JP2018154040A - Optical film, and transparent conductive film - Google Patents
Optical film, and transparent conductive film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018154040A JP2018154040A JP2017053296A JP2017053296A JP2018154040A JP 2018154040 A JP2018154040 A JP 2018154040A JP 2017053296 A JP2017053296 A JP 2017053296A JP 2017053296 A JP2017053296 A JP 2017053296A JP 2018154040 A JP2018154040 A JP 2018154040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical film
- metal oxide
- transparent substrate
- oxide particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光学フィルム及び透明導電性フィルムに関し、より詳細には、フロントガラス、サングラス、及び電気機器のディスプレイパネル等に好適に用いられる光学フィルム及び透明導電性フィルムに関する。 The present invention relates to an optical film and a transparent conductive film, and more particularly to an optical film and a transparent conductive film that are suitably used for windshields, sunglasses, and display panels of electrical equipment.
従来より、ディスプレイパネルなどに光学フィルムを設ける場合に生じるリタデーションを低下させるため、光学フィルムにおける基材としてシクロオレフィン系樹脂を含むフィルムを用いることが提案されている。シクロオレフィン系樹脂を含むフィルムは柔らかいため、これを保護するために、例えば特許文献1では、重量平均分子量が10000以上で、含有量が90重量%以下80重量%以上の高分子量成分を含む硬化樹脂層をシクロオレフィン系樹脂フィルムの表面に設けることが提案されている。
Conventionally, in order to reduce retardation generated when an optical film is provided on a display panel or the like, it has been proposed to use a film containing a cycloolefin resin as a base material in the optical film. In order to protect the film containing a cycloolefin resin, for example, in
しかし、特許文献1における硬化樹脂層は割れには強いが傷つきやすいという問題がある。傷つきを抑制するために硬化樹脂層の硬度を上げると、逆に割れが生じ易くなってしまい、例えば光学フィルムを巻回してロールにするためなどに屈曲させた場合、割れが生じてしまう可能性がある。
However, the cured resin layer in
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、シクロオレフィン系樹脂を含む透明基板を備える光学フィルムであって、傷が付きにくくでき、且つ屈曲させた際に割れが生じにくくできる光学フィルム、及びこの光学フィルムを備える透明導電性フィルムを提供することである。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is an optical film including a transparent substrate containing a cycloolefin-based resin, which can be hardly scratched and cracked when bent. It is providing the optical film which can make it hard to produce, and a transparent conductive film provided with this optical film.
本発明に係る光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有し、第1面及び前記第1面と反対側に位置する第2面を有する透明基板と、前記透明基板の第1面に設けられた第1層とを備え、前記第1層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、前記金属酸化物粒子は、その平均粒子径が10nm〜100nmの範囲内であり、前記金属酸化物粒子の含有量は、前記第1層の質量に対して、20質量%〜50質量%の範囲内である。 An optical film according to the present invention includes a cycloolefin resin, a transparent substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and provided on the first surface of the transparent substrate. A first layer, the first layer includes an acrylic resin and metal oxide particles, and the metal oxide particles have an average particle diameter in a range of 10 nm to 100 nm, and the metal oxide Content of an object particle exists in the range of 20 mass%-50 mass% with respect to the mass of the said 1st layer.
本発明に係る光学フィルムでは、前記第1層の厚みは、500nm〜10000nmの範囲内であってもよい。 In the optical film according to the present invention, the first layer may have a thickness in the range of 500 nm to 10000 nm.
本発明に係る光学フィルムでは、前記第1層は、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験でBより高い鉛筆硬度を有してもよい。 In the optical film according to the present invention, the first layer may have a pencil hardness higher than B in a pencil hardness test in accordance with JIS K5400.
本発明に係る光学フィルムでは、前記第1層中の金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子、及びアルミナ粒子のうち少なくとも一方の粒子を含んでもよい。 In the optical film according to the present invention, the metal oxide particles in the first layer may include at least one of silicon dioxide particles and alumina particles.
本発明に係る光学フィルムでは、前記透明基板の第2面に設けられたアンチブロッキング層を更に備えてもよく、前記アンチブロッキング層は、金属酸化物粒子を含んでもよい。 The optical film according to the present invention may further include an anti-blocking layer provided on the second surface of the transparent substrate, and the anti-blocking layer may include metal oxide particles.
本発明に係る光学フィルムでは、前記第1層の屈折率は1.50〜1.65の範囲内であってもよく、前記第1層の前記透明基材とは反対側に設けられた第2層を更に備えてもよく、前記第2層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含んでもよく、前記第2層は、厚みが10nm〜100nmの範囲内であり、且つ屈折率が1.65超1.95以下の範囲内であってもよい。 In the optical film according to the present invention, the refractive index of the first layer may be in the range of 1.50 to 1.65, and the first layer is provided on the opposite side of the transparent substrate from the transparent substrate. The second layer may further include an acrylic resin and metal oxide particles, the second layer has a thickness in the range of 10 nm to 100 nm, and has a refractive index. May be in the range of more than 1.65 and 1.95 or less.
本発明に係る透明導電性フィルムは、前記光学フィルムと、前記光学フィルムにおける前記第2層の前記透明基板とは反対側に設けられている無機層と、前記無機層の前記透明基板とは反対側に設けられている透明導電層とを備える。 The transparent conductive film according to the present invention is opposite to the optical film, an inorganic layer provided on the optical film opposite to the transparent substrate of the second layer, and the transparent substrate of the inorganic layer. And a transparent conductive layer provided on the side.
