JP2018098725A - Imaging device and imaging apparatus - Google Patents

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陽平 神田
Yohei Kanda
陽平 神田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that, when applying a multilayer sensor as a curvature sensor, since thickness is increased in the multilayer sensor, even if curvature control of a pixel chip is tried similarly to a non-multilayer sensor, the pixel chip cannot be accurately curved or may be destroyed.SOLUTION: The present invention relates to an imaging device 13 comprising a first semiconductor substrate S1 including a photo-detection plane PD consisting of multiple photoelectric transducers 201; and a second semiconductor substrate S2 including digital circuit parts 210 and 220 each applying digital signal processing to a signal outputted from the first semiconductor substrate S1. The first semiconductor substrate S1 and the second semiconductor substrate S2 are connected while being stacked, the imaging device 13 can be curved and has structures 110a and 310a for reducing a distortion stress that is generated when curing the imaging device.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、撮像素子及び撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging element and an imaging apparatus.

近年、コンパクトデジタルカメラにも1型やそれ以上の大型の撮像素子が搭載されるようになってきた。これにより、従来は一眼レフカメラのみで可能であった超高感度での撮影や被写界深度が浅くボケ味が活きる撮影等を行うことが、コンパクトデジタルカメラにおいても実現可能となってきている。このように大型の撮像素子を搭載することは、スマートフォンやタブレット等に搭載されたカメラとの差別化技術として、コンパクトデジタルカメラに必要不可欠なものとなってきている。   In recent years, compact digital cameras have been equipped with one or more large image sensors. As a result, it has become possible for compact digital cameras to perform ultra-high-sensitivity shooting, which has been possible with conventional single-lens reflex cameras, and shooting with a shallow depth of field and full of bokeh. . The mounting of such a large image sensor has become indispensable for a compact digital camera as a differentiating technique from a camera mounted on a smartphone or a tablet.

しかしながら、コンパクトデジタルカメラに従来の小型の撮像素子を搭載する場合と比べて、大型の撮像素子を搭載する場合は、被写体からレンズへと入射する光線の入射角度(以下、「光線入射角」と記述する。)が大きくなるという課題がある。この光線入射角の増大は、カメラの光学系のサイズを小さくするとより顕著になる。   However, when mounting a large image sensor compared to a conventional compact image sensor mounted on a compact digital camera, the incident angle of light incident on the lens from the subject (hereinafter referred to as the “light incident angle”). There is a problem that it becomes large. The increase in the light incident angle becomes more remarkable when the size of the camera optical system is reduced.

この課題の1つの解決手段として、特許文献1には、受光面を湾曲させた構造の撮像素子(以下、「湾曲センサ」と記載する。)が提案されている。湾曲センサは、受光面を湾曲させることで、レンズから入射してくる被写体からの光線に対し、垂直に近い状態で受光することが可能となる。   As one means for solving this problem, Patent Document 1 proposes an imaging element having a structure in which a light receiving surface is curved (hereinafter referred to as a “curved sensor”). The bending sensor can receive light in a state close to vertical with respect to the light beam from the subject incident from the lens by bending the light receiving surface.

特開2016−134857号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-134857

ところで、撮像素子には、単に被写体を撮影する機能を有するだけでなく、これまで後段の回路に備えられていた機能も併せ持った多機能撮像素子としての形態が求められている。撮像素子に多数の機能を具備させるとデバイス自体が大きくなってしまうが、複数の半導体基板を積層させて構成した撮像素子(以下、「積層センサ」と記載する。)が提案されている。   By the way, the imaging element is required to have a form as a multifunctional imaging element that not only has a function of photographing a subject but also has a function that has been provided in a subsequent circuit. When the image pickup device has a large number of functions, the device itself becomes large, but an image pickup device (hereinafter referred to as a “stacked sensor”) configured by stacking a plurality of semiconductor substrates has been proposed.

上記のような積層センサを湾曲させようとした場合、積層センサでは厚みが増しているため、積層センサの半導体基板の曲率制御を積層型でない湾曲センサのように行うと、正確に曲率制御ができない、あるいは半導体基板が破壊されるといった問題がある。また、積層センサを湾曲させた場合、回路層も曲げられて歪むため回路部のインピーダンス特性が変化してしまう、さらに湾曲の曲率を変化させた場合、回路部のインピーダンス特性が曲率に応じて変化してしまうといった問題がある。   When trying to bend the laminated sensor as described above, since the thickness of the laminated sensor is increased, if the curvature control of the semiconductor substrate of the laminated sensor is performed like a non-stacked curved sensor, the curvature cannot be accurately controlled. Or, there is a problem that the semiconductor substrate is destroyed. In addition, when the laminated sensor is bent, the circuit layer is also bent and distorted, so the impedance characteristic of the circuit part changes.When the curvature of curvature is further changed, the impedance characteristic of the circuit part changes according to the curvature. There is a problem such as.

