JP2018138870A - 泳動装置 - Google Patents

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悟史 井樋田
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アニエス ティクシェ三田
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Abstract

【課題】誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、薄膜トランジスタ基板を用いて実現する。【解決手段】泳動装置(1)は、誘電泳動のための電界を形成するとともに、筋肉細胞(T1)および神経細胞(T2)を支持するTFT基板(10)を備えている。そして、泳動装置(1)において、TFT基板(10)が備える複数のトランジスタの一部に電圧が印加されることにより、筋肉細胞(T1)および神経細胞(T2)を移動させる。【選択図】図1

Description

本発明は、泳動装置(バイオのアプリケーションのためのガラス上のTFTプラットフォーム)(TFT on Glass Platform for Biological Applications)に関する。
近年、細胞等の対象物体(サンプル)に対する各種の操作(例えば、サンプルの移動)を施すための技術が盛んに開発されている。
例えば、特許文献1には、誘電体エレクトロウェッティング(Electrowetting on Dielectric,EWOD)を用いて、サンプルを移動させることが可能な装置が開示されている。
また、特許文献2には、誘電泳動(Dielectrophoresis,DEP)を用いて、サンプルを移動させることが可能な装置が開示されている。
国際公開第03/044556A2号公報(2003年6月5日公開) 米国特許第6,977,033B2号明細書(2005年12月20日)
しかしながら、特許文献1および2のいずれにも、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor,TFT)基板を用いて実現するという技術的思想については、開示も示唆もされていない。
このため、特許文献1および2に開示の発明では、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、薄膜トランジスタ基板を用いて実現するということができないという問題があった。
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、薄膜トランジスタ基板を用いて実現することである。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る泳動装置は、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置であって、誘電泳動のための電界を形成するとともに、上記対象物体を支持する薄膜トランジスタ基板を備えており、上記薄膜トランジスタ基板が備える複数のトランジスタの一部に電圧が印加されることにより、上記対象物体を移動させる。
本発明の一態様に係る泳動装置によれば、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、薄膜トランジスタ基板を用いて実現することが可能となるという効果を奏する。
本発明の実施形態1に係る泳動装置の構成を示す図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板と、表示装置用のTFT液晶パネルの各部材との関係を示す図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板の構成を示す図である。 (a)〜(c)はそれぞれ、図3のTFT基板の断面図である。 誘電泳動に用いる交流電圧の周波数と泳動速度との間の関係の一実験結果を示す図である。 (a)〜(e)はそれぞれ、交流電圧の周波数を変化させた場合の各周波数における誘電泳動の様子を示す図であり、(f)は実験回路におけるITOのストライプパターンの概略図である。 (a)および(b)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係る泳動装置における誘電泳動の実験例を示す図である。 (a)および(b)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係る泳動装置における対象物体に対する光学的な観察結果の例を示す図である。 (a)〜(c)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係る泳動装置における、対象物体に対する誘電泳動以外の操作の例を示す図である。 (a)は骨髄腫細胞に対してエレクトロポレーションが行われる前の状態を表す図であり、(b)は骨髄腫細胞に対してエレクトロポレーションが行われた後の状態を表す図である。 (a)は、図10の電極の拡大図であり、(b)は、(a)のD−D´断面における断面図であり、(c)は、エレクトロポレーションを行った様子を示す概略図であり、(d)は、細胞膜が穿孔された様子を示す概略図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板の一部分のそれぞれを、各種センサとして機能させた場合の例を示す図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板上に細胞が配置されていない場合の電流経路の一例を示す図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板上に細胞が配置されている場合の電流経路の一例を示す図である。 細胞の電気的な等価回路を示す図である。 (a)および(b)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係るTFT基板を、インピーダンスセンサとして機能させた場合の実験結果の例を示す図である。 (a)および(b)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係るTFT基板を、ISFETセンサとして機能させた場合の実験結果の例を示す図である。 本発明の実施形態1に係る泳動装置において、(a)は、交流電源によって発生させたパルス電圧波形を示す図であり、(b)は、模擬回路によって発生させた模擬刺激の電圧波形を示す図である。 本発明の実施形態1に係るTFT基板の変形例を示す図である。 (a)は、図3のTFT基板における画素電極と電極配線との位置関係を示す図であり、(b)は、図19のTFT基板における画素電極と電極配線との位置関係を示す図である。 本発明の実施形態2に係る泳動装置の構成を示す図である。 本発明の実施形態2に係るTFT基板における規制部材の変形例を示す図である。 本発明の実施形態3に係る観察システムの構成を示す図である。
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1について、図1〜図18に基づいて説明すれば、以下の通りである。
(泳動装置1の概要)
図1は、本実施形態の泳動装置1の構成を示す図である。泳動装置1は、TFT基板10(薄膜トランジスタ基板)、チャンバ20(規制部材)、および基板30を備えている。
以下に示すように、泳動装置1は、誘電泳動によって対象物体(例えば細胞等)を移動させる機能を有する。なお、図1では、筋肉細胞T1および神経細胞T2の2種類の対象物体が例示されている。