本発明によれば、傷が付きにくく、且つ屈曲させた際に割れが生じにくくさせた光学フィルム及び透明導電性フィルムを得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain an optical film and a transparent conductive film that are hardly scratched and that are less likely to be cracked when bent.
以下、本発明を実施するための形態を説明する。 Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described.
<光学フィルム>
本実施形態に係る光学フィルム1を、図1を参照して説明する。
<Optical film>
The
光学フィルム1は、透明のフィルムであり、透明基板2を備える。透明基板2は、その厚さ方向において、第1面2aと、この第1面2aと反対側に位置する第2面2bとを有する。そして、透明基板2は、シクロオレフィン系樹脂を含有する。透明基板2がシクロオレフィン系樹脂を含有することで、透明基板2を光が通過する際に生じるリタデーションを軽減することができる。透明基板2に含有されるシクロオレフィン系樹脂の量は特に限定されない。透明基板2は、例えばシクロオレフィン系樹脂のみを含有できる。
The
シクロオレフィン系樹脂は、その分子中の主鎖のうち、少なくとも一部に環状オレフィン構造が含まれた樹脂である。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン系単量体を含む原料単量体の重合体である。このような原料単量体は、シクロオレフィン系単量体のみを含んでもよく、或いはシクロオレフィン系単量体以外に、エチレンやプロピレン等のエチレン性不飽和単量体を含んでもよい。シクロオレフィン系単量体は、ノルボルネン骨格を有することが好ましく、この場合、シクロオレフィン系樹脂はノルボルネン系樹脂を含むことが好ましい。ノルボルネン系樹脂は、透明基板2の、透明性を向上させると共にヘイズを低下させることができ、さらにリタデーションを軽減させることができる。
The cycloolefin-based resin is a resin in which a cyclic olefin structure is included in at least a part of the main chain in the molecule. That is, the cycloolefin resin is a polymer of a raw material monomer containing a cycloolefin monomer. Such a raw material monomer may contain only a cycloolefin monomer, or may contain an ethylenically unsaturated monomer such as ethylene or propylene in addition to the cycloolefin monomer. The cycloolefin monomer preferably has a norbornene skeleton. In this case, the cycloolefin resin preferably contains a norbornene resin. The norbornene-based resin can improve the transparency of the
光学フィルム1は、透明基板2の第1面2aに設けられた第1層3を備える。この第1層3は、透明の層であって、透明基板2の第1面2aと接触していてもよい。また、第1層3は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含む。第1層3がアクリル系樹脂を含むことにより、第1層3に適度な柔軟性を付与することができ、光学フィルム1を屈曲させても光学フィルム1を割れにくくさせることができる。また、第1層3が金属酸化物粒子を含むことにより、第1層3に硬さを付与することができ、これにより、光学フィルム1は傷が付きにくくなる。第1層3の厚みは、500nm〜10000nmの範囲内であることが好ましい。この場合、第1層3は、硬さと柔軟性との両方を有することができる。特に、第1層3の厚みは、800nm〜1200nmの範囲内であることが好ましい。
The
第1層3は、透明基板2よりも高い硬度を有することが好ましい。特に、第1層3の鉛筆硬度はBより高いことが好ましい。本実施形態の鉛筆硬度は、例えば、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験により得られる。
The
アクリル系樹脂は、例えば(メタ)アクリル基を有する化合物を含む不飽和化合物の重合体を含むものである。不飽和化合物は、(メタ)アクリル基を有する化合物と共重合可能な他の単量体(以下、単量体(A)という)も含むことができる。 Acrylic resin contains the polymer of the unsaturated compound containing the compound which has a (meth) acryl group, for example. An unsaturated compound can also contain the other monomer (henceforth a monomer (A)) copolymerizable with the compound which has a (meth) acryl group.
アクリル系樹脂は、例えば熱硬化型樹脂組成物、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂組成物、又は電子線硬化型樹脂組成物から形成されてもよい。これらのうち、紫外線硬化型樹脂組成物は、アクリル系樹脂を得る際の利便性から好適である。また、任意の重合開始剤により不飽和化合物から重合体を形成できる。この重合開始剤は、ラジカルを生成して重合反応を開始するものであるとよい。このようなラジカルは、重合開始剤の性状に応じた紫外線照射、加熱、電子線照射等の任意の処理を施すことで生成される。 The acrylic resin may be formed from, for example, a thermosetting resin composition, a thermoplastic resin, an ultraviolet curable resin composition, or an electron beam curable resin composition. Among these, the ultraviolet curable resin composition is preferable from the convenience of obtaining an acrylic resin. Moreover, a polymer can be formed from an unsaturated compound by arbitrary polymerization initiators. This polymerization initiator is preferably one that generates radicals to initiate the polymerization reaction. Such radicals are generated by performing an arbitrary treatment such as ultraviolet irradiation, heating, or electron beam irradiation according to the properties of the polymerization initiator.
アクリル系樹脂が熱硬化型樹脂組成物から形成される場合、この熱硬化型樹脂組成物は不飽和化合物と、重合開始剤となる有機過酸化物とを含むことができる。有機過酸化物としては、例えばt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α,α’−ジ(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンが挙げられる。 When the acrylic resin is formed from a thermosetting resin composition, the thermosetting resin composition can include an unsaturated compound and an organic peroxide serving as a polymerization initiator. Examples of the organic peroxide include t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, α, α′-di (t-butylperoxide). Oxy) diisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane.
