by executing the alignment, and the third display substrate 10C held by the holding frame 64 is moved. It is positioned directly under the condenser 44a and the wafer holding ring 52. Then, if the third display substrate 10C is moved directly below the wafer holding ring 52, the wafer holding ring 52 moved to a position higher than the height position of the third display substrate 10C by a predetermined amount. Lower. At this time, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is understood as shown in FIG. 18A, which specifically shows the positional relationship of the blue LED wafer 24 and the third display substrate 10C as viewed from the side in the column direction. Is after the first, second and fourth display substrates 10A, 10B and 10D have already been disposed in the fourth, sixth and ninth steps. That is, three rows are skipped on the blue LED wafer 24, and the blue LEDs 25 remain in three rows. Here, the red LED 21 and the green LED 23 are already arranged on the surface 10Ca of the third display substrate 10C corresponding to the electrodes 124a and 124b, and the leftmost of the blue LED wafers 24 arranged in the three rows. The blue LED 25 can be positioned on the leftmost electrode 124a of the third display substrate 10C. Therefore, among the three rows of blue LEDs 25 remaining on the blue LED wafer 24, the left blue LED 25 is positioned above the leftmost electrode 124a of the third display substrate 10C, as shown in FIG. By lowering the wafer holding ring 52 in this state (see FIG. 18B), the blue LEDs 25 remaining on the blue LED wafer 24 correspond to the respective surfaces 10Ca of the third display substrate 10C. It can be positioned in a state where it faces the electrode 124c and abuts on the already disposed LED without overlapping (LED wafer positioning step).

該LEDウエーハ位置付け工程により、第三のディスプレー基板10Cの電極124cに、青色LEDウエーハ24の青色LED25が位置付けられて、青色LED25側のアノード電極、カソード電極が第三のディスプレー基板10Cの2つの電極124cに当接させられたならば、上記の各ステップと同様に電極連結工程が実施される(図18(c)を参照。)。なお電極連結工程の具体的手順は、上記各ステップの電極連結工程と同様であるため、具体的な説明については省略する。このようにして、第三のディスプレー基板10Cの列方向、行方向に複数並ぶ全ての電極124cに対応する青色LED25に対してレーザー光線LB1を照射し、青色LED25の電極が第三のディスプレー基板10Cの全ての電極124cに連結される(電極連結工程)。   By the LED wafer positioning step, the blue LED 25 of the blue LED wafer 24 is positioned on the electrode 124c of the third display substrate 10C, and the anode electrode and the cathode electrode on the blue LED 25 side are the two electrodes of the third display substrate 10C. If it is made to contact | abut to 124c, an electrode connection process will be implemented like said each step (refer FIG.18 (c)). In addition, since the specific procedure of an electrode connection process is the same as the electrode connection process of each said step, it abbreviate | omits about specific description. In this way, the laser beam LB1 is applied to the blue LEDs 25 corresponding to all the electrodes 124c arranged in the column direction and the row direction of the third display substrate 10C, and the electrodes of the blue LED 25 are applied to the third display substrate 10C. It connects with all the electrodes 124c (electrode connection process).

