JP2018188589A - Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same - Google Patents

Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2018188589A
JP2018188589A JP2017094187A JP2017094187A JP2018188589A JP 2018188589 A JP2018188589 A JP 2018188589A JP 2017094187 A JP2017094187 A JP 2017094187A JP 2017094187 A JP2017094187 A JP 2017094187A JP 2018188589 A JP2018188589 A JP 2018188589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
general formula
benzotriazole
copolymer
benzotriazol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017094187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
壽一 阪口
Juichi Sakaguchi
壽一 阪口
加菜 荻野
Kana Ogino
加菜 荻野
橋本 保
Tamotsu Hashimoto
保 橋本
敏之 上坂
Toshiyuki Uesaka
敏之 上坂
岩本 拓也
Takuya Iwamoto
拓也 岩本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Fukui NUC
Shipro Kasei Kaisha Ltd
Original Assignee
University of Fukui NUC
Shipro Kasei Kaisha Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Fukui NUC, Shipro Kasei Kaisha Ltd filed Critical University of Fukui NUC
Priority to JP2017094187A priority Critical patent/JP2018188589A/en
Publication of JP2018188589A publication Critical patent/JP2018188589A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer ultraviolet absorber that does not cause volatilization or decomposition of ultraviolet-absorbing components during resin processing and has high compatibility with other resins.SOLUTION: There is provided a polymer ultraviolet absorber employing a novel benzotriazole-based copolymer formed by polymerizing a polybutadiene comprising a 1,2-vinyl structure as an essential constitutional unit and a benzotriazole derivative compound represented by the general formula (1) in the figure. [Preferably, Ris a C2-8 alkyl group, and Ris an ethylene group.]SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、新規なベンゾトリアゾール系共重合体に関する。さらにはこれを用いた紫外線吸収剤に関し、詳しくは、高温状態でも揮散や分解が起こりにくい高い耐熱性を示し、樹脂と高い相溶性を示す紫外線吸収剤に関する。   The present invention relates to a novel benzotriazole copolymer. More specifically, the present invention relates to an ultraviolet absorber using the same, and more particularly, to an ultraviolet absorber that exhibits high heat resistance that hardly causes volatilization or decomposition even at high temperatures and exhibits high compatibility with a resin.

樹脂は自然光の紫外線の作用によって劣化を生じて、軟化、脆化または変色などの現象を伴ってその機械的強度が著しく低下することはよく知られている。このような光による劣化を防ぐため、従来より各種の紫外線吸収剤が樹脂の加工工程中に添加され、使用されている。このような紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系またはトリアジン系の化合物が知られている。   It is well known that a resin is deteriorated by the action of natural ultraviolet light, and its mechanical strength is remarkably lowered with a phenomenon such as softening, embrittlement or discoloration. In order to prevent such deterioration due to light, various ultraviolet absorbers have been conventionally used by being added during the resin processing step. As such ultraviolet absorbers, for example, benzophenone, benzotriazole, benzoate, salicylate, or triazine compounds are known.

しかし、従来より使用されている紫外線吸収剤は、樹脂加工時の高温状態でそれ自身の揮散や分解が起こることから、樹脂加工時における紫外線吸収剤の揮散による樹脂成型金型の汚染、紫外線吸収剤の熱分解による樹脂の着色等の問題があった。   However, conventional UV absorbers volatilize and decompose themselves at high temperatures during resin processing. Therefore, contamination of resin molds and UV absorption due to volatilization of UV absorbers during resin processing. There were problems such as coloring of the resin due to thermal decomposition of the agent.

これらの問題を解決するため、上記の紫外線吸収性化合物を二量化したり、紫外線吸収性化合物に嵩高い置換基を付加することによって、分子量を向上させた高耐熱性の紫外線吸収剤として、揮散や分解を防ぐ提案がされているが、このような化合物は一般的に樹脂との相溶性が不十分であることが多く、樹脂を加工後に紫外線吸収剤が樹脂表面にブリードアウトしてくるという問題があった。   In order to solve these problems, volatilization as a highly heat-resistant UV absorber with improved molecular weight by dimerizing the above UV-absorbing compound or adding a bulky substituent to the UV-absorbing compound Proposals have been made to prevent decomposition, but such compounds are generally poorly compatible with the resin, and after processing the resin, the UV absorber bleeds out to the resin surface. There was a problem.

また、特許文献1および2では、(メタ)アクリロイル基を含有するベンゾトリアゾール誘導体と(メタ)アクリル酸エステルを共重合した高分子紫外線吸収剤が提案されており、紫外線吸収性の構造を高分子体の成分として組み込むことで、加工時の高温状態で紫外線吸収性成分の揮散や分解がなく、さらに加工後の紫外線吸収性成分のブリードアウトを防ぐ提案がされている。   Patent Documents 1 and 2 propose a polymer ultraviolet absorber obtained by copolymerizing a benzotriazole derivative containing a (meth) acryloyl group and a (meth) acrylic acid ester. By incorporating it as a body component, there has been a proposal that prevents the ultraviolet absorbing component from being volatilized or decomposed at a high temperature during processing, and further prevents bleeding out of the ultraviolet absorbing component after processing.

特開2012−25811号公報JP 2012-25811 A 特開昭60−38411号公報JP 60-38411 A

これらに記載された高分子紫外線吸収剤には、コンタクトレンズ、フィルム、塗料等の用途が示されているが、いずれもこれら高分子紫外線吸収剤が単独で成型または成膜されており、他の樹脂との相溶性が不十分であることが予想され、樹脂にこれら高分子紫外線吸収剤を添加するような使用方法が出来ず、汎用性がない問題があった。そこで本発明における課題は、他の樹脂との相溶性に優れている高分子紫外線吸収剤を提供することであり、そのための新規な共重合体を提供することにある。   Although the polymer ultraviolet absorbers described in these applications have been shown to be used for contact lenses, films, paints, etc., all of these polymer ultraviolet absorbers are molded or formed alone, The compatibility with the resin is expected to be inadequate, and there is a problem that the use method such as adding these polymer ultraviolet absorbers to the resin cannot be performed, and there is no versatility. Therefore, an object of the present invention is to provide a high molecular weight UV absorber excellent in compatibility with other resins, and to provide a novel copolymer therefor.

本発明では、下記の一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物と、下記の一般式(2)もしくは下記の一般式(3)である構成単位によってその骨格が構成されるとともに前記構成単位として前記一般式(2)が1以上含まれるポリブタジエンとを重合してなる新規なベンゾトリアゾール系共重合体を、高分子紫外線吸収剤として用いることを上記課題の主要な解決手段とする。   In the present invention, the skeleton is constituted by the benzotriazole derivative compound represented by the following general formula (1) and the structural unit represented by the following general formula (2) or the following general formula (3), and the above structure. The use of a novel benzotriazole-based copolymer obtained by polymerizing polybutadiene containing at least one of the general formula (2) as a unit as a polymer ultraviolet absorber is a main means for solving the above-mentioned problems.

Figure 2018188589

一般式(1)
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基、トリル基、ホルミル基、アルキル炭素数1〜7のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、Rは炭素数1〜8のアルキレン基を表し、Rは水素原子、またはメチル基を表す]
Figure 2018188589

General formula (1)
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a tolyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group of an alkyl having 1 to 7 carbon atoms, a benzoyl group or a toluoyl group,, R 2 Represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group]

Figure 2018188589

一般式(2)
Figure 2018188589

General formula (2)

Figure 2018188589

一般式(3)
[一般式(3)中の炭素−炭素二重結合はシス構造、トランス構造のいずれであってもよい。]
Figure 2018188589

General formula (3)
[The carbon-carbon double bond in the general formula (3) may be either a cis structure or a trans structure. ]

好ましくは、上記一般式(1)で示されるベンゾトリアゾール誘導体化合物において、Rが炭素数2〜8のアルキル基であり、Rがエチレン基である表される化合物である。 Preferably, in the benzotriazole derivative compound represented by the general formula (1), R 1 is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and R 2 is an ethylene group.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体は、紫外線吸収性の構造が高分子体の成分として組み込まれていることから、樹脂加工時における紫外線吸収性成分の揮散や分解がなく、さらに他の樹脂との相溶性が高いことから、他の樹脂に添加してもブリードアウトが起こらず、従来技術の課題を解決し得る紫外線吸収剤として有用である。   The benzotriazole-based copolymer of the present invention has a UV-absorbing structure incorporated as a polymer component, so there is no volatilization or decomposition of the UV-absorbing component during resin processing, and with other resins. Therefore, it is useful as an ultraviolet absorber that can solve the problems of the prior art without causing bleed-out even when added to other resins.

以下に本発明につき詳細に説明する。本発明は紫外線吸収剤や樹脂組成物として、下記の一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物と、ポリブタジエンとを共重合したベンゾトリアゾール系共重合体を用いたものである。   The present invention will be described in detail below. In the present invention, a benzotriazole copolymer obtained by copolymerizing a benzotriazole derivative compound represented by the following general formula (1) and polybutadiene is used as an ultraviolet absorber or a resin composition.

Figure 2018188589

一般式(1)
Figure 2018188589

General formula (1)

一般式(1)中、Rは水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基等の炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基;フェニル基;トリル基;ホルミル基;アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、オクタノイル基、2−エチルヘキサノイル基等のアルキル炭素数1〜7の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基;ベンゾイル基;トルオイル基が挙げられ、Rはメチレン基、エチレン基、トリエチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキレン基が挙げられ、Rは水素原子;メチル基が挙げられる。 In general formula (1), R 1 is a hydrogen atom; methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl. A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a group; phenyl group; tolyl group; formyl group; alkyl such as acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, octanoyl group, 2-ethylhexanoyl group A straight or branched alkylcarbonyl group having 1 to 7 carbon atoms; a benzoyl group; a toluoyl group, and R 2 represents a methylene group, an ethylene group, a triethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, and an octamethylene group. include linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms such as groups, R 3 is a hydrogen atom; et al mentioned methyl That.

