JP2018151425A - Light control panel, optical imaging device and method for manufacturing light control panel - Google Patents
Light control panel, optical imaging device and method for manufacturing light control panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018151425A JP2018151425A JP2017045454A JP2017045454A JP2018151425A JP 2018151425 A JP2018151425 A JP 2018151425A JP 2017045454 A JP2017045454 A JP 2017045454A JP 2017045454 A JP2017045454 A JP 2017045454A JP 2018151425 A JP2018151425 A JP 2018151425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light control
- control panel
- length direction
- transparent substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 title claims abstract description 33
- -1 allyl ester Chemical class 0.000 claims abstract description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 51
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 42
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 18
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims description 12
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 54
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 45
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 38
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 28
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 27
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 25
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 21
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 11
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L barium(2+);octadecanoate Chemical compound [Ba+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- ZXTPJLLIHIDBKQ-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) cyclohexane-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCC=C)CC1 ZXTPJLLIHIDBKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- NIDNOXCRFUCAKQ-UMRXKNAASA-N (1s,2r,3s,4r)-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1[C@H]2C=C[C@@H]1[C@H](C(=O)O)[C@@H]2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UMRXKNAASA-N 0.000 description 1
- DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N (1s,4r,5s,6r)-1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)[C@]2(Cl)[C@H](C(=O)O)[C@H](C(O)=O)[C@@]1(Cl)C2(Cl)Cl DJKGDNKYTKCJKD-BPOCMEKLSA-N 0.000 description 1
- HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N (2,3-dimethyl-3-phenylbutan-2-yl)benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 HGTUJZTUQFXBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFFFESPCCPXZOQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.OCC(CO)(CO)CO VFFFESPCCPXZOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHTYMWHOOMDUCQ-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WHTYMWHOOMDUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLWIPPZWFZGHEU-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(carboxymethyl)phenyl]acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(CC(O)=O)C=C1 SLWIPPZWFZGHEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFMBOFGKHIXOTA-UHFFFAOYSA-N 2-methylterephthalic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=CC=C1C(O)=O UFMBOFGKHIXOTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)(C(O)=O)OOC(C)(C)C AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFEWXDOYPCWFHR-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LFEWXDOYPCWFHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEDOWYXHVUPMO-UHFFFAOYSA-N 4-(carboxymethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 DMEDOWYXHVUPMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OCYQUUOXCHQELA-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)O[N+]1=CC=CC=C1 Chemical compound C=CC(=O)O[N+]1=CC=CC=C1 OCYQUUOXCHQELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 102100034944 Relaxin-3 Human genes 0.000 description 1
- 101710113452 Relaxin-3 Proteins 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) 1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1C(C(=O)OCC=C)C2(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1(Cl)C2(Cl)Cl CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N dioctyl(oxo)tin Chemical compound CCCCCCCC[Sn](=O)CCCCCCCC LQRUPWUPINJLMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- DKKXSNXGIOPYGQ-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphanyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DKKXSNXGIOPYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011549 displacement method Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229960002920 sorbitol Drugs 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法 The present invention relates to a light control panel, an optical imaging device, and a method for manufacturing the light control panel.
従来、内部に複数の帯状の光反射部を有する2つの光制御パネルを、光反射部が直交するように向かい合わせて配置した光学結像装置が用いられている(例えば、特許文献1および特許文献2を参照)。
光学結像装置では、一方側から入射した光は光反射部で反射しつつ光制御パネルを通過し、他方側の空間に収束して立体像を映し出すことができる。光学結像装置は立体表示機器、ゲーム機、遊戯機器、広告塔等に応用されている。
Conventionally, an optical imaging device has been used in which two light control panels each having a plurality of strip-shaped light reflecting portions are arranged so that the light reflecting portions are orthogonal to each other (for example,
In the optical imaging device, the light incident from one side passes through the light control panel while being reflected by the light reflecting portion, and converges in the space on the other side to project a stereoscopic image. Optical imaging devices are applied to stereoscopic display devices, game machines, game machines, advertising towers, and the like.
光制御パネルは、例えば次のようにして作製することができる。
帯状のベースフィルム上にアリルエステル樹脂組成物を流延し、ロールトゥーロール方式で搬送しつつ硬化せしめて帯状の透明基材を得る。次いで、帯状の透明基材からベースフィルムを剥離した後、ロールトゥーロール方式で搬送しつつ、帯状の透明基材の両面に反射層を形成して帯状積層体を得る。この帯状積層体を所定の長さに裁断して得られた複数の積層体を積層してブロック状の多層積層体とする。この多層積層体を厚さ方向に切断し、板状に切り出すことによって光制御パネルを得る。
The light control panel can be manufactured, for example, as follows.
An allyl ester resin composition is cast on a band-shaped base film and cured while being conveyed by a roll-to-roll method to obtain a band-shaped transparent substrate. Next, after peeling the base film from the strip-shaped transparent substrate, a reflective layer is formed on both surfaces of the strip-shaped transparent substrate while being conveyed by a roll-to-roll method, thereby obtaining a strip-shaped laminate. A plurality of laminates obtained by cutting the strip-like laminate into a predetermined length are laminated to form a block-like multilayer laminate. The multilayer control body is cut in the thickness direction and cut into a plate shape to obtain a light control panel.
従来の光制御パネルにおいては、透明基材の歪み、光学異方性、層剥離などを原因として、光学結像装置において結像に歪みが生じることがあった。
本発明の一態様は、結像品質に優れた光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法を提供することを目的とする。
In a conventional light control panel, there is a case where distortion occurs in image formation in an optical imaging apparatus due to distortion of the transparent substrate, optical anisotropy, delamination, and the like.
An object of one embodiment of the present invention is to provide a light control panel, an optical imaging device, and a method for manufacturing the light control panel, which are excellent in imaging quality.
本発明の一態様は以下の[1]〜[7]に関する。
[1]少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなり、可視光が透過可能な帯状の透明基材を作製する工程と、前記透明基材を長さ方向に搬送しつつ、その少なくとも一方の面に反射層を形成して帯状積層体とする工程と、前記帯状積層体を所定の長さに裁断して複数の第1積層体を得る工程と、複数の前記第1積層体を積層して複層積層体とする工程と、前記複層積層体を、前記透明基材に対して交差する面に沿って切断することにより、前記透明基材から切り出された複数の光透過部と隣り合う前記光透過部の間に形成された前記反射層とを備え、前記反射層が前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面を有する光制御パネルを得る工程と、を有し、前記複数の第1積層体を積層して複層積層体とする工程において、前記複数の第1積層体のうち少なくとも1つの長さ方向と、他の第1積層体のうち少なくとも1つの長さ方向とが異なるように前記第1積層体を積層する光制御パネルの製造方法。
[2]前記複数の第1積層体を積層して複層積層体とする工程において、隣り合う前記第1積層体の長さ方向が互いに直交するように前記第1積層体を積層する前項1に記載の光制御パネルの製造方法。
[3]前記アリルエステル樹脂組成物が、一般式(2)
[4]前記反射層は、アルミニウム、銀及びクロムから選択される金属からなる金属膜を有する前項1〜3のうちいずれか1項に記載の光制御パネルの製造方法。
[5]可視光が透過可能な複数の光透過部と、隣り合う前記光透過部の間に形成された反射層とを備え、前記反射層は、前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面を有し、前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなり、厚さ方向と長さ方向の引張弾性率が異なり、前記複数の光透過部のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係は、他の光透過部のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係とは逆である光制御パネル。
[6]厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より大である前記光透過部と、厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より小である前記光透過部とが交互に並ぶ前項5に記載の光制御パネル。
[7]前項5または6に記載の光制御パネルを少なくとも一対有し、前記一対の光制御パネルは、厚さ方向から見て少なくとも一部が重なり、重なり領域において前記反射層が交差するように配置されている光学結像装置。
One embodiment of the present invention relates to the following [1] to [7].
[1] A step of producing a band-shaped transparent base material, at least part of which is a cured product of the allyl ester resin composition, and capable of transmitting visible light; Forming a reflective layer on one surface to form a strip-shaped laminate, cutting the strip-shaped laminate into a predetermined length to obtain a plurality of first laminates, and a plurality of the first laminates A plurality of light transmission parts cut out from the transparent base material by cutting the multi-layer laminated body along a surface intersecting the transparent base material, and laminating the multi-layer laminated body. And obtaining a light control panel having a light reflecting surface that reflects visible light that passes through the light transmitting portion. In the step of laminating the plurality of first laminated bodies to form a multilayer laminated body, The manufacturing method of the light control panel which laminates | stacks the said 1st laminated body so that at least 1 length direction among the several 1st laminated bodies differs from at least 1 length direction among other 1st laminated bodies. .
[2] In the step of laminating the plurality of first laminated bodies to form a multilayer laminated body, the preceding
[3] The allyl ester resin composition has the general formula (2)
[4] The method for manufacturing a light control panel according to any one of
[5] A plurality of light transmissive portions capable of transmitting visible light and a reflective layer formed between the adjacent light transmissive portions, wherein the reflective layer reflects visible light passing through the light transmissive portions. Having a light reflecting surface, and at least a portion of the light transmitting portion is formed of a cured product of the allyl ester resin composition, and has different tensile elastic modulus in the thickness direction and the length direction, and among the plurality of light transmitting portions. The magnitude relationship between the tensile modulus in the thickness direction and the length direction in at least one is opposite to the magnitude relationship between the tensile modulus in the thickness direction and the length direction in at least one of the other light transmission portions. Light control panel.
[6] The light transmitting portion in which the tensile modulus in the thickness direction is larger than the tensile modulus in the length direction, and the light transmission in which the tensile modulus in the thickness direction is smaller than the tensile modulus in the length direction. 6. The light control panel according to 5 above, wherein the parts are alternately arranged.
[7] At least a pair of the light control panels according to the above 5 or 6 is provided, and at least a part of the pair of light control panels overlaps when viewed from the thickness direction, and the reflective layers intersect in the overlapping region. Arranged optical imaging device.
本発明の一態様によれば、複層積層体の作製にあたり、複数の第1積層体は、少なくとも1つの第1積層体の長さ方向と、他の第1積層体のうち少なくとも1つの長さ方向とが異なるように配置される。
透明基材は搬送時の張力を原因として長さ方向と幅方向とで物性が異なることがあるが、この製造方法によれば、一部の第1積層体の長さ方向が互いに異なることにより、物性の差異が拡大されるのを回避し、複層積層体に生じる歪みを抑制できる。そのため、歪みの少ない光制御パネルが得られる。よって、光学結像装置において、結像品質を高めることができる。
According to one aspect of the present invention, in the production of the multilayer laminate, the plurality of first laminates includes the length direction of at least one first laminate and at least one length of the other first laminates. It arrange | positions so that a vertical direction may differ.
