JP2018165772A - CTP flexographic printing original plate - Google Patents

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JP2018165772A JP2017062983A JP2017062983A JP2018165772A JP 2018165772 A JP2018165772 A JP 2018165772A JP 2017062983 A JP2017062983 A JP 2017062983A JP 2017062983 A JP2017062983 A JP 2017062983A JP 2018165772 A JP2018165772 A JP 2018165772A
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和也 芳本
Kazuya Yoshimoto
和也 芳本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexographic printing original plate having a heat-sensitive mask layer with the reduced occurrence of scratches due to friction.SOLUTION: A flexographic printing original plate has (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, and (C) a heat-sensitive mask layer which are laminated in this order. The (C) heat-sensitive mask layer at least has carbon black, and a basic nitrogen-containing polyamide containing an alicyclic structural unit derived from cyclohexane dicarboxylate, of 25-50 mol% in the molecule as a coat-forming polymer.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、コンピュータ製版技術によりフレキソ印刷版を製造するために使用されるCTPフレキソ印刷原版(以下、「CTPフレキソ印刷原版」という)に関し、特に、薄膜でありながら高い遮光性を維持しつつさらに高度な耐傷性を有する感熱マスク層を有するフレキソ印刷原版に関する。 The present invention relates to a CTP flexographic printing original plate (hereinafter referred to as “CTP flexographic printing original plate”) used for producing a flexographic printing plate by computer plate making technology, and in particular, while maintaining a high light-shielding property while being a thin film. The present invention relates to a flexographic printing plate having a heat-sensitive mask layer having high scratch resistance.

近年、フレキソ印刷の分野において、デジタル画像形成技術として知られるコンピュータ製版技術(Computer to Plate、CTP技術)は極めて一般的なものになってきている。CTP技術は、コンピュータ上で処理された情報を印刷版上に直接出力してレリーフとなる凹凸パターンを得る方法である。この技術により、ネガフィルムの製造工程が不要となり、コストとネガ作製に必要な時間を削減できる。 In recent years, in the field of flexographic printing, computer plate making technology (Computer to Plate, CTP technology) known as digital image forming technology has become very common. The CTP technique is a method for obtaining a relief uneven pattern by directly outputting information processed on a computer onto a printing plate. This technique eliminates the need for a negative film manufacturing process, thereby reducing costs and the time required to make the negative.

CTP技術では、光重合すべきでない領域を覆うために、従来から用いられているネガフィルムが印刷版内で形成統合されるマスクに取って代えられる。この統合マスクを得る方法として、感光性樹脂層上に化学線に対して不透明な感赤外線層(感熱マスク層)を設け、赤外線レーザーでこの感熱マスクを蒸発させることにより画像マスクを形成する方法が広く使用されている(特許文献1参照)。 In CTP technology, a conventionally used negative film is replaced by a mask that is formed and integrated in a printing plate to cover areas that should not be photopolymerized. As a method of obtaining this integrated mask, there is a method of forming an image mask by providing an infrared sensitive layer (thermal mask layer) opaque to actinic radiation on a photosensitive resin layer and evaporating the thermal mask with an infrared laser. Widely used (see Patent Document 1).

感熱マスク層には、放射線不透明材料であるカーボンブラックと皮膜形成可能なバインダーよりなるものが一般的に使われている。感熱マスク層は光重合層に対する化学放射線の透過を阻止するために、一般的に2.0以上の透過光学濃度(遮光性)が必要であり、赤外線レーザーによりアブレーションされるものである。感熱マスク層はアブレーション効率、及びシワの点から薄膜であることが好ましいが、感熱マスク層を薄くするためにカーボンブラックの濃度を高めた場合、感熱マスク層が脆くなり、感熱マスク層に傷が発生する課題があった。  As the heat-sensitive mask layer, a material composed of carbon black which is a radiation opaque material and a binder capable of forming a film is generally used. The heat-sensitive mask layer generally requires a transmission optical density (light-shielding property) of 2.0 or more in order to block the transmission of actinic radiation to the photopolymerization layer, and is ablated by an infrared laser. The thermal mask layer is preferably a thin film from the viewpoint of ablation efficiency and wrinkles, but if the carbon black concentration is increased to make the thermal mask layer thinner, the thermal mask layer becomes brittle and the thermal mask layer is damaged. There was a problem that occurred.

上記課題の対策として、特許文献2にカーボンブラックの分散性にすぐれたバインダーポリマーを用いることで、薄膜でも耐傷性に優れる感熱マスク層が記載されている。ただし、特許文献2の感熱マスク層も、アブレーション後のマスク層表面に、別の版を積み重ねた場合は、マスク層と版の間に摩擦が生じ、マスク層に傷が発生することがあり、必ずしも満足できる耐傷性ではなかった。 As a countermeasure for the above problem, Patent Document 2 discloses a heat-sensitive mask layer that is excellent in scratch resistance even in a thin film by using a binder polymer excellent in carbon black dispersibility. However, the thermal mask layer of Patent Document 2 also causes friction between the mask layer and the plate when another plate is stacked on the surface of the mask layer after ablation, and the mask layer may be scratched. It was not always satisfactory scratch resistance.

感熱マスク層の耐摩擦性を高める方法として、感熱マスク層中に貯蔵弾性率とガラス転移温度が特定範囲のアクリル樹脂を含有し、且つ感光性樹脂層と同じ構造を持つバインダーポリマーを含有したフレキソCTP版が特許文献3に開示されている。しかし、感熱マスク層中にアクリル樹脂を含有するために、フレキソCTP版への加工後に感光性樹脂層より光重合性不飽和化合物として用いられている(メタ)アクリレート化合物が時間の経過と共に感熱マスク層へ移行し、感熱マスク層を可塑化することで耐傷性が低下する問題があった。又、感熱マスク層中に感光性樹脂層と同じ構造を持つバインダーポリマーを含有することが必須であり、樹脂組成物設計がより複雑になる問題点を持っていた。 As a method for improving the friction resistance of the thermal mask layer, a flexographic resin containing a binder polymer having a storage elastic modulus and a glass transition temperature within a specific range in the thermal mask layer and having the same structure as the photosensitive resin layer. A CTP version is disclosed in Patent Document 3. However, since the thermal mask layer contains an acrylic resin, the (meth) acrylate compound used as a photopolymerizable unsaturated compound from the photosensitive resin layer after processing into the flexo CTP plate is a thermal mask over time. There was a problem that the scratch resistance was lowered by shifting to the layer and plasticizing the heat-sensitive mask layer. Further, it is essential that the heat-sensitive mask layer contains a binder polymer having the same structure as that of the photosensitive resin layer, and there is a problem that the resin composition design becomes more complicated.

又、最近では金属支持体を用いたフレキソ印刷原版の要望もあり、マスク層表面に金属支持体が接した場合、より高い耐傷性が必要とされる。 Recently, there is also a demand for a flexographic printing plate using a metal support, and when the metal support is in contact with the mask layer surface, higher scratch resistance is required.