アクリル系樹脂が紫外線硬化型樹脂組成物から形成される場合、この紫外線硬化型樹脂組成物は、不飽和化合物と、重合開始剤となる光重合開始剤及び光増感剤のうち少なくとも一方の成分とを含むことができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。光増感剤としては、例えばn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンが挙げられる。 When the acrylic resin is formed from an ultraviolet curable resin composition, the ultraviolet curable resin composition includes at least one component of an unsaturated compound, a photopolymerization initiator serving as a polymerization initiator, and a photosensitizer. Can be included. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, and thioxanthones. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.
(メタ)アクリル基を有する化合物は、例えば(メタ)アクリレート基を有する樹脂を含むことができる。このような樹脂としては、例えば、比較的低分子量の多官能化合物と、(メタ)アクリレートとのオリゴマーやプレポリマーが挙げられる。多官能化合物としては、例えばポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、及び多価アルコールが挙げられる。 The compound having a (meth) acryl group can include, for example, a resin having a (meth) acrylate group. Examples of such resins include oligomers and prepolymers of relatively low molecular weight polyfunctional compounds and (meth) acrylates. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols.
単量体(A)は、(メタ)アクリル基を有する化合物と異なる化合物であって、組成物中の反応性希釈剤となり得る。単量体(A)としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、及びN−ビニルピロリドン等の単官能モノマー;並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、及びネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。 The monomer (A) is a compound different from the compound having a (meth) acryl group, and can be a reactive diluent in the composition. Monomers (A) include, for example, monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone; and trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexane Diol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate And polyfunctional monomers of neopentyl glycol di (meth) acrylate.
アクリル系樹脂が熱可塑型樹脂から形成される場合、熱可塑型樹脂は、不飽和化合物の重合体を含むものであって、加熱で溶融し、且つ冷却で再硬化するような性質を有する樹脂であるとよい。 When the acrylic resin is formed from a thermoplastic resin, the thermoplastic resin includes a polymer of an unsaturated compound, and has a property of being melted by heating and re-cured by cooling. It is good to be.
また、アクリル系樹脂は、不飽和化合物の重合体と任意の溶媒とを含むバインダー組成物の乾燥硬化物であってもよい。この場合、バインダー組成物と金属酸化物粒子との混合物から第1層3が形成される。このような混合物は、例えば湿式で透明基板2の第1面2aに成膜される。
The acrylic resin may be a dried and cured product of a binder composition containing a polymer of an unsaturated compound and an arbitrary solvent. In this case, the
第1層3に含まれる金属酸化物粒子は、その平均粒子径が10nm〜100nmの範囲内であり、好ましくは20nm〜50nmの範囲内である。平均粒径が10nm以上であることで光学フィルム1の傷付きを抑制することができ、平均粒径が100nm以下であることで金属酸化物粒子を起点とする光学フィルム1の割れを抑制できる。このため、光学フィルム1の割れを抑制しながら、光学フィルム1の傷つきを抑制できる。本実施形態の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法で測定される粒度分布から算出される体積基準の算術平均値である。
The metal oxide particles contained in the
また、金属酸化物粒子の含有量は、第1層3の質量に対して、20質量%〜50質量%の範囲内であり、より好ましくは30質量%〜40質量%の範囲内である。この含有量が20質量%以上であることで光学フィルム1の傷付きを抑制することができ、含有量が50質量%以下であることで金属酸化物粒子を起点とする光学フィルム1の割れを抑制するとともに金属酸化物粒子によって光学フィルム1の透明性が損なわれにくくできる。このため、光学フィルム1の割れを抑制しながら、光学フィルム1の傷つきを抑制し、更に光学フィルム1の良好な透明性を維持できる。
Further, the content of the metal oxide particles is in the range of 20% by mass to 50% by mass, more preferably in the range of 30% by mass to 40% by mass with respect to the mass of the
第1層3中の金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子、及びアルミナ粒子のうち少なくとも一方の粒子を含むことが好ましい。これらの粒子は、光学フィルム1の傷付き抑制に特に寄与できる。
The metal oxide particles in the
第1層3を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を透明基板2の第1面2aに塗布する。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で透明基板2の第1面2aに塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、透明基板2の第1面2aで成膜される。
In forming the
混合物を塗布する際、透明基板2の第1面2aに直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。
When applying the mixture, the mixture may be applied directly to the
混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を透明基板2の第1面2a上で硬化させることで、第1層3を形成できる。
When the mixture includes an unsaturated compound and a polymerization initiator, the polymerization reaction of the unsaturated compound is started by applying a treatment according to the properties of the polymerization initiator, and the applied mixture is transferred to the first surface of the