The transparent base material may have different physical properties in the length direction and width direction due to the tension during transportation, but according to this manufacturing method, the length directions of some of the first laminates are different from each other. , It is possible to avoid the difference in physical properties from being enlarged and to suppress the distortion generated in the multilayer laminate. Therefore, a light control panel with less distortion can be obtained. Therefore, imaging quality can be improved in the optical imaging apparatus.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
<光学結像装置>
図1は、実施形態の光学結像装置を模式的に示す分解斜視図である。図2は、光学結像装置10を模式的に示す斜視図である。
図1および図2に示すように、光学結像装置10は、向かい合う一対の光制御パネル1,1と、光制御パネル1,1の外面側にそれぞれ設けられた透明保護層6,6とを備えている。以下、2つの光制御パネル1,1をそれぞれ第1の光制御パネル1A、第2の光制御パネル1Bという。
光制御パネル1,1(1A,1B)は、接着層7を介して固定されている。光制御パネル1,1(1A,1B)と透明保護層6,6とは、接着層8,8を介して固定されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
<Optical imaging device>
FIG. 1 is an exploded perspective view schematically illustrating an optical imaging apparatus according to an embodiment. FIG. 2 is a perspective view schematically showing the
As shown in FIGS. 1 and 2, the
The
[光制御パネル]
図3および図4に示すように、光制御パネル1は、複数の光透過部2と、複数の反射層3とを備えている。
以下の説明においては、XYZ直交座標系を採用することがある。X方向は複数の光透過部2の並び方向である。Y方向は光制御パネル1の第1主面1aに沿う面内においてX方向と直交する方向である。Z方向は、X方向およびY方向に直交する方向であり、光制御パネル1の厚み方向である。光制御パネル1における平面視とは、光制御パネル1の厚み方向(Z方向)から見ることをいう。
複数の光透過部2と、複数の反射層3とは、X方向に交互に配置されている。
[Light control panel]
As shown in FIGS. 3 and 4, the
In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system may be adopted. The X direction is an arrangement direction of the plurality of
The plurality of
[光透過部]
光透過部2は、XZ断面が矩形であってY方向に延在する形状とされている。複数の光透過部2は、長さ方向を揃えて幅方向(X方向)に並べられている。光透過部2は、可視光が透過可能とされた透明層である。光透過部2は、可視光が全波長範囲において透過可能であることが好ましい。
[Light transmission part]
The
光透過部2の第1主面2aおよびその反対面である第2主面2bはXY平面に沿う面である。第1主面2aは光制御パネル1の第1主面1aに含まれる面である。第2主面2bは、光制御パネル1の第1主面1aの反対面である第2主面1bに含まれる面である。光透過部2の側面2cは、隣り合う光透過部2に対向する面であり、YZ平面に沿う面である。
The first
光制御パネル1の反射層3の間隔は、ほぼ光透過部2の並び方向(X方向)の寸法に相当し、その寸法(例えば図4における光透過部2の幅W1)は0.2〜0.5mmが好ましい。複数の光透過部2の幅W1は、互いに等しいことが好ましい。
The interval between the
光透過部2の表面硬度は鉛筆硬度で2H以上が好ましい。表面硬度が鉛筆硬度で2H以上であると、作業工程上で傷がつくなどの不具合が生じにくくなる。
また、光透過部2には前述の鉛筆硬度の他にも、全光線透過率が高いこと、ヘイズ値(曇価)が低いことが望まれる。それにより光制御パネルに用いた際に、高精細な反射像が得られる。全光線透過率は好ましくは90%以上であり、さらに好ましく91%以上である。ヘイズ値は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。
The surface hardness of the
In addition to the pencil hardness described above, the
高精細な画像を得る点では「アッベ数」および「平滑性」も重要な特性となる。アッベ数は屈折率の波長依存性を示す数値であり、光透過部2のアッベ数が低すぎると像が不鮮明になる可能性がある。光透過部2のアッベ数は好ましくは40以上であり、さらに好ましくは50以上である。
In terms of obtaining a high-definition image, “Abbe number” and “smoothness” are also important characteristics. The Abbe number is a numerical value indicating the wavelength dependence of the refractive index, and if the Abbe number of the
平滑性は特に金属膜4を製膜した面(図4における側面2c)で重要であり、平滑性が低すぎると像がぼやけたように見え、質感を損なう可能性がある。平滑性は算術平均粗さ「Ra」で表した場合に、好ましくは10nm未満、さらに好ましくは5nm未満、特に好ましいのは2nm未満である。
さらに、ハンドリング性の点で、光透過部2の比重は低い方が好ましい。
Smoothness is particularly important on the surface on which the
Furthermore, it is preferable that the specific gravity of the
[アリルエステル樹脂]
光透過部2は、アリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成されている。アリルエステル樹脂は熱硬化性樹脂の1種である。アリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成された光透過部2は、透明性に優れ、表面硬度および強度も高い。
一般的に、「アリルエステル樹脂」というと硬化する前のプレポリマー(オリゴマーや添加剤、モノマーを含む)を指す場合とその硬化物を示す場合の二通りの場合があるが、本明細書中では「アリルエステル樹脂」は硬化物を示し、「アリルエステル樹脂組成物」は硬化前のプレポリマーを示すものとする。
[Allyl ester resin]
The
In general, there are two cases where the term “allyl ester resin” refers to a prepolymer (including oligomers, additives, and monomers) before curing, and indicates a cured product thereof. Then, “allyl ester resin” indicates a cured product, and “allyl ester resin composition” indicates a prepolymer before curing.
[アリルエステル樹脂組成物]
アリルエステル樹脂組成物は、アリル基またはメタリル基(以降、あわせて(メタ)アリル基と言う場合がある。)とエステル構造を有する化合物を主な硬化成分として含有する組成物である。
[Allyl ester resin composition]
The allyl ester resin composition is a composition containing an allyl group or a methallyl group (hereinafter sometimes referred to as a (meth) allyl group) and a compound having an ester structure as main curing components.
(メタ)アリル基とエステル構造を有する化合物は、[1](メタ)アリル基及び水酸基を含む化合物(ここではアリルアルコールと総称する)とカルボキシル基を含む化合物とのエステル化反応、[2](メタ)アリル基及びカルボキシル基を含む化合物と水酸基を含む化合物とのエステル化反応、または[3]アリルアルコールとジカルボン酸からなるエステル化合物と多価アルコールとのエステル交換反応により得ることができる。カルボキシル基を含む化合物がジカルボン酸とジオールとのポリエステルオリゴマーである場合には、末端のみアリルアルコールとのエステルとすることもできる。 The compound having a (meth) allyl group and an ester structure is [1] an esterification reaction between a compound containing a (meth) allyl group and a hydroxyl group (herein collectively referred to as allyl alcohol) and a compound containing a carboxyl group, [2] It can be obtained by an esterification reaction between a compound containing a (meth) allyl group and a carboxyl group and a compound containing a hydroxyl group, or [3] an ester exchange reaction between an ester compound consisting of allyl alcohol and dicarboxylic acid and a polyhydric alcohol. When the compound containing a carboxyl group is a polyester oligomer of a dicarboxylic acid and a diol, only the terminal can be an ester with allyl alcohol.
(メタ)アリルアルコールとジカルボン酸からなるエステル化合物の具体例としては、下記一般式(1)
で表される化合物の中から選ばれる少なくとも1種以上の化合物が挙げられる。この化合物は後述のアリルエステルオリゴマーの原料となるほか、反応性希釈剤(反応性モノマー)としてアリルエステル樹脂組成物に含まれてもよい。一般式(1)中のA1は後述の一般式(2)、一般式(3)におけるA2、A3と同様のものが好ましい。
As a specific example of the ester compound consisting of (meth) allyl alcohol and dicarboxylic acid, the following general formula (1)
And at least one compound selected from the compounds represented by: In addition to being a raw material for the allyl ester oligomer described below, this compound may be included in the allyl ester resin composition as a reactive diluent (reactive monomer). A 1 in general formula (1) is preferably the same as A 2 and A 3 in general formula (2) and general formula (3) described later.
アリルエステル樹脂組成物の主な硬化成分である(メタ)アリル基とエステル構造を有する化合物としては、アリル基及びメタリル基の少なくともいずれか一方を末端基とし、多価アルコールとジカルボン酸とから形成されたエステル構造を有するアリルエステル化合物(以下、これを「アリルエステルオリゴマー」と記載することがある。)であることが好ましい。
また、その他の成分として、後述する硬化剤、反応性モノマー、添加剤、その他ラジカル反応性の樹脂成分等を含有してもよい。
As a compound having a (meth) allyl group, which is the main curing component of the allyl ester resin composition, and an ester structure, it is formed from a polyhydric alcohol and a dicarboxylic acid with at least one of an allyl group and a methallyl group as a terminal group. It is preferable that the allyl ester compound having an ester structure (hereinafter, this may be referred to as “allyl ester oligomer”).
Moreover, you may contain the hardening | curing agent mentioned later, a reactive monomer, an additive, other radical reactive resin components etc. as another component.
[アリルエステルオリゴマー]
アリルエステルオリゴマーとしては、下記一般式(2)で表される基を末端基として有し、かつ下記一般式(3)で表される構造を構成単位として有する化合物が好ましい。
[Allyl ester oligomer]
As the allyl ester oligomer, a compound having a group represented by the following general formula (2) as a terminal group and a structure represented by the following general formula (3) as a structural unit is preferable.
アリルエステルオリゴマーにおいて、前記一般式(2)で示される末端基の数は少なくとも2個以上であるが、前記一般式(3)のXが分岐構造を有する場合には3個以上となる。この場合、各末端基のR3も複数個存在することになるが、これらの各R3は必ずしも同じ種類でなくてもよく、ある末端はアリル基、他の末端はメタリル基という構造であっても構わない。 In the allyl ester oligomer, the number of terminal groups represented by the general formula (2) is at least 2 or more, but when X in the general formula (3) has a branched structure, the number is 3 or more. In this case, although also R 3 at each end groups there are a plurality, each of these R 3 may not necessarily be the same type, some end there in the structure of an allyl group, the other terminal methallyl group It doesn't matter.
また、全てのR3がアリル基またはメタリル基でなければならないということはなく、硬化性を損なわない範囲で、その一部がメチル基またはエチル基等の非重合性基であってもよい。 Moreover, not all R 3 must be an allyl group or a methallyl group, and a part thereof may be a non-polymerizable group such as a methyl group or an ethyl group as long as the curability is not impaired.