特表平7−506201号公報JP 7-506201 A 特開2009−300588号公報JP 2009-300588 A 特開2012−137515号公報JP 2012-137515 A

本発明は、上記のような従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、その目的は、複雑な樹脂組成物設計をしなくても、感熱マスク層中に特定のポリアミドバインダーを含有させることにより感熱マスク層に発生する傷を高度に低減するものである。さらに詳しくは、CTP層表面に摩擦力による擦り傷発生を低減させることにある。   The present invention has been made in view of the current state of the prior art as described above, and its purpose is to include a specific polyamide binder in the thermal mask layer without designing a complicated resin composition. Thus, scratches generated in the heat-sensitive mask layer are highly reduced. More specifically, it is to reduce the generation of scratches due to frictional force on the surface of the CTP layer.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、感熱マスク層中に皮膜形成ポリマーとして分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドを含有させることでCTP層表面に摩擦力による擦り傷発生を低減し、さらに良好なカーボンブラックの分散性をも達成した感熱マスク層を有する感光性フレキソ印刷原版を見出し、本発明の完成に至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have contained 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule as a film-forming polymer in the heat-sensitive mask layer. A photosensitive flexographic printing master having a heat-sensitive mask layer that reduces the generation of scratches due to frictional force on the surface of the CTP layer and also achieves good dispersibility of carbon black by incorporating a basic nitrogen-containing polyamide is found. The invention has been completed.

即ち、本発明は、以下の(1)〜(4)の構成を有するものである。
(1)少なくとも(A)支持体、(B)感光性樹脂層、(C)感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、(C)感熱マスク層が、少なくともカーボンブラック、分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドとを含有することを特徴とするCTPフレキソ印刷原版。
(2)(C)感熱マスク層がさらにブチラール樹脂、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選ばれる一つ以上の分散剤を含有することを特徴とする(1)に記載のCTPフレキソ印刷原版。
(3)前記塩基性窒素含有ポリアミドが分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位以外の脂環族構造単位として、イソホロンジアミンより得られる構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して5〜15モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドであることを特徴とする(1)又は(2)に記載のCTPフレキソ印刷原版。
(4)(B)感光性樹脂層がラテックスを含有することを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のCTPフレキソ印刷原版。
That is, the present invention has the following configurations (1) to (4).
(1) A photosensitive flexographic printing plate in which at least (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, and (C) a thermal mask layer are sequentially laminated, and (C) the thermal mask layer is at least carbon black. And a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule with respect to the total number of moles of all polyamide structural units. CTP flexographic printing master.
(2) (C) The thermosensitive mask layer further contains one or more dispersants selected from the group consisting of butyral resin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol. The CTP flexographic printing plate according to (1), .
(3) As the alicyclic structural unit other than the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule of the basic nitrogen-containing polyamide, the structural unit obtained from isophoronediamine is the total moles of all structural units of the polyamide. The CTP flexographic printing original plate according to (1) or (2), wherein the basic nitrogen-containing polyamide is contained in an amount of 5 to 15 mol% based on the number.
(4) The CTP flexographic printing original plate as described in any one of (1) to (3), wherein the photosensitive resin layer contains a latex.

本発明によれば、良好なカーボンブラックの分散性を維持しつつ、CTP層表面に摩擦力による擦り傷発生をも低減させた高度な耐傷性を有するCTPフレキソ印刷原版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a CTP flexographic printing original plate having high scratch resistance in which generation of scratches due to frictional force is reduced on the surface of the CTP layer while maintaining good carbon black dispersibility.

以下、本発明のフレキソ印刷原版を詳細に説明する。   Hereinafter, the flexographic printing plate precursor of the present invention will be described in detail.

本発明のフレキソ印刷原版は、少なくとも(A)支持体、(B)感光性樹脂層、(C)感熱マスク層が順次積層した構成を有する。又、(B)感光性樹脂層と(C)感熱マスク層との間に(D)バリヤ層を設けても良い。   The flexographic printing plate precursor of the present invention has a configuration in which at least (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, and (C) a thermal mask layer are sequentially laminated. Further, a (D) barrier layer may be provided between (B) the photosensitive resin layer and (C) the thermosensitive mask layer.

本発明の原版に使用される(A)支持体は、可撓性であるが、寸法安定性に優れた材料が好ましく、例えばスチール、アルミニウム、銅、ニッケルなどの金属製支持体、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、またはポリカーボネートフィルムなどの熱可塑性樹脂製支持体を挙げることができる。これらの中でも、寸法安定性に優れ、充分に高い粘弾性を有するポリエチレンテレフタレートフイルムが特に好ましい。支持体の厚みは、機械的特性、形状安定性あるいは印刷版製版時の取り扱い性等から50〜350μm、好ましくは100〜250μmが望ましい。また、必要により、支持体と感光性樹脂層との接着性を向上させるために、それらの間に接着剤を設けても良い。   The (A) support used in the original plate of the present invention is flexible, but is preferably a material excellent in dimensional stability. For example, a metal support such as steel, aluminum, copper, or nickel, a polyethylene terephthalate film And a thermoplastic resin support such as a polyethylene naphthalate film, a polybutylene terephthalate film, or a polycarbonate film. Among these, a polyethylene terephthalate film having excellent dimensional stability and sufficiently high viscoelasticity is particularly preferable. The thickness of the support is from 50 to 350 μm, preferably from 100 to 250 μm, from the viewpoint of mechanical properties, shape stability, or handleability during plate making. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a support body and the photosensitive resin layer, you may provide an adhesive agent between them as needed.

本発明の原版に使用される(B)感光性樹脂層は、合成高分子化合物、光重合性不飽和化合物、及び光重合開始剤の必須成分と、可塑剤、熱重合防止剤、染料、顔料、紫外線吸収剤、香料、又は酸化防止剤などの任意の添加剤とから構成される。(B)感光性樹脂層は水系現像液で現像可能なものが好ましい。水現像可能な感光性樹脂層に用いる合成高分子化合物としては、ラテックスから得られる重合体を含有する感光性樹脂層が好ましい。   The photosensitive resin layer (B) used in the original plate of the present invention comprises a synthetic polymer compound, a photopolymerizable unsaturated compound, and essential components of a photopolymerization initiator, a plasticizer, a thermal polymerization inhibitor, a dye, and a pigment. , UV absorbers, fragrances, or optional additives such as antioxidants. (B) The photosensitive resin layer is preferably one that can be developed with an aqueous developer. The synthetic polymer compound used for the water-developable photosensitive resin layer is preferably a photosensitive resin layer containing a polymer obtained from latex.