上記一般式(1)で示されるベンゾトリアゾール誘導体化合物は、好ましくはRが炭素数2〜8のアルキル基であり、Rがエチレン基である表される化合物である。 The benzotriazole derivative compound represented by the general formula (1) is preferably a compound represented by R 1 being an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms and R 2 being an ethylene group.

ベンゾトリアゾール誘導体化合物上記一般式(1)としては、例えば、次に示すものを挙げることができる。2−[2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(4−ベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、4−[2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]ブチルメタクリレート、4−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]ブチルメタクリレート、4−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]ブチルメタクリレート、4−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]ブチルメタクリレート、4−[2−(4−ベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]ブチルメタクリレート、2−[2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(4−ベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート等。   Benzotriazole derivative compound Examples of the general formula (1) include the following. 2- [2- (2,4-Dihydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (4-ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy ] Ethyl methacrylate, 2- [2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H -Benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 4- [2- (2,4- Dihydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-ylo Si] butyl methacrylate, 4- [2- (4-ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] butyl methacrylate, 4- [2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -2H -Benzotriazol-5-yloxy] butyl methacrylate, 4- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] butyl methacrylate, 4- [2- (4-benzoyloxy) -2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] butyl methacrylate, 2- [2- (2,4-dihydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [2- (4-Ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2 -Benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [2- (2-hydroxy-4) -Octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [2- (4-benzoyloxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, and the like.

ここに例示する化合物の中で、特に2−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレート、2−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレート、2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレートが好ましく用いられる。   Among the compounds exemplified herein, 2- [2- (4-ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (4-butoxy-2- Hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- (4-Ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate , 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxypheny) ) -2H- benzotriazole-5-yloxy] ethyl acrylate is preferably used.

ベンゾトリアゾール誘導体化合物一般式(1)を合成する方法に特に限定はなく、従来公知の反応原理を広く用いることができ、たとえば、下記(化4〜化7)に示した反応式を経て合成することができる。ただし、Xはハロゲン原子を表す。

Figure 2018188589

Figure 2018188589

Figure 2018188589

Figure 2018188589
There is no particular limitation on the method for synthesizing the general formula (1) of the benzotriazole derivative compound, and a conventionally known reaction principle can be widely used. For example, the synthesis is performed via the reaction formulas shown below (Chemical Formula 4 to Chemical Formula 7). be able to. However, X represents a halogen atom.
Figure 2018188589

Figure 2018188589

Figure 2018188589

Figure 2018188589

ポリブタジエン(単重合体)は一般にブタジエンを開裂・重合させたものである。このためその骨格を構成する構成単位は、重合時の分子結合の開裂によって、下記の一般式(2)で示される1,2−ビニル構造か、下記の一般式(3)で示されるシス−1,4構造あるいはトランス−1,4構造のいずれかになる。   Polybutadiene (monopolymer) is generally obtained by cleaving and polymerizing butadiene. Therefore, the structural unit constituting the skeleton is a 1,2-vinyl structure represented by the following general formula (2) or a cis-form represented by the following general formula (3) by the cleavage of the molecular bond during polymerization. It can be either a 1,4 structure or a transformer-1,4 structure.

Figure 2018188589

一般式(2)
Figure 2018188589

General formula (2)

Figure 2018188589
一般式(3)
Figure 2018188589
General formula (3)

ただし、本発明のベンゾトリアゾール系共重合体の原材料として用いるポリブタジエンは、上記の一般式(2)の1,2−ビニル構造を必須の構成単位として含むものである。すなわち、構成単位として一般式(2)のみで構成されるポリブタジエンでもよいし、構成単位として一般式(2)と一般式(3)とが混合して構成されるポリブタジエンであってもよい。なお、構成単位として一般式(3)を含む場合に、その構造がシス−1,4構造のみ、あるいはトランス−1,4構造のみであってもよいし、両者が混合して構成されていてもよい。   However, the polybutadiene used as a raw material for the benzotriazole-based copolymer of the present invention contains the 1,2-vinyl structure represented by the general formula (2) as an essential constituent unit. That is, it may be a polybutadiene composed only of the general formula (2) as a structural unit, or may be a polybutadiene composed of a mixture of the general formula (2) and the general formula (3) as a structural unit. In addition, when general formula (3) is included as a structural unit, the structure may be only a cis-1,4 structure or only a trans-1,4 structure, and both are mixed and comprised. Also good.

従って本発明に用いるポリブタジエンの具体例としては、1,2−ポリブタジエン;1,2−ビニル構造とシス−1,4構造の混在ポリブタジエン;1,2−ビニル構造とトランス−1,4構造の混在ポリブタジエン;1,2−ビニル構造、シス−1,4構造、およびトランス−1,4構造の混在ポリブタジエンが挙げられる。   Therefore, specific examples of the polybutadiene used in the present invention include 1,2-polybutadiene; mixed polybutadiene of 1,2-vinyl structure and cis-1,4 structure; mixed of 1,2-vinyl structure and trans-1,4 structure Polybutadiene; mixed polybutadiene having a 1,2-vinyl structure, a cis-1,4 structure, and a trans-1,4 structure may be mentioned.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体の重合に用いる、ベンゾトリアゾール誘導体化合物とポリブタジエンとの重合方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の種々の重合方法、例えば、ラジカル重合、イオン重合による連鎖重合反応を用いた溶液重合法、塊状(バルク)重合法、懸濁(パール)重合法、光重合法等を採用することができる。   The polymerization method of the benzotriazole derivative compound and polybutadiene used for the polymerization of the benzotriazole copolymer of the present invention is not particularly limited, and various conventionally known polymerization methods such as radical polymerization and ionic polymerization are used. A solution polymerization method using a chain polymerization reaction, a bulk (bulk) polymerization method, a suspension (pearl) polymerization method, a photopolymerization method, or the like can be employed.

溶液重合法を採用して共重合体を得る場合において用いることができる溶媒としては、具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、その他の高沸点の芳香族系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これら溶媒は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、溶媒の使用量は、特に限定されるものではない。   Specific examples of solvents that can be used when a copolymer is obtained by employing the solution polymerization method include, for example, benzene, toluene, xylene, and other high-boiling aromatic solvents; ethyl acetate, butyl acetate. And ester solvents such as cellosolve acetate; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol, and the like, but are not particularly limited. Only one kind of these solvents may be used, or two or more kinds may be appropriately mixed and used. Moreover, the usage-amount of a solvent is not specifically limited.

懸濁(パール)重合法を採用して共重合体を得る場合において用いることができる分散剤としては、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、 ポリ(メタ)アクリル酸またはその塩、スチレンとマレイン酸共重合体の塩、α−メチルスチレンとアクリル酸共重合体の塩、ポリビニルピロリドン、ポリ(メタ)アクリルアミド、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、デンプン、トラガント、ペクチン、グルー、アルギン酸またはその塩等の高分子界面活性剤;ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリオキシアルキレン系分散剤;ポリオキシエチレン−アルキルエーテル、ポリオキシエチレン−アルキルフェノール、ポリオキシエチレン−多価アルコールエステル、多価アルコールと脂肪酸とのエステル、オキシエチレン・オキシプロピレンブロック縮合物等の非イオン系界面活性剤等が挙げられる。また、これら分散剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、分散剤の使用量は、特に限定されるものではない。   Specific examples of the dispersant that can be used in the case of obtaining a copolymer by employing the suspension (pearl) polymerization method include, for example, polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylic acid or a salt thereof, styrene and malee. Salt of acid copolymer, salt of α-methylstyrene and acrylic acid copolymer, polyvinylpyrrolidone, poly (meth) acrylamide, methylcellulose, ethylcellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxybutylmethylcellulose, carboxymethylcellulose, Polymer surfactants such as gelatin, starch, tragacanth, pectin, glue, alginic acid or salts thereof; polyoxyalkylene dispersants such as polyethylene oxide and polypropylene oxide; poly Kishiechiren - alkyl ether, polyoxyethylene - alkyl phenols, polyoxyethylene - polyol esters, esters of polyhydric alcohols and fatty acids, a nonionic surfactant such as oxyethylene-oxypropylene block condensates thereof. Moreover, these dispersing agents may use only one type, and may mix and use two or more types suitably. Moreover, the usage-amount of a dispersing agent is not specifically limited.