該電極連結工程が完了したならば、図18(d)に示すように、青色LEDウエーハ24のエピタキシー基板241に対しては透過性を有し、バッファー層BFに対して吸収性を有する波長のレーザー光線LB2を第三のディスプレー基板10Cに位置付けられた青色LED25のバッファー層BFに照射してバッファー層BFを破壊し青色LED25をエピタキシー基板241から剥離して第三のディスプレー基板10Cに配設するLED配設工程が実施される。なお、該LED配設工程についても、上記の各ステップと同様であるため具体的な説明については省略する。このようなレーザー光線LB2の照射を、第三のディスプレー基板10C側の電極124cに対して電極が連結された全ての青色LED25に対して実施したならば、ウエーハ保持リング52を上昇させる(図18(e)を参照。)。これにより、該LED配設工程が完了し、第三のディスプレー基板10C上の全ての電極124cに青色LED25が配設され、その結果、第三のディスプレー基板10Cには、赤色LED21、緑色LED23、及び青色LED25が配設された状態となる。すなわち、第三のディスプレー基板10Cの電極124a、124b、124cの全てに三色のLEDが配設され、第三のディスプレー基板10Cが三色のLED光源を有するディスプレーパネルとして完成した状態となる(図19を参照。)。上記した第三のディスプレー基板10Cに対して青色LED25を配設するための電極連結工程、及びLED配設工程を「第12のステップ」とする。   When the electrode connecting step is completed, as shown in FIG. 18 (d), the wavelength of the blue LED wafer 24 is such that it is transparent to the epitaxy substrate 241 and absorbs to the buffer layer BF. The laser beam LB2 is irradiated on the buffer layer BF of the blue LED 25 positioned on the third display substrate 10C to destroy the buffer layer BF, and the blue LED 25 is peeled off from the epitaxy substrate 241 and disposed on the third display substrate 10C. An arrangement step is performed. In addition, since it is the same as said each step also about this LED arrangement | positioning process, detailed description is abbreviate | omitted. If such irradiation with the laser beam LB2 is performed on all the blue LEDs 25 connected to the electrode 124c on the third display substrate 10C side, the wafer holding ring 52 is raised (FIG. 18 ( See e).). Thus, the LED disposing step is completed, and the blue LEDs 25 are disposed on all the electrodes 124c on the third display substrate 10C. As a result, the red LED 21, the green LED 23, And blue LED25 will be in the state arrange | positioned. That is, three-color LEDs are arranged on all the electrodes 124a, 124b, and 124c of the third display substrate 10C, and the third display substrate 10C is completed as a display panel having three-color LED light sources ( See FIG. The electrode connecting step for arranging the blue LED 25 on the third display substrate 10C and the LED arranging step are referred to as a “twelfth step”.

上記した実施形態によって、上記の第1〜第12のステップを順次実行することにより、三色のLED光源を有する4枚のディスプレーパネルを効率よく製造することできる。さらに、赤色LEDウエーハ20、緑色LEDウエーハ22、青色LEDウエーハ24上には、2列ずつ各色のLEDが残っているが、これらを別途のディスプレーパネルの製造に使用することもできる。   According to the above-described embodiment, four display panels having three color LED light sources can be efficiently manufactured by sequentially executing the first to twelfth steps. Furthermore, although LEDs of each color remain in two rows on the red LED wafer 20, the green LED wafer 22, and the blue LED wafer 24, these can be used for manufacturing a separate display panel.

本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲に含まれるかぎり、種々の変形例を想定することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be assumed as long as they are included in the technical scope of the present invention.

上記した実施形態では、三色のLED光源を有するディスプレーパネルを製造する例を示したが、本発明はこれに限定されず、一色のみ、二色のみ、或いは四色以上のLED光源を備えたディスプレーパネルを製造する方法であってもよい。一色のLED光源を備えたディスプレーパネルを製造する場合は、上記した第1〜第12のステップの内、第1のステップのみ、第2のステップのみ、或いは第4のステップのみを実行するものであっても良い。   In the above-described embodiment, an example in which a display panel having three color LED light sources is manufactured has been shown. However, the present invention is not limited to this, and only one color, only two colors, or four or more color LED light sources are provided. It may be a method of manufacturing a display panel. When manufacturing a display panel equipped with a single color LED light source, only the first step, only the second step, or only the fourth step of the first to twelfth steps described above is executed. There may be.

また、二色のLED光源、例えば、赤色LEDと緑色LEDを備えたディスプレーパネルを製造する場合は、赤色LEDウエーハ20、緑色LEDウエーハ22、第一のディスプレー基板10A、第二のディスプレー基板10Bを準備した上で、上記第1のステップを「Aステップ」として実行し(図6を参照。)、次いで、上記第2のステップを「Bステップ」として実行し(図8を参照。)、次いで、該Bステップを実行した緑色ウエーハ22をそのまま用いて上記第5のステップを「Cステップ」として実行し、次いで、Bステップで使用した第二のディスプレー基板10Bをそのまま用いて上記第7のステップを「Dステップ」として実行することで、赤色LED21と緑色LED23、すなわち、2色のLED光源を備えたディスプレーパネルを2枚製造することができる。   When manufacturing a display panel having two color LED light sources, for example, a red LED and a green LED, the red LED wafer 20, the green LED wafer 22, the first display substrate 10A, and the second display substrate 10B are provided. After the preparation, the first step is executed as “A step” (see FIG. 6), and then the second step is executed as “B step” (see FIG. 8). Then, the fifth step is executed as the “C step” using the green wafer 22 which has been subjected to the B step as it is, and then the seventh step is performed using the second display substrate 10B used in the B step as it is. Is executed as a “D step”, so that a red LED 21 and a green LED 23, that is, a disk equipped with a two-color LED light source. Repaneru it is possible to manufacture two.

