JP2018164032A - Work division method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a work division method capable of cancelling an undivided problem of a division schedule line occurred in a case where a chip size is a small chip.SOLUTION: An expansion division condition setting step S105 sets a thrust-up amount x on the basis of an expansion rate of a dicing tape 3 after the termination of the expansion corresponded to each of a plurality of expansion regulation rings 16 of which a diameter of an opening part 16A is different, and sets a thrust-up speed of an expand ring 14 so that the maximum expansion rate speed is maintained in a constant time in an expansion division step.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、ワーク分割方法に係り、特に、半導体ウェーハ等のワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法に関する。   The present invention relates to a workpiece dividing method, and more particularly, to a workpiece dividing method for dividing a workpiece such as a semiconductor wafer into individual chips along a scheduled division line.

従来、半導体チップ(以下、チップと言う。)の製造にあたり、ダイシングブレードによるハーフカット或いはレーザ照射による改質領域形成により予めその内部に分割予定ラインが形成された半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う。)を、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(特許文献1等参照)。   Conventionally, in the manufacture of semiconductor chips (hereinafter referred to as chips), semiconductor wafers (hereinafter referred to as wafers) in which lines to be divided are formed in advance by half-cutting with a dicing blade or formation of modified regions by laser irradiation. ) Is divided into individual chips along a planned division line (see Patent Document 1 etc.).

図12は、ワーク分割装置にて分割される円盤状のウェーハ1が貼付されたウェーハユニット2の説明図であり、図12(A)はウェーハユニット2の斜視図、図12(B)はウェーハユニット2の縦断面図である。   12A and 12B are explanatory views of the wafer unit 2 to which the disk-shaped wafer 1 to be divided by the workpiece dividing apparatus is attached. FIG. 12A is a perspective view of the wafer unit 2, and FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a unit 2. FIG.

ウェーハ1は、片面に粘着層が形成された厚さ約100μmのダイシングテープ(拡張テープ又は粘着シートとも言う。)3の中央部に貼付され、ダイシングテープ3は、その外周部が剛性のあるリング状フレーム(以下、フレームと言う。)4に固定されている。   The wafer 1 is affixed to the center of a dicing tape 3 (also called an expansion tape or an adhesive sheet) 3 having an adhesive layer formed on one side and having a thickness of about 100 μm. A fixed frame (hereinafter referred to as a frame) 4 is fixed.

ワーク分割装置では、ウェーハユニット2のフレーム4が、二点鎖線で示すフレーム固定部材(フレーム固定機構とも言う。)7に当接されて固定される。この後、ウェーハユニット2の下方から二点鎖線で示すエキスパンドリング(突上げリングとも言う。)8が突き上げ(上昇)移動され、このエキスパンドリング8によってダイシングテープ3が突き上げられて放射状に拡張される。このときに生じるダイシングテープ3の張力が、ウェーハ1の分割予定ライン5に付与されることにより、ウェーハ1が個々のチップ6に分割される。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に形成されている。分割予定ライン5に関して、X方向と平行な本数とY方向と平行な本数とが同数の場合であって、それぞれの方向の間隔が等しい場合には、分割されたチップ6の形状は正方形となる。また、X方向と平行な本数とY方向と平行な本数とが異なる場合であって、それぞれの方向の間隔が等しい場合には、分割されたチップ6の形状は長方形となる。   In the workpiece dividing apparatus, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed in contact with a frame fixing member (also referred to as a frame fixing mechanism) 7 indicated by a two-dot chain line. Thereafter, an expand ring (also called a push-up ring) 8 indicated by a two-dot chain line is pushed up (moved up) from below the wafer unit 2, and the dicing tape 3 is pushed up by the expand ring 8 and radially expanded. . The tension of the dicing tape 3 generated at this time is applied to the division line 5 of the wafer 1, whereby the wafer 1 is divided into individual chips 6. The division lines 5 are formed in the X direction and the Y direction orthogonal to each other. When the number of lines to be divided 5 is the same as the number parallel to the X direction and the number parallel to the Y direction, and the intervals in the respective directions are equal, the shape of the divided chip 6 is a square. . In addition, when the number parallel to the X direction is different from the number parallel to the Y direction, and the intervals in the respective directions are equal, the shape of the divided chip 6 is a rectangle.

ところで、ダイシングテープ3はヤング率が低く柔軟な部材である。このため、ウェーハ1を個々のチップ6に円滑に分割するためには、ダイシングテープ3を冷却し、ダイシングテープ3のバネ定数を大きくした状態でダイシングテープ3を拡張することが考えられる。   Incidentally, the dicing tape 3 is a flexible member having a low Young's modulus. For this reason, in order to smoothly divide the wafer 1 into the individual chips 6, it is conceivable that the dicing tape 3 is cooled and the dicing tape 3 is expanded while the spring constant of the dicing tape 3 is increased.

特許文献2のテープ拡張装置(ワーク分割装置)は、冷気供給手段を備えている。特許文献2によれば、冷気供給手段を作動して、処理空間内に冷気を供給し、処理空間内を例えば0℃以下に冷却することにより、ダイシングテープを冷却している。   The tape expansion device (work dividing device) of Patent Document 2 includes a cold air supply unit. According to Patent Document 2, the dicing tape is cooled by operating the cold air supply means to supply cold air into the processing space and cooling the processing space to, for example, 0 ° C. or lower.

一方、特許文献3のチップ分割離間装置(ワーク分割装置)では、ダイシングテープに異方性があることに着目し、その異方性を加味してダイシングテープを一様にエキスパンドさせるために、フィルム面支持機構を備えている。このフィルム面支持機構は、円周方向において独立した複数の支持機構を備え、複数の支持機構の相対的な高さを個別に制御してダイシングテープの張力を調整することにより、ダイシングテープのX方向の伸びとY方向の伸びを独立して制御している。   On the other hand, in the chip dividing / separating device (work dividing device) of Patent Document 3, attention is paid to the fact that the dicing tape has anisotropy, and in order to expand the dicing tape uniformly in consideration of the anisotropy, a film is used. A surface support mechanism is provided. This film surface support mechanism includes a plurality of support mechanisms that are independent in the circumferential direction, and adjusts the tension of the dicing tape by individually controlling the relative heights of the plurality of support mechanisms. The elongation in the direction and the elongation in the Y direction are controlled independently.

ここで、本願明細書において、ダイシングテープ3のうち、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の領域を中央部領域3Aと称し、中央部領域3Aの外縁部とフレーム4の内縁部4Aとの間に備えられる平面視ドーナツ形状の領域を環状部領域3Bと称し、フレーム4に固定される最外周部分の平面視ドーナツ形状の領域を固定部領域3Cと称する。環状部領域3Bが、エキスパンドリング8に突き上げられて拡張される領域である。   Here, in the present specification, of the dicing tape 3, a circular area in a plan view to which the wafer 1 is attached is referred to as a central area 3 </ b> A, and the outer edge of the central area 3 </ b> A and the inner edge 4 </ b> A of the frame 4. The planar donut-shaped region provided therebetween is referred to as an annular portion region 3B, and the planar donut-shaped region at the outermost peripheral portion fixed to the frame 4 is referred to as a fixed portion region 3C. The annular portion region 3B is a region that is pushed up by the expand ring 8 and expanded.

なお、ウェーハ1の分割に要する力は、すなわち、ウェーハ1を分割するために環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、分割予定ライン5の本数が多くなるに従って高くしなければならないことが知られている。分割予定ライン5の本数について、例えば、直径300mmのウェーハ1でチップサイズが5mmの場合には約120本(XY方向に各60本)の分割予定ライン5が形成され、チップサイズが1mmの場合は約600本の分割予定ライン5が形成される。よって、環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、チップサイズが小さくなるに従って高くしなければならない。   Note that the force required to divide the wafer 1, that is, the tension that must be generated in the annular region 3 </ b> B in order to divide the wafer 1 may have to be increased as the number of division lines 5 increases. Are known. For example, when the wafer 1 having a diameter of 300 mm and the chip size is 5 mm, about 120 (60 in each of the XY directions) division planned lines 5 are formed and the chip size is 1 mm. Approximately 600 division planned lines 5 are formed. Therefore, the tension that must be generated in the annular portion region 3B must be increased as the chip size is reduced.

特開2016−149581号公報JP 2006-149581 A 特開2016−12585号公報JP-A-2006-12585 特許第5912274号公報Japanese Patent No. 5912274

ところで、直径300mmのウェーハ1がマウントされるフレーム4の内径(フレームの内縁部の径)は、SEMI規格(G74−0699 300mmウェーハに関するテープフレームのための仕様)により350mmと定められている。この規格により、図13のウェーハユニット2の縦断面図の如く、ウェーハ1の外縁部とフレーム4の内縁部との間には、25mmの幅寸法を有する環状部領域3Bが存在することになる。また、図14(A)、(B)で示すワーク分割装置の要部縦断面図の如く、フレーム4を固定するフレーム固定部材7は、エキスパンドリング8によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。   Incidentally, the inner diameter of the frame 4 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm is mounted (the diameter of the inner edge of the frame) is set to 350 mm according to the SEMI standard (specification for a tape frame relating to a G74-0699 300 mm wafer). According to this standard, an annular region 3B having a width of 25 mm exists between the outer edge portion of the wafer 1 and the inner edge portion of the frame 4 as shown in the longitudinal sectional view of the wafer unit 2 in FIG. . 14A and 14B, the frame fixing member 7 that fixes the frame 4 does not come into contact with the annular portion region 3B that is expanded by the expand ring 8, as shown in the longitudinal sectional view of the main part of the work dividing apparatus shown in FIGS. As described above, the dicing tape 3 is installed at a position spaced outward from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A.