そこで本発明の目的は、積層センサのような厚みを有する撮像素子であっても、湾曲させた際の柔軟性を保つことができる撮像素子を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to provide an image sensor that can maintain flexibility when it is curved even if it is an image sensor having a thickness like a laminated sensor.

上記目的を達成するために、本発明における撮像素子は、複数の光電変換素子により構成される受光面を有する第1の半導体基板と、第1の半導体基板から出力される信号にデジタル信号処理を施すデジタル回路部を有する第2の半導体基板と、を備える撮像素子であって、第1の半導体基板と第2の半導体基板とは積層されて接続されており、撮像素子は湾曲させることが可能であり、湾曲させる際に生じる歪応力を低減する構造を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an imaging device according to the present invention performs digital signal processing on a first semiconductor substrate having a light-receiving surface composed of a plurality of photoelectric conversion elements, and a signal output from the first semiconductor substrate. An image sensor comprising a second semiconductor substrate having a digital circuit portion to be applied, wherein the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate are stacked and connected, and the image sensor can be curved It is characterized by having a structure that reduces the strain stress generated when bending.

本発明によれば、積層構造を有する撮像素子であっても、湾曲させた際の柔軟性を保つことができる撮像素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is an image pick-up element which has a laminated structure, the image pick-up element which can maintain the softness | flexibility at the time of making it curve can be provided.

本発明の実施例における撮像装置1の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the imaging device 1 in the Example of this invention. 本発明の実施例における撮像素子13の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the image pick-up element 13 in the Example of this invention. 本発明の実施例における撮像素子13の画素200の構成及びそれに対応するAD変換回路部210の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a pixel 200 of an image sensor 13 and a configuration of an AD conversion circuit unit 210 corresponding thereto in an embodiment of the present invention. 本発明の実施例における撮像素子13の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the image pick-up element 13 in the Example of this invention. (A)本発明の実施例における撮像素子13の側面図である。(B)画素チップ100側から見た斜視図である。(C)処理チップ110側から見た斜視図である。(D)本発明の変形例における撮像素子33の側面図である。(A) It is a side view of the image pick-up element 13 in the Example of this invention. (B) It is the perspective view seen from the pixel chip 100 side. (C) It is the perspective view seen from the processing chip 110 side. (D) It is a side view of the image pick-up element 33 in the modification of this invention. 本発明の実施例における撮像素子13の湾曲制御装置15を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the curvature control apparatus 15 of the image pick-up element 13 in the Example of this invention. (A)、(C)本発明の実施例における撮像素子13が湾曲した際の応力を示す図である。(B)、(D)従来における応力を示す図である。(A), (C) It is a figure which shows the stress when the image pick-up element 13 in the Example of this invention curves. (B), (D) It is a figure which shows the stress in the past. (A)本発明の実施例における曲率制御テーブルを示す図である。(B)本発明の実施例における各曲率Xにおける湾曲部Cの形態を示す図である。(A) It is a figure which shows the curvature control table in the Example of this invention. (B) It is a figure which shows the form of the curved part C in each curvature X in the Example of this invention. 本発明の実施例における曲率制御手順を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the curvature control procedure in the Example of this invention.

(実施例)
以下、本発明の実施例について説明する。図1に示す撮像装置1は、レンズ11、レンズ制御装置12、撮像素子13、撮像素子制御装置14、湾曲制御装置15、DSP16、メモリ部17、表示部18、記録装置19、操作部20から構成されている。
(Example)
Examples of the present invention will be described below. 1 includes a lens 11, a lens control device 12, an image sensor 13, an image sensor control device 14, a curvature control device 15, a DSP 16, a memory unit 17, a display unit 18, a recording device 19, and an operation unit 20. It is configured.

レンズ11は、ズームレンズであり、DSP16の指示を受けたレンズ制御装置12の制御信号によりレンズ11の焦点距離が制御される。また、レンズ制御装置12は、焦点距離のほかに絞りやフォーカス制御等も行うことが可能となっている。   The lens 11 is a zoom lens, and the focal length of the lens 11 is controlled by a control signal of the lens control device 12 that has received an instruction from the DSP 16. In addition to the focal length, the lens control device 12 can perform aperture control, focus control, and the like.

レンズ11を通った被写体像の光は、撮像素子13に結像される。撮像素子13は、DSP16の指示を受けた撮像素子制御装置14の制御により、結像した被写体像を光電変換する。また、DSP16の指示を受けた湾曲制御装置15の制御により、レンズ11の状態に合わせて撮像素子13が最適な湾曲形状の曲率となるように撮像素子13の形状が制御される。   The light of the subject image that has passed through the lens 11 is formed on the image sensor 13. The image sensor 13 photoelectrically converts the formed subject image under the control of the image sensor control device 14 that has received an instruction from the DSP 16. The shape of the image sensor 13 is controlled by the control of the bending control device 15 in response to the instruction of the DSP 16 so that the image sensor 13 has an optimal curvature of the curved shape in accordance with the state of the lens 11.

