JP7125675B2 - Photosensitive resin composition for letterpress printing original plate and letterpress printing original plate using the same - Google Patents

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Description

本発明は、部分鹸化ポリ酢酸ビニル含有凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版に関するものである。特に、本発明は、アナログ方式の凸版印刷原版(アナログ版)において、耐刷性を維持しつつ、印刷版表面粘着の増加が少ない、印刷品質を向上した印刷原版を得ることができ、また、レーザー彫刻方式の凸版印刷原版(レーザー彫刻版)において、樹脂カス除去時の耐ブラシ欠け性及び印刷時の耐刷性を向上し、印刷品質を向上した印刷原版を得ることができる感光性樹脂組成物に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a partially saponified polyvinyl acetate-containing photosensitive resin composition for letterpress printing and a letterpress printing original plate using the same. In particular, the present invention can obtain an original printing plate of analog letterpress printing (analogue plate) that has improved printing quality while maintaining printing durability and reducing the increase in surface tackiness of the printing plate. A photosensitive resin composition that can improve brush chipping resistance when resin residue is removed and printing durability during printing in a letterpress printing original plate (laser engraving plate) for a laser engraving method, and can obtain a printing original plate with improved printing quality. It is about things.

凸版印刷原版に用いられる感光性樹脂組成物は、一般的に、可溶性高分子化合物、光重合性不飽和化合物、及び光重合開始剤を必須成分として含有し、必要に応じて、安定剤、可塑剤等の添加剤が配合されている。凸版印刷原版は、一般的に、かかる感光性樹脂組成物を使用して形成された感光性樹脂層が支持体の上に設けられた構造を有する。凸版印刷原版としては現在、製版方式の相違から、アナログ方式の凸版印刷原版(アナログ版)、CTP方式の凸版印刷原版(CTP版)、及びレーザー彫刻方式の凸版印刷原版(レーザー彫刻版)の三種類が一般的に知られている。 The photosensitive resin composition used for the letterpress printing original plate generally contains a soluble polymer compound, a photopolymerizable unsaturated compound, and a photopolymerization initiator as essential components, and if necessary, a stabilizer, a plasticizer, Additives such as agents are blended. A letterpress printing original plate generally has a structure in which a photosensitive resin layer formed using such a photosensitive resin composition is provided on a support. Currently, there are three types of letterpress printing original plates due to differences in plate making methods: analog letterpress printing original plates (analog plates), CTP method letterpress printing original plates (CTP plates), and laser engraving method letterpress printing original plates (laser engraving plates). types are commonly known.

アナログ版は、従来から広く知られているタイプであり、感光性樹脂組成物層に透明な画像部を有するネガフィルム(またはポジフィルム)を通して活性光線を照射し、露光部の感光層を硬化させた後、非露光部の感光層を適当な溶剤で溶解除去して乾燥及び後露光する製版工程により、印刷用のレリーフ版を作成するものである。アナログ版は、多くの場合、銀塩材料を用いた原画フィルムを必要とするため、ネガフィルム(又はポジフィルム)の製造時間およびコストを要する。 An analog plate is a type that has been widely known for a long time. Actinic rays are irradiated through a negative film (or positive film) having a transparent image area on a photosensitive resin composition layer, and the photosensitive layer in the exposed area is cured. After that, a relief plate for printing is prepared by a plate-making process in which the photosensitive layer in the non-exposed areas is dissolved and removed with a suitable solvent, dried and post-exposed. Analog versions often require original film using silver halide materials, thus requiring the production time and cost of negative film (or positive film).

CTP(Computer to Plate)版は、コンピューター技術の進歩に伴って開発されたものであり、コンピューター上で処理された情報を印刷用原版上に直接出力し、ネガフィルム(又はポジフィルム)の作成工程を必要とせずに印刷用原版を得るものである。 CTP (Computer to Plate) plate was developed with the progress of computer technology, and is a negative film (or positive film) creation process in which information processed on a computer is directly output onto the original printing plate. to obtain a printing plate precursor without the need for

一方、レーザー彫刻版は、CTP版のさらなる改良として開発されたものであり、紫外線で硬化させた感光性樹脂層をレーザー光で彫刻することにより、レリーフとなる凹凸を形成するものである。レーザー彫刻版は、ネガフィルム(又はポジフィルム)を用いてレリーフ画像を作製するアナログ版と異なり、自由にレリーフの断面形状をコントロールできるという利点があり、広がりつつある。 On the other hand, the laser engraving plate was developed as a further improvement of the CTP plate, and forms unevenness as a relief by engraving a photosensitive resin layer cured with ultraviolet light with a laser beam. A laser engraving plate has the advantage that the cross-sectional shape of the relief can be freely controlled, unlike an analog plate in which a relief image is produced using a negative film (or positive film), and is spreading.

凸版印刷原版の現像は、水を溶剤として使用して行なわれることが一般的である。このような水現像を可能とするため、いずれの原版においても感光性樹脂層の可溶性高分子化合物として、水溶解性または水膨潤性の高分子化合物が使用されている。 Development of the letterpress printing original plate is generally carried out using water as a solvent. In order to enable such water development, a water-soluble or water-swellable polymer compound is used as the soluble polymer compound of the photosensitive resin layer in any original plate.

部分鹸化ポリ酢酸ビニルは、水現像性に優れるために、アナログ版において、凸版印刷原版の感光性樹脂層の可溶性高分子化合物として使用されてきた。しかし、部分齢化ポリ酢酸ビニルを使用した印刷原版は、水現像時に硬いブラシを用いた場合にハイライト網点の欠けが発生するという画像再現性の問題があった。また、印刷時に加えられる印圧に対する脆さのために、ロングラン印刷時にはレリーフにクラックが容易に発生して印刷版を交換しなければならないという耐刷性の問題があった。 Partially saponified polyvinyl acetate has been used as a soluble polymer compound for the photosensitive resin layer of the letterpress printing original plate in analog plates because of its excellent water developability. However, the original printing plate using the partially aged polyvinyl acetate has a problem of image reproducibility such as lack of halftone dots of highlights when a hard brush is used during water development. In addition, there is a problem of printing durability in that cracks easily occur in the relief during long-run printing due to fragility against printing pressure applied during printing, requiring replacement of the printing plate.

これらの問題を解決するために、アナログ版において、可溶性高分子化合物として、ポリ酢酸ビニル誘導体と第3級窒素原子含有ポリアミドを併用したものが提案されている(特許文献1、2参照)。この方法は、耐クラック性を向上させるが、ポリアミド自身の粘着性によって印刷版表面の粘着性が増大するという新たな問題を有していた。 In order to solve these problems, an analog version has been proposed in which a polyvinyl acetate derivative and a tertiary nitrogen atom-containing polyamide are used in combination as a soluble polymer compound (see Patent Documents 1 and 2). This method improves the crack resistance, but has a new problem that the tackiness of the polyamide itself increases the tackiness of the printing plate surface.

また、アナログ版において、可溶性高分子化合物として、変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルと第3級窒素原子含有ポリアミドとを使用し、さらに光重合性不飽和化合物として、特定の5~7員環を持つものを使用したものが提案されている(特許文献3参照)。この方法は、耐刷性をさらに改善することができたが、第3級窒素原子含有ポリアミドに由来する印刷版表面の粘着性については未解決であった。 In addition, in the analog version, modified partially saponified polyvinyl acetate and a tertiary nitrogen atom-containing polyamide are used as the soluble polymer compound, and a specific 5- to 7-membered ring is used as the photopolymerizable unsaturated compound. A product using a material has been proposed (see Patent Document 3). Although this method was able to further improve the printing durability, the surface tackiness of the printing plate derived from the tertiary nitrogen atom-containing polyamide remained unresolved.

また、レーザー彫刻版でも、感光性樹脂層の可溶性高分子化合物として部分ケン化ポリ酢酸ビニルを使用したものが知られている(特許文献4~6参照)。 Laser engraving plates using partially saponified polyvinyl acetate as a soluble polymer compound in a photosensitive resin layer are also known (see Patent Documents 4 to 6).

しかし、レーザー彫刻版でも、部分ケン化ポリ酢酸ビニルおよびその誘導体を用いた感光性樹脂組成物では、印刷中の繰り返しの衝撃に耐える耐刷性が悪く、印刷中にレリーフにクラックが発生するなどの問題が発生していた。 However, even with laser engraving plates, photosensitive resin compositions using partially saponified polyvinyl acetate and its derivatives have poor printing durability against repeated impacts during printing, and cracks occur in the relief during printing. problem was occurring.

レーザー彫刻版における上記の耐刷性の問題を解決する方法として、特許文献7では、変性部分鹸化ポリ酢酸ビニルに塩基性窒素含有ポリアミドを配合することにより耐刷性を向上させることが提案されている。また、特許文献8では、ポリ酢酸ビニル誘導体と塩基性窒素含有ポリアミドを配合した感光性樹脂組成物に特定の複素環を有する光重合性不飽和化合物を配合することにより耐刷性をさらに向上させることが提案されている。 As a method for solving the problem of printing durability in laser engraving plates, Patent Document 7 proposes to improve printing durability by blending modified partially saponified polyvinyl acetate with a basic nitrogen-containing polyamide. there is Further, in Patent Document 8, printing durability is further improved by adding a photopolymerizable unsaturated compound having a specific heterocyclic ring to a photosensitive resin composition in which a polyvinyl acetate derivative and a basic nitrogen-containing polyamide are blended. is proposed.

一方、レーザー彫刻版の作製には、レーザー彫刻時に発生する樹脂カスが印刷版表面に付着するため、これらの樹脂カスを印刷版表面から除去する洗浄工程が必要である。しかし、部分ケン化ポリ酢酸ビニルおよびその誘導体を用いた感光性樹脂組成物に基づく従来の印刷原版では、洗浄をブラシで行なうと、印刷版表面に形成された細線や独立点が欠けてしまい、画像再現性が悪くなるという問題があった。そのため、洗浄方法としてスプレー方式を採用しないといけないという制約があり、特別な装置が必要であった。従って、印刷時の耐刷性に優れ、かつレーザー彫刻後に印刷版表面に付着した樹脂カスを除去する洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下が少ないレーザー彫刻版を提供することが要求されていた。 On the other hand, the production of a laser engraving plate requires a washing step to remove resin scum generated during laser engraving from the surface of the printing plate because it adheres to the surface of the printing plate. However, in conventional printing original plates based on photosensitive resin compositions using partially saponified polyvinyl acetate and its derivatives, fine lines and isolated dots formed on the surface of the printing plate are chipped when washed with a brush. There was a problem that image reproducibility deteriorated. Therefore, there is a restriction that a spray method must be adopted as a cleaning method, and a special device is required. Therefore, it is demanded to provide a laser engraving plate which is excellent in printing durability during printing and in which image reproducibility is less deteriorated even when a brush is used in a cleaning step for removing resin residue adhering to the surface of the printing plate after laser engraving. It had been.

特開平11-65115号公報JP-A-11-65115 特開2001-272776号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-272776 WO2014/021322WO2014/021322 特開平11-170718号公報JP-A-11-170718 特開2001-328365号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-328365 特開2010-58491号公報JP 2010-58491 A 特開2006-2061号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-2061 国際公開第2014/129243号WO2014/129243

本発明は、上記の従来技術の凸版印刷原版の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は、上記の従来技術の問題を解消した凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版を提供することにある。特に、本発明の目的は、アナログ版においては、耐刷性を維持しつつ、硬いブラシで現像した場合でもハイライト網点に欠けのない優れた画像再現性を有し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても表面粘着が増大することのない原版用感光性樹脂組成物を提供することにあり、また、レーザー彫刻版においては、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下が少ない原版用感光性樹脂組成物を提供することにある。 The present invention was invented in view of the current state of the conventional letterpress printing original plate described above, and an object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate that solves the above-described problems of the prior art, and a composition using the same. To provide a letterpress printing original plate. In particular, it is an object of the present invention to provide analog plates with excellent image reproducibility without lack of highlight halftone dots even when developed with a hard brush while maintaining printing durability, and furthermore, having a third-class printing plate. An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for an original plate which does not increase surface tackiness even when the blending ratio of a nitrogen atom-containing polyamide is increased. The object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for an original plate, which has the above properties and is less likely to deteriorate in image reproducibility even when a cleaning step after laser engraving is performed with a brush.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、凸版印刷原版に使用する感光性樹脂組成物のうち、第3級窒素原子含有ポリアミドとして、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位、及び脂環族構造単位をそれぞれ特定量含有する第3級窒素原子含有ポリアミドを使用することによって、アナログ版においては、耐刷性を維持しつつ、現像時に欠けのない高度なハイライト網点画像再現性を有し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても印刷版表面の粘着性が増大することのないものが提供できること、そして、レーザー彫刻版においては、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下が少ないものが提供できることを見出し、本発明の完成に至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors found that, among the photosensitive resin compositions used for letterpress printing original plates, aminocarboxylic acid units ( A tertiary nitrogen atom containing specific amounts of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units with respect to the sum of dicarboxylic acid units and diamine units (including the case of lactam as a raw material) By using a polyamide containing tertiary nitrogen atoms, analog printing plates have high reproducibility of halftone dot images of highlights without chipping during development while maintaining printing durability. It is possible to provide a plate that does not increase the tackiness of the surface of the printing plate even if the rate is increased, and in the laser engraving plate, while having excellent printing durability during printing, the cleaning process after laser engraving The present inventors have found that even if the above is performed with a brush, the image reproducibility is less deteriorated, and the present invention has been completed.

