JP2018187750A - Method for producing polishing liquid - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce workload on an operator while securing safety in producing polishing liquid.SOLUTION: A method for producing polishing liquid that is used for a polishing device 1 includes: a step of supplying a solvent with a predetermined weight to an agitation vessel 32; a step of loading the predetermined number of tablet-type chemicals 39 in which a chemical is solidified for each predetermined weight into the solvent; and a step of agitating the tablet-type chemicals 39 and the solvent in the agitation vessel 32 to produce polishing liquid, where concentration of the polishing liquid is adjusted by the number of the tablet-type chemicals 39 to be loaded relative to the solvent.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、研磨加工に使用される研磨液の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a polishing liquid used for polishing.

半導体ウェーハの製造過程では、インゴットがスライスされて板状物が取り出され、板状物の両面が研削盤又はラッピング装置によって平坦化された後、更に研磨装置で鏡面研磨されることで集積回路が形成可能な表面状態にされている。また、板状物の表面に対する集積回路の形成工程では、多層配線の形成時の層間絶縁膜の平坦化、金属プラグの形成、埋め込み金属配線の形成等において、研磨装置によって研磨加工が実施されている。このように、研磨装置は、半導体ウェーハの加工において欠かすことのできない重要な装置となっている。   In the manufacturing process of a semiconductor wafer, an ingot is sliced and a plate-like object is taken out. After both surfaces of the plate-like object are flattened by a grinding machine or a lapping device, the integrated circuit is further mirror-polished by a polishing device. It is in a surface state that can be formed. Also, in the process of forming an integrated circuit on the surface of the plate-like material, polishing processing is performed by a polishing apparatus in the flattening of the interlayer insulating film, the formation of the metal plug, the formation of the embedded metal wiring, etc. during the formation of the multilayer wiring. Yes. As described above, the polishing apparatus is an important apparatus indispensable in the processing of semiconductor wafers.

CMP(Chemical Mechanical Polishing)研磨では、研磨パッドと板状物に研磨液を供給しながら板状物が研磨される。研磨装置には研磨液が入ったタンクが装着され、タンクからポンプで研磨液が汲み上げられて、板状物と研磨パッドに研磨液が供給される。タンクには研磨加工に適した濃度の研磨液が貯留されているが、タンクの交換作業や運搬作業が作業者の負担になると共に比較的広い貯蔵スペースが必要になっていた。そこで、研磨液の濃縮液(原液)を用意して、濃縮液を薄めて使用する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In CMP (Chemical Mechanical Polishing) polishing, a plate-like material is polished while supplying a polishing liquid to the polishing pad and the plate-like material. A tank containing a polishing liquid is attached to the polishing apparatus, and the polishing liquid is pumped up from the tank by a pump, and the polishing liquid is supplied to the plate-like object and the polishing pad. The tank stores a polishing solution having a concentration suitable for polishing, but the tank replacement work and the transportation work are burdened by the worker and a relatively large storage space is required. Therefore, a method has been proposed in which a concentrated liquid (stock solution) of a polishing liquid is prepared and the concentrated liquid is diluted (see, for example, Patent Document 1).

特開2016−015469号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2006-015469

特許文献1に記載の方法では、濃縮液を希釈するので、タンクの交換頻度を少なくすることができるが、タンク自体の重量は変わらないため交換作業は大変である。タンクを小さくして軽くすることで容易に交換できるが、タンクの交換頻度が増えてしまう。さらに、研磨液の濃縮液はアルカリ性又は酸性であり、濃縮液の取扱いに注意が必要である。   In the method described in Patent Document 1, since the concentrate is diluted, the replacement frequency of the tank can be reduced, but the replacement work is difficult because the weight of the tank itself does not change. Although it can be replaced easily by making the tank smaller and lighter, the replacement frequency of the tank increases. Further, the concentrated liquid of the polishing liquid is alkaline or acidic, and care must be taken in handling the concentrated liquid.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、安全性を確保しつつ、作業負担を低減することができる研磨液の製造方法を提供することを目的の1つとする。   This invention is made | formed in view of this point, and makes it one of the objectives to provide the manufacturing method of the polishing liquid which can reduce work burden, ensuring safety | security.

本発明の一態様の研磨液の製造方法は、CMP研磨装置に用いる研磨液の製造方法であって、薬剤の所定重量が固形になった錠剤型薬剤と、該錠剤型薬剤を溶かす溶媒とを用い、撹拌槽に所定重量の溶媒を供給する溶媒供給工程と、該撹拌槽に供給した該溶媒に対して所定数量の該錠剤型薬剤を投入する薬剤投入工程と、該撹拌槽で該錠剤型薬剤と該溶媒とを撹拌する撹拌工程とを備え、該溶媒に対する該錠剤型薬剤の投入数量により研磨液濃度を調整することを特徴とする。   A method for producing a polishing liquid according to one embodiment of the present invention is a method for producing a polishing liquid used in a CMP polishing apparatus, comprising: a tablet-type drug in which a predetermined weight of the drug is solid; and a solvent that dissolves the tablet-type drug. A solvent supply step of supplying a predetermined weight of solvent to the stirring tank; a drug charging step of charging a predetermined amount of the tablet-type drug to the solvent supplied to the stirring tank; and the tablet mold in the stirring tank A stirring step of stirring the drug and the solvent, and adjusting the polishing liquid concentration according to the amount of the tablet-type drug charged into the solvent.

この構成によれば、研磨液の製造時に固形の錠剤型薬剤を溶媒に投入するため、液状の薬剤を使用する場合と比較して運搬が容易かつ安全であり、さらに研磨液のタンクの交換作業を無くして作業負担を軽減することができる。また、液体や粉体のように量や重さで管理するのではなく、錠剤型薬剤を個数で管理することができるため、管理の負担を軽減することができる。   According to this configuration, since the solid tablet-type drug is charged into the solvent during the production of the polishing liquid, it is easier and safer to transport than when a liquid drug is used, and the tank for the polishing liquid is replaced. Can reduce the work burden. In addition, since the tablet type medicine can be managed by the number instead of being managed by the amount and weight as in the case of liquid or powder, the management burden can be reduced.

本発明によれば、薬剤を固形化して錠剤型薬剤にすることで容易かつ安全に運搬することができ、錠剤型薬剤を個数で管理することで管理負担を軽減することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can convey easily and safely by solidifying a chemical | medical agent and making it a tablet-type chemical | medical agent, and can reduce a management burden by managing a tablet-type chemical | medical agent by number.

本実施の形態の研磨装置の模式図である。It is a mimetic diagram of the polish device of this embodiment. 本実施の形態の錠剤型薬剤の斜視図である。It is a perspective view of the tablet-type medicine of this embodiment. 本実施の形態の薬剤供給機構の模式図である。It is a schematic diagram of the chemical | medical agent supply mechanism of this Embodiment. 本実施の形態の研磨液の製造方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of the polishing liquid of this Embodiment.