また、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法を採用して共重合体を得る際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、具体的には、例えば、 2,2'−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル) 、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’ −アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t− ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の油溶性のラジカル重合開始剤;過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、t−ブチルパーオキサイド、2,2−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]・二塩酸塩、2,2−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]・二硫酸・二水和物、2,2−アゾビス(2−アミジノプロパン)・二塩酸塩 、2,2−アゾビス〔N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]水和物、2,2−アゾビス{2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン}・二塩酸塩、2,2−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2−アゾビス(1−イミノ−1−ピロリジノ−2−エチルプロパン)・二塩酸塩、2、2−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2−アゾビス(N−ヒドロキシエチルイソブチルアミド)、4,4−アゾビス(4−シアノペンタン酸)等の水溶性のラジカル重合開始剤;過硫酸塩類や有機過酸化物類の重合開始剤にナトリウムスルホオキシレートホルムアルデヒド、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、過酸化水素、ヒドロキシメタンスルフィン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸、およびその塩、第一銅塩、第一鉄塩などの還元剤を重合開始剤に組み合わせて用いるレドックス系開始剤;ベンゾフェノン、N,N′−テトラアルキル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパノン−1、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、アルキルアントラキノン、フェナントレンキノン等のキノン類、ベンゾイン、アルキルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、N−フェニルグリシン、N−フェニルグリシン誘導体、9−フェニルアクリジン等のアクリジン誘導体、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(o−ベンゾイルオキシム)]等のオキシムエステル類、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン等のクマリン系化合物、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物等の光(主として紫外線)開裂型ラジカル重合開始剤が挙げられるが、特に限定されるものではない。また、これら重合開始剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。また、重合開始剤の使用量は、特に限定されるものではない。   In addition, when a copolymer is obtained by employing a solution polymerization method, a bulk polymerization method, or a suspension polymerization method, a polymerization initiator can be used. Specific examples of the polymerization initiator include 2,2′-azobis- (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobis (cyclohexane- 1-carbonitrile), benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, oil-soluble radical polymerization initiators such as t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; ammonium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate , T-butyl peroxide, 2,2-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] Disulfuric acid dihydrate, 2,2-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropion Midine] hydrate, 2,2-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane} dihydrochloride, 2,2-azobis [2- (2- Imidazolin-2-yl) propane], 2,2-azobis (1-imino-1-pyrrolidino-2-ethylpropane) dihydrochloride, 2,2-azobis {2-methyl-N- [1,1- Bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide}, 2,2-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2-azobis (N-hydroxyethylisobutyramide) Water-soluble radical polymerization initiators such as 4,4-azobis (4-cyanopentanoic acid); polymerization initiators of persulfates and organic peroxides, sodium sulfooxylate formaldehyde, sodium hydrogensulfite As a polymerization initiator, a reducing agent such as sodium, ammonium bisulfite, sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate, hydrogen peroxide, sodium hydroxymethanesulfinate, L-ascorbic acid, and salts thereof, cuprous salts, ferrous salts, etc. Redox initiators used in combination; benzophenone, N, N′-tetraalkyl-4,4′-diaminobenzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propanone-1,4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (Michler ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-methoxy Aromatic ketones such as -4'-dimethylaminobenzophenone, alkyl Quinones such as anthraquinone and phenanthrenequinone, benzoin compounds such as benzoin and alkylbenzoin, benzoin ether compounds such as benzoin alkyl ether and benzoin phenyl ether, benzyl derivatives such as benzyldimethyl ketal, 2- (o-chlorophenyl) -4,5 -Diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) -5-phenylimidazole dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl)- 2,4, such as 4,5-diphenylimidazole dimer 5-triarylimidazole dimer, N-phenylglycine, N-phenylglycine derivative, acridine derivative such as 9-phenylacridine, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (o -Benzoyloxime)], coumarin compounds such as 7-diethylamino-4-methylcoumarin, thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide Examples thereof include, but are not particularly limited to, light (mainly ultraviolet) cleavage type radical polymerization initiators such as acylphosphine oxide compounds. Moreover, these polymerization initiators may use only 1 type, and may mix and use 2 or more types suitably. Moreover, the usage-amount of a polymerization initiator is not specifically limited.

反応温度は、特に限定されるものではないが、室温〜200℃の範囲が好ましく、50℃〜150℃の範囲がより好ましい。尚、反応時間は、反応温度、或いは、用いる原材料の種類等に応じて、重合反応が完結するように、適宜設定すればよい。   Although reaction temperature is not specifically limited, The range of room temperature-200 degreeC is preferable, and the range of 50 degreeC-150 degreeC is more preferable. In addition, what is necessary is just to set reaction time suitably so that a polymerization reaction may be completed according to reaction temperature or the kind of raw material to be used.

光重合法を採用して共重合体を得る場合において用いる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によって光重合開始作用を示す公知の光重合開始剤のいずれもが使用できる。例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどを挙げることができ、また、ベンゾフェノンおよび/または2−イソプロピルチオキサントンと重合促進剤の2−エチルヘキシル−4−ジメチルアミノベンゾエートおよび/またはエチル−4−ジメチルアミノベンゾエートといった組み合わせも使用できる。本発明で、これらの光重合開始剤を単独で用いてもよいし、または2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the photopolymerization initiator used in the case of obtaining a copolymer by employing the photopolymerization method, any of known photopolymerization initiators that exhibit photopolymerization initiating action upon irradiation with active energy rays can be used. For example, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [ 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) ) -Benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, phenylglyoxylic acid methyl ester, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzene) And (zyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. A combination of 2-isopropylthioxanthone and the polymerization accelerators 2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoate and / or ethyl-4-dimethylaminobenzoate can also be used. In the present invention, these photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体を添加可能な樹脂は特に限定されるわけではないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリ-3−メチルブチレン、ポリメチルペンテンなどのα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、スチレンと他の単量体(無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど)との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン樹脂、メタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン樹脂などのスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、強化ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマレイミド、ポリアミドイミド、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、水溶性樹脂、粉体塗料用樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等を挙げることができる。   The resin to which the benzotriazole copolymer of the present invention can be added is not particularly limited. For example, α-olefin heavy polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, polypentene, poly-3-methylbutylene, and polymethylpentene can be used. Polyolefins such as coalesced or ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-propylene copolymer, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, brominated polyethylene, rubber chloride, vinyl chloride -Vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-propylene copolymer, vinyl chloride-styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride -Styrene-maleic anhydride terpolymer Vinyl chloride-styrene-acrylonitrile terpolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate ternary copolymer Halogen-containing synthesis such as polymers, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, internal plastic polyvinyl chloride Resin, petroleum resin, coumarone resin, polystyrene, copolymer of styrene and other monomers (maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.), acrylonitrile-butadiene-styrene resin, acrylate-butadiene-styrene resin, methacryl Acid ester-butadiene Styrene resin such as styrene resin, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, acrylic resin, methacrylate resin, polyacrylonitrile, polyphenylene oxide, polycarbonate, modified polyphenylene oxide, polyacetal, phenol resin, urea resin, melamine resin, Epoxy resin, silicone resin, polyethylene terephthalate, reinforced polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polysulfone resin, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyetherketone, polyetherimide, polyoxybenzoyl, polyimide, polymaleimide, polyamideimide, alkyd resin , Amino resin, vinyl resin, water-soluble resin, resin for powder coating, polyamide Examples thereof include a resin, a polyurethane resin, a polythiourethane resin, and an unsaturated polyester resin.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体を樹脂に添加する場合、紫外線吸収剤としては本発明のベンゾトリアゾール系共重合体のみ、あるいは他の紫外線吸収剤と組み合わせて使用できる。本発明のベンゾトリアゾール系共重合体以外の紫外線吸収剤としては、一般に市場で入手できるもので紫外領域を吸収できるものであれば特に限定されない。例えば、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、サリシレート誘導体、シアノアクリレート誘導体、トリアジン誘導体等が用いられる。これらの紫外線吸収剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜混合して用いてもよい。   When the benzotriazole copolymer of the present invention is added to a resin, only the benzotriazole copolymer of the present invention can be used as a UV absorber, or a combination with other UV absorbers. The ultraviolet absorber other than the benzotriazole copolymer of the present invention is not particularly limited as long as it is generally available on the market and can absorb the ultraviolet region. For example, benzotriazole derivatives, benzophenone derivatives, salicylate derivatives, cyanoacrylate derivatives, triazine derivatives and the like are used. These ultraviolet absorbers may be used alone or in a suitable mixture of two or more.

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体は、樹脂に対して0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜2重量%の範囲で使用されることが好ましい。   The benzotriazole copolymer of the present invention is used in an amount of 0.01 to 20% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight, based on the resin.

以下に本発明で実施したベンゾトリアゾール系共重合体の合成法及び特性を示す。ただし合成方法はこれに限定されるものではない。   The synthesis method and characteristics of the benzotriazole copolymer carried out in the present invention are shown below. However, the synthesis method is not limited to this.

(中間体合成例1)
[前駆体;2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−5−オクチルオキシフェノールの合成]

Figure 2018188589
(Intermediate Synthesis Example 1)
[Precursor; Synthesis of 2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl] -5-octyloxyphenol]
Figure 2018188589

1000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、常法にて合成した4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールを176.0g(0.684モル)、メチルイソブチルケトン350ml、1−クロロオクタン142.0g(0.955モル)、炭酸ナトリウム62.0g(0.585モル)、ヨウ化カリウム5.2gを入れて、120〜130℃で12時間還流脱水した。水200mlを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水200mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン350mlを減圧で回収し、イソプロピルアルコール450mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール200mlで洗浄し、乾燥して、2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−オクチルオキシフェノールを216.9g得た。   A 1000 ml four-necked flask was equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 176 of 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol synthesized by a conventional method was obtained. 0.0 g (0.684 mol), methyl isobutyl ketone 350 ml, 1-chlorooctane 142.0 g (0.955 mol), sodium carbonate 62.0 g (0.585 mol), potassium iodide 5.2 g, The mixture was refluxed and dehydrated at 120 to 130 ° C. for 12 hours. 200 ml of water was added, the mixture was allowed to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed, followed by washing with 200 ml of warm water. 350 ml of methyl isobutyl ketone was recovered under reduced pressure, 450 ml of isopropyl alcohol was added, the precipitated crystals were filtered, washed with 200 ml of isopropyl alcohol and dried to give 2- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) 216.9 g of -5-octyloxyphenol was obtained.