上記した実施形態では、第一のLEDを赤色LED、第二のLEDを緑色LED、第三のLEDを青色LEDとしたが、本発明はこれに限定されず、第一〜第三のLEDに対していずれの発色LED光源を割り当ててもよい。   In the above-described embodiment, the first LED is a red LED, the second LED is a green LED, and the third LED is a blue LED. However, the present invention is not limited to this, and the first to third LEDs are not limited thereto. Any color LED light source may be assigned to the light source.

上記した実施形態では、ディスプレー基板上に赤色LED、緑色LED、青色LEDを配設する3組の電極124a、124b、124dを複数設定し、隣り合う該3組の電極の間の寸法は、ちょうど該3つのLEDに対応する電極が収まる寸法に設定したが、本発明はそれに限定されるわけではなく、該間隔は任意に設定することができる。なお、その場合でも、隣り合う3組の電極間の寸法は、1つのLEDが配設される場合の寸法の整数倍であることが好ましい。また、ディスプレー基板側にLEDが配設される間隔と、LEDウエーハ側にLEDが配設される間隔を一致させておけば、LED位置付け工程によってディスプレー基板にLEDウエーハを当接させた際に、ディスプレー基板側の電極に対応するLED側の電極を全て同時に当接させることができる。   In the above-described embodiment, a plurality of three sets of electrodes 124a, 124b, and 124d in which a red LED, a green LED, and a blue LED are arranged on the display substrate are set, and the dimension between the three sets of adjacent electrodes is just Although the dimensions corresponding to the electrodes corresponding to the three LEDs are set, the present invention is not limited thereto, and the interval can be arbitrarily set. Even in this case, it is preferable that the dimension between three adjacent electrodes is an integer multiple of the dimension when one LED is provided. In addition, if the interval in which the LEDs are arranged on the display substrate side and the interval in which the LEDs are arranged on the LED wafer side are matched, when the LED wafer is brought into contact with the display substrate by the LED positioning step, All the electrodes on the LED side corresponding to the electrodes on the display substrate side can be brought into contact at the same time.

上記した実施形態では、電極連結工程を実施した後に、LED配設工程を実施するようにしたが、本発明は、必ずしもこれに限定されるわけではなく、両者を同時に、或いは、前後して実施することを除外するものではない。   In the above-described embodiment, the LED disposing step is performed after performing the electrode connecting step, but the present invention is not necessarily limited to this, and both are performed simultaneously or before and after. It does not exclude doing.

上記した実施形態では、ウエーハ保持リング52において保持できるLEDウエーハは一つであり、保持テーブル63で保持できるディプレー基板も一つであったため、各ステップごとに、必要に応じてLEDウエーハとディスプレー基板の載せ替えを必要としたが、例えば、保持テーブル63上に、4枚のディスプレー基板を保持できるように4つの保持フレームを設置し、LEDウエーハ保持手段50において3つのウエーハを同時に保持できるように、ウエーハ保持リング52を3つ用意して自動的に切り替えられるようにすれば、各ステップにおいて必要となっていた載せ替えを省略することが可能となる。   In the above-described embodiment, there is one LED wafer that can be held by the wafer holding ring 52, and there is also one display substrate that can be held by the holding table 63. However, for example, four holding frames are installed on the holding table 63 so that four display substrates can be held, and the LED wafer holding means 50 can hold the three wafers simultaneously. If the three wafer holding rings 52 are prepared and can be automatically switched, the replacement required in each step can be omitted.

10A:第一のディスプレー基板
10B:第二のディスプレー基板
10C:第三のディスプレー基板
10D:第四のディスプレー基板
20:赤色LEDウエーハ
21:赤色LED
22:緑色LEDウエーハ
23:緑色LED
24:青色LEDウエーハ
25:青色LED
40:レーザー加工装置
42:保持手段
43:移動手段
44:レーザー光線照射手段
45:枠体
48:撮像手段
50:LEDウエーハ保持手段
52:ウエーハ保持リング
52a:段差部
52b:吸引孔
54:保持アーム
56:保持基体
58:開口部
63:保持テーブル
64:保持フレーム
80:X方向移動手段
82:Y方向移動手段
124a、124b、124c:電極
10A: first display substrate 10B: second display substrate 10C: third display substrate 10D: fourth display substrate 20: red LED wafer 21: red LED
22: Green LED wafer 23: Green LED
24: Blue LED wafer 25: Blue LED
40: Laser processing apparatus 42: Holding means 43: Moving means 44: Laser beam irradiation means 45: Frame 48: Imaging means 50: LED wafer holding means 52: Wafer holding ring 52a: Step portion 52b: Suction hole 54: Holding arm 56 : Holding base 58: Opening 63: Holding table 64: Holding frame 80: X direction moving means 82: Y direction moving means 124a, 124b, 124c: Electrodes