以下、添付の図面を参照して、本実施の形態の研磨装置について説明する。図1は、本実施の形態の研磨装置の模式図である。なお、研磨装置は、本実施の形態のように、板状物に研磨液を供給可能な構造を備えていればよく、図1に示す構成に限定されない。なお、図1では、説明の便宜上、押し出し式の薬剤供給機構を用いた研磨液の製造装置を例示している。   Hereinafter, the polishing apparatus of the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a polishing apparatus according to the present embodiment. The polishing apparatus is not limited to the configuration shown in FIG. 1 as long as it has a structure capable of supplying a polishing liquid to a plate-like object as in the present embodiment. In FIG. 1, for the convenience of explanation, a polishing liquid production apparatus using an extrusion-type chemical supply mechanism is illustrated.

図1に示すように、研磨装置1は、チャックテーブル10上の板状物Wに研磨パッド22を押し当てて、研磨液(スラリー)を供給しながらチャックテーブル10と研磨パッド22を相対回転させるように構成されている。このようなCMP(Chemical Mechanical Polishing)研磨では、研磨液の化学成分によって板状物Wがエッチングされ、研磨パッド22に分散された砥粒によって板状物Wが機械的に研磨される。これにより、板状物Wの研磨速度を向上させることができると共に、研磨後に残る板状物Wの表面の微細な傷を減らして鏡面を得ることが可能になっている。   As shown in FIG. 1, the polishing apparatus 1 presses the polishing pad 22 against the plate-like object W on the chuck table 10 and relatively rotates the chuck table 10 and the polishing pad 22 while supplying a polishing liquid (slurry). It is configured as follows. In such CMP (Chemical Mechanical Polishing) polishing, the plate-like object W is etched by the chemical component of the polishing liquid, and the plate-like object W is mechanically polished by the abrasive grains dispersed on the polishing pad 22. As a result, the polishing rate of the plate-like object W can be improved, and it is possible to obtain a mirror surface by reducing fine scratches on the surface of the plate-like object W remaining after polishing.

チャックテーブル10は、ポーラス材によって保持面11が形成されており、保持面11に生じる負圧によって板状物Wを吸引保持している。チャックテーブル10の下部にはモータ12が連結されており、モータ駆動によってチャックテーブル10が回転駆動される。チャックテーブル10の上方にはスピンドル20が位置付けられており、スピンドル20のマウント21に研磨パッド22が貼着されている。スピンドル20にはモータ23及び昇降機構24が連結されており、モータ駆動によって研磨パッド22が回転されると共に昇降機構24によって研磨パッド22が板状物Wに離接される。   The chuck table 10 has a holding surface 11 formed of a porous material, and sucks and holds the plate-like object W by a negative pressure generated on the holding surface 11. A motor 12 is connected to the lower part of the chuck table 10, and the chuck table 10 is rotationally driven by driving the motor. A spindle 20 is positioned above the chuck table 10, and a polishing pad 22 is attached to a mount 21 of the spindle 20. A motor 23 and an elevating mechanism 24 are connected to the spindle 20. The polishing pad 22 is rotated by driving the motor, and the polishing pad 22 is separated from and connected to the plate-like object W by the elevating mechanism 24.

研磨パッド22は、ウレタン等のパッド面に砥粒を分散させたものであり、砥粒としてはシリカ、アルミナ、ジルコニア、二酸化マンガン、セリア、クロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、ベーマイト、バイヤライト、ダイヤモンド等が用いられている。研磨パッド22は、ウレタン素材等に所定の割合で砥粒を混入させて製造されており、研磨パッド22の研磨面全体に砥粒が固定されている。本実施の形態では、砥粒が混合された研磨液を使用する代わりに、砥粒が固定された研磨パッド22を用いて研磨液だけを供給するようにしている。   The polishing pad 22 is obtained by dispersing abrasive grains on a pad surface such as urethane, and the abrasive grains are silica, alumina, zirconia, manganese dioxide, ceria, cidal silica, fumed silica, boehmite, bayerite, diamond. Etc. are used. The polishing pad 22 is manufactured by mixing abrasive grains in a predetermined ratio with a urethane material or the like, and the abrasive grains are fixed to the entire polishing surface of the polishing pad 22. In this embodiment, instead of using the polishing liquid in which the abrasive grains are mixed, only the polishing liquid is supplied using the polishing pad 22 to which the abrasive grains are fixed.

ところで、一般に研磨装置で用いられる研磨液は、液体の状態で運搬や管理がされている。工場に向けて研磨液を運搬する際には、積載重量やタンクの積載スペースによって運搬コストが増大する。このため、研磨液の濃縮液(原液)を希釈して使用することで運搬コストを低減することが考えられているが、研磨液の濃縮液を量(体積)や重さで管理しなければならない。さらに、タンクの交換作業の作業負担に加えて、薬液取扱いによる労災リスクがある。   By the way, the polishing liquid generally used in the polishing apparatus is transported and managed in a liquid state. When the polishing liquid is transported to the factory, the transport cost increases depending on the load weight and the tank load space. For this reason, it is considered to reduce the transport cost by diluting and using the polishing liquid concentrate (stock solution), but if the polishing liquid concentration is not managed by volume (volume) or weight Don't be. In addition to the work burden of tank replacement work, there is an industrial accident risk due to chemical handling.

そこで、本実施の形態では、研磨液を取り扱う際の作業負担、安全性、管理のし難さに着目して、研磨液の主成分(エッチング成分)を固形化した錠剤型薬剤を溶媒に投入して研磨液を製造している。溶媒に錠剤型薬剤を投入することで研磨液が製造されるため、タンクの交換作業を無くしてオペレータの作業負担を軽減することができる。また、薬剤の固形化によって持ち運び易くなると共に、錠剤型薬剤の分量を個数管理することが可能になっている。さらに、液状の薬剤と比較して取扱いが容易になるため、運搬作業等の安全性が高められている。   Therefore, in this embodiment, paying attention to the work burden, safety, and difficulty of management when handling the polishing liquid, a tablet-type drug in which the main component (etching component) of the polishing liquid is solidified is put into the solvent. The polishing liquid is manufactured. Since the polishing liquid is produced by putting the tablet-type chemical into the solvent, the work for the operator can be reduced by eliminating the tank replacement work. Moreover, it becomes easy to carry by solidification of a medicine, and the number of tablet-type medicines can be managed. Furthermore, since handling becomes easy compared with a liquid chemical | medical agent, the safety | security of conveyance work etc. is improved.

なお、一般的な研磨装置では、砥粒が加えられた研磨液が研磨加工に使用されており、この研磨液で砥粒ごと固形化させようとすると、砥粒が凝集した状態で固形化されて錠剤型薬剤として使用することができない。このため、本実施の形態では、砥粒が入った研磨液を使用せずに、上記したように研磨パッド22に砥粒を固定して、研磨パッド22に研磨液だけを供給するようにしている。研磨液に砥粒が含まれないため、錠剤型薬剤の成形時に砥粒が凝集することがなく、研磨液の主成分を固形化させて錠剤型薬剤を生成することが可能になっている。   In a general polishing apparatus, a polishing liquid to which abrasive grains have been added is used for polishing, and when the polishing liquid is used to solidify the entire abrasive grains, the abrasive grains are solidified in an aggregated state. And cannot be used as a tablet-type drug. For this reason, in this embodiment, without using a polishing liquid containing abrasive grains, the abrasive grains are fixed to the polishing pad 22 as described above, and only the polishing liquid is supplied to the polishing pad 22. Yes. Since the abrasive liquid is not contained in the polishing liquid, the abrasive grains do not aggregate during the molding of the tablet-type drug, and the tablet-type drug can be generated by solidifying the main component of the polishing liquid.