10Lの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−オクチルオキシフェノールを216.9g(0.587モル)、47%臭化水素酸125.8g(0.731モル)、スルホラン1800mlを入れて100〜105℃で48時間撹拌した。トルエン800ml、水3500mlを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水1300mlで2回洗浄し、トルエン800mlを減圧で回収した。イソプロピルアルコール800ml、水200mlを加えて、5℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液(80% V/V)200mlで洗浄し、乾燥して、2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−オクチルオキシフェノールを126.6g得た。   A condenser with a ball, a thermometer, and a stirrer were attached to a 10 L four-necked flask, and 216.9 g (0.587 mol) of 2- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) -5-octyloxyphenol was attached. ), 475.8 g of hydrobromic acid (0.731 mol) and 1800 ml of sulfolane were added and stirred at 100 to 105 ° C. for 48 hours. Toluene (800 ml) and water (3500 ml) were added, and the mixture was allowed to stand. The lower aqueous layer was separated and removed, washed with warm water (1300 ml) twice, and toluene (800 ml) was collected under reduced pressure. Add 800 ml of isopropyl alcohol and 200 ml of water, cool to 5 ° C., filter the precipitated crystals, wash with 200 ml of an aqueous isopropyl alcohol solution (80% V / V), dry and 2- (5-hydroxy-2H -126.6g of -benzotriazol-2-yl) -5-octyloxyphenol was obtained.

1000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−オクチルオキシフェノールを126.6g(0.356モル)、メチルイソブチルケトン450ml、2−クロロエタノール35.8g(0.445モル)、炭酸ナトリウム23.5g(0.222モル)、ヨウ化カリウム17.8gを入れて、113〜118℃で10時間還流脱水した。250mlの水を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水150mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン450mlを減圧で回収後にイソプロピルアルコール500mlを加えて10℃まで冷却し、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール50mlで洗浄し、乾燥して、2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−5−オクチルオキシフェノールを95.3g得た。収率35%(4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールから)であった。   A 1000 ml four-necked flask is equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 126.6 g (0.356 mol) of 2- (5-hydroxy-2H-benzotriazol-2-yl) -5-octyloxyphenol is attached. ), 450 ml of methyl isobutyl ketone, 35.8 g (0.445 mol) of 2-chloroethanol, 23.5 g (0.222 mol) of sodium carbonate, and 17.8 g of potassium iodide, and at 113 to 118 ° C. for 10 hours. Reflux dehydration. 250 ml of water was added, the mixture was allowed to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed, followed by washing with 150 ml of warm water. After recovering 450 ml of methyl isobutyl ketone under reduced pressure, 500 ml of isopropyl alcohol was added and cooled to 10 ° C., and the precipitated crystals were filtered, washed with 50 ml of isopropyl alcohol and dried to give 2- [5- (2-hydroxyethoxy). 95.3 g of -2H-benzotriazol-2-yl] -5-octyloxyphenol was obtained. The yield was 35% (from 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol).

(中間体合成例2)
[化合物(a);2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレートの合成]

Figure 2018188589

化合物(a) (Intermediate Synthesis Example 2)
[Compound (a); Synthesis of 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate]
Figure 2018188589

Compound (a)

1000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−5−オクチルオキシフェノールを95.3g(0.239モル)、トルエン550ml、メタクリル酸50.6g(0.588モル)、メタンスルホン酸29.8g(0.310モル)を入れて、110〜115℃で4時間還流脱水した。水200ml、炭酸ナトリウム32.8g(0.309モル)を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭1.8gを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時にろ過し、そのろ液からトルエン550mlを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール750mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール100mlで洗浄した後、減圧下40℃で乾燥し、白色結晶を88.1g得た。全量をイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下40℃で乾燥し、化合物(a)を77.8g得た。収率70%(2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−5−オクチルオキシフェノールから)であった。融点は92℃。   A 1000 ml four-necked flask is equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 95.3 g of 2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl] -5-octyloxyphenol is attached. (0.239 mol), 550 ml of toluene, 50.6 g (0.588 mol) of methacrylic acid, and 29.8 g (0.310 mol) of methanesulfonic acid were added, followed by reflux dehydration at 110 to 115 ° C. for 4 hours. 200 ml of water and 32.8 g (0.309 mol) of sodium carbonate were added, and the mixture was allowed to stand to separate and remove the lower aqueous layer. 1.8 g of activated carbon was added, and the mixture was refluxed and decolorized. Filtration was performed while hot, and 550 ml of toluene was recovered from the filtrate under reduced pressure. Then, 750 ml of isopropyl alcohol was added. The precipitated crystals were filtered, washed with 100 ml of isopropyl alcohol, and then dried at 40 ° C. under reduced pressure. 0.1 g was obtained. The entire amount was recrystallized from isopropyl alcohol and dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain 77.8 g of compound (a). The yield was 70% (from 2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl] -5-octyloxyphenol). Melting point is 92 ° C.

また、HPLC分析により、化合物(a)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6×150mm 5μm
カラム温度:40℃
移動相: メタノール/水=99/1
流速:1.0ml/min
<測定結果>
HPLC面百純度:99.9%
なお、以下の化合物(b)も化合物(a)と同様の測定条件でHPLC分析を行った。
Moreover, the purity of the compound (a) was measured by HPLC analysis.
<Measurement conditions>
Device: L-2130 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
Column used: SUMPAX ODS A-212 6 × 150 mm 5 μm
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: Methanol / water = 99/1
Flow rate: 1.0 ml / min
<Measurement results>
HPLC area purity: 99.9%
The following compound (b) was also subjected to HPLC analysis under the same measurement conditions as for compound (a).

また、化合物(a)の紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは350nmであり、この時の吸光度εは30900であった。スペクトルの測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:UV−2450((株)島津製作所製)
測定波長:250〜 450nm
溶媒:クロロホルム
濃度:10ppm
セル:1cm石英
なお、以下の化合物(b)、(c)、(d)も化合物(a)と同様の測定条件で紫外〜可視吸収スペクトルの測定を行った。
Further, when the ultraviolet to visible absorption spectrum of the compound (a) was measured, the maximum absorption wavelength λmax was 350 nm, and the absorbance ε at this time was 30900. The spectrum measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Apparatus: UV-2450 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Measurement wavelength: 250-450 nm
Solvent: Chloroform Concentration: 10 ppm
Cell: 1 cm quartz In addition, the following compounds (b), (c), and (d) were also measured for ultraviolet to visible absorption spectra under the same measurement conditions as for the compound (a).

また、化合物(a)のNMR解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:JEOL AL−300
共振周波数:300MHz(1H−NMR)
溶媒:クロロホルム−d
1H−NMRの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値(ppm)、カップリング定数はHertzで示した。またsはsinglet、dはdoublet、tはtriplet、ddはdouble doublet、mはmultiplet、bはbroadの略とする。以下の化合物(b)、(c)、(d)においても同様である。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.3(s,OH),8.19(d,1H,J=9.9Hz,benzotriazole−H),7.78(dd,1H,J=9.92Hz,J=0.96Hz,J=0.87Hz,benzotriazole−H),7.0−7.3(m,2H,benzotriazole−H,phenol−H),6.67(d,1H,J=2.91Hz,phenol−H),6.59(dd,1H,J=10.2Hz,J=2.94Hz,J=3.06Hz,=CH−H),6.17(s,1H,phenol−H),5.61(t,1H,=CH−H),4.57(t,2H,O−CH−CH−O−H),4.32(t,2H,O−CH−CH−O−H),4.00(t,2H,pH−O−CH−H),1.80(m,2H,CH−H),1.2−1.6(m,10H,(CH)5−H),0.89(s,3H,CH−H)
Further, as a result of conducting NMR analysis of the compound (a), a result supporting the above structure was obtained. The measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Device: JEOL AL-300
Resonant frequency: 300 MHz (1H-NMR)
Solvent: chloroform-d
Tetramethylsilane was used as an internal standard of 1H-NMR, the chemical shift value was represented by δ value (ppm), and the coupling constant was represented by Hertz. S is a singlet, d is a doublet, t is a triplet, dd is a double doublet, m is a multiplet, and b is abbreviated. The same applies to the following compounds (b), (c), and (d). The contents of the obtained NMR spectrum are as follows.
δ = 11.3 (s, OH), 8.19 (d, 1H, J = 9.9 Hz, benzotriazole-H), 7.78 (dd, 1H, J = 9.92 Hz, J = 0.96 Hz, J = 0.87 Hz, benzotriazole-H), 7.0-7.3 (m, 2H, benzotriazole-H, phenol-H), 6.67 (d, 1H, J = 2.91 Hz, phenol-H) 6.59 (dd, 1H, J = 10.2 Hz, J = 2.94 Hz, J = 3.06 Hz, = CH 2 -H), 6.17 (s, 1H, phenol-H), 5.61. (T, 1H, ═CH 2 —H), 4.57 (t, 2H, O—CH 2 —CH 2 —O—H), 4.32 (t, 2H, O—CH 2 —CH 2 —O) -H), 4.00 (t, 2H , pH-O-CH 2 -H), 1.8 (M, 2H, CH 2 -H ), 1.2-1.6 (m, 10H, (CH 2) 5-H), 0.89 (s, 3H, CH 3 -H)

(中間体合成例3)
[化合物(b);2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルアクリレートの合成]

Figure 2018188589

化合物(b) (Intermediate Synthesis Example 3)
[Compound (b); Synthesis of 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl acrylate]
Figure 2018188589

Compound (b)

メタクリル酸をアクリル酸とした以外は中間体合成例2と同様にして、化合物(b)を収率43%(2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−5−オクチルオキシフェノールから)で得た。融点86℃、HPLC面百純度98.7%、最大吸収波長λmaxが351nmの時の吸光度εは29700であった。   Compound (b) was obtained in the same manner as in Intermediate Synthesis Example 2 except that methacrylic acid was acrylic acid, and the yield of compound (b) was 43% (2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl]. -5-octyloxyphenol). The absorbance ε was 29,700 when the melting point was 86 ° C., the HPLC surface purity was 98.7%, and the maximum absorption wavelength λmax was 351 nm.