Claims (6)

LEDディスプレーパネルを製造するLEDディスプレーパネルの製造方法であって、
分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介してLEDを複数備えたLEDウエーハを準備するLEDウエーハ準備工程と、
複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程と、
ディスプレー基板の電極に対応してLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程と、
該LEDウエーハ位置付け工程により対面させられたディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を照射して、LEDの電極と該LEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結する電極連結工程と、
ディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊し該LEDをエピタキシー基板から剥離してディスプレー基板に配設するLED配設工程と、
を少なくとも含み構成されるLEDディスプレーパネルの製造方法。
An LED display panel manufacturing method for manufacturing an LED display panel,
An LED wafer preparation step of preparing an LED wafer having a plurality of LEDs which are partitioned by a division line and provided on the surface of the epitaxy substrate via a buffer layer;
A display substrate preparing step of preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns;
An LED wafer positioning step for positioning the LED wafer facing the electrode of the display substrate;
An electrode for connecting the LED electrode and the corresponding electrode of the display substrate by irradiating the LED substrate with the laser beam having a wavelength that is transparent to the display substrate or the LED wafer faced by the LED wafer positioning step A connecting step;
A laser beam having a wavelength transparent to the display substrate or the LED wafer is irradiated to the buffer layer of the LED positioned on the display substrate to break the buffer layer, and the LED is peeled off from the epitaxy substrate and disposed on the display substrate. LED placement process;
The manufacturing method of the LED display panel comprised at least.
LEDディスプレーパネルを製造するLEDディスプレーパネルの製造方法であって、
分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介して第一のLEDを複数備えた第一のLEDウエーハと、分割予定ラインによって区画されエピタキシー基板の表面にバッファー層を介して第二のLEDを複数備えた第二のLEDウエーハとを少なくとも準備するLEDウエーハ準備工程と、
複数の電極が行と列に配設されたディスプレー基板を準備するディスプレー基板準備工程と、
ディスプレー基板の電極に対応して第一のLEDウエーハ、第二のLEDウエーハのいずれかのLEDウエーハを対面させて位置付けるLEDウエーハ位置付け工程と、
該LEDウエーハ位置付け工程によって対面させられたディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を照射してLEDの電極と、該LEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結する電極連結工程と、
ディスプレー基板又はLEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊し該LEDをエピタキシー基板から剥離して第一のLED、第二のLEDをディスプレー基板に配設するLED配設工程と、
を少なくとも含み構成されるLEDディスプレーパネルの製造方法。
An LED display panel manufacturing method for manufacturing an LED display panel,
A first LED wafer having a plurality of first LEDs on the surface of the epitaxy substrate, which is defined by the division lines, and a second layer via the buffer layer on the surface of the epitaxy substrate, which is defined by the division lines. An LED wafer preparation step of preparing at least a second LED wafer having a plurality of LEDs;
A display substrate preparing step of preparing a display substrate in which a plurality of electrodes are arranged in rows and columns;
LED wafer positioning step for positioning the LED wafer of either the first LED wafer or the second LED wafer so as to correspond to the electrodes of the display substrate,
An electrode that connects the electrode of the LED and the electrode of the display substrate corresponding to the LED electrode by irradiating a laser beam having a wavelength that is transparent to the display substrate or the LED wafer faced by the LED wafer positioning step A connecting step;
A laser beam having a wavelength that is transparent to the display substrate or the LED wafer is irradiated to the buffer layer of the LED positioned on the display substrate to destroy the buffer layer, and the LED is peeled off from the epitaxy substrate to form the first LED, LED disposing step of disposing the second LED on the display substrate;
The manufacturing method of the LED display panel comprised at least.
該ディスプレー基板は、第一のディスプレー基板、第二のディスプレー基板、を少なくとも備え、
該電極連結工程において、
第一のLEDウエーハの表面を第一のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第一のLEDの電極を該第一のディスプレー基板の電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第一のディスプレー基板の該電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを第一のディスプレー基板に配設するAステップと、
第二のLEDウエーハの表面を第二のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第二のディスプレー基板の該電極に位置付けて第二のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第二のディスプレー基板に配設するBステップと、
該Aステップにおいて第一のLEDが所定の間隔をもって配設された第一のディスプレー基板の表面に該Bステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第二のLEDの電極を第一のディスプレー基板の該電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第一のディスプレー基板に配設するCステップと、
該Bステップにおいて第二のLEDが所定の間隔をもって配設された第二のディスプレー基板の表面に該Aステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第一のLEDの電極を第二のディスプレー基板の電極に位置付けて第二のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に該LED配設工程を実施して第一のLEDを第二のディスプレー基板に配設するDステップと、
を少なくとも含み構成される請求項2に記載のLEDディスプレーパネルの製造方法。
The display substrate includes at least a first display substrate and a second display substrate,
In the electrode connecting step,
