JP2018120222A - 複数の独立して制御可能なゾーン及び内部バスバーを有するエレクトロクロミックデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は2012年2月28日に出願された米国特許出願13/407,106の一部である、2013年3月8日に出願された米国特許出願第13/790,167号の継続出願であり、その内容は本明細書で引用されて本明細書に盛り込まれている。
(1)基材上にエレクトロクロミックコーティングを配置させることと、
(2)エレクトロクロミックコーティング上に2つのバスバーを配置することと、を備え、バスバーの少なくとも1つは不連続であり、各々は少なくとも2つの部分を有する。いくつかの実施形態では、基材は積層体である。いくつかの実施形態では、基材は3つのエレクトロクロミックゾーンを備える。いくつかの実施形態では、第1及び第2のゾーンは第1のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有し、隣接する第2及び第3のゾーンは、第2のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有する。いくつかの実施形態では、エレクトロクロミックゾーンの各々は、異なる表面積を有する。いくつかの実施形態では、エレクトロクロミックゾーンの各々は、互いに完全には分離されていない。いくつかの実施形態では、エレクトロクロミックゾーンは、基材上の単一のエレクトロクロミックコーティングから形成されている。いくつかの実施形態では、基材は4つのエレクトロクロミックゾーンを備える。いくつかの実施形態では、エレクトロクロミックゾーンは、混合タングステン−ニッケル酸化物を含む少なくとも1つの薄膜を備える。
Claims (25)
- 複数の独立して制御可能なエレクトロニックゾーン及び少なくとも2つのバスバーを備え、各バスバーはセグメント化され、及び少なくとも2つの隣接するエレクトロニックゾーンは前記バスバーの少なくとも1つの連続する部分を共有する、基材。
- 少なくとも3つの独立して制御可能なエレクトロクロミックゾーンを備え、前記エレクトロクロミックゾーンは順に配置され、及び任意の2つ以下のエレクトロクロミックゾーンは前記バスバーの少なくとも1つの連続する部分を共有する、基材。
- 前記基材は3つの独立して制御可能なエレクトロクロミックゾーンを備える、請求項2記載の基材。
- 隣接する第1及び第2のゾーンは第1のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有し、及び隣接する第2及び第3のゾーンは第2のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有する、請求項3記載の基材。
- 前記エレクトロクロミックゾーンの各々は、異なった表面積を有する、請求項2記載の基材。
- 前記エレクトロクロミックゾーンの各々は、互いに完全には分離されていない、請求項2記載の基材。
- 前記エレクトロクロミックゾーンは、前記基材上の単一のエレクトロクロミックコーティングから形成される、請求項2記載の基材。
- 前記第1及び第2のセグメント化されたバスバーは互いに実質的に平行である、請求項4記載の基材。
- 前記第1のセグメント化されたバスバーの集合部及び前記第2のセグメント化されたバスバーの集合部は、実質的に前記基材の前記長さに延在している、請求項4記載の基材。
- 前記基材は4つの独立して制御可能なエレクトロクロミックゾーンを備える、請求項2記載の基材。
- 隣接する第1及び第2のゾーンは第1のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有し、及び隣接する第3及び第4のゾーンは第2のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有する、請求項10記載の基材。
- 前記基材は積層体である、請求項2記載の基材。
- 少なくとも2つの独立して制御可能なエレクトロクロミックゾーンを有する基材の形成方法であって、前記方法は、
(1)基材上にエレクトロクロミックコーティングを配置させることと、
(2)前記エレクトロクロミックコーティング上に2つのバスバーを配置することと、
を備え、前記バスバーの少なくとも1つは不連続であり、各々は少なくとも2つの部分を有する、方法。 - 前記基材は3つのエレクトロクロミックゾーン備える、請求項13記載の方法。
- 隣接する第1及び第2のゾーンは第1のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有し、及び隣接する第2及び第3のゾーンは第2のセグメント化されたバスバーの共通部分を共有する、請求項14記載の方法。
- 前記エレクトロクロミックゾーンの各々は異なった表面積を有する、請求項14の方法。
- 前記エレクトロクロミックゾーンの各々は、互いに完全には分離されていない、請求項14記載の方法。
- 前記エレクトロクロミックゾーンは、前記基材上の単一のエレクトロクロミックコーティングから形成される、請求項14記載の方法。
- 前記基材は、4つのエレクトロクロミックゾーンを備える、請求項13記載の方法。
- 請求項2記載の前記基材を備えるエレクトロクロミックデバイス。
- 前記エレクトロクロミックゾーンは混合タングステン−ニッケル酸化物を含む少なくとも1つの薄膜を備える、請求項20記載のエレクトロクロミックデバイス。
- 請求項3記載の前記基材を備えるエレクトロクロミックデバイス。
- 前記エレクトロクロミックゾーンは、混合タングステン−ニッケル酸化物を含む少なくとも1つの薄膜を備える、請求項22記載のエレクトロクロミックデバイス。
- 請求項20記載の前記エレクトロクロミックデバイスを備える、絶縁ガラスユニット。
- 請求項22記載の前記エレクトロクロミックデバイスを備える、絶縁ガラスユニット。
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