また、化合物(b)のNMR解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置: VARIAN Mercury300
共振周波数:300MHz(1H−NMR)
溶媒:クロロホルム−d
得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。なお、以下の化合物(c)、(d)も化合物(b)と同様の測定条件でNMR測定を行った。
δ=11.3(b,OH),8.21(d,1H,J=9.07Hz,benzotriazole−H),7.79(d,1H,J=9.07Hz,benzotriazole−H),7.18(d,1H,J=2.3Hz,phenol−H),7.16(d,1H,J=2.3Hz,phenol−H),7.15(d,1H,J=1.81,benzotriazole−H,),6.67(s,1H,phenol−H),6.60(m,1H,=CH−H),6.20(q,1H,CH=−H),5.89(dd,1H,J=10.5Hz,J=0.66Hz,J=0.75Hz,=CH−H),4.32(t,2H,O−CH−CH−O−H),4.00(t,2H,O−CH−CH−O−H),0.8−2(m,17H,n−C8H17−H)
Further, as a result of conducting NMR analysis of the compound (b), a result supporting the above structure was obtained. The measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Equipment: VARIAN Mercury300
Resonant frequency: 300 MHz (1H-NMR)
Solvent: chloroform-d
The contents of the obtained NMR spectrum are as follows. The following compounds (c) and (d) were subjected to NMR measurement under the same measurement conditions as for the compound (b).
δ = 11.3 (b, OH), 8.21 (d, 1H, J = 9.07 Hz, benzotriazole-H), 7.79 (d, 1H, J = 9.07 Hz, benzotriazole-H), 7 .18 (d, 1H, J = 2.3 Hz, phenol-H), 7.16 (d, 1H, J = 2.3 Hz, phenol-H), 7.15 (d, 1H, J = 1.81) , benzotriazole-H,), 6.67 (s, 1H, phenol-H), 6.60 (m, 1H, = CH 2 -H), 6.20 (q, 1H, CH = -H), 5 .89 (dd, 1H, J = 10.5 Hz, J = 0.66 Hz, J = 0.75 Hz, = CH 2 —H), 4.32 (t, 2H, O—CH 2 —CH 2 —O—) H), 4.00 (t, 2H , O-CH 2 -CH 2 -O-H), 0.8 2 (m, 17H, n-C8H17-H)

(中間体合成例4)
[化合物(c);2−[2−(4−ブトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレートの合成]

Figure 2018188589

化合物(c) (Intermediate Synthesis Example 4)
[Compound (c); Synthesis of 2- [2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate]
Figure 2018188589

Compound (c)

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールを17.0g(0.066モル)、メチルイソブチルケトン35ml、1−ブロモブタン9.2g(0.067モル)、炭酸ナトリウム5.6g(0.053モル)、ヨウ化カリウム4.9gを入れて105〜115℃で4時間還流撹拌した。水35mlを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水35mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン35mlを減圧で回収後にイソプロピルアルコール100mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール20mlで洗浄し、乾燥して、5−ブトキシ−2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを15.0g得た。   A 200 ml four-necked flask was equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 17.0 g (0.066) of 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol was added. Mol), 35 ml of methyl isobutyl ketone, 9.2 g (0.067 mol) of 1-bromobutane, 5.6 g (0.053 mol) of sodium carbonate, and 4.9 g of potassium iodide, and refluxed at 105 to 115 ° C. for 4 hours. Stir. 35 ml of water was added, and the mixture was allowed to stand to separate and remove the lower aqueous layer, followed by washing with 35 ml of warm water. After recovering 35 ml of methyl isobutyl ketone under reduced pressure, 100 ml of isopropyl alcohol was added, and the precipitated crystals were filtered, washed with 20 ml of isopropyl alcohol, dried, and 5-butoxy-2- (5-methoxy-2H-benzotriazole-2 -Yl) 15.0 g of phenol was obtained.

500mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−ブトキシ−2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを15.0g(0.048モル)、47%臭化水素酸9.9g(0.058モル)、スルホラン145mlを入れて100〜105℃で48時間撹拌した。トルエン70ml、水200mlを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水100mlで2回洗浄し、トルエン70mlを減圧で回収した。イソプロピルアルコール30ml、水15mlを加えて、5℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液(70% V/V)20mlで洗浄し、乾燥して、5−ブトキシ−2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを6.2g得た。   A 500 ml four-necked flask is equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 15.0 g (0.048 mol) of 5-butoxy-2- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol 47% hydrobromic acid (9.9 g, 0.058 mol) and sulfolane (145 ml) were added, and the mixture was stirred at 100 to 105 ° C. for 48 hours. 70 ml of toluene and 200 ml of water were added and left standing to separate and remove the lower aqueous layer, washed twice with 100 ml of warm water, and 70 ml of toluene was recovered under reduced pressure. 30 ml of isopropyl alcohol and 15 ml of water were added and cooled to 5 ° C., and the precipitated crystals were filtered, washed with 20 ml of aqueous isopropyl alcohol (70% V / V), dried, and 5-butoxy-2- (5 6.2 g of -hydroxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol was obtained.

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−ブトキシ−2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを6.2g(0.021モル)、メチルイソブチルケトン50ml、2−クロロエタノール7.4g(0.092モル)、炭酸ナトリウム4.9g(0.046モル)、ヨウ化カリウム0.2gを入れて113〜118℃で10時間還流脱水した。水50mlを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水50mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン50mlを減圧で回収後にイソプロピルアルコール25mlを加えて5℃まで冷却し、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール15mlで洗浄し、乾燥して、5−ブトキシ−2−(5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを3.4g得た。   A 200 ml four-necked flask was equipped with a ball condenser, thermometer, and stirring device, and 6.2 g (0.021 mol) of 5-butoxy-2- (5-hydroxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol was attached. , 50 ml of methyl isobutyl ketone, 7.4 g (0.092 mol) of 2-chloroethanol, 4.9 g (0.046 mol) of sodium carbonate, and 0.2 g of potassium iodide, and refluxed at 113 to 118 ° C. for 10 hours. did. 50 ml of water was added, the mixture was allowed to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed, followed by washing with 50 ml of warm water. After recovering 50 ml of methyl isobutyl ketone under reduced pressure, 25 ml of isopropyl alcohol is added and cooled to 5 ° C., and the precipitated crystals are filtered, washed with 15 ml of isopropyl alcohol and dried to give 5-butoxy-2- (5- (2 3.4 g of -hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl) phenol was obtained.

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−ブトキシ−2−(5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを3.4g(0.010モル)、トルエン40ml、メタクリル酸1.7g(0.020モル)、メタンスルホン酸0.2g(0.002モル)を入れて、110〜115℃で4時間還流脱水した。水30ml、炭酸ナトリウム0.7g(0.007モル)を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭0.1gを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時にろ過し、ろ液からトルエン40mlを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール30mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール15mlで洗浄した後、減圧下40℃で乾燥し、白色結晶を2.7g得た。この2.7gをイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下40℃で乾燥し、化合物(c)を2.2g得た。収率8%(4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールから)であった。融点101℃、最大吸収波長λmaxが351nmの時の吸光度εは29100であった。   A 200 ml four-necked flask was equipped with a ball condenser, a thermometer, and a stirring device, and 3.4 g of 5-butoxy-2- (5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl) phenol ( 0.010 mol), toluene 40 ml, methacrylic acid 1.7 g (0.020 mol), and methanesulfonic acid 0.2 g (0.002 mol) were added and reflux dehydrated at 110-115 ° C. for 4 hours. 30 ml of water and 0.7 g (0.007 mol) of sodium carbonate were added and left standing to separate and remove the lower aqueous layer, 0.1 g of activated carbon was added, and the mixture was stirred under reflux to decolorize. Filtration was performed while hot, and 40 ml of toluene was collected from the filtrate under reduced pressure, 30 ml of isopropyl alcohol was added, the precipitated crystals were filtered, washed with 15 ml of isopropyl alcohol, and then dried at 40 ° C. under reduced pressure to give 2. 7 g was obtained. 2.7 g of this was recrystallized from isopropyl alcohol and dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain 2.2 g of compound (c). The yield was 8% (from 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol). When the melting point was 101 ° C. and the maximum absorption wavelength λmax was 351 nm, the absorbance ε was 29100.

また、HPLC分析により、化合物(c)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:Inertsil ODS−3 4.6×150mm 5μm
カラム温度:25℃
移動相: アセトニトリル/水=9/1(リン酸3ml/L)
流速:1.0ml/min
<測定結果>
HPLC面百純度:98.7%
なお、以下の化合物(d)も化合物(c)と同様の測定条件でHPLC測定を行った。
Moreover, the purity of the compound (c) was measured by HPLC analysis.
<Measurement conditions>
Device: L-2130 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
Column used: Inertsil ODS-3 4.6 × 150 mm 5 μm
Column temperature: 25 ° C
Mobile phase: acetonitrile / water = 9/1 (phosphoric acid 3 ml / L)
Flow rate: 1.0 ml / min
<Measurement results>
HPLC area purity: 98.7%
The following compound (d) was also subjected to HPLC measurement under the same measurement conditions as for compound (c).