泳動装置1によれば、誘電泳動によって細胞(対象物体)を所望の位置に配置することができるため、TFT基板10の表面に細胞が接着することを防止することができる。また、誘電泳動によって所望の位置に配置された細胞に対して、後述する各種の操作(例えば化学処理、電気刺激等)を行うこともできる。
さらに、TFT基板10上での細胞の培養を行う場合には、事前に誘電泳動を行うことによって、細胞の培養を行う前に、別種類の細胞が混合してしまうことを防止することもできる。従って、TFT基板10上での細胞の培養を好適に行うことができる。
また、筋肉細胞T1に対する神経細胞T2の軸索の方向を制御するために、誘電泳動を利用することもできる。
但し、誘電泳動の対象となる対象物体は、必ずしも細胞等に限定されず、誘電泳動によって移動させることが可能な物体(例えば粒子等)であればよい。
(TFT基板10)
TFT基板10は、対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界を形成する役割を果たす。また、TFT基板10は、対象物体を支持する支持部材としても機能する。図2に示されるように、本実施形態では、表示装置用のTFT液晶パネルの一部の部材を、TFT基板10として用いている。図2は、TFT基板と、表示装置用のTFT液晶パネルの各部材との関係を示す図である。
図2に示されるように、TFT液晶パネルは、上側ガラス基板および下側ガラス基板の2つのガラス基板を備えている。なお、上側とは、TFT液晶パネルの表示画面の鑑賞者に対向する側を意味している。また、下側とは、上側とは反対の側を意味する。
そして、TFT液晶パネルにおいて、上側ガラス基板と下側ガラス基板との間には、偏光板、カラーフィルタ、液晶、スペーサ、およびTFT層が設けられている。但し、これらの各部材のうち、TFT層を除いた部材については、本実施形態と関係しないため、説明を省略する。
図3は、TFT基板10の構成を示す図である。TFT基板10(より具体的には、TFT層)には、複数のTFTがマトリクス状に形成されている。なお、本実施形態のTFT層は、TFT液晶パネルの表示画面に用いられる部材であるため、透光性の領域を有している。従って、TFT基板10もまた、透光性の領域を有することとなる。
TFT基板10において、各TFTのゲート電極はそれぞれ、第1の方向に互いに平行に配置された複数の第1の配線に接続されている。この第1の配線は、ゲートラインGLに接続されているため、ゲート配線と称されてもよい。
また、各TFTのソース電極はそれぞれ、第2の方向に平行に互いに配置された複数の第2の配線に接続されている。一例として、この第2の方向は、上述の第1の方向と垂直な方向であってよい。この第2の配線は、ソースラインSLに接続されているため、ソース配線と称されてもよい。
図3に示されるように、各TFTは、ゲート配線とソース配線との交点の位置にマトリクス状に配置されている。従って、ゲートラインGLおよびソースラインSLのそれぞれに印加される電圧を調整することにより、TFTのドレイン電極の電圧を調整することができる。すなわち、TFTの導通/非導通の状態(ON状態/OFF状態)を切り替えることができる。
また、各TFTのドレイン電極は、TFT基板10にマトリクス状に配置された画素電極に接続されている。従って、ゲートラインGLおよびソースラインSLのそれぞれに印加される電圧を調整することにより、各ドレイン電極に接続された画素電極のON状態/OFF状態を切り替えることができる。
一例として、図3に示されるように、1つのゲートラインGLに電圧を印加するとともに、1つのソースラインSLに電圧を印加した場合には、当該ゲートラインGLに接続されたゲート配線と、当該ソースラインSLに接続されたソース配線との交点の位置に設けられたTFT11a(トランジスタ)が、ON状態となる。従って、TFT11aのドレイン電極に接続された画素11ap(換言すれば、TFT11aに対応する画素)を、ON状態に切り替えることができる。
他方、図3の場合には、TFT11a以外のTFTについては、OFF状態のままとなる。例えば、TFT11aとは異なる位置に設けられたTFT11bは、OFF状態のままである。従って、TFT11bに対応する画素も、OFF状態のままとなる。
このように、TFT基板10が備える複数のTFTの一部をON状態とすることにより、TFT基板10上に配置された対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界(不均一な電界)を形成することができる。
なお、TFT基板10のゲート配線およびソース配線は、例えばITO(Indium Tin Oxide,インジウムスズ酸化物)によって形成されてよい。ITOを用いることにより、これらの配線を透明とすることができる。
但し、ゲート配線およびソース配線の電気抵抗を低減させるために、Al等の不透明な金属材料を用いて、これらの配線を形成してもよい。この点については、後述の変形例において述べる。なお、画素電極もITOによって形成されてよい。
図4の(a)〜(c)は、図3のTFT基板10の断面図である。具体的には、図4において、(a)は図3のA−A´断面における断面図であり、(b)は図3のB−B´断面における断面図であり、(C)は図3のC−C´断面における断面図である。
図4の(a)〜(c)に示されるように、TFT基板10は、ITO電極110a、層間絶縁膜110b、COM電極110c、パッシベーション絶縁膜110d、ゲート絶縁膜110e、ガラス基板110f、半導体層110H、ソース・ドレイン電極110SD、ゲート電極110G、ソース・ドレイン配線110SDH、およびゲート電極配線110GHを備えている。なお、図4の構成は、表示装置用の公知のTFT基板と同様であるため、詳しい説明については省略する。
なお、COM電極110cは、ITO電極110a間の電位差を安定化させるために、接地されていてよい。但し、COM電極110cが設けられなくとも、泳動装置1による誘電泳動を行うことが可能である。
また、ITO電極110aは、対象物体としての細胞と接触した場合に、当該細胞に悪影響を及ぼすような性質を有していない。従って、誘電泳動の対象となる細胞(および、当該細胞を含んだ液体)は、ITO電極110aの表面に直接的に配置されてよい。
但し、ITO電極110aに電圧を印加した場合に、当該ITO電極の表面に化学的な変化が生じることを抑制するために、ITO電極110aの表面に適当なコーティングを施してもよい。例えば、SiO、SiN、ポリイミド等の絶縁膜によって、ITO電極110aをコーティングしてもよい。
(チャンバ20)
チャンバ20は、TFT基板10上に配置され、対象物体の移動範囲を規制する部材である。チャンバ20は、所定の透光性を有する部材として製作されることが好ましい。
一例として、チャンバ20は、ポリジメチルシロキサン(Polydimethyl siloxane,PDMS)、エポキシ樹脂(特にSU−8)、ポリメチルメタクリレート(PolyMethyl Methacrylate,PMMA)、ポリビニリデンフルオライド(PolyVinylidene DiFluoride,PVDF)、ガラス、または石英等を材料として製作されてよい。
なお、PDMSを材料として用いることにより、チャンバ20の製作を特に容易化することができる。当該チャンバ20は、原料液を2液混合してキュアし、キュア後の材料を鋳型パターン上に形成(転写)することでパターン形成が可能であるためである。このため、PDMSを材料として用いた場合には、チャンバ20が比較的大型であっても、当該チャンバを容易に製作することができる。