本発明は、上記の知見に基づいて完成されたものであり、以下の(1)~(8)の構成を有するものである。
(1)(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤を含有する凸版印刷原版用感光性樹脂組成物であって、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドが、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位を20~50モル%含有し、且つ脂環族構造単位を合計50~95モル%含有することを特徴とする凸版印刷原版用感光性樹脂組成物。
(2)凸版印刷原版用感光性樹脂組成物中の(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤の使用量がそれぞれ、30~65質量%、5~30質量%、5~35質量%、及び0.1~5質量%であることを特徴とする(1)に記載の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物。
(3)前記(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドが、ピペラジン環を分子内に含有するポリアミドであることを特徴とする(1)又は(2)に記載の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物。
(4)前記(i)側鎖に官能基を有する変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルが、側鎖にエステル結合及び官能基を含有するものであり、官能基が、光重合性不飽和基及び/又はカルボキシル基であることを特徴とする(1)~(3)のいずれかに記載の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物。
(5)前記(iii)光重合性不飽和化合物が、5~7員環を有する複素環含有光重合性不飽和化合物を含有することを特徴とする(1)~(4)のいずれかに記載の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物。
(6)支持体上に請求項1~5のいずれかに記載の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物を使用して形成された感光性樹脂層を有することを特徴とする凸版印刷原版。
(7)凸版印刷原版が、アナログ方式の凸版印刷原版であることを特徴とする(6)に記載の凸版印刷原版。
(8)凸版印刷原版が、レーザー彫刻方式の凸版印刷原版であることを特徴とする(6)に記載の凸版印刷原版。
The present invention has been completed based on the above findings, and has the following configurations (1) to (8).
(1) (i) modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group introduced into the side chain, (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide, (iii) a photopolymerizable unsaturated compound, and (iv) photopolymerization initiation (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide containing an aminocarboxylic acid unit (including a lactam as a raw material) and a dicarboxylic acid unit in the polyamide molecule; , and containing 20 to 50 mol% of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid, and a total of 50 to 95 mol% of alicyclic structural units, based on the total of diamine units. A photosensitive resin composition for printing original plates.
(2) In the photosensitive resin composition for letterpress printing original plate, (i) modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group introduced into the side chain, (ii) tertiary nitrogen atom-containing polyamide, (iii) photopolymerization The amount of the unsaturated compound and (iv) the photopolymerization initiator used is 30 to 65% by mass, 5 to 30% by mass, 5 to 35% by mass, and 0.1 to 5% by mass, respectively. The photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate according to (1).
(3) The photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate according to (1) or (2), wherein the (ii) tertiary nitrogen atom-containing polyamide is a polyamide containing a piperazine ring in the molecule. thing.
(4) The (i) modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group in the side chain contains an ester bond and a functional group in the side chain, and the functional group is a photopolymerizable unsaturated group and/or or a carboxyl group.
(5) Any one of (1) to (4), wherein the photopolymerizable unsaturated compound (iii) contains a heterocyclic ring-containing photopolymerizable unsaturated compound having a 5- to 7-membered ring. The photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate described above.
(6) A letterpress printing original plate characterized by having a photosensitive resin layer formed using the photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate according to any one of claims 1 to 5 on a support.
(7) The original letterpress printing plate according to (6), wherein the original letterpress printing plate is an analog type letterpress printing original plate.
(8) The original relief printing plate as described in (6), which is a laser engraving original letterpress printing plate.

本発明の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物によれば、アナログ版においては、高度なハイライト網点画像再現性、耐刷性を維持し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても印刷版表面の粘着性を増大させないようにすることができ、そして、レーザー彫刻版においては、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下を少なくすることができる。 According to the photosensitive resin composition for letterpress printing original plate of the present invention, in the analog plate, high highlight halftone dot image reproducibility and printing durability are maintained, and the blending ratio of the tertiary nitrogen atom-containing polyamide It is possible to prevent the tackiness of the printing plate surface from increasing even if it is increased, and in the laser engraving plate, while having excellent printing durability during printing, the cleaning process after laser engraving can be brushed. Even if it is carried out at , the deterioration of image reproducibility can be reduced.

以下、本発明の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれを用いた凸版印刷原版について説明する。 Hereinafter, the photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate of the present invention and a letterpress printing original plate using the same will be described.

(凸版印刷原版用感光性樹脂組成物)
本発明の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物は、(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤を含有するものであって、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドとして特定の構造単位を特定の割合で含有するものを使用することによって、アナログ版においては、高度なハイライト網点画像再現性、耐刷性を維持しながらも、従来の第3級窒素原子含有ポリアミドの欠点である印刷版表面の粘着性の増大を効果的に防止することができ、レーザー彫刻版においては、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下を少なくすることができるレーザー彫刻版を得ることができることを特徴とする。
(Photosensitive resin composition for letterpress printing original plate)
The photosensitive resin composition for a letterpress printing original plate of the present invention comprises (i) a modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group introduced into the side chain, (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide, and (iii) photopolymerizable (iv) a photopolymerization initiator, and (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide containing a specific structural unit in a specific ratio, thereby producing an analog In printing plates, it effectively prevents the increase in tackiness of the printing plate surface, which is a drawback of conventional tertiary nitrogen atom-containing polyamides, while maintaining a high level of highlight dot image reproducibility and printing durability. In the laser engraving plate, a laser engraving plate that has excellent printing durability during printing and that can reduce deterioration in image reproducibility even when the washing process after laser engraving is performed with a brush. It is characterized by being able to obtain

(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル(以下、(i)成分とも称する)とは、側鎖に官能基を含有する変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルである。この官能基は、光重合性不飽和基及び/又はカルボキシル基であることができる。ここで光重合性不飽和基とは、ラジカル反応性の架橋可能な官能基であり、(メタ)アクリロイル基が好ましい。官能基としては、光重合性不飽和基又はカルボキシル基をそれぞれ単独で導入しても良いし、光重合性不飽和基とカルボキシル基の両者を導入しても良い。光重合性不飽和基を導入することにより、耐水性を向上させることができる。また、カルボキシル基を導入することにより、第3級窒素原子含有ポリアミドとの4級塩化によって相溶性の向上をもたらすことができる。さらに、官能基がエステル結合を有することにより、(iii)光重合性不飽和化合物との相溶性を向上させ、光架橋反応を効率的に行うことができる。特に、光重合性不飽和基とカルボキシル基の両者を導入すると、現像時のレリーフ欠け低減、及び第3級窒素原子含有ポリアミドとの相溶性を向上することができる。 (i) Modified partially saponified polyvinyl acetate in which a functional group is introduced into the side chain (hereinafter also referred to as component (i)) is modified partially saponified polyvinyl acetate containing a functional group in the side chain. This functional group can be a photopolymerizable unsaturated group and/or a carboxyl group. Here, the photopolymerizable unsaturated group is a radical reactive crosslinkable functional group, preferably a (meth)acryloyl group. As the functional group, a photopolymerizable unsaturated group or a carboxyl group may be introduced alone, or both a photopolymerizable unsaturated group and a carboxyl group may be introduced. Water resistance can be improved by introducing a photopolymerizable unsaturated group. Moreover, by introducing a carboxyl group, the compatibility with the tertiary nitrogen atom-containing polyamide can be improved by quaternary salting. Furthermore, since the functional group has an ester bond, (iii) the compatibility with the photopolymerizable unsaturated compound is improved, and the photocrosslinking reaction can be performed efficiently. In particular, introduction of both a photopolymerizable unsaturated group and a carboxyl group can reduce relief chipping during development and improve compatibility with the tertiary nitrogen atom-containing polyamide.

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖にカルボキシル基を導入する方法としては、部分ケン化ポリ酢酸ビニル中の水酸基と酸無水物とを反応させてカルボキシル基をポリマー側鎖に導入する方法や、酢酸ビニルと不飽和カルボン酸またはその塩、あるいは不飽和カルボン酸エステルとを共重合させて得られたポリマーを部分ケン化することにより、カルボキシル基を側鎖に導入する方法を挙げることができる。これらの方法によって得られた変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖にはエステル結合も含有されており、(iii)光重合性不飽和化合物との相溶性の点からより好ましい。また、この方法で得られた変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルは、反応性基の導入が容易であり、本発明の効果が顕著に現れるため、好ましい。 Methods for introducing carboxyl groups into the side chains of modified partially saponified polyvinyl acetate include a method of reacting a hydroxyl group in the partially saponified polyvinyl acetate with an acid anhydride to introduce a carboxyl group into the side chains of the polymer, A method of partially saponifying a polymer obtained by copolymerizing vinyl acetate and an unsaturated carboxylic acid or a salt thereof or an unsaturated carboxylic acid ester to introduce a carboxyl group into a side chain can be mentioned. The side chains of the modified partially saponified polyvinyl acetate obtained by these methods also contain an ester bond, which is more preferable from the viewpoint of (iii) compatibility with the photopolymerizable unsaturated compound. In addition, the modified partially saponified polyvinyl acetate obtained by this method is preferable because the introduction of reactive groups is easy and the effects of the present invention are remarkably exhibited.

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖に光重合性不飽和基を導入する方法としては、カルボキシル基を側鎖に導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルを用いて、変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル中のカルボキシル基と光重合性不飽和基含有エポキシ化合物を反応させることにより、反応性基を導入する方法を挙げることができる。この方法によって得られた変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖にはエステル結合も含有されており、(iii)光重合性不飽和化合物との相溶性の点からより好ましい。また、この方法で得られた変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルは、反応性基の導入が容易であり、本発明の効果が顕著に現れるため、好ましい。 As a method for introducing a photopolymerizable unsaturated group into the side chain of the modified partially saponified polyvinyl acetate, a modified partially saponified polyvinyl acetate having a carboxyl group introduced into the side chain is used to obtain a modified partially saponified polyvinyl acetate. A method of introducing a reactive group by reacting a carboxyl group in the resin with a photopolymerizable unsaturated group-containing epoxy compound can be exemplified. The side chains of the modified partially saponified polyvinyl acetate obtained by this method also contain an ester bond, which is more preferable from the viewpoint of (iii) compatibility with the photopolymerizable unsaturated compound. In addition, the modified partially saponified polyvinyl acetate obtained by this method is preferable because the introduction of reactive groups is easy and the effects of the present invention are remarkably exhibited.

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルに光重合性不飽和基を導入する別の方法としては、部分ケン化ポリ酢酸ビニルとN-メチロール基を有するアクリル系化合物の反応により、部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖に反応性基を導入する方法を挙げることができる。具体的な製造条件としては、部分ケン化ポリ酢酸ビニル100質量部に対してアクリル系化合物5~30質量部の範囲で反応させると、現像時のレリーフの欠け低減と水現像性の両立が可能となり、好ましい。N-メチロール基を有するアクリル系化合物としては、N-メチロールアクリルアミドやN-メチロールメタクリルアミドが特に好ましい。これらはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Another method for introducing a photopolymerizable unsaturated group into modified partially saponified polyvinyl acetate is to react partially saponified polyvinyl acetate with an acrylic compound having an N-methylol group to produce partially saponified polyvinyl acetate. A method of introducing a reactive group into a side chain can be mentioned. As a specific manufacturing condition, when 5 to 30 parts by mass of an acrylic compound is reacted with 100 parts by mass of partially saponified polyvinyl acetate, it is possible to achieve both reduction of relief chipping during development and water developability. and is preferable. N-methylol acrylamide and N-methylol methacrylamide are particularly preferable as acrylic compounds having an N-methylol group. Each of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの側鎖に導入する官能基の量は、変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル中に、0.1~0.7モル/kgであることが好ましい。0.7モル/kgより多いと、水溶解性が悪くなるおそれがあり、また、0.1モル/kgより少ないと、改善効果が発現しにくくなるおそれがある。 The amount of functional groups to be introduced into the side chains of the modified partially saponified polyvinyl acetate is preferably 0.1 to 0.7 mol/kg in the modified partially saponified polyvinyl acetate. If it is more than 0.7 mol/kg, the water solubility may deteriorate, and if it is less than 0.1 mol/kg, it may be difficult to obtain the improvement effect.