図1に戻り、チャックテーブル10の上方には、研磨液を製造する製造装置30が設けられている。製造装置30には、溶媒(例えば、純水)が貯留された溶媒タンク31と、錠剤型薬剤39を溶媒に供給する薬剤供給機構40と、溶媒に錠剤型薬剤39を混合する撹拌槽32とが設けられている。溶媒タンク31には溶媒として純水が貯留されており、開閉バルブ33を介して溶媒タンク31から撹拌槽32に定期的に溶媒が供給される。薬剤供給機構40には複数の錠剤型薬剤39がストックされており、薬剤供給機構40から錠剤型薬剤39が1つずつ順番に撹拌槽32に供給される。なお、薬剤供給機構40の詳細は後述する。   Returning to FIG. 1, a manufacturing apparatus 30 for manufacturing a polishing liquid is provided above the chuck table 10. The manufacturing apparatus 30 includes a solvent tank 31 in which a solvent (for example, pure water) is stored, a drug supply mechanism 40 that supplies the tablet-type drug 39 to the solvent, and a stirring tank 32 that mixes the tablet-type drug 39 with the solvent. Is provided. Pure water is stored as a solvent in the solvent tank 31, and the solvent is periodically supplied from the solvent tank 31 to the stirring tank 32 via the opening / closing valve 33. A plurality of tablet-type medicines 39 are stocked in the medicine supply mechanism 40, and the tablet-type medicines 39 are sequentially supplied from the medicine supply mechanism 40 to the stirring tank 32 one by one. Details of the medicine supply mechanism 40 will be described later.

撹拌槽32にはプロペラ式の撹拌機34が取り付けられており、溶媒タンク31から供給された溶媒と薬剤供給機構40から供給された錠剤型薬剤39が撹拌機34によって撹拌槽32内で混合される。このとき、錠剤型薬剤39は所定重量の溶媒に対応した所定重量毎に固形化されており、撹拌槽32内で錠剤型薬剤39が所定重量の溶媒に溶解することで所定濃度の研磨液が生成される。撹拌槽32の下部には供給ノズル35が取り付けられており、研磨加工に撹拌槽32内の研磨液が供給ノズル35からチャックテーブル10上の板状物Wの上面に少しずつ供給される。   A propeller type agitator 34 is attached to the agitation tank 32, and the solvent supplied from the solvent tank 31 and the tablet-type medicine 39 supplied from the medicine supply mechanism 40 are mixed in the agitation tank 32 by the agitator 34. The At this time, the tablet-type medicine 39 is solidified at a predetermined weight corresponding to a predetermined weight of the solvent, and the tablet-type medicine 39 is dissolved in the predetermined weight of the solvent in the stirring tank 32 so that the polishing liquid having a predetermined concentration is obtained. Generated. A supply nozzle 35 is attached to the lower part of the agitation tank 32, and the polishing liquid in the agitation tank 32 is supplied little by little from the supply nozzle 35 to the upper surface of the plate-like object W on the chuck table 10 for polishing.

このように構成された研磨装置1では、チャックテーブル10上の板状物Wに研磨パッド22が押し当てられ、供給ノズル35から研磨液が供給されながら板状物Wと研磨パッド22が相対回転されることでCMP研磨される。また、撹拌槽32で溶媒に錠剤型薬剤39を溶かして研磨液が生成されているため、研磨液の薬剤を液体の状態で保管しておく必要がない。錠剤型薬剤39は、小さく且つ軽く成形されているため持ち運びが容易であり、さらに所定重量毎に薬剤が固形化されているため錠剤型薬剤の投入数で研磨液の濃度を調整することが可能になっている。   In the polishing apparatus 1 configured as described above, the polishing pad 22 is pressed against the plate-like object W on the chuck table 10, and the plate-like object W and the polishing pad 22 are relatively rotated while the polishing liquid is supplied from the supply nozzle 35. As a result, CMP polishing is performed. In addition, since the polishing liquid is generated by dissolving the tablet-type chemical 39 in the solvent in the stirring tank 32, it is not necessary to store the chemical in the polishing liquid in a liquid state. The tablet-type medicine 39 is small and lightly shaped, so it is easy to carry. Furthermore, since the medicine is solidified for each predetermined weight, the concentration of the polishing liquid can be adjusted by the number of tablet-type medicines used. It has become.

ここで、図2を参照して、錠剤型薬剤について説明する。図2は、本実施の形態の錠剤型薬剤の斜視図である。   Here, with reference to FIG. 2, a tablet-type medicine will be described. FIG. 2 is a perspective view of the tablet-type medicine of the present embodiment.

図2に示すように、錠剤型薬剤39は、例えば、常温で固体の薬剤としてアルカリ性の粉体を圧縮成形して扁平形状に形成されている。錠剤型薬剤39が溶媒に投入されると、錠剤型薬剤39が溶媒に溶解される。このとき、錠剤型薬剤39が扁平形状であるため、表面積が大きく溶媒に溶け易くなっていると共に、水に触れることで崩れ易くなっている。よって、溶媒に対して錠剤型薬剤39を良好に溶かすことができ、短時間で研磨液を生成することが可能になっている。錠剤型薬剤39は、単に固形化して運搬や管理の利便性を考慮するだけでなく、生産性を考慮して溶媒に溶け易い形状に成形されている。   As shown in FIG. 2, the tablet-type medicine 39 is formed into a flat shape by compression molding alkaline powder as a solid medicine at room temperature, for example. When the tablet-type medicine 39 is charged into the solvent, the tablet-type medicine 39 is dissolved in the solvent. At this time, since the tablet-type medicine 39 has a flat shape, it has a large surface area and is easily dissolved in a solvent, and it is easily broken by touching water. Therefore, the tablet-type medicine 39 can be dissolved well in the solvent, and the polishing liquid can be generated in a short time. The tablet-type medicine 39 is formed into a shape that is easily solidified and easily dissolved in a solvent in consideration of productivity as well as convenience of transportation and management.

このように、錠剤型薬剤39は厚みよりも幅を優先させた扁平形状に成形されている。錠剤型薬剤39の厚みよりも幅(面積)を広げることで強度は低下するが、少なくとも運搬中に崩れない程度の強度を持つように押し固められている。また、錠剤型薬剤39は、運搬中に錠剤型薬剤39を衝撃等から保護できるように、専用のカートリッジに収容された状態で運搬されることが好ましい。   Thus, the tablet-type medicine 39 is formed into a flat shape in which the width is given priority over the thickness. Although the strength is reduced by increasing the width (area) beyond the thickness of the tablet-type medicine 39, the strength is at least strong enough not to collapse during transportation. The tablet-type medicine 39 is preferably transported in a state where it is accommodated in a dedicated cartridge so that the tablet-type medicine 39 can be protected from impact or the like during transportation.