また、PDMSは、(i)基板との密着性が良好である、(ii)耐薬品性が良好である、(iii)自家蛍光を発しない、(iv)生体適合性(Biocompatibility)を有している等の理由から、対象物体が細胞である場合に特に好適な材料である。
また、SU−8を材料として用いた場合には、チャンバ20を露光プロセスによって形成することができる。従って、チャンバ20に精密なアライメントが要求される場合には、SU−8が特に好適な材料である。
チャンバ20は、対象物体を含んだ液体を受容することが可能である。チャンバ20は、例えば矩形形状を有していてよい。この場合、チャンバ20は、底面を有しない枠状の部材として構成されてよい。
また、チャンバ20が底面を有するように構成される場合には、チャンバ20には、液体を保持する保持空間が内部に設けられてよい。この場合、チャンバ20には、外部から保持空間に液体を注入するための注入孔Hが設けられてもよい。
チャンバ20が設けられることにより、対象物体を含んだ液体を泳動装置において取り扱うことが可能となる。当該液体がTFT基板10の外部に漏出し、他の部材(特に、基板30等の電気的な部材)に悪影響を及ぼすことを防止できるためである。
それゆえ、チャンバ20が設けられることによって、液体に含まれる対象物体を誘電泳動によってさらに効率的に移動させることが可能となる。加えて、誘電泳動を行うための電界の強度を低減することができるので、対象物体に与えられる電気的なストレスを低減させることも可能となる。
但し、チャンバ20は泳動装置1に必ずしも設けられる必要はない。対象物体の効率的な移動が要求されない場合、または、対象物体が電気的なストレスに対して耐性が高い場合等には、TFT基板10の表面に対象物体を直接的に配置し、当該対象物体を誘電泳動させてもよい。
なお、液体の移動をさらに効率化するために、チャンバ20には、液体の流れを制御するためのマイクロチャネル(微小流路)が適宜設けられてもよい。複数のマイクロチャネルが設けられることにより、液体中から対象物体以外の不要な成分を除去する操作を容易化することもできる。
(その他の部材)
続いて、図1を再び参照し、その他の部材について説明する。基板30は、TFT基板10と外部の装置との間の電気的な接続を容易化するために設けられた部材である。但し、泳動装置1において、基板30は必ずしも設けられなくともよく、TFT基板10と外部の装置とは直接的に接続されてもよい。
本実施形態では、基板30は、TFT基板10を支持するように配置されている。例えば、図示されていないが、基板30とTFT基板10との重なる部分をくりぬくことで、基板30として不透明なプリント基板を用いた場合でも、TFT基板10を下側から観察することができる。
図1に示されるように、直流電源41は、基板30を介して、ゲートラインGL(換言すれば、ゲート配線)に接続されている。直流電源41は、発生させる直流電圧の値を調整可能であることが好ましい。
また、交流電源42は、基板30を介して、ソースラインSL(換言すれば、ソース配線)に接続されている。交流電源42は、所定の交流電圧波形(例えば、正弦波電圧およびパルス波形電圧)を発生させるとともに、当該交流電圧波形の周波数および振幅の値を調整可能であることが好ましい。例えば、交流電源42として、ファンクションジェネレータを用いることができる。
従って、(i)直流電源41によって発生させた直流電圧を、所定のTFTのゲート電極に印加するとともに、(ii)交流電源42によって発生させた交流電圧を、所定のTFTのソース電極に印加することができる。
また、模擬回路(Artifical Network)43は、基板30を介して、ソースラインSLに接続されている。模擬回路43は、模擬刺激(Artifical stimulation)としての交流電圧(例えば、後述の図18の(b)に示す電圧波形)を発生させる回路である。
例えば、模擬回路43は、LSI(Large Scale Integrated)デバイスによって実現されてよい。模擬回路43によって発生させた交流電圧は、所定のTFTのソース電極に印加される。なお、模擬刺激については、後に詳細に説明する。
(化学処理)
なお、筋肉細胞T1および神経細胞T2の少なくともいずれかには、化学処理が施されてよい。化学処理は、筋肉細胞T1または神経細胞T2に化学的な刺激を与える目的で施される処理であってよい。
上述したように、この化学処理は、筋肉細胞T1および神経細胞T2を誘電泳動によって所定の位置に配置させた後に行われてよい。また、化学処理を行うための薬液は、注入孔Hを介してチャンバ20内に注入されてよい。
例えば、筋肉細胞T1に対しては、当該筋肉細胞T1に化学的な刺激を与えるために、GENERVON社のALS(Amyotrophic Lateral Sclerosis,筋萎縮性側索硬化症)用の薬品であるGM6を用いて、化学処理を施してよい。
また、神経細胞T2に対しては、神経細胞T2を刺激する化学物質であるニューロペプチドを用いて、化学処理を施すことができる。
化学処理CTが施されることにより、(i)特定疾患(例えばALS)における活性タンパク質C、または、(ii)筋障害のための他の治療方法を調査することが可能となる。
(誘電泳動に用いる交流電圧の周波数についての検討)
本実施形態の泳動装置1による誘電泳動の実験に先立ち、本願の発明者は、誘電泳動に用いる交流電圧の周波数についての検討を行った。すなわち、本願の発明者は、ITOのストライプパターンによって形成された実験回路に交流電圧を印加し、交流電圧の周波数と対象物体の移動速度(泳動速度)との間の関係について確認を行った。
図5は、この実験によって得られた、誘電泳動に用いる交流電圧の周波数と泳動速度との間の関係の一実験結果を示すグラフである。なお、この実験では、誘電泳動の対象物体をマイクロビーズとして用い、かつ、電圧(ピーク値)10Vの正弦波電圧を交流電圧として用いた。
図5に示される通り、誘電泳動の対象物体をマイクロビーズとした場合には、交流電圧の周波数を約100kHz〜500kHzとした場合に、比較的高い泳動速度が実現されることが確認された。そして、交流電圧の周波数を約500kHzとした場合に、比較的高い泳動速度が実現されることが確認された。
なお、図5のグラフでは、交流電圧の周波数を約1MHzより高くした場合に、泳動速度が有意に減少している。この理由は、周波数が比較的高い場合には、対象物体における誘電損失が顕著となり、当該対象物体に電界を効果的に印加することができないためである。
また、図5のグラフでは、交流電圧の周波数を約10kHzより低くした場合にも、泳動速度が有意に減少している。これは、周波数が比較的低い場合には、対象物体に十分な誘電分極を生じさせることができないためである。
なお、誘電泳動において、対象物体に印加される力FDEPは、以下の式(1)
Figure 2018138870
として表されることが知られている。
ここで、式(1)において、rは対象物体の半径であり、εpは対象物体の誘電率であり、εmは対象物体を含んだ液体の誘電率であり、Ermsは対象物体に印加される電界の実効値を表す。なお、*は複素数を表す記号であり、Reは実部を表す記号である。
式(1)によれば、対象物体に印加される力FDEPは、対象物体に印加される電界の周波数にも依存することが理解される。図5のグラフは、この依存関係の一例を示したものと理解されてよい。
図6の(a)〜(e)は、図5の実験において、交流電圧の周波数を変化させた場合の各周波数における誘電泳動の様子を示す図である。具体的には、図6において、(a)は周波数を1kHzとした場合の、(b)は周波数を10kHzとした場合の、(c)は周波数を100kHzとした場合の、(d)は周波数を500kHzとした場合の、(e)は周波数を1MHzとした場合の、誘電泳動の様子をそれぞれ示す図である。また、図6の(f)は、実験回路におけるITOのストライプパターンの概略図である。
図6の(a)〜(e)によれば、対象物体をマイクロビーズとした場合には、周波数を500kHzとした場合(図6の(d)の場合)に、誘電泳動が特に効果的となることが確認された。
但し、上述の式(1)に示されるように、誘電泳動が特に効果的となる周波数は、対象物体の誘電率εpおよび液体の誘電率εm(換言すれば、対象物体および液体の種類)に依存する。従って、対象物体がマイクロビーズ以外(例えば細胞)である場合には、500kHz以外の周波数が、誘電泳動が特に効果的となる周波数となることも考えられる。
そこで、本願の発明者は、設定可能な周波数範囲のマージン等を考慮し、泳動装置1における誘電泳動を行うための交流電圧の周波数を、100kHzとして設定した。但し、対象物体の種類等に応じて、100kHz以外の周波数が泳動装置1における誘電泳動に用いられてもよい。
なお、対象物体が細胞である場合には、交流電圧のピーク値を高くしすぎると、細胞に悪影響を及ぼす可能性が懸念される。そこで、本願の発明者は、泳動装置1における誘電泳動を行うための交流電圧のピーク値を4V程度の値に設定した。
(泳動装置1における誘電泳動の実験例)
続いて、図7を参照し、泳動装置1における誘電泳動の実験例について述べる。図7の(a)および(b)はそれぞれ、泳動装置1における誘電泳動の実験例を示す図である。なお、図7の(a)および(b)に示された矢印は、ON状態とする画素電極を示している。
図7の(a)は、チャンバ20に注入された液体中に存在しているマイクロビーズを対象物体とした場合の誘電泳動の実験例を示す図である。図7の(a)の場合には、TFT層の2つの画素電極をON状態とするために、(i)当該画素電極に対応するTFTのゲート電極に3Vの直流電圧が印加されるとともに、(ii)当該画素電極に対応するTFTのソース電極に電圧(ピーク値)3V、周波数100kHzの正弦波電圧が印加されている。
図7の(a)に示されるように、マイクロビーズを対象物体とした場合には、マイクロビーズが、ON状態となった画素電極(換言すれば、周囲の画素電極に比べて高電位となった画素電極)から離れるように移動することが確認された。
すなわち、不均一な電界が形成されたTFT層において、マイクロビーズが、高電位の位置から低電位の位置に向かって移動することが確認された。このように、マイクロビーズを対象物体とした場合には、負の誘電泳動が生じることが確認された。
図7の(b)は、チャンバ20に注入された液体中に存在しているイースト菌を対象物体とした場合の誘電泳動の実験例を示す図である。図7の(b)の場合には、TFT層の1つの画素電極をON状態とするために、(i)当該画素電極に対応するTFTのゲート電極に1Vの直流電圧が印加されるとともに、(ii)当該画素電極に対応するTFTのソース電極に電圧(ピーク値)4V、周波数100kHzの正弦波電圧が印加されている。
図7の(b)に示されるように、イースト菌を対象物体とした場合には、イースト菌が、ON状態となった画素電極に引き寄せられて移動することが確認された。すなわち、不均一な電界が形成されたTFT層において、イースト菌が、低電位の位置から高電位の位置に向かって移動することが確認された。このように、イースト菌を対象物体とした場合には、正の誘電泳動が生じることが確認された。
以上のように、本願の発明者は、TFT基板10を用いて、対象物体の誘電泳動を行うという技術的思想を新たに想到し、泳動装置1を実現した。なお、上述の式(1)によれば、誘電泳動の極性は、対象物体の誘電率εpおよび液体の誘電率εmに依存することが理解される。
(泳動装置1における光学的な観察結果の例)
本実施形態の泳動装置1において、TFT基板10は透光性の領域を有している。従って、対象物体を誘電泳動させるとともに、当該対象物体に対する光学的な観察を行うことが可能である。例えば、対象物体を誘電泳動させた場合の当該対象物体の運動を、観察者が肉眼によって、または光学顕微鏡を用いて観察することが可能である。
また、チャンバ20を透明な部材として製作することにより、チャンバ20を泳動装置1に設けた場合であっても、対象物体に対する光学的な測定を行うことが可能である。
図8は、泳動装置1における対象物体に対する光学的な観察結果の例を示す図である。図8の(a)は、チャンバ20に注入された液体中に存在している上皮細胞を対象物体とした場合の光学的な観察結果の例である。なお、図8の(a)の場合には、対象物体の観察を容易化するために、液体中に蛍光マーカが添加されている。
また、図8の(b)は、チャンバ20に注入された液体中に存在しているマイクロビーズを対象物体とした場合の光学的な観察結果の例である。なお、図8の(b)の場合にも、対象物体の観察を容易化するために、液体中に蛍光マーカが添加されている。
なお、図8の(a)および(b)の観察結果はいずれも、顕微鏡(例えば、後述の図23の顕微鏡51)によって観察された像を示している。また、上皮細胞等の対象物体は、誘電泳動が行われた後に、TFT基板10上で培養されてもよい。
泳動装置1によれば、対象物体を誘電泳動させるとともに、当該対象物体に対する光学的な測定を行うことが可能となる。従って、泳動装置1によれば、観察者は、対象物体に対する光学的な測定結果と、当該対象物体に対する電気的な測定結果との整合性を容易に確認することができる。また、観察者は、光学的な測定結果を参照して、電気的な測定条件を適宜調整することもできる。
(対象物体に対する所定の操作の例)
また、泳動装置1では、(i)TFTのゲート電極に印加される電圧(すなわち、直流電源41によって発生させる電圧)と、(ii)TFTのソース電極に印加される電圧(すなわち、交流電源42によって発生させる電圧)とを調整することによって、対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界とは異なる第2の電界を形成することができる。この第2の電界は、対象物体に対する誘電泳動以外の所定の操作に対応している。
以下、図9を参照し、対象物体に対する誘電泳動以外の操作の例について述べる。図9の(a)〜(c)はそれぞれ、本発明の実施形態1に係る泳動装置における、対象物体に対する誘電泳動以外の操作の例を示す図である。
なお、図9の(a)〜(c)の操作を行う場合には、交流電源42に所定のパルス電圧波形を発生させればよい。パルス電圧波形の振幅、オフセット値、周波数、およびデューティ比等を変化させることにより、図9の(a)〜(c)の各操作を切り替えることができる。
図9の(a)〜(c)では、簡単のために、ゲートラインGLおよびソースラインSLの図示を省略している。また、図9の(a)〜(c)では、対象物体である細胞T・Ta・Tbが、TFT基板10上に直接的に配置されている場合が例示されている。
図9の(a)は、所定の操作が、細胞Tに対して電気刺激(Electro stimulation)を施す操作である場合を例示している。細胞Tに対して電気刺激を施す操作は、細胞Tを活性化させるために行われてよい。
図9の(b)は、所定の操作が、細胞Tに対してエレクトロポレーション(Electroporation)を行う操作である場合を例示している。細胞Tに対してエレクトロポレーションを行う操作は、以下に示す図9の(c)の細胞融合の前処理として行われてよい。
図9の(c)は、所定の操作が、細胞TaおよびTb(すなわち、複数の細胞)を細胞融合させる操作である場合を例示している。複数の細胞を細胞融合させる操作は、融合した細胞の進化または挙動を観察する実験のために行われてよい。
(エレクトロポレーションの実験例)
本願の発明者は、一実験例として、骨髄腫細胞(Myeloma cell)に対してエレクトロポレーションを行った。以下、図10および図11を参照し、当該実験例について説明する。
図10の(a)は、泳動装置1において骨髄腫細胞に対してエレクトロポレーションが行われる前の状態を表す図である。本実験では、骨髄腫細胞の生死を判別するために蛍光マーカが添加されている。このため、生細胞(Living cell)は緑色に、死細胞(Dead cell)は赤色にそれぞれ呈色される。なお、図10の(a)では、便宜上、生細胞は白色として、死細胞は黒色として、それぞれ図示されている。
なお、本実験では、生細胞を判別する蛍光マーカとしてはFDA(Fluorescein Diacetate)を、死細胞を判別する蛍光マーカとしてはPI(Propidium Iodide)をそれぞれ用いた。
図10の(b)は、泳動装置1において骨髄腫細胞に対してエレクトロポレーションが行われた後の状態を表す図である。なお、本実験では、電極(電極パターン)間に振幅4V、ON時間500μs、デューティ比50%のパルスを2回印加することにより、エレクトロポレーションを行った。
生細胞の内部にエレクトロポレーションによって細胞膜が穿孔されると、PIが当該孔から骨髄腫細胞に入り込むこととなる。なお、PIは、穿孔されていない生細胞の内部には入り込むことはできない。そして、エレクトロポレーションが行われた骨髄腫細胞の内部では、それぞれの蛍光マーカが細胞の核と反応する。その結果、当該骨髄腫細胞は、緑色と赤色とが混色した薄いオレンジ色に呈色される。
このように、本実験では、エレクトロポレーションが行われた骨髄腫細胞を、薄いオレンジ色に呈色された細胞として識別することができる。なお、図10の(b)では、便宜上、エレクトロポレーションが行われた骨髄腫細胞は灰色として図示されている。
なお、パルスの振幅を6Vにして同様の実験を行ったところ、全ての骨髄腫細胞が赤色に呈色したことが確認された。すなわち、パルスの振幅を6Vにした場合には、骨髄腫細胞が完全に死滅したことが確認された。
図11の(a)は、図10の電極の拡大図である。また、図11の(b)は、図11の(a)のD−D´断面における断面図である。図11の(b)に示されるように、エレクトロポレーションを行うための電極部(Au/Cr層)以外は、SiO層によって被覆されている。従って、SiO層によって被覆されていない電極部においてのみ、エレクトロポレーションを行うことができる。
図11の(c)は、図11の(b)の電極部にパルスを印加し、電極部の上に配置された細胞にエレクトロポレーションを行った様子を示す概略図である。また、図11の(d)は、エレクトロポレーションが行われることにより、細胞膜が穿孔された様子を示す概略図である。
(TFT基板10をセンサとして機能させた場合)
本実施形態の泳動装置1において、TFT基板10の少なくとも一部を各種センサとして機能させることも可能である。図12は、TFT基板10の一部を各種センサとして機能させた場合の例を示す図である。なお、図12においても、簡単のために、ゲートラインGLおよびソースラインSLの図示を省略している。
図12の例では、TFT基板10の少なくとも一部を、ISFET(Ion Sensitive Field Effect Transistor,イオン感応性電界効果型トランジスタ)センサS1、抵抗センサS2、静電容量センサS3、およびインピーダンスセンサS4として機能させている。
ISFETセンサS1は、イオン感応電位を検出する機能を有する。TFT基板10の少なくとも一部をISFETセンサとして機能させることにより、対象物体における所定の種類のイオン(例えば、カルシウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオン)の授受を検出することができ、当該対象物体の活性度(生死)を確認することが可能となる。
また、抵抗センサS2は、電気抵抗(R)を検出する機能を有する。TFT基板10の少なくとも一部を抵抗センサとして機能させることにより、当該位置における対象物体の有無を検出することが可能となる。
また、静電容量センサS3は、静電容量(C)を検出する機能を有する。TFT基板10の少なくとも一部を静電容量センサとして機能させることにより、当該位置における対象物体の有無を検出することが可能となる。
また、インピーダンスセンサS4は、インピーダンス(Z)を検出する機能を有する。TFT基板10の少なくとも一部をインピーダンスセンサとして機能させることにより、当該位置における対象物体の有無を検出することが可能となる。また、対象物体の活性度を確認することも可能となる。
このように、TFT基板10の所定の位置を、各種センサとして機能させることにより、当該センサの位置において、対象物体の有無および状態を検出することが可能となる。従って、TFT基板10上の任意の位置において、対象物体の有無および状態を検出することが可能となる。
(インピーダンスセンサ)
続いて、図13〜図15を参照して、本実施形態におけるインピーダンスセンサの基本的な概念について述べる。
図13は、TFT基板10上に細胞が配置されていない場合の電流経路の一例を示す図である。図13では、1つの画素電極がON状態である場合を考える。図13に示されるように、ON状態の画素電極に対応するTFTのソース配線には、所定の交流電圧(正弦波電圧)が印加される。従って、当該TFTには、交流電源42から交流電流が流入する。
ここで、TFT基板10の各画素電極間には、静電容量が形成されている。従って、当該交流電流は、ON状態の画素電極と隣接した画素電極に形成された静電容量を介して、当該隣接した画素電極に対応するTFTに流入する。そして、当該交流電流は、当該隣接した画素電極に対応するソース配線から出力される。
なお、OFF状態の画素電極に対応するTFTにおいては、ソース−ドレイン間の抵抗が非常に大きいため、OFF状態の他の画素電極からの電流の回り込みは無視することができる。
従って、TFT基板10には、ON状態の画素電極に対応するTFTのソース配線に印加される交流電圧V*を入力信号、当該隣接した画素電極のTFTに対応するソース配線から出力される交流電流I*を出力信号とした測定系(回路網)が形成されることとなる。ここで、*は複素数を示す記号である。
ここで、当該測定系のインピーダンスZは、Z=V*/I*として表される。従って、交流電圧V*は既知であるので、TFT基板10の少なくとも一部において、交流電流I*を検出可能であるように構成することにより、インピーダンスZを算出することができる。換言すれば、当該部分をインピーダンスセンサとして機能させることが可能となる。なお、インピーダンスZは、LCRメータ等の機器を用いて測定することが可能である。
また、インピーダンスZの実部のみを測定可能であるように測定系を構成すれば、TFT基板10の少なくとも一部を、抵抗センサとして機能させることができる。また、上述のインピーダンスZの虚部のみを測定可能であるように測定系を構成すれば、TFT基板10の少なくとも一部を、静電容量センサとして機能させることができる。
続いて、図14は、TFT基板10上に細胞Tが配置されている場合の電流経路の一例を示す図である。図14では、ON状態の画素電極と隣接した画素電極との間に、細胞Tが配置されている場合を考える。
また、図15は、細胞Tの電気的な等価回路を示す図である。図15では、細胞Tが細胞膜と細胞質から成るモデルが想定されている。図15に示されるように、細胞膜は、静電容量として見なすことができる。なお、この近似は、高周波領域において特に有効である。
他方、細胞質は、電解質を有しているため、静電容量に加えて、電気抵抗をも有していると見なすことができる。従って、細胞質はRC並列回路として表される。それゆえ、細胞Tは、図15の回路によって形成される所定のインピーダンスを有していると理解することができる。
従って、図14のように細胞Tが配置される場合には、交流電流I*は、主に細胞Tを経由して、ON状態の画素電極と隣接した画素電極のTFTに対応するソース配線から出力されることとなる。
それゆえ、図14において、電流I*の大きさは、図13の場合から変化することになる。換言すれば、測定系のインピーダンスZもまた、図13の場合から変化する。従って、インピーダンスZを測定することによって、当該測定系内に細胞Tが存在しているか否かを検出することが可能となる。
なお、TFT基板の少なくとも一部をインピーダンスセンサとして機能させる場合には、当該領域において、ON状態とする画素電極を逐次的に切り替えていけばよい。このように、細胞Tを配置した領域の測定を行うことで、細胞Tの位置および状態をマッピングすることができる。
図16は、TFT基板10をインピーダンスセンサとして機能させた場合の実験結果の例を示すグラフである。当該実験では、「10%に希釈したイースト菌溶液」(凡例:1/10(Z)Yeast)、「1%に希釈したイースト菌溶液」(凡例:1/100(Z))、「0.1%に希釈したイースト菌溶液」(凡例:1/1000(Z))、「純水」(凡例:DIW(Z))の4種類の液体に対して、インピーダンスの測定を行った。
図16の(a)は、交流電圧の周波数を500Hz〜500kHzの範囲にて変化させた場合の、各液体のインピーダンスの測定結果を示すグラフである。図16の(a)では、液体に含まれるイースト菌の濃度が高いほど、インピーダンスが高くなる傾向が示されている。
また、図16の(b)は、図16の(a)のグラフにおいて、周波数500Hz〜50kHzの範囲を拡大した図である。図16の(b)では、液体に含まれるイースト菌の濃度が高いほどインピーダンスが高くなる傾向は、周波数500Hz〜10kHz程度の比較的低周波の領域において、特に顕著であることが示されている。
このように、TFT基板10の少なくとも一部をインピーダンスセンサとして機能させる場合には、インピーダンスを測定する対象の種類に応じて、測定に好適な周波数を適宜設定すればよい。
(ISFETセンサ)
図17は、TFT基板10をインピーダンスセンサとして機能させた場合の実験結果の例を示すグラフである。なお、本実施形態では、TFTのドレイン電流を測定することによって、当該TFTをISFETセンサとして機能させている。
当該実験では、ISFETセンサをPHセンサとして使用した。当該実験では、「ホウ酸塩PH標準液」(PH=9)、「純水」(PH=7)、「フタル酸塩PH標準液」(PH=4)の3種類の液体を、PHの測定対象とした。
図17の(a)は、TFTのドレイン電圧を0.5Vとして、かつ、ゲート電圧を−5V〜10Vの範囲にて変化させた場合の、当該ドレイン電流の測定結果を示すグラフである。図17の(a)には、ゲート電圧が同じ値であっても、液体のPHの値に応じて、異なる値のドレイン電流が測定されることが示されている。
従って、ゲート電圧の値とPHの値との対応関係が既知であれば、測定されたドレイン電流の値から、液体のPHの値を算出することができる。本実験では、事前に得られた実験データを用いて、「y=0.0157x+0.0717x+7.664」という多項式として、ゲート電圧の値とPHの値との対応関係を表した。ここで、xはPHの値であり、yはゲート電圧の値である。
図17の(b)は、測定されたドレイン電流の値と、算出されたPHの値との関係を示すグラフである。図17の(b)では、PHの値として、「PH=9」、「PH=6」、「PH=4」の3通りの値が得られている。
つまり、ホウ酸塩PH標準液およびフタル酸塩PH標準液については、適切なPHの値が算出されている。なお、純水はCOを吸収するため、実験中にPHの値が減少する。このため、純水のPHの算出結果については、PH=7よりも低い値が得られたものと考えられる。
(電気刺激の一例)
上述したように、交流電源42は、パルス電圧波形を発生させることができる。また、模擬回路43は、模擬刺激としての電圧信号を発生させることができる。以下、図18を参照し、電気刺激について説明する。
はじめに、図18の(a)は、交流電源42によって発生させたパルス電圧波形を示す図である。パルス電圧波形による電気刺激は、パルス刺激(Pulse stimulation)とも称される。パルス刺激は、例えば神経細胞T1に電気刺激を与えるための刺激として用いられてよい。
続いて、図18の(b)は、模擬回路43によって発生させた模擬刺激の電圧波形を示す図である。模擬刺激とは、神経細胞T2の膜電位(Membrane potential)の時間的な変化を模擬した電圧波形である。図18の(b)の電圧波形では、脱分極(Depolarization)、再分極(Repolarization)、静止電位(Resting potential)、および活動電位(Action potential)が模擬されている。
模擬刺激は、神経細胞T2に与えられる生物学的な刺激を、パルス刺激に比べてより高精度に模擬した電気刺激であると理解されてよい。模擬刺激を用いることにより、パルス刺激を用いた場合に比べて、より高精度な実験が可能になるとともに、神経細胞T1に与えられる電気的なストレスを低減させることができる。
また、模擬回路43によって、筋肉細胞T1に接続されている運動ニューロンの膜電位を模擬した電圧波形を生成することもできる。なお、この運動ニューロンは、TFT基板10上において培養されてもよい。
(泳動装置1の効果)
以上のように、本実施形態の泳動装置1によれば、誘電泳動によって対象物体(例えば細胞等)を移動させる泳動装置を、TFT基板10を用いて実現することが可能となる。加えて、透光性の領域を有するTFT基板10を用いることにより、対象物体を誘電泳動させるとともに、当該対象物体に対する光学的な測定を行うことが可能となる。
また、本実施形態の泳動装置1によれば、TFT基板10内のTFTによって、対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界とは異なる第2の電界を形成することができる。この第2の電界を形成することにより、対象物体に対して誘電泳動以外の所定の操作(例えば、電気刺激、エレクトロポレーション、細胞融合)を施すことが可能となる。
また、TFT基板10の少なくとも一部を、各種センサ(例えば、ISFETセンサ、抵抗センサ、静電容量センサ、インピーダンスセンサ)として機能させることにより、当該センサの位置において、対象物体の有無および状態を検出することが可能となる。
〔変形例〕
なお、本発明の一態様に係る泳動装置において、TFT基板のゲート配線およびソース配線の配置は、実施形態1のものに限定されなくともよい。以下、図19および図20を参照し、TFT基板の変形例について説明する。
図19は、実施形態1のTFT基板10の変形例としてのTFT基板10vの構成を示す図である。TFT基板10vは、ゲート配線およびソース配線が、画素電極(ITO電極)の端部と重なり合わないように配置されているという点において、実施形態1のTFT基板10(図3を参照)と異なる。
続いて、図20を参照し、TFT基板10vの利点について説明する。図20において、(a)は、図3のTFT基板10における画素電極と電極配線との位置関係を示す図であり、(b)は、図19のTFT基板10vにおける画素電極と電極配線との位置関係を示す図である。
なお、図20において、画素電極のサイズは95μm□、画素ピッチは100μm、配線幅は5μmである。また、ゲート配線およびソース配線は、不透明な金属材料(例えばAl)によって形成されている。また、細胞Tのサイズは数μm〜数10μm程度である。
図20の(a)に示されるように、TFT基板10では、不透明なゲート配線およびソース配線が、画素電極の端部と重なり合うように配置されている。このため、画素電極間に細胞Tが存在している場合には、細胞Tが不透明なゲート配線およびソース配線に隠されてしまうため、細胞Tに対して光学的な観察を行うことができなくなる。
他方、図20の(b)に示されるように、TFT基板10vでは、不透明なゲート配線およびソース配線が、画素電極の端部と重なり合わないように配置されている。このため、画素電極間に細胞Tが存在している場合であっても、細胞Tは不透明なゲート配線およびソース配線に隠されないため、細胞Tに対して光学的な観察を行うことができる。
従って、TFT基板10vによれば、ゲート配線およびソース配線の電気抵抗を低減させるために、Al等の不透明な金属材料を用いた場合であっても、細胞Tに対して光学的な観察を行うことが可能となる。誘電泳動を行う場合には、比較的多数の対象物質が画素電極間の付近に移動することが考えられるため、TFT基板10vは有益である。
〔実施形態2〕
本発明の他の実施形態について、図21に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
図21は、本実施形態の泳動装置2の構成を示す図である。本実施形態の泳動装置2は、実施形態1の泳動装置1において、チャンバ20をチャンバ25(規制部材)に置き換えることによって得られる構成である。なお、図21では、簡単のために、直流電源41、交流電源42、および模擬回路43の図示を省略している。
泳動装置2において、チャンバ25の内部には、第1チャンバ26a(規制部材)および第2チャンバ26b(規制部材)が設けられている。第1チャンバ26aは、筋肉細胞T1を含んだ液体の移動範囲を規制する。また、第2チャンバ26bは、神経細胞T2を含んだ液体の移動範囲を規制する。
また、第1チャンバ26aには、チャンバ25の外部から、第1チャンバ26aの内部に液体を注入するための注入孔Hが設けられている。同様に、第2チャンバ26bには、チャンバ25の外部から、第2チャンバ26bの内部に液体を注入するための注入孔Hが設けられている。
そして、第1チャンバ26aと第2チャンバ26bとは、互いに離間しており、かつ、互いに連通しないように構成されている。従って、第1チャンバ26aによって受容されている液体と、第2チャンバ26bによって受容されている液体とが混合しないように、各液体を分離することが可能である。
泳動装置2によれば、複数のチャンバ(第1チャンバ26aおよび第2チャンバ26b)が設けられることにより、分離された各液体に含まれる筋肉細胞T1および神経細胞T2のそれぞれに対して、誘電泳動および所定の操作を施すことが可能となる。このため、泳動装置の利便性をさらに向上させることが可能となる。
〔変形例〕
なお、本発明の一態様に係る泳動装置において、複数の規制部材が設けられる場合であっても、当該規制部材の構成は、実施形態2のものに限定されなくともよい。以下、図22を参照し、規制部材の変形例について説明する。
図22は、実施形態2のチャンバ25の変形例としてのチャンバ25v(規制部材)の構成を示す図である。なお、図22において、チャンバ25vの各部材は、PDMSを用いて製作されているため、透明である。
図22に示すように、チャンバ25vは、略直方体状の部材である。チャンバ25vの内部には、第1チャンバ26av(規制部材)、第2チャンバ26bv(規制部材)、および第3チャンバ26cv(規制部材)が設けられている。このように、規制部材の個数は、3つ以上であってもよい。
また、第1チャンバ26av〜第3チャンバ26cvのそれぞれには、チャンバ25vの外部から、第1チャンバ26av〜第3チャンバ26cvの内部に液体を注入するための注入孔Hが設けられている。
加えて、チャンバ25vには、(i)第1チャンバ26avと第2チャンバ26bvとを連通する微小流路MF1と、(ii)第2チャンバ26bvと第3チャンバ26cvとを連通する微小流路MF2設けられている。なお、微小流路MF1およびMF2は、数μm程度の幅を有するように構成されてよい。
微小流路MF1およびMF2が設けられることにより、第1チャンバ26avと第2チャンバ26bvと第3チャンバ26cvとを、互いに連通させることができる。
一例として、各チャンバ内の液体中に含まれている細胞を培養した後に、各チャンバ内の液体を混合させたい場合には、チャンバ25vが好適である。また、チャンバ25vによれば、神経細胞が含まれているチャンバ(例えば第1チャンバ26av)から、筋肉細胞が含まれているチャンバ(例えば第2チャンバ26bv)に、神経細胞の軸索を導入することもできる。
〔実施形態3〕
本発明の他の実施形態について、図23に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
図23は、本実施形態の観察システム100の構成を示す図である。観察システム100は、泳動装置1、顕微鏡51、デジタルカメラ52、および制御装置60を備えている。なお、図23においても、簡単のために、直流電源41、交流電源42、および模擬回路43の図示を省略している。
顕微鏡51は、泳動装置1における対象物体に対する光学的な観察を容易化するために設けられた光学観察機器である。顕微鏡51は、観察者によって手動での操作が可能である。顕微鏡51は、例えば、基板30の側から対象物体を観察するために配置された倒立型の顕微鏡であってもよいし、チャンバ20の側から対象物体を観察するために配置された正立型の顕微鏡であってもよい。
但し、顕微鏡51は、倒立型の顕微鏡であることが好ましい。顕微鏡51が倒立型の顕微鏡である場合には、顕微鏡51と対象物質との間にチャンバ20が存在していないため、高倍率での観察をより容易に行うことができるためである。
デジタルカメラ52は、泳動装置1における対象物体に対する光学的な観察をさらに容易化するために設けられた光学観察機器である。デジタルカメラ52の動作は、制御装置60によって制御されている。従って、デジタルカメラ52は、観察者による手動での操作を必要とせず、対象物体に対する光学的な観察(像の撮影)を行うことができる。
制御装置60は、デジタルカメラ52および泳動装置1の動作を統括的に制御する部材である。制御装置60は、例えばPC(Personal Computer)であってよい。制御装置60は、デジタルカメラ52および基板30と接続されている。
従って、制御装置60は、基板30を介して、泳動装置1の各種の部材(例えば、直流電源41および交流電源42等)の動作を制御することができる。このため、ユーザは制御装置60を介して、対象物体に対する誘電泳動および各種の操作を、容易に行うことが可能となる。
(観察システム100の目的)
