JP2018190776A - ウエハの真空加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
開口部を開閉する内蓋を有する真空室と、
ウエハを搬送するロボットと、
前記ウエハを保持した状態で前記ロボットを収納可能であり、前記真空室側に移動させた状態で前記内蓋によって覆われる開口部を有するケースと、
前記内蓋と前記ケースとの密閉空間内を真空引きする真空ポンプと、
前記真空室に接続されており、前記ウエハが載置されるステージによって前記真空室と遮られる加工室と、
前記内蓋の動作、前記ロボットの動作、前記ケースの動作、前記真空ポンプの動作、及び前記ステージの動作を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記内蓋によって前記真空室の開口部が閉鎖され、且つ前記ステージによって前記真空室と前記加工室とが遮られた状態で、前記ウエハを保持した前記ロボットを前記ケース内に収納し、前記ケースを前記真空室側に移動させて当該ケースと前記内蓋とで形成された密閉空間内を真空引きし、前記密閉空間内が真空状態になった後に、前記内蓋によって閉鎖された前記真空室の開口部を開放して前記ケースと前記真空室とを連通させ、前記ロボットを前記真空室内に進入させ、予め設定されたウエハの受け取り位置に移動させた前記ステージに前記ロボットで前記ウエハを載置し、再び、前記真空室と前記加工室とが遮られるように前記ステージを移動させて前記ウエハを前記加工室内に搬送する。
このような構成により、ウエハを加工室のステージの上面まで搬送する工程を一台のロボットで実現することができる。そのため、設備の小型化に寄与することができる。
先ず、本実施の形態のウエハの真空加工装置(以下、単に真空加工装置と省略する場合がある。)の構成を説明する。図1は、本実施の形態のウエハの真空加工装置において、ロボットによってウエハ搬送室のウエハ載置部にウエハを受け取りに行く様子を模式的に示す図である。なお、以下の説明では、説明を明確にするために、図1の上下左右方向に基づいて説明する。
図4は、本実施の形態の真空加工装置を模式的に示す図である。本実施の形態の真空加工装置21は、実施の形態1の真空加工装置1と略等しい構成とされているため、重複する説明は省略し、等しい部材には等しい符号を用いて説明する。
2 ウエハ搬送室、2a カバー、2b ウエハ載置部
3 真空室、3a 開口部、3b 内蓋
4 ロボット
5 ケース、5a 開口部
6 加工室、6a ステージ、6b 開口部
7 ウエハ
8 第1のアクチュエータ
9 第3のアクチュエータ
10 第4のアクチュエータ
11 弾性部材
21 真空加工装置
22 ランプヒーター
Claims (1)
- 開口部を開閉する内蓋を有する真空室と、
ウエハを搬送するロボットと、
前記ウエハを保持した状態で前記ロボットを収納可能であり、前記真空室側に移動させた状態で前記内蓋によって覆われる開口部を有するケースと、
前記内蓋と前記ケースとの密閉空間内を真空引きする真空ポンプと、
前記真空室に接続されており、前記ウエハが載置されるステージによって前記真空室と遮られる加工室と、
前記内蓋の動作、前記ロボットの動作、前記ケースの動作、前記真空ポンプの動作、及び前記ステージの動作を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記内蓋によって前記真空室の開口部が閉鎖され、且つ前記ステージによって前記真空室と前記加工室とが遮られた状態で、前記ウエハを保持した前記ロボットを前記ケース内に収納し、前記ケースを前記真空室側に移動させて当該ケースと前記内蓋とで形成された密閉空間内を真空引きし、前記密閉空間内が真空状態になった後に、前記内蓋によって閉鎖された前記真空室の開口部を開放して前記ケースと前記真空室とを連通させ、前記ロボットを前記真空室内に進入させ、予め設定されたウエハの受け取り位置に移動させた前記ステージに前記ロボットで前記ウエハを載置し、再び、前記真空室と前記加工室とが遮られるように前記ステージを移動させて前記ウエハを前記加工室内に搬送する、ウエハの真空加工装置。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021946A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-21 | C Bui Res:Kk | 半導体製造装置 |
JP2000036530A (ja) * | 1998-04-04 | 2000-02-02 | Tokyo Electron Ltd | 搬送機構及び処理装置 |
JP2000174091A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Fujitsu Ltd | 搬送装置及び製造装置 |
JP2001102423A (ja) * | 1998-04-09 | 2001-04-13 | Tadahiro Omi | プロセス装置 |
JP2003013223A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 真空処理装置 |
JP2007184476A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
WO2010013333A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 株式会社島津製作所 | 真空装置及び真空処理方法 |
WO2010035385A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置及び真空搬送装置 |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000036530A (ja) * | 1998-04-04 | 2000-02-02 | Tokyo Electron Ltd | 搬送機構及び処理装置 |
JP2001102423A (ja) * | 1998-04-09 | 2001-04-13 | Tadahiro Omi | プロセス装置 |
JP2000021946A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-21 | C Bui Res:Kk | 半導体製造装置 |
JP2000174091A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Fujitsu Ltd | 搬送装置及び製造装置 |
JP2003013223A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-15 | Shibaura Mechatronics Corp | 真空処理装置 |
JP2007184476A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
WO2010013333A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 株式会社島津製作所 | 真空装置及び真空処理方法 |
WO2010035385A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置及び真空搬送装置 |
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