なお、錠剤型薬剤39は、上記した扁平形状に限らず、レンズ形状や顆粒状のように厚みを持たせて形成されてもよい。この場合、錠剤型薬剤39に炭酸水素ナトリウム等の炭酸ガスを発生させる粉体を加えてもよい。溶媒内で錠剤型薬剤39から炭酸ガスが発泡することで、錠剤型薬剤39が溶媒内で崩れて錠剤型薬剤39が溶媒に溶け易くなっている。これによって、錠剤型薬剤39に厚みを持たせて強度を確保する一方で、炭酸ガスの発泡によって錠剤型薬剤39を崩れ易くして、溶媒に対する錠剤型薬剤39の溶け易さを向上させている。   The tablet-type medicine 39 is not limited to the flat shape described above, and may be formed with a thickness such as a lens shape or a granule shape. In this case, a powder that generates carbon dioxide gas such as sodium hydrogen carbonate may be added to the tablet-type medicine 39. Since the carbon dioxide gas foams from the tablet-type drug 39 in the solvent, the tablet-type drug 39 collapses in the solvent and the tablet-type drug 39 is easily dissolved in the solvent. As a result, the tablet-type medicine 39 is thickened to ensure strength, while the tablet-type medicine 39 is easily broken by the foaming of carbon dioxide gas, and the ease of dissolution of the tablet-type medicine 39 in the solvent is improved. .

また、錠剤型薬剤39は外面が水溶性樹脂等によってコーティングされてもよい。錠剤型薬剤39の外面をコーティングすることで、錠剤型薬剤39の強度を高めることができる。錠剤型薬剤39を扁平形状にして薄く形成しても、コーティングによって十分な強度を確保することができる。また、錠剤型薬剤39を溶媒に投入してコーティング膜を溶かすことで、錠剤型薬剤39が溶媒内で崩れて溶媒に溶け易くなっている。なお、コーティング剤は、溶媒に溶けるものであればよく、上記した水溶性樹脂に限らず、溶媒の種類に応じて適宜変更されてもよい。   Further, the tablet type medicine 39 may be coated on the outer surface with a water-soluble resin or the like. By coating the outer surface of the tablet-type drug 39, the strength of the tablet-type drug 39 can be increased. Even if the tablet-shaped medicine 39 is formed into a flat shape and thin, sufficient strength can be secured by coating. Further, by charging the tablet type drug 39 into the solvent and dissolving the coating film, the tablet type drug 39 is broken in the solvent and easily dissolved in the solvent. The coating agent is not limited to the water-soluble resin described above as long as it is soluble in the solvent, and may be appropriately changed according to the type of the solvent.

また、錠剤型薬剤39を成形する粉体は、溶媒に溶けたときにアルカリ性を示すものであればよく、例えば、酢酸カリウム、塩化カリウム、無水ピペラジン、ピペラジン六水和物、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、1,4−エチレンピペラジン、イミダゾール、ピラゾール、ピラジンが用いられてもよい。錠剤型薬剤39は、1種類のアルカリ性の粉体から形成される構成に限らず、2種類以上のアルカリ性の粉体から形成されてもよい。   The powder for forming the tablet-type drug 39 may be any powder that shows alkalinity when dissolved in a solvent. For example, potassium acetate, potassium chloride, anhydrous piperazine, piperazine hexahydrate, potassium hydroxide, water Sodium oxide, ammonium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, 1,4-ethylenepiperazine, imidazole, pyrazole, pyrazine may be used. The tablet-type medicine 39 is not limited to a configuration formed from one type of alkaline powder, and may be formed from two or more types of alkaline powder.

また、錠剤型薬剤39には、主成分であるアルカリ性の粉体だけでなく、粉状の添加剤を加えられてもよい。添加剤は、例えば、界面活性剤、キレート剤、崩壊剤、結合剤、賦型剤が用いられてもよい。錠剤型薬剤39には、1種類の添加剤だけでなく、2種類以上の添加剤が加えられてもよい。   In addition to the alkaline powder that is the main component, a powdery additive may be added to the tablet-type medicine 39. As the additive, for example, a surfactant, a chelating agent, a disintegrant, a binder, and an excipient may be used. Not only one type of additive but also two or more types of additives may be added to the tablet-type drug 39.

溶媒は、錠剤型薬剤39と混合されてアルカリ性を示すものであればよく、純水の他、アルコール等の極性溶媒が用いられてもよい。溶媒と錠剤型薬剤の割合は、研磨液がpH10−pH12.5になるように調整されていることが好ましく、pH12.5になるように調整されていることがさらに好ましい。また、溶媒は、溶媒タンク31から撹拌槽32に供給される構成にしたが、この構成に限定されない。溶媒が純水の場合には、工場内の純水設備から配管を通じて直に撹拌槽32に供給されてもよい。   The solvent is not particularly limited as long as it is mixed with the tablet-type drug 39 and exhibits alkalinity. In addition to pure water, a polar solvent such as alcohol may be used. The ratio between the solvent and the tablet-type drug is preferably adjusted so that the polishing liquid has a pH of 10 to 12.5, and more preferably adjusted to have a pH of 12.5. In addition, the solvent is configured to be supplied from the solvent tank 31 to the stirring tank 32, but is not limited to this configuration. When the solvent is pure water, it may be supplied directly from the pure water equipment in the factory to the stirring tank 32 through a pipe.

さらに、錠剤型薬剤39は、アルカリ性の粉体を圧縮成形することでペレット状に形成される構成にしたが、この構成に限定されない。錠剤型薬剤39は、アルカリ性の粉体を集塊して形成される構成であればよく、例えば、造粒成形で顆粒状に形成されてもよい。このように、アルカリ性の乾燥した粉体だけで錠剤型薬剤39を形成する場合には、圧縮成形でペレット状に形成してもよいし、乾式造粒成形で顆粒状に形成してもよい。また、錠剤型薬剤39は、アルカリ性の粉体を錠剤状のカプセルに収容して形成されてもよい。
また、液体成分を含んでペレット状に成形した後に乾燥させてもよい。
Furthermore, although the tablet type | mold chemical | medical agent 39 was made into the structure formed in a pellet form by compressing alkaline powder, it is not limited to this structure. The tablet-type medicine 39 may be formed by agglomerating alkaline powder and may be formed into a granule by granulation molding, for example. Thus, when the tablet-type medicine 39 is formed only with alkaline dry powder, it may be formed into a pellet by compression molding or may be formed into a granule by dry granulation molding. The tablet-type medicine 39 may be formed by containing alkaline powder in a tablet-like capsule.
Moreover, you may dry, after forming into a pellet form containing a liquid component.

