JP2018151502A - Optical scanner and image forming apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ(LBP)やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ(MFP)等の画像形成装置に好適なものである。 The present invention relates to an optical scanning device, and is particularly suitable for an image forming apparatus such as a laser beam printer (LBP), a digital copying machine, or a multifunction printer (MFP).
近年、光走査装置の小型化を達成するために、複数の光束を主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で偏向器に入射させ、その複数の光束により複数の被走査面を走査する構成が提案されている。
特許文献1は、そのような光走査装置において、像面湾曲を低減するように結像光学素子の形状を設計することを開示している。
In recent years, in order to achieve miniaturization of an optical scanning device, a plurality of light beams are incident on a deflector at different angles in the main scanning section and the sub-scanning section, and a plurality of scanned surfaces are formed by the plurality of light beams. A configuration for scanning is proposed.
Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228561 discloses designing the shape of the imaging optical element so as to reduce the curvature of field in such an optical scanning device.
しかしながら、特許文献1では、複数の光束を互いに異なる角度で偏向器に入射させることに伴って発生する走査線湾曲について何ら検討されていない。
そこで、本発明は、小型化及び像面湾曲低減を達成しつつ、さらに走査線湾曲も低減することができる光走査装置を提供することを目的とする。
However, in
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical scanning device that can reduce the curvature of the scanning line while reducing the size and reducing the curvature of field.
本発明に係る光走査装置は、第1及び第2の光源から出射する第1及び第2の光束を第1の偏向面により偏向して第1及び第2の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第1及び第2の光束を第1及び第2の被走査面に導光する第1及び第2の結像光学素子と、を備え、第1及び第2の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で第1の偏向面に入射しており、第1の光束の第1の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、第2の光束の第1の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、主走査方向における各位置での第1の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での第2の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする。 The optical scanning device according to the present invention deflects the first and second light beams emitted from the first and second light sources by the first deflecting surface so that the first and second scanned surfaces are in the main scanning direction. A deflector for scanning, and first and second imaging optical elements for guiding the first and second light beams deflected by the deflector to the first and second scanned surfaces, The second light flux is incident on the first deflection surface at different angles in the main scanning section and the sub-scanning section, and the incident position of the first light flux on the first deflection surface is the same. The difference between the maximum value and the minimum value of the height in the sub-scanning direction is larger than the difference between the maximum value and the minimum value of the height of the incident position of the second light beam on the first deflection surface in the sub-scanning direction. The maximum of the average values of the inclinations in the sub-scan section of the entrance surface and exit surface of the first imaging optical element at each position in the main scanning direction is large. The difference between the value and the minimum value is based on the difference between the maximum value and the minimum value of the average values of the inclinations in the sub-scan section of the incident surface and the exit surface of the second imaging optical element at each position in the main scanning direction. Is also large.
本発明によれば、小型化及び像面湾曲低減を達成しつつ、さらに走査線湾曲も低減することができる光走査装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical scanning device capable of reducing the scanning line curve while achieving downsizing and field curvature reduction.
以下、本実施形態に係る光走査装置について図面に基づいて説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。 Hereinafter, the optical scanning device according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. It should be noted that the drawings shown below may be drawn at a scale different from the actual scale so that the present embodiment can be easily understood.
なお、以下の説明において、主走査方向(Y方向)は、偏向器の回転軸及び光学系の光軸(X方向)に垂直な方向に対応し、副走査方向(Z方向)は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、副走査方向に垂直な断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。 In the following description, the main scanning direction (Y direction) corresponds to the direction perpendicular to the rotation axis of the deflector and the optical axis (X direction) of the optical system, and the sub-scanning direction (Z direction) is the deflector. Corresponds to the direction parallel to the rotation axis. The main scanning section corresponds to a section perpendicular to the sub scanning direction, and the sub scanning section corresponds to a section perpendicular to the main scanning direction.
[第一実施形態]
図1(a)は、第一実施形態に係る光走査装置10の主走査断面図を示している。図1(b)は、第一実施形態に係る光走査装置10が備える入射光学系111a及び111bの副走査断面図を示している。図1(c)は、第一実施形態に係る光走査装置10が備える結像光学系112a及び112bの副走査断面図を示している。
[First embodiment]
FIG. 1A shows a main scanning sectional view of the
本実施形態に係る光走査装置10は、光源101a(第1の光源)及び101b(第2の光源)、副走査絞り102a及び102b、コリメータレンズ103a及び103b、シリンドリカルレンズ104a及び104b、主走査絞り105a及び105bを備えている。また、光走査装置10は、偏向器106、第1のfθレンズ107、第2のfθレンズ108a(第1の結像光学素子)及び108b(第2の結像光学素子)、防塵ガラス109a及び109b、反射部材115、116、117及び118を備えている。
The
光源101a及び101bとしては、例えば、複数の発光点を有する半導体レーザーなどが用いられる。