The surface of the first LED wafer faces the surface of the first display substrate, and the electrodes of the first LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the first display substrate with a predetermined interval Positioning the electrode on the first display substrate and irradiating a laser beam having transparency to the first display substrate or the first LED wafer, the electrode of the first LED and the electrode of the first display substrate are A step of arranging the first LED on the first display substrate by performing the LED arranging step,
The surface of the second LED wafer faces the surface of the second display substrate, and the electrodes of the second LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the second display substrate with a predetermined interval are provided Positioning the electrode on the second display substrate and irradiating a laser beam having transparency to the second display substrate or the second LED wafer, the electrode of the second LED and the electrode of the second display substrate are formed. And B step of performing the LED disposing step and disposing the second LED on the second display substrate,
In the step A, the second LED wafer used in the step B is made to face the surface of the first display substrate on which the first LEDs are arranged at a predetermined interval. A second LED electrode corresponding to the electrodes arranged in a row is positioned on the first display substrate and irradiated with a laser beam having transparency to the first display substrate or the second LED wafer. And connecting the electrode of the second LED and the electrode of the first display substrate and performing the LED disposing step to dispose the second LED on the first display substrate;
In the B step, the first LED wafer used in the A step is made to face the surface of the second display substrate on which the second LEDs are arranged at a predetermined interval, and the second display substrate row at a predetermined interval. The first LED electrode corresponding to the electrode arranged in a row is positioned on the electrode of the second display substrate, and a laser beam having transparency to the second display substrate or the first LED wafer is irradiated. D step of connecting the electrode of the first LED and the electrode of the second display substrate and performing the LED disposing step to dispose the first LED on the second display substrate;
The manufacturing method of the LED display panel of Claim 2 comprised at least.
該ディスプレー基板は、第一のディスプレー基板、第二のディスプレー基板、第三のディスプレー基板、第四のディスプレー基板を少なくとも備え、
該電極連結工程において、
第一のLEDウエーハの表面を第一のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第一のLEDの電極を該第一のディスプレー基板の電極に位置付けて第一のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と第一のディスプレー基板の該電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを第一のディスプレー基板に配設する第1のステップと、
第二のLEDウエーハの表面を第二のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第二のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第二のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第二のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第二のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第二のディスプレー基板に配設する第2のステップと、
該第2のステップで用いた第二のLEDウエーハの表面を第三のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって該第三のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第二のLEDの電極を該第三のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第三のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第三のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第三のディスプレー基板に配設する第3のステップと、
第三のLEDウエーハの表面を第四のディスプレー基板の表面に対面させ、所定の間隔をもって第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する該第三のLEDの電極を該第四のディスプレー基板の該電極に位置付けて該第四のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第4のステップと、
該第1のステップにおいて、第一のLEDが所定の間隔をもって配設された第一のディスプレー基板の表面に該第3のステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に対応する第二のLEDの電極を第一のディスプレー基板の電極に位置付けて該第一のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを第一のディスプレー基板に配設する第5のステップと、
該第2のステップ又は第3のステップにおいて、第二のLEDが所定の間隔をもって配設された第二のディスプレー基板又は第三のディスプレー基板のいずれか一方のディスプレー基板を選択し、選択された一方のディスプレー基板の表面に第4のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該一方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該一方のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該一方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該一方のディスプレー基板に配設する第6のステップと、
該第6のステップにおいて選択されなかった第二のLEDが所定の間隔をもって配設された他方のディスプレー基板の表面に第1のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該他方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該他方のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該他方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを該他方のディスプレー基板に配設する第7のステップと、
該第4のステップにおいて、第三のLEDが所定の間隔をもって配設された第四のディスプレー基板の表面に該第5のステップで用いた第二のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第二のLEDの電極を位置付けて該第四のディスプレー基板又は第二のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第二のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第二のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第8のステップと、
該第5のステップにおいて、第一のLEDと第二のLEDが配設された第一のディスプレー基板に該第6のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第一のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該第一のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該第一のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該第一のディスプレー基板に配設する第9のステップと、