撮像素子13で光電変換され、AD変換処理や欠陥補正等の補正が施された画像信号はDSP16に伝送される。DSP16では、この画像信号に各種の画像信号処理を施し、処理された画像信号はメモリ部17に保存される。表示部18では、メモリ部17からの処理された画像信号による画像や記録装置19からの記録画像が表示される。記録装置19は、メモリカードに代表される記録手段であり、撮影した映像や画像を記録することができる。また、操作部20は、ユーザーがレリーズ等のカメラ操作を行う操作部材で構成されている。   An image signal photoelectrically converted by the image pickup device 13 and subjected to correction such as AD conversion processing and defect correction is transmitted to the DSP 16. In the DSP 16, various image signal processes are performed on the image signal, and the processed image signal is stored in the memory unit 17. On the display unit 18, an image based on the processed image signal from the memory unit 17 and a recorded image from the recording device 19 are displayed. The recording device 19 is a recording means typified by a memory card, and can record captured images and images. The operation unit 20 includes an operation member that allows a user to operate a camera such as a release.

図2は、本発明の実施例における撮像素子13の構成を概略図として示す。撮像素子13は、複数の画素200を水平方向及び垂直方向にアレイ状に並べた画素チップ100と、AD変換回路部210及びデジタル画像処理回路部220を有する処理チップ110とから構成されている。画素チップ100と処理チップ110とは、マイクロバンプ120を介して電気的に接続され、図4に示すような構成で貼り合わされ積層されている。   FIG. 2 schematically shows the configuration of the image sensor 13 in the embodiment of the present invention. The imaging device 13 includes a pixel chip 100 in which a plurality of pixels 200 are arranged in an array in the horizontal direction and the vertical direction, and a processing chip 110 having an AD conversion circuit unit 210 and a digital image processing circuit unit 220. The pixel chip 100 and the processing chip 110 are electrically connected via the micro bumps 120, and are bonded and laminated in a configuration as shown in FIG.

まず初めに、画素チップ100について説明する。画素チップ100には、複数の画素200が水平方向(行方向)及び垂直方向(列方向)にアレイ状に配列された画素群からなる受光面が形成されている。図2では、簡略化のため水平方向に6画素、垂直方向に3画素の構成としているが、一般的には数百万の数の画素200が配列されている。本構成では、垂直方向の同じ列に1つのAD変換回路部210を共有するような構成としているため、各列に1つの垂直信号線(列信号線)101が配置されている。   First, the pixel chip 100 will be described. The pixel chip 100 is formed with a light receiving surface including a pixel group in which a plurality of pixels 200 are arranged in an array in the horizontal direction (row direction) and the vertical direction (column direction). In FIG. 2, for simplification, the configuration is 6 pixels in the horizontal direction and 3 pixels in the vertical direction, but in general, millions of pixels 200 are arranged. In this configuration, since one AD conversion circuit unit 210 is shared by the same column in the vertical direction, one vertical signal line (column signal line) 101 is arranged in each column.

また、各画素200には、選択トランジスタをオンにする選択信号線が配置されている(図3参照)。各列における画素200の信号は、この選択信号線によって順次選択され、共有された垂直信号線101から出力される。垂直信号線101は、マイクロパッド102へ接続されており、マイクロバンプ120を介して処理チップ110へ画像信号を伝送する。   Each pixel 200 is provided with a selection signal line for turning on the selection transistor (see FIG. 3). The signals of the pixels 200 in each column are sequentially selected by the selection signal line and output from the shared vertical signal line 101. The vertical signal line 101 is connected to the micropad 102 and transmits an image signal to the processing chip 110 via the microbump 120.

次に、処理チップ110について説明する。処理チップ110には、画素チップ100の各画素群の各列のそれぞれに対応するAD変換回路部210が配列されている。さらに、処理チップ110には、マイクロパッド112が備えられており、画素チップ100の撮像信号はマイクロバンプ120を介してマイクロパッド112に入力される。すなわちマイクロパッド112は、撮像信号の入力端子である。また、AD変換回路部210によりデジタル化された撮像信号は、水平信号線(行信号線)111を介してデジタル画像処理回路部220に入力される。デジタル画像処理回路部220では、欠陥補正等の画像処理が施される。   Next, the processing chip 110 will be described. In the processing chip 110, AD conversion circuit units 210 corresponding to the respective columns of the respective pixel groups of the pixel chip 100 are arranged. Further, the processing chip 110 is provided with a micropad 112, and an imaging signal of the pixel chip 100 is input to the micropad 112 via the microbump 120. That is, the micropad 112 is an input terminal for imaging signals. Further, the imaging signal digitized by the AD conversion circuit unit 210 is input to the digital image processing circuit unit 220 via the horizontal signal line (row signal line) 111. The digital image processing circuit unit 220 performs image processing such as defect correction.