A2で示される構造についても同様に、各末端基で異なっていてもよい。例えば、ある末端のA2はベンゼン環、他方はシクロヘキサン環という構造であってもよい。
一般式(2)におけるA2はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する1種以上の有機残基である。ジカルボン酸に由来する部分はA2に隣接するカルボニル構造で示されている。従って、A2の部分はベンゼン骨格やシクロヘキサン骨格を示す。
Similarly, the structure represented by A 2 may be different for each terminal group. For example, A 2 at one terminal may be a benzene ring and the other may be a cyclohexane ring.
A 2 in the general formula (2) is one or more organic residues having at least one of an alicyclic structure and an aromatic ring structure derived from a dicarboxylic acid. Portion derived from dicarboxylic acid is shown by a carbonyl structure adjacent to A 2. Accordingly, the A 2 portion represents a benzene skeleton or a cyclohexane skeleton.
A2構造を誘導するジカルボン酸としては特に制限はないが、原料の入手しやすさの点からは、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル−m,m’−ジカルボン酸、ジフェニル−p,p’−ジカルボン酸、ベンゾフェノン−4,4’−ジカルボン酸、p−フェニレンジ酢酸、p−カルボキシフェニル酢酸、メチルテレフタル酸、テトラクロルフタル酸が好ましく、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸が特に好ましい。 There are no particular limitations on the dicarboxylic acid to induce A 2 structure, from the viewpoint of ready availability of raw materials, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic Acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyl-m, m′-dicarboxylic acid, diphenyl-p, p′-dicarboxylic acid, benzophenone-4, 4′-dicarboxylic acid, p-phenylenediacetic acid, p-carboxyphenylacetic acid, methyl terephthalic acid and tetrachlorophthalic acid are preferred, and terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid are particularly preferred.
また、本発明の効果を損なわない範囲であれば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、無水エンディック酸、無水クロレンド酸等の(反応時において)非環状のジカルボン酸を使用してもよい。 In addition, within the range that does not impair the effects of the present invention, acyclic dicarboxylic acids (during the reaction) such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, endic acid anhydride and chlorendic acid are used. Also good.
一般式(3)で示される構造単位は、アリルエステルオリゴマー中に少なくとも1つは必要であるが、この構造が繰り返されることによりアリルエステルオリゴマー全体の分子量がある程度大きくなった方が適切な粘度が得られるので作業性が向上し、硬化物の靭性も向上するので好ましい。しかし、分子量が大きくなりすぎると架橋点間分子量が大きくなりすぎるため、Tgが低下し、耐熱性が低下するおそれもある。用途に応じて適切な分子量に調整することが大切である。 At least one structural unit represented by the general formula (3) is necessary in the allyl ester oligomer. However, when this structure is repeated, the molecular weight of the allyl ester oligomer as a whole increases to some extent. Since it is obtained, workability is improved, and the toughness of the cured product is also improved, which is preferable. However, if the molecular weight is too large, the molecular weight between cross-linking points is too large, so that Tg is lowered and heat resistance may be lowered. It is important to adjust to an appropriate molecular weight according to the application.
アリルエステルオリゴマーの重量平均分子量は500〜200,000が好ましく、1,000〜100,000がさらに好ましい。
また、一般式(3)におけるA3はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する1種以上の有機残基であり、その定義及び好ましい化合物の例は一般式(2)におけるA2と同様である。
The weight average molecular weight of the allyl ester oligomer is preferably 500 to 200,000, more preferably 1,000 to 100,000.
In addition, A 3 in the general formula (3) is one or more organic residues having at least one of an alicyclic structure and an aromatic ring structure derived from dicarboxylic acid. The same as A 2 in the general formula (2).
一般式(3)中のXは、多価アルコールから誘導された1種以上の有機残基を表す。
多価アルコールとは2個以上の水酸基を有する化合物であり、X自体は、多価アルコールの水酸基以外の骨格部分を示す。
また、多価アルコール中の水酸基は少なくとも2個が結合していればよいため、原料となる多価アルコールが3価以上、すなわち、水酸基が3個以上のときは、未反応の水酸基が残っていてもよい。
X in the general formula (3) represents one or more organic residues derived from a polyhydric alcohol.
The polyhydric alcohol is a compound having two or more hydroxyl groups, and X itself represents a skeleton portion other than the hydroxyl groups of the polyhydric alcohol.
In addition, since at least two hydroxyl groups in the polyhydric alcohol need only be bonded, when the polyhydric alcohol as a raw material is trivalent or more, that is, when there are three or more hydroxyl groups, unreacted hydroxyl groups remain. May be.
多価アルコールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、イソシアヌル酸のエチレンオキシド3モル付加体、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのエチレンオキシド3モル付加体、D−ソルビトール及び水素化ビスフェノールA等が挙げられる。これらの化合物の製造方法としては特に制限はないが、例えば特公平6−74239号公報に挙げられる方法で製造することができる。
Specific examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6 -Hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol,
アリルエステルオリゴマー中の一般式(3)で示される構造単位としては、同一の構造単位が繰り返されていてもよいが、異なる構造単位が含まれていてもよい。つまり、アリルエステルオリゴマーは共重合タイプであってもよい。この場合、1つのアリルエステルオリゴマーには数種類のXが存在することになる。例えば、Xの1つがプロピレングリコール由来の残基、もう1つのXがトリメチロールプロパン由来の残基であるというような構造でもよい。この場合、アリルエステルオリゴマーはトリメチロールプロパン残基の部分で枝分かれすることになる。A3も同様にいくつかの種類が存在してもよい。以下にR3がアリル基、A2,A3がイソフタル酸由来の残基、Xがプロピレングリコールとトリメチロールプロパンの場合の構造式を示す。 As the structural unit represented by the general formula (3) in the allyl ester oligomer, the same structural unit may be repeated, but different structural units may be included. That is, the allyl ester oligomer may be a copolymer type. In this case, several types of X exist in one allyl ester oligomer. For example, the structure may be such that one of X is a residue derived from propylene glycol and the other X is a residue derived from trimethylolpropane. In this case, the allyl ester oligomer will be branched at the trimethylolpropane residue. A 3 may also be present are several types as well. A structural formula in the case where R 3 is an allyl group, A 2 and A 3 are residues derived from isophthalic acid, and X is propylene glycol and trimethylolpropane is shown below.
[硬化剤]
アリルエステル樹脂組成物には硬化剤を使用してもよい。使用できる硬化剤としては特に制限はなく、一般に重合性樹脂の硬化剤として用いられているものを用いることができる。中でも、アリル基の重合開始の点からラジカル重合開始剤を添加することが望ましい。ラジカル重合開始剤としては、有機過酸化物、光重合開始剤、アゾ化合物等が挙げられる。
[Curing agent]
A curing agent may be used in the allyl ester resin composition. There is no restriction | limiting in particular as a hardening | curing agent which can be used, What is generally used as a hardening | curing agent of polymeric resin can be used. Among these, it is desirable to add a radical polymerization initiator from the viewpoint of starting polymerization of the allyl group. Examples of the radical polymerization initiator include organic peroxides, photopolymerization initiators, azo compounds and the like.
有機過酸化物としては、ジアルキルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル等の公知のものが使用可能であり、その具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、2,5−ジメチル2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルクミルパーオキサイド、p−メチルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート及び2,5−ジメチル−2,5−ジブチルパーオキシヘキシン−3等が挙げられる。 As the organic peroxide, known compounds such as dialkyl peroxides, acyl peroxides, hydroperoxides, ketone peroxides, peroxyesters and the like can be used. Specific examples thereof include benzoyl peroxide, 1,1 -Bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4,4-dibutylperoxycyclohexyl) propane, t-butylperoxy-2-ethylhexanate, 2,5-dimethyl-2,5-di (T-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide, p-methylhydroperoxide, t-butyl Hydroperoxide, cumene hydroperoxide, dicumyl Over peroxide, di -t- butyl peroxide, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t- butyl peroxy isopropyl monocarbonate and 2,5-dimethyl-2,5-dibutyl peroxy f relaxin -3, and the like.
また、上記の光重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤は1種を単独で、または2種以上を混合または組み合わせて用いてもよい。
Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl)- 2-morpholinopropane-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2,4, Examples include 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
これらの硬化剤の配合量には特に制限はないが、アリルエステル樹脂組成物100質量部に対し、0.1〜10質量部配合することが好ましく、0.5〜5質量部配合することがより好ましい。硬化剤の配合量が0.1質量部より少ないと充分な硬化速度が得ることが困難であり、また配合量が10質量部を超えると、最終的な硬化物がもろくなり、機械強度が低下する場合がある。 Although there is no restriction | limiting in particular in the compounding quantity of these hardening | curing agents, It is preferable to mix | blend 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of allyl ester resin compositions, and mixing 0.5-5 mass parts. More preferred. When the blending amount of the curing agent is less than 0.1 parts by mass, it is difficult to obtain a sufficient curing rate. When the blending amount exceeds 10 parts by mass, the final cured product becomes brittle and the mechanical strength decreases. There is a case.
[反応性モノマー]
アリルエステル樹脂組成物には、硬化反応速度のコントロール、粘度調整(作業性の改善)、架橋密度の向上、機能付加等を目的として、反応性モノマー(反応性希釈剤)を加えることもできる。
これらの反応性モノマーとしては特に制限はなく、種々のものが使用できるが、アリルエステルオリゴマーと反応させるためにはビニル基、アリル基等のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を有するモノマーが好ましい。例えば、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニル化合物、飽和脂肪酸または芳香族カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体、架橋性多官能モノマー等が挙げられる。中でも、架橋性多官能性モノマーを使用すれば、硬化物の架橋密度を制御することもできる。これら反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示す。
[Reactive monomer]
A reactive monomer (reactive diluent) can also be added to the allyl ester resin composition for the purpose of controlling the curing reaction rate, adjusting the viscosity (improving workability), improving the crosslinking density, and adding functions.
These reactive monomers are not particularly limited, and various types can be used. However, in order to react with an allyl ester oligomer, a monomer having a radical polymerizable carbon-carbon double bond such as a vinyl group or an allyl group is used. preferable. Examples thereof include unsaturated fatty acid esters, aromatic vinyl compounds, vinyl esters of saturated fatty acids or aromatic carboxylic acids and derivatives thereof, crosslinkable polyfunctional monomers, and the like. Especially, if a crosslinkable polyfunctional monomer is used, the crosslinking density of hardened | cured material can also be controlled. Preferred specific examples of these reactive monomers are shown below.