観察システム100は、細胞間の相互作用が重要な研究において、in-vitro(生体外)の分析を可能とするプラットフォームを実現することを目的として構成されている。
一例として、観察システム100は、(i)病気のプロセスの調査、あるいは、(ii)ALSまたは筋疾患(Myopathy)等の病気の治療の研究を行うために使用されてよい。
泳動装置1によれば、TFT基板10上の特定の場所に配置された筋肉細胞または神経細胞のみに電気刺激を与えることが可能であるため、完全な筋肉単位(筋細胞と運動ニューロン)を培養することが可能であるためである。
また、観察システム100においては、より生体に近いモデルを構築するために、2種類よりも多い種類の細胞を実験対象とすることもできる。例えば、細胞相互作用に関する調査の改善のために、感覚受容器(例えば熱を検知する細胞)等の細胞を導入して、TFT基板10上において、当該細胞を神経細胞と接続させてもよい。
〔まとめ〕
本発明の態様1に係る泳動装置(1)は、誘電泳動によって対象物体(例えば、細胞T)を移動させる泳動装置であって、誘電泳動のための電界を形成するとともに、上記対象物体を支持する薄膜トランジスタ基板(TFT基板10)を備えており、上記薄膜トランジスタ基板が備える複数のトランジスタ(TFT11a)の一部に電圧が印加されることにより、上記対象物体を移動させる。
上記の構成によれば、誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置を、TFT基板を用いて実現することが可能となるという効果を奏する。
本発明の態様2に係る泳動装置は、上記態様1において、上記薄膜トランジスタ基板が、透光性の領域を有していることが好ましい。
上記の構成によれば、透光性の領域を有するTFT基板を用いることにより、対象物体を誘電泳動させるとともに、当該対象物体に対する光学的な測定を行うことが可能となるという効果を奏する。
本発明の態様3に係る泳動装置は、上記態様1または2において、上記薄膜トランジスタ基板上に配置され、上記対象物体の移動範囲を規制する規制部材(チャンバ20)を備えていることが好ましい。
上記の構成によれば、TFT基板上に規制部材を設けることにより、対象物体を含んだ液体を泳動装置において取り扱うことが可能となるという効果を奏する。
本発明の態様4に係る泳動装置は、上記態様3において、上記規制部材が、ポリジメチルシロキサン、エポキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニリデンフルオライド、ガラス、または石英のいずれかを材料として製作されていることが好ましい。
上記の構成によれば、規制部材を透明な部材として製作することができるため、規制部材を泳動装置に設けた場合であっても、対象物体に対する光学的な測定を行うことが可能となるという効果を奏する。
本発明の態様5に係る泳動装置は、上記態様1から4のいずれか1つにおいて、上記薄膜トランジスタ基板の少なくとも一部が、イオン感応性電界効果型トランジスタセンサ(ISFETセンサS1)、抵抗センサ(S2)、静電容量センサ(S3)、および、インピーダンスセンサ(S4)のうちの少なくとも1つとして機能することが好ましい。
上記の構成によれば、TFT基板を各センサとして機能させることにより、対象物体の有無または状態を評価することが可能となるという効果を奏する。一例として、対象物体が細胞である場合には、インピーダンスセンサによって細胞のインピーダンスを測定することにより、細胞の活性度(生死)を判定することができる。
本発明の態様6に係る泳動装置は、上記態様1から5のいずれか1つにおいて、上記薄膜トランジスタ基板が、上記対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界とは異なる第2の電界を形成し、上記第2の電界は、上記対象物体に対する誘電泳動以外の所定の操作に対応した電界であることが好ましい。
上記の構成によれば、第2の電界を形成することによって、対象物体に対して誘電泳動以外の所定の操作を施すことが可能となるという効果を奏する。
本発明の態様7に係る泳動装置は、上記態様6において、上記対象物体は、細胞であり、上記所定の操作は、上記細胞に対して電気刺激を施す操作、上記細胞に対してエレクトロポレーションを行う操作、または、複数の上記細胞を細胞融合させる操作のうちのいずれかであることが好ましい。
上記の構成によれば、細胞に対して、電気刺激を施す操作またはエレクトロポレーションを行う操作を施すことが可能となるという効果を奏する。また、複数の細胞を細胞融合させる操作を施すことも可能となる。
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
1,2 泳動装置
10 TFT基板(薄膜トランジスタ基板)
11a TFT(トランジスタ)
20,25,25v チャンバ(規制部材)
26a,26av 第1チャンバ(規制部材)
26b,26bv 第2チャンバ(規制部材)
26cv 第3チャンバ(規制部材)
100 観察システム
S1 イオン感応性電界効果型トランジスタセンサ(ISFETセンサ)
S2 抵抗センサ
S3 静電容量センサ
S4 インピーダンスセンサ
T,Ta,Tb 細胞(対象物体)
T1 筋肉細胞(対象物体)
T2 神経細胞(対象物体)

Claims (7)

  1. 誘電泳動によって対象物体を移動させる泳動装置であって、
    誘電泳動のための電界を形成するとともに、上記対象物体を支持する薄膜トランジスタ基板を備えており、
    上記薄膜トランジスタ基板が備える複数のトランジスタの一部に電圧が印加されることにより、上記対象物体を移動させることを特徴とする泳動装置。
  2. 上記薄膜トランジスタ基板は、透光性の領域を有していることを特徴とする請求項1に記載の泳動装置。
  3. 上記薄膜トランジスタ基板上に配置され、上記対象物体の移動範囲を規制する規制部材を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の泳動装置。
  4. 上記規制部材は、ポリジメチルシロキサン、エポキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニリデンフルオライド、ガラス、または石英のいずれかを材料として製作されていることを特徴とする請求項3に記載の泳動装置。
  5. 上記薄膜トランジスタ基板の少なくとも一部は、
    イオン感応性電界効果型トランジスタセンサ、
    抵抗センサ
    静電容量センサ、および、
    インピーダンスセンサのうちの少なくとも1つとして機能することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の泳動装置。
  6. 上記薄膜トランジスタ基板は、上記対象物体を誘電泳動によって移動させるための電界とは異なる第2の電界を形成し、
    上記第2の電界は、上記対象物体に対する誘電泳動以外の所定の操作に対応した電界であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の泳動装置。
  7. 上記対象物体は、細胞であり、
    上記所定の操作は、
    上記細胞に対して電気刺激を施す操作、
    上記細胞に対してエレクトロポレーションを行う操作、または、
    複数の上記細胞を細胞融合させる操作のうちのいずれかであることを特徴とする請求項6に記載の泳動装置。
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