JP2018192381A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施の形態1に係るプラズマ処理装置の構成の一例を示す模式図である。図1には、後述する実験のために製作した試作機での要部の寸法の一例が斜字体で示されている。
実施の形態1に係るプラズマ処理装置1では、蓋板12の内面にプラズマを発生させないため、蓋板12の内面付近では、粉粒体に十分なプラズマ処理を施すことができない。そのため、プラズマ処理が十分でない粉粒体が、回収の際に処理済みの粉粒体に混入し、処理効率が損なわれる懸念がある。
実施の形態3では、実施の形態1、2で説明したプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理システムについて説明する。
10 反応容器
11 円筒
12 蓋板
13 底板
14 接続口
21〜24 電極
31〜37 空隙
41〜43 攪拌羽根
44 回転軸
45 円盤体
46 規制板
50 モーター
51 出力軸
52 ジョイント
53 モーター容器
60 電源
71 導入管
72 排気管
73 ポンプ
74 供給器
75 回収器
76、77 カプラ
81、82 粉粒体
100 プラズマ処理システム
Claims (8)
- 誘電体で構成され、粉粒体を保持する反応容器と、
前記反応容器に設けられた第1電極および第2電極と、
前記反応容器の内面に沿って前記内面との間に空隙を保って回転可能な導電性の攪拌羽根と、
前記攪拌羽根を回転させるモーターと、
前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧またはパルス電圧を印加する電源と、
を備えるプラズマ処理装置。 - 前記反応容器の少なくとも一部は円筒体であり、
前記攪拌羽根の回転軸は、前記円筒体の中心軸に配置され、
前記攪拌羽根は、前記円筒体の内面に沿って回転する、
請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記第1電極および第2電極は、前記円筒体に設けられている、
請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記反応容器は、蓋部が蓋板で閉じられ、
前記第1電極は前記蓋板に設けられ、前記第2電極は前記円筒体に設けられている、
請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記反応容器は、底部が底板で閉じられ、
前記反応容器の底部に、前記攪拌羽根とともに回転する円盤体が設けられている、
請求項3または4に記載のプラズマ処理装置。 - 前記回転器の出力軸と前記攪拌羽根の回転軸とは、絶縁性のジョイントを介して連結され、前記攪拌羽根は、前記電源に接続されていない、
請求項1から5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 請求項1から6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置と、
前記プラズマ処理装置の反応容器に接続された導入管と、
前記反応容器に接続された排気管と、
前記排気管に接続され、前記排気管から気体を吸引するポンプと、
粉粒体を前記導入管内へ供給する供給器と、
前記排気管内で粉粒体を濾過回収する回収器と、
を備えるプラズマ処理システム。 - 第1電極および第2電極が設けられた反応容器に粉粒体を導入し、
導電性の攪拌羽根を、前記反応容器の内面に沿って前記内面との間に空隙を保って回転させながら、前記第1電極および前記第2電極に交流電圧またはパルス電圧を印加し、前記空隙にプラズマを発生させる、
プラズマ処理方法。
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CN112563126A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-03-26 | 苏州爱特维电子科技有限公司 | 一种等离子体辅助粉末碳材料均匀掺杂杂原子的装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5932940A (ja) * | 1982-08-16 | 1984-02-22 | Sankyo Dengiyou Kk | 活性化装置 |
JP2005135736A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 粉粒体用プラズマ処理装置 |
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JPS5932940A (ja) * | 1982-08-16 | 1984-02-22 | Sankyo Dengiyou Kk | 活性化装置 |
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CN112563126A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-03-26 | 苏州爱特维电子科技有限公司 | 一种等离子体辅助粉末碳材料均匀掺杂杂原子的装置 |
CN112563126B (zh) * | 2020-12-28 | 2023-07-25 | 苏州爱特维电子科技有限公司 | 一种等离子体辅助粉末碳材料均匀掺杂杂原子的装置 |
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