また、化合物(c)のNMR解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.3(b,OH),8.21(d,1H,J=9.24Hz,benzotriazole−H),7.80(dd,1H,J=9.1Hz,J=0.66Hz,J=0.66Hz,benzotriazole−H),7.18(d,1H,J=2.31Hz,phenol−H),6.68(d,1H,J=2.64Hz,phenol−H),6.60(dd,1H,J=9.2Hz,J=2.64Hz,J=2.64Hz,benzotriazole−H,),6.18(s,1H,=CH−H),5.62(m,1H,=CH−H),0.9−2.1(m,3H,9H,CH,n−C4H9−H)
Further, as a result of conducting NMR analysis of the compound (c), a result supporting the above structure was obtained. The contents of the obtained NMR spectrum are as follows.
δ = 11.3 (b, OH), 8.21 (d, 1H, J = 9.24 Hz, benzotriazole-H), 7.80 (dd, 1H, J = 9.1 Hz, J = 0.66 Hz, J = 0.66 Hz, benzotriazole-H), 7.18 (d, 1H, J = 2.31 Hz, phenol-H), 6.68 (d, 1H, J = 2.64 Hz, phenol-H), 6 .60 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, J = 2.64 Hz, J = 2.64 Hz, benzotriazole-H,), 6.18 (s, 1H, ═CH 2 —H), 5.62 ( m, 1H, = CH 2 -H ), 0.9-2.1 (m, 3H, 9H, CH 3, n-C4H9-H)

(中間体合成例5)
[化合物(d);2−[2−(4−エトキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレートの合成]

Figure 2018188589

化合物(d) (Intermediate Synthesis Example 5)
[Compound (d); Synthesis of 2- [2- (4-Ethoxy-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate]
Figure 2018188589

Compound (d)

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールを10.0g(0.039モル)、メチルイソブチルケトン40ml、ブロモエタン6.4g(0.059モル)、炭酸ナトリウム3.3g(0.031モル)、ヨウ化カリウム3.0gを入れて95〜110℃で6時間還流撹拌した。水20mlを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水20mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン40mlを減圧で回収後にイソプロピルアルコール100mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール25mlで洗浄し、乾燥して、5−エトキシ−2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを8.2g得た。   A 200 ml four-necked flask was equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 10.0 g (0.039) of 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol was attached. Mol), 40 ml of methyl isobutyl ketone, 6.4 g (0.059 mol) of bromoethane, 3.3 g (0.031 mol) of sodium carbonate, and 3.0 g of potassium iodide, and the mixture was refluxed and stirred at 95 to 110 ° C. for 6 hours. . 20 ml of water was added, the mixture was allowed to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed, and washed with 20 ml of warm water. After recovering 40 ml of methyl isobutyl ketone under reduced pressure, 100 ml of isopropyl alcohol is added, and the precipitated crystals are filtered, washed with 25 ml of isopropyl alcohol, dried, and 5-ethoxy-2- (5-methoxy-2H-benzotriazole-2 -Yl) 8.2 g of phenol was obtained.

500mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−エトキシ−2−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを8.2g(0.029モル)、47%臭化水素酸6.2g(0.036モル)、スルホラン82mlを入れて100〜105℃で33時間撹拌させた。トルエン50ml、水165mlを加えて、静置して下層の水層を分離して除去し、温水80mlで洗浄し、トルエン50mlを減圧で回収した。イソプロピルアルコール35ml、水15mlを加えて、5℃まで冷却し、析出する結晶をろ過し、イソプロピルアルコール水溶液(70% V/V)20mlで洗浄し、乾燥して、5−エトキシ−2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを4.6g得た。   A 500 ml four-necked flask was equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 8.2 g (0.029 mol) of 5-ethoxy-2- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol was attached. 47% hydrobromic acid (6.2 g, 0.036 mol) and sulfolane (82 ml) were added and stirred at 100 to 105 ° C. for 33 hours. Toluene (50 ml) and water (165 ml) were added and allowed to stand to separate and remove the lower aqueous layer, washed with warm water (80 ml), and toluene (50 ml) was recovered under reduced pressure. Add 35 ml of isopropyl alcohol and 15 ml of water, cool to 5 ° C., filter the precipitated crystals, wash with 20 ml of an aqueous isopropyl alcohol solution (70% V / V), dry and dry 5-ethoxy-2- (5 4.6 g of -hydroxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol was obtained.

200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−エトキシ−2−(5−ヒドロキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノールを4.6g(0.017モル)、メチルイソブチルケトン35ml、2−クロロエタノール1.7g(0.021モル)、炭酸ナトリウム1.1g(0.010モル)、ヨウ化カリウム0.9gを入れて、113〜118℃で8時間還流脱水した。水30mlを加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、温水30mlで洗浄した。メチルイソブチルケトン35mlを減圧で回収し、5−エトキシ−2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]フェノールの固形分を5.0g得た。   A 200 ml four-necked flask is equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirring device, and 4.6 g (0.017 mol) of 5-ethoxy-2- (5-hydroxy-2H-benzotriazol-2-yl) phenol is attached. , 35 ml of methyl isobutyl ketone, 1.7 g (0.021 mol) of 2-chloroethanol, 1.1 g (0.010 mol) of sodium carbonate and 0.9 g of potassium iodide, and refluxed at 113 to 118 ° C. for 8 hours. Dehydrated. 30 ml of water was added, the mixture was allowed to stand, and the lower aqueous layer was separated and removed, followed by washing with 30 ml of warm water. 35 ml of methyl isobutyl ketone was recovered under reduced pressure to obtain 5.0 g of a solid content of 5-ethoxy-2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl] phenol.

300mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−エトキシ−2−[5−(2−ヒドロキシエトキシ)−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]フェノールの固形分を5.0g(0.016モル)、トルエン100ml、メタクリル酸2.7g(0.031モル)、メタンスルホン酸2.0g(0.021モル)を入れて、110〜115℃で4時間還流脱水した。水80ml、炭酸ナトリウム1.9g(0.018モル)を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性炭0.1gを加え、還流撹拌して脱色させた。熱時ろ過し、ろ液からトルエン100mlを減圧で回収した後にイソプロピルアルコール30mlを加え、析出した結晶をろ過し、イソプロピルアルコール20mlで洗浄した後、減圧下40℃で乾燥し、白色結晶を3.2g得た。この3.2gをイソプロピルアルコールで再結晶して、減圧下40℃で乾燥し、化合物(d)を1.6g得た。収率11%(4−(5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)ベンゼン−1,3−ジオールから)であった。融点156℃、HPLC面百純度98.1%、最大吸収波長λmaxが350nmの時の吸光度εは29000であった。   A 300 ml four-necked flask is equipped with a condenser with a ball, a thermometer, and a stirrer, and the solid content of 5-ethoxy-2- [5- (2-hydroxyethoxy) -2H-benzotriazol-2-yl] phenol is 5 0.0 g (0.016 mol), 100 ml of toluene, 2.7 g (0.031 mol) of methacrylic acid, and 2.0 g (0.021 mol) of methanesulfonic acid were added and dehydrated at 110 to 115 ° C. for 4 hours. . 80 ml of water and 1.9 g (0.018 mol) of sodium carbonate were added and left standing to separate and remove the lower aqueous layer, 0.1 g of activated carbon was added, and the mixture was stirred and refluxed to decolorize. After hot filtration, 100 ml of toluene was recovered from the filtrate under reduced pressure, 30 ml of isopropyl alcohol was added, the precipitated crystals were filtered, washed with 20 ml of isopropyl alcohol, and then dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain white crystals. 2 g was obtained. 3.2 g of this was recrystallized from isopropyl alcohol and dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain 1.6 g of compound (d). The yield was 11% (from 4- (5-methoxy-2H-benzotriazol-2-yl) benzene-1,3-diol). The absorbance ε was 29000 when the melting point was 156 ° C., the HPLC area purity was 98.1%, and the maximum absorption wavelength λmax was 350 nm.