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルのケン化度は、60~95mol%の範囲が好ましく、70~90mol%の範囲がより好ましい。ケン化度が上記範囲未満であると、親水性が下がることによる水現像性低下のおそれがあり、また、ケン化度が上記範囲を越えると、結晶性が高くなりすぎることによる水現像性低下のおそれがある。 The saponification degree of the modified partially saponified polyvinyl acetate is preferably in the range of 60 to 95 mol%, more preferably in the range of 70 to 90 mol%. If the degree of saponification is less than the above range, the water developability may be lowered due to a decrease in hydrophilicity. There is a risk of

変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの平均重合度は、200~1500の範囲が好ましく、500~1000の範囲がより好ましい。平均重合度が上記範囲未満であると、耐水性が低下するおそれがあり、また、平均重合度が上記範囲を越えると、水現像性が低下するおそれがある。 The average degree of polymerization of the modified partially saponified polyvinyl acetate is preferably in the range of 200-1500, more preferably in the range of 500-1000. If the average degree of polymerization is less than the above range, the water resistance may deteriorate, and if the average degree of polymerization exceeds the above range, the water developability may deteriorate.

本発明の感光性樹脂組成物中の(i)成分の使用量は、好ましくは30~65質量%、より好ましくは35~65質量%、さらに好ましくは40~60質量%である。(i)成分の使用量が上記範囲未満では、感光性樹脂層の形態保持性が低く、ハンドリング性が劣るおそれがあり、上記範囲を越えると、水現像性が低下するおそれがある。 The amount of component (i) used in the photosensitive resin composition of the present invention is preferably 30 to 65% by mass, more preferably 35 to 65% by mass, still more preferably 40 to 60% by mass. If the amount of component (i) used is less than the above range, the shape retention of the photosensitive resin layer may be low and handleability may be poor.

(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド(以下、(ii)成分とも称する)は、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位を20~50モル%含有し、且つ脂環族構造単位を合計50~95モル%含有する。ここでの脂環族構造単位には、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位が当然含まれる。 (ii) tertiary nitrogen atom-containing polyamide (hereinafter also referred to as component (ii)) contains aminocarboxylic acid units (including the case of lactam as a raw material), dicarboxylic acid units, and diamine units in the polyamide molecule. On the other hand, it contains 20 to 50 mol % of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and 50 to 95 mol % of alicyclic structural units in total. The alicyclic structural units herein naturally include structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid.

本発明に用いる(ii)成分は、上述のようにシクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位及び脂環族構造単位をそれぞれ特定量含有するため、アナログ版においては、(i)成分の配合によって生じることの多かった現像時のハイライト網点の欠けや印刷時のレリーフ欠けの問題を改良でき、さらには(ii)成分である第3級窒素原子含有ポリアミドの配合量を増加させても印刷版表面の粘着性が増大することが少ないという効果がある。従って、本発明によれば、アナログ版においては、従来の第3級窒素原子含有ポリアミドでは吸湿しやすく、粘着性が高いために不可能であった添加量を増やすことが可能であり、(ii)成分の配合による効果を高めることができる。また、レーザー彫刻版においては、印刷時の耐刷性に優れながらも樹脂カス除去時の耐ブラシ欠け性にも優れるという効果がある。 Component (ii) used in the present invention contains specific amounts of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units as described above. It is possible to improve the problem of chipping of highlight halftone dots during development and chipping of relief during printing. There is an effect that there is little increase in the tackiness of the adhesive. Therefore, according to the present invention, in the analog version, it is possible to increase the amount added, which was impossible due to the hygroscopicity and high adhesiveness of conventional tertiary nitrogen atom-containing polyamides, and (ii) ) can enhance the effect of the formulation of the component. Further, in laser engraving plates, it has the effect of being excellent in resistance to brush chipping when removing resin scum while being excellent in printing durability during printing.

(ii)成分は、シクロヘキサンジカルボン酸を含む脂環族ジカルボン酸、脂肪環族ジアミン、及び第3級窒素原子含有ジアミンだけでなく、さらにはジアミン、ジカルボン酸、ω-アミノ酸、ラクタムなどの単量体を原料として併用して重合することによって得ることができる。 Component (ii) is not only alicyclic dicarboxylic acids, including cyclohexanedicarboxylic acid, alicyclic diamines, and tertiary nitrogen atom-containing diamines, but also monomers such as diamines, dicarboxylic acids, ω-amino acids, lactams, etc. It can be obtained by polymerizing a compound as a raw material.

シクロヘキサンジカルボン酸は、上述したように、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位が20~50モル%となるような量で使用される。アナログ版においては、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位の割合が上記範囲未満では、印刷版の表面粘着が増大し、上記範囲を超えると、耐刷性改善の効果が小さい。また、レーザー彫刻版においては、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位の割合が上記範囲未満では、耐ブラシ欠け性に劣り、上記範囲を超えると、耐ブラシ欠け性改善の効果が小さい。 As described above, cyclohexanedicarboxylic acid has a structure obtained from cyclohexanedicarboxylic acid with respect to the sum of aminocarboxylic acid units (including the case of lactam as a raw material), dicarboxylic acid units, and diamine units in the polyamide molecule It is used in an amount such that the unit is 20 to 50 mol %. In the analog plate, if the proportion of the structural unit derived from cyclohexanedicarboxylic acid is less than the above range, the surface tackiness of the printing plate increases, and if it exceeds the above range, the effect of improving printing durability is small. In laser engraving plates, if the ratio of the structural unit derived from cyclohexanedicarboxylic acid is less than the above range, brush chipping resistance is poor, and if it exceeds the above range, the effect of improving brush chipping resistance is small.

シクロヘキサンジカルボン酸は、シクロヘキサン環を含有するジカルボン酸であり、具体的には、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロへキサンジカルボン酸、2-メチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-エチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-プロピル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-ブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-t-ブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2,3-ジメチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2,3-ジエチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2,3-ジプロピル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2,3-ジブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-メチル-3-エチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-メチル-3-プロピル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-メチル-3-ブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-エチル-3-プロピル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-エチル-3-ブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2-メチル-3-t-ブチル-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。これらの中では、ハイライト部の階調印刷性再現性の点で、1,4-シクロへキサンジカルボン酸が好ましい。 Cyclohexanedicarboxylic acid is a dicarboxylic acid containing a cyclohexane ring, specifically 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-methyl- 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-ethyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-propyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-butyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-t-butyl- 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,3-dimethyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,3-diethyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,3-dipropyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,3-dibutyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-methyl-3-ethyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-methyl-3-propyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-methyl- 3-butyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-ethyl-3-propyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-ethyl-3-butyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-methyl-3- and t-butyl-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. Among these, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid is preferable from the viewpoint of gradation printability reproducibility in highlight areas.

(ii)成分は、上述したように、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、脂環族構造単位を合計50~95モル%含有する。脂環族構造単位には、シクロヘキサンジカルボン酸以外に、脂環族ジカルボン酸、及び必要によりそれらに加えられる脂環族ジアミンや脂環族アミノカルボン酸より得られる構造単位も含まれる。アナログ版においては、脂環族構造単位合計の含有割合が上記範囲未満では、(i)成分との相溶性に劣るために(ii)成分の配合量を増加することができず、一方、上記範囲を超えると、耐刷性が劣る。また、レーザー彫刻版においては、脂環族構造単位合計の含有割合が上記範囲未満では、耐ブラシ欠け性が劣り、一方、上記範囲を超えると、耐刷性が劣る。なお、本発明において、用語「脂環族ジアミン」は、飽和及び不飽和の環状炭化水素のジアミンだけでなく、ピペラジン類のような、複素環を有するジアミンも含むものとする。 As described above, component (ii) contains a total of 50 alicyclic structural units with respect to the total of aminocarboxylic acid units (including the case of lactam as a raw material), dicarboxylic acid units, and diamine units in the polyamide molecule. Contains up to 95 mol %. The alicyclic structural units include, in addition to cyclohexanedicarboxylic acid, structural units obtained from alicyclic dicarboxylic acids and, if necessary, alicyclic diamines and alicyclic aminocarboxylic acids added thereto. In the analog version, if the total content of the alicyclic structural units is less than the above range, the compatibility with component (i) is poor, so the amount of component (ii) cannot be increased. When the range is exceeded, the printing durability is deteriorated. In the laser engraving plate, if the total content of the alicyclic structural units is less than the above range, the brush chipping resistance is poor, and if it exceeds the above range, the printing durability is poor. In the present invention, the term "alicyclic diamine" includes not only diamines of saturated and unsaturated cyclic hydrocarbons but also diamines having a heterocyclic ring such as piperazines.

上述のシクロヘキサンジカルボン酸以外の脂環族ジカルボン酸としては、例えばイソホロンジカルボン酸、2,3-ノルボルナンジカルボン酸、2,6-デカリンジカルボン酸、3-メチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-エチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-プロピル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-ブチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,4-ジメチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,4-ジエチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,4-ジプロピル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,4-ジブチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,8-ジメチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,8-ジエチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,8-ジプロピル-2,6-デカリンジカルボン酸、3,8-ジブチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-メチル-4-エチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-メチル-4-プロピル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-メチル-4-ブチル-2,6-デカリンジカルボン酸、3-エチル-4-ブチル-2,6-デカリンジカルボン酸が挙げられる。 Examples of alicyclic dicarboxylic acids other than cyclohexanedicarboxylic acid described above include isophoronedicarboxylic acid, 2,3-norbornanedicarboxylic acid, 2,6-decalinedicarboxylic acid, 3-methyl-2,6-decalinedicarboxylic acid, 3- ethyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-propyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-butyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,4-dimethyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3, 4-diethyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,4-dipropyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,4-dibutyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,8-dimethyl-2,6- decalindicarboxylic acid, 3,8-diethyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,8-dipropyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3,8-dibutyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-methyl- 4-ethyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-methyl-4-propyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-methyl-4-butyl-2,6-decalindicarboxylic acid, 3-ethyl-4- Butyl-2,6-decalinedicarboxylic acid may be mentioned.

上述の脂環族ジアミンとしては、例えばイソホロンジアミン、1,4-シクロへキサンジアミン、1,3-シクロヘキサンジアミン、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1-アミノ-3-アミノメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキサン、ビス(4-アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(3-メチル-4-アミノシクロヘキシル)メタン、2,2-ビス(4-アミノシクロヘキシル)プロパン、1,4-ビス(3-アミノプロピル)ピペラジン、N-(2-アミノエチル)ピペラジン、メチルシクロヘキサンジアミン、ノルボルナンジアミン、トリシクロデカンジアミンが挙げられる。これらの中でも、(i)成分との相溶性の点で、イソホロンジアミン、及び1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンが好ましい。 Examples of the above-mentioned alicyclic diamine include isophoronediamine, 1,4-cyclohexanediamine, 1,3-cyclohexanediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane. , 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, bis(4-aminocyclohexyl)methane, bis(3-methyl-4-aminocyclohexyl)methane, 2,2-bis(4-amino cyclohexyl)propane, 1,4-bis(3-aminopropyl)piperazine, N-(2-aminoethyl)piperazine, methylcyclohexanediamine, norbornanediamine, tricyclodecanediamine. Among these, isophoronediamine and 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane are preferred from the viewpoint of compatibility with component (i).

上述の脂環族アミノカルボン酸としては、例えば、4-アミノシクロヘキサンカルボン酸、3-アミノシクロヘキサンカルボン酸、4-(アミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸、3-(アミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸、2-アミノメチルシクロプロパンカルボン酸が挙げられる。 Examples of the above-mentioned alicyclic aminocarboxylic acids include 4-aminocyclohexanecarboxylic acid, 3-aminocyclohexanecarboxylic acid, 4-(aminomethyl)cyclohexanecarboxylic acid, 3-(aminomethyl)cyclohexanecarboxylic acid, 2-amino Methylcyclopropanecarboxylic acid may be mentioned.