また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を透明基板2の第1面2a上で乾燥硬化させることで、第1層3を形成できる。
When the mixture includes a binder composition, the
また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で透明基板2の第1面2aに直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、第1層3を形成できる。また、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成してもよい。そして、シート状の混合物を透明基板2の第1面2aに設置して積層体を作製し、この積層体に、例えば加熱プレス、又は加熱ロールを施すことで、第1層3は透明基板2と一体に形成されてもよい。
Moreover, when the polymer of an unsaturated compound is contained in a thermoplastic resin, you may heat-knead a thermoplastic resin and a metal oxide particle, and may produce a mixture. Then, the mixture may be directly applied to the
また、第1層3を形成する前段階で、透明基板2の第1面2aを、予めエッチング処理で粗化する工程を含んでもよい。この場合、透明基板2と第1層3との密着性を向上させることができる。エッチング処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、及びフレーム処理などの物理的表面処理;並びにカップリング剤、酸、又はアルカリ剤による化学的表面処理が挙げられる。
In addition, a step of roughening the
光学フィルム1は、第1層3の透明基材2とは反対側に設けられた第2層4を含むことができる。すなわち、透明基板2、第1層3及び第2層4が、この順で積層しているとよい。このような第2層4は、透明の層であって、第1層3の表面と接触していてもよい。
The
第2層4は、第1層3よりも高い屈折率を有する。光学フィルム1が第2層4を備えると、光学フィルム1と透明導電層7とが重なる場合に、透明導電層7を視認されにくくできる。
The
光学フィルム1が第2層4を備える場合、第1層3の屈折率は1.50〜1.65の範囲内であることが好ましい。一方、第2層4の屈折率は1.65超1.95以下の範囲内であり、厚みは10nm〜100nmの範囲内であることが好ましい。この場合、光学フィルム1は、透明導電層7を特に視認されにくくできる。
When the
また、第2層4は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含むことができる。この場合、金属酸化物粒子の平均粒子径は、20〜50nmの範囲内であることが好ましい。
Further, the
第2層4が金属酸化物粒子を含むと、第2層4の屈折率は、上記の範囲に調整されやすくなる。第2層4中の金属酸化物粒子は、例えば、二酸化珪素粒子、アルミナ粒子、及びジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも1種の粒子を含むことができる。特に第2層4は、ジルコニア粒子を金属酸化物粒子として含むことが好ましい。上記の粒子以外に第2層4に適した粒子があれば、この粒子も金属酸化物粒子として用いることができる。また、金属酸化物粒子の含有量は、第2層4の質量に対して、50質量%〜60質量%の範囲内であることが好ましい。
When the
また、第2層4がアクリル系樹脂を含む場合、このアクリル系樹脂は、第1層3に用いるためのアクリル系樹脂と同じであってもよい。この場合、第2層4に適度な柔軟性を付与することができる。
Further, when the
第2層4を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を、第1層3の厚み方向で第2面2bとは反対側に位置する、第1層3の表面に塗布することができる。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で第1層3の表面に塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、第1層3の表面で成膜される。
In forming the
混合物を塗布する際、第1層3の表面に直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。
When applying the mixture, the mixture may be applied directly to the surface of the
混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を第1層3の表面上で硬化させることで、第2層4を形成できる。
When the mixture contains an unsaturated compound and a polymerization initiator, the polymerization reaction of the unsaturated compound is started by applying a treatment according to the properties of the polymerization initiator, and the applied mixture is placed on the surface of the
また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を第1層3の表面上で乾燥硬化させることで、第2層4を形成できる。
When the mixture includes a binder composition, the
また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で第1層3の表面に直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、第2層4を形成できる。また、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成してもよい。そして、シート状の混合物を第1層3の表面に設置して積層体を作製し、この積層体に、例えば加熱プレス、又は加熱ロールを施すことで、第2層4は、第1層3及び透明基板2と一体に形成されてもよい。
Moreover, when the polymer of an unsaturated compound is contained in a thermoplastic resin, you may heat-knead a thermoplastic resin and a metal oxide particle, and may produce a mixture. Then, the mixture may be directly applied to the surface of the
光学フィルム1は、透明基板2の第2面2bに設けられたアンチブロッキング層5を含むことができる。アンチブロッキング層5は、透明の層であって、透明基板2の第2面2bと接触してもよい。アンチブロッキング層5は、その外表面(露出面)に凹凸構造が形成されている。アンチブロッキング層5の外表面は、アンチブロッキング層5の厚み方向で透明基板2の第2面2bとは反対側に位置する。
The
アンチブロッキング層5が設けられた光学フィルム1は、その製造工程で、例えば、ロール状に巻き取ったり、所定の大きさに切断されたりされる。このような光学フィルム1は、上下に積み重ねられた場合に、アンチブロッキング層5の凹凸構造が、上下の光学フィルム1、1が互いに貼りつきにくくできる。このような凹凸構造で貼りつきにくくさせるような光学フィルム1の性質を、アンチブロッキング性ともいう。
In the manufacturing process, the
アンチブロッキング層5にアンチブロッキング性を付与するために、アンチブロッキング層5に金属酸化物粒子を含ませることができる。この場合、金属酸化物粒子によりアンチブロッキング層5の外表面に凹凸構造が形成される。
In order to impart antiblocking properties to the