不飽和脂肪酸エステルとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート及びメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;
フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレート、フルオロフェニル(メタ)アクリレート、クロロフェニル(メタ)アクリレート、シアノフェニル(メタ)アクリレート、メトキシフェニル(メタ)アクリレート及びビフェニル(メタ)アクリレート等のアクリル酸芳香族エステル;
フルオロメチル(メタ)アクリレート及びクロロメチル(メタ)アクリレート等のハロアルキル(メタ)アクリレート;
さらに、グリシジル(メタ)アクリレート、アルキルアミノ(メタ)アクリレート、及びα−シアノアクリル酸エステル等が挙げられる。
As unsaturated fatty acid ester, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate Alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl (meth) acrylate and methylcyclohexyl (meth) acrylate;
Phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, fluorophenyl (meth) acrylate, chlorophenyl (meth) acrylate, cyanophenyl (meth) acrylate, methoxyphenyl (meth) acrylate and biphenyl (meth) ) Acrylic acid aromatic esters such as acrylates;
Haloalkyl (meth) acrylates such as fluoromethyl (meth) acrylate and chloromethyl (meth) acrylate;
Furthermore, glycidyl (meth) acrylate, alkylamino (meth) acrylate, α-cyanoacrylic acid ester and the like can be mentioned.
芳香族ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、スチレンスルホン酸、4−ヒドロキシスチレン及びビニルトルエン等を挙げることができる。
飽和脂肪酸または芳香族カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及び安息香酸ビニル等を挙げることができる。
Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, chlorostyrene, styrene sulfonic acid, 4-hydroxystyrene, vinyltoluene and the like.
Examples of vinyl esters of saturated fatty acids or aromatic carboxylic acids and derivatives thereof include vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl benzoate.
架橋性多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、オリゴエステルジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)プロパン及び2,2−ビス(4−ω−(メタ)アクリロイロキシピリエトキシ)フェニル)プロパン等のジ(メタ)アクリレート;
フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジメタリル、テレフタル酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,5−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,4−キシレンジカルボン酸アリル及び4,4’−ジフェニルジカルボン酸ジアリル等の芳香族カルボン酸ジアリル類;1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル及びジビニルベンゼン等の二官能の架橋性モノマー;トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストーリルトリ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アリルイソシアヌレート、トリ(メタ)アリルシアヌレート、トリアリルトリメリテート及びジアリルクロレンデート等の三官能の架橋性モノマー;
さらにペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート等の四官能以上の架橋性基を有するモノマーが挙げられる。
As the crosslinkable polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentadiol di (meth) acrylate, 1,6-hexadiol di (meth) acrylate, neopentyl Glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, oligoester di (meth) acrylate, polybutadiene di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) pro Emissions and 2,2-bis (4-.omega. (meth) acryloyloxy pyridinium) phenyl) di (meth) acrylates such as propane;
Diallyl phthalate, diallyl isophthalate, dimethallyl isophthalate, diallyl terephthalate, triallyl trimellitic acid,
Furthermore, monomers having a tetrafunctional or higher functional crosslinkable group, such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, and the like can be given.
上記の反応性モノマーは、1種単独で、または2種以上を混合または組み合わせて用いることができる。これらの反応性モノマーの樹脂成分の使用量には特に制限はないが、アリルエステルオリゴマー100質量部に対して、1〜1000質量部であることが好ましく、2〜500質量部であることがより好ましく、5〜100質量部であることが特に好ましい。反応性モノマーの使用量が1質量部未満であると、粘度低下効果が小さく、作業性が悪化したり、また、反応性モノマーとして単官能性モノマーを使用した場合には、架橋密度が低くなり硬度が不十分になることがあるため好ましくない。また、使用量が1000質量部を超えるとアリルエステル樹脂自体の優れた透明性や機械強度が低下する場合があり好ましくない。 Said reactive monomer can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of the resin component of these reactive monomers, It is preferable that it is 1-1000 mass parts with respect to 100 mass parts of allyl ester oligomers, and it is more preferable that it is 2-500 mass parts. Preferably, it is 5-100 mass parts. When the amount of the reactive monomer used is less than 1 part by mass, the effect of decreasing the viscosity is small, workability is deteriorated, and when a monofunctional monomer is used as the reactive monomer, the crosslinking density is lowered. This is not preferable because the hardness may be insufficient. Moreover, when the usage-amount exceeds 1000 mass parts, the outstanding transparency and mechanical strength of allyl ester resin itself may fall, and it is unpreferable.
[ラジカル反応性の樹脂組成物]
アリルエステル樹脂組成物は、諸物性を改良する目的でラジカル反応性の樹脂成分を含んでいてもよい。これら樹脂成分としては不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂等が挙げられる。
[Radically reactive resin composition]
The allyl ester resin composition may contain a radical reactive resin component for the purpose of improving various physical properties. Examples of these resin components include unsaturated polyester resins and vinyl ester resins.
不飽和ポリエステル樹脂は、多価アルコールと不飽和多塩基酸(及び必要に応じて飽和多塩基酸)とのエステル化反応による縮合生成物を、必要に応じてスチレン等の重合性不飽和化合物に溶解したもので、例えば「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社,1988年発行,第16頁〜第18頁及び第29頁〜第37頁などに記載されている樹脂を挙げることができる。この不飽和ポリエステル樹脂は、公知の方法で製造することができる。
Unsaturated polyester resin can be obtained by converting a condensation product obtained by esterification reaction of a polyhydric alcohol and an unsaturated polybasic acid (and a saturated polybasic acid if necessary) into a polymerizable unsaturated compound such as styrene. For example, the resins described in “Polyester Resin Handbook”, published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1988,
ビニルエステル樹脂はエポキシ(メタ)アクリレートとも呼ばれ、一般にエポキシ樹脂に代表されるエポキシ基を有する化合物と(メタ)アクリル酸などの重合性不飽和基を有するカルボキシル化合物のカルボキシル基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有する樹脂、またはカルボキシル基を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレート等の分子内にエポキシ基を持つ重合性不飽和化合物のエポキシ基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有する樹脂を指す。詳しくは「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社,1988年発行,第336頁〜第357頁などに記載されており、その製造は、公知の方法により行うことができる。 Vinyl ester resin, also called epoxy (meth) acrylate, is a ring-opening reaction between a compound having an epoxy group typically represented by an epoxy resin and a carboxyl group of a carboxyl compound having a polymerizable unsaturated group such as (meth) acrylic acid. Polymerized by a ring-opening reaction between a resin having a polymerizable unsaturated group produced by the above, or a compound having a carboxyl group and an epoxy group of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate It refers to a resin having a polymerizable unsaturated group. Details are described in “Polyester Resin Handbook”, published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1988, pp. 336 to 357, and can be produced by known methods.
ビニルエステル樹脂の原料となるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ビスフェノールAアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ビスフェノールFアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ノボラック型ポリグリシジルエーテル類等が挙げられる。
上記のラジカル反応性の樹脂成分は、1種単独で、または2種以上を混合または組み合わせて用いることができる。
The epoxy resin used as the raw material for the vinyl ester resin includes bisphenol A diglycidyl ether and its high molecular weight homologue, glycidyl ether of bisphenol A alkylene oxide adduct, bisphenol F diglycidyl ether and its high molecular weight homologue, and bisphenol F alkylene oxide. Examples include adduct glycidyl ethers and novolac-type polyglycidyl ethers.
The above radical-reactive resin components can be used singly or in combination of two or more.
これらのラジカル反応性の樹脂成分の使用量には特に制限はないが、アリルエステルオリゴマー100質量部に対して、1〜1000質量部であることが好ましく、2〜500質量部であることがより好ましく、5〜100質量部であることが特に好ましい。
反応性モノマーの使用量が1質量部未満であると、ラジカル反応性の樹脂成分由来の機械強度向上などの効果が小さく、作業性が悪化したり、成形性が悪化したりするため好ましくない。また、使用量が1000質量部を超えるとアリルエステル樹脂自体の耐熱性が現れない場合があり好ましくない。
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of these radical reactive resin components, It is preferable that it is 1-1000 mass parts with respect to 100 mass parts of allyl ester oligomers, and it is more preferable that it is 2-500 mass parts. Preferably, it is 5-100 mass parts.
When the amount of the reactive monomer used is less than 1 part by mass, the effect of improving the mechanical strength derived from the radical reactive resin component is small, and workability is deteriorated or moldability is deteriorated. Moreover, when the usage-amount exceeds 1000 mass parts, the heat resistance of allyl ester resin itself may not appear, and it is unpreferable.
[添加剤]
アリルエステル樹脂組成物には、硬度、強度、成形性、耐久性、耐水性を改良する目的で、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、離型剤、滑剤、撥水剤、難燃剤、低収縮剤、架橋助剤などの添加剤を必要に応じて添加することができる。
酸化防止剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、ラジカル連鎖禁止剤であるフェノール系酸化防止剤やアミン系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤が特に好ましい。フェノール系酸化防止剤としては2,6−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2‘−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)及び1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン等が挙げられる。
[Additive]
In order to improve hardness, strength, moldability, durability, and water resistance, allyl ester resin compositions have ultraviolet absorbers, antioxidants, antifoaming agents, leveling agents, mold release agents, lubricants, and water repellents. Additives such as flame retardants, low shrinkage agents, and crosslinking aids can be added as necessary.
There is no restriction | limiting in particular as antioxidant, What is generally used can be used. Among them, phenolic antioxidants and amine antioxidants that are radical chain inhibitors are preferable, and phenolic antioxidants are particularly preferable. Phenol antioxidants include 2,6-t-butyl-p-cresol, 2,6-t-butyl-4-ethylphenol, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane and the like can be mentioned.
滑剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、金属石鹸系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、脂肪族炭化水素系滑剤などが好ましく、金属石鹸系滑剤が特に好ましい。金属石鹸系滑剤としては、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム及びステアリン酸アルミニウム等が挙げられる。これらは複合体として用いられても良い。 There is no restriction | limiting in particular as a lubricant, What is generally used can be used. Among these, metal soap lubricants, fatty acid ester lubricants, aliphatic hydrocarbon lubricants and the like are preferable, and metal soap lubricants are particularly preferable. Examples of the metal soap lubricant include barium stearate, calcium stearate, zinc stearate, barium stearate, magnesium stearate, and aluminum stearate. These may be used as a complex.
紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤が好ましく、特に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(2−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as a ultraviolet absorber, The thing generally used can be used. Among these, benzophenone ultraviolet absorbers, benzotriazole ultraviolet absorbers, and cyanoacrylate ultraviolet absorbers are preferable, and benzophenone ultraviolet absorbers are particularly preferable. Examples of benzophenone ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-butylphenyl) benzotriazole and 2- (2-hydroxy-3). '-T-butylphenyl) benzotriazole and the like.
しかし、これらの添加剤は上述した具体例に制限されるものではなく、本発明の目的、または効果を阻害しない範囲であらゆるものを添加することができる。 However, these additives are not limited to the specific examples described above, and any additive can be added within a range that does not impair the object or effect of the present invention.