本発明に用いる(ii)成分は、分子内に、具体的には、主鎖または側鎖の一部分に第3級窒素原子を含有するポリアミドであり、第3級窒素原子を有する単量体を用いて縮重合、重付加反応などを行なうことによって得ることができる。第3級窒素原子としては、ピペラジン環やN,N-ジアルキルアミノ基が好ましく、より好ましくはピペラジン環である。(ii)成分を製造するための第3級窒素原子を有する単量体としては、ピペラジン環を有するジアミンやメチルイミノビスプロピルアミン等の第3級窒素原子を含む脂肪族ジアミンが挙げられる。ピペラジン環を有するジアミンとしては、N,N′-ビス(アミノエチル)-ピペラジン、N,N′-ビス(3-アミノプロピル)ピペラジン、N,N′-ジ(アミノペンチル)ピペラジンが挙げられる。このうち、N,N′-ビス(3-アミノプロピル)ピペラジンが好ましい。また、N,N’-ジメチル-N-(アミノメチル)-N’-(カルボキシメチル)-エチレンジアミンなどのω-アミノ酸なども使用可能である。 Component (ii) used in the present invention is a polyamide containing a tertiary nitrogen atom in the molecule, specifically in a portion of the main chain or side chain, and a monomer having a tertiary nitrogen atom It can be obtained by performing condensation polymerization, polyaddition reaction, etc. The tertiary nitrogen atom is preferably a piperazine ring or an N,N-dialkylamino group, more preferably a piperazine ring. Examples of monomers having a tertiary nitrogen atom for producing component (ii) include aliphatic diamines having a tertiary nitrogen atom, such as diamines having a piperazine ring and methyliminobispropylamine. Diamines having a piperazine ring include N,N'-bis(aminoethyl)-piperazine, N,N'-bis(3-aminopropyl)piperazine and N,N'-di(aminopentyl)piperazine. Among these, N,N'-bis(3-aminopropyl)piperazine is preferred. ω-amino acids such as N,N'-dimethyl-N-(aminomethyl)-N'-(carboxymethyl)-ethylenediamine can also be used.

本発明の感光性樹脂組成物中の(ii)成分の使用量は、5~30質量%であることが好ましく、8~25質量%であることがより好ましい。アナログ版においては、(ii)成分の使用量が上記範囲未満では、耐ブラシ欠け性、画像再現性、及び耐刷性が劣るおそれがあり、上記範囲を越えると、部分ケン化ポリ酢酸ビニルの配合量が下がることにより、原版形態保持性が損なわれるおそれがある。特に、本発明では、アナログ版においては、(ii)成分の使用量を感光性樹脂組成物中、8質量%以上と高くしても、印刷版表面の粘着性の増大の問題が目立つことがない。従って、凸版印刷原版用感光性樹脂組成物への(ii)成分の配合による効果を、使用量の増大によって一層高めることができる。また、レーザー彫刻版においては、(ii)成分の使用量が上記範囲未満では、耐ブラシ欠け性、及び耐刷性が劣るおそれがあり、上記範囲を越えると、部分ケン化ポリ酢酸ビニルの配合量が下がることにより、原版形態保持性が損なわれるおそれがある。 The amount of component (ii) used in the photosensitive resin composition of the present invention is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 8 to 25% by mass. In analog plates, if the amount of component (ii) used is less than the above range, brush chipping resistance, image reproducibility, and printing durability may be deteriorated. A decrease in the blending amount may impair the shape retention of the original plate. In particular, in the present invention, in the analog plate, even if the amount of component (ii) used is increased to 8% by mass or more in the photosensitive resin composition, the problem of increased tackiness on the surface of the printing plate is conspicuous. do not have. Therefore, the effect of adding component (ii) to the photosensitive resin composition for letterpress printing original plates can be further enhanced by increasing the amount used. If the amount of component (ii) used in the laser engraving plate is less than the above range, brush chipping resistance and printing durability may be deteriorated. A decrease in the amount may impair the shape retention of the original plate.

(iii)光重合性不飽和化合物(以下、(iii)成分とも称する)としては、当業者がこの技術分野で従来使用してきたものを使用することができるが、例えば5~7員環を有する複素環含有光重合性不飽和化合物を含有することが好ましい。5~7員環を有する複素環含有光重合性不飽和化合物は、複素環内に水酸基、カルボキシル基、又はアミノ基の官能基を少なくとも有することが好ましい。複素環と官能基は、(i)成分中の水酸基と水素結合するため、(i)成分との相溶性を高めることができる。なお、5~7員環を有する複素環含有光重合性不飽和化合物は、分子量が300以下であることが好ましい。分子量が大きくなると、(i)成分との相溶性が低下するおそれがある。 (iii) As the photopolymerizable unsaturated compound (hereinafter also referred to as (iii) component), those conventionally used in this technical field by those skilled in the art can be used, for example, having a 5- to 7-membered ring It preferably contains a heterocyclic ring-containing photopolymerizable unsaturated compound. A heterocyclic ring-containing photopolymerizable unsaturated compound having a 5- to 7-membered ring preferably has at least a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, or an amino group in the heterocyclic ring. Since the heterocyclic ring and the functional group form hydrogen bonds with the hydroxyl groups in component (i), compatibility with component (i) can be enhanced. The heterocyclic ring-containing photopolymerizable unsaturated compound having a 5- to 7-membered ring preferably has a molecular weight of 300 or less. If the molecular weight is too large, the compatibility with component (i) may decrease.

(iii)成分としては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシメチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、ネオペンチルグリコール-(メタ)アクリル酸-安息香酸エステル、(メタ)アクリロイルモルフォリン、スチレン及びその誘導体、ビニルピリジン、N-ビニル-2-ピロリドン、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、N-フェニルマレイミド及びその誘導体、N-(メタ)アクリルオキシコハク酸イミド、(メタ)アクリル酸-2-ナフチル、N-フェニル(メタ)アクリルアミドなどを使用することができる。その中でも(メタ)アクリロイルモルフォリンが好ましい。 Component (iii) includes, for example, benzyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, phenoxymethyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyl oxyethylhexahydrophthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl phthalate, neopentyl glycol-(meth)acrylic acid-benzoate, (meth)acryloyl Morpholine, styrene and its derivatives, vinylpyridine, N-vinyl-2-pyrrolidone, β-(meth)acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, N-phenylmaleimide and its derivatives, N-(meth)acryloxysuccinimide, ( 2-naphthyl meth)acrylate, N-phenyl(meth)acrylamide, and the like can be used. Among them, (meth)acryloylmorpholine is preferred.

本発明の感光性樹脂組成物中の(iii)成分の使用量は、5~35質量%であることが好ましく、15~35質量%であることがより好ましい。(i)成分の使用量が上記範囲未満では、画像再現性が不十分になるおそれがあり、上記範囲を越えると、凸版印刷原版に使用する感光性樹脂層が固化しにくくなるおそれがある。 The amount of component (iii) used in the photosensitive resin composition of the present invention is preferably 5 to 35% by mass, more preferably 15 to 35% by mass. If the amount of component (i) used is less than the above range, image reproducibility may be insufficient, and if it exceeds the above range, the photosensitive resin layer used in the letterpress printing original plate may become difficult to solidify.

(iv)光重合開始剤(以下、(iv)成分とも称する)は、光吸収によってラジカルを生成する効果を有する。(iv)成分としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、ベンジル類、アセトフェノン類、ジアセチル類などが挙げられる。本発明の感光性樹脂組成物中の(iv)成分の使用量は、0.1~5質量%であることが好ましい。 (iv) The photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as component (iv)) has the effect of generating radicals by light absorption. As the component (iv), conventionally known ones can be used, and examples thereof include benzoin alkyl ethers, benzophenones, anthraquinones, benzyls, acetophenones, diacetyls and the like. The amount of component (iv) used in the photosensitive resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明の感光性樹脂組成物には、可塑剤や重合禁止剤などの任意成分をさらに配合することができる。可塑剤は、柔軟性を高めるためのものであり、その具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン及びその誘導体、トリメチロールプロパン及びその誘導体、トリメチロールエタン及びその誘導体、ペンタエリスリトール及びその誘導体などの多価アルコール類が挙げられる。これらの可塑剤の使用量は、本発明の感光性樹脂組成物全体の質量の20質量%以下であることが好ましい。重合禁止剤は、熱安定性を上げるためのものであり、その具体例としては、フェノール類、ハイドロキノン類、カテコール類、ヒドロキシアミン誘導体などが挙げられる。これらの重合禁止剤の使用量は、本発明の感光性樹脂組成物全体の質量の0.001~5質量%であることが好ましい。 The photosensitive resin composition of the present invention may further contain optional components such as a plasticizer and a polymerization inhibitor. Plasticizers are used to increase flexibility, and specific examples thereof include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin and derivatives thereof, trimethylolpropane and derivatives thereof, trimethylolethane and derivatives thereof, and pentaerythritol. and polyhydric alcohols such as derivatives thereof. The amount of these plasticizers used is preferably 20% by mass or less of the total mass of the photosensitive resin composition of the present invention. The polymerization inhibitor is for increasing the thermal stability, and specific examples thereof include phenols, hydroquinones, catechols, hydroxylamine derivatives and the like. The amount of these polymerization inhibitors used is preferably 0.001 to 5% by mass of the total mass of the photosensitive resin composition of the present invention.

さらに、必要により、染料、顔料、界面活性剤、消泡剤、紫外線吸収剤、香料などの任意成分を感光性樹脂組成物の最大10質量%の割合で配合することができる。 Furthermore, optional ingredients such as dyes, pigments, surfactants, antifoaming agents, ultraviolet absorbers, fragrances, etc. can be blended at a maximum ratio of 10% by mass of the photosensitive resin composition, if necessary.

(凸版印刷原版)
本発明の凸版印刷原版は、上述の(i)~(iv)の必須成分と任意成分を使用して適切に混合することによって感光性樹脂組成物を調製し、それを用いて溶融成形法の他、例えば、熱プレス、注型、或いは、溶融押出し、溶液キャストなど公知の方法により目的とした積層体の構成に成形することによって得ることができる。
(Toppan printing original plate)
The letterpress printing original plate of the present invention is prepared by appropriately mixing the above-described essential components (i) to (iv) and optional components to prepare a photosensitive resin composition, which is used in a melt molding method. In addition, for example, it can be obtained by molding into the intended laminate structure by a known method such as hot pressing, casting, melt extrusion, or solution casting.

凸版印刷原版は、シート状に成形した成形物(感光性樹脂層又は未露光樹脂)を公知の接着剤を介して、或いは、介さずに支持体に積層して使用することができる。支持体としては、スチール、アルミニウム、ガラス、ポリエステルフィルムなどのプラスチックフィルムなど従来公知のものが使用でき、一般には50~500μmの範囲の厚みのフィルムが使用される。シート状成形物(感光性樹脂層又は未露光樹脂)を支持体上に積層した積層体にして供給する場合には、シート状成形物(感光性樹脂層又は未露光樹脂)に接して保護フィルムをさらに積層することが好ましい。保護フィルムは、フィルム状のプラスチックが使用でき、例えば125μm厚みのポリエステルフィルムが使用される。また、感光性樹脂層と保護フィルムとの間に粘着性のない透明で現像液に分散又は溶解する高分子を0.5~3μmの厚みで塗布した粘着防止層を設けてもよい。感光性樹脂層表面に粘着防止層を設けることにより、表面粘着性が強い場合であっても次の露光操作時に行う保護層の剥離を容易に行うことができる。 The letterpress printing original plate can be used by laminating a sheet-shaped molding (a photosensitive resin layer or an unexposed resin) on a support with or without a known adhesive. As the support, conventionally known materials such as steel, aluminum, glass, and plastic films such as polyester films can be used, and films having a thickness in the range of 50 to 500 μm are generally used. When supplying a sheet-shaped molded product (photosensitive resin layer or unexposed resin) as a laminate laminated on a support, a protective film is placed in contact with the sheet-shaped molded product (photosensitive resin layer or unexposed resin). is preferably further laminated. A film-shaped plastic can be used for the protective film, and for example, a polyester film having a thickness of 125 μm is used. Further, an anti-adhesion layer may be provided between the photosensitive resin layer and the protective film, in which a non-adhesive, transparent polymer that is dispersed or dissolved in a developer is applied to a thickness of 0.5 to 3 μm. By providing an anti-adhesive layer on the surface of the photosensitive resin layer, the protective layer can be easily peeled off during the next exposure operation even if the surface is strongly tacky.