このため、エキスパンドリング8の突き上げ動作によって生じるウェーハ1を分割する力は、(i)環状部領域3Bの全領域を拡張する力、(ii)ウェーハ1をチップ6に分割する力、(iii)隣接するチップ6とチップ6との間のダイシングテープ3を拡張する力の3つの力に分解される。   For this reason, the force for dividing the wafer 1 generated by the push-up operation of the expand ring 8 is (i) the force for expanding the entire region of the annular portion region 3B, (ii) the force for dividing the wafer 1 into the chips 6, and (iii) It is decomposed into three forces of force for expanding the dicing tape 3 between adjacent chips 6.

図15(A)〜(E)に示すワーク分割装置の動作図の如く、ダイシングテープ3の環状部領域3Bにエキスパンドリング8が当接し、エキスパンドリング8の突き上げ動作によってダイシングテープ3の拡張が始まると(図15(A))、まず最もバネ定数の低い環状部領域3Bの拡張が始まる(図15(B))。これにより、環状部領域3Bに張力が発生し、この張力がある程度高まると、高まった張力がウェーハ1に伝達されてウェーハ1のチップ6への分割が始まる(図15(C))。ウェーハ1が個々のチップ6に分割されると、環状部領域3Bの拡張とチップ間のダイシングテープ3の拡張とが同時に進行する(図15(D)〜(E))。   As shown in the operation diagrams of the workpiece dividing apparatus shown in FIGS. 15A to 15E, the expanding ring 8 comes into contact with the annular portion region 3B of the dicing tape 3, and expansion of the dicing tape 3 is started by the pushing-up operation of the expanding ring 8. (FIG. 15A), first, expansion of the annular portion region 3B having the lowest spring constant begins (FIG. 15B). As a result, a tension is generated in the annular portion region 3B, and when this tension increases to some extent, the increased tension is transmitted to the wafer 1 to start dividing the wafer 1 into chips 6 (FIG. 15C). When the wafer 1 is divided into individual chips 6, the expansion of the annular portion region 3B and the expansion of the dicing tape 3 between the chips proceed simultaneously (FIGS. 15D to 15E).

従来のワーク分割装置では、直径300mmのウェーハ1において、チップサイズが5mm以上の場合には、環状部領域3Bで発生した張力により、個々のチップ6に問題無く分割することができた。しかしながら、ウェーハ1に形成される回路パターンの微細化に伴いチップサイズがより小さい1mm以下のチップも現れてきた。この場合、ウェーハ1を分割する分割予定ライン5の本数が増大することに起因して、ウェーハ1の分割に要する力が大きくなり、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる場合があった。そうすると、図16のウェーハユニット2の縦断面図の如く、エキスパンドリング8による拡張動作が終了しても、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の一部が分割されずに未分割のまま残存するという問題が発生した。   In the conventional workpiece dividing apparatus, when the chip size is 5 mm or more in the wafer 1 having a diameter of 300 mm, it can be divided into the individual chips 6 without problems due to the tension generated in the annular portion region 3B. However, with the miniaturization of the circuit pattern formed on the wafer 1, chips having a smaller chip size of 1 mm or less have also appeared. In this case, the force required to divide the wafer 1 increases due to an increase in the number of scheduled dividing lines 5 for dividing the wafer 1, and a force greater than the tension due to the expansion of the annular region 3B is required. was there. Then, as shown in the longitudinal sectional view of the wafer unit 2 in FIG. 16, even if the expansion operation by the expanding ring 8 is completed, a part of the division line 5 formed on the wafer 1 remains undivided without being divided. A problem occurred.

このような分割予定ライン5の未分割の問題は、ダイシングテープ3の拡張量や拡張速度を増加させても解消することはできない。例えば、ダイシングテープ3の拡張量を増やした場合には、環状部領域3Bが塑性変形を始めてしまうからである。塑性変形中の環状部領域3Bのバネ定数は、弾性変形中のバネ定数よりも小さいことから、環状部領域3Bの弾性変形を超えた領域では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。一方、ダイシングテープ3の拡張速度を増やした場合でも、環状部領域3Bの一部分が塑性変形を始めてしまうので、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。これはダイシングテープ3の周波数応答が低いため、ダイシングテープ3の全体に時間差なく力が伝達しないからである。   Such an undivided problem of the division line 5 cannot be solved by increasing the expansion amount or expansion speed of the dicing tape 3. For example, when the expansion amount of the dicing tape 3 is increased, the annular portion region 3B starts plastic deformation. Since the spring constant of the annular portion region 3B during plastic deformation is smaller than the spring constant during elastic deformation, the tension that divides the wafer 1 into individual chips 6 in the region beyond the elastic deformation of the annular portion region 3B is Does not occur. On the other hand, even when the expansion speed of the dicing tape 3 is increased, a part of the annular portion region 3B starts plastic deformation, so that tension for dividing the wafer 1 into individual chips 6 does not occur. This is because since the frequency response of the dicing tape 3 is low, no force is transmitted to the entire dicing tape 3 without a time difference.

分割予定ライン5の未分割の問題を解消するために特許文献2では、ダイシングテープを冷却し、ダイシングテープのバネ定数を大きくすることで対応しているが、近年の1mm以下の小チップに対しては十分な効果を得ることができない。   In order to solve the undivided problem of the division line 5, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228561 copes with this by cooling the dicing tape and increasing the spring constant of the dicing tape. Can not get enough effect.

また、特許文献3のチップ分割離間装置は、ダイシングテープのX方向の伸びとY方向の伸びを独立して制御することはできるが、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力をウェーハ1に付与することができないので、分割予定ラインの未分割の問題を解消することはできない。   In addition, the chip dividing / separating device of Patent Document 3 can independently control the expansion in the X direction and the Y direction of the dicing tape, but a force greater than the tension due to the expansion of the annular region 3B is applied to the wafer 1. Since it cannot be assigned, the problem of undivided lines to be divided cannot be solved.

本発明はこのような問題に鑑みて成されたものであり、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができるワーク分割方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a work dividing method that can solve the problem of undivided lines to be divided that occurs when the chip size is a small chip. .

本発明のワーク分割方法は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状フレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法であって、リング状フレームの内径よりも小さく、かつワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングを用いて、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面を貼付面側に突き上げるワーク分割方法において、リング状フレームの内径よりも小さく、かつエキスパンドリングの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成された拡張規制リングであって、開口部の径が異なる複数の拡張保持リングの中から選択した一つの拡張規制リングを、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と同一側に配置する配置工程と、ダイシングテープに対するエキスパンドリングの突き上げ量と突き上げ速度を設定する拡張分割条件設定工程と、拡張分割条件設定工程によって設定された突き上げ量及び突き上げ速度で、ダイシングテープの裏面をエキスパンドリングによって突き上げてダイシングテープの拡張を開始し、ダイシングテープの拡張の際にダイシングテープを拡張規制リングに当接させてワークを個々のチップに分割する拡張分割工程と、を備え、拡張分割条件設定工程は、開口部の径が異なる複数の拡張規制リング毎に対応した拡張終了後のダイシングテープの目標拡張率に基づいて突き上げ量を設定する。   In order to achieve the object of the present invention, the work dividing method according to the present invention divides a work affixed to the dicing tape by fixing the outer peripheral portion of the dicing tape to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work. A method of dividing a workpiece into individual chips along a predetermined line, using an expanding ring formed in a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the ring-shaped frame and larger than the outer diameter of the workpiece. In a work dividing method in which the reverse side of the dicing tape opposite to the workpiece application surface is pushed up to the application surface side, the ring is formed in a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the ring frame and larger than the outer diameter of the expanded ring. Expansion restriction ring, one selected from a plurality of expansion retaining rings with different opening diameters Set by the placement process of placing the expansion restriction ring on the same side as the workpiece attachment surface on the dicing tape, the extended split condition setting process for setting the amount and speed of expansion of the expand ring with respect to the dicing tape, and the extended split condition setting process The expansion of the dicing tape is started by expanding the back surface of the dicing tape with the expanded ring at the specified amount and speed, and the dicing tape is brought into contact with the expansion regulating ring when expanding the dicing tape. An expansion division step for dividing the dicing tape into a plurality of expansion restriction rings having different opening diameters, and setting a push-up amount based on a target expansion rate of the dicing tape after expansion corresponding to each of the plurality of expansion restriction rings having different opening diameters. To do.

本発明の一態様は、拡張分割条件設定工程は、拡張規制リングの開口部の径が小さくなるに従って突き上げ量を小さく設定することが好ましい。   In one aspect of the present invention, it is preferable that in the extended division condition setting step, the push-up amount is set to be smaller as the diameter of the opening of the expansion restriction ring becomes smaller.

本発明の一態様は、ダイシングテープの拡張率の単位時間当たりの上昇率を拡張率速度とした場合、拡張分割条件設定工程は、最大拡張率速度が拡張分割工程において一定時間維持されるように、突き上げ速度を設定することが好ましい。   According to one aspect of the present invention, when the rate of increase of the dicing tape expansion rate per unit time is defined as the expansion rate speed, the expansion division condition setting step is performed so that the maximum expansion rate speed is maintained for a certain time in the expansion division step. It is preferable to set the pushing speed.