アンチブロッキング層5中の金属酸化物粒子は、例えば二酸化珪素粒子、アルミナ粒子、及びジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも1種の粒子を含むことができる。特に金属酸化物粒子は、二酸化珪素粒子を含むことが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径は、50nm〜5000nmの範囲内であることが好ましい。
The metal oxide particles in the
アンチブロッキング層5が金属酸化物粒子を含む場合、アンチブロッキング層5も光学フィルム1の傷付きを抑制できる。アンチブロッキング層5の質量に対する、金属酸化物粒子の含有量は、アンチブロッキング層5が光学フィルム1の傷つき抑制に十分に寄与できると共にアンチブロッキング性を付与させるような、所定含有量に設定され得る。金属酸化物粒子の含有量は、例えば、アンチブロッキング層5の質量に対して、5〜40質量%の範囲内であることが好ましい。
When the
また、アンチブロッキング層5は、光学フィルム1の傷つき抑制に十分に寄与できるような所定厚さに設定されていることが好ましく、具体的には、500〜10000nmの範囲内の厚さに設定設定されていることが好ましい。
In addition, the
アンチブロッキング層5は、金属酸化物粒子以外に、アクリル系樹脂を更に含むこともできる。このアクリル系樹脂は、第1層3に用いるためのアクリル系樹脂と同じであってもよい。この場合、アンチブロッキング層5に適度な柔軟性を付与することができる。
The
アンチブロッキング層5を形成するにあたって、例えば不飽和化合物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を、透明基板2の第2面2bに塗布することができる。また、不飽和化合物の重合体を含むバインダー組成物と、金属酸化物粒子とを含む混合物を湿式で透明基板2の第2面2bに塗布してもよい。このようにして塗布された混合物が、透明基板2の第2面2bで成膜される。
In forming the
混合物を塗布する際、透明基板2の第2面2bに直接混合物を塗布してもよい。混合物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。
When applying the mixture, the mixture may be applied directly to the
混合物が不飽和化合物と重合開始剤とを含む場合、この重合開始剤の性状に応じた処理を施すことにより不飽和化合物の重合反応を開始させ、塗布された混合物を透明基板2の第2面2b上で硬化させることで、アンチブロッキング層5を形成できる。
When the mixture includes an unsaturated compound and a polymerization initiator, the polymerization reaction of the unsaturated compound is started by applying a treatment according to the properties of the polymerization initiator, and the applied mixture is then transferred to the second surface of the
また、混合物がバインダー組成物を含む場合、塗布された混合物を透明基板2の第2面2b上で乾燥硬化させることで、アンチブロッキング層5を形成できる。
When the mixture includes a binder composition, the
また、不飽和化合物の重合体が熱可塑型樹脂に含まれる場合、熱可塑型樹脂と、金属酸化物粒子とを加熱混錬して混合物を作製してもよい。そして、この混合物をワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法等の塗布方法で透明基板2の第2面2bに直接混合物を塗布してもよい。このようにして塗布された混合物を冷却して硬化させることで、アンチブロッキング層5を形成できる。また、アンチブロッキング性を付与する観点から、加熱混錬で得られた混合物を、予めシート状に形成しないことが好ましい。
Moreover, when the polymer of an unsaturated compound is contained in a thermoplastic resin, you may heat-knead a thermoplastic resin and a metal oxide particle, and may produce a mixture. Then, the mixture may be directly applied to the
<透明導電性フィルム>
次に透明導電性フィルム10を、図2を参照して説明する。
<Transparent conductive film>
Next, the transparent
本実施形態に係る透明導電性フィルム10は、光学フィルム1を含むものである。このため、図2で符号が付けられた構成のうち、図1と同じ符号の構成については、光学フィルム1の説明を参照することができる。
The transparent
透明導電性フィルム10は、無機層6と、透明導電層7とを更に含むことができる。この場合、無機層6は、第2層4の、透明基板2とは反対側に設けられ得る。また、透明導電層7は、無機層6の、透明基板2とは反対側に設けられ得る。この場合、第2層4、無機層6及び透明導電層7が、この順で積層されているとよい。
The transparent
無機層6は、例えば電気絶縁性を有する金属酸化物から作製される。金属酸化物は、例えば二酸化珪素、及びアルミナからなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含むことができるが、これらに限られない。 The inorganic layer 6 is made of, for example, a metal oxide having electrical insulation. The metal oxide can include, but is not limited to, at least one compound selected from the group consisting of, for example, silicon dioxide and alumina.
無機層6は、光学フィルム1と透明導電層7との密着性を向上できる。また、第1層3、第2層4及び無機質層6がこの順に積層していることで、透明導電層7を特に視認されにくくできる。無機層6は、第2層4に接触して形成されている。
The inorganic layer 6 can improve the adhesion between the
無機層6の厚みは、10〜30nmの範囲内であることが好ましい。この場合、透明導電層7の平面視形状を、光学フィルム1越しで、より視認させにくくできる。すなわち、平面視形状が付与されている透明導電層7を備える透明導電性フィルム10を観察した場合に、透明導電層7がある領域と無い領域との色相差を生じ難くできる。
The inorganic layer 6 preferably has a thickness in the range of 10 to 30 nm. In this case, the planar view shape of the transparent
無機層6の屈折率は、1.3〜1.5の範囲内であることが好ましい。この場合、透明導電層7の平面視形状を、光学フィルム1越しで、より視認させにくくできる。すなわち、平面視形状が付与されている透明導電層7を備える透明導電性フィルム10を観察した場合に、透明導電層7がある領域と無い領域との色相差を生じ難くできる。
The refractive index of the inorganic layer 6 is preferably in the range of 1.3 to 1.5. In this case, the planar view shape of the transparent
無機層6を形成するにあたって、例えば金属酸化物を含む蒸着材料を任意の蒸着方法により薄膜に形成することができる。蒸着方法としては、例えばスパッタ蒸着法、及び真空蒸着法が挙げられる。 In forming the inorganic layer 6, for example, a vapor deposition material containing a metal oxide can be formed into a thin film by any vapor deposition method. Examples of the vapor deposition method include a sputter vapor deposition method and a vacuum vapor deposition method.