また、化合物(d)のNMR解析を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.3(b,OH),8.21(d,1H,J=9.07Hz,benzotriazole−H),7.79(d,1H,J=9.72,benzotriazole−H),7.16(m,1H,phenol−H),6.68(d,1H,J=2.64Hz,phenol−H),6.59(dd,1H,J=9.2,J=2.8,J=2.64,phenol−H,),6.17(s,1H,C=CH−H),5.61(t,1H,=CH−H),4.58(m,2H,O−CH−CH−O−H),4.32(t,2H,O−CH−CH−O−H),4.08(q,2H,−CH−CH−H),1.67(s,3H,C=CH−CH−H),1.57(t,3H,CH−CH−H)
Further, as a result of conducting NMR analysis of the compound (d), a result supporting the above structure was obtained. The contents of the obtained NMR spectrum are as follows.
δ = 11.3 (b, OH), 8.21 (d, 1H, J = 9.07 Hz, benzotriazole-H), 7.79 (d, 1H, J = 9.72, benzotriazole-H), 7 .16 (m, 1H, phenol-H), 6.68 (d, 1H, J = 2.64 Hz, phenol-H), 6.59 (dd, 1H, J = 9.2, J = 2.8) , J = 2.64, phenol-H ,), 6.17 (s, 1H, C = CH 2 -H), 5.61 (t, 1H, = CH 2 -H), 4.58 (m, 2H, O—CH 2 —CH 2 —O—H), 4.32 (t, 2H, O—CH 2 —CH 2 —O—H), 4.08 (q, 2H, —CH 2 —CH 3). -H), 1.67 (s, 3H , C = CH 2 -CH 3 -H), 1.57 (t, 3H, CH 2 -CH 3 -H)

(実施例1)
[共重合体(a);化合物(a)/1,2−ポリブタジエンの共重合]
100mlのガラス管に、化合物(a);2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレートを1.87g(0.004モル)、ベンゼン20ml、1,2−ポリブタジエン1.30g(0.024モル)(Aldrich社製「製品番号466867−250ML」)、ベンゾイルパーオキサイド0.097g(0.0004モル)を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を90℃のオイルバスに入れて24時間重合させた。重合溶液を100mlフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム10mlを加えて生成物を溶解させ、その溶液を200mlのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン100mlで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の共重合体(a)を1.90g得た。
(Example 1)
[Copolymer (a); Copolymerization of Compound (a) / 1,2-Polybutadiene]
In a 100-ml glass tube, 1.87 g (0.004 mol) of compound (a); 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, After 20 ml of benzene, 1.30 g (0.024 mol) of 1,2-polybutadiene (“Product No. 466867-250 ML” manufactured by Aldrich) and 0.097 g (0.0004 mol) of benzoyl peroxide were freeze-dried. Sealed. The glass tube was placed in a 90 ° C. oil bath and polymerized for 24 hours. The polymerization solution was transferred to a 100 ml flask, and benzene was distilled off with an evaporator. Thereto was added 10 ml of chloroform to dissolve the product, and the solution was dropped into 200 ml of acetone. The precipitated polymer was filtered, washed with 100 ml of acetone, and then dried at room temperature under reduced pressure to obtain 1.90 g of a pale yellow solid copolymer (a).

また、共重合体(a)の分子量を測定した結果、重量平均分子量(Mw)は28800、数平均分子量(Mn)は14600、多分散度(Mw/Mn)は1.97であった。測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:LC−10AD((株)島津製作所製)
溶離液:クロロホルム
カラム:Shodex K−807L、Shodex K805L、Shodex K−804L(昭和電工(株)製)
As a result of measuring the molecular weight of the copolymer (a), the weight average molecular weight (Mw) was 28800, the number average molecular weight (Mn) was 14600, and the polydispersity (Mw / Mn) was 1.97. The measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Apparatus: LC-10AD (manufactured by Shimadzu Corporation)
Eluent: Chloroform Column: Shodex K-807L, Shodex K805L, Shodex K-804L (manufactured by Showa Denko KK)

また、共重合体(a)の紫外〜可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収波長λmaxは348.4nmであった。スペクトルを図1に示す。スペクトルの測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:UV−1850((株)島津製作所製)
測定波長:250〜 450nm
溶媒:クロロホルム
濃度:10ppm
セル:1cm石英
Further, when the ultraviolet to visible absorption spectrum of the copolymer (a) was measured, the maximum absorption wavelength λmax was 348.4 nm. The spectrum is shown in FIG. The spectrum measurement conditions are as follows.
<Measurement conditions>
Apparatus: UV-1850 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Measurement wavelength: 250-450 nm
Solvent: Chloroform Concentration: 10 ppm
Cell: 1cm quartz

また、共重合体(a)の赤外線吸収スペクトルを測定した結果、化合物(a)とビニル基特有の吸収ピークが観測され、目的物が得られたことを支持した。得られた赤外線吸収スペクトルを図2に示す。なお、測定条件は次のとおりである。また、以下の実施例2も本実施例と同様の測定条件で赤外線吸収スペクトル測定を行った。
<測定条件>
装置:Nicolet iS5、Thermo Fisher
検体:ポリマー薄膜(ATR法)
Moreover, as a result of measuring the infrared absorption spectrum of the copolymer (a), absorption peaks peculiar to the compound (a) and the vinyl group were observed, which supported that the target product was obtained. The obtained infrared absorption spectrum is shown in FIG. The measurement conditions are as follows. In addition, Example 2 below also performed infrared absorption spectrum measurement under the same measurement conditions as in this example.
<Measurement conditions>
Equipment: Nicolet iS5, Thermo Fisher
Sample: Polymer thin film (ATR method)

(実施例2)
[共重合体(b);化合物(a)/1,2−ビニル構造、シス−1,4構造、およびトランス−1,4構造の混在ポリブタジエンの共重合]
100mlのガラス管に、化合物(a);2−[2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−イルオキシ]エチルメタクリレートを2.81g(0.006モル)、ベンゼン20ml、1,2−ビニル構造9%、シス−1,4構造36%、およびトランス−1,4構造55%の混在ポリブタジエン2.17g(0.040モル)(Aldrich社製「製品番号181382−100G」)、ベンゾイルパーオキサイド0.097g(0.0004モル)を入れて、凍結乾燥した後に封管した。ガラス管を90℃のオイルバスに入れて24時間重合させた。重合溶液を100mlフラスコへ移し、エバポレーターでベンゼンを留去した。そこへクロロホルム10mlを加えて生成物を溶解させ、その溶液を200mlのアセトンの中へ滴下した。析出したポリマーをろ過し、アセトン100mlで洗浄した後、減圧下室温で乾燥し、淡黄色固体の共重合体(b)を2.80g得た。共重合体(b)の赤外線吸収スペクトルを測定した結果、化合物(a)とビニル基特有の吸収ピークが観測され、目的物が得られたことを支持した。得られた赤外線吸収スペクトルを図3に示す。
(Example 2)
[Copolymer (b); Copolymerization of Compound (a) / 1,2-Vinyl Structure, Cis-1,4 Structure and Trans-1,4 Structure Mixed Polybutadiene]
In a 100 ml glass tube, 2.81 g (0.006 mol) of compound (a); 2- [2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazol-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2.17 g (0.040 mol) of mixed polybutadiene having 20 ml of benzene, 9% of 1,2-vinyl structure, 36% of cis-1,4 structure and 55% of trans-1,4 structure (product number 181382, manufactured by Aldrich) −100G ”), 0.097 g (0.0004 mol) of benzoyl peroxide was added, freeze-dried, and sealed. The glass tube was placed in a 90 ° C. oil bath and polymerized for 24 hours. The polymerization solution was transferred to a 100 ml flask, and benzene was distilled off with an evaporator. Thereto was added 10 ml of chloroform to dissolve the product, and the solution was dropped into 200 ml of acetone. The precipitated polymer was filtered, washed with 100 ml of acetone, and then dried at room temperature under reduced pressure to obtain 2.80 g of a light yellow solid copolymer (b). As a result of measuring the infrared absorption spectrum of the copolymer (b), absorption peaks peculiar to the compound (a) and the vinyl group were observed, which supported that the desired product was obtained. The obtained infrared absorption spectrum is shown in FIG.

[耐熱性の測定]
実施例1で得られた共重合体(a)、および比較例として従来の一般的な紫外線吸収剤である化合物(e);2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチルフェノールの耐熱性を、示差熱熱重量同時測定装置を用いて測定した結果を表1に示す。
[Measurement of heat resistance]
The copolymer (a) obtained in Example 1 and a compound (e) which is a conventional general ultraviolet absorber as a comparative example; 2- (2H-benzotriazol-2-yl] -4-methylphenol Table 1 shows the results of measuring the heat resistance of the samples using a differential thermothermal gravimetric simultaneous measurement apparatus.

Figure 2018188589
Figure 2018188589

[紫外線吸収フィルムの作製]
実施例1で得られた共重合体(a)または比較例の化合物(e)と、ポリスチレン、ポリカーボネート、またはポリメタクリル酸メチルと、ジクロロメタンを表2で示す比率で混合し、紫外線吸収剤を有した樹脂組成物の溶液を得た。得られた紫外線吸収剤を有した樹脂組成物の溶液20mlを、直径12cmのシャーレに移し、25℃での常圧乾燥を48時間、25℃での減圧乾燥を3時間実施して溶媒を除去し、膜厚20μmの紫外線吸収剤を1%含んだ紫外線吸収フィルムを得た。
[Preparation of UV absorbing film]
The copolymer (a) obtained in Example 1 or the compound (e) of Comparative Example, polystyrene, polycarbonate, or polymethyl methacrylate and dichloromethane were mixed in the ratio shown in Table 2, and an ultraviolet absorber was added. A resin composition solution was obtained. Transfer 20 ml of the obtained resin composition solution containing an ultraviolet absorber to a petri dish having a diameter of 12 cm, remove the solvent by drying at 25 ° C. for 48 hours, and drying at 25 ° C. for 3 hours. Then, an ultraviolet absorbing film containing 1% of an ultraviolet absorber having a film thickness of 20 μm was obtained.

Figure 2018188589
Figure 2018188589

[光沢度の測定]
上記で得られた紫外線吸収フィルム表面の光沢度を表3に示す。樹脂素材と紫外線吸収剤の相溶性が不十分な場合、紫外線吸収剤がフィルム表面にブリードアウトしてくることから、フィルム表面にざらつきが出て、光沢度が低下する。よって、樹脂素材と紫外線吸収剤の相溶性の指標となる。
[Glossiness measurement]
Table 3 shows the glossiness of the surface of the ultraviolet absorbing film obtained above. When the compatibility between the resin material and the ultraviolet absorber is insufficient, the ultraviolet absorber bleeds out to the film surface, and thus the surface of the film becomes rough and the glossiness is lowered. Therefore, it becomes a compatibility index between the resin material and the ultraviolet absorber.