[アリルエステル樹脂組成物の硬化物]
アリルエステル樹脂組成物を、例えば光照射及び加熱の少なくともいずれか一方により硬化させることによって、透明性、耐熱性に優れたフィルムあるいはシートを得ることができる。
なお、フィルムは、通常、膜厚が250μm未満のものを指し、シートは厚みが250μm以上のものを指す。
[Hardened product of allyl ester resin composition]
By curing the allyl ester resin composition by, for example, at least one of light irradiation and heating, a film or sheet excellent in transparency and heat resistance can be obtained.
The film usually refers to a film having a thickness of less than 250 μm, and the sheet refers to a film having a thickness of 250 μm or more.
樹脂組成物からフィルムあるいはシートを作製するにあたっては、一定の表面硬度が得られれば、どのような硬化方法を選択してもよい。一定以上の表面硬度を得るには、樹脂組成物をフィルム形状に塗工した後、光硬化及び熱硬化手法、もしくは熱硬化手法のみをとるのが好ましい。 In producing a film or sheet from the resin composition, any curing method may be selected as long as a certain surface hardness is obtained. In order to obtain a surface hardness of a certain level or more, it is preferable to apply only a photocuring and thermosetting method or a thermosetting method after coating the resin composition in a film shape.
樹脂組成物を硬化させる際の条件等には特に制限はないが、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムやPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムなどの透明プラスチックフィルム、金属シート、もしくはガラス板上に塗工し流延させた後、光硬化及び熱硬化、もしくは熱硬化を実施するのが好適である。 The conditions for curing the resin composition are not particularly limited, but it is applied to a transparent plastic film such as a PET (polyethylene terephthalate) film or a PEN (polyethylene naphthalate) film, a metal sheet, or a glass plate. After stretching, it is preferable to carry out photocuring and heat curing, or heat curing.
光硬化の場合、紫外線照射法が一般的であり、例えば紫外線ランプを使用して紫外線を発生させて照射することができる。紫外線ランプには、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノンランプ、キセノン/水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプ、無電極ランプ、LEDランプ等があり、いずれも使用することができる。これらの紫外線ランプの中でも、メタルハライドランプもしくは高圧水銀ランプが好ましい。照射条件はそれぞれのランプ条件によって異なるが、照射露光量が20〜5000mJ/cm2程度が好ましい。また、紫外線ランプには楕円型、放物線型、拡散型等の反射板を取り付け、冷却対策として熱線カットフィルター等を装着するのが好ましい。また、硬化促進のために、予め30〜80℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。 In the case of photocuring, an ultraviolet irradiation method is generally used. For example, ultraviolet rays can be generated and irradiated using an ultraviolet lamp. Examples of ultraviolet lamps include metal halide lamps, high-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, pulse-type xenon lamps, xenon / mercury mixed lamps, low-pressure sterilization lamps, electrodeless lamps, and LED lamps, all of which can be used. Among these ultraviolet lamps, a metal halide lamp or a high-pressure mercury lamp is preferable. Irradiation conditions vary depending on each lamp condition, but the irradiation exposure dose is preferably about 20 to 5000 mJ / cm 2 . In addition, it is preferable to attach an elliptical, parabolic, diffusive or the like reflector to the ultraviolet lamp, and a heat ray cut filter or the like as a cooling measure. Moreover, in order to accelerate | stimulate hardening, you may heat to 30-80 degreeC previously, and may irradiate this with an ultraviolet-ray.
熱硬化の場合、加熱方法は特に限定されないが、熱風オーブン、遠赤外線オーブン等の均一性に優れた加熱方法がよい。硬化温度は約100〜200℃、好ましくは120〜180℃である。硬化時間は、硬化方法により異なるが、熱風オーブンであれば0.5分〜5時間、遠赤外線オーブンであれば0.5〜60分間が好ましい。 In the case of thermosetting, the heating method is not particularly limited, but a heating method excellent in uniformity such as a hot air oven or a far infrared oven is preferable. The curing temperature is about 100 to 200 ° C, preferably 120 to 180 ° C. Although the curing time varies depending on the curing method, it is preferably 0.5 minutes to 5 hours for a hot air oven and 0.5 to 60 minutes for a far infrared oven.
また、光重合開始剤を用いた紫外線硬化や、有機過酸化物やアゾ化合物を用いた熱硬化は、ラジカル反応であるため酸素による反応阻害を受けやすい。硬化反応時の酸素阻害を防止するため、硬化性組成物は、透明プラスチックフィルム、金属シート、もしくはガラス板等のベースシート、ベースフィルム上へ塗工、流延後、光硬化を実施する前に、硬化性組成物上へ透明カバーフィルムを施し、流延された硬化性組成物表面の酸素濃度を1%以下にすることが好ましい。透明カバーフィルムは、表面に空孔がなく、酸素透過率の小さいもので、かつ紫外線硬化や熱硬化時に発生する熱に耐えられるものを使用する必要がある。例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PP(ポリプロピレン)、アセテート樹脂、アクリル樹脂、フッ化ビニル、ポリアミド、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー(ノルボルネン樹脂)等のフィルムであり、これらを単独で、あるいは2種類以上を組み合わせて使用できる。 In addition, ultraviolet curing using a photopolymerization initiator and thermal curing using an organic peroxide or an azo compound are radical reactions and thus are susceptible to reaction inhibition by oxygen. In order to prevent oxygen inhibition during the curing reaction, the curable composition should be applied to a transparent plastic film, a metal sheet, or a base sheet such as a glass plate, applied onto the base film, cast, and before photocuring. It is preferable that a transparent cover film is applied on the curable composition so that the oxygen concentration on the surface of the cast curable composition is 1% or less. It is necessary to use a transparent cover film that does not have pores on the surface, has a low oxygen permeability, and can withstand the heat generated during ultraviolet curing or thermal curing. For example, PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PC (polycarbonate), PP (polypropylene), acetate resin, acrylic resin, vinyl fluoride, polyamide, polyarylate, polyethersulfone, cycloolefin polymer (norbornene resin) ) And the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
ただし、硬化後の硬化物との剥離が可能でなければならないため、これらのベースシート、ベースフィルム、透明カバーフィルムの表面にシリコーン樹脂塗布、フッ素樹脂塗布等の易剥離処理が施されていてもよい。 However, since it must be possible to peel off the cured product after curing, the surface of these base sheet, base film, and transparent cover film may be subjected to easy peeling treatment such as silicone resin coating or fluororesin coating. Good.
アリルエステル樹脂組成物は液状であることから、公知の塗布装置を用いて所定の形状や形態となるように塗布、塗工等を行うことができる。塗布方式としては、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、スピナーコート等が挙げられる。なお、塗布、塗工、成形時のアリルエステル樹脂組成物の好ましい粘度範囲としては常温で100〜100,000mPa・sの範囲である。 Since the allyl ester resin composition is in a liquid state, it can be applied, coated, and the like so as to have a predetermined shape and form using a known coating apparatus. Examples of the coating method include gravure coating, roll coating, reverse coating, knife coating, die coating, lip coating, doctor coating, extrusion coating, slide coating, wire bar coating, curtain coating, and spinner coating. In addition, as a preferable viscosity range of the allyl ester resin composition at the time of application | coating, coating, and shaping | molding, it is the range of 100-100,000 mPa * s at normal temperature.
[反射層]
反射層3は、例えば金属膜4,4と、金属膜4,4の間に設けられた接着層5とを有する。金属膜4を構成する金属の種類に特に限定はないが、可視光の反射率が高いものが望ましい。
反射像の元映像の色調を正確に反映するためには、金属膜4を構成する金属は、無彩色(例えば銀色)の金属であることが望ましい。使用できる金属としては、アルミニウム、銀、金、チタン、ニッケル、銅,錫、インジウム、クロム、これらの合金が挙げられる。これらの中でもアルミニウム、銀、クロムが好ましい。
[Reflective layer]
The
In order to accurately reflect the color tone of the original image of the reflected image, it is desirable that the metal constituting the
金属膜4は、隣り合う光透過部2,2の間に、光透過部2の側面2cに沿って光透過部2の長さ方向に延在する帯状に形成されている。金属膜4は、光透過部2の側面2cの全体を覆う形状であることが好ましい。金属膜4は、例えば側面2cに接して形成されている。金属膜4は、例えば光透過部2の主面2a,2bに対して垂直に形成されている。
金属膜4の、少なくとも光透過部2側の面は、光透過部2を通る可視光が反射する光反射面4aである。光反射面4aは、例えば光透過部2の主面2a,2bに対して垂直な面である。
The
At least the surface of the
接着層5は、例えば粘着剤、接着剤等からなる。接着層5の素材は特に限定されない。粘着剤としてはゴム系、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系等が挙げられる。接着剤としてはフェノール樹脂、酢酸ビニル系、クロロプレンゴム系等の溶剤系、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコーンゴム系等の硬化反応タイプ、スチレンブタジエンゴム系等の熱溶融タイプが挙げられる。
接着層5は、光硬化性(例えば紫外線硬化性)の樹脂からなる接着剤であることが好ましい。接着層5は、金属膜4の全面にわたって形成されていることが好ましい。
The
The
光制御パネル1,1(1A,1B)は、平面視において少なくとも一部が重なり、重なり領域において反射層3,3(3A,3B)が交差するように配置される。図1に示す光制御パネル1A,1Bは、平面視において全域が重なるように配置され、反射層3A,3Bは直交している。
The
光制御パネル1の厚さは、そのサイズ(例えばX方向およびY方向の寸法)に応じて適宜調整すればよいが、例えば、0.5〜10mmが好ましい。
The thickness of the
[透明保護層]
透明保護層6,6は、フィルム状またはシート状に形成され、可視光(例えば波長380nm〜750nm)が透過可能とされている。透明保護層6は、可視光が全波長範囲において透過可能であることが好ましい。図1および図2では、透明保護層6,6は、それぞれ第1の光制御パネル1Aの上面側および第2の光制御パネル1Bの下面側に設けられている。第1の光制御パネル1Aの上面側の透明保護層6を第1の透明保護層6Aといい、第2の光制御パネル1Bの下面側の透明保護層6を第2の透明保護層6Bという。透明保護層は、透明保護部ともいう。
[Transparent protective layer]
The transparent
透明保護層6は、例えばアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる。透明保護層6の構成材料はガラスなどでもよい。