本発明の凸版印刷原版は、感光性樹脂層と粘着防止層の間に、厚みが1~30μmのキャップ層を設けてもよい。キャップ層は、現像工程で除去されず印刷版上に残るため、キャップ層を設けることで印刷版表面特性や耐久性を調整することができる。キャップ層としては、従来公知のキャップ層をそのまま使用することができる。 In the letterpress printing original plate of the present invention, a cap layer having a thickness of 1 to 30 μm may be provided between the photosensitive resin layer and the anti-adhesive layer. Since the cap layer is not removed in the developing step and remains on the printing plate, the surface properties and durability of the printing plate can be adjusted by providing the cap layer. As the cap layer, a conventionally known cap layer can be used as it is.

次に、凸版印刷原版から凸版印刷版への製版方法について説明する。まず、アナログ版の場合は、感光性樹脂層に透明画像部を有するネガフィルムを密着して重ね合せ、その上方から活性光線を照射して露光を行い、活性光線が透過した露光部のみを不溶化した原版を作成する。活性光線は、通常300~450nmの波長を中心とする高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン灯、ケミカルランプなどの光源を用いる。次いで、適当な溶剤、特に本発明では中性水により非露光部分を溶解除去するが、スプレー式現像装置、ブラシ式現像装置などの現像方式で非露光部分を溶解除去することが好ましい。その後、非露光部分を溶解除去した印刷版は、水切り、乾燥、後露光工程を行い、最終の印刷版が得られる。 Next, a method of making a letterpress printing plate from a letterpress printing original plate to a letterpress printing plate will be described. First, in the case of an analog plate, a negative film having a transparent image area is closely adhered to the photosensitive resin layer and superimposed, and exposure is performed by irradiating actinic rays from above to insolubilize only the exposed areas through which the actinic rays are transmitted. Create a master version. Actinic rays usually use light sources such as high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and chemical lamps centering on wavelengths of 300 to 450 nm. Then, the unexposed portions are dissolved and removed with a suitable solvent, particularly neutral water in the present invention, but it is preferable to dissolve and remove the unexposed portions by a developing method such as a spray type developing device or a brush type developing device. Thereafter, the printing plate from which the non-exposed portions have been dissolved away is subjected to draining, drying, and post-exposure steps to obtain the final printing plate.

また、レーザー彫刻版の場合はまず、得られた印刷原版中の感光性樹脂層を全面的に紫外線照射して架橋硬化させる。紫外線照射の条件は、特に限定されないが、例えば、8mW/cm程度の紫外線露光機(光源:フィリップス社製10R)によって感光性樹脂層を表面から5~15分露光することができる。次に、印刷原版を、レーザー彫刻装置の版装着ドラムの表面に取り付け、像に従ったレーザー光照射により照射部分の原版を分解し
て凹部分を形成させ、画像形成させて、印刷版を得る。なお、このレーザー光照射(レーザー彫刻)時に樹脂カスが発生して印刷版表面に付着する。このため、印刷版を洗浄して、これらの樹脂カスを印刷版表面から除去する。印刷版の洗浄は、特別な装置を使用して行なう必要はなく、ブラシで行なえばよい。従来のレーザー彫刻版では、洗浄をブラシで行なうと、印刷版表面に形成された細線や独立点が欠けてしまい、画像再現性が悪くなるため、スプレー方式を採用する必要があり、特別な装置が要求されていた。これに対して、本発明のレーザー彫刻版では、このような問題はなく、安価なブラシを使用して洗浄を簡便に行なうことができる。
In the case of a laser engraving plate, first, the photosensitive resin layer in the obtained printing original plate is irradiated with ultraviolet rays to be crosslinked and cured. Although the conditions for ultraviolet irradiation are not particularly limited, for example, the surface of the photosensitive resin layer can be exposed for 5 to 15 minutes with an ultraviolet exposure device (light source: Philips 10R) of about 8 mW/cm 2 . Next, the original printing plate is mounted on the surface of a plate mounting drum of a laser engraving device, and the irradiated portion of the original plate is decomposed by laser light irradiation according to the image to form recessed portions, and an image is formed to obtain a printing plate. . During this laser beam irradiation (laser engraving), resin residue is generated and adheres to the surface of the printing plate. Therefore, the printing plate is washed to remove these resin residues from the surface of the printing plate. The cleaning of the printing plate does not have to be done with a special device, but can be done with a brush. With conventional laser engraving plates, if cleaning is done with a brush, fine lines and isolated dots formed on the surface of the printing plate will be lost, resulting in poor image reproducibility. was requested. On the other hand, the laser engraving plate of the present invention does not have such problems and can be easily washed using an inexpensive brush.

以下、(A)アナログ版の実施例及び(B)レーザー彫刻版の実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail below with reference to (A) Examples of analog plates and (B) Examples of laser engraving plates, but the present invention is not limited to these.

(A)アナログ版の実施例
実施例中(本文)の部数は、質量部を表わし、表1のポリアミド組成は、mol%を表す。ポリアミド組成のmol%は、H-NMRの測定により確定した。なお、実施例中の特性値の評価は以下の方法に依った。
(A) Example of analog version The number of parts in (text) in the examples indicates parts by weight, and the polyamide composition in Table 1 indicates mol %. The mol % of the polyamide composition was determined by H-NMR measurements. The evaluation of characteristic values in the examples was based on the following methods.

(1)30μm細線耐ブラシ欠け性
まず、感光性樹脂層の厚みが685μmの凸版印刷原版に、画像として30μmの細線を含むネガを用い、照度を25W/mに調整したケミカルランプを用いて、感光性樹脂層の表面より高さ5cmの距離から8分露光した。次にブラシ式ウォッシャー(日本電子精機(株)制作JW-A2-PD型)で、幾つかの異なる径のナイロンブラシを用いて25℃の水道水で現像し、レリーフ画像を得た。更に60℃で10分間、温風乾燥した後に、超高圧水銀灯で30秒間後露光して印刷版を得た。30μm細線の再現性を顕微鏡で50倍に拡大して観察し、以下の基準で評価した。
◎:ブラシ径200μmで細線に欠けなし。
○:ブラシ径150μmで細線に欠けなし。
△:ブラシ径120μmで細線に欠けなし。
×:ブラシ径120μmでも細線に欠けがみられる。
(1) 30 μm fine line brush chipping resistance First, a negative including a 30 μm fine line as an image was used on a letterpress printing original plate having a photosensitive resin layer with a thickness of 685 μm, and a chemical lamp whose illuminance was adjusted to 25 W / m 2 was used. was exposed for 8 minutes from a distance of 5 cm in height from the surface of the photosensitive resin layer. Then, it was developed with tap water at 25° C. using a brush-type washer (model JW-A2-PD manufactured by Nippon Denshi Seiki Co., Ltd.) using nylon brushes of several different diameters to obtain a relief image. After further drying with hot air at 60° C. for 10 minutes, it was post-exposed for 30 seconds with an ultra-high pressure mercury lamp to obtain a printing plate. The reproducibility of the 30 μm thin line was observed under a microscope at a magnification of 50 times, and evaluated according to the following criteria.
⊚: No chipping of fine lines with a brush diameter of 200 μm.
◯: No chipping in fine lines with a brush diameter of 150 μm.
Δ: No chipping in fine lines with a brush diameter of 120 μm.
x: Even with a brush diameter of 120 μm, fine lines are chipped.

(2)印刷版表面の粘着性
まず、感光性樹脂層の厚みが685μmの凸版印刷原版に、画像としてベタ画像(幅1cm×長さ5cm)を含む印刷評価ネガを用い、照度を25W/mに調整したケミカルランプを用いて、感光性樹脂層の表面より高さ5cmの距離から8分露光した。次にブラシ式ウォッシャー(120μmφナイロンブラシ、日本電子精機(株)制作JW-A2-PD型)で25℃の水道水で現像し、レリーフ画像を得た。更に60℃で10分間、温風乾燥した後に、超高圧水銀灯で30秒間後露光して印刷版を得た。得られた印刷版を用いて印刷版表面の粘着性の評価を行った。粘着性は、被印刷物であるコート紙(グロスPW-8K、(株)リンテック製)を版に押し付けて、コート紙の滑り度合いから以下の基準で評価した。
◎:コート紙を100回以上版に押し付けても、コート紙が抵抗なく滑る。
○:コート紙が抵抗なく滑るが、コート紙を100回以上版に押し付けると、若干の抵抗を感じるようになる。
△:コート紙を版に押し付けると、コート紙と版がすぐに粘着する。但し、力を入れると、コート紙は滑る。
×:コート紙を版に押し付けると、コート紙と版が完全に粘着して滑らない。
(2) Adhesiveness of printing plate surface First, a printing evaluation negative containing a solid image (width 1 cm × length 5 cm) was used as an image on a letterpress printing original plate having a photosensitive resin layer with a thickness of 685 μm, and the illumination was set to 25 W / m. Using a chemical lamp adjusted to 2 , the photosensitive resin layer was exposed from a height of 5 cm from the surface for 8 minutes. Then, it was developed with tap water at 25° C. using a brush-type washer (120 μmφ nylon brush, manufactured by Nippon Denshi Seiki Co., Ltd. JW-A2-PD type) to obtain a relief image. After further drying with hot air at 60° C. for 10 minutes, it was post-exposed for 30 seconds with an ultra-high pressure mercury lamp to obtain a printing plate. Using the obtained printing plate, the surface tackiness of the printing plate was evaluated. The tackiness was evaluated by pressing a coated paper (Gloss PW-8K, manufactured by Lintec Co., Ltd.) as a printed material against the plate and evaluating the degree of slippage of the coated paper according to the following criteria.
A: Even if the coated paper is pressed against the plate 100 times or more, the coated paper slides without resistance.
◯: The coated paper slides without resistance, but some resistance is felt when the coated paper is pressed against the plate 100 times or more.
Δ: When the coated paper is pressed against the plate, the coated paper and the plate immediately adhere to each other. However, when force is applied, the coated paper slips.
x: When the coated paper is pressed against the plate, the coated paper and the plate are completely adhered and do not slip.

(3)画像再現性
まず、感光性樹脂層の厚みが685μmの凸版印刷原版に、画像として200線1%の細線を含むネガを用い、照度を25W/mに調整したケミカルランプを用いて、感光性樹脂層の表面より高さ5cmの距離から8分露光した。次にブラシ式ウォッシャー(日本電子精機(株)制作JW-A2-PD型)で、幾つかの異なる径のナイロンブラシを用いて25℃の水道水で現像し、レリーフ画像を得た。更に60℃で10分間、温風乾燥した後に、超高圧水銀灯で30秒間後露光して印刷版を得た。200線1%網点の再現性を顕微鏡で50倍に拡大して観察し、以下の基準で評価した。
◎:ブラシ径200μmで200線1%網点が完全に再現する。
○:ブラシ径150μmで200線1%網点が完全に再現する。
△:ブラシ径120μmで200線1%網点が完全に再現する。
×:ブラシ径120μmでも200線1%網点が再現しない。
(3) Image reproducibility First, a letterpress printing original plate having a photosensitive resin layer with a thickness of 685 μm was used, and a negative containing 200 lines and 1% fine lines was used as an image, and a chemical lamp whose illuminance was adjusted to 25 W/m 2 was used. was exposed for 8 minutes from a distance of 5 cm in height from the surface of the photosensitive resin layer. Then, it was developed with tap water at 25° C. using a brush-type washer (model JW-A2-PD manufactured by Nippon Denshi Seiki Co., Ltd.) using nylon brushes of several different diameters to obtain a relief image. After further drying with hot air at 60° C. for 10 minutes, it was post-exposed for 30 seconds with an ultra-high pressure mercury lamp to obtain a printing plate. The reproducibility of 200-line 1% halftone dots was observed under a microscope at a magnification of 50 times, and evaluated according to the following criteria.
A: A 200-line 1% halftone dot is perfectly reproduced with a brush diameter of 200 µm.
◯: 200-line 1% halftone dots are perfectly reproduced with a brush diameter of 150 μm.
Δ: A 200-line 1% halftone dot is perfectly reproduced with a brush diameter of 120 μm.
x: 200-line 1% halftone dots are not reproduced even with a brush diameter of 120 µm.