本発明の(B)感光性樹脂層は感光性樹脂層の物性を向上させるために水現像性が低下しない範囲でラテックス以外に固形の疎水性合成ゴムを感光性樹脂組成物中に含有しても良い。好ましい範囲としては、1〜10質量%である。疎水性合成ゴムとしては、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メチル−イソプレン共重合体、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体等が挙げられる。これらのうち、ゴム弾性の点で、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体が好ましいが、ラテックスと同じ骨格構造を有していることがさらに好ましい。   The photosensitive resin layer (B) of the present invention contains a solid hydrophobic synthetic rubber other than latex in the photosensitive resin composition as long as the water developability does not decrease in order to improve the physical properties of the photosensitive resin layer. Also good. A preferable range is 1 to 10% by mass. Hydrophobic synthetic rubber includes butadiene polymer, isoprene polymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, methyl methacrylate-isoprene copolymer, methyl acrylate-chloroprene. A copolymer, a methyl acrylate-chloroprene copolymer, an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, and the like can be given. Among these, a butadiene polymer, an isoprene polymer, and an acrylonitrile-butadiene copolymer are preferable from the viewpoint of rubber elasticity, but it is more preferable to have the same skeleton structure as latex.

使用可能なラテックスから得られる重合体としては、ポリブタジエンラテックス、天然ゴムラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリクロロプレンラテックス、ポリイソプレンラテックス、ポリウレタンラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ビニルピリジン重合体ラテックス、ブチル重合体ラテックス、チオコール重合体ラテックス、アクリレート重合体ラテックスなどの水分散ラテックス重合体やこれら重合体にアクリル酸やメタクリル酸などの他の成分を共重合して得られる重合体が挙げられる。これらの中でも、分子鎖中にブタジエン骨格またはイソプレン骨格を含有する水分散ラテックス重合体が、硬度やゴム弾性の点から好ましく用いられる。具体的には、ポリブタジエンラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリイソプレンラテックスが好ましい。ラテックスは、独立した微粒子としてその存在が確認できることが必要である。ラテックスは二種類以上を混合しても良い。   Polymers obtained from usable latexes include polybutadiene latex, natural rubber latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, polychloroprene latex, polyisoprene latex, polyurethane latex, and methyl methacrylate-butadiene. Water-dispersed latex polymers such as copolymer latex, vinylpyridine polymer latex, butyl polymer latex, thiocol polymer latex, and acrylate polymer latex, and other components such as acrylic acid and methacrylic acid are copolymerized with these polymers And the resulting polymer. Among these, an aqueous dispersion latex polymer containing a butadiene skeleton or an isoprene skeleton in the molecular chain is preferably used from the viewpoint of hardness and rubber elasticity. Specifically, polybutadiene latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, methyl methacrylate-butadiene copolymer latex, and polyisoprene latex are preferable. Latex needs to be confirmed as independent fine particles. Two or more types of latex may be mixed.

本発明の印刷原版に使用される(C)感熱マスク層は、赤外線レーザーを吸収し熱に変換する機能と紫外光を遮断する機能を有する材料であるカーボンブラック、及びシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドとから構成される。さらに好ましくは分散剤を含有する。また、これら以外の任意成分として、フィラー、界面活性剤又は塗布助剤などを本発明の効果を損なわない範囲で含有することができる。又、ポリアミドとして、シクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を含有しないポリアミドを含有してもかまわない。   The heat-sensitive mask layer (C) used in the printing original plate of the present invention is obtained from carbon black, which is a material having a function of absorbing infrared laser and converting it into heat, and a function of blocking ultraviolet light, and cyclohexanedicarboxylic acid. And a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit. More preferably, it contains a dispersant. Further, as optional components other than these, a filler, a surfactant, a coating aid, or the like can be contained within a range that does not impair the effects of the present invention. Moreover, as a polyamide, you may contain the polyamide which does not contain the alicyclic structural unit obtained from a cyclohexane dicarboxylic acid.

本発明の(C)感熱マスク層に用いるシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドは、皮膜形成ポリマーとして機能する。さらに分散剤を併用することでカーボンブラックの分散性を向上することができ、高い遮光性に寄与することができる。しかし、分散剤単独の使用では感熱マスク層の被膜が脆くなり、耐傷性に劣る。そこで、本発明では、この高度な耐傷性を克服するためにシクロヘキサンジカルボン酸より得られる環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドを皮膜形成ポリマーとして用いる。 The basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid used in the heat-sensitive mask layer (C) of the present invention functions as a film-forming polymer. Furthermore, by using a dispersant in combination, the dispersibility of carbon black can be improved, which can contribute to high light shielding properties. However, when the dispersant alone is used, the heat-sensitive mask layer becomes brittle and has poor scratch resistance. Therefore, in the present invention, in order to overcome this high scratch resistance, a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of a cyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is used as the film-forming polymer.

分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドとは、ポリアミドを構成するジアミン、ジカルボン酸、アミノカルボン酸又はラクタムより得られる構造単位の総モル数に対して、分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位のモル%が25〜50モル%である塩基性窒素含有ポリアミドである。   A basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule based on the total number of moles of all polyamide structural units is a diamine or dicarboxylic acid constituting the polyamide. Basic nitrogen in which the mol% of the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule is 25 to 50 mol% with respect to the total number of moles of the structural unit obtained from the acid, aminocarboxylic acid or lactam Containing polyamide.

シクロへキサンジカルボン酸より得られる塩基性窒素含有ポリアミドは高いTgを有するために耐摩擦性を感熱マスク層に付与することができたと考えられる。また、ブチラール樹脂とシクロへキサンジカルボン酸より得られる環族構造単位を含有するポリアミドからなる感熱マスク層は、水に容易に分散するため、特に水現像版の感熱マスク層として好適に用いることができる。 Since the basic nitrogen-containing polyamide obtained from cyclohexanedicarboxylic acid has a high Tg, it is considered that it was possible to impart friction resistance to the heat-sensitive mask layer. In addition, since a heat-sensitive mask layer made of polyamide containing a cyclic structural unit obtained from butyral resin and cyclohexanedicarboxylic acid is easily dispersed in water, it is particularly preferably used as a heat-sensitive mask layer for a water-developed plate. it can.

ポリアミド中のシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位の割合が上記範囲未満では、耐傷性が低下するので好ましくない。一方、上記範囲を超えると感熱マスク層が硬くなりすぎて曲げ応力を加えた時に割れが発生しやすくなるので好ましくない。   When the ratio of the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the polyamide is less than the above range, scratch resistance is lowered, which is not preferable. On the other hand, if the above range is exceeded, the heat-sensitive mask layer becomes too hard, and cracking tends to occur when bending stress is applied, which is not preferable.

本発明のポリアミド中の構造単位のモル%とは、アミノカルボン酸またはラクタム単位とジアミンとジカルボン酸からなる各単位の総モル数に対する各構造単位のモル数を比率で示したものである。各構造単位のモル%は原料仕込み段階のモル数またはH−NMRの測定結果より計算することができる。H−NMRによる分析は、一般的に行われている分析方法であり、積分値より各構造単位のモル%を計算する方法である。   The mol% of the structural unit in the polyamide of the present invention indicates the number of moles of each structural unit relative to the total number of moles of each unit composed of an aminocarboxylic acid or lactam unit, a diamine and a dicarboxylic acid. The mol% of each structural unit can be calculated from the number of moles in the raw material charging stage or the measurement result of H-NMR. Analysis by H-NMR is a commonly performed analysis method, in which the mol% of each structural unit is calculated from the integral value.

分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有共重合ポリアミドとしては、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸や1.3−シクロヘキサンジカルボン酸を用いて製造する方法により製造することが好ましい。   The basic nitrogen-containing copolymer polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule is 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid or 1.3-cyclohexanedicarboxylic acid. It is preferable to manufacture by the method of using and manufacturing.

シクロへキサンジカルボン酸と重縮合する相手のジアミンとしては、炭素数4〜8のアルキレンジアミンが好ましい。具体的な炭素数4〜8のアルキレンジアミンとしては1,4−テトラメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン、1,8−オクタンジアミンが挙げられる。   As a partner diamine to be polycondensed with cyclohexanedicarboxylic acid, an alkylenediamine having 4 to 8 carbon atoms is preferable. Specific examples of the alkylene diamine having 4 to 8 carbon atoms include 1,4-tetramethylene diamine, 2-methylpentamethylene diamine, 1,6-hexane diamine, and 1,8-octane diamine.

本発明に用いる塩基性窒素含有ポリアミドは、脂環族構造単位としてシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位以外に他の脂環族ジアミン又はジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を分子内に含有しても良い。具体的なジアミンの例としては、イソホロンジアミン、1,4−シクロへキサンジアミン、1,3−シクロへキサンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルニルジアミンが挙げられるが、イソホロンジアミンがより好ましい。   The basic nitrogen-containing polyamide used in the present invention includes alicyclic structural units obtained from other alicyclic diamines or dicarboxylic acids in addition to alicyclic structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid as alicyclic structural units. It may be contained in the molecule. Specific examples of diamines include isophorone diamine, 1,4-cyclohexane diamine, 1,3-cyclohexane diamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl). Although cyclohexane and norbornyl diamine are mentioned, isophorone diamine is more preferable.

イソホロンジアミンより得られる構造単位を導入する場合にはイソホロンジアミンより得られる構造単位を5〜15モル%含有することが物性面より好ましく、感熱マスク層の割れを低減できる。 In the case of introducing a structural unit obtained from isophorone diamine, it is preferable from the viewpoint of physical properties that the structural unit obtained from isophorone diamine is contained in an amount of 5 to 15 mol%, and cracking of the thermal mask layer can be reduced.

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドは、ポリアミドの特性に影響を及ぼさない範囲で脂環族以外の公知のジアミン及びジカルボン酸を使用することができる。脂肪族ジアミンとしては、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−テトラメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン、1,11−ウンデカメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、2,2,4、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、又はポリエーテルアミンJEFFAMINE ED900などが挙げられる。又、脂環族ジカルボン酸以外の公知の脂肪族ジカルボン酸としては、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸などが挙げられる。   As the basic nitrogen-containing polyamide of the present invention, known diamines and dicarboxylic acids other than alicyclic groups can be used as long as the properties of the polyamide are not affected. Aliphatic diamines include ethylenediamine, diethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-tetramethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, 1,6-hexanediamine, 1,11-undecamethylenediamine, 1 , 12-dodecanediamine, 2,2,4,2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, or polyetheramine JEFFAMINE ED900. Examples of known aliphatic dicarboxylic acids other than alicyclic dicarboxylic acids include glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, and decanedicarboxylic acid.

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドとは分子中の主鎖又は側鎖に塩基性窒素原子を含有するポリアミドであり、塩基性窒素原子を含有することで水溶解性又は水分散性(水現像性)を付与することができる。塩基性窒素原子を含有させる方法としては、ピペラジン環を有するジアミンやメチルイミノビスプロピルアミン等の第3級窒素原子を含む塩基性窒素含有ジアミンを用いることが挙げられる。更に、ポリマーの弾性率の観点より、ピペラジン環を有するジアミンを用いることが特に好ましい。ピペラジン環を有するジアミンとしては、1,4−ビス(3−アミノエチル)ピペラジン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジンなどが挙げられる。
これにより、得られるポリアミドに結晶性を付与することができる。
The basic nitrogen-containing polyamide of the present invention is a polyamide containing a basic nitrogen atom in the main chain or side chain in the molecule. By containing the basic nitrogen atom, water solubility or water dispersibility (water developability) ). Examples of the method of containing a basic nitrogen atom include using a basic nitrogen-containing diamine containing a tertiary nitrogen atom such as a diamine having a piperazine ring or methyliminobispropylamine. Furthermore, it is particularly preferable to use a diamine having a piperazine ring from the viewpoint of the elastic modulus of the polymer. Examples of the diamine having a piperazine ring include 1,4-bis (3-aminoethyl) piperazine, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, N- (2-aminoethyl) piperazine, and the like.
Thereby, crystallinity can be imparted to the resulting polyamide.

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドは、ポリアミドの特性に影響を及ぼさない範囲で脂環族ジアミン又は脂環族ジカルボン酸以外に公知のジアミン又はジカルボン酸を使用することができる。脂肪族ジアミンとしては、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−テトラメチレンジアミン、2−メチルペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン、1,11−ウンデカメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、2,2,4、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、又はポリエーテルアミンJEFFAMINE ED900などが挙げられる。   In the basic nitrogen-containing polyamide of the present invention, a known diamine or dicarboxylic acid can be used in addition to the alicyclic diamine or alicyclic dicarboxylic acid as long as the properties of the polyamide are not affected. Aliphatic diamines include ethylenediamine, diethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-tetramethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine, 1,6-hexanediamine, 1,11-undecamethylenediamine, 1 , 12-dodecanediamine, 2,2,4,2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, or polyetheramine JEFFAMINE ED900.

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドに用いるジカルボン酸としては、脂環族ジカルボン酸以外の公知の脂肪族ジカルボン酸を使用することができる。脂肪族ジカルボン酸としては、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸などが挙げられる。   As the dicarboxylic acid used in the basic nitrogen-containing polyamide of the present invention, known aliphatic dicarboxylic acids other than alicyclic dicarboxylic acids can be used. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, decanedicarboxylic acid and the like.

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドは、水溶解性又は水分散性(水現像性)であるかどうかは、ポリアミドを単独で30℃の水または酸性水に浸漬してブラシ等で擦ることで判定することができる。ブラシ等で物理的に擦った後、ポリアミドが水または酸性水に均一に混合している場合、このポリアミドは水溶解性であると判定される。一方、ブラシ等で物理的に擦った後、ポリアミドの一部又は全面が膨潤して水中に分散し、ポリアミドが不均一に混合されている場合、このポリアミドは水分散性であると判定される。   Whether the basic nitrogen-containing polyamide of the present invention is water-soluble or water-dispersible (water-developable) is determined by immersing the polyamide alone in 30 ° C water or acidic water and rubbing with a brush or the like. can do. When the polyamide is uniformly mixed with water or acidic water after being physically rubbed with a brush or the like, the polyamide is determined to be water-soluble. On the other hand, after physically rubbing with a brush or the like, if a part or the whole of the polyamide swells and disperses in water, and the polyamide is mixed inhomogeneously, the polyamide is determined to be water dispersible. .

本発明の塩基性窒素含有ポリアミドは、ポリアミドの特性に影響を及ぼさない範囲でラクタム及び/又はアミノカルボン酸より得られる構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して10〜70モル%含有することができる。これにより、得られるポリアミドに結晶性を付与することができる。   The basic nitrogen-containing polyamide of the present invention contains 10 to 70 mol% of structural units obtained from lactam and / or aminocarboxylic acid in a range that does not affect the properties of the polyamide with respect to the total number of moles of all polyamide structural units. can do. Thereby, crystallinity can be imparted to the resulting polyamide.

本発明のポリアミドの重合は公知の方法で実施することができる。   Polymerization of the polyamide of the present invention can be carried out by a known method.

本発明のポリアミドを重合するためのジアミンとジカルボン酸のモル比率(アミノ基/カルボキシル基)は、1.0以上、好ましくは1.01以上である。モル比率を上記範囲とすることで、重合が平衡となった後にポリマーを取り出すことが可能となり、分子量の変動を抑えることができる。   The molar ratio (amino group / carboxyl group) of diamine and dicarboxylic acid for polymerizing the polyamide of the present invention is 1.0 or more, preferably 1.01 or more. By setting the molar ratio within the above range, it becomes possible to take out the polymer after the polymerization is in equilibrium, and the variation in molecular weight can be suppressed.

本発明に用いる塩基性窒素含有ポリアミドは、塩基性第3級窒素原子を分子内に有するジアミン、ジカルボン酸、アミノカルボン酸又はラクタムを用いて共重合することが好ましい。その場合は四級化剤と反応させ、アンモニウム塩型窒素原子を有する可溶性高分子化合物とすることが水溶性の面から好ましい。四級化剤としては、公知の有機酸の使用が可能であり、脂肪族有機酸、芳香族有機酸が使用可能である。有機酸の具体例は、脂肪族有機酸としては、メタクリル酸、アクリル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グリコール酸、乳酸など、芳香族有機酸としては、安息香酸、イソフタル酸などが挙げられるが、水溶性の面から脂肪族有機酸が好ましい。   The basic nitrogen-containing polyamide used in the present invention is preferably copolymerized using a diamine, dicarboxylic acid, aminocarboxylic acid or lactam having a basic tertiary nitrogen atom in the molecule. In that case, it is preferable to react with a quaternizing agent to form a soluble polymer compound having an ammonium salt type nitrogen atom from the viewpoint of water solubility. As the quaternizing agent, known organic acids can be used, and aliphatic organic acids and aromatic organic acids can be used. Specific examples of organic acids include methacrylic acid, acrylic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, glycolic acid, and lactic acid as aliphatic organic acids, and benzoic acid and isophthalic acid as aromatic organic acids. However, aliphatic organic acids are preferred from the viewpoint of water solubility.

本発明の(C)感熱マスク層は、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドを30〜60質量%含有することが好ましく、さらに好ましくは30〜50質量%である。塩基性窒素含有ポリアミドの含有率が上記の範囲にないと、感熱マスク層の被膜の耐傷性を達成できないおそれがある。 The thermal mask layer (C) of the present invention preferably contains 30 to 60% by mass, more preferably 30%, of a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of a cyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid. -50 mass%. If the content of the basic nitrogen-containing polyamide is not within the above range, the scratch resistance of the heat-sensitive mask layer may not be achieved.

本発明に用いる分散剤は、カーボンブラックを分散させるために感熱マスク層に含有する。分散剤とカーボンブラックとの比率は、25:75〜25が好ましい。   The dispersant used in the present invention is contained in the thermal mask layer in order to disperse the carbon black. The ratio of the dispersant to carbon black is preferably 25: 75-25.

分散剤としては、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選ばれる一つ以上の分散剤を含有する。分散剤を含有することで、感熱マスク層を薄くしても透過光学濃度ムラの少ない感熱マスク層を得ることができる。カーボンブラックの分散性よりブチラール樹脂や変成ポリビニルアルコールが好ましい。   The dispersant contains one or more dispersants selected from the group consisting of a butyral resin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol. By containing the dispersant, a heat-sensitive mask layer with little transmission optical density unevenness can be obtained even if the heat-sensitive mask layer is thinned. Butyral resin and modified polyvinyl alcohol are preferred from the dispersibility of carbon black.

本発明の分散剤に用いるブチラール樹脂は、ポリビニルブチラールとも言い、ポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸触媒で反応させて生成するポリビニルアセタールの一種である。 The butyral resin used in the dispersant of the present invention is also called polyvinyl butyral, and is a kind of polyvinyl acetal produced by reacting polyvinyl alcohol and butyraldehyde with an acid catalyst.

本発明の分散剤に用いる変性ポリビニルアルコールとしては、鹸化度が70%以上90%以下のポリビニルアルコールを用いて変成したポリビニルアルコールである。鹸化度が70%以上90%以下のポリビニルアルコールは水酸基を有しており、水酸基と反応させることで変成することができる。又、他の変性方法としては、極性基を有する重合性モノマーを共重合することでも変性は可能である。 The modified polyvinyl alcohol used in the dispersant of the present invention is polyvinyl alcohol modified with polyvinyl alcohol having a saponification degree of 70% or more and 90% or less. Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 70% or more and 90% or less has a hydroxyl group and can be modified by reacting with the hydroxyl group. As another modification method, the modification can also be performed by copolymerizing a polymerizable monomer having a polar group.

本発明の分散剤に用いる具体的な変性ポリビニルアルコールとしては、アニオン性極性基やカチオン性極性基を導入したポリビニルアルコールやエチレンオキサイド等のノニオン性親水基を有する変成ポリビニルアルコールである。変性ポリビニルアルコールはアルコール可溶性が好ましく、アルコール可溶性を選択することによってアルコールを含む溶媒を用いて感熱バリヤ層用のコート液を調整できるので好ましい。ポリビニルアルコールにカルボキシル基を導入する方法としては酸無水物と反応させる方法、エポキシ基を有するカルボン酸化合物との反応やカルボン酸を有するモノマーの共重合などがあり、市販品としてはクラレ社のCM−318や日本合成化学社のT-350などが挙げられる。一方、カチオン基を導入する方法としては、カチオン基を有するモノマーを共重合する方法、エポキシ基を有するカチオン基含有化合物との反応などが挙げられ、市販品としてはカチオン基(4級アンモニウム塩)を側鎖に導入した日本合成化学社のゴーセネックス K-434などがある。一方、ノニオン性親水基を有する変性ポリビニルアルコールとしてアルキレングリコールのノニオン性親水基を有する変成ポリビニルアルコールであり、具体的には側鎖に親水性のエチレンオキサイド基を有するノニオン性の変性ポリビニルアルコール 日本合成化学(株)製のWO−320R等が挙げられる。 Specific modified polyvinyl alcohol used in the dispersant of the present invention is a modified polyvinyl alcohol having a nonionic hydrophilic group such as polyvinyl alcohol or ethylene oxide into which an anionic polar group or a cationic polar group has been introduced. The modified polyvinyl alcohol is preferably alcohol-soluble, and is preferable because the coating solution for the heat-sensitive barrier layer can be prepared using a solvent containing alcohol by selecting the alcohol-soluble property. As a method for introducing a carboxyl group into polyvinyl alcohol, there are a method of reacting with an acid anhydride, a reaction with a carboxylic acid compound having an epoxy group, and a copolymerization of a monomer having a carboxylic acid. -318 and Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. T-350. On the other hand, examples of the method for introducing a cation group include a method of copolymerizing a monomer having a cation group, a reaction with a cation group-containing compound having an epoxy group, and a commercially available product is a cation group (quaternary ammonium salt). And Goseinex K-434 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. On the other hand, a modified polyvinyl alcohol having a nonionic hydrophilic group of alkylene glycol as a modified polyvinyl alcohol having a nonionic hydrophilic group, specifically, a nonionic modified polyvinyl alcohol having a hydrophilic ethylene oxide group in the side chain. Chemical-made WO-320R etc. are mentioned.

本発明のCTPフレキソ印刷原版は(B)感光性樹脂層と(C)感熱マスク層との間に(D)バリヤ層を設けても良い。バリヤ層を設けることで、酸素による重合障害や感光性樹脂組成中の低分子量成分が感熱マスク層へ移動することを抑制できる。バリヤ層中のバインダーポリマーとしては、ポリビニルアルコール、部分鹸化酢酸ビニル、アルキルセルロース、セルロース系ポリマーが挙げられる。これらのポリマーは、一種類の使用に限定されず、二種類以上のポリマーを組み合わせて使用することもできる。酸素バリヤ性が好ましいポリマーとしては、ポリビニルアルコール、部分鹸化酢酸ビニル、アルキルセルロースである。酸素バリヤ性が好ましい範囲にあるバインダーポリマーを選択することで画像再現性を制御することができる。 In the CTP flexographic printing original plate of the present invention, a (D) barrier layer may be provided between (B) the photosensitive resin layer and (C) the thermal mask layer. By providing the barrier layer, it is possible to suppress polymerization failure due to oxygen and migration of low molecular weight components in the photosensitive resin composition to the thermal mask layer. Examples of the binder polymer in the barrier layer include polyvinyl alcohol, partially saponified vinyl acetate, alkyl cellulose, and cellulosic polymer. These polymers are not limited to one type of use, and two or more types of polymers can be used in combination. Preferred polymers having oxygen barrier properties are polyvinyl alcohol, partially saponified vinyl acetate, and alkyl cellulose. Image reproducibility can be controlled by selecting a binder polymer having an oxygen barrier property in a preferable range.

(D)バリヤ層の層厚としては、0.2μm〜3.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.2μm〜1.5μmの範囲である。上記下限未満になると酸素バリア性が不十分であり、レリーフの版面に荒れが生じるおそれがある。上記上限を越えると、細線再現不良が起こるおそれがある。
(D) The thickness of the barrier layer is preferably 0.2 μm to 3.0 μm, more preferably 0.2 μm to 1.5 μm. If it is less than the above lower limit, the oxygen barrier property is insufficient and the relief plate surface may be roughened. If the above upper limit is exceeded, there is a risk that fine line reproduction failure will occur.

本発明のCTPフレキソ印刷原版を製造する方法は特に限定されないが、一般的には以下のようにして製造される。
まず、感熱マスク層のカーボンブラック以外のバインダー等の成分を適当な溶媒に溶解させ、そこにカーボンブラックを分散させて分散液を作製する。次に、このような分散液を感熱マスク層用支持体(例えばPETフィルム)上に塗布して、溶剤を蒸発させる。その後、保護層成分を上塗りし、一方の積層体を作成する。さらに、これとは別に支持体上に塗工により感光性樹脂層を形成し、他方の積層体を作成する。このようにして得られた二つの積層体を、圧力及び/又は加熱下に、感光性樹脂層が保護層に隣接するように積層する。なお、感熱マスク層用支持体は、印刷原版の完成後はその表面の保護フィルムとして機能する。
The method for producing the CTP flexographic printing original plate of the present invention is not particularly limited, but is generally produced as follows.
First, components such as a binder other than carbon black of the heat-sensitive mask layer are dissolved in a suitable solvent, and carbon black is dispersed therein to prepare a dispersion. Next, such a dispersion is applied onto a support for a thermal mask layer (for example, a PET film), and the solvent is evaporated. Thereafter, the protective layer component is overcoated to produce one laminate. Further, separately from this, a photosensitive resin layer is formed on the support by coating, and the other laminate is prepared. The two laminates thus obtained are laminated so that the photosensitive resin layer is adjacent to the protective layer under pressure and / or heating. The heat-sensitive mask layer support functions as a protective film on the surface of the printing original plate after completion.

本発明の印刷原版から印刷版を製造する方法としては、保護フィルムが存在する場合には、まず保護フィルムを感光性印刷版から除去する。その後、感熱マスク層をIRレーザにより画像様に照射して、感光性樹脂層上にマスクを形成する。好適なIRレーザの例としては、ND/YAGレーザ(1064nm)又はダイオードレーザ(例、830nm)を挙げることができる。コンピュータ製版技術に好適なレーザシステムは、市販されており、例えばCDI Spark(エスコ・グラフィックス社)を使用することができる。このレーザシステムは、印刷原版を保持する回転円筒ドラム、IRレーザの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザ装置に直接移される。   As a method for producing a printing plate from the printing original plate of the present invention, when a protective film is present, the protective film is first removed from the photosensitive printing plate. Thereafter, the thermal mask layer is irradiated imagewise with an IR laser to form a mask on the photosensitive resin layer. Examples of suitable IR lasers include ND / YAG laser (1064 nm) or diode laser (eg, 830 nm). Laser systems suitable for computer plate making technology are commercially available, and for example, CDI Spark (Esco Graphics) can be used. This laser system includes a rotating cylindrical drum that holds a printing original, an IR laser irradiation device, and a layout computer, and image information is directly transferred from the layout computer to the laser device.

画像情報を感熱マスク層に書き込んだ後、感光性印刷原版にマスクを介して活性光線を全面照射する。これは版をレーザシリンダに取り付けた状態で行うことも可能であるが、版をレーザ装置から除去し、慣用の平板な照射ユニットで照射する方が規格外の版サイズに対応可能な点で有利であり一般的である。活性光線としては、150〜500nm、特に300〜400nmの波長を有する紫外線を使用することができる。その光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用することができる。その後、照射された版は現像され、印刷版を得る。現像工程は、慣用の現像ユニットで実施することができる。   After the image information is written on the heat-sensitive mask layer, the photosensitive printing original plate is irradiated with actinic rays through the mask. This can be done with the plate attached to the laser cylinder, but removing the plate from the laser device and irradiating with a conventional flat irradiation unit is advantageous in that it can cope with non-standard plate sizes. It is general. As the actinic ray, ultraviolet rays having a wavelength of 150 to 500 nm, particularly 300 to 400 nm can be used. As the light source, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, or the like can be used. Thereafter, the irradiated plate is developed to obtain a printing plate. The development step can be performed with a conventional development unit.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中(本文)の部数は質量部を表わす。また、表1のポリアミド組成はmol%を表す。ポリアミド組成のmol%はH−NMRの測定により確定した。なお、実施例中の特性値の評価は以下の方法に依った。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these. In the examples (text), the number of parts represents parts by mass. Moreover, the polyamide composition of Table 1 represents mol%. The mol% of the polyamide composition was determined by H-NMR measurement. In addition, evaluation of the characteristic value in an Example depended on the following method.

<塩基性窒素含有ポリアミドの合成>
表1に示すポリアミドの組成に従って、実施例1に使用するポリアミドを合成した。ε−カプロラクタム339部、シクロヘキサンジカルボン酸602部、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン501部、イソホロンジアミン170部、50%次亜リン酸水溶液5部、及び水1000部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が0.4MPaに達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約2時間で常圧に戻し、その後1時間常圧で反応させた。得られたポリアミドの相対粘度2.05であった。ポリアミドの組成をH−NMRで測定し、仕込み組成とポリマー組成に差異がないことを確認した。実施例2〜10のポリアミドは表1の組成に従って、実施例1と同様の重合方法で感熱マスク層に使用する皮膜形成ポリマー用ポリアミドを得た。
<Synthesis of basic nitrogen-containing polyamide>
According to the polyamide composition shown in Table 1, the polyamide used in Example 1 was synthesized. In an autoclave, 339 parts of ε-caprolactam, 602 parts of cyclohexanedicarboxylic acid, 501 parts of 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, 170 parts of isophoronediamine, 5 parts of 50% aqueous hypophosphorous acid solution, and 1000 parts of water After charging and replacing with nitrogen, it was sealed and gradually heated. From the time when the internal pressure reached 0.4 MPa, water was distilled off until the pressure could not be maintained, the pressure was returned to normal pressure in about 2 hours, and then reacted at normal pressure for 1 hour. The obtained polyamide had a relative viscosity of 2.05. The composition of the polyamide was measured by H-NMR, and it was confirmed that there was no difference between the charged composition and the polymer composition. The polyamides of Examples 2 to 10 were obtained according to the compositions in Table 1 to obtain a polyamide for a film-forming polymer used for the heat-sensitive mask layer by the same polymerization method as in Example 1.

<分散剤>
C−1:ブチラール樹脂として、積水化学工業(株)製のBM−5を使用した。
C−2:変性ポリビニルアルコールとして、側鎖に親水性のエチレンオキサイド基を有するノニオン性の特殊変性ポリビニルアルコール 日本合成化学(株)製のWO−320Rを使用した。
<Dispersant>
C-1: BM-5 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was used as a butyral resin.
C-2: Non-modified special modified polyvinyl alcohol having hydrophilic ethylene oxide group in the side chain as modified polyvinyl alcohol WO-320R manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. was used.

感熱マスク層塗工液の調製
表1の感熱マスク層組成に記載の組成(重量比)に従って分散バインダーを溶媒に溶解させ、そこにカーボンブラックを分散させて分散液を調製し、感熱マスク層塗工液とした。溶媒はメタノールとエタノールの70:30の重量割合の混合液を使用した。
Preparation of thermal mask layer coating liquid Dispersion binder was dissolved in a solvent according to the composition (weight ratio) described in the thermal mask layer composition of Table 1, and carbon black was dispersed therein to prepare a dispersion liquid. A working liquid was used. As the solvent, a mixed solution of 70:30 by weight of methanol and ethanol was used.

感熱マスク層の作成
両面に離型処理を施したPETフィルム支持体(東洋紡績(株)、E5000、厚さ100μm)に、感熱マスク層塗工液を、層厚が1.5μmになるように適宜選択したバーコーターを用いて塗工し、120℃×5分乾燥して感熱マスク層を作成した。
Preparation of heat-sensitive mask layer A heat-sensitive mask layer coating solution is applied to a PET film support (Toyobo Co., Ltd., E5000, thickness 100 μm) subjected to release treatment on both sides so that the layer thickness becomes 1.5 μm. Coating was performed using an appropriately selected bar coater, and drying was performed at 120 ° C. for 5 minutes to form a thermal mask layer.

CTP印刷原版の作成
本実施形態のCTP印刷原版は、例えば、カバーフィルム上に感熱マスク層を形成し、この感熱マスク層形成面側と、支持体上に積層形成した感光性樹脂層側とを密着させ、圧着させることにより製造できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート支持体(必要に応じてアンチハレーション効果を有する接着層を設けても良い)に積層形成した感光性樹脂組成物層に、感熱マスク層を具備するフィルムを密着積層させることにより、CTP印刷原版に成形することができる。
Production of CTP printing original plate The CTP printing original plate of this embodiment comprises, for example, a thermal mask layer formed on a cover film, and the thermal mask layer forming surface side and the photosensitive resin layer side laminated on the support. It can be manufactured by closely contacting and pressing. Specifically, a film having a thermal mask layer is closely laminated on a photosensitive resin composition layer formed on a polyethylene terephthalate support (an adhesive layer having an antihalation effect may be provided if necessary). Thus, it can be formed into a CTP printing original plate.

上記のようにして得られた各感熱マスク層の性能を、以下のようにして評価した。
遮光性:白黒透過濃度計DM−520(大日本スクリーン製造(株))を用いて、PETフィルム支持体上に作成された感熱マスク層の光学濃度を測定した。光学濃度としては、2.3以上必要であり、好ましくは2.5以上である。
耐傷性:得られたCTP印刷原版を20cm×20cmの正方形に切り取り、カバーフィルムを除去し、最上層が感熱マスク層であるCTP印刷原版を準備した。その感熱マスク層面にPETフィルム及び金属板を重ね合わせ、その状態を維持して力を掛けずに左右方向に1回ずつこすった後、感熱マスク層の表面上に形成された傷を、10倍ルーペを使用して目視で評価した。評価は以下の基準で行った。なお、PETフィルムは東洋紡績社製E5000、厚さ100μm)、金属板は厚さ100μmのステンレス鋼板(SUS304)を用いた。
◎:確認できる傷はなし。
○:50μm以上の傷はないが、50μm未満の傷は4個以下ある。
△:50μm以上の傷が1〜4個ある。
×:50μm以上の傷が5個以上ある。
The performance of each thermal mask layer obtained as described above was evaluated as follows.
Light shielding property: The optical density of the heat-sensitive mask layer formed on the PET film support was measured using a black and white transmission densitometer DM-520 (Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.). The optical density is required to be 2.3 or higher, preferably 2.5 or higher.
Scratch resistance: The obtained CTP printing original plate was cut into a square of 20 cm × 20 cm, the cover film was removed, and a CTP printing original plate whose uppermost layer was a thermal mask layer was prepared. A PET film and a metal plate are superposed on the surface of the heat-sensitive mask layer, and the scratches formed on the surface of the heat-sensitive mask layer are 10 times after being rubbed once in the left-right direction without applying force while maintaining the state. Visual evaluation was performed using a loupe. Evaluation was performed according to the following criteria. The PET film was E5000 manufactured by Toyobo Co., Ltd. (thickness: 100 μm), and the metal plate was a stainless steel plate (SUS304) having a thickness of 100 μm.
A: No scratches that can be confirmed.
○: There are no scratches of 50 μm or more, but there are 4 or less scratches of less than 50 μm.
Δ: There are 1 to 4 scratches of 50 μm or more.
X: There are 5 or more scratches of 50 μm or more.

以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1アクリロニトリル−ブタジエンラテックス(Nipol SX1503 不揮発分42% 日本ゼオン(株)製)10重量部、ブタジエンラテックス(Nipol LX111NF 不揮発分55% 日本ゼオン(株)製)58重量部、オリゴブタジエンアクリレート(ABU−2S 共栄社化学(株)製)28重量部、ラウリルメタクリレート(ライトエステルL 共栄社化学(株)製)4重量部、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート4重量部、光重合開始剤1重量部、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル0.1重量部、その他の添加剤としてノニオン系界面活性剤0.1重量部をトルエン15重量部とともに容器中で混合し、次に加圧ニーダーを用いて105℃で混練し、その後トルエンと水を減圧除去することにより、感光性樹脂組成物を得た。 Example 1 Acrylonitrile-butadiene latex (Nipol SX1503, nonvolatile content 42%, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 10 parts by weight, butadiene latex (Nipol LX111NF nonvolatile content 55%, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 58 parts by weight, oligobutadiene acrylate (ABU) -2S Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 28 parts by weight, lauryl methacrylate (Light Ester L Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 4 parts by weight, dimethylol tricyclodecane diacrylate 4 parts by weight, photopolymerization initiator 1 part by weight, polymerization 0.1 part by weight of hydroquinone monomethyl ether as an inhibitor and 0.1 part by weight of a nonionic surfactant as another additive were mixed in a container together with 15 parts by weight of toluene, and then at 105 ° C. using a pressure kneader. Knead, then remove toluene and water under reduced pressure. Accordingly, to obtain a photosensitive resin composition.

次にCTPフレキソ印刷原版を作成した。共重合ポリエステル系接着剤を塗工したPETフィルム支持体(東洋紡績(株)、E5000、厚さ125μm)上に参考例の感光性樹脂組成物を配置し、その上から感熱マスクフィルムを重ね合わせた。ヒートプレス機を用いて100℃でラミネートし、PET支持体、接着層、感光性樹脂層、バリヤ層、感熱マスク層および離型処理PET保護フィルム(カバーフィルム)からなるフレキソ印刷原版を得た。版の総厚は1.90mmであった。   Next, a CTP flexographic printing original plate was prepared. The photosensitive resin composition of the reference example is placed on a PET film support (Toyobo Co., Ltd., E5000, thickness 125 μm) coated with a copolyester adhesive, and a thermal mask film is overlaid thereon. It was. Lamination was performed at 100 ° C. using a heat press machine to obtain a flexographic printing original plate comprising a PET support, an adhesive layer, a photosensitive resin layer, a barrier layer, a thermal mask layer, and a release-treated PET protective film (cover film). The total thickness of the plate was 1.90 mm.

得られた感熱マスク層及びCTPフレキソ印刷原版を用いて性能評価を行った。これらの性能評価の結果を以下の表1に示す。   Performance evaluation was performed using the obtained thermal mask layer and CTP flexographic printing original plate. The results of these performance evaluations are shown in Table 1 below.

表1から明らかな通り、感熱マスク層が、少なくともカーボンブラック、分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位を25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドとを含有した実施例1〜4では、遮光性、金属支持体にも耐えうる高度な耐傷性のいずれも優れる。耐傷性については、シクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位が高含有率の実施例4やシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位含有する塩基性窒素含有ポリアミドの含有率が高い実施例7で特に優れる。一方、脂環族構造単位含有する塩基性窒素含有ポリアミドを含有しない比較例1や含有率の低い比較例2〜3では金属支持体に対する耐傷性が劣る。 As is apparent from Table 1, the heat-sensitive mask layer contained at least carbon black and a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule. In Examples 1 to 4, both the light shielding property and the high scratch resistance that can withstand a metal support are excellent. For scratch resistance, the content of basic nitrogen-containing polyamide contained in Example 4 in which the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid has a high content and the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid In Example 7, which is high, this is particularly excellent. On the other hand, in Comparative Example 1 not containing the basic nitrogen-containing polyamide containing the alicyclic structural unit and Comparative Examples 2 to 3 having a low content, the scratch resistance against the metal support is poor.

Claims (4)

少なくとも(A)支持体、(B)感光性樹脂層、(C)感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、(C)感熱マスク層が、カーボンブラック、分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して25〜50モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドとを含有することを特徴とするCTPフレキソ印刷原版。   A photosensitive flexographic printing plate in which at least (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, and (C) a heat-sensitive mask layer are sequentially laminated, and (C) the heat-sensitive mask layer is formed of carbon black and molecules. A CTP flexographic printing plate comprising a basic nitrogen-containing polyamide containing 25 to 50 mol% of an alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid with respect to the total number of moles of all polyamide structural units. . (C)感熱マスク層が、さらにブチラール樹脂、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールからなる群より選ばれる一つ以上の分散剤を含有することを特徴とする請求項1に記載のCTPフレキソ印刷原版。   The CTP flexographic printing original plate according to claim 1, wherein the (C) heat-sensitive mask layer further contains one or more dispersants selected from the group consisting of butyral resin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol. 前記塩基性窒素含有ポリアミドが分子中にシクロへキサンジカルボン酸より得られる脂環族構造単位以外の脂環族構造単位として、イソホロンジアミンより得られる構造単位をポリアミド全構造単位の総モル数に対して5〜15モル%含有する塩基性窒素含有ポリアミドであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のCTPフレキソ印刷原版。 As the alicyclic structural unit other than the alicyclic structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid in the molecule of the basic nitrogen-containing polyamide, the structural unit obtained from isophoronediamine is based on the total number of moles of all structural units of the polyamide. The CTP flexographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the basic nitrogen-containing polyamide is 5 to 15 mol%. (B)感光性樹脂層がラテックスを含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のCTPフレキソ印刷原版。 (B) The CTP flexographic printing original plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the photosensitive resin layer contains a latex.
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