透明保護層6の厚さは、0.05〜1mm(好ましくは0.1〜0.5mm)が好適である。透明保護層6の厚さを0.05mm以上とすることによって、透明保護層6の強度を高めることができる。透明保護層6の厚さを1mm以下とすることによって、透明保護層6の透明度を高めることができる。
The transparent
The thickness of the transparent
接着層7,8は、例えば粘着剤、接着剤等からなる。接着層7,8の素材は無色透明であれば特に限定されない。粘着剤としてはゴム系、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系等が挙げられる。接着剤としてはフェノール樹脂、酢酸ビニル系、クロロプレンゴム系等の溶剤系、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコーンゴム系等の硬化反応タイプ、スチレンブタジエンゴム系等の熱溶融タイプが挙げられる。
接着層7,8は、光硬化性(例えば紫外線硬化性)の樹脂からなる接着剤であることが好ましい。
The
The
図2に示すように、光学結像装置10では、光学結像装置10の一方側(図2における下方側)からの光L1,L2は、第2の透明保護層6Bを透過して第2の光制御パネル1Bに入射し、反射層3Bの光反射面4aで反射する。反射層3Bの光反射面4aからの反射光RB1,RB2は第1の光制御パネル1Aに入射し、反射層3Aの光反射面4aで反射する。反射層3Aの光反射面4aからの反射光RA1,RA2は、第1の透明保護層6Aを透過し、光学結像装置10の他方側(図2における上方側)に、立体像20を表示する。
As shown in FIG. 2, in the
<光学結像装置の製造方法>
次に、光学結像装置10を製造する方法の一例を説明する。
[透明基材の作製]
図5および図6に示すように、アリルエステル樹脂組成物を、PETフィルムなどの帯状の長尺ベースフィルム上に流延し、例えば光照射、加熱等により硬化させることによって、アリルエステル樹脂からなるシート状の透明基材12を作製する。透明基材12は可視光が透過可能である。
透明基材12は、長尺の帯状とされている。D1は透明基材12の長さ方向である。D2は透明基材12の幅方向であり、透明基材12に沿う面内において長さ方向D1に直交する方向である。透明基材12は、硬化反応時あるいは搬送される際に長さ方向D1に張力が加えられるため、温度変化時の膨張量または収縮量などの物性が長さ方向D1と幅方向D2とで異なる場合がある。
<Method for Manufacturing Optical Imaging Apparatus>
Next, an example of a method for manufacturing the
[Preparation of transparent substrate]
As shown in FIGS. 5 and 6, the allyl ester resin composition is made of an allyl ester resin by casting on a strip-like long base film such as a PET film and curing it by, for example, light irradiation or heating. A sheet-like
The
[金属膜の形成]
図7に示すように、透明基材12を長さ方向D1に搬送しつつ、透明基材12の両面に、それぞれ金属膜14を形成する。透明基材12の両面にそれぞれ金属膜14を形成した積層体を帯状積層体16という。
透明基材12を長さ方向D1に搬送するには、ロールトゥーロール方式を採用することができる。ロールトゥーロール方式を採用することにより、生産性を高めることができる。
[Metal film formation]
As illustrated in FIG. 7, the
In order to convey the
透明基材12の表面に金属膜14を形成する方法は特に限定されないが、転写法、ドライコーティング法、ウェットコーティング法が挙げられる。転写法としては金属箔を接着剤により透明基材12に貼り付ける方法がある。ドライコーティング法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等が挙げられる。ウェットコーティング法としては湿式めっき法等が挙げられる。透明基材12の表面に均一に薄く金属膜14を形成するには真空蒸着法やスパッタリング法などの乾式の方法が好ましい。金属膜14は、透明基材12の一方の面に形成した後、他方の面に形成してもよいし、透明基材12の両面に同時に形成してもよい。
A method for forming the
[第1積層体の作製]
図8に示すように、帯状積層体16の一方の表面に、接着剤等を塗布することにより接着層15を形成する。帯状積層体16に接着層15を形成した積層体を接着層付き帯状積層体17という。なお、接着層付き帯状積層体は、接着剤等を帯状積層体16の両方の表面に塗布することによって、接着層15が帯状積層体16の両面に形成された態様でもよい(図示せず。)。透明基材12の両表面には、接着剤等を薄く塗布してもよい(図示せず)。
図9に示すように、接着層付き帯状積層体17を、所定の長さに裁断して複数の第1積層体18を得る。第1積層体18は、例えば長さ方向D3(長さ方向D1に沿う方向)の寸法と、幅方向D4(幅方向D2に沿う方向)の寸法とが等しい矩形(すなわち正方形)であることが好ましい。複数の第1積層体18は互いに同じ長さであることが好ましい。
なお、金属膜の形成と接着層の形成は、帯状の透明基材を所定のサイズ(正方形など)に切り出した後、枚葉毎に行ってもよい。
[Production of First Laminate]
As shown in FIG. 8, the
As shown in FIG. 9, the strip-shaped
The formation of the metal film and the formation of the adhesive layer may be performed for each sheet after cutting the strip-shaped transparent substrate into a predetermined size (such as a square).
[複層積層体の作製]
図10および図11に示すように、複数の第1積層体18を積層させる。第1積層体18は、接着層15が下方側に隣り合う第1積層体18の金属膜14に当接するように重ねられる。なお、最も下層側の第1積層体18としては接着層15が形成されていないものを使用する。
必要に応じてプレス機等により加圧、加熱することによって、図11に示すように、透明基材12と反射層13とが交互に積層された構造を有するブロック状の複層積層体19を得る。反射層13は、金属膜14,14と、金属膜14,14の間に設けられた接着層15とを有する。
[Production of multi-layer laminate]
As shown in FIGS. 10 and 11, a plurality of first
As shown in FIG. 11, by pressing and heating with a press machine or the like as necessary, a block-shaped
図10に示すように、複層積層体19を構成する複数の第1積層体18は、少なくとも1つの第1積層体18の長さ方向D3と、他の第1積層体18のうち少なくとも1つの長さ方向D3とが異なるように配置される。
図10および図11に示す複層積層体19では、複数の第1積層体18は、厚さ方向に隣り合う第1積層体18,18の長さ方向D3が、平面視において直交するように積層される。すなわち、複層積層体19では、図10に示すように、長さ方向D3を第1の方向A1に向けた第1積層体18(18A)と、長さ方向D3を第2の方向A2に向けた第1積層体18(18B)とが交互に積層されている。
ここでいう平面視とは、第1積層体18の厚さ方向から見ることをいう。第1の方向A1と第2の方向A2とは互いに直交する。第1積層体18は第1の方向A1および第2の方向A2がなす面に平行である。
As shown in FIG. 10, the plurality of first
In the
Here, the plan view means viewing from the thickness direction of the first
前述のように、図5および図6に示す透明基材12は、搬送される際の張力を原因として物性が長さ方向D1と幅方向D2とで異なることがある。そのため、複層積層体19において複数の第1積層体18を長さ方向D3を揃えて配置すると、長さ方向D3と幅方向D4との物性の差異が拡大され、複層積層体19に歪みが生じることが考えられる。
これに対し、この製造方法では、複数の第1積層体18の長さ方向D3が互いに異なることにより、長さ方向D3と幅方向D4との物性の差異を小さくし、複層積層体19に生じる歪みを抑制できる。
As described above, the
On the other hand, in this manufacturing method, the length direction D3 of the plurality of
[光制御パネルの作製]
図12および図13に示すように、複層積層体19を、切断箇所21において、透明基材12に対して交差する面(例えば透明基材12に対して垂直な面)に沿って切断し、一部を板状に切り出すことによって、図3に示す光制御パネル1を得る。複層積層体19の透明基材12は、光制御パネル1の光透過部2となる。反射層13は反射層3となる。金属膜14および接着層15はそれぞれ金属膜4、接着層5となる。
切断加工には鋸盤法、ワイヤーソー法、コンターマシン法、シャーリング法、旋盤法、ルータ加工、ガス切断法、レーザー切断法、プラズマ切断法、ウォータージェット切断法等の加工方法を採用することができる。
[Production of light control panel]
As shown in FIGS. 12 and 13, the
Cutting methods such as sawing method, wire saw method, contour machine method, shearing method, lathe method, router processing, gas cutting method, laser cutting method, plasma cutting method, water jet cutting method can be adopted. .
前述のように、透明基材12は、搬送される際の張力を原因として物性が長さ方向D1(長さ方向D3)と幅方向D2(幅方向D4)とで異なることがある。その場合、光制御パネル1では、光透過部2の厚さ方向(図3のZ方向)と長さ方向(図3のY方向)の引張弾性率(JIS K 7161に準拠)は異なる。
複層積層体19は、少なくとも1つの第1積層体18の長さ方向D3と、他の第1積層体18のうち少なくとも1つの長さ方向D3とが異なるため、光制御パネル1では、少なくとも1つの光透過部2における厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係は、他の光透過部2のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係とは逆である。
As described above, the
In the
図11に示す複層積層体19は、長さ方向D3を第1の方向A1に向けた第1積層体18(18A)と、長さ方向D3を第2の方向A2に向けた第1積層体18(18B)とが交互に積層されているため、光制御パネル1では、隣り合う光透過部2,2の厚さ方向(図3のZ方向)と長さ方向(図3のY方向)の引張弾性率(JIS K 7161に準拠)の大小関係は逆である。すなわち、光制御パネル1では、厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より大である光透過部2と、厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より小である光透過部2とが交互に並んでいる。
The
[光制御パネルの設置]
図1および図2に示すように、光制御パネル1,1(1A,1B)は、平面視において少なくとも一部が重なり、重なり領域において反射層3,3(3A,3B)が交差するように向い合せて配置される。図1および図2に示す光制御パネル1A,1Bは、平面視において全域が重なるように配置され、反射層3A,3Bは直交している。
光制御パネル1,1(1A,1B)のうち一方の表面に、接着剤等を塗布することにより接着層7を形成する。接着層7によって光制御パネル1,1(1A,1B)を接着させる。
[Installation of light control panel]
As shown in FIGS. 1 and 2, the
An
[透明保護層の設置]
光制御パネル1,1(1A,1B)の外面、または透明保護層6の表面に、透明な接着剤等を塗布することにより接着層8,8を形成する。接着層8,8によって光制御パネル1,1(1A,1B)と透明保護層6(6A,6B)とを接着する。なお、透明保護層の設置は前記光制御パネルの設置の前に実施してもよい。すなわち、各光制御パネル1A,1Bのそれぞれに透明保護層6(6A,6B)を接着した後に、光制御パネル1A,1Bを、反射層3A,3Bを直交させて接着してもよい。
以上の工程により、図1および図2に示す光学結像装置10を得る。
[Installation of transparent protective layer]
The
ここに示す製造方法によれば、複層積層体19の作製にあたり、複数の第1積層体18は、少なくとも1つの第1積層体18の長さ方向D3と、他の第1積層体18のうち少なくとも1つの長さ方向D3とが異なるように配置される。
前述のように、透明基材12は搬送時の張力を原因として長さ方向D1と幅方向D2とで物性が異なることがあるが、この製造方法によれば、一部の第1積層体18の長さ方向D3が互いに異なることにより、物性の差異が拡大されるのを回避し、複層積層体19に生じる歪みを抑制できる。そのため、歪みの少ない光制御パネル1が得られる。よって、光学結像装置10において、結像品質を高めることができる。
According to the manufacturing method shown here, in the production of the
As described above, the
また、複層積層体19を作製するにあたり、隣り合う第1積層体18の長さ方向D3が互いに直交するように第1積層体18を積層することにより、長さ方向D3と幅方向D4の物性の差異を小さくできるため、前述の歪みをさらに低減し、光学結像装置10における結像品質をさらに高めることができる。
Further, when the
光制御パネル1では、少なくとも1つ光透過部2における厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係は、他の光透過部2のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係とは逆である。そのため、光制御パネル1に生じる歪みを小さくし、光学結像装置10において結像品質を高めることができる。
光制御パネル1では、厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より大である光透過部2と、厚さ方向の引張弾性率が長さ方向の引張弾性率より小である光透過部2とが交互に並ぶため、前述の歪みをさらに低減し、光学結像装置10における結像品質をさらに高めることができる。
In the
In the
実施形態の光学結像装置およびその製造方法は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることができる。
図4に示す光制御パネル1では、反射層3は金属膜4と接着層5とからなるが、反射層は金属膜のみで構成されていてもよい。
光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物で構成されていてもよい。
前述の製造方法では、透明基材12の両面にそれぞれ金属膜14を形成したが、光制御パネル1において隣り合う光透過部2の間に反射層3を形成できれば、金属膜14を透明基材12の一方の面のみに形成してもよい。すなわち、接着層15を無色透明なものとすれば、金属膜14は透明基材12の片面にのみ形成し、図9において、各第1積層体18の上側の金属膜14を不要とすることができる。ただし、この場合であっても図10における最上面と最下面の透明基材12には両面に金属膜14が必要である。
また、前述の製造方法では、複層積層体19を構成する第1積層体18のうち一部の第1積層体18と他の一部の第1積層体18とは、平面視において長さ方向D3が互いに直交するが、一部の第1積層体18と他の一部の第1積層体18の長さ方向D3は交差する方向であればよい。
「アリル基及びメタリル基の少なくともいずれか一方」は、アリル基及びメタリル基のいずれか一方または両方を意味する。「光照射及び加熱の少なくともいずれか一方」は、光照射及び加熱のいずれか一方または両方を意味する。「脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方」は、脂環式構造及び芳香環構造のいずれか一方または両方を意味する。
The optical imaging device and the manufacturing method thereof according to the embodiment can be variously modified without departing from the spirit of the present invention.