図3を参照して、本発明の実施例における画素200の構成及び対応するAD変換回路部210について説明する。本発明の実施例における画素200は、フォトダイオード201に加えて、転送トランジスタ202、リセットトランジスタ203、増幅トランジスタ204及び選択トランジスタ205の4つのトランジスタから構成されている。これらトランジスタ202〜205は、フォトダイオード201の信号の読み出し処理を行うアナログ回路部を構成する。本発明の実施例では、これらトランジスタ202〜205として、例えばNチャネルのMOSトランジスタが用いられている。   With reference to FIG. 3, the configuration of the pixel 200 and the corresponding AD conversion circuit unit 210 in the embodiment of the present invention will be described. The pixel 200 according to the embodiment of the present invention includes four transistors including a transfer transistor 202, a reset transistor 203, an amplification transistor 204, and a selection transistor 205 in addition to the photodiode 201. These transistors 202 to 205 constitute an analog circuit portion that performs a signal reading process of the photodiode 201. In the embodiment of the present invention, for example, N-channel MOS transistors are used as the transistors 202 to 205.

フォトダイオード201は、受光した光をその光量に応じた電荷量の光電荷(ここでは、電子)に光電変換する、いわゆる光電変換素子である。フォトダイオード201のカソードは、転送トランジスタ202を介して増幅トランジスタ204のゲートと電気的に接続されている。この増幅トランジスタ204のゲートと電気的に繋がったノードをFD(フローティングディフュージョン)部206と呼ぶ。   The photodiode 201 is a so-called photoelectric conversion element that photoelectrically converts received light into photoelectric charges (here, electrons) having a charge amount corresponding to the amount of light. The cathode of the photodiode 201 is electrically connected to the gate of the amplification transistor 204 through the transfer transistor 202. A node electrically connected to the gate of the amplification transistor 204 is referred to as an FD (floating diffusion) unit 206.

転送トランジスタ202は、フォトダイオード201のカソードとFD部206との間に接続され、ゲートに不図示の転送パルス信号線を介して転送パルスφTRSが与えられることによってオン状態となる。そして、フォトダイオード201で光電変換された光電荷がFD部206に転送される。   The transfer transistor 202 is connected between the cathode of the photodiode 201 and the FD unit 206, and is turned on when a transfer pulse φTRS is applied to the gate via a transfer pulse signal line (not shown). Then, the photoelectric charge photoelectrically converted by the photodiode 201 is transferred to the FD unit 206.

リセットトランジスタ203は、ドレインが画素電源Vddに、ソースがFD部206にそれぞれ接続され、ゲートに不図示のリセットパルス信号線を介してリセットパルスφRSTが与えられることによってオン状態となる。そして、リセットトランジスタ203は、フォトダイオード201からFD部206への信号電荷の転送に先立って、FD部206の電荷を画素電源Vddに捨てることによって、当該FD部206をリセットする。   The reset transistor 203 is turned on when a drain is connected to the pixel power source Vdd, a source is connected to the FD unit 206, and a gate is supplied with a reset pulse φRST via a reset pulse signal line (not shown). The reset transistor 203 resets the FD unit 206 by discarding the charge of the FD unit 206 to the pixel power supply Vdd prior to the transfer of the signal charge from the photodiode 201 to the FD unit 206.

増幅トランジスタ204は、ゲートがFD部206に、ドレインが画素電源Vddにそれぞれ接続され、リセットトランジスタ203によってリセットされた後のFD部206の電位をリセットレベルとして出力する。さらに、増幅トランジスタ204は、転送トランジスタ202によって信号電荷を転送した後のFD部206の電位を信号レベルとして出力する。   The amplification transistor 204 has a gate connected to the FD unit 206 and a drain connected to the pixel power supply Vdd, and outputs the potential of the FD unit 206 after being reset by the reset transistor 203 as a reset level. Furthermore, the amplification transistor 204 outputs the potential of the FD unit 206 after transferring the signal charge by the transfer transistor 202 as a signal level.

選択トランジスタ205は、例えば、ドレインが増幅トランジスタ204のソースに、ソースが出力信号線207にそれぞれ接続され、ゲートに不図示の選択パルス信号線を介して選択パルスφSELが与えられることによってオン状態となる。そして、選択トランジスタ205は、画素200を選択状態として増幅トランジスタ204から出力される信号を出力信号線207に中継する。   In the selection transistor 205, for example, the drain is connected to the source of the amplification transistor 204, the source is connected to the output signal line 207, and the selection pulse φSEL is applied to the gate via the selection pulse signal line (not shown). Become. The selection transistor 205 relays the signal output from the amplification transistor 204 to the output signal line 207 with the pixel 200 in a selected state.