副走査絞り102a及び102bはそれぞれ、光源101a及び101bより射出された光束LA(第1の光束)及びLB(第2の光束)の副走査方向の光束径を制限する。
コリメータレンズ103a及び103bはそれぞれ、光源101a及び101bより出射した光束LA及びLBを平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
シリンドリカルレンズ104a及び104bはそれぞれ、副走査断面内に有限のパワー(屈折力)を有しており、コリメータレンズ103a及び103bを通過した光束LA及びLBを副走査方向に集光する。
主走査絞り105a及び105bはそれぞれ、シリンドリカルレンズ104a及び104bを通過した光束LA及びLBの主走査方向の光束径を制限する。
As the
The sub-scan stops 102a and 102b limit the beam diameters in the sub-scanning direction of the light beams LA (first light beam) and LB (second light beam) emitted from the
The
Each of the
The main scanning stops 105a and 105b limit the light beam diameters in the main scanning direction of the light beams LA and LB that have passed through the
このようにして、光源101a及び101bから出射した光束LA及びLBは、偏向器106の偏向面106a(第1の偏向面)の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
なお、副走査絞り102a、コリメータレンズ103a、シリンドリカルレンズ104a及び主走査絞り105aによって、本実施形態に係る光走査装置10の第1の入射光学系111aが構成される。
また、副走査絞り102b、コリメータレンズ103b、シリンドリカルレンズ104b及び主走査絞り105bによって、本実施形態に係る光走査装置10の第2の入射光学系111bが構成される。
In this way, the light beams LA and LB emitted from the
The
The
主走査断面内において、入射光学系111aの光軸が結像光学系112aの光軸に対してなす角度、及び入射光学系111bの光軸が結像光学系112bの光軸に対してなす角度はそれぞれ、86度及び80度である。
すなわち、光源101a及び101bそれぞれから出射した光束LA及びLBは、主走査断面内において、互いに異なった角度で偏向器106に入射している。
また、副走査断面内において、入射光学系111a及び111bの光軸それぞれが主走査断面に対してなす角度は2.2度及び−2.2度である。
すなわち、光源101a及び101bそれぞれから出射した光束LA及びLBは、副走査断面内において、互いに異なった角度で偏向器106に入射している。
In the main scanning section, an angle formed by the optical axis of the incident
That is, the light beams LA and LB emitted from the
In the sub-scan section, the angles formed by the optical axes of the incident
That is, the light beams LA and LB emitted from the
ここで、第1の入射光学系111a及び第2の入射光学系111bをまとめて入射光学系111と呼ぶ場合がある。
Here, the first incident
偏向器106は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印A方向に回転して、光束LA及びLBをそれぞれ、被走査面110a及び110bに向けて偏向する。例えば、偏向器106は、ポリゴンミラーなどで構成される。
第1のfθレンズ107、第2のfθレンズ108a及び108bは、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズであり、偏向器106によって偏向された光束LA及びLBを被走査面110a及び110b上に集光(導光)する。
また、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面は、後述するように、副走査断面内の傾き(チルト)が主走査方向の位置に応じて変化する副走査チルト変化面となっている。
The
The
In addition, the incident surfaces and the exit surfaces of the
反射部材115、116、117及び118は、光束を反射する手段であり、蒸着ミラーなどが用いられる。
防塵ガラス109a及び109bは、光走査装置10の内部へのゴミ等の侵入を防ぐために設けられており、平行平板などで構成される。
The reflecting
The dust-
なお、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ108aによって、本実施形態に係る光走査装置10の第1の結像光学系112aが構成される。
また、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ108bによって、本実施形態に係る光走査装置10の第2の結像光学系112bが構成される。
そして、第1の結像光学系112a及び第2の結像光学系112bをまとめて結像光学系112と呼ぶ場合がある。
The
Further, the
The first imaging
光源101aから出射した光束LAは、副走査絞り102aを通過し、コリメータレンズ103aによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LAは、シリンドリカルレンズ104aによって副走査方向に集光され、主走査絞り105aを通過し、副走査方向下側から偏向器106の偏向面106aに入射する。
また、光源101bから出射した光束LBは、副走査絞り102bを通過し、コリメータレンズ103bによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LBは、シリンドリカルレンズ104bによって副走査方向に集光され、主走査絞り105bを通過し、副走査方向上側から偏向器106の偏向面106aに入射する。
The light beam LA emitted from the
The light beam LB emitted from the
そして、光源101aから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LAは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ108aを通過し、反射部材115で反射されることによって被走査面110a(第1の被走査面)上に集光され、被走査面110aを等速度で走査する。
また、光源101bから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LBは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ108bを通過し、反射部材116、117及び118で反射されることによって被走査面110b(第2の被走査面)上に集光され、被走査面110bを等速度で走査する。
Then, the light beam LA emitted from the
Further, the light beam LB emitted from the
なお、偏向器106は図中A方向に回転しているため、偏向走査された光束LA及びLBはそれぞれ、被走査面110a及び110bを図中B方向に走査する。
Since the
本実施形態では、被走査面110a及び110bとして、感光ドラムを用いている。
また、感光ドラム110a及び110b上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム110a及び110bを副走査方向に回転させることによって達成している。
In this embodiment, photosensitive drums are used as the scanned
Also, the creation of the exposure distribution in the sub-scanning direction on the
次に、本実施形態に係る光走査装置10の入射光学系111a、111b及び結像光学系112a、112bの諸特性をそれぞれ以下の表1乃至表3に示す。
Next, various characteristics of the incident
なお、表1乃至表3において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、X軸、Y軸及びZ軸としている。また、表1及び表3において、「E−x」は、「×10-x」を意味している。 In Tables 1 to 3, the optical axis direction, the axis orthogonal to the optical axis in the main scanning section, and the optical axis in the sub-scanning section when the intersection of each lens surface and the optical axis is the origin. The orthogonal axes are the X axis, Y axis, and Z axis, respectively. In Tables 1 and 3, “E-x” means “× 10 −x ”.
本実施形態では、コリメータレンズ103a及び103bは、球面レンズであり、その形状は、以下の式(1)で表される。
また、第1のfθレンズ107、第2のfθレンズ108a及び108bそれぞれのレンズ面の主走査断面内における非球面形状(母線形状)は、以下の式(2)で表される。
また、第1のfθレンズ107、第2のfθレンズ108a及び108bそれぞれのレンズ面の副走査断面内における非球面形状(子線形状)は、以下の式(3)で表される。
また、副走査断面内の曲率半径r’は、レンズ面のy座標に従って、以下の式(4)のように連続的に変化する。
式(3)における子線形状Sに関するZの1次の項は、副走査断面内でのレンズ面の傾き量(子線チルト量)に寄与する項である。よって、y軸方向におけるプラス側での非球面係数Mj1uとマイナス側での非球面係数Mj1lとを互いに異なる数値にすることで、子線チルト量を主走査方向において非対称に変化させることができる。 The first-order term of Z relating to the sub-line shape S in Expression (3) is a term that contributes to the tilt amount (sub-line tilt amount) of the lens surface in the sub-scan section. Therefore, by making the aspheric coefficient M j1u on the plus side in the y-axis direction and the aspheric coefficient M j1l on the minus side different from each other, the sub- line tilt amount can be changed asymmetrically in the main scanning direction. it can.