第二のLEDと第三のLEDが配設された該第6のステップにおける該一方のディスプレー基板に該第7のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該一方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該一方のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該一方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該一方のディスプレー基板に配設する第10のステップと、
該第8のステップにおいて、第二のLEDと第三のLEDが配設された該第四のディスプレー基板に該第10のステップで用いた第一のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該第四のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第一のLEDの電極を位置付けて該第四のディスプレー基板又は第一のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第一のLEDの電極と該第四のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第一のLEDを該第四のディスプレー基板に配設する第11のステップと、
第二のLEDと第一のLEDが配設された該第7のステップにおける該他方のディスプレー基板に該第9のステップで用いた第三のLEDウエーハを対面させ所定の間隔をもって該他方のディスプレー基板の行と列に配設された電極に第三のLEDの電極を位置付けて該他方のディスプレー基板又は第三のLEDウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射して第三のLEDの電極と該他方のディスプレー基板の電極とを連結させると共に、該LED配設工程を実施して第三のLEDを該他方のディスプレー基板に配設する第12のステップと、
を少なくとも含み構成される請求項2に記載のLEDディスプレーパネルの製造方法。
The display substrate includes at least a first display substrate, a second display substrate, a third display substrate, and a fourth display substrate,
In the electrode connecting step,
The surface of the first LED wafer faces the surface of the first display substrate, and the electrodes of the first LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the first display substrate with a predetermined interval Positioning the electrode on the first display substrate and irradiating a laser beam having transparency to the first display substrate or the first LED wafer, the electrode of the first LED and the electrode of the first display substrate are A first step of connecting and implementing the LED disposition step to dispose the first LED on the first display substrate;
The surface of the second LED wafer faces the surface of the second display substrate, and the electrodes of the second LED corresponding to the electrodes arranged in rows and columns of the second display substrate with a predetermined interval are provided An electrode of the second LED and an electrode of the second display substrate are irradiated with a laser beam which is positioned on the electrode of the second display substrate and is transmissive to the second display substrate or the second LED wafer. And the second step of disposing the second LED on the second display substrate by performing the LED disposing step;
The surface of the second LED wafer used in the second step is made to face the surface of the third display substrate, and corresponds to the electrodes arranged in rows and columns of the third display substrate with a predetermined interval. The electrode of the second LED is positioned on the electrode of the third display substrate and irradiated with a laser beam having transparency to the third display substrate or the second LED wafer. And a third step of connecting the electrode of the third display substrate to the third display substrate and performing the LED disposing step to dispose the second LED on the third display substrate;
The surface of the third LED wafer is opposed to the surface of the fourth display substrate, and the electrodes of the third LED corresponding to the electrodes arranged in the rows and columns of the fourth display substrate with a predetermined interval are provided. A third LED electrode and an electrode of the fourth display substrate are irradiated with a laser beam that is positioned on the electrode of the fourth display substrate and is transmissive to the fourth display substrate or the third LED wafer. And a fourth step of performing the LED disposing step to dispose a third LED on the fourth display substrate;
In the first step, the second LED wafer used in the third step is faced to the surface of the first display substrate on which the first LEDs are arranged at a predetermined interval, and the first LED is formed at a predetermined interval. The electrode of the second LED corresponding to the electrode arranged in the row and column of the display substrate is positioned on the electrode of the first display substrate and is transparent to the first display substrate or the second LED wafer. The electrode of the second LED and the electrode of the first display substrate are connected by irradiating a laser beam having the above, and the second LED is disposed on the first display substrate by performing the LED disposing step. A fifth step;
In the second step or the third step, one of the second display substrate and the third display substrate in which the second LEDs are arranged at a predetermined interval is selected and selected. The third LED wafer used in the fourth step faces the surface of one display substrate, and the electrodes of the third LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the one display substrate with a predetermined interval. And irradiating a laser beam having transparency to the one display substrate or the third LED wafer to connect the electrode of the third LED and the electrode of the one display substrate, and A sixth step of performing and disposing a third LED on the one display substrate;