本発明によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。   According to the present invention, it is possible to solve the problem of undivision of the line to be divided that occurs when the chip size is a small chip.

ワーク分割装置の分割ステージの要部構造図Main part structure diagram of the division stage 図1に示した分割ステージの要部拡大斜視図The principal part expansion perspective view of the division | segmentation stage shown in FIG. 拡張規制リングの変形例を示した説明図Explanatory drawing which showed the modification of an expansion control ring 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの断面図Sectional view of the wafer unit showing the shape of the annular region during expansion ウェーハ分割方法の一例を示したフローチャートFlow chart showing an example of wafer splitting method ウェーハ分割方法の他の一例を示したフローチャートFlow chart showing another example of wafer splitting method 突き上げ量に対する拡張率の変化を算出したグラフA graph that calculates the change in expansion rate relative to the amount of push-up 拡張分割工程時の動作を示した概略図Schematic showing the operation during the extended division process 突き上げ速度に対する拡張率速度の変化を算出したグラフA graph that calculates the change in expansion rate relative to the push-up speed 突き上げ速度に対する拡張率速度の変化を算出したグラフA graph that calculates the change in expansion rate relative to the push-up speed 拡張分割条件設定工程を備えたワーク分割方法のフローチャートFlowchart of work dividing method including an extended dividing condition setting step ウェーハが貼付されたウェーハユニットの説明図Illustration of the wafer unit with a wafer attached ウェーハユニットの縦断面図Vertical section of wafer unit ワーク分割装置の要部側面図Side view of main part of work dividing device ワーク分割装置の動作図Operation diagram of work dividing device ウェーハが分割されたウェーハユニットの縦断面図Longitudinal cross section of wafer unit with wafer divided

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割方法の好ましい実施形態について詳説する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲であれば、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。   Hereinafter, preferred embodiments of a work dividing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions can be made to the following embodiments within the scope of the present invention.

図1は、ワーク分割装置10に備えられた分割ステージの要部縦断面図であり、図2は、分割ステージの要部拡大斜視図である。なお、ワーク分割装置10によって分割処理されるウェーハユニットのサイズは限定されるものではないが、実施形態では、図13に示した直径300mmのウェーハ1がマウントされたウェーハユニット2を例示する。   FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a main part of a division stage provided in the workpiece dividing apparatus 10, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the division stage. Although the size of the wafer unit divided by the workpiece dividing apparatus 10 is not limited, the embodiment exemplifies the wafer unit 2 on which the wafer 1 having a diameter of 300 mm shown in FIG. 13 is mounted.

ワーク分割装置10は、ウェーハ1を分割予定ライン5に沿って個々のチップ6に分割する装置である。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に複数本形成される。実施形態では、X方向と平行な分割予定ライン5の本数と、Y方向と平行な分割予定ライン5の本数とがそれぞれ300本でそれぞれの間隔が等しいウェーハ1、すなわち、チップサイズが1mmのチップ6に分割されるウェーハ1を例示する。   The workpiece dividing apparatus 10 is an apparatus that divides the wafer 1 into individual chips 6 along the division line 5. A plurality of division lines 5 are formed in the X and Y directions orthogonal to each other. In the embodiment, the number of the planned division lines 5 parallel to the X direction and the number of the planned division lines 5 parallel to the Y direction are 300, and the distance between them is equal, that is, a chip having a chip size of 1 mm. The wafer 1 divided | segmented into 6 is illustrated.

ウェーハ1は図1、図2の如く、フレーム4に外周部が固定されたダイシングテープ3の中央部に貼付される。ダイシングテープ3は、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の中央部領域3A、及び中央部領域3Aの外縁部とフレーム4の内縁部との間の平面視ドーナツ形状の環状部領域3Bを有する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the wafer 1 is attached to the center portion of a dicing tape 3 whose outer peripheral portion is fixed to the frame 4. The dicing tape 3 has a circular central portion region 3A to which the wafer 1 is attached, and an annular portion region 3B having a planar donut shape between the outer edge portion of the central portion region 3A and the inner edge portion of the frame 4. .

ウェーハ1の厚さは、例えば50μm程度である。また、ダイシングテープ3としては、例えばPVC(polyvinyl chloride:ポリ塩化ビニール)系のテープが使用される。なお、ウェーハ1をDAF(Die Attach Film)等のフィルム状接着材を介してダイシングテープ3に貼付してもよい。フィルム状接着材としては、例えばPO(polyolefin:ポリオレフィン)系のものを使用することができる。   The thickness of the wafer 1 is, for example, about 50 μm. Moreover, as the dicing tape 3, for example, a PVC (polyvinyl chloride) tape is used. The wafer 1 may be attached to the dicing tape 3 through a film adhesive such as DAF (Die Attach Film). As the film adhesive, for example, a PO (polyolefin) -based adhesive can be used.

ワーク分割装置10は、フレーム4を固定するフレーム固定部材7(図14参照:既存のフレーム固定部材)と、ダイシングテープ3の拡張の際にダイシングテープ3が当接される拡張規制リング16と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに下方側から当接されるエキスパンドリング14と、を備える。   The workpiece dividing device 10 includes a frame fixing member 7 for fixing the frame 4 (see FIG. 14: an existing frame fixing member), an expansion regulating ring 16 with which the dicing tape 3 abuts when the dicing tape 3 is expanded, And an expand ring 14 that comes into contact with the annular portion region 3B of the dicing tape 3 from below.

拡張規制リング16は、フレーム固定部材7とは別体で構成され、フレーム固定部材7の下面7Aに着脱自在に固定される。下面7Aに対する拡張規制リング16の着脱構造は、特に限定されるものでないが、一例としてボルトを使用した締結構造でもよく、クランプ機構によるクランプ構造でもよい。   The expansion restriction ring 16 is configured separately from the frame fixing member 7 and is detachably fixed to the lower surface 7A of the frame fixing member 7. The attachment / detachment structure of the expansion restriction ring 16 with respect to the lower surface 7A is not particularly limited, but may be a fastening structure using a bolt as an example, or a clamping structure using a clamping mechanism.

フレーム固定部材7は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、その下面7Aにフレーム4が拡張規制リング16を介して固定される。これにより、拡張規制リング16は、フレーム4とフレーム固定部材7との間に保持される。   The frame fixing member 7 is disposed on the same side of the dicing tape 3 as the application surface of the wafer 1, and the frame 4 is fixed to the lower surface 7 </ b> A via an expansion restriction ring 16. As a result, the expansion restricting ring 16 is held between the frame 4 and the frame fixing member 7.

また、フレーム固定部材7は、エキスパンドリング14によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。図2の如く、フレーム固定部材7の形状は、一例として直径が361mmの開口部7Bを有するリング状であるが、その形状は特に限定されるものではなく、拡張規制リング16が着脱自在に固定可能な形状であればよい。フレーム固定部材7としては、例えば、開口部7Bを有する矩形状の板状材を例示することもでき、フレーム4の外周に沿って所定の間隔で配置された複数の固定部材からなるフレーム固定部材を例示することもできる。これらの固定部材の内接円が、開口部7Bの直径と等しく設定される。   Further, the frame fixing member 7 is installed at a position spaced outward from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by an arrow A so as not to contact the annular portion region 3B expanded by the expand ring 14. Has been. As shown in FIG. 2, the shape of the frame fixing member 7 is, for example, a ring shape having an opening 7B having a diameter of 361 mm. However, the shape is not particularly limited, and the expansion restricting ring 16 is detachably fixed. Any shape is possible. As the frame fixing member 7, for example, a rectangular plate-like material having an opening 7 </ b> B can be exemplified, and a frame fixing member composed of a plurality of fixing members arranged at predetermined intervals along the outer periphery of the frame 4. Can also be illustrated. The inscribed circle of these fixing members is set equal to the diameter of the opening 7B.

エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレーム4の内径(350mm)よりも小さく、かつウェーハ1の外径(300mm)よりも大きい拡張用の開口部14Aを有するリング状に形成される。エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3の環状部領域3Bの裏面を貼付面側に突き上げて環状部領域3Bを拡張する。すなわち、エキスパンドリング14は、環状部領域3Bに対してダイシングテープ3の矢印Aで示す面内方向と直交するB方向に突き上げ移動される。これによって、環状部領域3Bがエキスパンドリング14に突き上げられて放射状に拡張される。なお、エキスパンドリング14を固定して、ウェーハユニット2を矢印C方向に下降移動させることにより、環状部領域3Bをエキスパンドリング14によって拡張してもよい。環状部領域3Bは、エキスパンドリング14による拡張の際に、拡張規制リング16に当接される。   The expand ring 14 is disposed on the back surface side of the dicing tape 3 opposite to the surface to which the wafer 1 is applied, and is used for expansion that is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter (300 mm) of the wafer 1. It is formed in a ring shape having an opening 14A. The expand ring 14 expands the annular portion region 3B by pushing up the back surface of the annular portion region 3B of the dicing tape 3 to the sticking surface side. That is, the expand ring 14 is pushed up and moved in the B direction orthogonal to the in-plane direction indicated by the arrow A of the dicing tape 3 with respect to the annular portion region 3B. As a result, the annular portion region 3B is pushed up by the expand ring 14 and radially expanded. Alternatively, the expanding ring 14 may be fixed and the wafer unit 2 moved downward in the direction of the arrow C to expand the annular portion region 3B with the expanding ring 14. The annular portion region 3 </ b> B comes into contact with the expansion restriction ring 16 during expansion by the expand ring 14.