次に、本実施形態に係る光走査装置10における第2のfθレンズ108a及び108bの副走査チルト変化面について詳細に説明する。
Next, the sub-scanning tilt changing surfaces of the
なお、以下では、第2のfθレンズ108a及び108bの副走査チルト変化面による効果を説明するために、図中に示した座標系を用いる。具体的には、主走査方向(Y方向)は、偏向器の回転軸及び入射光学系の光軸(X方向)に垂直な方向に対応し、副走査方向(Z方向)は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、主走査方向及び入射光学系の光軸を含む断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。
また、回転方向は反時計回りの方向を正の方向と定義し、角度については、反時計回りを正とする。
In the following description, the coordinate system shown in the figure is used to explain the effect of the sub-scanning tilt changing surfaces of the
The rotation direction is defined as a counterclockwise direction as a positive direction, and the angle is counterclockwise as a positive direction.
図2(a)及び(b)はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置10において、光束LA及びLBが偏向器106によって偏向される様子を主走査断面内及び副走査断面内において示した図である。
ここで、図中C及びDはそれぞれ、入射光学系111a及び111bの光軸である。
また、図2(c)は、偏向器106の回転角度θの定義を示している。
FIGS. 2A and 2B are diagrams respectively showing the state in which the light beams LA and LB are deflected by the
Here, C and D in the figure are the optical axes of the incident
FIG. 2C shows the definition of the rotation angle θ of the
図2(a)に示されているように、偏向器106は回転しているため、偏向器106の偏向面106aは、例えば106a1や106a2の位置を取る。
また、図1(a)に示されているように、偏向器106はA方向に回転しているため、偏向器106の偏向面106aは、位置106a2から106a1へ移動する。
As shown in FIG. 2A, since the
Further, as shown in FIG. 1A, since the
そして、光束LA及びLBはそれぞれ、偏向面106aが位置106a1にあるとき、偏向点Eで偏向されて光束LA1及びLB1となる。
また、光束LA及びLBはそれぞれ、偏向面106aが位置106a2にあるとき、偏向点F及び偏向点Gで偏向されて光束LA2及びLB2となる。
The light beams LA and LB are deflected at the deflection point E to become the light beams LA1 and LB1 when the
Further, the light beams LA and LB are deflected at the deflection point F and the deflection point G to become the light beams LA2 and LB2, respectively, when the
図2(b)に示されているように、光束LAは、偏向面106aに対して副走査方向下側から入射し、一方で、光束LBは、偏向面106aに対して副走査方向上側から入射する。
そのため、偏向面106aの位置106a1及び106a2に関して、光束LAの偏向点(入射位置)Eと偏向点Fとの間の副走査方向の高さ(Z座標)の差EFと、光束LBの偏向点Eと偏向点Gとの間の副走査方向の高さの差EGは互いに異なることとなる。
従って、偏向面106aが取る各位置において、光束LA及びLBそれぞれの偏向面106aに入射する主走査断面内及び副走査断面内の入射角度の違いに応じて、偏向点の主走査断面に対する副走査方向における高さ(以下、副走査方向高さと呼ぶ。)が異なってくる。
As shown in FIG. 2B, the light beam LA is incident on the
Therefore, regarding the positions 106a1 and 106a2 of the
Therefore, at each position taken by the
図3は、本実施形態に係る光走査装置10における偏向器106の回転角度θに対する光束LA及び光束LBの偏向点の副走査方向高さ(Z座標)の変化を示している。
なお、ここで、偏向器106の回転角度θは、主走査断面内における、結像光学系の光軸と偏向面106aの法線とがなす角度で定義する。
また、偏向点の副走査方向高さについては、結像光学系の光軸を含む主走査断面の位置を0としている。
FIG. 3 shows changes in the sub-scanning direction heights (Z coordinates) of the deflection points of the light beam LA and the light beam LB with respect to the rotation angle θ of the
Here, the rotation angle θ of the
As for the height of the deflection point in the sub-scanning direction, the position of the main scanning section including the optical axis of the imaging optical system is set to zero.
図3に示されているように、本実施形態に係る光走査装置10では、光束LAの方が光束LBよりも、偏向点の副走査方向高さの最大値と最小値との差(以下、これを偏向点の副走査方向高さのPV(Peak to Valley)と呼ぶ。)が大きい。
具体的には、光束LAの偏向点の副走査方向高さのPVは0.087mmであり、光束LBの偏向点の副走査方向高さのPVは0.070mmである。
なおここで、最大値と最小値との差とは、最大値−最小値であり、場合によっては絶対値を取ることがある。これについては、以降のPVについても同様である。
As shown in FIG. 3, in the
Specifically, the PV of the deflection point of the light beam LA in the sub-scanning direction is 0.087 mm, and the PV of the deflection point of the light beam LB in the sub-scanning direction is 0.070 mm.
Here, the difference between the maximum value and the minimum value is the maximum value−minimum value, and may take an absolute value in some cases. The same applies to the subsequent PVs.
図4(a)は、本実施形態に係る光走査装置10における第2のfθレンズ108aの入射面の副走査チルト量φ1及び出射面の副走査チルト量φ2の主走査方向位置依存性を示している。
図4(b)は、本実施形態に係る光走査装置10における第2のfθレンズ108bの入射面の副走査チルト量φ1及び出射面の副走査チルト量φ2の主走査方向位置依存性を示している。
図4(c)は、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値(φ1+φ2)/2の主走査方向位置依存性を示している。
図4(d)は、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値の主走査方向位置に関する一階微分d((φ1+φ2)/2)/dYの主走査方向位置依存性を示している。
FIG. 4A shows the position dependency in the main scanning direction of the sub-scanning tilt amount φ1 of the incident surface and the sub-scanning tilt amount φ2 of the exit surface of the
FIG. 4B shows the position dependency in the main scanning direction of the sub-scanning tilt amount φ1 of the incident surface and the sub-scanning tilt amount φ2 of the exit surface of the
FIG. 4C shows the main scanning direction position dependency of the average value (φ1 + φ2) / 2 of the sub-scanning tilt amounts of the incident surfaces and the exit surfaces of the
FIG. 4D shows the first-order differential d ((φ1 + φ2) / 2) / dY with respect to the position in the main scanning direction of the average value of the sub-scanning tilt amounts of the incident surfaces and the exit surfaces of the
図5(a)、(b)及び(c)はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置10における主走査方向における位置(以下、主走査方向位置と呼ぶ。)Yが105mm、0mm及び−150mmそれぞれでの第2のfθレンズ108a及び108bの副走査断面内形状(副走査チルト面)を模式的に示している。
なお、図5(a)、(b)及び(c)において、左方が入射面であり、右方が出射面である。
また、図5(a)、(b)及び(c)において、401乃至406は、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面の平均形状(副走査チルト量の平均値)を示している。
また、図5(a)、(b)及び(c)において、407乃至418は、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面のチルトに対応する方向を示している。
5A, 5B, and 5C, the position in the main scanning direction (hereinafter referred to as the main scanning direction position) Y in the
In FIGS. 5A, 5B, and 5C, the left side is the entrance surface and the right side is the exit surface.