The second LED that was not selected in the sixth step is placed on the surface of the other display substrate on which the second LED is arranged at a predetermined interval, and the first LED wafer used in the first step is made to face the predetermined LED. The electrode of the first LED is positioned on the electrode arranged in the row and column of the other display substrate, and the first display wafer or the first LED wafer is irradiated with a laser beam having transparency. A seventh step of connecting the electrode of the LED to the electrode of the other display substrate and performing the LED disposing step to dispose the first LED on the other display substrate;
In the fourth step, the second LED wafer used in the fifth step is opposed to the surface of the fourth display substrate on which the third LEDs are arranged at a predetermined interval, and the second LED wafer used in the fifth step is opposed to the second LED wafer. The electrodes of the second LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the fourth display substrate, and the second display substrate or the second LED wafer is irradiated with a laser beam having transparency. And connecting the electrode of the LED and the electrode of the fourth display substrate, and performing the LED disposing step to dispose the second LED on the fourth display substrate,
In the fifth step, the third LED wafer used in the sixth step is opposed to the first display substrate on which the first LED and the second LED are arranged, and the first LED is disposed at a predetermined interval. A third LED electrode is positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the display substrate, and a third laser beam is applied to the first display substrate or the third LED wafer. A ninth step of connecting the electrode of the LED and the electrode of the first display substrate and performing the LED disposition step to dispose a third LED on the first display substrate;
The first LED wafer used in the seventh step is made to face the one display substrate in the sixth step in which the second LED and the third LED are arranged, and the one display is provided at a predetermined interval. The electrodes of the first LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the substrate and irradiated with a laser beam having transparency to the one display substrate or the first LED wafer. And an electrode of the one display substrate, and a tenth step of performing the LED disposing step to dispose a third LED on the one display substrate;
In the eighth step, the first LED wafer used in the tenth step is opposed to the fourth display substrate on which the second LED and the third LED are arranged, and the first LED wafer used in the tenth step is opposed to the fourth LED. The electrodes of the first LED are positioned on the electrodes arranged in the rows and columns of the fourth display substrate, and the first display wafer or the first LED wafer is irradiated with a laser beam having transparency. An eleventh step of connecting the electrode of the LED and the electrode of the fourth display substrate and performing the LED disposing step to dispose the first LED on the fourth display substrate;
A third LED wafer used in the ninth step is made to face the other display substrate in the seventh step in which the second LED and the first LED are arranged, and the other display is provided at a predetermined interval. The electrode of the third LED is positioned on the electrode arranged in the row and column of the substrate, and the third LED electrode is irradiated with a laser beam having transparency to the other display substrate or the third LED wafer. And the electrode of the other display substrate, and a twelfth step of performing the LED disposing step to dispose a third LED on the other display substrate;
The manufacturing method of the LED display panel of Claim 2 comprised at least.
第一のLEDは赤を発し、第二のLEDは緑を発し、第三のLEDは青を発する請求項4に記載のLEDディスプレーパネルの製造方法。   The method of manufacturing an LED display panel according to claim 4, wherein the first LED emits red, the second LED emits green, and the third LED emits blue. 該電極連結構造において、ディスプレー基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線をディスプレー基板の裏側から照射してLEDの電極と対応するディスプレー基板の電極とを連結し、
該LED配設工程において、LEDウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をLEDウエーハの裏面からディスプレー基板に位置付けられたLEDのバッファー層に照射してバッファー層を破壊しLEDをエピタキシー基板から剥離してLEDをディスプレー基板に配設する請求項1又は2に記載のLEDディスプレーパネルの製造方法。
In the electrode connection structure, a laser beam having a wavelength transmissive to the display substrate is irradiated from the back side of the display substrate to connect the LED electrode and the corresponding display substrate electrode,
In the LED placement process, a laser beam having a wavelength transmissive to the LED wafer is irradiated from the back surface of the LED wafer to the LED buffer layer positioned on the display substrate to break the buffer layer and peel the LED from the epitaxy substrate. The method for manufacturing an LED display panel according to claim 1, wherein the LEDs are arranged on a display substrate.
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