Figure 2018188589
Figure 2018188589

表1より、本発明のベンゾトリアゾール系共重合体である共重合体(a)は、従来の一般的な紫外線吸収剤である化合物(e)より、5%重量減少温度が高く、高温時の揮散や分解が起こりにくい高い耐熱性があることがわかる。また、表3より、本発明のベンゾトリアゾール系共重合体である共重合体(a)を添加した紫外線吸収フィルムは、従来の一般的な紫外線吸収剤である化合物(e)を添加した紫外線吸収フィルムより、各種の樹脂素材で同等または優れた光沢度を示していることから、各種の樹脂でブリードアウトが起こりにくい性質をもつことがわかり、有用な紫外線吸収剤であることがわかる。なお、耐熱性、および光沢度の測定条件は、以下の通りである。   From Table 1, the copolymer (a) which is the benzotriazole copolymer of the present invention has a 5% weight loss temperature higher than that of the compound (e) which is a conventional general ultraviolet absorber, It can be seen that there is a high heat resistance that prevents volatilization and decomposition. Further, from Table 3, the ultraviolet absorbing film to which the copolymer (a) which is the benzotriazole copolymer of the present invention is added is an ultraviolet absorbing material to which the compound (e) which is a conventional general ultraviolet absorber is added. The film shows the same or superior glossiness with various resin materials, which indicates that various resins have a property that bleed-out hardly occurs, and that it is a useful ultraviolet absorber. In addition, the measurement conditions of heat resistance and glossiness are as follows.

<耐熱性測定条件>
装置:TG/DTA6300(セイコーインスツル(株)製)
測定温度:60〜500℃
昇温速度:10℃/分
測定雰囲気:窒素
<Heat resistance measurement conditions>
Apparatus: TG / DTA6300 (manufactured by Seiko Instruments Inc.)
Measurement temperature: 60-500 ° C
Temperature increase rate: 10 ° C / min Measurement atmosphere: Nitrogen

<光沢度測定条件>
装置:UNI GLOSS60(コニカミノルタセンシング(株)製)
測定角度:60℃
<Glossiness measurement conditions>
Equipment: UNI GLOSS 60 (Konica Minolta Sensing Co., Ltd.)
Measurement angle: 60 ° C

本発明のベンゾトリアゾール系共重合体は、紫外線吸収性の構造が高分子体の成分として組み込まれていることから、樹脂加工時における紫外線吸収性成分の揮散や分解がなく、さらに他の樹脂との相溶性が高いことから、他の樹脂に添加してもブリードアウトが起こらず、樹脂用の紫外線吸収剤として好適に利用できる。特に加工温度が高い樹脂に対して、好適に利用できる。   The benzotriazole-based copolymer of the present invention has a UV-absorbing structure incorporated as a polymer component, so there is no volatilization or decomposition of the UV-absorbing component during resin processing, and with other resins. Because of its high compatibility, bleeding out does not occur even when added to other resins, and it can be suitably used as an ultraviolet absorber for resins. In particular, it can be suitably used for resins having a high processing temperature.

共重合体(a)の紫外〜可視吸収スペクトルである。It is an ultraviolet-visible absorption spectrum of a copolymer (a). 共重合体(a)の赤外線吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of a copolymer (a). 共重合体(b)の赤外線吸収スペクトルである。It is an infrared absorption spectrum of a copolymer (b).

Claims (4)

下記の一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール誘導体化合物と、
下記の一般式(2)もしくは下記の一般式(3)である構成単位によってその骨格が構成されるとともに前記構成単位として前記一般式(2)が1以上含まれるポリブタジエンとを
重合してなることを特徴とするベンゾトリアゾール系共重合体。
Figure 2018188589
一般式(1)
[式中、Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、フェニル基、トリル基、ホルミル基、アルキル炭素数1〜7のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、Rは炭素数1〜8のアルキレン基を表し、Rは水素原子、またはメチル基を表す]
Figure 2018188589

一般式(2)
Figure 2018188589

一般式(3)
[一般式(3)中の炭素−炭素二重結合はシス構造、トランス構造のいずれであってもよい。]
A benzotriazole derivative compound represented by the following general formula (1);
The skeleton is constituted by the structural unit represented by the following general formula (2) or the following general formula (3) and polymerized with polybutadiene containing at least one of the above general formula (2) as the structural unit. A benzotriazole copolymer characterized by
Figure 2018188589
General formula (1)
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a tolyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group of an alkyl having 1 to 7 carbon atoms, a benzoyl group or a toluoyl group,, R 2 Represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group]
Figure 2018188589

General formula (2)
Figure 2018188589

General formula (3)
[The carbon-carbon double bond in the general formula (3) may be either a cis structure or a trans structure. ]
前記一般式(1)のベンゾトリアゾール誘導体化合物において、前記一般式(1)式中、Rが炭素数2〜8のアルキル基であり、Rがエチレン基である請求項1記載のベンゾトリアゾール系共重合体。 The benzotriazole derivative compound of the general formula (1), wherein R 1 is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms and R 2 is an ethylene group in the general formula (1). Copolymer. 請求項1または請求項2に記載のベンゾトリアゾール系共重合体を含有する紫外線吸収剤。   The ultraviolet absorber containing the benzotriazole type copolymer of Claim 1 or Claim 2. 樹脂に、請求項1または請求項2に記載のベンゾトリアゾール系共重合体を配合した紫外線吸収性樹脂組成物。   An ultraviolet-absorbing resin composition in which the benzotriazole copolymer according to claim 1 or 2 is blended with a resin.
JP2017094187A 2017-05-10 2017-05-10 Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same Pending JP2018188589A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017094187A JP2018188589A (en) 2017-05-10 2017-05-10 Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017094187A JP2018188589A (en) 2017-05-10 2017-05-10 Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018188589A true JP2018188589A (en) 2018-11-29

Family

ID=64479579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017094187A Pending JP2018188589A (en) 2017-05-10 2017-05-10 Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2018188589A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022039120A1 (en) 2020-08-21 2022-02-24 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition, polymer, ultraviolet shielding material, laminate, compound, ultraviolet absorbing agent, and method for producing compound

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010004977A1 (en) * 2008-07-08 2010-01-14 東レ株式会社 Method for manufacturing thermoplastic copolymers
JP2012025681A (en) * 2010-07-21 2012-02-09 Shipro Kasei Kaisha Ltd Benzotriazole derivative compound

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010004977A1 (en) * 2008-07-08 2010-01-14 東レ株式会社 Method for manufacturing thermoplastic copolymers
JP2012025681A (en) * 2010-07-21 2012-02-09 Shipro Kasei Kaisha Ltd Benzotriazole derivative compound

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022039120A1 (en) 2020-08-21 2022-02-24 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition, polymer, ultraviolet shielding material, laminate, compound, ultraviolet absorbing agent, and method for producing compound

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101567837B1 (en) Photoinitiators with fluorene structure and reactive liquid crystal compositions, and photoresist compositions comprising the same
JP7390890B2 (en) Benzotriazole compounds
JP5845196B2 (en) 2,2-dimethoxy-1,2-di- [4- (meth) acryloyloxy] phenylethane-1-one, production method thereof, radical polymerization initiator and photocurable composition
CN104755512A (en) Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic substance
CN104755513A (en) Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical anistropic body
KR20160122139A (en) Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optical isomer
KR20160123327A (en) Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
JP7559107B2 (en) Triazine compound, curable composition, method for producing cured product and cured product thereof
JP6497676B2 (en) Benzotriazole derivative compounds and polymers thereof
WO2011068110A1 (en) Method of producing a polymer using monomers having a piperidine skeleton, and molded body
JP7173766B2 (en) compounds, liquid crystal compositions, optical films, polarizers and optical displays
JP2019034998A (en) Resin composition containing benzotriazol-based polymer
JP2018188589A (en) Benzotriazole-based copolymer and ultraviolet absorber using the same
KR19990014263A (en) Polymerizable Diketopyrrolopyrrole
JP2022512699A (en) Color conversion composition, color conversion film containing it, backlight unit and display device
JP2008081682A (en) Photocurable composition containing (meth)acryloyloxynaphthalene compound and method for curing the same
JP2023017662A (en) Benzotriazole-based polymer and ultraviolet absorber using the same
JP6991497B2 (en) Benzotriazole derivative compounds and their polymers
JP2012214595A (en) Organic fluorescence dye and resin composition using the same
JP7362049B2 (en) Benzotriazole copolymer and ultraviolet absorber using the same
JP7276652B2 (en) Photoradical curing oxygen inhibition reducing agent, photoradical polymerizable composition containing photoradical curing oxygen inhibition reducing agent, coating film containing photoradical curing oxygen inhibition reducing agent and curing method thereof
CN111065691B (en) Dye compound having polymerizable group and polymer containing the same as monomer unit
CN108018047A (en) Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal compound, polymerizable mesogenic film class, phase difference film, polarization plates and display element
JP2013181082A (en) 2-disubstituted phosphoryl-1,4-bis(meth)acryloyloxynaphthalene compound, its production method, photoradically polymerizable composition containing the compound, and its polymer
KR20160117723A (en) Curable compound with high refractive index, adhesive composition for optical member comprising the same and composition for optical sheet comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
A80 Written request to apply exceptions to lack of novelty of invention

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A80

Effective date: 20170526

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200219

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20201112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201208

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210622