なお、この選択トランジスタ205については、画素電源Vddと増幅トランジスタ204のドレインとの間に接続した回路構成を採ることも可能である。また、画素200の構成としては、上記の4つのトランジスタ構成に限られるものではなく、増幅トランジスタ204と選択トランジスタ205を兼用した3トランジスタ構成であっても良い。   The selection transistor 205 may have a circuit configuration connected between the pixel power supply Vdd and the drain of the amplification transistor 204. Further, the configuration of the pixel 200 is not limited to the above-described four transistor configuration, and may be a three-transistor configuration in which the amplification transistor 204 and the selection transistor 205 are combined.

画素200から出力信号線207を介して出力される撮像信号は、垂直信号線101、マイクロパッド102、マイクロバンプ120、マイクロパッド112及び入力信号線215を介して、AD変換回路部210に伝送される。AD変換回路部210は、比較器211、アップダウンカウンタ212、メモリ213、DAC(DAコンバータ)214を有する。比較器211が有する一対の入力端子の一方に入力信号線215が接続され、他方にDAC214が接続される。DAC214は、撮像素子制御装置14から入力される値に基づいて信号レベルが時間の経過とともに変化するランプ信号を出力する。   An imaging signal output from the pixel 200 via the output signal line 207 is transmitted to the AD conversion circuit unit 210 via the vertical signal line 101, micropad 102, microbump 120, micropad 112, and input signal line 215. The The AD conversion circuit unit 210 includes a comparator 211, an up / down counter 212, a memory 213, and a DAC (DA converter) 214. The input signal line 215 is connected to one of a pair of input terminals included in the comparator 211, and the DAC 214 is connected to the other. The DAC 214 outputs a ramp signal whose signal level changes over time based on the value input from the image sensor control device 14.

比較器211は、DAC214から入力されるランプ信号のレベルと、出力信号線207からの撮像信号のレベルとを比較し比較信号を出力する。例えば、撮像信号のレベルがランプ信号のレベル未満である場合にはハイレベルの比較信号が出力され、撮像信号のレベルがランプ信号のレベル以上である場合にはローレベルの比較信号が出力される。   The comparator 211 compares the level of the ramp signal input from the DAC 214 with the level of the imaging signal from the output signal line 207 and outputs a comparison signal. For example, when the level of the imaging signal is less than the level of the ramp signal, a high level comparison signal is output, and when the level of the imaging signal is equal to or higher than the level of the ramp signal, a low level comparison signal is output. .

アップダウンカウンタ212には、比較器211からの比較信号が入力され、比較信号がハイレベルとなる期間、またはローレベルとなる期間がカウントされる。このアップダウンカウンタ212によるカウント処理により、画素200の撮像信号は、完全なデジタル値へ変換される。なお、比較器211とアップダウンカウンタ212との間にアンド回路を設け、このアンド回路にパルス信号を入力し、このパルス信号の個数をアップダウンカウンタ212によりカウント処理させてもよい。   The up / down counter 212 receives the comparison signal from the comparator 211 and counts a period during which the comparison signal is at a high level or a period at which the comparison signal is at a low level. By the counting process by the up / down counter 212, the imaging signal of the pixel 200 is converted into a complete digital value. An AND circuit may be provided between the comparator 211 and the up / down counter 212, a pulse signal may be input to the AND circuit, and the number of pulse signals may be counted by the up / down counter 212.

メモリ213は、アップダウンカウンタ212と接続され、アップダウンカウンタ212によりカウントされたカウント値を記憶する。なお、アップダウンカウンタ212は画素200のリセット時の撮像信号に基づいてリセットレベルに対応したカウント値をカウントし、また、所定の撮像時間後の撮像信号に基づいてカウント値をカウントし、これらの差分値をメモリ213に記憶させてもよい。メモリ213に記憶されたカウント値(信号)は、下流のデジタル画像処理回路部220に伝送されて、その他の画素200の信号とともにデジタル画像信号として欠陥補正等の画像処理が施され、撮像素子13からDSP16へ出力される。AD変換回路部210とデジタル画像処理回路部220とによりデジタル信号処理を施すデジタル回路部が構成される。   The memory 213 is connected to the up / down counter 212 and stores the count value counted by the up / down counter 212. The up / down counter 212 counts the count value corresponding to the reset level based on the imaging signal when the pixel 200 is reset, and counts the count value based on the imaging signal after a predetermined imaging time. The difference value may be stored in the memory 213. The count value (signal) stored in the memory 213 is transmitted to the downstream digital image processing circuit unit 220 and subjected to image processing such as defect correction as a digital image signal together with signals from other pixels 200, and the image sensor 13. To the DSP 16. The AD conversion circuit unit 210 and the digital image processing circuit unit 220 constitute a digital circuit unit that performs digital signal processing.