In the
The light transmission part may be at least partially composed of a cured product of the allyl ester resin composition.
In the above-described manufacturing method, the
In the above-described manufacturing method, some of the first
“At least one of an allyl group and a methallyl group” means either one or both of an allyl group and a methallyl group. “At least one of light irradiation and heating” means either one or both of light irradiation and heating. “At least one of an alicyclic structure and an aromatic ring structure” means either one or both of an alicyclic structure and an aromatic ring structure.
以下、合成例、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの記載により限定されるものではない。フィルム、シートの全光線透過率、鉛筆硬度等は、以下の方法により測定できる。 EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example demonstrate this invention concretely, this invention is not limited by these description. The total light transmittance, pencil hardness and the like of the film and sheet can be measured by the following methods.
[全光線透過率]
全光線透過率は、日本電色工業社製ヘーズメーターNDH5000を使用し、JIS K−7361−1に準拠して測定した。
[Total light transmittance]
The total light transmittance was measured according to JIS K-7361-1, using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter NDH5000.
[Haze]
Haze値は、日本電色工業社製ヘーズメーターNDH5000を使用し、JIS K−7136に準拠して測定した。
[Haze]
The haze value was measured according to JIS K-7136 using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter NDH5000.
[アッベ数]
アタゴ株式会社製、多波長アッベ屈折率計DR−M4を用い、C線(656nm)、D線(589nm)、F線(486nm)の屈折率を測定し、以下計算式からD線におけるアッベ数を算出した。
νD=(nD−1)/(nF−nC)
[Abbe number]
Using a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M4 manufactured by Atago Co., Ltd., the refractive index of C line (656 nm), D line (589 nm), and F line (486 nm) is measured. Was calculated.
νD = (nD−1) / (nF−nC)
[鉛筆硬度]
鉛筆硬度は安田精機工業社製電動鉛筆引っかき硬度試験機No.553−Mを使用し、JIS K5600−5−4に準拠し測定した。
[Pencil hardness]
The pencil hardness is an electric pencil scratch hardness tester No. 1 manufactured by Yasuda Seiki Kogyo Co., Ltd. 553-M was used and measured according to JIS K5600-5-4.
[比重]
比重はアルファミラージュ製株式会社製電子比重計を用いて水中置換法にて測定した。測定試料の大きさは50mm×50mm×所定の厚さmm、測定温度は23℃とした。
[specific gravity]
Specific gravity was measured by an underwater displacement method using an electronic hydrometer manufactured by Alpha Mirage. The size of the measurement sample was 50 mm × 50 mm × predetermined thickness mm, and the measurement temperature was 23 ° C.
[算術平均粗さ(Ra)]
算術平均粗さ(Ra)は株式会社日立ハイテク社製走査型プローブ顕微鏡Nanocuteを用いて測定した。
[Arithmetic mean roughness (Ra)]
The arithmetic average roughness (Ra) was measured using a scanning probe microscope Nanocut manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.
[弾性率]
弾性率は島津製作所製引張試験機AG−Iを使用し、JIS K7161−1に準拠し測定した。
[Elastic modulus]
The elastic modulus was measured using a tensile tester AG-I manufactured by Shimadzu Corporation according to JIS K7161-1.
合成例1:
蒸留装置の付いた2リットルの三つ口フラスコに、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル1625g、トリメチロールプロパン247g、ジオクチル錫オキサイド4.1gを仕込み、窒素気流下、180℃で生成するアリルアルコールを系外に留去しながら加熱した。留去したアリルアルコールが約260gになったところで、反応系内を徐々に、4時間かけて6.6kPaまで減圧し、アリルアルコールの留出速度を速めた。留出がほとんどなくなったところで、圧力を0.5kPaとし、1時間反応させた後、室温まで冷却しアリルエステルオリゴマーAを得た。
Synthesis example 1:
A 2 liter three-necked flask equipped with a distillation apparatus is charged with 1625 g of
製造例1(透明基材A):
合成例1で作製したアリルエステルオリゴマーA100質量部に対し、トリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成株式会社製、「M−309」)10質量部、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(BASFジャパン株式会社製、「イルガキュア(登録商標)TPO」)0.5質量部、パーヘキシル(登録商標)I(日油株式会社)を1質量部加え十分撹拌しアリルエステル樹脂組成物Bを得た。この組成物BをPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム上に、硬化後の厚さが0.3mmとなるように塗布した。塗工液表面をPET製カバーフィルムで覆い、紫外線照射装置(メタルハライドランプ)を用いて200mW/cm2、800mJ/cm2の条件で紫外線を照射した後、150℃に設定した加熱炉に10分間投入した。加熱炉から取り出し、ベースフィルム及びカバーフィルムを剥がし、厚さ0.3mmの透明基材Aを得た。
Production Example 1 (transparent substrate A):
10 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “M-309”), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine with respect to 100 parts by mass of allyl ester oligomer A produced in Synthesis Example 1 0.5 parts by mass of oxide (manufactured by BASF Japan Ltd., “Irgacure (registered trademark) TPO”) and 1 part by mass of perhexyl (registered trademark) I (Nippon Oil Co., Ltd.) were added and stirred well to prepare allyl ester resin composition B. Obtained. The composition B was applied on a PET (polyethylene terephthalate) film so that the thickness after curing was 0.3 mm. The surface of the coating solution is covered with a PET cover film, irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (metal halide lamp) at 200 mW / cm 2 and 800 mJ / cm 2 , and then placed in a heating furnace set at 150 ° C. for 10 minutes. I put it in. The base film and the cover film were peeled off from the heating furnace, and a transparent substrate A having a thickness of 0.3 mm was obtained.
製造例2:
透明基材Aの両面に真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着し、表面抵抗値1.1Ω/□を有するアルミニウム膜(金属膜)を有する厚さ0.3mmの基材Bを得た。この基材Bのアルミニウム蒸着面の、波長380〜780nmの領域の平均反射率は91%であった。
Production Example 2:
Aluminum was vapor-deposited on both surfaces of the transparent substrate A by a vacuum deposition method to obtain a substrate B having a thickness of 0.3 mm having an aluminum film (metal film) having a surface resistance value of 1.1 Ω / □. The average reflectance in the region of a wavelength of 380 to 780 nm on the aluminum vapor deposition surface of the substrate B was 91%.
<実施例1>
基材Bを10cm×10cmの大きさに炭酸ガスレーザーによってシート状に切断加工した。アロンアルファ株式会社製接着剤EX4000を用いて、得られたシートを、厚さ方向に隣り合うシートの長さ方向が平面視において直交するように(図10参照)交互に35枚重ねて貼り合わせ、積層品(複層積層体)を作製した。この積層品を、ダイヤモンドワイヤーソーを用いて1mmの厚みとなるように切断し、0.3mm間隔で金属膜層(反射層)を有する約10cm×約10cmの光制御パネルを得た。
この光制御パネルを二枚作製し、片面にデクセリアルズ株式会社製UV硬化型樹脂SVR1120を接着剤として塗布した。二枚の光制御パネルを、金属膜層(反射層)が平面視において直交するように重ね、紫外線照射装置(メタルハライドランプ)を用いて200mW/cm2、5000mJ/cm2の条件で紫外線を照射して前記接着剤を硬化させ、光学結像装置Cとした。
光学結像装置Cについて、結像品質を確認した。
<Example 1>
The base material B was cut into a sheet shape by a carbon dioxide laser to a size of 10 cm × 10 cm. The adhesive sheet EX4000 manufactured by Aron Alpha Co., Ltd. was used, and the obtained sheets were alternately laminated in a stack of 35 sheets so that the length directions of adjacent sheets in the thickness direction were orthogonal to each other in plan view (see FIG. 10). A laminate (multi-layer laminate) was produced. This laminated product was cut to a thickness of 1 mm using a diamond wire saw, and an about 10 cm × about 10 cm light control panel having metal film layers (reflection layers) at intervals of 0.3 mm was obtained.
Two sheets of this light control panel were produced, and UV curing resin SVR1120 manufactured by Dexialials Co., Ltd. was applied as an adhesive on one side. Two light control panels are stacked so that the metal film layers (reflection layers) are orthogonal to each other in plan view, and irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (metal halide lamp) at 200 mW / cm 2 and 5000 mJ / cm 2. Then, the adhesive was cured to obtain an optical imaging apparatus C.