また、錠剤型薬剤39は、固形の粉体だけで乾燥して形成される構成に限らず、液体成分を含んで成形されてもよい。例えば、アルカリ性の粉体とアルカリ性・中性(純水)の液体によって湿式造粒成形で錠剤型薬剤39を顆粒状に形成してもよいし、湿式造粒成形後に圧縮成形して錠剤型薬剤39をペレット状に形成してもよい。なお、湿式造粒成形では、錠剤型薬剤39に対する液体の含有量は30%以下であることが好ましい。また、アルカリ性の液体の種類は特に限定されず、錠剤型薬剤39に2種類以上のアルカリ性の液体が含まれていてもよい。   In addition, the tablet-type medicine 39 is not limited to a structure formed by drying only with a solid powder, and may be formed including a liquid component. For example, the tablet-type medicine 39 may be formed into granules by wet granulation molding with an alkaline powder and an alkaline / neutral (pure water) liquid, or may be compression-molded after wet granulation molding to form a tablet-type medicine. 39 may be formed into a pellet. In the wet granulation molding, the liquid content with respect to the tablet-type drug 39 is preferably 30% or less. Moreover, the kind of alkaline liquid is not specifically limited, The tablet-type chemical | medical agent 39 may contain two or more types of alkaline liquid.

さらに、本実施の形態では、錠剤型薬剤39がアルカリ性の粉体で成形される構成にしたが、酸性の粉体で成形されてもよい。また、錠剤型薬剤39は、界面活性剤、キレート剤、崩壊剤、結合剤、賦型剤等の粉状の添加剤を加えて成形されてもよい。溶媒は、錠剤型薬剤39と混合されて酸性を示すものが使用される。さらに、錠剤型薬剤39は、アルカリ性の粉体と同様に酸性の粉体を集塊して成形される構成であればよく、上記した圧縮成形、乾式造粒成形、湿式造粒成形、湿式造粒成形後の圧縮成形のいずれかにて成形されてもよい。   Furthermore, in the present embodiment, the tablet type drug 39 is formed with an alkaline powder, but it may be formed with an acidic powder. The tablet-type drug 39 may be formed by adding powdery additives such as a surfactant, a chelating agent, a disintegrant, a binder, and an excipient. As the solvent, a solvent that is mixed with the tablet-type drug 39 and exhibits acidity is used. Further, the tablet type drug 39 may be formed by agglomerating acidic powder as in the case of alkaline powder, and may be formed by the above-described compression molding, dry granulation molding, wet granulation molding, wet granulation. You may shape | mold by either the compression molding after a grain shaping | molding.

図3を参照して、薬剤供給機構について説明する。図3は、本実施の形態の薬剤供給機構の模式図である。なお、薬剤供給機構は、錠剤型薬剤を溶媒に対して投入可能な構成であれば、どのように構成されていてもよい。例えば、本実施の形態の研磨液の製造装置では、図3Aに示す押し出し式の薬剤供給機構、図3Bに示すレボルバー式の薬剤供給機構、図3Cに示すスクリュー式の薬剤供給機構、図3Dに示すコンベア式の薬剤供給機構のいずれが用いられてもよい。   With reference to FIG. 3, the medicine supply mechanism will be described. FIG. 3 is a schematic diagram of the medicine supply mechanism of the present embodiment. Note that the drug supply mechanism may be configured in any way as long as the tablet-type drug can be charged into the solvent. For example, in the polishing liquid manufacturing apparatus according to the present embodiment, an extrusion-type drug supply mechanism shown in FIG. 3A, a revolver-type drug supply mechanism shown in FIG. 3B, a screw-type drug supply mechanism shown in FIG. 3C, and FIG. Any of the conveyor-type drug supply mechanisms shown may be used.

図3Aに示すように、押し出し式の薬剤供給機構40は、円筒状のカートリッジ41に錠剤型薬剤39が縦積みされており、カートリッジ41の下端から落下した錠剤型薬剤39を押し出し機構42で1つずつ押し出している。カートリッジ41の下方には、錠剤型薬剤39を受ける受け皿43が設けられており、受け皿43に落ちた錠剤型薬剤39が押し出し機構42に押し出され、スロープ44に沿って撹拌槽32の真上に送り出されている。スロープ44の出口には、錠剤型薬剤39の数量をカウントするフォトセンサ45が設けられており、フォトセンサ45が遮光される度に錠剤型薬剤39の投入数がカウントされる。   As shown in FIG. 3A, the push-out type drug supply mechanism 40 has a tablet-type medicine 39 vertically stacked on a cylindrical cartridge 41, and the tablet-type medicine 39 dropped from the lower end of the cartridge 41 is Extruding one by one. A receiving tray 43 that receives the tablet-type medicine 39 is provided below the cartridge 41, and the tablet-type medicine 39 that has fallen on the receiving tray 43 is pushed out by the pushing mechanism 42, and is directly above the stirring tank 32 along the slope 44. It has been sent out. A photosensor 45 for counting the quantity of the tablet-type medicine 39 is provided at the outlet of the slope 44, and the number of the tablet-type medicine 39 is counted each time the photosensor 45 is shielded from light.

このように、錠剤型薬剤39の投入数をフォトセンサ45でカウントすることで、撹拌槽32内に対する錠剤型薬剤39の投入量を管理することができると共に、カートリッジ41の錠剤型薬剤39の残数を管理することができる。また、押し出し機構42が受け皿43から錠剤型薬剤39を押し出す度に、錠剤型薬剤39が自然落下によって受け皿43に供給されるため、薬剤供給機構40の構造を簡略化することができる。なお、押し出し機構42の押し出し速度は、押し出し時の衝撃によって錠剤型薬剤39を崩壊させない程度に抑えられていることが好ましい。   Thus, by counting the number of tablet-type medicines 39 charged by the photosensor 45, the amount of tablet-type medicine 39 charged into the agitation tank 32 can be managed and the remaining amount of the tablet-type medicine 39 in the cartridge 41 can be managed. You can manage the number. In addition, each time the push-out mechanism 42 pushes the tablet-type medicine 39 from the receiving tray 43, the tablet-type medicine 39 is supplied to the receiving tray 43 by natural fall, so that the structure of the medicine supply mechanism 40 can be simplified. In addition, it is preferable that the extrusion speed of the extrusion mechanism 42 is suppressed to such an extent that the tablet-type medicine 39 is not collapsed by an impact at the time of extrusion.

図3Bに示すように、レボルバー式の薬剤供給機構50は、円筒状のカートリッジ51に錠剤型薬剤39が縦積みされており、カートリッジ51の下端から落下した錠剤型薬剤39を円板状のレボルバー52によって1つずつ送り出している。レボルバー52の上面には複数の凹部が周方向に形成されており、レボルバー52の下面にはモータ54が連結されている。レボルバー52の凹部に錠剤型薬剤39が載置される度に、レボルバー52が所定角度で間欠回転して投入口56に錠剤型薬剤39が送り出されている。投入口56の下方にはフォトセンサ55が設けられており、撹拌槽32への錠剤型薬剤39の投入数がカウントされる。   As shown in FIG. 3B, the revolver type drug supply mechanism 50 includes a cylindrical cartridge 51 in which tablet type drugs 39 are vertically stacked, and the tablet type drug 39 dropped from the lower end of the cartridge 51 is disc-shaped. One by one is sent out by 52. A plurality of recesses are formed in the upper surface of the revolver 52 in the circumferential direction, and a motor 54 is connected to the lower surface of the revolver 52. Each time the tablet-type medicine 39 is placed in the recess of the revolver 52, the revolver 52 rotates intermittently at a predetermined angle, and the tablet-type medicine 39 is delivered to the input port 56. A photo sensor 55 is provided below the input port 56, and the number of tablet-type medicines 39 input to the stirring tank 32 is counted.