(4)耐刷性
上記の(2)の印刷版表面の粘着性の評価用レリーフを作成した時と同じ方法で印刷版を製造し、適性印圧から50μm加圧した状態で1万ショットの印刷を行い、1万ショット印刷後に印刷物と版を200倍に拡大した顕微鏡で観察し、以下の判定基準で評価した。
◎:200倍に拡大した顕微鏡の観察では印刷物に欠点なく、かつ版にもクラックなし。
○:200倍に拡大した顕微鏡の観察では印刷物に欠点はないが、版に軽微なクラックあり。
△:印刷物や版に目視で欠点は確認できないが、200倍に拡大した顕微鏡の観察では印刷物又は版に不良がみられる。
×:目視で印刷物又は版に不良が確認できる。
(4) Printing durability A printing plate was manufactured in the same manner as when the relief for evaluating the adhesiveness of the printing plate surface was created in (2) above, and 10,000 shots were made with a pressure of 50 μm from the appropriate printing pressure. After printing 10,000 shots, the printed matter and the plate were observed under a microscope magnified 200 times and evaluated according to the following criteria.
⊚: Observation with a microscope magnified 200 times showed no defects on the printed material and no cracks on the plate.
◯: Observation with a microscope magnified 200 times showed no defects in the printed matter, but slight cracks were found in the plate.
Δ: Defects cannot be visually confirmed on the printed matter or the plate, but defects are observed in the printed matter or the plate when observed with a microscope magnified 200 times.
x: Defects can be visually confirmed on the printed material or the plate.

<(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの合成>
合成例Ai-1:
日本合成化学工業(株)製の部分ケン化ポリ酢酸ビニル“KL-05”(重合度約500、ケン化度80モル%)をアセトン中で膨潤させ、無水コハク酸1.0モル%を添加し、60℃で6時間撹拌して、分子鎖にカルボキシル基を付加させた。このポリマーをアセトンで洗浄して、未反応の無水コハク酸を除去乾燥した。このポリマー100部を、エタノール/水=30/70(質量比)の混合溶媒200部に80℃で溶解した。ここにグリシジルメタクリレートを6部添加して、部分ケン化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。電位差滴定法による分析結果から、ポリマー中のカルボキシル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基と反応し、ポリマー側鎖中にメタクロイル基が導入されたことを確認し、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルAi-1を得た。
<(i) Synthesis of Modified Partially Saponified Polyvinyl Acetate Introduced Functional Group to Side Chain>
Synthesis Example Ai-1:
Partially saponified polyvinyl acetate "KL-05" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of polymerization: about 500, degree of saponification: 80 mol%) was swollen in acetone, and 1.0 mol% of succinic anhydride was added. and stirred at 60° C. for 6 hours to add carboxyl groups to the molecular chains. The polymer was washed with acetone to remove unreacted succinic anhydride and dried. 100 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of a mixed solvent of ethanol/water=30/70 (mass ratio) at 80°C. 6 parts of glycidyl methacrylate was added thereto to introduce reactive groups into the partially saponified polyvinyl acetate. From the results of potentiometric titration analysis, it was confirmed that the carboxyl group in the polymer reacted with the epoxy group of glycidyl methacrylate, and a methacryloyl group was introduced into the side chain of the polymer. was introduced into the modified partially saponified polyvinyl acetate Ai-1.

合成例Ai-2:
酢酸ビニルにメタクリル酸を共重合単位として1モル%含有させたポリマーをケン化し、平均重合度650、ケン化度75モル%のアニオン変性ポリ酢酸ビニルを得た。このポリマー100部を、エタノール/水=30/70(質量比)の混合溶媒200部に80℃で溶解した。ここにグリシジルメタクリレートを6部添加して、部分ケン化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。電位差滴定法による分析結果から、ポリマー中のカルボキシル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基と反応し、ポリマー側鎖中にメタクロイル基が導入されたことを確認し、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルAi-2を得た。
Synthesis Example Ai-2:
A polymer obtained by incorporating 1 mol % of methacrylic acid as a copolymer unit into vinyl acetate was saponified to obtain anion-modified polyvinyl acetate having an average degree of polymerization of 650 and a degree of saponification of 75 mol %. 100 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of a mixed solvent of ethanol/water=30/70 (mass ratio) at 80°C. 6 parts of glycidyl methacrylate was added thereto to introduce reactive groups into the partially saponified polyvinyl acetate. From the results of potentiometric titration analysis, it was confirmed that the carboxyl group in the polymer reacted with the epoxy group of glycidyl methacrylate, and a methacryloyl group was introduced into the side chain of the polymer. A modified partially saponified polyvinyl acetate Ai-2 into which was introduced was obtained.

合成例Ai-3:
日本合成化学工業(株)製の部分ケン化ポリ酢酸ビニル“KL-05”(重合度約500、ケン化度80モル%)100部を100部の水に溶解し、N-メチロールアクリルアミド15部を添加し、酸触媒としてリン酸1部を加え、100℃4時間攪拌して調整し、次いで水分を除去して、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルAi-3を得た。
Synthesis Example Ai-3:
100 parts of partially saponified polyvinyl acetate "KL-05" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of polymerization: about 500, degree of saponification: 80 mol%) was dissolved in 100 parts of water, and 15 parts of N-methylolacrylamide was dissolved. was added, and 1 part of phosphoric acid was added as an acid catalyst, stirred at 100°C for 4 hours to adjust, then water was removed, and the modified partially saponified poly having functional groups introduced into the side chains, which is the component (i) Vinyl acetate Ai-3 was obtained.

<(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドの合成>
合成例Aii-1:
ε-カプロラクタム521部(46.0モル%)、シクロヘキサンジカルボン酸458部(26.6モル%)、1,4-ビス(3-アミノプロピル)ピペラジン549部(27.4モル%)、50%次亜リン酸水溶液5部、及び水3000部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が0.4MPaに達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約2時間で常圧に戻し、その後1時間常圧で反応させた。最高重合反応温度は255℃であった。これにより、(ii)成分である第3級窒素原子含有ポリアミドAii-1を得た。得られた第3級窒素原子含有ポリアミドの組成をH-NMRで測定し、仕込み組成とポリマー組成に差異がないことを確認した。この第3級窒素原子含有ポリアミドAii-1の組成、ポリアミド中のシクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位及び脂環族構造単位の割合を表1に示す。
<(ii) Synthesis of tertiary nitrogen atom-containing polyamide>
Synthesis Example Aii-1:
ε-caprolactam 521 parts (46.0 mol%), cyclohexanedicarboxylic acid 458 parts (26.6 mol%), 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine 549 parts (27.4 mol%), 50% An autoclave was charged with 5 parts of an aqueous hypophosphorous acid solution and 3000 parts of water, and after purging with nitrogen, the autoclave was sealed and gradually heated. From the time when the internal pressure reached 0.4 MPa, water was distilled off until the pressure could not be maintained, the pressure was returned to normal pressure in about 2 hours, and then the reaction was allowed to proceed at normal pressure for 1 hour. The maximum polymerization reaction temperature was 255°C. As a result, a tertiary nitrogen atom-containing polyamide Aii-1, which is component (ii), was obtained. The composition of the obtained tertiary nitrogen atom-containing polyamide was measured by H-NMR, and it was confirmed that there was no difference between the charged composition and the polymer composition. Table 1 shows the composition of this tertiary nitrogen atom-containing polyamide Aii-1 and the ratio of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units in the polyamide.

合成例Aii-2~Aii-8
表1に記載のポリアミド組成になるようにジアミン及びジカルボン酸の種類及び配合割合、並びにε-カプロラクタムの配合割合を変更した以外は、合成例Aii-1と同様の方法で合成を行ない、(ii)成分である第3級窒素原子含有ポリアミドAii-2~Aii-8を得た。得られた第3級窒素原子含有ポリアミドの組成をH-NMRで測定し、仕込み組成とポリマー組成に差異がないことを確認した。これらの第3級窒素原子含有ポリアミドAii-2~Aii-8の組成、ポリアミド中のシクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位及び脂環族構造単位の割合を表1に示す。
Synthesis Examples Aii-2 to Aii-8
Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example Aii-1 except that the types and blending ratios of diamine and dicarboxylic acid and the blending ratio of ε-caprolactam were changed so that the polyamide composition shown in Table 1 was obtained, (ii ) component tertiary nitrogen atom-containing polyamides Aii-2 to Aii-8 were obtained. The composition of the obtained tertiary nitrogen atom-containing polyamide was measured by H-NMR, and it was confirmed that there was no difference between the charged composition and the polymer composition. Table 1 shows the compositions of these tertiary nitrogen atom-containing polyamides Aii-2 to Aii-8, and the proportions of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units in the polyamides.

Figure 0007125675000001
Figure 0007125675000001

実施例A1
攪拌用ヘラおよび冷却管を取り付けた3つ口フラスコ中に、表2に示す(i)成分及び(ii)成分を添加し、“ソルミックス”(登録商標)H-11(アルコール混合物、日本アルコール(株)製)50部および水50部の混合溶媒を混合した後、攪拌しながら90℃2時間加熱し、(i)成分および(ii)成分を溶解させた。70℃に冷却した後、その他の成分を添加し、30分攪拌し、感光性樹脂組成物を得た。
Example A1
In a three-necked flask equipped with a stirring spatula and a cooling tube, components (i) and (ii) shown in Table 2 were added, and "Solmix" (registered trademark) H-11 (alcohol mixture, Japan Alcohol After mixing 50 parts of a mixed solvent of 50 parts of water with stirring, the mixture was heated at 90° C. for 2 hours to dissolve components (i) and (ii). After cooling to 70° C., other components were added and stirred for 30 minutes to obtain a photosensitive resin composition.

次に、接着剤層を有する支持体を作成した。接着剤層を有する支持体は、紫外線吸収材を含む接着剤組成物を250μm厚みのポリエステルフィルム上に、塗膜厚さ20μmでコートすることによって得た。得られた支持体を用いて、この支持体の接着剤層面に上記の感光性樹脂組成物を流延し、厚み2μmのポリビニルアルコール(AH-26、日本合成化学(株)製)の被膜をコートした厚み125μmのポリエステルフイルムの被膜側を感光性樹脂組成物に接するようにして、ラミネーターを用いて全厚みが1080μmのシート状積層体の生版を成形した。 Next, a support having an adhesive layer was prepared. A support having an adhesive layer was obtained by coating a polyester film having a thickness of 250 μm with an adhesive composition containing an ultraviolet absorber in a coating thickness of 20 μm. Using the obtained support, the above photosensitive resin composition was cast on the adhesive layer surface of the support, and a coating of polyvinyl alcohol (AH-26, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 2 μm was formed. A raw plate of a sheet laminate having a total thickness of 1080 μm was formed using a laminator so that the film side of the coated polyester film having a thickness of 125 μm was in contact with the photosensitive resin composition.

生版を7日間以上保管した後に、印刷版特性、耐刷性の評価を行った。これらの評価結果を実施例A1の感光性樹脂組成物の組成とともに表2に示した。 After the raw plate was stored for 7 days or more, printing plate properties and printing durability were evaluated. These evaluation results are shown in Table 2 together with the composition of the photosensitive resin composition of Example A1.

実施例A2~A13、比較例A1~A6
感光性樹脂組成物の組成を表2に示されるものに変更した以外は実施例A1と同様にして感光性樹脂組成物を作成し、印刷原版を得た。得られた印刷版を実施例A1と同様の評価を行った。これらの評価結果を実施例A2~A13と比較例A1~A6の感光性樹脂組成物の組成とともに表2に示した。
Examples A2 to A13, Comparative Examples A1 to A6
A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example A1 except that the composition of the photosensitive resin composition was changed to that shown in Table 2, and a printing original plate was obtained. The obtained printing plate was evaluated in the same manner as in Example A1. These evaluation results are shown in Table 2 together with the compositions of the photosensitive resin compositions of Examples A2 to A13 and Comparative Examples A1 to A6.