拡張規制リング16は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、フレーム4の内径(350mm)よりも小さく、かつエキスパンドリング14の外径よりも大きい拡張規制用の開口部16Aを有するリング状に形成される。   The expansion restricting ring 16 is disposed on the same side as the bonding surface of the wafer 1 in the dicing tape 3 and is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter of the expanding ring 14. It is formed in a ring shape having

実施形態では、拡張規制リング16をフレーム固定部材7の下面7Aに着脱自在に設け、フレーム4とフレーム固定部材7との間に保持させた形態を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図3(A)に示す第1変形例の拡張規制リング17Aの如く、フレーム固定部材7の上面7Cに着脱自在に固定される形態であってもよい。更に、図3(B)に示す第2変形例の拡張規制リング17Bの如く、フレーム固定部材7の開口部7Bの内周部に着脱自在に固定される形態であってもよい。更に、フレーム固定部材7に対して離間した位置でワーク分割装置10の他の構成部材(不図示)に着脱自在に固定される形態であってもよい。   Although the embodiment has been described in which the expansion regulating ring 16 is detachably provided on the lower surface 7A of the frame fixing member 7 and is held between the frame 4 and the frame fixing member 7, it is not limited thereto. . For example, it may be configured to be detachably fixed to the upper surface 7C of the frame fixing member 7 as in the expansion restricting ring 17A of the first modification shown in FIG. Further, a configuration in which the frame is fixed to the inner peripheral portion of the opening 7B of the frame fixing member 7 in a detachable manner may be employed as in the expansion restriction ring 17B of the second modification shown in FIG. Furthermore, the form fixed to the other structural member (not shown) of the workpiece | work division | segmentation apparatus 10 in the position spaced apart with respect to the frame fixing member 7 may be sufficient.

図4は、エキスパンドリング14によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の縦断面図である。   FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the wafer unit 2 showing the shape of the annular portion region 3 </ b> B being expanded by the expand ring 14.

図4に示すように、エキスパンドリング14による環状部領域3Bの拡張の際に、環状部領域3Bが拡張規制リング16に当接される。具体的には、開口部16Aの内縁部16Bに環状部領域3Bが当接される。   As shown in FIG. 4, when the annular portion region 3 </ b> B is expanded by the expand ring 14, the annular portion region 3 </ b> B comes into contact with the expansion restriction ring 16. Specifically, the annular portion region 3B is brought into contact with the inner edge portion 16B of the opening portion 16A.

実施形態では、図1の如く、開口部16Aの径が338mmに設定されている。これにより、拡張規制リング16によって拡張が規制される外周側領域3Eの幅寸法が6mmに設定され、環状部領域3Bのうち外周側領域3Eを除く内周側領域3Fの幅寸法が19mmに設定される。   In the embodiment, as shown in FIG. 1, the diameter of the opening 16A is set to 338 mm. Thereby, the width dimension of the outer peripheral side area 3E whose expansion is restricted by the expansion restriction ring 16 is set to 6 mm, and the width dimension of the inner peripheral side area 3F excluding the outer peripheral side area 3E in the annular part area 3B is set to 19 mm. Is done.

ここで、環状部領域3Bのうち拡張規制リング16によって拡張が規制されない内周側領域3Fが、ウェーハ1の分割に実質的に寄与する領域となる。すなわち、内周側領域3Fの幅寸法を小さくするに従って、内周側領域3Fのバネ定数が大きくなるので、内周側領域3Fからウェーハ1に付与する張力を増大することができる。よって、内周側領域3Fの幅寸法は、分割予定ライン5の本数に応じて設定することが好ましい。   Here, in the annular portion region 3 </ b> B, the inner peripheral side region 3 </ b> F whose expansion is not restricted by the expansion restriction ring 16 is a region that substantially contributes to the division of the wafer 1. That is, as the width dimension of the inner peripheral region 3F is reduced, the spring constant of the inner peripheral region 3F is increased, so that the tension applied to the wafer 1 from the inner peripheral region 3F can be increased. Therefore, it is preferable to set the width dimension of the inner peripheral side region 3F in accordance with the number of division planned lines 5.

以下、図5のフローチャートに従って、ワーク分割装置10によるワーク分割方法の一例を説明する。このワーク分割方法は、固定工程と、配置工程と、拡張分割工程とを有する。また、拡張分割工程は、拡張開始工程と、拡張規制工程と、分割工程とからなる。   Hereinafter, an example of a workpiece dividing method by the workpiece dividing apparatus 10 will be described with reference to the flowchart of FIG. This work dividing method includes a fixing process, an arranging process, and an extended dividing process. The expansion division process includes an expansion start process, an expansion regulation process, and a division process.

まず、図5のステップS100において、図1の如く、ウェーハユニット2のフレーム4を、拡張規制リング16を介してフレーム固定部材7に固定する(固定工程、配置工程)。このとき、拡張規制リング16がフレーム固定部材7に対して離間して配置された場合には、拡張規制リング16の配置工程と、フレーム固定部材7による固定工程とを独立して行う。   First, in step S100 of FIG. 5, as shown in FIG. 1, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed to the frame fixing member 7 via the expansion restricting ring 16 (fixing step, arrangement step). At this time, when the expansion restricting ring 16 is disposed apart from the frame fixing member 7, the disposing step of the expansion restricting ring 16 and the fixing step by the frame fixing member 7 are performed independently.

次に、図5のステップS110において、エキスパンドリング14を図1の位置から矢印B方向に突き上げ移動させ、環状部領域3Bの全領域の拡張を開始する(拡張開始工程)。   Next, in step S110 in FIG. 5, the expand ring 14 is moved up in the direction of arrow B from the position in FIG. 1 to start expansion of the entire region of the annular portion region 3B (expansion start step).

次に、図5のステップS120において、エキスパンドリング14の突き上げ移動量が、フレーム4の厚さを超えると、環状部領域3Bが拡張規制リング16に当接する。このとき、図4の如く環状部領域3Bは、拡張規制リング16の内縁部16Bに当接した当接部3Dを境界として、外周側に位置する外周側領域3Eと、内周側に位置する内周側領域3Fとに分けられる。そして、環状部領域3Bのうち、外周側領域3Eの拡張が拡張規制リング16によって規制される(拡張規制工程)。   Next, in step S <b> 120 of FIG. 5, when the amount by which the expand ring 14 moves upward exceeds the thickness of the frame 4, the annular portion region 3 </ b> B comes into contact with the expansion restriction ring 16. At this time, as shown in FIG. 4, the annular portion region 3 </ b> B is located on the outer peripheral side region 3 </ b> E located on the outer peripheral side and the inner peripheral side with the contact portion 3 </ b> D contacting the inner edge portion 16 </ b> B of the expansion restriction ring 16 as a boundary. It is divided into an inner peripheral region 3F. In the annular portion region 3B, the expansion of the outer peripheral side region 3E is restricted by the expansion restricting ring 16 (expansion restricting step).

次に、図5のステップS130において、エキスパンドリング14の突き上げ移動を続行し、環状部領域3Bのうち、外周側領域3Eの拡張を規制しながら、外周側領域3Eを除く内周側領域3Fの拡張を継続して行うことにより、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する(分割工程)。この後、エキスパンドリング14の突き上げ移動を停止する。   Next, in step S130 of FIG. 5, the expanding movement of the expand ring 14 is continued, and in the annular portion region 3B, the expansion of the outer peripheral side region 3E is restricted, and the inner peripheral side region 3F excluding the outer peripheral side region 3E is controlled. By continuing the expansion, the wafer 1 is divided into individual chips 6 (division process). Thereafter, the push-up movement of the expand ring 14 is stopped.

分割工程(S130)において、環状部領域3Bが拡張規制リング16の内縁部16Bに当接した以降のエキスパンドリング14による拡張動作では、外周側領域3Eの拡張が拡張規制リング16によって規制され、内周側領域3Fのみが拡張されていく。つまり、環状部領域3Bのバネ定数よりも大きくなった内周側領域3Fのバネ定数の張力がウェーハ1に付与される。   In the dividing step (S130), in the expansion operation by the expand ring 14 after the annular portion region 3B contacts the inner edge portion 16B of the expansion restriction ring 16, the expansion of the outer peripheral side region 3E is restricted by the expansion restriction ring 16. Only the peripheral region 3F is expanded. That is, the tension of the spring constant of the inner peripheral region 3F that is larger than the spring constant of the annular portion region 3B is applied to the wafer 1.

具体的に説明すると、ウェーハ1の分割に寄与する環状部領域3Bの長さが25mm(環状部領域3Bの幅寸法)から19mm(内周側領域3Fの幅寸法)に短くなるので、バネ定数はそれに反比例して増大する。これにより、内周側領域3Fのみを拡張しても、内周側領域3Fのバネ定数は環状部領域3Bのバネ定数よりも大きいので、チップサイズが小チップ(1mm)であっても個々のチップ6に分割するだけの張力をウェーハ1に付与することができる。よって、ワーク分割装置10によれば、チップサイズが小チップ(1mm)の場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。   More specifically, the length of the annular portion region 3B that contributes to the division of the wafer 1 is shortened from 25 mm (width size of the annular portion region 3B) to 19 mm (width size of the inner peripheral region 3F). Increases inversely with it. As a result, even if only the inner peripheral region 3F is expanded, the spring constant of the inner peripheral region 3F is larger than the spring constant of the annular portion region 3B. A tension sufficient to divide the chip 6 can be applied to the wafer 1. Therefore, according to the workpiece dividing apparatus 10, it is possible to solve the problem of undivided division lines that occur when the chip size is a small chip (1 mm).

なお、環状部領域3Bの粘着層に線接触される拡張規制リング16の内縁部16Bには、一例として算術平均粗さ(Ra)が1.6(μm)となる表面加工が施されている。これにより、内縁部16Bと環状部領域3Bとの間の摩擦力によって、内縁部16Bと環状部領域3Bとが相対的に滑ることを防止することができる。また、内縁部16Bには、一例としてC0.2の面取り加工が行われている。これにより、環状部領域3Bから拡張力を受けた際に、その反力で環状部領域3Bが破れることを防止することができる。   The inner edge portion 16B of the expansion restricting ring 16 that is in line contact with the adhesive layer in the annular portion region 3B is subjected to surface processing with an arithmetic average roughness (Ra) of 1.6 (μm) as an example. . Thereby, it is possible to prevent the inner edge portion 16B and the annular portion region 3B from slipping relatively due to the frictional force between the inner edge portion 16B and the annular portion region 3B. In addition, the inner edge portion 16B is chamfered with C0.2 as an example. Thereby, when the expansion force is received from the annular portion region 3B, the annular portion region 3B can be prevented from being broken by the reaction force.

一方、ワーク分割装置10は、フレーム固定部材7に対して拡張規制リング16が着脱自在であるため、以下のワーク分割方法を特に採用することができる。   On the other hand, the work dividing apparatus 10 can employ the following work dividing method in particular because the expansion restriction ring 16 is detachable from the frame fixing member 7.

図6は、ワーク分割方法の他の一例を示すフローチャートである。   FIG. 6 is a flowchart illustrating another example of the work dividing method.

図6に示すワーク分割方法は、分割処理するウェーハ1に形成された分割予定ライン5の本数に基づいて、拡張規制リング16を使用するか否かを判断し、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する方法である。   The work dividing method shown in FIG. 6 determines whether or not to use the expansion restriction ring 16 based on the number of scheduled dividing lines 5 formed on the wafer 1 to be divided, and the wafer 1 is divided into individual chips 6. It is a method of dividing.

まず、図6のステップS200において、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の本数が規定数よりも多い場合には、つまり、ウェーハ1を分割する際に環状部領域3Bの拡張による張力以上の力を必要とする場合には、前述の如く、拡張規制リング16をフレーム固定部材7に取り付ける。そして、図5に示したステップS100の固定工程、ステップS110の拡張工程、ステップS120の拡張規制工程、及びステップS130の分割工程を経ることにより、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する。これにより、分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。   First, in step S200 of FIG. 6, when the number of division lines 5 formed on the wafer 1 is larger than the specified number, that is, when the wafer 1 is divided, the tension exceeds the tension due to the expansion of the annular region 3B. When force is required, the expansion restricting ring 16 is attached to the frame fixing member 7 as described above. Then, the wafer 1 is divided into individual chips 6 through the fixing process in step S100, the expansion process in step S110, the expansion regulation process in step S120, and the division process in step S130 shown in FIG. As a result, it is possible to solve the problem of undivided lines to be divided.

一方、図6のステップS200において、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の本数が規定数よりも少ない場合には、つまり、環状部領域3Bの拡張による張力でウェーハ1を分割可能な場合には、ステップS210において、拡張規制リング16をフレーム固定部材7から取り外す(拡張規制リング取り外し工程)。   On the other hand, in step S200 of FIG. 6, when the number of division lines 5 formed on the wafer 1 is less than the prescribed number, that is, when the wafer 1 can be divided by the tension due to the expansion of the annular region 3B. In step S210, the expansion restriction ring 16 is removed from the frame fixing member 7 (expansion restriction ring removal step).

次に、ステップS220において、フレーム固定部材7によってフレーム4を固定する(固定工程)。   Next, in step S220, the frame 4 is fixed by the frame fixing member 7 (fixing step).

次に、ステップS230において、エキスパンドリング14によって環状部領域3Bを拡張し、環状部領域3Bの張力でウェーハ1を個々のチップ6に分割する(拡張分割工程)。   Next, in step S230, the annular portion region 3B is expanded by the expanding ring 14, and the wafer 1 is divided into individual chips 6 by the tension of the annular portion region 3B (expansion dividing step).

分割予定ライン5の本数が規定数よりも少なく、拡張規制リング16を用いることなく分割可能なウェーハ1を、拡張規制リング16を用いて分割しようとすると、内周側領域3Fの高まった張力で分割予定ライン5が分割される他、チップ6自体も破損する虞がある。具体的には、直径300mmのウェーハ1において、分割予定ライン5の本数が60本でチップサイズが10mmのチップ6に分割するウェーハ1では、チップ6自体が破損する虞がある。よって、分割予定ライン5の本数が規定数よりも少なく、拡張規制リング16を用いることなく分割できるウェーハ1の場合には、拡張規制リング16をフレーム固定部材7から取り外してウェーハ1を個々のチップ6に分割することが好ましい。   When the number of the planned dividing lines 5 is less than the prescribed number and the wafer 1 that can be divided without using the expansion restriction ring 16 is divided using the expansion restriction ring 16, the increased tension of the inner peripheral region 3F is increased. In addition to dividing the planned dividing line 5, the chip 6 itself may be damaged. Specifically, in the wafer 1 having a diameter of 300 mm, the chip 6 itself may be damaged in the wafer 1 in which the number of division lines 5 is 60 and the chip 6 has a chip size of 10 mm. Therefore, in the case of the wafer 1 in which the number of division lines 5 is less than the prescribed number and can be divided without using the expansion restriction ring 16, the expansion restriction ring 16 is removed from the frame fixing member 7 and the wafer 1 is separated into individual chips. It is preferable to divide into 6.

なお、分割予定ライン5の規定数とは、ウェーハ1を個々のチップ6に分割するに際し、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる本数である。一例として、図13に示した直径300mmのウェーハ1の場合には、その規定数が600本に設定されている。   The prescribed number of division lines 5 is the number that requires a force greater than the tension due to expansion of the annular region 3B when dividing the wafer 1 into individual chips 6. As an example, in the case of the wafer 1 having a diameter of 300 mm shown in FIG. 13, the prescribed number is set to 600.

また、ワーク分割装置10では、開口部16Aの径が異なる複数の拡張規制リング16が揃えられおり、その中から選択した一つの拡張規制リング16が使用される。これにより、開口部16Aの径が変更可能となって、内周側領域3Fの幅寸法を変更することができるので、内周側領域3Fからウェーハ1に付与する張力を変更することができる。ウェーハ1には、分割予定ライン5の本数が異なる複数のものが存在するので、それらのウェーハ1の分割予定ライン5の本数に対応した、開口部16Aの径の異なる複数の拡張規制リング16を揃えておく。これにより、ウェーハ1の分割予定ライン5の本数に対応する一つの拡張規制リング16を、複数の拡張規制リング16の中から選択して使用することができる。開口部16Aの径としては、338mmの他、例えば346mm、342mm、334mmを例示することができる。   Moreover, in the workpiece | work division | segmentation apparatus 10, the some expansion control ring 16 from which the diameter of opening part 16A differs is prepared, and the one expansion control ring 16 selected from it is used. Thereby, the diameter of the opening 16A can be changed and the width dimension of the inner peripheral region 3F can be changed, so that the tension applied to the wafer 1 from the inner peripheral region 3F can be changed. Since there are a plurality of wafers 1 in which the number of division lines 5 is different, a plurality of expansion restriction rings 16 having different diameters of openings 16A corresponding to the number of division lines 5 in the wafer 1 are provided. Keep it aligned. Thereby, one expansion restriction ring 16 corresponding to the number of division lines 5 of the wafer 1 can be selected from a plurality of expansion restriction rings 16 and used. Examples of the diameter of the opening 16A include 346 mm, 342 mm, and 334 mm in addition to 338 mm.

これらの拡張規制リング16は、ワーク分割装置10に設けられたリング格納部(不図示)に予め格納しておくことが好ましい。リング格納部に格納された複数の拡張規制リング16のうち選択した一つの拡張規制リング16を、リング格納部から手作業にて取り出し、フレーム固定部材7に固定してもよく、リング格納部から搬送装置によって搬出し、ワーク分割装置10の分割ステージまで搬送してよい。また、リング格納部からの拡張規制リング16の搬出作業、拡張規制リング16の分割ステージまでの搬送作業、及び分割ステージにて拡張規制リング16をフレーム固定部材7に対する固定作業を自動化してもよい。   These expansion restricting rings 16 are preferably stored in advance in a ring storage unit (not shown) provided in the workpiece dividing device 10. One expansion restriction ring 16 selected from among the plurality of expansion restriction rings 16 stored in the ring storage part may be manually removed from the ring storage part and fixed to the frame fixing member 7. You may carry out by a conveying apparatus and may convey to the division | segmentation stage of the workpiece | work division apparatus 10. In addition, the work of carrying out the expansion restriction ring 16 from the ring storage unit, the conveyance work of the expansion restriction ring 16 to the split stage, and the work of fixing the expansion restriction ring 16 to the frame fixing member 7 at the split stage may be automated. .

また、フレーム固定部材7に対して拡張規制リング16が着脱可能なので、拡張規制リング16を備えていない既存(出荷済み)のワーク分割装置に拡張規制リング16を後付けすることができる。また、ウェーハ1の分割予定ライン5の本数に対応した拡張規制リング16を、既存のワーク分割装置に後付けすることもできる。これにより、既存のワーク分割装置を使用して、大きなチップから小さなチップまで処理することが可能となる。また、チップサイズが大チップの場合には、つまり、分割予定ライン5の本数が規定数よりも少ない場合には、拡張規制リング16を既存のワーク分割装置から取り外すことができる。   Further, since the expansion restriction ring 16 can be attached to and detached from the frame fixing member 7, the expansion restriction ring 16 can be retrofitted to an existing (shipped) work dividing apparatus that does not include the expansion restriction ring 16. Further, the expansion regulating ring 16 corresponding to the number of division lines 5 of the wafer 1 can be retrofitted to an existing workpiece dividing apparatus. Thereby, it is possible to process from a large chip to a small chip using an existing workpiece dividing device. When the chip size is a large chip, that is, when the number of division planned lines 5 is smaller than the prescribed number, the expansion regulating ring 16 can be removed from the existing workpiece dividing apparatus.

ところで、図5に示したS110〜S130の拡張分割工程では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割するために、フレーム4とエキスパンドリング14との相対位置(突き上げ量)及び相対速度(突き上げ速度)等の拡張分割条件を設定して分割処理を行う。   By the way, in the extended division process of S110 to S130 shown in FIG. 5, in order to divide the wafer 1 into individual chips 6, the relative position (push-up amount) and relative speed (push-up speed) between the frame 4 and the expand ring 14 are used. The division process is performed by setting an extended division condition such as.

開口部16Aの径が異なる複数の拡張規制リング16のうち一つの拡張規制リング16を選択使用するダイシング装置10の場合、突き上げ量と突き上げ速度を一定に設定して分割処理を行うと、以下の不具合が生じる。このため、拡張規制リング16毎に拡張分割条件を設定する必要がある。   In the case of the dicing apparatus 10 that selectively uses one expansion restriction ring 16 among the plurality of expansion restriction rings 16 having different diameters of the opening portion 16A, when the pushing amount and the pushing speed are set constant, the dividing process is performed as follows. A malfunction occurs. For this reason, it is necessary to set an expansion division condition for each expansion restriction ring 16.

突き上げ量を一定に設定した場合には、ダイシングテープ3の拡張終了後の拡張率が、選択した拡張規制リング16によって異なってしまう。   When the push-up amount is set to be constant, the expansion rate after the dicing tape 3 has been expanded varies depending on the selected expansion restriction ring 16.

ここで、ダイシングテープ3の拡張率を以下に定義する。   Here, the expansion rate of the dicing tape 3 is defined below.

〔拡張率E(%)〕
拡張率Eはフレーム4にダイシングテープ3のみが貼り付けられている状態での エキスパンド工程におけるテープ径の伸び率を表す。また、ダイシングテープ3の伸びは拡張が規制されない限り、均一であると考える。例えば、350mmの距離が380mmに伸びたとすると、その拡張率Eは、
{(380/350)−1}×100=8.6%となる。
[Expansion rate E (%)]
The expansion ratio E represents the elongation ratio of the tape diameter in the expanding process when only the dicing tape 3 is attached to the frame 4. Further, the elongation of the dicing tape 3 is considered to be uniform unless expansion is restricted. For example, if the distance of 350 mm extends to 380 mm, the expansion rate E is
{(380/350) -1} × 100 = 8.6%.

図1及び図4において拡張率Eは以下のように定義される。以下、3Aとは中央部領域3Aを指し、3Bとは環状部領域3Bを指す。   1 and 4, the expansion rate E is defined as follows. Hereinafter, 3A refers to the central region 3A, and 3B refers to the annular region 3B.

(i)ダイシングテープ3が拡張規制リング16に接触する前、あるいは拡張規制リング16が無い場合の拡張率E。   (i) The expansion rate E before the dicing tape 3 contacts the expansion restriction ring 16 or when there is no expansion restriction ring 16.

拡張率E={(拡張後の3B+3A+3B)/(拡張前の3B+3A+3B)−1}×100
本実施形態のフレーム4の場合、拡張前の3B+3A+3Bは350mmである。 この数式でダイシングテープ3が拡張規制リング16に接触した際の拡張率をEcとする。
Expansion rate E = {(3B + 3A + 3B after expansion) / (3B + 3A + 3B before expansion) −1} × 100
In the case of the frame 4 of this embodiment, 3B + 3A + 3B before expansion is 350 mm. In this equation, the expansion rate when the dicing tape 3 contacts the expansion restriction ring 16 is defined as Ec.

(ii)ダイシングテープ3が拡張規制リング16に接触した後の場合の拡張率E。   (ii) Expansion rate E when the dicing tape 3 comes into contact with the expansion restriction ring 16.

拡張率E=[(1+Ec/100)×{(拡張後の3F+3A+3F)/(規制リング接触時の3F+3A+3F)}−1]×100
これは拡張規制リング16に接触した時を境にして拡張される領域が3B+3A+3Bから3F+3A+3Fに変化するためである。
Expansion rate E = [(1 + Ec / 100) × {(3F + 3A + 3F after expansion) / (3F + 3A + 3F at the time of contact with the regulating ring)} − 1] × 100
This is because the area to be expanded changes from 3B + 3A + 3B to 3F + 3A + 3F when the expansion restriction ring 16 is touched.

図7のグラフは、エキスパンドリング14の突き上げ量を一定に設定した場合に、選択した拡張規制リング16によってダイシングテープ3の拡張率が異なることを示している。   The graph of FIG. 7 shows that the expansion rate of the dicing tape 3 varies depending on the selected expansion restriction ring 16 when the push-up amount of the expand ring 14 is set constant.

図7のグラフは、縦軸が拡張率(%)を示し、横軸が突き上げ量(mm)を示し、突き上げ量(mm)に対する拡張率(%)の変化が線A、B、Cに示されている。線Aは、拡張規制リング16を使用しない場合(開口部16Aの径が350mmに相当)のダイシングテープ3の拡張率(%)の変化を示し、線Bは、開口部16Aの径が342mmの拡張規制リング16を使用した場合のダイシングテープ3の拡張率(%)の変化を示し、線Cは、開口部16Aの径が338mmの拡張規制リング16を使用した場合のダイシングテープ3の拡張率(%)の変化を示している。   In the graph of FIG. 7, the vertical axis indicates the expansion rate (%), the horizontal axis indicates the push-up amount (mm), and changes in the expansion rate (%) with respect to the push-up amount (mm) are indicated by lines A, B, and C. Has been. Line A shows the change in the expansion rate (%) of the dicing tape 3 when the expansion regulating ring 16 is not used (the diameter of the opening 16A corresponds to 350 mm), and the line B has a diameter of the opening 16A of 342 mm. The change in the expansion rate (%) of the dicing tape 3 when the expansion restriction ring 16 is used is shown. A line C indicates the expansion rate of the dicing tape 3 when the expansion restriction ring 16 having the opening portion 16A having a diameter of 338 mm is used. (%) Change.

図8は、拡張分割工程時の動作を示した概略図であり、図8には線A、B、Cの拡張率(%)を算出するための各部材の寸法が示されている。図8によれば、フレーム4の内径D1が350mm、フレーム4の厚さtが1.5mm、拡張規制リング16の開口部16Aの径D2が342mm又は338mmであることが示されている。また、図8のxはエキスパンドリング14の突き上げ量(mm)を示している。更に、エキスパンドリング14の上端には、ダイシングテープ3との摩擦力を低減するローラ32が配置され、ローラ32の配置径D3が323.2mmであることが示されている。拡張率(%)の算出に当たっては通常の三角関数等の公式を使用した。また、線Aの拡張率(%)は、ローラ32の直径dを5mmとして算出し、線B、Cの拡張率(%)は、ローラ32の直径dを7mmとして算出した。   FIG. 8 is a schematic diagram showing the operation during the expansion division process, and FIG. 8 shows the dimensions of each member for calculating the expansion rate (%) of the lines A, B, and C. FIG. 8 shows that the inner diameter D1 of the frame 4 is 350 mm, the thickness t of the frame 4 is 1.5 mm, and the diameter D2 of the opening 16A of the expansion restriction ring 16 is 342 mm or 338 mm. Further, x in FIG. 8 indicates the push-up amount (mm) of the expand ring 14. Furthermore, a roller 32 for reducing the frictional force with the dicing tape 3 is disposed at the upper end of the expand ring 14, and it is shown that the arrangement diameter D3 of the roller 32 is 323.2 mm. In calculating the expansion rate (%), a formula such as a normal trigonometric function was used. The expansion rate (%) of the line A was calculated with the diameter d of the roller 32 as 5 mm, and the expansion rate (%) of the lines B and C was calculated with the diameter d of the roller 32 as 7 mm.

まず、ウェーハ1を個々のチップ6に円滑に分割するための拡張終了後の目標拡張率を設定する。本実施形態では、その目標拡張率を6.6%に設定した。なお、この目標拡張率は一例であり、6.6%に限定されるものではない。   First, a target expansion rate after the expansion for smoothly dividing the wafer 1 into individual chips 6 is set. In this embodiment, the target expansion rate is set to 6.6%. This target expansion rate is an example, and is not limited to 6.6%.

図7の如く、目標拡張率を6.6%に設定した場合、線Aで示す拡張規制リング16を使用しない形態では、20.0mmの突き上げ量xを必要とする。これに対し、線Bで示す拡張規制リング16を使用する形態では、エキスパンドリング14を20mm突き上げると、その時の拡張率は7.3%となる。また、線Cで示す拡張規制リング16を使用する形態では、エキスパンドリング14を20mm突き上げると、その時の拡張率は8.2%となる。つまり、拡張規制リング16を使用した場合には、拡張規制リング16を使用しない場合と比較して、拡張率が大きくなり目標拡張率を超えてしまう。これにより、ダイシングテープ3の拡張過多に起因して、分割したチップ6がダイシングテープ3から剥離すると言う問題が発生する場合がある。よって、開口部16Aの径に応じて突き上げ量xを変更する必要がある。   As shown in FIG. 7, when the target expansion rate is set to 6.6%, a push-up amount x of 20.0 mm is required in the form in which the expansion restriction ring 16 indicated by the line A is not used. On the other hand, in the form using the expansion restriction ring 16 indicated by the line B, when the expansion ring 14 is pushed up by 20 mm, the expansion rate at that time is 7.3%. Further, in the form using the expansion restriction ring 16 indicated by the line C, when the expansion ring 14 is pushed up by 20 mm, the expansion rate at that time is 8.2%. That is, when the expansion restriction ring 16 is used, the expansion rate becomes larger than the case where the expansion restriction ring 16 is not used and exceeds the target expansion rate. Thereby, due to excessive expansion of the dicing tape 3, there may be a problem that the divided chips 6 are peeled off from the dicing tape 3. Therefore, it is necessary to change the push-up amount x according to the diameter of the opening 16A.

そこで、本実施形態のワーク分割方法では、開口部16Aの径に関わらずエキスパンドリング14の突き上げ量xを一定に設定するのではなく、開口部16Aの径が異なる拡張規制リング16毎に突き上げ量xを設定する。具体的には、線Bで示す拡張規制リング16を使用する形態では、突き上げ量xを18.7mmに設定し、拡張終了後の拡張率を目標拡張率(6.6%)と等しくする。同様に、線Cで示す拡張規制リング16を使用する形態では、突き上げ量xを17.3mmに設定し、拡張終了後の拡張率を目標拡張率(6.6%)と等しくする。   Therefore, in the work dividing method of the present embodiment, the push-up amount x of the expand ring 14 is not set constant regardless of the diameter of the opening 16A, but the push-up amount for each expansion restriction ring 16 having a different diameter of the opening 16A. Set x. Specifically, in the form in which the expansion restriction ring 16 indicated by the line B is used, the push-up amount x is set to 18.7 mm, and the expansion rate after completion of expansion is made equal to the target expansion rate (6.6%). Similarly, in the embodiment using the expansion restriction ring 16 indicated by the line C, the push-up amount x is set to 17.3 mm, and the expansion rate after the expansion is made equal to the target expansion rate (6.6%).

以上の如く、本実施形態のワーク分割方法は、ウェーハ1を個々のチップ6に円滑に分割するための拡張終了後の目標拡張率に基づいて、開口部16Aの径が異なる拡張規制リング16毎に突き上げ量xを設定する。すなわち、拡張規制リング16の開口部16Aの径が小さくなるに従って突き上げ量xを小さく設定する。これにより、本実施形態のワーク分割方法によれば、開口部16Aの径が異なる拡張規制リング16を使用しても、全てのチップ6を円滑に分割することができる。よって、分割したチップ6がダイシングテープ3から剥離すると言う問題を解消することができる。   As described above, the work dividing method according to the present embodiment is based on the target expansion rate after the expansion for smoothly dividing the wafer 1 into the individual chips 6 for each expansion regulating ring 16 having a different diameter of the opening 16A. The push-up amount x is set to. That is, the push-up amount x is set smaller as the diameter of the opening 16A of the expansion restriction ring 16 becomes smaller. Thereby, according to the workpiece | work division | segmentation method of this embodiment, even if it uses the expansion control ring 16 from which the diameter of the opening part 16A differs, all the chip | tips 6 can be divided | segmented smoothly. Therefore, the problem that the divided chips 6 are peeled off from the dicing tape 3 can be solved.

一方、エキスパンドリング14の突き上げ速度が一定の場合、突き上げ速度が減速を開始する直前でダイシングテープ3の拡張率速度が最大(最大拡張率速度)となる。ここで、ダイシングテープ3の拡張率速度を以下に定義する。   On the other hand, when the push-up speed of the expand ring 14 is constant, the expansion rate speed of the dicing tape 3 becomes maximum (maximum expansion rate speed) immediately before the push-up speed starts to decelerate. Here, the expansion rate speed of the dicing tape 3 is defined as follows.

〔拡張率速度(%/sec)〕
拡張率速度=拡張率の単位時間当たりの上昇率
図9のグラフは、左縦軸が拡張率速度(%/sec)を示し、右縦軸が突き上げ速度(mm/sec)を示し、横軸が突き上げ量x(mm)を示し、エキスパンドリング14の突き上げ速度(mm/sec)に対する拡張率速度(%/sec)の変化が示されている。すなわち、図9の線Dが、エキスパンドリング14の突き上げ速度(%/sec)を示し、線Eが拡張率速度(%/sec)を示している。
[Expansion rate speed (% / sec)]
Expansion rate speed = rate of increase per unit time of expansion rate In the graph of FIG. 9, the left vertical axis indicates the expansion rate speed (% / sec), the right vertical axis indicates the push-up speed (mm / sec), and the horizontal axis Indicates the push-up amount x (mm), and the change of the expansion rate speed (% / sec) with respect to the push-up speed (mm / sec) of the expand ring 14 is shown. That is, the line D in FIG. 9 indicates the push-up speed (% / sec) of the expand ring 14, and the line E indicates the expansion rate speed (% / sec).

図9の如く、突き上げ速度(200mm/sec)が一定の場合には、突き上げ量xに応じて最大拡張率速度は上昇していく。そして、F点で示す最大拡張率速度(113(%/sec))に到達すると、突き上げ速度が減速を開始するので、拡張率速度が下降していく。よって、突き上げ速度が一定の場合には、最大拡張率速度に到達するのはF点での一瞬であり、この最大拡張率速度に到達した時点で、ダイシングテープ3の張力が最大となる。拡張分割工程では、最大拡張率速度を一定時間維持した状態、つまり、ダイシングテープ3の最大張力を一定時間維持した状態で分割処理を行うことが望ましいが、図9の如く、突き上げ速度が一定の場合には、F点での一瞬でしか最大拡張率速度を得ることができない。これにより、ダイシングテープ3の最大張力をウェーハ1に有効に伝達することができず、分割予定ラインの一部が分割されない場合がある。   As shown in FIG. 9, when the push-up speed (200 mm / sec) is constant, the maximum expansion rate speed increases according to the push-up amount x. When the maximum expansion rate speed (113 (% / sec)) indicated by point F is reached, the push-up speed starts decelerating, and the expansion rate speed decreases. Therefore, when the push-up speed is constant, the maximum expansion rate speed is reached at an instant at point F, and when the maximum expansion rate speed is reached, the tension of the dicing tape 3 becomes maximum. In the expansion division process, it is desirable to perform the division process in a state where the maximum expansion rate speed is maintained for a certain period of time, that is, in a state where the maximum tension of the dicing tape 3 is maintained for a certain period of time. In this case, the maximum expansion rate speed can be obtained only in an instant at point F. As a result, the maximum tension of the dicing tape 3 cannot be effectively transmitted to the wafer 1, and a part of the division planned line may not be divided.

そこで、本実施形態のワーク分割方法では、図10のグラフの如く、最大拡張率速度(113(%/sec))が拡張分割工程において一定時間維持されるように、突き上げ速度を設定する。   Therefore, in the work dividing method of the present embodiment, as shown in the graph of FIG. 10, the pushing speed is set so that the maximum expansion rate speed (113 (% / sec)) is maintained for a certain time in the expansion dividing process.

図10のグラフは、図9のグラフと同様に、左縦軸が拡張率速度(%/sec)を示し、右縦軸が突き上げ速度(mm/sec)を示し、横軸が突き上げ量(mm)を示し、エキスパンドリング14の突き上げ速度(mm/sec)に対する拡張率速度(%/sec)の変化が示されている。すなわち、図10の線Gが、エキスパンドリング14の突き上げ速度(mm/sec)を示し、線Hが拡張率速度(%/sec)を示している。   In the graph of FIG. 10, as with the graph of FIG. 9, the left vertical axis shows the expansion rate speed (% / sec), the right vertical axis shows the push-up speed (mm / sec), and the horizontal axis shows the push-up amount (mm ) And the change of the expansion rate speed (% / sec) with respect to the push-up speed (mm / sec) of the expand ring 14 is shown. That is, the line G in FIG. 10 indicates the push-up speed (mm / sec) of the expand ring 14, and the line H indicates the expansion rate speed (% / sec).

図10の線Gの如く、エキスパンドリング14の突き上げ速度を、突き上げ開始から突き上げ量5.0mmまで等速(400mm/sec)に設定する。そして、突き上げ量5.0mmから突き上げ量18.0mmまでの区間において、突き上げ速度を400mm/secから200mm/secに二次曲線状に減速する。   As indicated by the line G in FIG. 10, the push-up speed of the expand ring 14 is set to a constant speed (400 mm / sec) from the push-up start to the push-up amount of 5.0 mm. Then, in the section from the push-up amount 5.0 mm to the push-up amount 18.0 mm, the push-up speed is reduced to a quadratic curve shape from 400 mm / sec to 200 mm / sec.

これにより、本実施形態のワーク分割方法では、図10の線Hで示すように最大拡張率速度(113(%/sec))を、突き上げ量6.0mmから18.0mmまでの区間で安定して得ることができる。よって、本実施形態のワーク分割方法によれば、ダイシングテープ3の最大張力をウェーハ1に有効に伝達することができるので、分割予定ラインの一部が分割されないと言う問題を解消することができる。   As a result, in the work dividing method of the present embodiment, the maximum expansion rate speed (113 (% / sec)) is stabilized in the section from the push-up amount of 6.0 mm to 18.0 mm as indicated by the line H in FIG. Can be obtained. Therefore, according to the work dividing method of the present embodiment, the maximum tension of the dicing tape 3 can be effectively transmitted to the wafer 1, so that the problem that a part of the planned dividing line is not divided can be solved. .

なお、図10のグラフは、突き上げ量xを20.0mmに設定した場合の突き上げ速度の一例が示されているが、突き上げ量xを18.7mmに設定した場合(開口部16Aの径が342mmの拡張規制リング16を使用した場合)、又は突き上げ量xを17.3mmに設定した場合(開口部16Aの径が338mmの拡張規制リング16を使用した場合)においても、最大拡張率速度が拡張分割工程において一定時間維持されるように、突き上げ速度を設定することが好ましい。   The graph of FIG. 10 shows an example of the pushing speed when the pushing amount x is set to 20.0 mm. However, when the pushing amount x is set to 18.7 mm (the diameter of the opening 16A is 342 mm). The maximum expansion rate speed can be increased even when the expansion restriction ring 16 is used) or when the push-up amount x is set to 17.3 mm (when the expansion restriction ring 16 having a diameter of the opening 16A of 338 mm is used). It is preferable to set the push-up speed so that it is maintained for a certain time in the dividing step.

すなわち、本実施形態のワーク分割方法によれば、開口部16Aの径が異なる拡張規制リング16毎の最大拡張率速度が、拡張分割工程において一定時間維持されるように、突き上げ速度を設定することが好ましい。   That is, according to the work dividing method of the present embodiment, the push-up speed is set so that the maximum expansion rate speed for each expansion restriction ring 16 having a different diameter of the opening 16A is maintained for a certain time in the expansion dividing step. Is preferred.

図11は、図5に示したワーク分割方法の工程に、拡張分割条件設定工程(S105)を備えたワーク分割方法のフローチャートである。   FIG. 11 is a flowchart of the work dividing method in which an extended division condition setting step (S105) is added to the work dividing method shown in FIG.

図11の如く、本実施形態のワーク分割方法は、固定工程・配置工程(S100)と拡張開始工程(S110)との間に、拡張分割条件設定工程(S105)を備えている。この拡張分割条件設定工程(S105)では、開口部16Aの径が異なる複数の拡張規制リング16毎に対応した拡張終了後の拡張率に基づいて突き上げ量xを設定するので、開口部16Aの径が異なる拡張規制リング16を使用しても、全てのチップ6を円滑に分割することができる。これにより、分割したチップ6がダイシングテープ3から剥離すると言う問題を解消することができる。   As shown in FIG. 11, the work dividing method of this embodiment includes an extended dividing condition setting step (S105) between the fixing step / placement step (S100) and the expansion start step (S110). In this expansion division condition setting step (S105), the push-up amount x is set based on the expansion rate after completion of expansion corresponding to each of the plurality of expansion restriction rings 16 having different diameters of the opening 16A. Even if the expansion restricting rings 16 having different values are used, all the chips 6 can be divided smoothly. Thereby, the problem that the divided | segmented chip | tip 6 peels from the dicing tape 3 can be eliminated.

また、拡張分割条件設定工程(S105)では、最大拡張率速度が拡張分割工程において一定時間維持されるように、突き上げ速度を設定するので、分割予定ラインの一部が分割されないと言う問題を解消することができる。   Further, in the extended division condition setting step (S105), the push-up speed is set so that the maximum expansion rate speed is maintained for a certain time in the extended division step, so that the problem that a part of the division planned line is not divided is solved. can do.

なお、本実施形態のワーク分割方法によっても、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができることは当然である。   Of course, the work dividing method of the present embodiment can also solve the problem of undivided lines to be divided that occurs when the chip size is a small chip.

1…ウェーハ、2…ウェーハユニット、3…ダイシングテープ、3A…中央部領域、3B…環状部領域、3C…固定部領域、3D…当接部、3E…外周側領域、3F…内周側領域、3FA…内周側領域、3FB…内周側領域、4…フレーム、5…分割予定ライン、6…チップ、7…フレーム固定部材、8…エキスパンドリング、10…ワーク分割装置、14…エキスパンドリング、14A…開口部、16…拡張規制リング、16A…開口部、16B…内縁部、17A、17B、17C…拡張規制リング、20…拡張規制リング、20A…開口部、22…ウェーハ、24…チップ、26…拡張規制リング、26A…開口部、28…ウェーハ、30…チップ、32…ローラ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer, 2 ... Wafer unit, 3 ... Dicing tape, 3A ... Central part area | region, 3B ... Annular part area | region, 3C ... Fixed part area | region, 3D ... Contact part, 3E ... Outer peripheral side area, 3F ... Inner peripheral side area | region 3 FA: Inner peripheral side region, 3 FB: Inner peripheral side region, 4 ... Frame, 5 ... Divided line, 6 ... Chip, 7 ... Frame fixing member, 8 ... Expanding ring, 10 ... Work dividing device, 14 ... Expanding ring , 14A ... opening, 16 ... expansion regulating ring, 16A ... opening, 16B ... inner edge, 17A, 17B, 17C ... expansion regulating ring, 20 ... expansion regulating ring, 20A ... opening, 22 ... wafer, 24 ... chip , 26 ... Expansion restriction ring, 26A ... Opening, 28 ... Wafer, 30 ... Chip, 32 ... Roller

Claims (3)

ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状フレームにダイシングテープの外周部が固定され、前記ダイシングテープに貼付された前記ワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法であって、前記リング状フレームの内径よりも小さく、かつ前記ワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングを用いて、前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面を前記貼付面側に突き上げるワーク分割方法において、
前記リング状フレームの内径よりも小さく、かつ前記エキスパンドリングの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成された拡張規制リングであって、前記開口部の径が異なる複数の前記拡張保持リングの中から選択した一つの拡張規制リングを、前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と同一側に配置する配置工程と、
前記ダイシングテープに対する前記エキスパンドリングの突き上げ量と突き上げ速度を設定する拡張分割条件設定工程と、
前記拡張分割条件設定工程によって設定された前記突き上げ量及び前記突き上げ速度で、前記ダイシングテープの裏面を前記エキスパンドリングによって突き上げて前記ダイシングテープの拡張を開始し、前記ダイシングテープの拡張の際に前記ダイシングテープを前記拡張規制リングに当接させて前記ワークを個々のチップに分割する拡張分割工程と、を備え、
前記拡張分割条件設定工程は、前記開口部の径が異なる複数の前記拡張規制リング毎に対応した拡張終了後の前記ダイシングテープの目標拡張率に基づいて前記突き上げ量を設定する、ワーク分割方法。
A work dividing method in which an outer peripheral portion of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work pasted on the dicing tape is divided into individual chips along a predetermined division line. The expanding ring formed in a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the ring-shaped frame and larger than the outer diameter of the workpiece, In the work dividing method in which the back surface is pushed up to the pasting surface side,
A plurality of expansion holding rings formed in a ring shape having an opening smaller than an inner diameter of the ring-shaped frame and larger than an outer diameter of the expanding ring, wherein the diameters of the openings are different. Arrangement step of arranging one expansion restriction ring selected from among the attachment side of the work in the dicing tape,
An extended division condition setting step for setting the push-up amount and push-up speed of the expand ring with respect to the dicing tape;
The expansion of the dicing tape is started by pushing up the back surface of the dicing tape by the expanding ring with the push-up amount and the push-up speed set by the expansion division condition setting step, and the dicing tape is expanded when the dicing tape is expanded. An expansion division step of bringing the tape into contact with the expansion restriction ring and dividing the workpiece into individual chips, and
The expansion division condition setting step is a work division method in which the push-up amount is set based on a target expansion rate of the dicing tape after completion of expansion corresponding to each of the plurality of expansion restriction rings having different diameters of the openings.
前記拡張分割条件設定工程は、前記拡張規制リングの前記開口部の径が小さくなるに従って前記突き上げ量を小さく設定する、請求項1に記載のワーク分割方法。   The work dividing method according to claim 1, wherein, in the extended dividing condition setting step, the push-up amount is set to be smaller as the diameter of the opening of the expansion regulating ring becomes smaller. 前記ダイシングテープの拡張率の単位時間当たりの上昇率を拡張率速度とした場合、前記拡張分割条件設定工程は、最大拡張率速度が前記拡張分割工程において一定時間維持されるように、前記突き上げ速度を設定する、請求項1に記載のワーク分割方法。   When the rate of increase of the expansion rate of the dicing tape per unit time is defined as the expansion rate speed, the expansion division condition setting step includes the push-up speed so that the maximum expansion rate speed is maintained for a certain time in the expansion division step. The work dividing method according to claim 1, wherein:
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