このような構成でも、撹拌槽32内に対する錠剤型薬剤39の投入数を管理することができると共に、カートリッジ51の錠剤型薬剤39の残数を管理することができる。また、レボルバー52が間欠回転する度に、錠剤型薬剤39が自然落下によって凹部に供給されるため、薬剤供給機構50の構造を簡略化することができる。レボルバー52が所定角度で間欠回転する度に錠剤型薬剤39が投入されるため、フォトセンサ55の代わりにモータ54のステップ数を監視するようにしてもよい。なお、レボルバー52の回転速度は、凹部から錠剤型薬剤39が飛び出さない程度に抑えられていることが好ましい。   Even with such a configuration, it is possible to manage the number of tablet-type medicines 39 charged into the agitation tank 32 and to manage the remaining number of tablet-type medicines 39 in the cartridge 51. Further, each time the revolver 52 rotates intermittently, the tablet-type medicine 39 is supplied to the concave portion by natural fall, so that the structure of the medicine supply mechanism 50 can be simplified. Since the tablet-type medicine 39 is inserted every time the revolver 52 rotates intermittently at a predetermined angle, the number of steps of the motor 54 may be monitored instead of the photosensor 55. In addition, it is preferable that the rotation speed of the revolver 52 is suppressed to such an extent that the tablet-type medicine 39 does not protrude from the recess.

図3Cに示すように、スクリュー式の薬剤供給機構60は、円筒状のカートリッジ61に錠剤型薬剤39が収容されており、カートリッジ61の下端から落下した錠剤型薬剤39をスクリュー板63によって1つずつ送り出している。カートリッジ61の下端には搬送カートリッジ62が接続されており、搬送カートリッジ62の内側にスクリュー板63が収容されている。スクリュー板63の一端にはモータ64が連結されており、スクリュー板63の回転によって搬送カートリッジ62内の錠剤型薬剤39が押し出されている。搬送カートリッジ62の出口の下方にはフォトセンサ65が設けられており、撹拌槽32への錠剤型薬剤39の投入数がカウントされる。   As shown in FIG. 3C, the screw-type medicine supply mechanism 60 includes a cylindrical cartridge 61 in which a tablet-type medicine 39 is accommodated, and one tablet-type medicine 39 that has dropped from the lower end of the cartridge 61 is Sending out one by one. A transport cartridge 62 is connected to the lower end of the cartridge 61, and a screw plate 63 is accommodated inside the transport cartridge 62. A motor 64 is connected to one end of the screw plate 63, and the tablet type medicine 39 in the transport cartridge 62 is pushed out by the rotation of the screw plate 63. A photo sensor 65 is provided below the outlet of the transport cartridge 62, and the number of tablet-type medicines 39 charged into the stirring tank 32 is counted.

このような構成でも、撹拌槽32内に対する錠剤型薬剤39の投入数を管理することができると共に、カートリッジ61の錠剤型薬剤39の残数を管理することができる。また、スクリュー板63が回転するのに合わせて、錠剤型薬剤39が自然落下によってスクリュー板63に供給されるため、薬剤供給機構60の構造を簡略化することができる。スクリュー板63の回転によって搬送カートリッジ62内を錠剤型薬剤39が低速で搬送されている。よって、錠剤型薬剤39の摩耗や崩壊が抑えられて、撹拌槽32に適切な重量で錠剤型薬剤39を供給することができる。   Even with such a configuration, it is possible to manage the number of tablet-type medicines 39 charged into the stirring tank 32 and to manage the remaining number of tablet-type medicines 39 in the cartridge 61. In addition, since the tablet-type medicine 39 is supplied to the screw board 63 by natural fall as the screw plate 63 rotates, the structure of the medicine supply mechanism 60 can be simplified. The tablet type medicine 39 is conveyed at low speed in the conveying cartridge 62 by the rotation of the screw plate 63. Therefore, wear and disintegration of the tablet-type medicine 39 are suppressed, and the tablet-type medicine 39 can be supplied to the stirring tank 32 with an appropriate weight.

図3Dに示すように、コンベア式の薬剤供給機構70は、円筒状のカートリッジ71に錠剤型薬剤39が縦積みされており、カートリッジ71の下端から落下した錠剤型薬剤39をコンベア72によって1つずつ送り出している。コンベア72は一対のプーリ73にベルト74が架け渡されており、ベルト74の外面に多数のトレイ76が取り付けられている。片側のプーリ73にはモータが連結されており、ベルト74の周回移動によってトレイ76に収容された錠剤型薬剤39が撹拌槽32の真上に送り出されている。コンベア72の下方にはフォトセンサ75が設けられており、撹拌槽32への錠剤型薬剤39の投入数がカウントされる。   As shown in FIG. 3D, the conveyor-type medicine supply mechanism 70 includes a cylindrical cartridge 71 in which tablet-type medicines 39 are vertically stacked, and one tablet-type medicine 39 dropped from the lower end of the cartridge 71 is conveyed by the conveyor 72. Sending out one by one. The conveyor 72 has a pair of pulleys 73 around which a belt 74 is stretched, and a large number of trays 76 are attached to the outer surface of the belt 74. A motor is connected to the pulley 73 on one side, and the tablet-type medicine 39 accommodated in the tray 76 is sent out directly above the stirring tank 32 by the circular movement of the belt 74. A photo sensor 75 is provided below the conveyor 72, and the number of tablet-type medicines 39 charged into the stirring tank 32 is counted.

このような構成でも、撹拌槽32内に対する錠剤型薬剤39の投入数を管理することができると共に、カートリッジ71の錠剤型薬剤39の残数を管理することができる。また、コンベア72によるトレイ76の移動に合わせて、錠剤型薬剤39が自然落下によってトレイ76に供給されるため、薬剤供給機構70の構造を簡略化することができる。トレイ76に錠剤型薬剤39が載せられたまま搬送されるため、搬送中に錠剤型薬剤39に外力が加わることがない。よって、錠剤型薬剤39の摩耗や崩壊が抑えられて、撹拌槽32に適切な重量で錠剤型薬剤39を供給することができる。   Even with such a configuration, it is possible to manage the number of tablet-type medicines 39 charged into the agitation tank 32 and to manage the remaining number of tablet-type medicines 39 in the cartridge 71. In addition, since the tablet-type medicine 39 is supplied to the tray 76 by natural dropping in accordance with the movement of the tray 76 by the conveyor 72, the structure of the medicine supply mechanism 70 can be simplified. Since the tablet-type medicine 39 is transported while being placed on the tray 76, no external force is applied to the tablet-type medicine 39 during transportation. Therefore, wear and disintegration of the tablet-type medicine 39 are suppressed, and the tablet-type medicine 39 can be supplied to the stirring tank 32 with an appropriate weight.