In FIGS. 5A, 5B, and 5C,
In FIGS. 5A, 5B, and 5C,
ここで、入射面及び出射面のチルト(副走査断面内の傾き)、すなわち、副走査チルト量は、第2のfθレンズの入射面及び出射面の子線の結像光学系の光軸を含む主走査断面との交点における法線が該主走査断面に対してなす角度で定義する。 Here, the tilt (inclination in the sub-scan section) of the entrance surface and the exit surface, that is, the sub-scan tilt amount is determined by the optical axis of the imaging optical system of the sub-line of the entrance surface and the exit surface of the second fθ lens. It is defined by the angle formed by the normal line at the intersection with the main scanning section including the main scanning section.
図4(a)及び(b)に示されているように、本実施形態に係る光走査装置10では、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面は、主走査方向の位置に応じて傾きが変化する副走査チルト変化面となっている。
また、第2のfθレンズ108a及び108bの入射面及び出射面のチルトの絶対値は、主走査方向において、光軸上から軸外に向かって大きくなっている。
As shown in FIGS. 4A and 4B, in the
In addition, the absolute values of the tilts of the entrance and exit surfaces of the
ここで、図4(a)及び(b)に示されているように、第2のfθレンズ108aの入射面の副走査チルト量φ1の最大値と最小値との差(以下、これを副走査チルト量のPVと呼ぶ。)は398.7分であり、第2のfθレンズ108bの入射面の副走査チルト量φ1のPVは380.4分である。
また、図4(a)及び(b)に示されているように、第2のfθレンズ108aの出射面の副走査チルト量φ2のPVは497.8分であり、第2のfθレンズ108bの出射面の副走査チルト量φ2のPVは477.9分である。
さらに、図4(c)に示されているように、第2のfθレンズ108aの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値(φ1+φ2)/2の最大値と最小値との差(以下、これを副走査チルト量平均値のPVと呼ぶ。)は448.3分であり、第2のfθレンズ108bの副走査チルト量平均値のPVは429.1分である。
Here, as shown in FIGS. 4A and 4B, the difference between the maximum value and the minimum value of the sub-scanning tilt amount φ1 on the incident surface of the
Further, as shown in FIGS. 4A and 4B, the PV of the sub-scanning tilt amount φ2 of the exit surface of the
Further, as shown in FIG. 4C, the difference between the maximum value and the minimum value of the average value (φ1 + φ2) / 2 of the sub-scanning tilt amounts of the entrance surface and the exit surface of the
このように、本実施形態に係る光走査装置10では、光束LBに対して主走査断面内の偏向器106への入射角度が大きい光束LAの光路上に配置された第2のfθレンズ108aの副走査チルト量平均値のPVが、光束LBの光路上に配置された第2のfθレンズ108bの副走査チルト量平均値のPVよりも大きくなるように、第2のfθレンズ108a及び108bを設計している。
As described above, in the
図6は、本実施形態に係る光走査装置10が走査する被走査面110a及び110b上の光束LA及びLBの集光位置の副走査方向高さの像高依存性を示している。
なお、図6では、比較例として、第二の結像光学系112bにおいて、第2のfθレンズ108bの代わりに第2のfθレンズ108aを配置した場合も示している。この比較例においては、第2のfθレンズ108aは副走査方向に反転させたものとなっている。
FIG. 6 shows the image height dependence of the height in the sub-scanning direction of the condensed positions of the light beams LA and LB on the scanned
In FIG. 6, as a comparative example, the second imaging
図6に示されているように、本実施形態に係る光走査装置10を用いた場合、被走査面110a上における光束LAの集光位置の副走査方向高さの最大値と最小値との差(以下、これを集光位置の副走査方向高さのPVと呼ぶ。)及び被走査面110b上における光束LBの集光位置の副走査方向高さのPVはそれぞれ、0.005mm及び0.004mmと十分にバラツキは抑えられており、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
それに対して、比較例では、集光位置の副走査方向高さのPVは0.050mmとなり、走査線の傾きが発生していることがわかる。
As shown in FIG. 6, when the
On the other hand, in the comparative example, PV of the height of the condensing position in the sub-scanning direction is 0.050 mm, and it can be seen that the scanning line is inclined.
以上のように、本実施形態に係る光走査装置10では、主走査断面内において、入射光学系111aの光軸が結像光学系112aの光軸に対してなす角度(鋭角)の絶対値が、入射光学系111bの光軸が結像光学系112bの光軸に対してなす角度(鋭角)の絶対値よりも大きい。それに伴って、光束LAの方が光束LBよりも偏向点の高さのPVが大きくなっており、それに対応するように、第2のfθレンズ108aの副走査チルト量平均値のPVが、第2のfθレンズ108bの副走査チルト量平均値のPVよりも大きくなるように、第2のfθレンズ108a及び108bを設計している。
それにより、被走査面110a及び110b上における光束LA及びLBの集光位置の副走査方向高さのバラツキを十分に抑える、すなわち走査線湾曲を抑えることによって略一様な走査線を描くことができる。
As described above, in the
Thereby, a substantially uniform scanning line can be drawn by sufficiently suppressing variations in the height in the sub-scanning direction of the converging positions of the light beams LA and LB on the scanned
また、本実施形態に係る光走査装置10では、被走査面110a上の走査線湾曲と被走査面110b上の走査線湾曲との差を低減するために、第2のfθレンズ108aの光源側の副走査断面内におけるパワーを第2のfθレンズ108bの光源側の副走査断面内におけるパワーより小さくしている。
Further, in the
また、図4(d)に示されているように、本実施形態に係る光走査装置10では、第2のfθレンズ108aの入射面及び出射面それぞれの副走査チルト量の平均値の主走査方向位置に関する一階微分d((φ1+φ2)/2)/dYの最大値と最小値との差(以下、これを副走査チルト量平均値の一階微分のPVと呼ぶ。)及び第2のfθレンズ108aの副走査チルト量平均値の一階微分のPVはそれぞれ、27.6分/mm及び27.7分/mmとなっており、双方とも100分/mm以下となっている。
このように、本実施形態に係る光走査装置10では、副走査チルト量平均値の一階微分のPVを100分/mm以下にすることで、第2のfθレンズ108a及び108bが主走査方向に変位(横ずれ)したときの走査線の劣化を小さくすることができる。
また、本実施形態に係る光走査装置10のように、副走査チルト量平均値の一階微分のPVを50分/mm以下にすることは、走査線の劣化をより低減することができるため、より好ましい構成である。
Further, as shown in FIG. 4D, in the
Thus, in the
Further, as in the
さらに、本実施形態に係る光走査装置10では、結像光学系112aの光軸上及びその近傍における第2のfθレンズ108aの入射面のチルトの絶対値と出射面のチルトの絶対値との差、及び結像光学系112bの光軸上及びその近傍における第2のfθレンズ108bの入射面のチルトの絶対値と出射面のチルトの絶対値との差はそれぞれ、10分以下となっている。
これにより、走査線の劣化、走査線の被走査面間差、すなわち色ズレ等を低減することができる。
Further, in the
Thereby, it is possible to reduce the deterioration of the scanning line, the difference between the scanned surfaces of the scanning line, that is, the color misregistration and the like.
また、本実施形態に係る光走査装置10では、結像光学系112aの光軸上及びその近傍における第2のfθレンズ108aの入射面のチルトと出射面のチルトとの平均値の絶対値、及び結像光学系112bの光軸上及びその近傍における第2のfθレンズ108bの入射面のチルトと出射面のチルトとの平均値の絶対値はそれぞれ、5分以下となっている。
これにより、走査線の劣化、走査線の被走査面間差、すなわち色ズレ等を低減することができる。
In the
Thereby, it is possible to reduce the deterioration of the scanning line, the difference between the scanned surfaces of the scanning line, that is, the color misregistration and the like.
表4に、上記の本実施形態に係る光走査装置10の諸特性を示す。
[第二実施形態]
図7(a)は、第二実施形態に係る光走査装置20の主走査断面図を示している。図7(b)は、第二実施形態に係る光走査装置20が備える入射光学系111a、111b、111c及び111dの副走査断面図を示している。図7(c)は、第二実施形態に係る光走査装置20が備える結像光学系112a、112b、112c及び112dの副走査断面図を示している。
第二実施形態に係る光走査装置20は、第一実施形態に係る光走査装置10とは異なり、両側走査光学系を採用している。
[Second Embodiment]
FIG. 7A shows a main scanning sectional view of the
Unlike the
本実施形態に係る光走査装置20は、光源101a(第1の光源)、101b(第2の光源)、101c(第3の光源)及び101d(第4の光源)、副走査絞り102a、102b、102c及び102dを備えている。また、本実施形態に係る光走査装置20は、コリメータレンズ103a、103b、103c及び103d、シリンドリカルレンズ104a、104b、104c及び104d、主走査絞り105を備えている。また、光走査装置20は、偏向器106、第1のfθレンズ107a及び107b、第2のfθレンズ108a(第1の結像光学素子)、108b(第2の結像光学素子)、108c(第3の結像光学素子)及び108d(第4の結像光学素子)を備えている。さらに、光走査装置20は、防塵ガラス109a、109b、109c及び109d、反射部材115a、116a、117a、118a、115b、116b、117b及び118bを備えている。
なお、第二実施形態に係る光走査装置20では、各部材については、第一実施形態に係る光走査装置10のものと同一であるため、同一の符番を付して、説明を省略する。
The
Note that in the
光源101aから出射した光束LA(第1の光束)は、副走査絞り102aを通過し、コリメータレンズ103aによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LAは、シリンドリカルレンズ104aによって副走査方向に集光され、主走査絞り105を通過し、副走査方向下側から偏向器106の偏向面106a(第1の偏向面)に入射する。
また、光源101bから出射した光束LB(第2の光束)は、副走査絞り102bを通過し、コリメータレンズ103bによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LBは、シリンドリカルレンズ104bによって副走査方向に集光され、主走査絞り105を通過し、副走査方向上側から偏向器106の偏向面106aに入射する。
また、光源101cから出射した光束LC(第3の光束)は、副走査絞り102cを通過し、コリメータレンズ103cによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LCは、シリンドリカルレンズ104cによって副走査方向に集光され、主走査絞り105を通過し、副走査方向上側から偏向器106の偏向面106b(第2の偏向面)に入射する。
また、光源101dから出射した光束LD(第4の光束)は、副走査絞り102dを通過し、コリメータレンズ103dによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LDは、シリンドリカルレンズ104dによって副走査方向に集光され、主走査絞り105を通過し、副走査方向下側から偏向器106の偏向面106bに入射する。
このようにして、光源101a及び101bから出射した光束LA及びLBは、偏向器106の偏向面106aの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。また、光源101c及び101dから出射した光束LC及びLDは、偏向器106の偏向面106bの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
A light beam LA (first light beam) emitted from the
A light beam LB (second light beam) emitted from the
A light beam LC (third light beam) emitted from the
A light beam LD (fourth light beam) emitted from the
In this way, the light beams LA and LB emitted from the
なお、副走査絞り102a、コリメータレンズ103a、シリンドリカルレンズ104a及び主走査絞り105によって、本実施形態に係る光走査装置20の第1の入射光学系111aが構成される。
また、副走査絞り102b、コリメータレンズ103b、シリンドリカルレンズ104b及び主走査絞り105によって、本実施形態に係る光走査装置20の第2の入射光学系111bが構成される。
また、副走査絞り102c、コリメータレンズ103c、シリンドリカルレンズ104c及び主走査絞り105によって、本実施形態に係る光走査装置20の第3の入射光学系111cが構成される。
また、副走査絞り102d、コリメータレンズ103d、シリンドリカルレンズ104d及び主走査絞り105によって、本実施形態に係る光走査装置20の第4の入射光学系111dが構成される。
そして、第1の入射光学系111a、第2の入射光学系111b、第3の入射光学系111c及び第4の入射光学系111dをまとめて入射光学系111と呼ぶ場合がある。
The
The
Further, the sub-scanning diaphragm 102c, the collimator lens 103c, the
The
The first incident
そして、光源101aから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LAは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ108aを通過し、反射部材115aで反射されることによって被走査面110a(第1の被走査面)上に集光され、被走査面110aを等速度で走査する。
また、光源101bから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LBは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ108bを通過し、反射部材116a、117a及び118aで反射されることによって被走査面110b(第2の被走査面)上に集光され、被走査面110bを等速度で走査する。
また、光源101cから出射し、偏向器106の偏向面106bに入射した光束LCは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107b及び第2のfθレンズ108cを通過し、反射部材116b、117b及び118bで反射されることによって被走査面110c(第3の被走査面)上に集光され、被走査面110cを等速度で走査する。
また、光源101dから出射し、偏向器106の偏向面106bに入射した光束LDは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107b及び第2のfθレンズ108dを通過し、反射部材115bで反射されることによって被走査面110d(第4の被走査面)上に集光され、被走査面110dを等速度で走査する。
Then, the light beam LA emitted from the
The light beam LB emitted from the
The light beam LC emitted from the
The light beam LD emitted from the
なお、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ108aによって、本実施形態に係る光走査装置20の第1の結像光学系112aが構成される。
また、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ108bによって、本実施形態に係る光走査装置20の第2の結像光学系112bが構成される。
また、第1のfθレンズ107b及び第2のfθレンズ108cによって、本実施形態に係る光走査装置20の第3の結像光学系112cが構成される。
また、第1のfθレンズ107b及び第2のfθレンズ108dによって、本実施形態に係る光走査装置20の第4の結像光学系112dが構成される。
そして、第1の結像光学系112a、第2の結像光学系112b、第3の結像光学系112c及び第4の結像光学系112dをまとめて結像光学系112と呼ぶ場合がある。
The first fθ lens 107a and the
Further, the first fθ lens 107a and the
Further, the
Further, the
The first imaging
本実施形態に係る光走査装置20においては、第1の入射光学系111a及び第1の結像光学系112aと第3の入射光学系111c及び第3の結像光学系112cとが、偏向器106の中心を原点としたY軸周りの180度回転対称の関係になっている。
また、第2の入射光学系111b及び第2の結像光学系112bと第4の入射光学系111dと第4の結像光学系112dとが、偏向器106の中心を原点としたY軸周りの180度回転対称の関係になっている。
このように構成することで、本実施形態に係る光走査装置20において、各部材について第一実施形態に係る光走査装置10と同一のものを用いることができる。
具体的には、第2のfθレンズ108aと第2のfθレンズ108cとを互いに同一形状、且つ、第2のfθレンズ108bと第2のfθレンズ108dとを互いに同一形状にすることができる。
In the
Further, the second incident
With this configuration, in the
Specifically, the
そして、第一実施形態に係る光走査装置10と同様に、本実施形態に係る光走査装置20においても、光束LA乃至LDの間の偏向器106の偏向面106a及び106bへの入射角度の違いに応じて、第2のfθレンズ108a乃至108dの入射面及び出射面の副走査チルト量を調整している。
それにより、被走査面110a乃至110dそれぞれにおける光束LA乃至LDの集光位置の副走査方向高さのバラツキを十分に抑えることができ、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
Similar to the
Thereby, the variation in the height in the sub-scanning direction of the condensing positions of the light beams LA to LD on the scanned
[第三実施形態]
図8(a)は、第三実施形態に係る光走査装置30の主走査断面図を示している。図8(b)は、第三実施形態に係る光走査装置30が備える入射光学系111a及び111bの副走査断面図を示している。図8(c)は、第三実施形態に係る光走査装置30が備える結像光学系112a及び712bの副走査断面図を示している。
なお、第三実施形態に係る光走査装置30では、第2のfθレンズ108bの代わりに第2のfθレンズ708bを設けている以外は、第一実施形態に係る光走査装置10と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。
[Third embodiment]
FIG. 8A shows a main scanning sectional view of the
The
本実施形態に係る光走査装置30は、光源101a及び101b、副走査絞り102a及び102b、コリメータレンズ103a及び103b、シリンドリカルレンズ104a及び104b、主走査絞り105a及び105bを備えている。また、光走査装置30は、偏向器106、第1のfθレンズ107、第2のfθレンズ108a及び708bを備えている。さらに、光走査装置30は、防塵ガラス109a及び109b、反射部材115、116、117、118を備えている。
The
光源101aから出射した光束LAは、副走査絞り102aを通過し、コリメータレンズ103aによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LAは、シリンドリカルレンズ104aによって副走査方向に集光され、主走査絞り105aを通過し、副走査方向下側から偏向器106の偏向面106aに入射する。
また、光源101bから出射した光束LBは、副走査絞り102bを通過し、コリメータレンズ103bによって平行光束に変換される。そして、変換された光束LBは、シリンドリカルレンズ104bによって副走査方向に集光され、主走査絞り105bを通過し、副走査方向上側から偏向器106の偏向面106aに入射する。
このようにして、光源101a及び101bから出射した光束LA及びLBは、偏向器106の偏向面106aの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。
なお、第三実施形態に係る光走査装置30では、第一実施形態に係る光走査装置10とは異なり、副走査断面内において、入射光学系111a及び111bの光軸それぞれが主走査断面に対してなす角度は2.2度及び−3.0度である。
すなわち、副走査断面内において、互いの角度の絶対値が異なっており、偏向器106の偏向面106aに互いに主走査断面に対して非対称に入射する。
The light beam LA emitted from the
The light beam LB emitted from the
In this way, the light beams LA and LB emitted from the
In the
That is, the absolute values of the angles are different in the sub-scanning section, and are incident on the deflecting
副走査絞り102a、コリメータレンズ103a、シリンドリカルレンズ104a及び主走査絞り105aによって、本実施形態に係る光走査装置30の第1の入射光学系111aが構成される。
また、副走査絞り102b、コリメータレンズ103b、シリンドリカルレンズ104b及び主走査絞り105bによって、本実施形態に係る光走査装置30の第2の入射光学系111bが構成される。
そして、第1の入射光学系111a及び第2の入射光学系111bをまとめて入射光学系111と呼ぶ場合がある。
The
The
The first incident
そして、光源101aから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LAは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ108aを通過し、反射部材115で反射されることによって被走査面110a上に集光され、被走査面110aを等速度で走査する。
また、光源101bから出射し、偏向器106の偏向面106aに入射した光束LBは、偏向器106により偏向された後、第1のfθレンズ107及び第2のfθレンズ708bを通過し、反射部材116、117及び118で反射されることによって被走査面110b上に集光され、被走査面110bを等速度で走査する。
Then, the light beam LA emitted from the
The light beam LB emitted from the
なお、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ108aによって、本実施形態に係る光走査装置30の第1の結像光学系112aが構成される。
また、第1のfθレンズ107a及び第2のfθレンズ708bによって、本実施形態に係る光走査装置30の第2の結像光学系712bが構成される。
そして、第1の結像光学系112a及び第2の結像光学系712bをまとめて結像光学系712と呼ぶ場合がある。
The first fθ lens 107a and the
Further, the first fθ lens 107a and the
The first imaging
次に、本実施形態に係る光走査装置30の入射光学系111a、111b及び結像光学系712bの諸特性を、以下の表5及び表6に示す。
Next, various characteristics of the incident
また、表7に、本実施形態に係る光走査装置30の諸特性を示す。
表7に示されているように、本実施形態に係る光走査装置30では、主走査断面内において、入射光学系111aの光軸が結像光学系112aの光軸に対してなす角度(鋭角)の絶対値が、入射光学系111bの光軸が結像光学系712bの光軸に対してなす角度(鋭角)の絶対値よりも大きい。また、副走査断面内において、入射光学系111aの光軸が主走査断面に対してなす角度の絶対値は、入射光学系111bの光軸が主走査断面に対してなす角度の絶対値よりも小さい。それに伴って、第一実施形態に係る光走査装置10とは異なり、光束LBの方が光束LAよりも、偏向点の高さのPVが大きくなっている。
そして、それに対応するように、第2のfθレンズ708bの副走査チルト量平均値のPVが、第2のfθレンズ108aの副走査チルト量平均値のPVよりも大きくなるように、第2のfθレンズ108a及び708bを設計している。
それにより、被走査面110a及び110b上における光束LA及びLBの集光位置の副走査方向高さのPVは、共に0.005mmとなり、十分にバラツキは抑えられており、結果として、略一様な走査線を描くことができる。
As shown in Table 7, in the
Correspondingly, the second sub-scanning tilt amount average value PV of the
As a result, the sub-scanning direction height PV of the condensing positions of the light beams LA and LB on the scanned
以上、第一乃至第三実施形態に係る光走査装置について説明したが、これに限定されず、種々の変更が可能である。
例えば、第一乃至第三実施形態に係る光走査装置では、1つの偏向面に2つの光束が入射していたが、これに限定されず、1つの偏向面に3つ以上の光束が入射しても構わない。その場合においても、偏向点の高さのPVと副走査チルト量平均値のPVとが上記の関係を満たしていれば、第一乃至第三実施形態と同様の効果を得ることができる。
The optical scanning device according to the first to third embodiments has been described above, but the present invention is not limited to this, and various modifications can be made.
For example, in the optical scanning device according to the first to third embodiments, two light beams are incident on one deflection surface. However, the present invention is not limited to this. Three or more light beams are incident on one deflection surface. It doesn't matter. Even in this case, the same effect as in the first to third embodiments can be obtained as long as the PV of the deflection point height and the PV of the sub-scanning tilt amount average value satisfy the above relationship.
[画像形成装置]
図9は、第一又は第三実施形態に係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置90の要部副走査断面図である。
[Image forming apparatus]
FIG. 9 is a cross-sectional view of main parts of a color
画像形成装置90は、2つの第一又は第三実施形態に係る光走査装置を各々並行して並べて、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置90は、第一又は第三実施形態に係る光走査装置11、12、像担持体としての感光ドラム23、24、25、26及び現像器15、16、17、18を備えている。また、画像形成装置90は、搬送ベルト91、プリンタコントローラ93及び定着器94を備えている。
The
The
画像形成装置90には、パーソナルコンピュータ等の外部機器92から出力されたR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色信号(コードデータ)が入力される。入力された色信号は、画像形成装置90内のプリンタコントローラ93によって、C(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)、K(ブラック)の各画像データ(ドットデータ)に変換される。変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置11、12に入力される。そして、光走査装置11、12からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム59、60、61、62が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム23、24、25、26の感光面が露光される。
The
感光ドラム23、24、25、26の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ(不図示)が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム23、24、25、26の表面に、光走査装置11、12によって光ビーム59、60、61、62が照射されるようになっている。
A charging roller (not shown) for uniformly charging the surfaces of the
上で述べたように、光ビーム59、60、61、62は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム59、60、61、62を照射することによって感光ドラム23、24、25、26の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム23、24、25、26に当接するように配設された現像器15、16、17、18によってトナー像として現像される。
As described above, the light beams 59, 60, 61, and 62 are modulated based on the image data of each color, and the
現像器15乃至18によって現像されたトナー像は、感光ドラム23乃至26に対向するように配設された不図示の転写ローラ(転写器)によって、搬送ベルト91上を搬送される不図示の用紙(被転写材)上に多重転写され、1枚のフルカラー画像が形成される。
The toner images developed by the developing
以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム23、24、25、26後方(図9において左側)の定着器94へと搬送される。定着器94は、内部に定着ヒータ(不図示)を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置90の外に排出せしめる。
As described above, the sheet on which the unfixed toner image is transferred is further conveyed to the fixing
カラー画像形成装置90は、光走査装置11、12を2個並べ、各々がC、M、Y、Kの各色に対応し、各々並行して感光ドラム23、24、25、26の感光面上に画像信号(画像情報)を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
外部機器92としては、例えばCCDセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置90とで、カラーデジタル複写機が構成される。
The color
As the
なお、カラー画像形成装置90では、2つの第一又は第三実施形態に係る光走査装置を用いているが、この代わりに、1つの第二実施形態に係る光走査装置を用いても構わない。
また、本実施形態に係る画像形成装置の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、1200dpi以上の画像形成装置において、第一乃至第三実施形態の効果はより発揮される。
In the color
Further, the recording density of the image forming apparatus according to the present embodiment is not particularly limited. However, considering that the higher the recording density is, the higher the image quality is required, the effects of the first to third embodiments are more exhibited in an image forming apparatus of 1200 dpi or more.
10 光走査装置
101a、101b 光源(第1の光源、第2の光源)
106 偏向器
106a 偏向面(第1の偏向面)
108a、108b 第2のfθレンズ(第1の結像光学素子、第2の結像光学素子)
110a、110b 被走査面(第1の被走査面、第2の被走査面)
LA、LB 光束(第1の光束、第2の光束)
10
106
108a, 108b Second fθ lens (first imaging optical element, second imaging optical element)
110a, 110b Scanned surface (first scanned surface, second scanned surface)
LA, LB luminous flux (first luminous flux, second luminous flux)
Claims (11)
前記偏向器によって偏向された前記第1及び第2の光束を前記第1及び第2の被走査面に導光する第1及び第2の結像光学素子と、を備え、
前記第1及び第2の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で前記第1の偏向面に入射しており、
前記第1の光束の前記第1の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、前記第2の光束の前記第1の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、
主走査方向における各位置での前記第1の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での前記第2の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする光走査装置。 A deflector that deflects the first and second light beams emitted from the first and second light sources by the first deflection surface and scans the first and second scanned surfaces in the main scanning direction;
First and second imaging optical elements for guiding the first and second light beams deflected by the deflector to the first and second scanned surfaces;
The first and second light beams are incident on the first deflection surface at different angles in the main scanning section and the sub-scanning section, respectively.
The difference between the maximum value and the minimum value of the height of the incident position of the first light beam on the first deflection surface in the sub-scanning direction is the difference between the first light beam on the first deflection surface. Greater than the difference between the maximum and minimum height of the incident position in the sub-scanning direction,
The difference between the maximum value and the minimum value of the average value in the sub-scan section of the entrance surface and the exit surface of the first imaging optical element at each position in the main scanning direction is different at each position in the main scanning direction. An optical scanning device characterized in that the difference between the maximum value and the minimum value of the average value of the inclination in the sub-scan section of the incident surface and the exit surface of the second imaging optical element is larger.
主走査断面内において、前記第1の入射光学系の光軸が前記第1の結像光学素子の光軸となす角度の絶対値は、前記第2の入射光学系の光軸が前記第2の結像光学素子の光軸となす角度の絶対値よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。 Comprising first and second incident optical systems for causing the first and second light beams emitted from the first and second light sources to enter the first deflecting surface of the deflector;
In the main scanning section, the absolute value of the angle formed by the optical axis of the first incident optical system and the optical axis of the first imaging optical element is the optical axis of the second incident optical system. The optical scanning device according to claim 1, wherein the optical scanning device is larger than an absolute value of an angle formed by the optical axis of the imaging optical element.
副走査断面内において、前記第1の入射光学系の光軸が主走査断面となす角度の絶対値は、前記第2の入射光学系の光軸が主走査断面となす角度の絶対値よりも大きいことを特徴とする請求項1または2に記載の光走査装置。 Comprising first and second incident optical systems for causing the first and second light beams emitted from the first and second light sources to enter the first deflecting surface of the deflector;
In the sub-scan section, the absolute value of the angle formed by the optical axis of the first incident optical system and the main scan section is greater than the absolute value of the angle formed by the optical axis of the second incident optical system and the main scan section. The optical scanning device according to claim 1, wherein the optical scanning device is large.
前記偏向器は、第3及び第4の光源から出射する前記第3及び第4の光束を第2の偏向面により偏向して前記第3及び第4の被走査面を主走査方向に走査し、
前記第3及び第4の光束は、主走査断面内及び副走査断面内のそれぞれにおいて互いに異なる角度で前記第2の偏向面に入射しており、
前記第3の光束の前記第2の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差は、前記第4の光束の前記第2の偏向面上での入射位置の副走査方向における高さの最大値と最小値との差よりも大きく、
主走査方向における各位置での前記第3の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差は、主走査方向における各位置での前記第4の結像光学素子の入射面及び出射面の副走査断面内の傾きの平均値の最大値と最小値との差よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光走査装置。 A third and a fourth imaging optical element for guiding the third and fourth light beams deflected by the deflector to the third and fourth scanned surfaces;
The deflector deflects the third and fourth light beams emitted from the third and fourth light sources by a second deflecting surface and scans the third and fourth scanned surfaces in the main scanning direction. ,
The third and fourth light beams are incident on the second deflection surface at different angles in the main scanning section and the sub-scanning section, respectively.
The difference between the maximum value and the minimum value of the height of the incident position of the third light beam on the second deflection surface in the sub-scanning direction is the difference between the maximum value and the minimum value of the fourth light beam on the second deflection surface. Greater than the difference between the maximum and minimum height of the incident position in the sub-scanning direction,
The difference between the maximum value and the minimum value of the average value in the sub-scan section of the entrance surface and the exit surface of the third imaging optical element at each position in the main scanning direction is different at each position in the main scanning direction. 8. The method according to claim 1, wherein a difference between a maximum value and a minimum value of an average value of inclinations in the sub-scan section of the entrance surface and the exit surface of the fourth imaging optical element is larger. The optical scanning device according to one item.
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