図4は、本発明の実施例における撮像素子13の画素チップ100及び処理チップ110の貼り付け構造を示す概念図である。複数の画素200が配置された画素チップ100の一方の面には受光部PDが形成されており、他方の面には不図示のマイクロパッド102が形成されるとともに、処理チップ110が貼り付けられる。すなわち、画素チップ100と処理チップ110とは互いに積層された形態となっている。   FIG. 4 is a conceptual diagram showing a bonding structure of the pixel chip 100 and the processing chip 110 of the image sensor 13 in the embodiment of the present invention. A light receiving portion PD is formed on one surface of the pixel chip 100 on which the plurality of pixels 200 are arranged, and a micropad 102 (not shown) is formed on the other surface, and a processing chip 110 is attached. . That is, the pixel chip 100 and the processing chip 110 are stacked on each other.

図5(A)は、本発明の実施例における撮像素子13の側面図である。図5(B)は、画素チップ100側から見た撮像素子13の斜視図である。図5(C)は、処理チップ110側から見た撮像素子13の斜視図である。撮像素子13は、画素チップ100と処理チップ110との間にマイクロバンプ120を有する。   FIG. 5A is a side view of the image sensor 13 in the embodiment of the present invention. FIG. 5B is a perspective view of the image sensor 13 viewed from the pixel chip 100 side. FIG. 5C is a perspective view of the image sensor 13 viewed from the processing chip 110 side. The image sensor 13 has a micro bump 120 between the pixel chip 100 and the processing chip 110.

画素チップ100は、長方形の形状をしており、その表面に複数の画素200がアレイ状に並ぶ受光部(受光面)PDが形成されている。その裏面には、マイクロパッド102が備えられている。また、処理チップ110は、画素チップ100のマイクロパッド102に対応する位置にマイクロパッド112を有している。画素チップ100からの画像信号は、マイクロパッド102に出力され、マイクロバンプ120を介して処理チップ110へ伝達される。画素チップ100と処理チップ110とから構成される撮像素子13は、図6に示すように湾曲させることが可能な構造をしているとともに、湾曲させた際に生じる歪応力を吸収し低減するための構造を有している。   The pixel chip 100 has a rectangular shape, and a light receiving portion (light receiving surface) PD in which a plurality of pixels 200 are arranged in an array is formed on the surface thereof. On the back surface, a micropad 102 is provided. Further, the processing chip 110 has a micropad 112 at a position corresponding to the micropad 102 of the pixel chip 100. An image signal from the pixel chip 100 is output to the micropad 102 and transmitted to the processing chip 110 via the microbump 120. The imaging element 13 including the pixel chip 100 and the processing chip 110 has a structure that can be bent as shown in FIG. 6 and absorbs and reduces distortion stress generated when the imaging element 13 is bent. It has the structure of.

本発明の実施例における処理チップ110は、画素チップ100が貼付される面の反対側の面に撮像素子13が湾曲した際に生じる歪応力を吸収し低減するための変形部110aを有する。この変形部110aの形状は溝状の形状をしており、この形状は、例えばエッチングやメカニカルスクライブにより形成することができる。この変形部110aにより、画素200を有する画素チップ100を高精度に湾曲させることができるとともに、撮像素子13の破壊等のリスクを回避することができる。そして、撮像素子13の柔軟性を保つという効果をもたらす。   The processing chip 110 according to the embodiment of the present invention includes a deforming portion 110a for absorbing and reducing distortion stress generated when the imaging element 13 is curved on the surface opposite to the surface to which the pixel chip 100 is attached. The deformed portion 110a has a groove shape, and can be formed by etching or mechanical scribing, for example. The deformation unit 110a can bend the pixel chip 100 including the pixels 200 with high accuracy, and can avoid risks such as destruction of the image sensor 13. And the effect that the flexibility of the image sensor 13 is maintained is brought about.

変形部110aは、複数設けられていてもよい。図5(C)において、処理チップ110は、長軸方向に少なくとも2つの溝状の変形部110a、短軸方向に少なくとも1つの溝状の変形部110aを有している。なお、処理チップ110の表面において溝状に部分的に厚みを変え、同様の効果を得られるものであればその他の形状でも構わない。例えば溝状の形状をV字形、U字型等の溝形状とすることも可能である。   A plurality of the deforming portions 110a may be provided. 5C, the processing chip 110 has at least two groove-shaped deformable portions 110a in the major axis direction and at least one groove-shaped deformable portion 110a in the minor axis direction. It should be noted that other shapes may be used as long as the same effect can be obtained by partially changing the thickness of the surface of the processing chip 110 into a groove shape. For example, the groove shape may be a V shape, a U shape, or the like.

図5(D)は、本発明の実施例の変形例である撮像素子33の側面図を示す。実施例における処理チップ110は、変形例において処理チップ310b、処理チップ310cのように複数個に分割されて構成されており、分割されたそれぞれが画素チップ100と接続されている。処理チップ310bと処理チップ310cとの間には、分割部310aが設けられており、実施例の変形部110aと同様に、分割部310aは、湾曲させた際に生じる歪応力を吸収し低減する。さらに、実施例と同様に、複数の分割部310aを設ける構成も可能である。   FIG. 5D shows a side view of an image sensor 33 which is a modification of the embodiment of the present invention. In the modified example, the processing chip 110 in the embodiment is divided into a plurality of parts such as the processing chip 310b and the processing chip 310c, and each divided part is connected to the pixel chip 100. A dividing unit 310a is provided between the processing chip 310b and the processing chip 310c, and the dividing unit 310a absorbs and reduces the strain stress generated when it is bent, like the deforming unit 110a of the embodiment. . Further, as in the embodiment, a configuration in which a plurality of division units 310a are provided is also possible.

次に図6を用いて、本発明の実施例における撮像素子13の受光面の湾曲制御機構の概要を説明する。図6は、撮像素子13と湾曲制御装置15とを示す断面図であって、撮像素子13が湾曲した状態を示す。撮像素子13は、画素チップ100を構成する第1の半導体基板S1と処理チップ110を構成する第2の半導体基板S2とが重ねられて、それぞれがしっかりと固定されて構成されている。第1の半導体基板S1の裏面に配置されたマイクロパッド102と、第2の半導体基板S2の表面に配置されたマイクロパッド112とが、マイクロバンプ120(不図示)により電気的に接続されており、撮像信号が伝送されるようになっている。   Next, the outline of the curvature control mechanism of the light receiving surface of the image sensor 13 in the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing the image sensor 13 and the bending control device 15 and shows a state in which the image sensor 13 is curved. The imaging element 13 is configured by superimposing a first semiconductor substrate S1 constituting the pixel chip 100 and a second semiconductor substrate S2 constituting the processing chip 110, and firmly fixing each of them. The micro pad 102 disposed on the back surface of the first semiconductor substrate S1 and the micro pad 112 disposed on the front surface of the second semiconductor substrate S2 are electrically connected by a micro bump 120 (not shown). The imaging signal is transmitted.

第1の半導体基板S1の表面には、光電変換素子を備えた画素200が2次元的に配列された受光部(受光面)PDが形成されている。そして、第2の半導体基板S2には、AD変換回路部210及びデジタル画像処理回路部220が備えられている。第1の半導体基板S1の周縁部の平坦部は、台座131の平坦面132に接着層を介して固定され、台座131の上記平坦面132の反対側の面は底板134に固定される。台座131が底板134に固定されることにより、台座131内に気密的に閉塞された密閉空間133が形成される。底板134には、吸引部140を有する湾曲制御装置15が取り付けられている。   On the surface of the first semiconductor substrate S1, a light receiving portion (light receiving surface) PD in which pixels 200 including photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged is formed. The second semiconductor substrate S2 includes an AD conversion circuit unit 210 and a digital image processing circuit unit 220. The flat portion at the peripheral edge of the first semiconductor substrate S1 is fixed to the flat surface 132 of the pedestal 131 via an adhesive layer, and the surface of the pedestal 131 opposite to the flat surface 132 is fixed to the bottom plate 134. By fixing the pedestal 131 to the bottom plate 134, an airtightly closed space 133 is formed in the pedestal 131. The bending control device 15 having the suction part 140 is attached to the bottom plate 134.

吸引部140は、密閉空間133内のガスを吸引し、密閉空間133内の気圧(負圧)を制御して、撮像素子13の密閉空間133側に弧状等の3次元の湾曲部Cが形成される。湾曲制御装置15は吸引部140を制御することにより、図6の矢印で示すように湾曲部Cの曲率を可変制御することができる。そして、第1の半導体基板S1と第2の半導体基板S2とにより構成された撮像素子13は、湾曲部Cの周縁の平坦部が台座131の平坦面132に固定されることにより台座131に支持される。   The suction unit 140 sucks the gas in the sealed space 133 and controls the atmospheric pressure (negative pressure) in the sealed space 133 to form a three-dimensional curved portion C such as an arc shape on the sealed space 133 side of the image sensor 13. Is done. The bending control device 15 can variably control the curvature of the bending portion C as shown by the arrow in FIG. 6 by controlling the suction portion 140. The imaging element 13 constituted by the first semiconductor substrate S1 and the second semiconductor substrate S2 is supported on the pedestal 131 by fixing the flat portion of the periphery of the curved portion C to the flat surface 132 of the pedestal 131. Is done.

図6に示された点線は、密閉空間133内の気圧が湾曲制御装置15によって制御され、第1の半導体基板S1及び第2の半導体基板S2の湾曲部Cが高精度に制御された状態を示している。このような湾曲制御機構により、受光面の曲率を制御することが可能である。本発明の実施例の撮像素子13の特徴は、第2の半導体基板S2が歪応力を低減する構造を有していることである。   The dotted line shown in FIG. 6 shows a state in which the pressure in the sealed space 133 is controlled by the bending control device 15 and the bending portions C of the first semiconductor substrate S1 and the second semiconductor substrate S2 are controlled with high accuracy. Show. With such a bending control mechanism, it is possible to control the curvature of the light receiving surface. The feature of the image sensor 13 of the embodiment of the present invention is that the second semiconductor substrate S2 has a structure for reducing strain stress.