また、無機層6は、例えばシリコンアルコキシド系化合物を含有する組成物から形成されてもよい。この場合、シリコンアルコキシド系化合物を含有する組成物を湿式で第2層4に薄く塗布し、塗布された組成物を硬化させて薄膜の無機層6を形成することができる。組成物が硬化する際、組成物中のシリコンアルコキシド系化合物から加水分解縮合物を形成できる。この場合、シリコンアルコキシド系化合物の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理を施すことができる。
Moreover, the inorganic layer 6 may be formed from the composition containing a silicon alkoxide type compound, for example. In this case, a thin film inorganic layer 6 can be formed by applying a thin composition containing a silicon alkoxide compound to the
シリコンアルコキシド系化合物としては、例えば、シリコンアルコキシド;並びにシリコンアルコキシドの部分的加水分解物であるオリゴマー及びポリマーが挙げられる。シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシランが挙げられる。 Examples of the silicon alkoxide compound include silicon alkoxides; and oligomers and polymers that are partial hydrolysates of silicon alkoxides. Examples of the silicon alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, Methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyl Le propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane.
組成物の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法が挙げられる。 Examples of the method for applying the composition include a wire bar coating method, a roll coating method, a spin coating method, and a curtain coating method.
透明導電層7は、無機層6に接触して形成されていることが好ましい。透明導電層7は、導電性を有する金属酸化物から作製される。金属酸化物は、例えばインジウムスズ酸化物(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ZnO、及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)の群から選択される少なくとも1種の化合物を含むことができるが、これらに限られない。特に、透明導電層7は、その主成分としてインジウムスズ酸化物を含むことが好ましい。透明導電層7の厚みは、例えば10〜60nmの範囲内である。
The transparent
透明導電層7を形成するにあたって、例えば導電性を有する金属酸化物を、任意の蒸着方法により無機層6の表面に成膜させる。蒸着方法としては、例えば、スパッタ蒸着法、及び真空蒸着法が挙げられる。また、透明導電層7は、その目的に応じて、任意の平面視形状を有する。例えば透明導電層7にエッチング処理を施すこで、透明導電層7に平面視形状を付与できる。
In forming the transparent
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
まず、厚み50μmのノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製、品番:COP ZF16−050)に、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコート法で塗布した。続いて、塗布されたアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を60℃で1分間加熱することにより乾燥させ、乾燥されたアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物に紫外線を500mJ/cm2の条件で照射した。これにより、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させて、厚み1μmの試験塗膜を作製した。そして、この試験塗膜とノルボルネン系樹脂フィルムとを有する試験片を、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物の選定試験に用いた。試験片の両端が重なり合うようにして試験片を180°折り曲げて、ノルボルネン系樹脂フィルムに破断が、試験塗膜に割れが生じているか否かを目視で確認した。このような選定試験で、ノルボルネン系樹脂フィルムの破断と、試験塗膜の割れとが生じなかったアクリル系紫外線硬化型樹脂組成物を、下記の各実施例及び比較例に用いた。 First, an acrylic ultraviolet curable resin composition was applied to a norbornene resin film having a thickness of 50 μm (manufactured by Zeon Corporation, product number: COP ZF16-050) by a wire bar coating method. Subsequently, the applied acrylic ultraviolet curable resin composition was dried by heating at 60 ° C. for 1 minute, and the dried acrylic ultraviolet curable resin composition was irradiated with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm 2 . . As a result, the acrylic ultraviolet curable resin composition was cured to prepare a test coating film having a thickness of 1 μm. And the test piece which has this test coating film and a norbornene-type resin film was used for the selection test of an acrylic type ultraviolet curable resin composition. The test piece was bent 180 ° so that both ends of the test piece overlapped, and it was visually confirmed whether or not the norbornene-based resin film was broken and the test coating film was cracked. In such a selection test, an acrylic ultraviolet curable resin composition in which breakage of the norbornene-based resin film and cracking of the test coating film did not occur was used in the following examples and comparative examples.
[実施例1]
透明基材としては、厚み100μmのノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製、品番:COP ZF16−100)を用いた。ノルボルネン系樹脂フィルムのリタデーションを後掲の表に示す。
[Example 1]
As the transparent substrate, a norbornene resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., product number: COP ZF16-100) having a thickness of 100 μm was used. The retardation of the norbornene resin film is shown in the following table.
ノルボルネン系樹脂フィルムは、その厚み方向で第1面と、この第1面とは反対側に位置する第2面とを有する。ノルボルネン系樹脂フィルムの第1面及び第2面のうち、第1面に第1層(ハードコート層)を下記にようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子(平均粒子径20nm)とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子の合計量に対して、35質量%のシリカ粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、ノルボルネン系樹脂フィルムの第1面に、ワイヤーバーコーター#6を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を60℃で1分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を500mJ/cm2の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み1.0μmの第1層を形成した。この第1層の屈折率と厚みと鉛筆硬度とを、後掲の表に示す。 The norbornene-based resin film has a first surface in the thickness direction and a second surface located on the opposite side to the first surface. Of the first and second surfaces of the norbornene resin film, the first layer (hard coat layer) was formed on the first surface as follows. First, an ultraviolet curable mixture was prepared by mixing an acrylic ultraviolet curable resin composition and silica particles (average particle diameter 20 nm). In the stage of preparing this mixture, 35% by mass of silica particles was blended with respect to the total amount of the acrylic ultraviolet curable resin composition and the silica particles in terms of solid content. The mixture thus obtained was applied to the first surface of the norbornene-based resin film using a wire bar coater # 6. Subsequently, the applied mixture was dried by heating at 60 ° C. for 1 minute, and the dried mixture was irradiated with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm 2 . Thereby, the mixture was cured to form a first layer having a thickness of 1.0 μm. The refractive index, thickness, and pencil hardness of this first layer are shown in the table below.