The imaging quality of the optical imaging apparatus C was confirmed.
<比較例1>
基材Bを10cm×10cmの大きさに炭酸ガスレーザーによってシート状に切断加工した。アロンアルファ株式会社製接着剤EX4000を用いて、得られたシートを長さ方向が同一となるように35枚重ねて貼り合わせ、積層品(複層積層体)を作製した。この積層品を、ダイヤモンドワイヤーソーを用いて1mmの厚みとなるように切断し、0.3mm間隔で金属膜層(反射層)を有する約10cm×約10cm光制御パネルを得た。
この光制御パネルを二枚作製し、片面にデクセリアルズ株式会社製UV硬化型樹脂SVR1120を接着剤として塗布した。二枚の光制御パネルを、金属膜層(反射層)が平面視において直交するように重ね、紫外線照射装置(メタルハライドランプ)を用いて200mW/cm2、5000mJ/cm2の条件で紫外線を照射して前記接着剤を硬化させ、光学結像装置Dとした。
光学結像装置Dについて、結像品質を確認した。
<Comparative Example 1>
The base material B was cut into a sheet shape by a carbon dioxide laser to a size of 10 cm × 10 cm. Using the adhesive EX4000 manufactured by Aron Alpha Co., Ltd., 35 sheets of the obtained sheets were stacked and bonded so that the length directions were the same, and a laminated product (multi-layer laminated body) was produced. This laminated product was cut to a thickness of 1 mm using a diamond wire saw, and an about 10 cm × about 10 cm light control panel having metal film layers (reflection layers) at intervals of 0.3 mm was obtained.
Two sheets of this light control panel were produced, and UV curing resin SVR1120 manufactured by Dexialials Co., Ltd. was applied as an adhesive on one side. Two light control panels are stacked so that the metal film layers (reflection layers) are orthogonal to each other in plan view, and irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (metal halide lamp) at 200 mW / cm 2 and 5000 mJ / cm 2. Then, the adhesive was cured to obtain an optical imaging apparatus D.
The imaging quality of the optical imaging device D was confirmed.
表1に示すように、実施例1は、比較例1に比べて結像品質が優れていることが確認された。 As shown in Table 1, it was confirmed that the imaging quality of Example 1 was superior to that of Comparative Example 1.
1 光制御パネル
2 光透過部
3 反射層
4 金属膜
4a 光反射面
10 光学結像装置
12 透明基材
16 帯状積層体
17 接着層付き帯状積層体
18 第1積層体
19 複層積層体
D3 (第1積層体の)長さ方向
D4 (第1積層体の)幅方向
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記透明基材を長さ方向に搬送しつつ、その少なくとも一方の面に反射層を形成して帯状積層体とする工程と、
前記帯状積層体を所定の長さに裁断して複数の第1積層体を得る工程と、
複数の前記第1積層体を積層して複層積層体とする工程と、
前記複層積層体を、前記透明基材に対して交差する面に沿って切断することにより、前記透明基材から切り出された複数の光透過部と隣り合う前記光透過部の間に形成された前記反射層とを備え、前記反射層が前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面を有する光制御パネルを得る工程と、を有し、
前記複数の第1積層体を積層して複層積層体とする工程において、前記複数の第1積層体のうち少なくとも1つの長さ方向と、他の第1積層体のうち少なくとも1つの長さ方向とが異なるように前記第1積層体を積層する光制御パネルの製造方法。 A step of producing a band-shaped transparent substrate capable of transmitting visible light, at least a part of which is a cured product of the allyl ester resin composition;
A step of forming a belt-like laminate by forming a reflective layer on at least one surface thereof while transporting the transparent substrate in the length direction;
Cutting the strip-shaped laminate into a predetermined length to obtain a plurality of first laminates;
Laminating a plurality of the first laminates to form a multilayer laminate;
By cutting the multilayer laminate along a plane intersecting the transparent substrate, the multilayer laminate is formed between the light transmitting portions adjacent to the plurality of light transmitting portions cut out from the transparent substrate. And a step of obtaining a light control panel having a light reflection surface that reflects visible light that passes through the light transmission part.
In the step of laminating the plurality of first laminated bodies to form a multilayer laminated body, at least one length direction of the plurality of first laminated bodies and at least one length of the other first laminated bodies. A method of manufacturing a light control panel in which the first stacked body is stacked so that the directions are different.
前記反射層は、前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面を有し、
前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなり、厚さ方向と長さ方向の引張弾性率が異なり、
前記複数の光透過部のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係は、他の光透過部のうち少なくとも1つにおける厚さ方向と長さ方向の引張弾性率の大小関係とは逆である光制御パネル。 A plurality of light transmission parts capable of transmitting visible light, and a reflection layer formed between the adjacent light transmission parts,
The reflective layer has a light reflection surface that reflects visible light passing through the light transmission part,
The light transmission part is at least partially made of a cured product of an allyl ester resin composition, and the tensile elastic modulus in the thickness direction and the length direction is different,
The magnitude relationship between the tensile modulus in the thickness direction and the length direction in at least one of the plurality of light transmission portions is the tensile modulus in the thickness direction and the length direction in at least one of the other light transmission portions. Light control panel that is the opposite of the size relationship.
前記一対の光制御パネルは、厚さ方向から見て少なくとも一部が重なり、重なり領域において前記反射層が交差するように配置されている光学結像装置。 At least a pair of the light control panels according to claim 5 or 6,
The pair of light control panels is an optical imaging device arranged so that at least a part of the pair of light control panels is overlapped when viewed from the thickness direction, and the reflection layers intersect in the overlap region.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017045454A JP6832199B2 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Manufacturing method of optical control panel, optical imaging device and optical control panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017045454A JP6832199B2 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Manufacturing method of optical control panel, optical imaging device and optical control panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018151425A true JP2018151425A (en) | 2018-09-27 |
JP6832199B2 JP6832199B2 (en) | 2021-02-24 |
Family
ID=63680892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017045454A Active JP6832199B2 (en) | 2017-03-09 | 2017-03-09 | Manufacturing method of optical control panel, optical imaging device and optical control panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6832199B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021235202A1 (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-25 | ||
EP3987505A4 (en) * | 2019-06-24 | 2023-08-09 | 3M Innovative Properties Company | Curved display with light control film |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070236938A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Structured Composite Optical Films |
JP2011112945A (en) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Roll-like wound body |
JP2013029552A (en) * | 2011-07-26 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | Optical film and stereoscopic image display device |
WO2013179405A1 (en) * | 2012-05-30 | 2013-12-05 | パイオニア株式会社 | Method for manufacturing reflective plane-symmetrical image-formation element, reflective plane-symmetrical image-formation element, and space image display device provided with reflective plane-symmetrical image-formation element |
WO2014091759A1 (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | コニカミノルタ株式会社 | Optical film and method for producing same, circularly polarizing plate, and organic el display device |
JP2015090387A (en) * | 2013-11-05 | 2015-05-11 | 日本電気硝子株式会社 | Optical image forming member, glass laminate for the same, and manufacturing methods for both |
WO2015129851A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 東レ株式会社 | Biaxially oriented polypropylene film |
WO2016088580A1 (en) * | 2014-12-05 | 2016-06-09 | 昭和電工株式会社 | Light control panel and optical imaging device |
JP2016110016A (en) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Optical element and method of manufacturing the same |
-
2017
- 2017-03-09 JP JP2017045454A patent/JP6832199B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070236938A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Structured Composite Optical Films |
JP2011112945A (en) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Roll-like wound body |
JP2013029552A (en) * | 2011-07-26 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | Optical film and stereoscopic image display device |
WO2013179405A1 (en) * | 2012-05-30 | 2013-12-05 | パイオニア株式会社 | Method for manufacturing reflective plane-symmetrical image-formation element, reflective plane-symmetrical image-formation element, and space image display device provided with reflective plane-symmetrical image-formation element |
WO2014091759A1 (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | コニカミノルタ株式会社 | Optical film and method for producing same, circularly polarizing plate, and organic el display device |
JP2015090387A (en) * | 2013-11-05 | 2015-05-11 | 日本電気硝子株式会社 | Optical image forming member, glass laminate for the same, and manufacturing methods for both |
WO2015129851A1 (en) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 東レ株式会社 | Biaxially oriented polypropylene film |
WO2016088580A1 (en) * | 2014-12-05 | 2016-06-09 | 昭和電工株式会社 | Light control panel and optical imaging device |
JP2016110016A (en) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Optical element and method of manufacturing the same |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3987505A4 (en) * | 2019-06-24 | 2023-08-09 | 3M Innovative Properties Company | Curved display with light control film |
JP7503580B2 (en) | 2019-06-24 | 2024-06-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Curved display with light control film |
JPWO2021235202A1 (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-25 | ||
WO2021235202A1 (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-25 | 富士フイルム株式会社 | Reflective structure and visivility control method |
JP7317229B2 (en) | 2020-05-22 | 2023-07-28 | 富士フイルム株式会社 | Reflective structure and visibility control method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6832199B2 (en) | 2021-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018128570A (en) | Light control panel, optical imaging device and manufacturing method of light control panel | |
JP6755184B2 (en) | Optical control panel and optical imaging device | |
WO2019202992A1 (en) | Polyester film for surface protection film of foldable display and use thereof | |
KR101631541B1 (en) | Processes for producing molded cured resin | |
WO2013140965A1 (en) | Multilayer film for supporting optical function member, prism sheet, light source unit and display device | |
JP6832199B2 (en) | Manufacturing method of optical control panel, optical imaging device and optical control panel | |
JP2017052901A (en) | Antifouling sheet | |
JP2021067875A (en) | Light control panel manufacturing method and optical image forming device manufacturing method | |
JP6315820B2 (en) | Transparent adhesive sheet | |
JP2018072644A (en) | Optical imaging device and method for manufacturing the same | |
JP5090040B2 (en) | Transparent conductive substrate | |
JP2020106609A (en) | Light control panel and optical imaging device | |
KR20130085419A (en) | Process for production of cured film, and cured film | |
JP6175338B2 (en) | Method for producing optical laminate sheet | |
JP2020177150A (en) | Light control panel and optical imaging device | |
JP2021099279A (en) | Method of inspecting optical control panel | |
KR101374614B1 (en) | Transparent conductive substrate | |
WO2008010588A1 (en) | Transparent antireflection plate | |
JP2016128231A (en) | Production method of resin sheet having metal film | |
JP7019852B1 (en) | Polarizer protective film | |
JP5186144B2 (en) | Transparent antireflection plate | |
JP2017044719A (en) | Production method of antiglare sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181102 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6832199 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |