JP2018125436A - Electronic device - Google Patents

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慎也 内堀
Shinya Uchibori
慎也 内堀
祐紀 眞田
Yuki Sanada
祐紀 眞田
俊浩 中村
Toshihiro Nakamura
俊浩 中村
耕佑 鈴木
Kosuke Suzuki
耕佑 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device capable of suppressing the shortening the life of solder.SOLUTION: An electronic device includes a wiring substrate 10, a circuit element 30 mounted on one surface of a wiring board and having an electrode 31 connected to a land 11, a solder 40 that electrically connects the land 11 and the electrode 31, and a sealing resin portion 60 that seals at least a gap between a circuit element 30 and the one surface. A recessed portion 20 is formed in at least a part of a facing portion opposed to the circuit element 30, which is sandwiched between a plurality of lands 11 on the one surface of the wiring board 10. In the electronic device, a flux 50 is arranged in at least a part of the recessed portion 20.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、回路素子がはんだを介して配線基板に実装され樹脂封止された電子装置に関する。   The present invention relates to an electronic device in which circuit elements are mounted on a wiring board via solder and sealed with resin.

従来、特許文献1に開示されているように、はんだを介して回路素子が実装されるプリント配線基板がある。このプリント配線基板は、表面実装部品を搭載するパッド間に凹部が形成され、表面実装部品の実装後のフラックス洗浄工程における洗浄液が凹部に導かれるようになっている。   Conventionally, as disclosed in Patent Document 1, there is a printed wiring board on which circuit elements are mounted via solder. In this printed wiring board, a recess is formed between pads on which the surface mount component is mounted, and a cleaning liquid in a flux cleaning process after mounting the surface mount component is guided to the recess.

特開平10−41592号公報JP 10-41592 A

とことで、従来技術ではないが、電子装置は、回路素子がはんだを介して配線基板に実装され、回路素子と配線基板との間が樹脂封止された構成が考えられる。このような電子装置は、フラックスを洗浄することなく、すなわち回路素子と配線基板との間にフラックスが残存した状態で樹脂封止されることもありうる。   Therefore, although it is not a conventional technique, an electronic device may be configured such that a circuit element is mounted on a wiring board via solder and the circuit element and the wiring board are sealed with resin. Such an electronic device may be resin-sealed without cleaning the flux, that is, with the flux remaining between the circuit element and the wiring board.

しかしながら、電子装置は、フラックスが残存した状態で樹脂封止されると、高温環境下でフラックスが膨張した場合、封止用の樹脂によってフラックスの逃げ場がない。このため、電子装置は、フラックスの膨張による応力が回路素子と配線基板に印加されることになる。そして、電子装置は、応力の印加によって回路素子と配線基板との間隔が広げられことで、はんだにも応力が印加されるため、はんだの寿命が短くなるという問題がある。   However, when the electronic device is resin-sealed with the flux remaining, if the flux expands in a high temperature environment, the flux does not escape due to the sealing resin. For this reason, in the electronic device, the stress due to the expansion of the flux is applied to the circuit element and the wiring board. The electronic device has a problem that the life of the solder is shortened because the stress is applied to the solder because the distance between the circuit element and the wiring board is widened by the application of the stress.

本開示は、上記問題点に鑑みなされたものであり、はんだの短寿命化を抑制できる半導体装置を提供することを目的とする。   The present disclosure has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a semiconductor device capable of suppressing the shortening of the solder life.

上記目的を達成するために本開示は、
一面(S1)の一部に、配線の一部である複数の基板側電極(11、11b)を有した配線基板(10)と、
一面に実装され、基板側電極と電気的に接続された複数の素子側電極(31、31a、31b)を有した回路素子(30、30a、30b)と、
基板側電極と素子側電極とを電気的に接続するはんだ(40)と、
少なくとも回路素子と一面との間を封止する絶縁部材(60)と、を備えた電子装置であって、
配線基板は、一面における複数の基板側電極で挟まれ回路素子と対向した対向部位の少なくとも一部に凹部(20〜25)が形成されており、
凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present disclosure
A wiring substrate (10) having a plurality of substrate-side electrodes (11, 11b) which are a part of wiring on a part of one surface (S1);
A circuit element (30, 30a, 30b) having a plurality of element side electrodes (31, 31a, 31b) mounted on one surface and electrically connected to the substrate side electrode;
Solder (40) for electrically connecting the substrate side electrode and the element side electrode;
An insulating member (60) for sealing at least between the circuit element and one surface,
The wiring board is formed with recesses (20 to 25) in at least a part of a facing portion sandwiched between a plurality of substrate-side electrodes on one surface and facing a circuit element,
A flux is arranged in at least a part of the recess.

このように、本開示は、対向部位の少なくとも一部に凹部が形成されており、この凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されているため、凹部が設けられていない場合よりも、対向部位にあるフラックスの厚みを薄くすることができる。このため、本開示は、高温環境下においてフラックスの膨張量を小さくすることができ、フラックスの膨張によって配線基板と回路素子とに印加される応力を抑制できる。よって、本開示は、基板側電極と素子側電極とを電気的に接続するはんだの接続寿命が短寿命化することを抑制できる。   Thus, the present disclosure has a recess formed in at least a part of the facing part, and the flux is disposed in at least a part of the recessed part. The thickness of a certain flux can be reduced. For this reason, this indication can make small the amount of expansion of flux under high temperature environment, and can control the stress applied to a wiring board and a circuit element by expansion of flux. Therefore, this indication can control that the connection life of the solder which electrically connects a substrate side electrode and an element side electrode becomes short life.

また、上記目的を達成するための更なる特徴は、
一面(S1)の一部に、配線の一部である複数の基板側電極(11、11b)を有した配線基板(10)と、
一面に実装され、基板側電極と電気的に接続された複数の素子側電極(31、31a、31b)を有した回路素子(30、30a、30b)と、
基板側電極と素子側電極とを電気的に接続するはんだ(40)と、
少なくとも回路素子と一面との間を封止する絶縁部材(60)と、を備えた電子装置であって、
配線基板は、一面における複数の基板側電極で挟まれ回路素子と対向した対向部位に隣り合う非対向部位において、基板側電極に隣接して凹部(26)が形成されており、
凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されている電子装置。
Further features for achieving the above objective are:
A wiring substrate (10) having a plurality of substrate-side electrodes (11, 11b) which are a part of wiring on a part of one surface (S1);
A circuit element (30, 30a, 30b) having a plurality of element side electrodes (31, 31a, 31b) mounted on one surface and electrically connected to the substrate side electrode;
Solder (40) for electrically connecting the substrate side electrode and the element side electrode;
An insulating member (60) for sealing at least between the circuit element and one surface,
The wiring board is formed with a recess (26) adjacent to the substrate side electrode in a non-facing portion adjacent to the facing portion sandwiched between the plurality of substrate side electrodes on one surface and facing the circuit element.
An electronic device in which a flux is disposed in at least a part of the recess.

このように、本開示は、非対向部位において、基板側電極に隣接して凹部が形成されており、この凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されているため、凹部が設けられていない場合よりも、対向部位にあるフラックスの厚みを薄くすることができる。このため、本開示は、高温環境下においてフラックスの膨張量を小さくすることができ、フラックスの膨張によって配線基板と回路素子とに印加される応力を抑制できる。よって、本開示は、基板側電極と素子側電極とを電気的に接続するはんだの接続寿命が短寿命化することを抑制できる。   As described above, the present disclosure has a recess formed adjacent to the substrate-side electrode in the non-facing portion, and the flux is disposed in at least a part of the recess, so that the recess is not provided. In addition, the thickness of the flux at the facing portion can be reduced. For this reason, this indication can make small the amount of expansion of flux under high temperature environment, and can control the stress applied to a wiring board and a circuit element by expansion of flux. Therefore, this indication can control that the connection life of the solder which electrically connects a substrate side electrode and an element side electrode becomes short life.

なお、特許請求の範囲、及びこの項に記載した括弧内の符号は、一つの態様として後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであって、発明の技術的範囲を限定するものではない。   It should be noted that the reference numerals in parentheses described in the claims and in this section indicate the correspondence with the specific means described in the embodiments described later as one aspect, and the technical scope of the invention It is not limited.

第1実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 1st Embodiment. 図1のII-II線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the II-II line of FIG. 図2の枠IIIの断面図である。It is sectional drawing of the frame III of FIG. 第1実施形態における実装領域の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the mounting area | region in 1st Embodiment. 変形例1における配線基板の概略構成を示す断面図である。10 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a wiring board according to Modification 1. FIG. 変形例2における凹部の概略構成を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a concave portion in Modification 2. 変形例3における回路素子の概略構成を示す断面図である。10 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a circuit element in Modification 3. FIG. 第2実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 2nd Embodiment. 第3実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 3rd Embodiment. 第4実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 4th Embodiment. 第5実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 5th Embodiment. 図11のXII-XII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XII-XII line | wire of FIG. 第6実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 6th Embodiment. 第7実施形態における電子装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the electronic device in 7th Embodiment.

以下において、図面を参照しながら、発明を実施するための複数の形態を説明する。各形態において、先行する形態で説明した事項に対応する部分には同一の参照符号を付して重複する説明を省略する場合がある。各形態において、構成の一部のみを説明している場合は、構成の他の部分については先行して説明した他の形態を参照し適用することができる。   Hereinafter, a plurality of embodiments for carrying out the invention will be described with reference to the drawings. In each embodiment, portions corresponding to the matters described in the preceding embodiment may be denoted by the same reference numerals and redundant description may be omitted. In each embodiment, when only a part of the configuration is described, the other configurations described above can be applied to other portions of the configuration.

なお、以下においては、互いに直交する3方向をX方向、Y方向、Z方向と示す。また、X方向とY方向とによって規定される平面をXY平面、X方向とZ方向とによって規定される平面をXZ平面、Y方向とZ方向とによって規定される平面をYZ平面と示す。   In the following, the three directions orthogonal to each other are referred to as an X direction, a Y direction, and a Z direction. In addition, a plane defined by the X direction and the Y direction is denoted as an XY plane, a plane defined by the X direction and the Z direction is denoted as an XZ plane, and a plane defined by the Y direction and the Z direction is denoted as a YZ plane.

(第1実施形態)
まず、本実施形態の電子装置110の構成に関して、図1、図2、図3、図4を用いて説明する。なお、図1は、封止樹脂部60で隠れている回路素子30などを破線で示している。図4は、封止樹脂部60が形成される前の配線基板10の拡大平面図であり、二点鎖線で回路素子30が実装される位置を示している。
(First embodiment)
First, the configuration of the electronic device 110 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2, 3, and 4. In FIG. 1, the circuit element 30 and the like hidden by the sealing resin portion 60 are indicated by broken lines. FIG. 4 is an enlarged plan view of the wiring board 10 before the sealing resin portion 60 is formed, and shows a position where the circuit element 30 is mounted by a two-dot chain line.

電子装置110は、例えば車両に搭載される車両用制御装置などに適用可能である。電子装置100は、図1や図2などに示すように、主に、配線基板10と、回路素子30と、はんだ40と、フラックス50と、封止樹脂部60とを備えている。後程詳しく説明するが、フラックス50は、リフロー工程を行った後に、配線基板10と回路素子30との間、もしくは、はんだ40の周辺に残留しているものであり、フラックス残渣、残留フラックス、フラックス成分とも言える。   The electronic device 110 can be applied to, for example, a vehicle control device mounted on a vehicle. As shown in FIGS. 1 and 2, the electronic device 100 mainly includes a wiring substrate 10, a circuit element 30, solder 40, a flux 50, and a sealing resin portion 60. As will be described in detail later, the flux 50 remains between the wiring board 10 and the circuit element 30 or around the solder 40 after the reflow process, and the flux residue, residual flux, flux It can also be said to be an ingredient.

配線基板10は、樹脂やセラミックスなどの絶縁基材に、CuやAgなどの導体パターンによって配線が形成されたものである。また、配線基板10は、例えば、導体パターンが絶縁基材を介して積層された多層基板などを採用できる。配線基板10は、例えば直方体形状をなした板状の部材である。配線基板10は、一面S1に回路素子30が実装されている。このため、一面S1は、実装面とも言える。なお、配線基板10は、一面S1の反対面S2にも回路素子30が実装されていてもよいし、反対面2にも封止樹脂部60が形成されていてもよい。   The wiring substrate 10 is obtained by forming a wiring with a conductive pattern such as Cu or Ag on an insulating base material such as resin or ceramics. Moreover, the wiring board 10 can employ, for example, a multilayer board in which conductor patterns are laminated via an insulating base material. The wiring board 10 is a plate-like member having a rectangular parallelepiped shape, for example. The circuit board 30 is mounted on one surface S1 of the wiring board 10. For this reason, it can be said that one surface S1 is a mounting surface. In the wiring board 10, the circuit element 30 may be mounted on the opposite surface S <b> 2 of the one surface S <b> 1, or the sealing resin portion 60 may be formed on the opposite surface 2.

配線基板10は、図2、図3、図4などに示すように、一面S1の一部に、配線の一部であるランド11が形成されている。つまり、ランド11は、導電性の配線の一部として、一面S1に形成された部位である。   As shown in FIGS. 2, 3, 4, and the like, the wiring substrate 10 is formed with a land 11 that is a part of wiring on a part of one surface S <b> 1. That is, the land 11 is a part formed on one surface S1 as a part of the conductive wiring.

ランド11は、基板側電極に相当し、例えば、一面S1から突出して形成され、一面S1を基準としてZ方向に厚みを有している。また、ランド11は、回路素子30の電極31と対向配置され、電極31と電気的及び機械的に接続(接合)される部位であり実装ランドとも言える。なお、図1においては、はんだ40に隠れた位置にランド11が形成されている。以下においては、単に接続と記載した場合、電気的及び機械的に接続されていることを意味する。   The land 11 corresponds to a substrate-side electrode, and is formed to protrude from one surface S1, for example, and has a thickness in the Z direction with respect to the one surface S1. Further, the land 11 is disposed so as to face the electrode 31 of the circuit element 30 and is electrically and mechanically connected (joined) to the electrode 31 and can be said to be a mounting land. In FIG. 1, lands 11 are formed at positions hidden by the solder 40. In the following description, when simply referred to as a connection, it means an electrical and mechanical connection.

後程説明するが、本実施形態では、二つの電極31を有した二端子素子である回路素子30を採用している。このため、本実施形態では、一つの回路素子30に対して一対のランド11、すなわち二つのランド11が形成された配線基板10を採用している。よって、二つのランド11は、一つのランド11に対して一つの電極31が対向配置され、対向配置された電極31と接続されている。   As will be described later, in the present embodiment, a circuit element 30 that is a two-terminal element having two electrodes 31 is employed. For this reason, in the present embodiment, a wiring substrate 10 in which a pair of lands 11, that is, two lands 11 are formed for one circuit element 30 is employed. Therefore, in the two lands 11, one electrode 31 is disposed opposite to one land 11 and is connected to the electrodes 31 disposed opposite to each other.

また、本実施形態では、一対のランド11がXY平面において対向配置された例を採用している。さらに、本実施形態では、図4に示すように、電極31のXY平面における形状に対応して、XY平面において矩形状を有するランド11を採用している。なお、ランド11は、XY平面に沿って平坦に形成されている。以下、XY平面における形状を平面形状とも称する。   In the present embodiment, an example is adopted in which a pair of lands 11 are arranged to face each other on the XY plane. Furthermore, in the present embodiment, as shown in FIG. 4, a land 11 having a rectangular shape in the XY plane is employed corresponding to the shape of the electrode 31 in the XY plane. The land 11 is formed flat along the XY plane. Hereinafter, the shape in the XY plane is also referred to as a planar shape.

電極31の平面形状とは、電極31におけるランド11との対向面の形状に相当する。また、電極31におけるランド11との対向面は、電極対向面とも言える。一方、ランド11における電極31との対向面は、ランド対向面とも言える。   The planar shape of the electrode 31 corresponds to the shape of the surface of the electrode 31 facing the land 11. Further, the surface of the electrode 31 facing the land 11 can be said to be an electrode facing surface. On the other hand, the surface of the land 11 facing the electrode 31 can be said to be a land facing surface.

しかしながら、本発明はこれに限定されない。回路素子30が三つ以上の電極31を有している場合、配線基板10は、この回路素子30が実装されるランド11として、回路素子30の電極31の個数と同数のランド11が形成されることになる。なお、配線基板10は、ランド11の他に、絶縁基材の貫通穴が設けられ、この貫通穴に穴状電極が形成された構成であっても採用できる。   However, the present invention is not limited to this. When the circuit element 30 has three or more electrodes 31, the wiring board 10 has the same number of lands 11 as the lands 11 on which the circuit elements 30 are mounted. Will be. In addition to the land 11, the wiring board 10 can also be employed in a configuration in which a through hole of an insulating base is provided and a hole electrode is formed in the through hole.

さらに、配線基板10は、図2、図3に示すように凹部20が形成されている。凹部20は、周辺の一面S1から窪んだ非貫通孔である。配線基板10は、周辺よりも窪んだ凹部20が形成されていると言える。また、配線基板10は、一つのランド11に対して一つの凹部20が形成されている。よって、配線基板10は、二つの凹部20が形成されている。なお、凹部20は、配線基板10の絶縁基材を貫通する孔であってもよい。   Furthermore, the wiring board 10 has a recess 20 as shown in FIGS. The recess 20 is a non-through hole that is recessed from the peripheral surface S1. It can be said that the wiring board 10 has a recess 20 that is recessed from the periphery. Further, the wiring board 10 has one recess 20 for one land 11. Therefore, the wiring board 10 has two recesses 20 formed therein. The recess 20 may be a hole that penetrates the insulating base material of the wiring board 10.

また、本実施形態では、図4などに示すように、ランド11に沿って連続的に形成された凹部20を採用している。つまり、凹部20は、ランド11に沿って直線的に形成されており、平面形状が直線状や溝状と言える。例えば、二つの凹部20は、XY平面において平行に設けられている。本実施形態では、一例として、幅X2が0.15mm程度で長さが2.5mm以上の凹部20を採用している。しかしながら、凹部20の幅X2、長さは、これに限定されない。   In the present embodiment, as shown in FIG. 4 and the like, a recess 20 formed continuously along the land 11 is employed. That is, the concave portion 20 is formed linearly along the land 11, and the planar shape can be said to be a linear shape or a groove shape. For example, the two recesses 20 are provided in parallel in the XY plane. In the present embodiment, as an example, the recess 20 having a width X2 of about 0.15 mm and a length of 2.5 mm or more is employed. However, the width X2 and length of the recess 20 are not limited to this.

また、凹部20の断面形状は、図3などに示すように、四角形状と言える。本実施形態では、底面が凹状曲面であり、側壁が一面S1に対して垂直であり、底面に対向している領域が開口した凹部20を採用している。しかしながら、本発明は、これに限定されず、底面が平坦面である凹部20や、断面形状が三角形状である凹部20を採用できるなお、断面形状とは、XZ平面における形状である。   Moreover, it can be said that the cross-sectional shape of the recessed part 20 is square shape, as shown in FIG. In the present embodiment, the concave portion 20 is employed in which the bottom surface is a concave curved surface, the side wall is perpendicular to the one surface S1, and the region facing the bottom surface is open. However, the present invention is not limited to this, and the recess 20 having a flat bottom surface and the recess 20 having a triangular cross-section can be adopted. The cross-sectional shape is a shape in the XZ plane.

配線基板10は、一面S1における複数のランド11で挟まれ回路素子30と対向した対向部位の少なくとも一部に凹部20が設けられている。つまり、凹部20は、回路素子30の底面における電極31で挟まれた部位に対向する位置に設けられている。また、凹部20は、図4に示すように、対向部位から、回路素子30と対向していない部位まで延長して設けられていてもよい。凹部20は、XY平面において、ランド11と平行に設けられている。なお、回路素子30の底面とは、配線基板10に実装された状態で、一面S1やランド11と対向する面である。   The wiring board 10 is provided with a recess 20 in at least a part of a facing portion that is sandwiched between a plurality of lands 11 on one surface S <b> 1 and faces the circuit element 30. That is, the recess 20 is provided at a position facing the portion sandwiched between the electrodes 31 on the bottom surface of the circuit element 30. Further, as shown in FIG. 4, the recess 20 may be provided so as to extend from the facing portion to a portion not facing the circuit element 30. The recess 20 is provided in parallel with the land 11 in the XY plane. The bottom surface of the circuit element 30 is a surface facing the one surface S1 or the land 11 when mounted on the wiring board 10.

凹部20は、ランド11の周囲に設けられている。なお、各凹部20は、二つのランド11のそれぞれと隣り合って設けられているとも言える。詳述すると、配線基板10は、一方の凹部20が二つのランド11のうちの一方に近い位置に設けられており、他方の凹部20が二つのランド11のうちの他方に近い位置に設けられている。つまり、一方の凹部20は、二つのランド11のうちの他方よりも一方に近い位置に設けられている。同様に、他方の凹部20は、二つのランド11のうちの一方よりも他方に近い位置に設けられている。   The recess 20 is provided around the land 11. It can be said that each recess 20 is provided adjacent to each of the two lands 11. More specifically, in the wiring board 10, one recess 20 is provided at a position close to one of the two lands 11, and the other recess 20 is provided at a position close to the other of the two lands 11. ing. That is, one recess 20 is provided at a position closer to one than the other of the two lands 11. Similarly, the other recess 20 is provided at a position closer to the other than one of the two lands 11.

また、一面における二つのランド11間の領域は、二つのランド11間の中心を通り、二つのランド11に平行な仮想直線を境界として二つの領域に分けられる。そして、二つ凹部20のそれぞれは、二つの領域のそれぞれに個別に設けられていると言える。   Further, the region between the two lands 11 on one surface is divided into two regions with a virtual straight line passing through the center between the two lands 11 and parallel to the two lands 11 as a boundary. And it can be said that each of the two recesses 20 is individually provided in each of the two regions.

さらに、凹部20は、図3などに示すように、ランド11と間隔をあけて設けられている。つまり、配線基板10は、ランド11の端部と凹部20の端部との間に平坦面(一面S1)が配置されている。また、凹部20の側壁は、ランド11の端部と面一になっていないと言える。   Further, as shown in FIG. 3 and the like, the recess 20 is provided at a distance from the land 11. That is, the wiring substrate 10 has a flat surface (one surface S1) between the end of the land 11 and the end of the recess 20. Further, it can be said that the side wall of the recess 20 is not flush with the end of the land 11.

この間隔は、回路素子30の底面と一面S1との間におけるフラックス50の量や、回路素子30の底面と一面S1との距離によって異なる。例えば、フラックス50の量が多い場合は、少ない場合よりも間隔を長くする。また、回路素子30の底面と一面S1との距離が短い場合は、長い場合よりも間隔を長くする。なお、フラックス50の量は、実験やシミュレーションなどによって、回路素子30と一面S1との間に残留している量を算出することで予測できる。   This interval differs depending on the amount of flux 50 between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S1, and the distance between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S1. For example, when the amount of flux 50 is large, the interval is made longer than when the amount is small. Further, when the distance between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S1 is short, the interval is made longer than when the distance is long. The amount of the flux 50 can be predicted by calculating the amount remaining between the circuit element 30 and the one surface S1 through experiments, simulations, and the like.

凹部20の少なくとも一部には、後程説明するフラックス50が配置されている。言い換えると、凹部20の少なくとも一部には、フラックス50が残存していると言える。よって、電子装置110は、配線基板10などに加えてフラックス50を備えているとも言える。また、各凹部20は、自身に近い方のランド11に接しているはんだ40に含まれていたフラックス50の一部が配置されるとも言える。   A flux 50 which will be described later is disposed in at least a part of the recess 20. In other words, it can be said that the flux 50 remains in at least a part of the recess 20. Therefore, it can be said that the electronic device 110 includes the flux 50 in addition to the wiring substrate 10 and the like. Moreover, it can be said that each recessed part 20 arrange | positions a part of flux 50 contained in the solder 40 in contact with the land 11 nearer to itself.

本実施形態では、凹部20の全体がフラックス50で満たされているのではなく、図3に示すように、一部のみにフラックス50が配置されている例を採用している。フラックス50は、凹部20の一部だけでなく、一面S1と回路素子30との対向領域にも設けられている。なお、凹部20は、回路素子30の底面と一面S1との間におけるフラックス50の量や配線基板10の体格に応じて、X方向の幅、Y方向の長さ、Z方向の深さ、すなわち容積が決定される。   In the present embodiment, the entire recess 20 is not filled with the flux 50, but an example is adopted in which the flux 50 is arranged only in part as shown in FIG. The flux 50 is provided not only in a part of the recess 20 but also in a facing region between the one surface S <b> 1 and the circuit element 30. Note that the recess 20 has a width in the X direction, a length in the Y direction, and a depth in the Z direction, depending on the amount of the flux 50 between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S1 and the physique of the wiring substrate 10, that is, the depth in the Z direction. The volume is determined.

回路素子30は、基部と、基部に形成された複数の電極31とを備えている。電極31は、素子側電極に相当する。回路素子30は、配線基板10の一面S1に実装されており、ランド11のそれぞれと個別に対向した二つの導電性の電極31を有している。各電極31は、回路素子30が配線基板10に実装された状態で、ランド11に対向する部位、すなわち電極対向面を含んでいる。回路素子30は、電極対向面の形状が矩形状を有している。回路素子30は、二つの電極31が平行に配置されている。   The circuit element 30 includes a base and a plurality of electrodes 31 formed on the base. The electrode 31 corresponds to an element side electrode. The circuit element 30 is mounted on one surface S <b> 1 of the wiring substrate 10, and has two conductive electrodes 31 that individually face the lands 11. Each electrode 31 includes a portion facing the land 11 in a state where the circuit element 30 is mounted on the wiring board 10, that is, an electrode facing surface. The circuit element 30 has a rectangular electrode facing surface. The circuit element 30 has two electrodes 31 arranged in parallel.

本実施形態では、一例として、幅X1と長さY1との比が3対2程度の短辺電極タイプの回路素子30を採用している。つまり、回路素子30は、比較的長さが短い、すなわち横長のチップ部品と言える。しかしながら、本発明はこれに限定されない。   In the present embodiment, as an example, a short-side electrode type circuit element 30 having a ratio of the width X1 to the length Y1 of about 3 to 2 is employed. That is, the circuit element 30 can be said to be a relatively short chip component, that is, a horizontally long chip component. However, the present invention is not limited to this.

なお、回路素子30は、例えばチップ抵抗やチップコンデンサなどの受動素子を採用できる。また、回路素子30は、半導体を主成分とする基部に電極が形成されたベアチップ状の半導体素子やパッケージ化された回路素子などでも採用できる。さらに、電子装置110は、複数の回路素子30を備えていてもよい。   The circuit element 30 may be a passive element such as a chip resistor or a chip capacitor. The circuit element 30 may be a bare chip-shaped semiconductor element in which an electrode is formed on a base mainly composed of a semiconductor, a packaged circuit element, or the like. Furthermore, the electronic device 110 may include a plurality of circuit elements 30.

はんだ40は、上記のように、ランド11と電極31とを接続している。よって、電子装置100は、一つの回路素子30に対して、二つのはんだ40を備えている。   The solder 40 connects the land 11 and the electrode 31 as described above. Therefore, the electronic device 100 includes two solders 40 for one circuit element 30.

はんだ40は、ランド11と電極31との間にはんだペーストが配置された状態でリフロー工程を行った後のものである。はんだ40の構成材料であるはんだペーストは、はんだ微粉末とフラックス50とを混ぜ合わせてクリーム状にしたものである。はんだ微粉末を構成する合金としては、例えば、Sn-Cu、Sn-Pb、Sn-Ag-Cu、Sn-Pb-Ag、Sn-Pb-BiなどのSn基合金、In-PbなどのIn基合金、Pb-AgなどのPb基合金が挙げられる。一方、フラックス50は、ランド11表面や電極31表面の酸化膜を除去するロジン、はんだ付け性を促進する活性剤、印刷性に関与する溶剤などで構成されている。   The solder 40 is the one after the reflow process is performed in a state where the solder paste is disposed between the land 11 and the electrode 31. The solder paste, which is a constituent material of the solder 40, is obtained by mixing a solder fine powder and a flux 50 into a cream shape. Examples of the alloy constituting the solder fine powder include Sn-based alloys such as Sn-Cu, Sn-Pb, Sn-Ag-Cu, Sn-Pb-Ag, Sn-Pb-Bi, and In-based materials such as In-Pb. Examples of the alloy include Pb-based alloys such as Pb—Ag. On the other hand, the flux 50 is composed of rosin that removes an oxide film on the surface of the land 11 and the surface of the electrode 31, an activator that promotes solderability, and a solvent that is involved in printability.

ところで、はんだペーストは、上記のように、フラックス50を含んでいる。このフラックス50は、図3に示すように、リフロー工程を行った後、配線基板10、回路素子30、はんだ40の表面に接して残留する。詳述すると、フラックス50は、はんだペーストに含まれているフラックス50のうち、リフロー工程で蒸発した成分を除く残りの成分と言える。   By the way, the solder paste contains the flux 50 as described above. As shown in FIG. 3, the flux 50 remains in contact with the surfaces of the wiring substrate 10, the circuit element 30, and the solder 40 after the reflow process. More specifically, it can be said that the flux 50 is the remaining component excluding the component evaporated in the reflow process in the flux 50 contained in the solder paste.

フラックス50は、はんだ40を覆うように流動して、回路素子30の底面と配線基板10との間にも流入する。そして、フラックス50は、一部が凹部20に配置される。また、フラックス50は、図3に示すように、はんだ40、ランド11、一面S1に接しつつ、凹部20の少なくとも一部に存在している。   The flux 50 flows so as to cover the solder 40 and also flows between the bottom surface of the circuit element 30 and the wiring board 10. A part of the flux 50 is disposed in the recess 20. Further, as shown in FIG. 3, the flux 50 exists in at least a part of the recess 20 while being in contact with the solder 40, the land 11, and the one surface S <b> 1.

封止樹脂部60は、絶縁部材に相当し、少なくとも回路素子30と一面S1との間を封止している。詳述すると、封止樹脂部60は、例えばエポキシ系樹脂などからなり、図2、図3に示すように、配線基板10の一面S1に設けられている。封止樹脂部60は、一面S1や回路素子30に密着しつつ、これらを一体的に封止している。また、封止樹脂部60は、一面S1や回路素子30に加えて、はんだ40を含む接合部やフラックス50に密着しつつ、これらを一体的に封止している。さらに、封止樹脂部60は、回路素子30と一面S1との間に流れ込み、回路素子30と一面S1との間を封止している。この封止樹脂部60は、例えばコンプレッション成形やトランスファー成形によって形成することができる。よって、封止樹脂部60は、モールド樹脂と言い換えることもできる。   The sealing resin portion 60 corresponds to an insulating member and seals at least between the circuit element 30 and the one surface S1. More specifically, the sealing resin portion 60 is made of, for example, an epoxy resin, and is provided on one surface S1 of the wiring board 10 as shown in FIGS. The sealing resin portion 60 integrally seals the one surface S <b> 1 and the circuit element 30 while being in close contact with each other. Further, the sealing resin portion 60 integrally seals the bonding portion including the solder 40 and the flux 50 in addition to the one surface S <b> 1 and the circuit element 30. Further, the sealing resin portion 60 flows between the circuit element 30 and the one surface S1, and seals between the circuit element 30 and the one surface S1. The sealing resin portion 60 can be formed by, for example, compression molding or transfer molding. Therefore, the sealing resin portion 60 can be rephrased as a mold resin.

なお、本実施形態では、図3に示すように、凹部20がフラックス50と封止樹脂部60で満たされている例を採用している。しかしながら、本発明は、これに限定されず、凹部20に封止樹脂部60が形成されていなくてもよい。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, an example in which the concave portion 20 is filled with a flux 50 and a sealing resin portion 60 is employed. However, the present invention is not limited to this, and the sealing resin portion 60 may not be formed in the recess 20.

ここで、電子装置110の製造方法の一例に関して説明する。本実施形態の製造方法は、準備工程、実装工程、封止工程を含んでいる。   Here, an example of a method for manufacturing the electronic device 110 will be described. The manufacturing method of this embodiment includes a preparation process, a mounting process, and a sealing process.

まず、準備工程では、ランド11が形成された配線基板10を準備する。また、準備工程では、配線基板10にレーザなどによって凹部20を形成する。配線基板10が層間接続孔を有している場合、準備工程では、層間接続孔の開口工程と同じ工程で凹部20を形成できる。なお、準備工程後にランド11などにめっきを施すめっき工程を有する場合、めっき工程では、凹部20にマスクを施した状態で行い、凹部20にめっきが設けられないようにすると好ましい。   First, in the preparation step, the wiring board 10 on which the lands 11 are formed is prepared. In the preparation step, the recess 20 is formed in the wiring board 10 by a laser or the like. When the wiring board 10 has an interlayer connection hole, the recess 20 can be formed in the same process as the interlayer connection hole opening process in the preparation process. In addition, when it has the plating process of plating the land 11 etc. after a preparatory process, it is preferable to carry out in the state which masked the recessed part 20, and not to provide plating in the recessed part 20 at a plating process.

実装工程では、ディスペンサーを用いた塗布やスクリーン印刷によって、予め決められた量のはんだペーストをランド上に形成する。その後、実装工程では、はんだペースト上に、電極31が配置されるように回路素子30を搭載する。このとき、はんだペーストは、硬化していないため、ランド11と電極31とは強固に固定されていない。   In the mounting process, a predetermined amount of solder paste is formed on the land by application using a dispenser or screen printing. Thereafter, in the mounting process, the circuit element 30 is mounted on the solder paste so that the electrode 31 is disposed. At this time, since the solder paste is not cured, the land 11 and the electrode 31 are not firmly fixed.

その後、実装工程では、はんだペーストを溶融及び硬化させることで、各電極31と各ランド11とをはんだ40によって接続する。つまり、実装工程は、リフロー工程を含んでいる。このようにして、配線基板10と回路素子30は、はんだ40を介して接続される。   Thereafter, in the mounting process, each electrode 31 and each land 11 are connected by the solder 40 by melting and curing the solder paste. That is, the mounting process includes a reflow process. In this way, the wiring substrate 10 and the circuit element 30 are connected via the solder 40.

ところで、上記のように、リフロー工程を行った後は、配線基板10と回路素子30との間にフラックス50が残留している。しかしながら、本製造方法では、フラックス50を除去する洗浄工程を含まない。なお、通常、洗浄工程を行った場合であっても、完全にフラックス50を除去することは難しい。このため、電子装置110は、洗浄工程を経て製造されたものであっても、上記のようにフラックス50を含んでいればよい。   By the way, as described above, after the reflow process is performed, the flux 50 remains between the wiring substrate 10 and the circuit element 30. However, this manufacturing method does not include a cleaning step for removing the flux 50. Normally, it is difficult to completely remove the flux 50 even when the cleaning process is performed. For this reason, even if the electronic device 110 is manufactured through a cleaning process, the electronic device 110 only needs to include the flux 50 as described above.

封止工程では、回路素子30が実装された配線基板10に対して、封止樹脂部60を形成する。つまり、本製造方法では、フラックス50を除去することなく封止工程が行われる。言い換えると、本製造方法では、配線基板10と回路素子30との間にフラックス50が残った状態で、封止工程を行う。   In the sealing step, the sealing resin portion 60 is formed on the wiring substrate 10 on which the circuit element 30 is mounted. That is, in this manufacturing method, the sealing process is performed without removing the flux 50. In other words, in this manufacturing method, the sealing process is performed in a state where the flux 50 remains between the wiring board 10 and the circuit element 30.

封止工程は、例えばコンプレッション成形やトランスファー成形で封止樹脂部60を形成する。封止工程では、封止樹脂部60で一面S1や回路素子30やフラックス50などを覆いつつ、一面S1と回路素子30との間にも封止樹脂部60が流れ込み、回路素子30などを封止樹脂部60で封止する。   In the sealing step, the sealing resin portion 60 is formed by, for example, compression molding or transfer molding. In the sealing process, the sealing resin portion 60 covers the one surface S1, the circuit element 30, the flux 50, and the like, and the sealing resin portion 60 flows between the one surface S1 and the circuit element 30 to seal the circuit element 30 and the like. Sealing is performed with a stop resin portion 60.

電子装置110は、このような製造方法によって製造される。つまり、電子装置110は、周知の基板製造プロセスで製造することができる。   The electronic device 110 is manufactured by such a manufacturing method. That is, the electronic device 110 can be manufactured by a known substrate manufacturing process.

以上説明したように、電子装置110は、凹部20が形成されており、この凹部20の少なくとも一部にフラックス50が配置されているため、凹部20が設けられていない場合よりも、対向部位にあるフラックス50の厚みを薄くすることができる。つまり、電子装置110は、フラックス50のZ方向の厚さが、X方向において平均的に薄くなる。特に、フラックス50は、図3に示すように、はんだ40、ランド11、一面S1に接しつつ、凹部20の少なくとも一部に存在すると、厚みが平均的に薄くなりやすい。   As described above, the electronic device 110 has the recess 20 formed, and the flux 50 is disposed in at least a part of the recess 20. The thickness of a certain flux 50 can be reduced. In other words, in the electronic device 110, the thickness of the flux 50 in the Z direction is averagely thin in the X direction. In particular, as shown in FIG. 3, when the flux 50 is in contact with the solder 40, the land 11, and the one surface S <b> 1 and exists in at least a part of the recess 20, the thickness tends to be thin on average.

このため、電子装置110は、高温環境下においてフラックス50の膨張量を小さくすることができ、フラックス50の膨張によって配線基板10と回路素子30とに印加される応力を抑制できる。よって、電子装置110は、ランド11と電極31とを電気的に接続するはんだ40の接続寿命が短寿命化することを抑制できる。   For this reason, the electronic device 110 can reduce the expansion amount of the flux 50 in a high temperature environment, and can suppress the stress applied to the wiring board 10 and the circuit element 30 due to the expansion of the flux 50. Therefore, the electronic device 110 can suppress the connection life of the solder 40 that electrically connects the land 11 and the electrode 31 from being shortened.

つまり、電子装置110は、フラックス50の膨張によって、はんだ40にクラックが入ったり、ランド11とはんだ40とが剥離したり、電極31とはんだ40とが剥離したりすることを抑制できる。また、電子装置110は、フラックス50の膨張によって、ランド11と電極31とがオープン不良になることを抑制できると言える。   That is, the electronic device 110 can suppress cracks in the solder 40, separation of the land 11 and the solder 40, and separation of the electrode 31 and the solder 40 due to the expansion of the flux 50. In addition, it can be said that the electronic device 110 can suppress the land 11 and the electrode 31 from being open defective due to the expansion of the flux 50.

また、電子装置110は、配線基板10と回路素子30との間において、二つのランド11間や二つのはんだ40間がフラックス50を介して連結された場合、これらの間における電気絶縁性が低下する可能性がある。しかしながら、電子装置110は、ランド11間に凹部20を備えており、凹部20にフラックス50が配置されているため、ランド11がフラックス50を介して連結されることを抑制できる。よって、電子装置110は、配線基板10と回路素子30との間における、二つのランド11間や二つのはんだ40間の電気絶縁性の低下を抑制できる。言い換えると、電子装置110は、フラックス50の活性による絶縁不具合を抑制できる。   In addition, when the electronic device 110 is connected between the two lands 11 and the two solders 40 via the flux 50 between the wiring board 10 and the circuit element 30, the electrical insulation between them decreases. there's a possibility that. However, since the electronic device 110 includes the recesses 20 between the lands 11 and the flux 50 is disposed in the recesses 20, the lands 11 can be prevented from being connected via the flux 50. Therefore, the electronic device 110 can suppress a decrease in electrical insulation between the two lands 11 and between the two solders 40 between the wiring board 10 and the circuit element 30. In other words, the electronic device 110 can suppress an insulation failure due to the activation of the flux 50.

さらに、電子装置110は、ランド11の端部と凹部20の端部との間に一面S1がなかった場合、単にフラックス50が凹部20に入り込むだけで、フラックス50の厚みを薄くすることができない可能性がある。しかしながら、電子装置110は、ランド11の端部と凹部20の端部との間に一面S1が配置されているため、フラックス50の厚みを薄くしやすい。   Furthermore, in the electronic device 110, when there is no one surface S1 between the end of the land 11 and the end of the recess 20, the flux 50 simply enters the recess 20 and the thickness of the flux 50 cannot be reduced. there is a possibility. However, in the electronic device 110, since the one surface S1 is disposed between the end portion of the land 11 and the end portion of the recess 20, the thickness of the flux 50 is easily reduced.

なお、本実施形態では、絶縁部材の一例として上記のような封止樹脂部60を採用した。しかしながら、本発明の絶縁部材は、これに限定されず、回路素子30と一面S1との間を封止するアンダーフィルであっても採用できる。つまり、電子装置110は、回路素子30と一面S1との間にアンダーフィルが充填される構造であっても採用でき、上記効果を奏することができる。つまり、電子装置110は、回路素子30を全体的に封止する封止樹脂部60のかわりに、回路素子30と一面S1との間にアンダーフィルが設けられた構成であっても上記効果を奏することができる。なお、この点は、以下に説明する他の形態でも同様である。   In the present embodiment, the sealing resin portion 60 as described above is employed as an example of the insulating member. However, the insulating member of the present invention is not limited to this, and an underfill that seals between the circuit element 30 and the one surface S1 can be employed. That is, the electronic device 110 can be employed even if it has a structure in which the underfill is filled between the circuit element 30 and the one surface S1, and the above-described effects can be obtained. That is, even if the electronic device 110 has a configuration in which an underfill is provided between the circuit element 30 and the one surface S1 instead of the sealing resin portion 60 that totally seals the circuit element 30, the above effect can be obtained. Can play. This point is the same in other embodiments described below.

また、電子装置110は、対向部位における、少なくとも、回路素子30の外形に近い場所に、凹部20が配置されていると好ましい。つまり、電子装置110は、対向部位において、少なくとも、回路素子30のY方向における端部に対向する位置の一部に凹部20が配置されていると好ましい。さらに、電子装置110は、対向部位であり、且つ、少なくとも、電極31における互いに対向する側の角部、すなわち対向部位の四隅に凹部20が配置されていると好ましい。   In addition, in the electronic device 110, it is preferable that the concave portion 20 is disposed at least at a location near the outer shape of the circuit element 30 in the facing portion. That is, in the electronic device 110, it is preferable that the concave portion 20 is arranged at least at a part of the position facing the end portion in the Y direction of the circuit element 30 in the facing portion. Furthermore, it is preferable that the electronic device 110 is a facing portion and that the concave portions 20 are disposed at least at the corners of the electrodes 31 on the sides facing each other, that is, at the four corners of the facing portion.

はんだ40は、電極31における互いに対向する側の角部からクラックが進行することが多い。よって、電子装置110は、上記の位置に凹部20が設けられていると、クラックが進行しやすい部分のフラックス50による押し上げ応力を抑制することができる。このため、電子装置110は、はんだ40を長寿命化することができる。また、電子装置110は、加工性、コストの観点から、凹部20を削減(少なく)したい場合に効果的である。   In the solder 40, cracks often progress from the corners of the electrodes 31 facing each other. Therefore, when the concave portion 20 is provided at the above position, the electronic device 110 can suppress the upward stress caused by the flux 50 in the portion where the crack easily proceeds. For this reason, the electronic device 110 can extend the life of the solder 40. Further, the electronic device 110 is effective when it is desired to reduce (reduce) the recesses 20 from the viewpoints of workability and cost.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかしながら、本発明は、上記実施形態に何ら制限されることはなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変形が可能である。以下に、本発明のその他の形態として、変形例1、2、第2実施形態〜第7実施形態に関して説明する。各形態は、それぞれ単独で実施することも可能であるが、適宜組み合わせて実施することも可能である。本発明は、実施形態において示された組み合わせに限定されることなく、種々の組み合わせによって実施可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Hereinafter, as other embodiments of the present invention, modifications 1 and 2 and second to seventh embodiments will be described. Each form can be implemented independently, but can also be implemented in combination as appropriate. The present invention is not limited to the combinations shown in the embodiments, and can be implemented by various combinations.

(変形例1)
図5に示すように、変形例1の凹部20aは、断面形状が台形形状である。つまり、変形例1の配線基板10は、底面が凹状曲面であり、側壁が一面S1に対して垂直でなく、底面に対向している領域が開口した凹部20が形成されている。よって、凹部20aは、底面から一面S1側に行くに連れて開口面積が広くなる形状をなしている。電子装置110は、このような配線基板10であっても上記の効果を奏することができる。
(Modification 1)
As shown in FIG. 5, the recess 20a of the first modification has a trapezoidal cross-sectional shape. That is, the wiring board 10 of the first modification has a concave curved surface whose bottom surface is a concave curved surface, a side wall is not perpendicular to the surface S1, and a region facing the bottom surface is opened. Therefore, the recess 20a has a shape in which the opening area increases as it goes from the bottom surface to the one surface S1 side. The electronic device 110 can achieve the above-described effects even with such a wiring board 10.

(変形例2)
図6に示すように、変形例2の電子装置110は、凹部20が封止樹脂部60で埋設されていない。図6は、図3に相当する断面図である。
(Modification 2)
As shown in FIG. 6, in the electronic device 110 according to the second modification, the recess 20 is not embedded with the sealing resin portion 60. 6 is a cross-sectional view corresponding to FIG.

つまり、凹部20は、フラックス50と封止樹脂部60によって囲まれた空間が形成されていると言える。また、電子装置110は、凹部20内に、フラックス50と封止樹脂部60によって囲まれた空間、すなわちボイドが形成されているとも言える。   That is, it can be said that the recess 20 is formed with a space surrounded by the flux 50 and the sealing resin portion 60. It can also be said that the electronic device 110 has a space surrounded by the flux 50 and the sealing resin portion 60, that is, a void, in the recess 20.

これによって、電子装置110は、フラックス50が膨張した場合に、フラックス50が空間に逃げやすくなる。このため、電子装置110は、フラックス50の膨張によって配線基板10と回路素子30とに印加される応力をより一層抑制できる。従って、電子装置110は、はんだ40の接続寿命が短寿命化することをより一層抑制できる。なお、変形例2は、変形例1や後程説明する各実施形態と組み合わせて実施することもできる。   Accordingly, when the flux 50 expands, the electronic device 110 can easily escape the flux 50 to the space. For this reason, the electronic device 110 can further suppress the stress applied to the wiring board 10 and the circuit element 30 due to the expansion of the flux 50. Therefore, the electronic device 110 can further suppress the shortening of the connection life of the solder 40. Modification 2 can also be implemented in combination with Modification 1 and each embodiment described later.

(変形例3)
図7示すように、変形例3の電子装置110は、回路素子30aとして、QFNパッケージを備えている。QFNは、quad flat non-leaded packageの略称である。図7は、図2に相当する断面図である。
(Modification 3)
As shown in FIG. 7, the electronic device 110 according to the third modification includes a QFN package as the circuit element 30a. QFN is an abbreviation for quad flat non-leaded package. FIG. 7 is a cross-sectional view corresponding to FIG.

配線基板10は、複数のランド11に加えて放熱用ランド12を備えている。また、配線基板10は、ランド11と放熱用ランド12との間や、ランド11間などに凹部20が設けられている。回路素子30aは、複数の電極31aに加えて放熱パッド32aを備えている。電極31aは、素子側電極に相当する。   The wiring board 10 includes a heat dissipation land 12 in addition to the plurality of lands 11. Further, the wiring board 10 is provided with recesses 20 between the lands 11 and the heat radiation lands 12 or between the lands 11. The circuit element 30a includes a heat radiation pad 32a in addition to the plurality of electrodes 31a. The electrode 31a corresponds to an element side electrode.

電子装置110は、ランド11と電極31aとがはんだ40で接続され、且つ放熱用ランド12と放熱パッド32aとが機械的に接続されている。そして、電子装置110は、凹部20の少なくとも一部にフラックス50が配置されている。変形例3の電子装置110であっても上記実施形態で説明した効果を奏することができる。   In the electronic device 110, the land 11 and the electrode 31a are connected by the solder 40, and the heat dissipation land 12 and the heat dissipation pad 32a are mechanically connected. In the electronic device 110, the flux 50 is disposed in at least a part of the recess 20. Even the electronic device 110 according to Modification 3 can achieve the effects described in the above embodiment.

なお、変形例3は、変形例1や変形例2や後程説明する各実施形態と組み合わせて実施することもできる。例えば、変形例2と変形例3とを組み合わせた電子装置110は、変形例2で説明した効果を奏することができる。   Note that Modification 3 can also be implemented in combination with Modification 1, Modification 2, and each embodiment described later. For example, the electronic device 110 combining the second modification and the third modification can achieve the effects described in the second modification.

(第2実施形態)
図8に示すように、第2実施形態の電子装置120は、凹部21の形状が電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図8は、図4に相当する平面図である。
(Second Embodiment)
As shown in FIG. 8, the electronic device 120 of the second embodiment is different from the electronic device 110 in the shape of the recess 21. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 8 is a plan view corresponding to FIG.

凹部21は、ランド11に沿って複数箇所に設けられている。つまり、凹部21は、Y方向における複数箇所に設けられている。また、凹部21は、二つのランド11で挟まれ、且つ、二つのランド11に沿う方向における複数箇所に設けられていると言える。   The recesses 21 are provided at a plurality of locations along the land 11. That is, the recesses 21 are provided at a plurality of locations in the Y direction. Further, it can be said that the recesses 21 are sandwiched between the two lands 11 and are provided at a plurality of locations in the direction along the two lands 11.

また、凹部21は、平面形状が直線状ではなく円形状である。なお、凹部21は、凹部21を形成するためのレーザのスポット形状とも言える。電子装置120は、電子装置110と組み合わせた構成、すなわち、凹部21と凹部20とを備えた構成であっても採用できる。   Further, the concave portion 21 has a circular shape instead of a linear shape. The recess 21 can be said to be a spot shape of a laser for forming the recess 21. The electronic device 120 can be employed even in a configuration combined with the electronic device 110, that is, a configuration including the concave portion 21 and the concave portion 20.

連続的に形成された凹部20は、レーザのスポットどうしの一部が重なるように連続的にスポットを移動させることで形成できる。これに対して、複数箇所に形成された凹部21は、レーザのスポットが重なるように連続的に移動させる必要がなく、所定間隔毎に移動させることで形成できる。このため、電子装置120は、電子装置110よりも凹部21を形成しやすい。   The continuously formed recess 20 can be formed by moving the spots continuously so that the laser spots partially overlap each other. In contrast, the recesses 21 formed at a plurality of locations do not need to be moved continuously so that the laser spots overlap, and can be formed by moving them at predetermined intervals. For this reason, the electronic device 120 is easier to form the recess 21 than the electronic device 110.

また、電子装置120は、封止樹脂部60を形成する際に、一面S1と回路素子30との対向領域(隙間)における端部から中央へと封止樹脂部60が流れ込む。このとき、電子装置120は、凹部20が連続的に形成されている場合よりも、複数箇所に凹部21が形成されている場合の方が、フラックス50と封止樹脂部60との間に空間が形成されやすい。さらに、電子装置120は、凹部20が連続的に形成されている場合よりも、Y方向の複数箇所、すなわち凹部21毎に空間が形成されやすい。よって、電子装置120は、フラックス50の逃げ場を形成しやすく、はんだ40の短寿命化を抑制しやすくなる。なお、電子装置120は、電子装置110と同様の効果も奏することができる。   In the electronic device 120, when the sealing resin portion 60 is formed, the sealing resin portion 60 flows from the end portion to the center in the facing region (gap) between the surface S1 and the circuit element 30. At this time, in the electronic device 120, the space between the flux 50 and the sealing resin portion 60 is greater when the recesses 21 are formed at a plurality of locations than when the recesses 20 are formed continuously. Is easily formed. Furthermore, in the electronic device 120, a space is more easily formed at a plurality of locations in the Y direction, that is, for each recess 21 than when the recess 20 is continuously formed. Therefore, the electronic device 120 can easily form a escape space for the flux 50 and can easily suppress the shortening of the life of the solder 40. Note that the electronic device 120 can achieve the same effects as the electronic device 110.

(第3実施形態)
図9に示すように、第3実施形態の電子装置130は、凹部22の数が電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図9は、図4に相当する平面図である。
(Third embodiment)
As shown in FIG. 9, the electronic device 130 of the third embodiment is different from the electronic device 110 in the number of recesses 22. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 9 is a plan view corresponding to FIG.

電子装置130は、凹部20と同様の形状を有した、すなわち連続的に形成された凹部22がランド11間の四か所に設けられている。なお、電子装置130は、凹部22がランド11間の三か所に設けられていてもよいし、五か所以上に設けられていてもよい。   The electronic device 130 has the same shape as the recess 20, that is, the recesses 22 formed continuously are provided at four locations between the lands 11. In the electronic device 130, the recesses 22 may be provided at three places between the lands 11, or may be provided at five or more places.

電子装置130は、電子装置110と同様の効果を奏することができる。なお、電子装置130は、電子装置120と組み合わせた構成、すなわち、凹部21と凹部22とを備えた構成であっても採用できる。この場合、電子装置130は、電子装置120と同様の効果も奏することができる。   The electronic device 130 can achieve the same effect as the electronic device 110. Note that the electronic device 130 can be employed even in a configuration combined with the electronic device 120, that is, a configuration including the concave portion 21 and the concave portion 22. In this case, the electronic device 130 can achieve the same effect as the electronic device 120.

(第4実施形態)
図10に示すように、第4実施形態の電子装置140は、凹部23の形状が電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図10は、図4に相当する平面図である。また、図10は、断面図ではないが、凹部23を明確にするためにハッチングを施している。
(Fourth embodiment)
As shown in FIG. 10, the electronic device 140 of the fourth embodiment is different from the electronic device 110 in the shape of the recess 23. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 10 is a plan view corresponding to FIG. Further, FIG. 10 is not a cross-sectional view, but is hatched to clarify the recess 23.

電子装置140は、対向部位に加えて、一面S1と回路素子30とが対向していない非対向部位にも形成されており、ランド11を囲う位置に環状に凹部23が形成された配線基板10を備えている。つまり、凹部23は、XY平面において、ランド11を囲っている。   The electronic device 140 is formed in a non-opposing portion where the one surface S1 and the circuit element 30 are not opposed to each other in addition to the facing portion, and the wiring substrate 10 in which the annular recess 23 is formed in a position surrounding the land 11. It has. That is, the recess 23 surrounds the land 11 in the XY plane.

電子装置140は、ランド11を囲むように凹部23が形成されているため、フラックス50の流動を促すことができる。このため、電子装置140は、対向部位にあるフラックス50の厚みを薄くすることができる。よって、電子装置140は、はんだ40の接続寿命が短寿命化することをより一層抑制できる。   Since the electronic device 140 has the recess 23 formed so as to surround the land 11, the flow of the flux 50 can be promoted. For this reason, the electronic device 140 can reduce the thickness of the flux 50 in the facing portion. Therefore, the electronic device 140 can further suppress the shortening of the connection life of the solder 40.

また、電子装置140は、電子装置110と同様の効果を奏することができる。なお、電子装置140は、電子装置110〜130のそれぞれと組み合わせた構成、すなわち、凹部23に加えて、凹部20〜22のいずれかを備えた構成であっても採用できる。この場合、電子装置140は、電子装置120などと同様の効果も奏することができる。   In addition, the electronic device 140 can achieve the same effects as the electronic device 110. Note that the electronic device 140 can be employed even in a configuration combined with each of the electronic devices 110 to 130, that is, a configuration including any one of the concave portions 20 to 22 in addition to the concave portion 23. In this case, the electronic device 140 can achieve the same effects as the electronic device 120 and the like.

なお、この凹部23は、一部に環状が途絶えていてもよい。電子装置140は、例えば、ランド11を囲うC字形状の凹部23であっても同様の効果を奏することができる。   In addition, this recessed part 23 may have interrupted the cyclic | annular form in part. For example, even if the electronic device 140 is the C-shaped recess 23 surrounding the land 11, the same effect can be obtained.

(第5実施形態)
図11、図12に示すように、第5実施形態の電子装置150は、回路素子30bの形状と配線基板10の凹部24の大きさが電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図11は、図1に相当する平面図である。
(Fifth embodiment)
As shown in FIGS. 11 and 12, the electronic device 150 of the fifth embodiment is different from the electronic device 110 in the shape of the circuit element 30 b and the size of the recess 24 of the wiring board 10. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 11 is a plan view corresponding to FIG.

回路素子30bは、基部と、基部に形成された複数の電極31bとを備えている。電極31bは、素子側電極に相当する。回路素子30bは、図11に示すように、X方向の幅よりもY方向の長さの方が長い長辺電極タイプである。つまり、回路素子30bは、比較的長さが長い、すなわち縦長のチップ部品と言える。言い換えると、回路素子30bは、二つの電極31bの間隔よりも、二つの電極31bに沿う方向(Y方向)における長さの方が長い。また、回路素子30bは、縦長のチップ部品であるため、回路素子30よりも電極31bが長い。   The circuit element 30b includes a base and a plurality of electrodes 31b formed on the base. The electrode 31b corresponds to an element side electrode. As shown in FIG. 11, the circuit element 30b is a long-side electrode type in which the length in the Y direction is longer than the width in the X direction. That is, the circuit element 30b can be said to be a relatively long chip component, that is, a vertically long chip component. In other words, the length of the circuit element 30b in the direction along the two electrodes 31b (Y direction) is longer than the distance between the two electrodes 31b. Further, since the circuit element 30b is a vertically long chip component, the electrode 31b is longer than the circuit element 30.

配線基板10は、図11、図12に示すように、基板側電極としてのランド11bを複数備えており、凹部24を複数備えている。凹部24は、凹部20よりもX方向の幅が長くなっている。本実施形態では、一例として、凹部24の間隔X3を0.1mm程度としている。これは、回路素子30bにおける電極31bが長い分、はんだ40の量が多くなり、フラックス50の量も増えるためである。   As shown in FIGS. 11 and 12, the wiring substrate 10 includes a plurality of lands 11 b as substrate-side electrodes, and includes a plurality of recesses 24. The recess 24 has a longer width in the X direction than the recess 20. In the present embodiment, as an example, the interval X3 between the recesses 24 is set to about 0.1 mm. This is because the amount of the solder 40 increases and the amount of the flux 50 increases because the electrode 31b in the circuit element 30b is long.

上記のように、凹部24の容積は、回路素子30の底面と一面S1との間におけるフラックス50の量や配線基板10の体格に応じて決定される。このため、凹部24の間隔X3に関しても同様に、回路素子30の底面と一面S1との間におけるフラックス50の量や配線基板10の体格に応じて決定される。よって、凹部24の間隔X3は、0.1mmに限定されない。   As described above, the volume of the recess 24 is determined according to the amount of the flux 50 between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S <b> 1 and the physique of the wiring substrate 10. For this reason, the interval X3 of the recess 24 is similarly determined according to the amount of the flux 50 between the bottom surface of the circuit element 30 and the one surface S1 and the physique of the wiring board 10. Therefore, the interval X3 between the recesses 24 is not limited to 0.1 mm.

電子装置150は、電子装置110と同様の効果を奏することができる。なお、電子装置140は、電子装置110〜130のそれぞれと組み合わせた構成、すなわち、凹部24に加えて、凹部20〜23のいずれかを備えた構成であっても採用できる。この場合、電子装置140は、電子装置120や電子装置140などと同様の効果も奏することができる。   The electronic device 150 can achieve the same effect as the electronic device 110. Note that the electronic device 140 can be employed even in a configuration combined with each of the electronic devices 110 to 130, that is, a configuration including any one of the recesses 20 to 23 in addition to the recess 24. In this case, the electronic device 140 can achieve the same effects as the electronic device 120 and the electronic device 140.

(第6実施形態)
図13に示すように、第6実施形態の電子装置160は、凹部25の形状が電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図13は、図4に相当する平面図である。
(Sixth embodiment)
As shown in FIG. 13, the electronic device 160 of the sixth embodiment is different from the electronic device 110 in the shape of the recess 25. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 13 is a plan view corresponding to FIG.

電子装置160は、対向部位のほぼ全域に凹部25が形成されている。よって、配線基板10は、ランド11の端部から凹部25の側壁までの間に一面S1が配置されている。また、ほぼ全域とは、ランド11の端部から凹部25の側壁の間における一面S1にフラックス50が接し、フラックス50の厚みを薄くしやすくできる程度である。電子装置160は、電子装置110と同様の効果を奏することができる。   In the electronic device 160, a recess 25 is formed in almost the entire area of the facing portion. Therefore, the wiring substrate 10 has one surface S <b> 1 disposed between the end of the land 11 and the side wall of the recess 25. Further, the almost entire area is such that the flux 50 is in contact with the one surface S1 between the end of the land 11 and the side wall of the recess 25, and the thickness of the flux 50 can be easily reduced. The electronic device 160 can achieve the same effect as the electronic device 110.

(第7実施形態)
図14に示すように、第7実施形態の電子装置170は、凹部26の位置が電子装置110と異なる。その他の点に関しては、電子装置110と同様である。なお、図14は、図4に相当する平面図である。
(Seventh embodiment)
As shown in FIG. 14, the electronic device 170 of the seventh embodiment is different from the electronic device 110 in the position of the recess 26. The other points are the same as those of the electronic device 110. FIG. 14 is a plan view corresponding to FIG.

電子装置170は、一面S1における複数のランド11で挟まれ回路素子30と対向した対向部位に隣り合う非対向部位において、ランド11に隣接して凹部26が形成された配線基板10を備えている。つまり、凹部26は、対向部位には形成されておらず、非対向部位に形成されている。本実施形態では、非対向部位におけるランド11間の領域で、ランド11に隣接して凹部26が形成された配線基板10を採用している。そして、電子装置170は、上記実施形態と同様に、凹部26の少なくとも一部にフラックス50が配置されている。   The electronic device 170 includes a wiring substrate 10 in which a recess 26 is formed adjacent to the land 11 at a non-facing portion adjacent to the facing portion that is sandwiched between the plurality of lands 11 and faces the circuit element 30 on one surface S1. . That is, the recessed part 26 is not formed in the opposing part, but is formed in the non-opposing part. In the present embodiment, the wiring substrate 10 in which the concave portion 26 is formed adjacent to the land 11 in the region between the lands 11 in the non-facing portion is employed. And as for the electronic device 170, the flux 50 is arrange | positioned to at least one part of the recessed part 26 similarly to the said embodiment.

このように、電子装置170は、非対向部位において、ランド11に隣接して凹部26が形成されており、この凹部26の少なくとも一部にフラックス50が配置されている。このため、電子装置170は、凹部26が設けられていない場合よりも、対向部位にあるフラックス50の厚みを薄くすることができる。つまり、電子装置170は、フラックス50のZ方向の厚さが、X方向において平均的に薄くなる。特に、フラックス50は、上記実施形態で説明したように、はんだ40、ランド11、一面S1に接しつつ、凹部20の少なくとも一部に存在すると、厚みが平均的に薄くなりやすい。よって、電子装置170は、電子装置110と同様の効果を奏することができる。   As described above, in the electronic device 170, the concave portion 26 is formed adjacent to the land 11 in the non-facing portion, and the flux 50 is disposed in at least a part of the concave portion 26. For this reason, the electronic device 170 can make the thickness of the flux 50 in the facing portion thinner than in the case where the recess 26 is not provided. That is, in the electronic device 170, the thickness of the flux 50 in the Z direction is thinned on the average in the X direction. In particular, as described in the above embodiment, when the flux 50 is in contact with the solder 40, the land 11, and the one surface S <b> 1 and exists in at least a part of the recess 20, the thickness tends to be thin on average. Therefore, the electronic device 170 can achieve the same effect as the electronic device 110.

10…配線基板、11,11b…ランド、12…放熱用ランド、20〜26…凹部、30,30a,30b…回路素子、31,31a,31b…電極、32a…放熱パッド、40…はんだ、50…フラックス、60…封止樹脂部、100〜170…電子装置、S1…一面、S2…反対面   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Wiring board, 11, 11b ... Land, 12 ... Radiation land, 20-26 ... Recessed part, 30, 30a, 30b ... Circuit element, 31, 31a, 31b ... Electrode, 32a ... Radiation pad, 40 ... Solder, 50 ... Flux, 60 ... Sealing resin part, 100-170 ... Electronic device, S1 ... One side, S2 ... Reverse side

Claims (7)

一面(S1)の一部に、配線の一部である複数の基板側電極(11、11b)を有した配線基板(10)と、
前記一面に実装され、前記基板側電極と電気的に接続された複数の素子側電極(31、31a、31b)を有した回路素子(30、30a、30b)と、
前記基板側電極と前記素子側電極とを電気的に接続するはんだ(40)と、
少なくとも前記回路素子と前記一面との間を封止する絶縁部材(60)と、を備えた電子装置であって、
前記配線基板は、前記一面における複数の前記基板側電極で挟まれ前記回路素子と対向した対向部位の少なくとも一部に凹部(20〜25)が形成されており、
前記凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されている電子装置。
A wiring substrate (10) having a plurality of substrate-side electrodes (11, 11b) which are a part of wiring on a part of one surface (S1);
A circuit element (30, 30a, 30b) having a plurality of element side electrodes (31, 31a, 31b) mounted on the one surface and electrically connected to the substrate side electrode;
Solder (40) for electrically connecting the substrate side electrode and the element side electrode;
An electronic device comprising at least an insulating member (60) for sealing between the circuit element and the one surface,
The wiring board has a recess (20 to 25) formed in at least a part of a facing portion that is sandwiched between the plurality of substrate-side electrodes on the one surface and faces the circuit element,
An electronic device in which a flux is disposed in at least a part of the recess.
前記凹部は、前記フラックスと前記絶縁部材によって囲まれた空間が形成されている請求項1に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 1, wherein the recess is formed with a space surrounded by the flux and the insulating member. 前記凹部は、前記基板側電極と間隔をあけて設けられている請求項1又は2に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 1, wherein the concave portion is provided to be spaced from the substrate-side electrode. 前記凹部は、前記基板側電極に沿って連続的に形成されている請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 1, wherein the concave portion is formed continuously along the substrate-side electrode. 前記凹部は、前記対向部位に加えて、前記一面と前記回路素子とが対向していない非対向部位にも形成されており、前記基板側電極を囲う位置に環状に形成されている請求項4に記載の電子装置。   5. The concave portion is formed in a non-opposing portion where the one surface and the circuit element are not opposed to each other in addition to the facing portion, and is formed in an annular shape at a position surrounding the substrate side electrode. An electronic device according to 1. 前記凹部は、前記基板側電極に沿って複数箇所に形成されている請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 1, wherein the recess is formed at a plurality of locations along the substrate-side electrode. 一面(S1)の一部に、配線の一部である複数の基板側電極(11、11b)を有した配線基板(10)と、
前記一面に実装され、前記基板側電極と電気的に接続された複数の素子側電極(31、31a、31b)を有した回路素子(30、30a、30b)と、
前記基板側電極と前記素子側電極とを電気的に接続するはんだ(40)と、
少なくとも前記回路素子と前記一面との間を封止する絶縁部材(60)と、を備えた電子装置であって、
前記配線基板は、前記一面における複数の前記基板側電極で挟まれ前記回路素子と対向した対向部位に隣り合う非対向部位において、前記基板側電極に隣接して凹部(26)が形成されており、
前記凹部の少なくとも一部にフラックスが配置されている電子装置。
A wiring substrate (10) having a plurality of substrate-side electrodes (11, 11b) which are a part of wiring on a part of one surface (S1);
A circuit element (30, 30a, 30b) having a plurality of element side electrodes (31, 31a, 31b) mounted on the one surface and electrically connected to the substrate side electrode;
Solder (40) for electrically connecting the substrate side electrode and the element side electrode;
An electronic device comprising at least an insulating member (60) for sealing between the circuit element and the one surface,
The wiring board is formed with a recess (26) adjacent to the substrate-side electrode at a non-facing portion adjacent to the facing portion sandwiched between the plurality of substrate-side electrodes on the one surface and facing the circuit element. ,
An electronic device in which a flux is disposed in at least a part of the recess.
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