次に、第1層の表面に第2層(光学調整層)を下記のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とジルコニア粒子(平均粒子径20nm)とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とジルコニア粒子の合計量に対して、55質量%のジルコニア粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、第1層の表面に、ワイヤーバーコーター#3を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を100℃で1分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を500mJ/cm2の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み60nmの第2層を形成した。この第2層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
Next, a second layer (optical adjustment layer) was formed on the surface of the first layer as follows. First, an ultraviolet curable mixture was prepared by mixing an acrylic ultraviolet curable resin composition and zirconia particles (average particle size 20 nm). In the stage of preparing this mixture, 55% by mass of zirconia particles was blended with respect to the total amount of the acrylic ultraviolet curable resin composition and zirconia particles in terms of solid content. The mixture thus obtained was applied to the surface of the first layer using a wire
次に、ノルボルネン系樹脂フィルムの第2面にアンチブロッキング層を下記にようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子(平均粒子径100nm)とを混合することで、紫外線硬化型の混合物を調製した。この混合物を調製する段階において、固形分換算で、アクリル系紫外線硬化型樹脂組成物とシリカ粒子の合計量に対して、40質量%のシリカ粒子を配合した。このようにして得られた混合物を、ノルボルネン系樹脂フィルムの第2面に、ワイヤーバーコーター#6を用いて塗布した。続いて、塗布された混合物を60℃で1分間加熱することにより乾燥させ、乾燥された混合物に紫外線を500mJ/cm2の条件で照射した。これにより、混合物を硬化させて、厚み1.0μmのアンチブロッキング層(AB層)を形成した。 Next, an antiblocking layer was formed on the second surface of the norbornene resin film as follows. First, an ultraviolet curable mixture was prepared by mixing an acrylic ultraviolet curable resin composition and silica particles (average particle size 100 nm). In the step of preparing this mixture, 40% by mass of silica particles was blended with respect to the total amount of the acrylic ultraviolet curable resin composition and the silica particles in terms of solid content. The mixture thus obtained was applied to the second surface of the norbornene-based resin film using a wire bar coater # 6. Subsequently, the applied mixture was dried by heating at 60 ° C. for 1 minute, and the dried mixture was irradiated with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm 2 . Thereby, the mixture was cured to form an anti-blocking layer (AB layer) having a thickness of 1.0 μm.
以上により、光学フィルムを得た。 Thus, an optical film was obtained.
[実施例2]
第1層を形成する際に、シリカ粒子の割合を35質量%にした以外は、実施例1と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Example 2]
When forming the first layer, an optical film was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1 except that the proportion of silica particles was 35% by mass.
[実施例3]
第1層を形成する際に、シリカ粒子の割合を20質量%にした以外は、実施例1と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Example 3]
When forming the first layer, an optical film was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1 except that the proportion of silica particles was 20% by mass.
[実施例4]
第1層を形成する際に、平均粒子径が10nmのシリカ粒子に変更した以外は、実施例2と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Example 4]
When the first layer was formed, an optical film was obtained by the same method and the same conditions as in Example 2 except that the average particle diameter was changed to silica particles having a particle size of 10 nm.
[実施例5]
第1層を形成する際に、平均粒子径が100nmのシリカ粒子に変更した以外は、実施例2と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Example 5]
When the first layer was formed, an optical film was obtained by the same method and the same conditions as in Example 2 except that the average particle diameter was changed to silica particles having a diameter of 100 nm.
[実施例6]
第1層を形成する際に、シリカ粒子をアルミナ粒子(平均粒子径20nm)に変更した以外は、実施例2と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Example 6]
When forming the first layer, an optical film was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 2 except that the silica particles were changed to alumina particles (average particle diameter 20 nm).
[比較例1]
第1層を形成する際に、シリカ粒子を配合しなかった以外は、実施例1と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
When forming the first layer, an optical film was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1 except that the silica particles were not blended.
[比較例2]
第1層を形成する際に、平均粒子径が120nmのシリカ粒子に変更した以外は、実施例2と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
When the first layer was formed, an optical film was obtained by the same method and the same conditions as in Example 2 except that the average particle diameter was changed to silica particles having a diameter of 120 nm.
[比較例3]
第1層を形成する際に、シリカ粒子の割合を65質量%にした以外は、実施例1と同じ方法及び同じ条件で、光学フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
When forming the first layer, an optical film was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1 except that the proportion of silica particles was 65% by mass.
[評価試験]
各実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、次の評価試験を実施した。その結果を、後掲の表に示す。
[Evaluation test]
The optical film obtained in each example and comparative example was subjected to the following evaluation test. The results are shown in the table below.
(ヘイズ測定)
光学フィルムのヘイズを、ヘイズメータ(日本電色工業株式会社製、型番NDH2000)を使用して測定した。
(Haze measurement)
The haze of the optical film was measured using a haze meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., model number NDH2000).
(全光線透過率測定)
光学フィルムの全光線透過率を、ヘイズメータ(日本電色工業株式会社製、型番NDH2000)を使用して測定した。
(Total light transmittance measurement)
The total light transmittance of the optical film was measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., model number NDH2000).
(鉛筆硬度)
第1層の鉛筆硬度は、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験で評価された。
(Pencil hardness)
The pencil hardness of the first layer was evaluated by a pencil hardness test in accordance with JIS K5400.
(屈曲性)
光学フィルムの両端が重なり合うようにして光学フィルムを180°折り曲げて、その折り目に割れが生じているか否かを目視で評価した。後掲の表において、「A」は、折り目に割れが生じていなかった場合を示し、「C」は折り目に割れが生じていた場合を示す。
(Flexibility)
The optical film was folded 180 ° so that both ends of the optical film overlapped, and it was visually evaluated whether or not a crack occurred in the fold. In the table below, “A” indicates a case where no crack is generated in the fold, and “C” indicates a case where a crack is generated in the fold.
1 光学フィルム
2 透明基板
2a 第1面
2b 第2面
3 第1層
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記透明基板の第1面に設けられた第1層とを備え、
前記第1層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、
前記金属酸化物粒子は、その平均粒子径が10nm〜100nmの範囲内であり、
前記金属酸化物粒子の含有量は、前記第1層の質量に対して、20質量%〜50質量%の範囲内である、
光学フィルム。 A transparent substrate containing a cycloolefin resin and having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
A first layer provided on the first surface of the transparent substrate,
The first layer includes an acrylic resin and metal oxide particles,
The metal oxide particles have an average particle diameter in the range of 10 nm to 100 nm,
The content of the metal oxide particles is in the range of 20% by mass to 50% by mass with respect to the mass of the first layer.
Optical film.
請求項1に記載の光学フィルム。 The thickness of the first layer is in the range of 500 nm to 10000 nm.
The optical film according to claim 1.
請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The first layer has a pencil hardness higher than B in a pencil hardness test according to JIS K5400.
The optical film according to claim 1.
請求項1から3のいずれか1項に記載の光学フィルム。 The metal oxide particles in the first layer include at least one of silicon dioxide particles and alumina particles.
The optical film of any one of Claim 1 to 3.
前記アンチブロッキング層は、金属酸化物粒子を含む、
請求項1から4のいずれか1項に記載の光学フィルム。 An anti-blocking layer provided on the second surface of the transparent substrate;
The anti-blocking layer includes metal oxide particles.
The optical film of any one of Claim 1 to 4.
前記第1層の前記透明基板とは反対側に設けられた第2層を更に備え、
前記第2層は、アクリル系樹脂と、金属酸化物粒子とを含み、
前記第2層は、厚みが10nm〜100nmの範囲内であり、且つ屈折率が1.65超1.95以下の範囲内である、
請求項1から5のいずれか1項に記載の光学フィルム。 The refractive index of the first layer is in the range of 1.50 to 1.65,
A second layer provided on the opposite side of the first layer from the transparent substrate;
The second layer includes an acrylic resin and metal oxide particles,
The second layer has a thickness in the range of 10 nm to 100 nm and a refractive index in the range of more than 1.65 and not more than 1.95.
The optical film of any one of Claim 1 to 5.
前記光学フィルムにおける前記第2層の前記透明基板とは反対側に設けられている無機層と、
前記無機層の前記透明基板とは反対側に設けられている透明導電層とを備える、
透明導電性フィルム。 The optical film according to claim 6;
An inorganic layer provided on the side opposite to the transparent substrate of the second layer in the optical film;
A transparent conductive layer provided on the opposite side of the inorganic layer from the transparent substrate,
Transparent conductive film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053296A JP2018154040A (en) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | Optical film, and transparent conductive film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053296A JP2018154040A (en) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | Optical film, and transparent conductive film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018154040A true JP2018154040A (en) | 2018-10-04 |
Family
ID=63715981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017053296A Pending JP2018154040A (en) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | Optical film, and transparent conductive film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018154040A (en) |
-
2017
- 2017-03-17 JP JP2017053296A patent/JP2018154040A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI409306B (en) | Hard coating | |
TWI453767B (en) | Transparent conductive laminates and touch panels | |
KR101051226B1 (en) | Optical film | |
TWI244979B (en) | Film for optical applications | |
JP6404372B2 (en) | Wavelength conversion member, backlight unit, image display device, and method of manufacturing wavelength conversion member | |
JP4958609B2 (en) | Antiglare hard coat film and method for producing the same | |
JP4008203B2 (en) | Optical film | |
KR20030038485A (en) | Optical film | |
JP2006235125A (en) | Anti-reflection film and manufacturing method thereof | |
JP2008110550A (en) | Anti-glare hard coat film | |
TWI389798B (en) | An anti-reflectance film | |
JP4144143B2 (en) | Anti-reflective film or sheet | |
KR101067534B1 (en) | Optical film | |
TW201542384A (en) | Laminate, transparent conductive laminate, and touch panel | |
JP2008019358A (en) | Coating material for forming transparent film, and base material with transparent film | |
JP5861089B2 (en) | Antireflection member and image display device | |
JP2015227934A (en) | Antireflection film, polarizing plate, and image display device | |
JP4351450B2 (en) | Method for producing hard coat film | |
JP6460471B2 (en) | Laminated body, polarizing plate, and image display device | |
JP2007086521A (en) | Antireflection laminate | |
JP2018154040A (en) | Optical film, and transparent conductive film | |
JP2013174787A (en) | Optical member | |
JP2005257840A (en) | Film for optics | |
WO2010087290A1 (en) | Anti-reflection film | |
JP2008197670A (en) | Method for manufacturing antireflection film, or antireflection sheet |