なお、表2に記載した(iii)光重合性不飽和化合物(Aiii-1~Aiii-5)、(iv)光重合開始剤、可塑剤、及び熱重合禁止剤の詳細は、以下の通りである。
Aiii-1:4-アクリロイルモルホリン KJケミカルズ株式会社製
Aiii-2:2-アクロイルオキシエチル-フタル酸 HOA-MPL(N) 共栄社化学社製
Aiii-3:グリセリンジメタクリレート 共栄社化学社製
Aiii-4:2-ヒドロキシ-3-アクリロイロキシプロピルメタクリレート NKエステル701A 新中村化学社製
Aiii-5:プロピレングリコールジエポキシアクリレート エポキシエステル70PA 共栄社化学社製
光重合開始剤:ベンジルジメチルケタール
可塑剤:ジエチレングリコール
熱重合禁止剤:ハイドロキノンモノメチルエーテル
The details of (iii) photopolymerizable unsaturated compounds (Aiii-1 to Aiii-5), (iv) photopolymerization initiators, plasticizers, and thermal polymerization inhibitors described in Table 2 are as follows. be.
Aiii-1: 4-acryloylmorpholine manufactured by KJ Chemicals Co., Ltd. Aiii-2: 2-acryloyloxyethyl-phthalic acid HOA-MPL (N) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Aiii-3: glycerin dimethacrylate manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Aiii-4 : 2-Hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate NK Ester 701A Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Aiii-5: Propylene glycol diepoxy acrylate Epoxy Ester 70PA Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Photopolymerization initiator: benzyl dimethyl ketal Plasticizer: diethylene glycol Thermal polymerization Inhibitor: hydroquinone monomethyl ether

Figure 0007125675000002
Figure 0007125675000002

表2から分かるように、実施例A1~A13では、第3級窒素原子含有ポリアミドとして、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位と脂環族構造単位を本発明の範囲(それぞれ20~50モル%、50~95モル%)で含有する第3級窒素原子含有ポリアミドを用いているので、耐ブラシ欠け性、印刷版表面の粘着性、画像再現性、耐刷性の全てにおいて優れている。一方、比較例A1に示すように、第3級窒素原子含有ポリアミドを含有させないと、耐ブラシ欠け性、画像再現性、及び耐刷性に劣る。比較例A2及びA3に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を含有しない第3級窒素原子含有ポリアミドを用いると、印刷版表面の粘着性に劣り、その程度は、その含有割合の増加とともに増大する。また、耐ブラシ欠け性及び画像再現性にも劣る。比較例A4に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を含有していても、その含有量が少なすぎると、耐ブラシ欠け性、印刷版表面の粘着性に劣る。比較例A5に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を含有していても、その含有量が多すぎると、耐刷性が劣る。比較例A6に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を本発明の範囲内の量で含有していても、脂環族構造単位の合計含有量が多すぎると、耐刷性が劣る。 As can be seen from Table 2, in Examples A1 to A13, as the tertiary nitrogen atom-containing polyamide, the structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and the alicyclic structural units were within the scope of the present invention (each 20 to 50 mol%, 50 to 95 mol %) of the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is used, it is excellent in brush chipping resistance, tackiness on the printing plate surface, image reproducibility, and printing durability. On the other hand, as shown in Comparative Example A1, when the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is not contained, brush chipping resistance, image reproducibility, and printing durability are poor. As shown in Comparative Examples A2 and A3, when a tertiary nitrogen atom-containing polyamide that does not contain a structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is used, the tackiness of the printing plate surface is poor, and the degree of tackiness increases as the content ratio increases. increases with In addition, the brush chipping resistance and image reproducibility are also inferior. As shown in Comparative Example A4, even if a structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is contained, if the content is too small, brush chipping resistance and printing plate surface tackiness are poor. As shown in Comparative Example A5, even if a structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is contained, if the content is too large, the printing durability is poor. As shown in Comparative Example A6, even if the structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is contained in an amount within the range of the present invention, if the total content of the alicyclic structural units is too large, the printing durability is poor. .

(B)レーザー彫刻版の実施例
実施例中(本文)の部数は質量部を表わす。また、表3のポリアミド組成はmol%を表す。ポリアミド組成のmol%はH-NMRの測定により確定した。なお、実施例中の特性値の評価は以下の方法に依った。
(B) Examples of Laser Engraving Plate In the examples, parts in (text) represent parts by mass. Moreover, the polyamide composition in Table 3 represents mol%. The mol % of the polyamide composition was determined by H-NMR measurements. The evaluation of characteristic values in the examples was based on the following methods.

(1)耐ブラシ欠け性(30μm幅細線及び直径100μm独立点)
レーザー彫刻した版をリンス水に浸漬し、彫刻部の30μm幅細線及び直径100μm独立点を10cm×5cmの大きさのブラシで10回ブラッシングして擦った。ブラシは、ブラシ径150μm、植え込み長15mmで千鳥植えのもので、ナイロン製のものを用いた。その後、乾燥して得られた印刷版を顕微鏡で200倍に拡大して観察して、耐ブラシ欠け性を以下の基準で評価した。
◎:欠けの発生はなし。
○:画像の一部に微細な欠けが発生。
△:画像の一部に欠けが発生。
×:画像の全面に欠けが発生。
(1) Brush chipping resistance (30 μm wide thin line and 100 μm diameter independent point)
The laser-engraved plate was immersed in rinse water, and the 30 μm-wide fine line and the 100 μm-diameter independent point in the engraved portion were brushed and rubbed 10 times with a 10 cm×5 cm brush. The brush used was made of nylon with a brush diameter of 150 μm and a staggered planting length of 15 mm. Thereafter, the dried printing plate was observed under a microscope at a magnification of 200 times, and brush chipping resistance was evaluated according to the following criteria.
A: No chipping occurred.
◯: Fine chipping occurred in part of the image.
Δ: Part of the image is chipped.
x: Chipping occurs on the entire surface of the image.

(2)耐刷性(ベタのひび割れ)
まず、以下の手順で印刷版を製造した。
原版を感光性樹脂層の表面より高さ5cmの距離から8mW/cmの紫外線露光機(光源:フィリップス社製10R)により10分露光し、架橋硬化させた後、保護フィルムを剥がした。続いて、レーザー彫刻装置としてLuescher Flexo社製の300W炭酸ガスレーザーを搭載したFlexPose ! directを用いてレーザー彫刻(直彫り)を実施して、印刷版を得た。本装置の仕様は、レーザー波長10.6μm、ビーム直径30μm、版装着ドラム直径は300mm、加工速度は1.5時間/0.5mであった。レーザー彫刻の条件は、以下のとおりである。なお、(i)~(iii)は装置固有の条件である。(iv)~(vii)は任意に条件設定が可能であり、それぞれの条件は本装置の標準条件を採用した。
(i)解像度:2540dpi
(ii)レーザーピッチ:10μm
(iii)ドラム回転数:982cm/秒
(iv)トップパワー:9%
(v)ボトムパワー:100%
(vi)ショルダー幅:0.30mm
(vii)評価画像:150lpi、0~100%まで1%刻みの網点
次に、得られた印刷版を使用して、適性印圧から50μm加圧した状態で1万ショットの印刷を行ない、1万ショット印刷後に印刷物と版を200倍に拡大した顕微鏡で観察し、以下の判定基準で評価した。
◎:印刷物に欠点なく、かつ版にもクラックなし。
○:印刷物に欠点はないが、版に軽微なクラックあり。
△:印刷物に目視で欠点は確認できないが、200倍に拡大した顕微鏡の観察では不良がみられる。
×:目視で印刷物に不良が確認できる。
(2) Printing durability (cracking of solid)
First, a printing plate was produced by the following procedure.
The original plate was exposed for 10 minutes from a distance of 5 cm above the surface of the photosensitive resin layer with an 8 mW/cm 2 UV exposure machine (light source: Philips 10R), crosslinked and cured, and then the protective film was peeled off. Next, FlexPose! equipped with a 300W carbon dioxide laser manufactured by Luescher Flexo as a laser engraving device. Laser engraving (direct engraving) was performed using direct to obtain a printing plate. The specifications of this apparatus were laser wavelength 10.6 μm, beam diameter 30 μm, plate mounting drum diameter 300 mm, and processing speed 1.5 hours/0.5 m 2 . The conditions for laser engraving are as follows. Note that (i) to (iii) are conditions unique to the apparatus. Conditions (iv) to (vii) can be arbitrarily set, and the standard conditions of this apparatus were adopted for each condition.
(i) Resolution: 2540dpi
(ii) laser pitch: 10 μm
(iii) Drum rotation speed: 982 cm/sec (iv) Top power: 9%
(v) Bottom power: 100%
(vi) shoulder width: 0.30mm
(vii) Evaluation image: 150 lpi, halftone dots from 0 to 100% in increments of 1% After printing 10,000 shots, the printed matter and the plate were observed under a microscope magnified 200 times, and evaluated according to the following criteria.
⊚: No defects on the printed matter and no cracks on the plate.
◯: The printed material has no defects, but the plate has slight cracks.
Δ: Defects cannot be visually confirmed on the printed matter, but defects are observed by observation with a microscope magnified 200 times.
x: Defects can be visually confirmed on the printed matter.

(3)耐刷性(1%網点の欠け)
(2)の評価で得られた版の1%網点を顕微鏡で200倍に拡大し、以下の判定基準で評価した。
○:印刷前後で1%網点に変化なし。
△:印刷後では、1%網点の2割未満に欠けが起きる。
×:印刷後では、1%網点の2割以上に欠けが起きる。
(3) Printing durability (lack of 1% halftone dots)
The 1% halftone dot of the plate obtained in the evaluation of (2) was magnified 200 times with a microscope and evaluated according to the following criteria.
◯: No change in 1% halftone dots before and after printing.
C: Less than 20% of 1% halftone dots are chipped after printing.
x: Chipping occurs in 20% or more of 1% halftone dots after printing.

<(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルの合成>
合成例Bi-1:
日本合成化学工業(株)製の部分ケン化ポリ酢酸ビニル“KL-05”(重合度約500、ケン化度80モル%)をアセトン中で膨潤させ、無水コハク酸1.0モル%を添加し、60℃で6時間撹拌して、分子鎖にカルボキシル基を付加させた。このポリマーをアセトンで洗浄して、未反応の無水コハク酸を除去乾燥した。このポリマー100部を、エタノール/水=30/70(質量比)の混合溶媒200部に80℃で溶解した。ここにグリシジルメタクリレートを6部添加して、部分ケン化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。電位差滴定法による分析結果から、ポリマー中のカルボキシル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基と反応し、ポリマー側鎖中にメタクロイル基が導入されたことを確認し、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルBi-1を得た。
<(i) Synthesis of Modified Partially Saponified Polyvinyl Acetate Introduced Functional Group to Side Chain>
Synthesis Example Bi-1:
Partially saponified polyvinyl acetate "KL-05" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of polymerization: about 500, degree of saponification: 80 mol%) was swollen in acetone, and 1.0 mol% of succinic anhydride was added. and stirred at 60° C. for 6 hours to add carboxyl groups to the molecular chains. The polymer was washed with acetone to remove unreacted succinic anhydride and dried. 100 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of a mixed solvent of ethanol/water=30/70 (mass ratio) at 80°C. 6 parts of glycidyl methacrylate was added thereto to introduce reactive groups into the partially saponified polyvinyl acetate. From the results of potentiometric titration analysis, it was confirmed that the carboxyl group in the polymer reacted with the epoxy group of glycidyl methacrylate, and a methacryloyl group was introduced into the side chain of the polymer. was introduced into the modified partially saponified polyvinyl acetate Bi-1.

合成例Bi-2:
酢酸ビニルにメタクリル酸を共重合単位として1モル%含有させたポリマーをケン化し、平均重合度650、ケン化度75モル%のアニオン変性ポリ酢酸ビニルを得た。このポリマー100部を、エタノール/水=30/70(質量比)の混合溶媒200部に80℃で溶解した。ここにグリシジルメタクリレートを6部添加して、部分ケン化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。電位差滴定法による分析結果から、ポリマー中のカルボキシル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基と反応し、ポリマー側鎖中にメタクロイル基が導入されたことを確認し、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルBi-2を得た。
Synthesis Example Bi-2:
A polymer obtained by incorporating 1 mol % of methacrylic acid as a copolymer unit into vinyl acetate was saponified to obtain anion-modified polyvinyl acetate having an average degree of polymerization of 650 and a degree of saponification of 75 mol %. 100 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of a mixed solvent of ethanol/water=30/70 (mass ratio) at 80°C. 6 parts of glycidyl methacrylate was added thereto to introduce reactive groups into the partially saponified polyvinyl acetate. From the results of potentiometric titration analysis, it was confirmed that the carboxyl group in the polymer reacted with the epoxy group of glycidyl methacrylate, and a methacryloyl group was introduced into the side chain of the polymer. was introduced into the modified partially saponified polyvinyl acetate Bi-2.

合成例Bi-3:
日本合成化学工業(株)製の部分ケン化ポリ酢酸ビニル“KL-05”(重合度約500、ケン化度80モル%)100部を100部の水に溶解し、N-メチロールアクリルアミド15部を添加し、酸触媒としてリン酸1部を加え、100℃4時間攪拌して調整し、次いで水分を除去して、(i)成分である側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニルBi-3を得た。
Synthesis Example Bi-3:
100 parts of partially saponified polyvinyl acetate "KL-05" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of polymerization: about 500, degree of saponification: 80 mol%) was dissolved in 100 parts of water, and 15 parts of N-methylolacrylamide was dissolved. was added, and 1 part of phosphoric acid was added as an acid catalyst, stirred at 100°C for 4 hours to adjust, then water was removed, and the modified partially saponified poly having functional groups introduced into the side chains, which is the component (i) Vinyl acetate Bi-3 was obtained.

<(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドの合成>
合成例Bii-1:
ε-カプロラクタム521部(46.0モル%)、シクロヘキサンジカルボン酸458部(26.6モル%)、1,4-ビス(3-アミノプロピル)ピペラジン549部(27.4モル%)、50%次亜リン酸水溶液5部、及び水3000部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が0.4MPaに達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約2時間で常圧に戻し、その後1時間常圧で反応させた。最高重合反応温度は255℃であった。これにより、(ii)成分である第3級窒素原子含有ポリアミドBii-1を得た。得られた第3級窒素原子含有ポリアミドの組成をH-NMRで測定し、仕込み組成とポリマー組成に差異がないことを確認した。この第3級窒素原子含有ポリアミドBii-1の組成、ポリアミド中のシクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位及び脂環族構造単位の割合を表3に示す。
<(ii) Synthesis of tertiary nitrogen atom-containing polyamide>
Synthesis Example Bii-1:
ε-caprolactam 521 parts (46.0 mol%), cyclohexanedicarboxylic acid 458 parts (26.6 mol%), 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine 549 parts (27.4 mol%), 50% An autoclave was charged with 5 parts of an aqueous hypophosphorous acid solution and 3000 parts of water, and after purging with nitrogen, the autoclave was sealed and gradually heated. From the time when the internal pressure reached 0.4 MPa, water was distilled off until the pressure could not be maintained, the pressure was returned to normal pressure in about 2 hours, and then the reaction was allowed to proceed at normal pressure for 1 hour. The maximum polymerization reaction temperature was 255°C. Thus, a tertiary nitrogen atom-containing polyamide Bii-1, which is component (ii), was obtained. The composition of the obtained tertiary nitrogen atom-containing polyamide was measured by H-NMR, and it was confirmed that there was no difference between the charged composition and the polymer composition. Table 3 shows the composition of this tertiary nitrogen atom-containing polyamide Bii-1 and the ratio of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units in the polyamide.

合成例Bii-2~Bii-7
表3に記載のポリアミド組成になるようにジアミン及びジカルボン酸の種類及び配合割合、並びにε-カプロラクタムの配合割合を変更した以外は、合成例Bii-1と同様の方法で合成を行ない、(ii)成分である第3級窒素原子含有ポリアミドBii-2~Bii-7を得た。得られた第3級窒素原子含有ポリアミドの組成をH-NMRで測定し、仕込み組成とポリマー組成に差異がないことを確認した。これらの第3級窒素原子含有ポリアミドBii-2~Bii-7の組成、ポリアミド中のシクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位及び脂環族構造単位の割合を表3に示す。
Synthesis Examples Bii-2 to Bii-7
Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example Bii-1 except that the types and blending ratios of diamine and dicarboxylic acid and the blending ratio of ε-caprolactam were changed so that the polyamide composition shown in Table 3 was obtained. ) component, tertiary nitrogen-containing polyamides Bii-2 to Bii-7 were obtained. The composition of the obtained tertiary nitrogen atom-containing polyamide was measured by H-NMR, and it was confirmed that there was no difference between the charged composition and the polymer composition. Table 3 shows the compositions of these tertiary nitrogen atom-containing polyamides Bii-2 to Bii-7, and the proportions of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and alicyclic structural units in the polyamides.

Figure 0007125675000003
Figure 0007125675000003

実施例B1
攪拌用ヘラおよび冷却管を取り付けた3つ口フラスコ中に、表4に示す(i)成分及び(ii)成分を添加し、“ソルミックス”(登録商標)H-11(アルコール混合物、日本アルコール(株)製)50部および水50部の混合溶媒を混合した後、攪拌しながら90℃2時間加熱し、(i)成分および(ii)成分を溶解させた。70℃に冷却した後、その他の成分を添加し、30分攪拌し、感光性樹脂組成物を得た。
Example B1
In a three-necked flask equipped with a stirring spatula and a cooling tube, components (i) and (ii) shown in Table 4 were added, and "Solmix" (registered trademark) H-11 (alcohol mixture, Japan Alcohol After mixing 50 parts of a mixed solvent of 50 parts of water with stirring, the mixture was heated at 90° C. for 2 hours to dissolve components (i) and (ii). After cooling to 70° C., other components were added and stirred for 30 minutes to obtain a photosensitive resin composition.

次に、接着剤層を有する支持体を作成した。接着剤層を有する支持体は、紫外線吸収材を含む接着剤組成物を250μm厚みのポリエステルフィルム上に、塗膜厚さ20μmでコートすることによって得た。得られた支持体を用いて、この支持体の接着剤層面に上記の感光性樹脂組成物を流延し、厚み125μmのポリエステルフィルム(保護フィルム)とラミネートし、接着剤層を有する支持体と厚み125μmのポリエステルフィルム(保護フィルム)との間に厚み685μmの感光性樹脂層が配置された、全厚みが1080μmのシート状積層体の原版を成形した。 Next, a support having an adhesive layer was produced. A support having an adhesive layer was obtained by coating a polyester film having a thickness of 250 μm with an adhesive composition containing an ultraviolet absorber in a coating thickness of 20 μm. Using the obtained support, the photosensitive resin composition was cast on the adhesive layer surface of the support, laminated with a polyester film (protective film) having a thickness of 125 μm, and a support having an adhesive layer. A sheet-like laminate master plate having a total thickness of 1080 μm was formed by interposing a photosensitive resin layer having a thickness of 685 μm between a polyester film (protective film) having a thickness of 125 μm.

原版を7日間以上保管した後に、画像部の欠けの有無、及び耐刷性の評価を行なった。これらの評価結果を実施例B1の感光性樹脂組成物の組成とともに表4に示した。 After the original plate was stored for 7 days or more, the presence or absence of chipping in the image area and printing durability were evaluated. These evaluation results are shown in Table 4 together with the composition of the photosensitive resin composition of Example B1.

実施例B2~B13、比較例B1~B5
感光性樹脂組成物の組成を表4に示されるものに変更した以外は実施例B1と同様にして感光性樹脂組成物を作成し、印刷原版を得た。得られた印刷版を実施例B1と同様の評価を行なった。これらの評価結果を実施例B2~B13と比較例B1~B5の感光性樹脂組成物の組成とともに表4に示した。
Examples B2 to B13, Comparative Examples B1 to B5
A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example B1 except that the composition of the photosensitive resin composition was changed to that shown in Table 4, and a printing original plate was obtained. The obtained printing plate was evaluated in the same manner as in Example B1. These evaluation results are shown in Table 4 together with the compositions of the photosensitive resin compositions of Examples B2 to B13 and Comparative Examples B1 to B5.

なお、表4に記載した(iii)光重合性不飽和化合物(Biii-1~Biii-5)、(iv)光重合開始剤、可塑剤、及び熱重合禁止剤の詳細は、以下の通りである。
Biii-1:4-アクリロイルモルホリン KJケミカルズ株式会社製
Biii-2:2-アクロイルオキシエチル-フタル酸 HOA-MPL(N) 共栄社化学社製
Biii-3:グリセリンジメタクリレート 共栄社化学社製
Biii-4:2-ヒドロキシ-3-アクリロイロキシプロピルメタクリレート NKエステル701A 新中村化学社製
Biii-5:プロピレングリコールジエポキシアクリレート エポキシエステル70PA 共栄社化学社製
光重合開始剤:ベンジルジメチルケタール
可塑剤:ジエチレングリコール
熱重合禁止剤:ハイドロキノンモノメチルエーテル
The details of (iii) photopolymerizable unsaturated compounds (Biii-1 to Biii-5), (iv) photopolymerization initiators, plasticizers, and thermal polymerization inhibitors described in Table 4 are as follows. be.
Biii-1: 4-acryloylmorpholine manufactured by KJ Chemicals Co., Ltd. Biii-2: 2-acryloyloxyethyl-phthalic acid HOA-MPL (N) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Biii-3: glycerin dimethacrylate manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Biii-4 : 2-Hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate NK Ester 701A Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Biii-5: Propylene glycol diepoxy acrylate Epoxy Ester 70PA Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Photopolymerization initiator: benzyl dimethyl ketal Plasticizer: diethylene glycol Thermal polymerization Inhibitor: hydroquinone monomethyl ether

Figure 0007125675000004
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表4から分かるように、実施例B1~B13では、第3級窒素原子含有ポリアミドとして、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位と脂環族構造単位を本発明の範囲(それぞれ20~50モル%、50~95モル%)で含有する第3級窒素原子含有ポリアミドを用いているので、耐ブラシ欠け性、耐刷性の全てにおいて優れている。一方、比較例B1に示すように、第3級窒素原子含有ポリアミドを含有させないと、耐ブラシ欠け性、及び耐刷性に劣る。比較例B2及びB3に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を含有しない第3級窒素原子含有ポリアミドを用いると、耐ブラシ欠け性に劣る。比較例B4に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を含有していても、その含有量が少なすぎると、やはり耐ブラシ欠け性に劣る。比較例B5に示すように、シクロヘキサンジカルボン酸より得られる構造単位を本発明の範囲内の量で含有していても、脂環族構造単位の合計含有量が多すぎると、耐刷性が劣る。 As can be seen from Table 4, in Examples B1 to B13, as the tertiary nitrogen atom-containing polyamide, the structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid and the alicyclic structural units were within the scope of the present invention (each 20 to 50 mol%, 50 to 95 mol %) of the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is used, the brush chipping resistance and printing durability are all excellent. On the other hand, as shown in Comparative Example B1, when the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is not included, brush chipping resistance and printing durability are poor. As shown in Comparative Examples B2 and B3, when a tertiary nitrogen atom-containing polyamide that does not contain structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is used, brush chipping resistance is poor. As shown in Comparative Example B4, even if a structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is contained, if the content is too small, the brush chipping resistance is also inferior. As shown in Comparative Example B5, even if the structural unit obtained from cyclohexanedicarboxylic acid is contained in an amount within the range of the present invention, if the total content of the alicyclic structural units is too large, the printing durability is poor. .

本発明の凸版印刷原版用感光性樹脂組成物によれば、アナログ版については、高度なハイライト網点画像再現性、耐刷性を維持し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても印刷版表面の粘着性を増大させないようにすることができ、レーザー彫刻版については、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下を少なくすることができる。従って、本発明は、極めて有用である。 According to the photosensitive resin composition for letterpress printing original plates of the present invention, for analog plates, high-level highlight dot image reproducibility and printing durability are maintained, and the blending ratio of the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is It is possible to prevent the tackiness of the printing plate surface from increasing even if the viscosity is increased, and for laser engraving plates, the cleaning process after laser engraving is performed with a brush while maintaining excellent printing durability during printing. However, deterioration in image reproducibility can be reduced. Therefore, the present invention is extremely useful.

Claims (1)

支持体上に感光性樹脂層を有する凸版印刷原版であって、前記感光性樹脂層が、(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドが、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位を20~50モル%含有し、且つ脂環族構造単位を合計50~95モル%含有し、さらにε-カプロラクタムより得られる構造単位を5モル%以上含有する感光性樹脂組成物を使用して形成されたものであること、及び凸版印刷原版が、レーザー彫刻方式の凸版印刷原版であることを特徴とする凸版印刷原版。 A letterpress printing original plate having a photosensitive resin layer on a support, wherein the photosensitive resin layer comprises (i) modified partially saponified polyvinyl acetate having functional groups introduced into side chains, and (ii) tertiary nitrogen. A photosensitive resin composition containing an atom-containing polyamide, (iii) a photopolymerizable unsaturated compound, and (iv) a photopolymerization initiator, wherein (ii) the tertiary nitrogen atom-containing polyamide is Containing 20 to 50 mol% of structural units obtained from cyclohexanedicarboxylic acid with respect to the total of aminocarboxylic acid units (including the case of lactam as a raw material), dicarboxylic acid units, and diamine units, and alicyclic It is formed using a photosensitive resin composition containing a total of 50 to 95 mol% of structural units and further containing 5 mol% or more of structural units obtained from ε-caprolactam , and a letterpress printing original plate , a letterpress printing original plate characterized by being a laser engraving type letterpress printing original plate.
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