続いて、図4を参照して、研磨液の製造方法について説明する。図4は、本実施の形態の研磨液の製造方法の一例を示す図である。なお、ここでは、押し出し式の薬剤供給機構を用いて研磨液を製造する構成を例示するが、上記した他の薬剤供給機構でも同様な方法で研磨液を製造することができる。   Then, with reference to FIG. 4, the manufacturing method of polishing liquid is demonstrated. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a manufacturing method of the polishing liquid of the present embodiment. In addition, although the structure which manufactures polishing liquid using an extrusion-type chemical | medical agent supply mechanism is illustrated here, polishing liquid can be manufactured by the same method also in the above other chemical | medical agent supply mechanisms.

図4Aに示すように、先ず溶媒供給工程が実施される。溶媒供給工程では、開閉バルブ33が開かれて溶媒タンク31から撹拌槽32に所定重量の溶媒が供給される。この場合、所定時間だけ開閉バルブ33が開かれて溶媒タンク31から撹拌槽32に所定流量の溶媒が供給されてもよいし、撹拌槽32内の溶媒の重量をロードセル等で測定して所定重量に達した時点で溶媒の供給が停止されてもよい。また、溶媒タンク31から撹拌槽32に溶媒が供給される構成に限らず、工場内の給水配管等から開閉バルブ33を介して撹拌槽32に所定重量の溶媒が供給されてもよい。   As shown to FIG. 4A, a solvent supply process is first implemented. In the solvent supply step, the opening / closing valve 33 is opened and a predetermined weight of solvent is supplied from the solvent tank 31 to the stirring tank 32. In this case, the on-off valve 33 may be opened for a predetermined time so that a predetermined flow rate of solvent may be supplied from the solvent tank 31 to the stirring tank 32, or the weight of the solvent in the stirring tank 32 may be measured with a load cell or the like. The supply of the solvent may be stopped when reaching the value. Moreover, the solvent is not limited to the configuration in which the solvent is supplied from the solvent tank 31 to the stirring tank 32, and a predetermined weight of solvent may be supplied to the stirring tank 32 from the water supply pipe or the like in the factory via the open / close valve 33.

次に、図4Bに示すように、溶媒供給工程の後に薬剤投入工程が実施される。薬剤投入工程では、撹拌槽32に供給した溶媒に対して所定数量の錠剤型薬剤39が投入される。この場合、カートリッジ41から落下した錠剤型薬剤39が押し出し機構42によって押し出されて、溶媒が供給された撹拌槽32に錠剤型薬剤が1つずつ投入される。錠剤型薬剤39が撹拌槽32に投入される度に、フォトセンサ45によって錠剤型薬剤39の投入数がカウントされ、カウント数が所定数量に達した時点で押し出し機構42による錠剤型薬剤39の押し出しが停止される。   Next, as shown to FIG. 4B, a chemical | medical agent injection | pouring process is implemented after a solvent supply process. In the drug charging step, a predetermined quantity of tablet-type drug 39 is charged with respect to the solvent supplied to the stirring tank 32. In this case, the tablet-type medicine 39 dropped from the cartridge 41 is pushed out by the push-out mechanism 42, and the tablet-type medicine is put into the stirring tank 32 supplied with the solvent one by one. Each time the tablet-type medicine 39 is put into the stirring tank 32, the number of the tablet-type medicine 39 is counted by the photosensor 45. When the count reaches a predetermined quantity, the push-out mechanism 42 pushes out the tablet-type medicine 39. Is stopped.

次に、図4Cに示すように、薬剤投入工程の後に撹拌工程が実施される。撹拌工程では、撹拌機34によって撹拌槽32で錠剤型薬剤39と溶媒とが撹拌される。撹拌槽32内の撹拌機34によって溶媒が撹拌され、錠剤型薬剤39が所定量の溶媒に溶解されて所定濃度の研磨液が製造される。この場合、錠剤型薬剤39が扁平形状に形成されているため、溶媒の撹拌によって錠剤型薬剤39が崩れて短時間で溶けて所定濃度の研磨液が製造される。撹拌機34が停止されて研磨液が製造されると、投入数のカウントがリセットされて投入数量がゼロに設定される。   Next, as shown in FIG. 4C, an agitation step is performed after the medicine charging step. In the stirring step, the tablet type drug 39 and the solvent are stirred in the stirring tank 32 by the stirrer 34. The solvent is stirred by the stirrer 34 in the stirring tank 32, and the tablet-type medicine 39 is dissolved in a predetermined amount of solvent to produce a polishing liquid having a predetermined concentration. In this case, since the tablet-type medicine 39 is formed in a flat shape, the tablet-type medicine 39 is broken by the stirring of the solvent and melts in a short time to produce a polishing liquid having a predetermined concentration. When the agitator 34 is stopped and the polishing liquid is manufactured, the count of the number of inputs is reset and the amount of inputs is set to zero.

このように、固形化された錠剤型薬剤39の溶媒への投入によって研磨液が製造されるため、錠剤型薬剤39の投入数量によって研磨液の濃度を調整することが可能である。よって、錠剤型薬剤39の重量を測定することなく、錠剤型薬剤39の投入数によって研磨液を適切な濃度に調整することができる。なお、錠剤型薬剤39が所定重量で固形化されているため、錠剤型薬剤39は所定重量毎しか投入することができないが、溶媒の供給量を調整することで研磨液の濃度を微調整することができる。研磨液の濃度は、例えば、次式(1)によって調整される。

Figure 2018187750
As described above, since the polishing liquid is produced by charging the solidified tablet type drug 39 into the solvent, it is possible to adjust the concentration of the polishing liquid according to the number of tablet type drug 39 charged. Therefore, the polishing liquid can be adjusted to an appropriate concentration according to the number of tablet-type medicines 39 charged without measuring the weight of the tablet-type medicine 39. Note that since the tablet-type drug 39 is solidified at a predetermined weight, the tablet-type drug 39 can be charged only at a predetermined weight, but the concentration of the polishing liquid is finely adjusted by adjusting the supply amount of the solvent. be able to. The concentration of the polishing liquid is adjusted by the following equation (1), for example.
Figure 2018187750

以上のように、本実施の形態の研磨装置1によれば、研磨液の製造時に固形の錠剤型薬剤39を溶媒に投入するため、液状の薬剤を使用する場合と比較して運搬が容易かつ安全であり、さらに研磨液のタンクの交換作業を無くして作業負担を軽減することができる。また、液体や粉体のように量や重さで管理するのではなく、錠剤型薬剤39を個数で管理することができるため、管理の負担を軽減することができる。   As described above, according to the polishing apparatus 1 of the present embodiment, the solid tablet-type drug 39 is charged into the solvent at the time of manufacturing the polishing liquid. It is safe, and furthermore, the work load can be reduced by eliminating the need to replace the polishing liquid tank. In addition, since the tablet-type medicine 39 can be managed by the number instead of being managed by the amount or weight as in the case of liquid or powder, the management burden can be reduced.

また、本実施の形態では、溶媒供給工程の後に薬剤投入工程が実施される構成にしたが、この構成に限定されない。溶媒供給工程の前に薬剤投入工程が実施されてもよいし、溶媒供給工程と薬剤投入工程が同時に実施されてもよい。   Moreover, in this Embodiment, although the chemical | medical agent injection | pouring process was implemented after the solvent supply process, it is not limited to this structure. The chemical injection step may be performed before the solvent supply step, or the solvent supply step and the chemical input step may be performed simultaneously.

また、本実施の形態の撹拌工程では、撹拌機で溶媒を撹拌することによって、溶媒に錠剤型薬剤を溶解させる構成にしたが、この構成に限定されない。撹拌工程では、溶媒に錠剤型薬剤を溶解させることができればよく、例えば、溶媒の超音波振動によって溶媒に錠剤型薬剤を溶解させるようにしてもよい。   Moreover, in the stirring process of this Embodiment, it was set as the structure which dissolves a tablet-type chemical | medical agent in a solvent by stirring a solvent with a stirrer, However, It is not limited to this structure. In the stirring step, it is only necessary that the tablet-type drug can be dissolved in the solvent. For example, the tablet-type drug may be dissolved in the solvent by ultrasonic vibration of the solvent.

また、本実施の形態の撹拌工程では、錠剤型薬剤の投入数量をフォトセンサでカウントする構成にしたが、この構成に限定されない。錠剤型薬剤の投入数量は、錠剤型薬剤の投入数を検出可能な構成であれば、どのように構成されてもよい。   Moreover, in the stirring process of this Embodiment, it was set as the structure which counts the injection quantity of a tablet-type chemical | medical agent with a photosensor, However, It is not limited to this structure. The number of tablet-type medicines input may be configured in any way as long as the number of tablet-type medicines input can be detected.

また、本実施の形態では、研磨液としてスラリーを例示して説明したが、この構成に限定されない。研磨液は、研磨加工時に板状物に供給される液体であればよく、例えば、金属の付着防止や洗浄能力を向上させるための液体であってよい。すなわち、本実施の研磨加工はCMP研磨に限られず、他のウェット研磨を含んでいる。   In this embodiment, the slurry is exemplified as the polishing liquid, but the present invention is not limited to this configuration. The polishing liquid may be any liquid that is supplied to the plate-like material during the polishing process. For example, the polishing liquid may be a liquid for preventing metal adhesion and improving cleaning ability. That is, the polishing process of the present embodiment is not limited to CMP polishing, but includes other wet polishing.

また、本実施の形態では、加工装置として被加工物を個片化する研磨装置を例示して説明したが、この構成に限定されない。本発明は、研磨処理を実施する他の加工装置に適用可能であり、研磨装置を備えたクラスター装置等の他の加工装置に適用されてもよい。   Further, in the present embodiment, a polishing apparatus that separates a workpiece as an example of the processing apparatus has been described, but the present invention is not limited to this configuration. The present invention can be applied to other processing apparatuses that perform a polishing process, and may be applied to other processing apparatuses such as a cluster apparatus including a polishing apparatus.

また、加工対象の板状物として、加工の種類に応じて、例えば、半導体デバイスウェーハ、光デバイスウェーハ、パッケージ基板、半導体基板、無機材料基板、酸化物ウェーハ、生セラミックス基板、圧電基板等の各種ワークが用いられてもよい。半導体デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のシリコンウェーハや化合物半導体ウェーハが用いられてもよい。光デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のサファイアウェーハやシリコンカーバイドウェーハが用いられてもよい。また、パッケージ基板としてはCSP(Chip Size Package)基板、半導体基板としてはシリコンやガリウム砒素等、無機材料基板としてはサファイア、セラミックス、ガラス等が用いられてもよい。さらに、酸化物ウェーハとしては、デバイス形成後又はデバイス形成前のリチウムタンタレート、リチウムナイオベートが用いられてもよい。   In addition, as a plate-like object to be processed, various types such as, for example, a semiconductor device wafer, an optical device wafer, a package substrate, a semiconductor substrate, an inorganic material substrate, an oxide wafer, a raw ceramic substrate, a piezoelectric substrate, etc. A workpiece may be used. As the semiconductor device wafer, a silicon wafer or a compound semiconductor wafer after device formation may be used. As the optical device wafer, a sapphire wafer or silicon carbide wafer after device formation may be used. Further, a CSP (Chip Size Package) substrate may be used as the package substrate, silicon or gallium arsenide may be used as the semiconductor substrate, and sapphire, ceramics, glass, or the like may be used as the inorganic material substrate. Furthermore, as the oxide wafer, lithium tantalate or lithium niobate after device formation or before device formation may be used.

また、本実施の形態及び変形例を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。   Moreover, although this Embodiment and the modified example were demonstrated, what combined the said embodiment and modified example entirely or partially as another embodiment of this invention may be sufficient.

また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。   The embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various changes, substitutions, and modifications may be made without departing from the spirit of the technical idea of the present invention. Furthermore, if the technical idea of the present invention can be realized in another way by technological advancement or another derived technique, the method may be used. Accordingly, the claims cover all embodiments that can be included within the scope of the technical idea of the present invention.

また、本実施の形態では、本発明を研磨装置に適用した構成について説明したが、研磨液の供給が必要な他の加工装置に適用することも可能である。   In the present embodiment, the configuration in which the present invention is applied to a polishing apparatus has been described. However, the present invention can also be applied to other processing apparatuses that require supply of a polishing liquid.

以上説明したように、本発明は、安全性を確保しつつ、作業負担を低減することができるという効果を有し、特に、CMP研磨装置に用いられる研磨液の製造方法に有用である。   As described above, the present invention has the effect of reducing the work load while ensuring safety, and is particularly useful for a polishing liquid manufacturing method used in a CMP polishing apparatus.

1 研磨装置(CMP研磨装置)
30 製造装置
31 溶媒タンク
32 撹拌槽
34 撹拌機
39 錠剤型薬剤
40、50、60、70 薬剤供給機構
45、55、65、75 フォトセンサ
1 Polishing device (CMP polishing device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 Manufacturing apparatus 31 Solvent tank 32 Stirrer tank 34 Stirrer 39 Tablet-type medicine 40, 50, 60, 70 Medicine supply mechanism 45, 55, 65, 75 Photosensor

Claims (1)

CMP研磨装置に用いる研磨液の製造方法であって、
薬剤の所定重量が固形になった錠剤型薬剤と、該錠剤型薬剤を溶かす溶媒とを用い、
撹拌槽に所定重量の溶媒を供給する溶媒供給工程と、
該撹拌槽に供給した該溶媒に対して所定数量の該錠剤型薬剤を投入する薬剤投入工程と、
該撹拌槽で該錠剤型薬剤と該溶媒とを撹拌する撹拌工程とを備え、
該溶媒に対する該錠剤型薬剤の投入数量により研磨液濃度を調整することを特徴とする研磨液の製造方法。
A method for producing a polishing liquid used in a CMP polishing apparatus,
Using a tablet-type drug in which a predetermined weight of the drug is solid, and a solvent for dissolving the tablet-type drug,
A solvent supply step of supplying a predetermined weight of solvent to the stirring tank;
A drug charging step of charging a predetermined amount of the tablet-type drug with respect to the solvent supplied to the stirring tank;
A stirring step of stirring the tablet-type drug and the solvent in the stirring tank,
A method for producing a polishing liquid, characterized in that the polishing liquid concentration is adjusted according to the amount of the tablet-type drug introduced into the solvent.
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