図7(A)は、本発明の実施例の撮像素子13の第2の半導体基板S2を示す。図7(C)は、図7(A)の第2の半導体基板S2を湾曲させた際の歪応力の状態を示す。図7(B)は、従来の半導体基板Sを示す。図7(D)は、図7(B)の従来の半導体基板Sを湾曲させた際の歪応力の状態を示す。矢印は、湾曲させたことで作用する歪応力(圧縮応力、引張応力)の大きさと方向を示す。   FIG. 7A shows a second semiconductor substrate S2 of the image sensor 13 according to the embodiment of the present invention. FIG. 7C shows a state of strain stress when the second semiconductor substrate S2 of FIG. 7A is curved. FIG. 7B shows a conventional semiconductor substrate S. FIG. 7D shows a state of strain stress when the conventional semiconductor substrate S of FIG. 7B is curved. Arrows indicate the magnitude and direction of strain stress (compressive stress, tensile stress) that acts by bending.

図7(D)では、湾曲させたことにより従来の半導体基板Sに歪応力が発生している。従来の半導体基板Sの上側では圧縮応力が、半導体基板Sの下側では引張応力がそれぞれ発生し、半導体基板Sを歪ませている。一方、図7(C)では、同様に第2の半導体基板S2に歪応力が発生しているが、変形部110aが変形し歪応力の一部を吸収することで第2の半導体基板S2の下側の引張応力が低減されている。本発明の実施例のような構成とすることによって、撮像素子13が湾曲した際の柔軟性を保つことができることから、積層センサによるメリットを保持したまま湾曲センサとしても機能させることが可能となる。   In FIG. 7D, strain stress is generated in the conventional semiconductor substrate S due to the bending. A compressive stress is generated on the upper side of the conventional semiconductor substrate S, and a tensile stress is generated on the lower side of the semiconductor substrate S, thereby distorting the semiconductor substrate S. On the other hand, in FIG. 7C, strain stress is similarly generated in the second semiconductor substrate S2, but the deformed portion 110a is deformed and absorbs a part of the strain stress, so that the second semiconductor substrate S2 is deformed. The lower tensile stress is reduced. By adopting the configuration of the embodiment of the present invention, it is possible to maintain flexibility when the image pickup device 13 is bent. Therefore, it is possible to function as a bending sensor while maintaining the merit of the laminated sensor. .

次に、本発明の実施例における湾曲制御装置15について図8(A)、(B)を用いて説明する。図8(A)は、レンズ11のズーム位置とそれに応じて湾曲制御装置15を介して制御される湾曲部Cの曲率Xとの関係を示した曲率制御テーブルであり、当該曲率制御テーブルは、メモリ部17に格納されている。また、曲率制御テーブルでは、ズーム位置としてWide、M1等のズームポイントを採用しているが、各ズーム位置における焦点距離を採用しても同様の曲率制御テーブルが作成可能である。   Next, the bending control device 15 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8A is a curvature control table that shows the relationship between the zoom position of the lens 11 and the curvature X of the bending portion C that is controlled accordingly via the bending control device 15. It is stored in the memory unit 17. In the curvature control table, zoom points such as Wide and M1 are adopted as the zoom position, but a similar curvature control table can be created even if the focal length at each zoom position is adopted.

図8(B)は、湾曲制御装置15によって制御される湾曲部Cの形態を示す。湾曲部Cの曲率Xは曲率X0〜X5が定義され、曲率X5の形態が最も曲率は大きく、曲率X0の形態が最も曲率は小さく、曲率0の場合も含む。   FIG. 8B shows a form of the bending portion C controlled by the bending control device 15. The curvature X of the curved portion C is defined as curvatures X0 to X5. The curvature X5 has the largest curvature, the curvature X0 has the smallest curvature, and includes the case where the curvature is zero.

本発明の実施例におけるレンズ11は、撮像動作時においてズーム位置がWideに近いほど、撮像素子13への入射角度が厳しくなる構成となっている。しかしながら、本発明の実施例では、ズーム位置に応じて変化するレンズ11の光線入射角に対し、撮像素子13の湾曲部Cの曲率Xを制御することによって、撮像特性を最適に保つことができる。   The lens 11 according to the embodiment of the present invention has a configuration in which the incident angle to the image sensor 13 becomes stricter as the zoom position is closer to Wide during the imaging operation. However, in the embodiment of the present invention, the imaging characteristics can be kept optimal by controlling the curvature X of the curved portion C of the imaging element 13 with respect to the light incident angle of the lens 11 that changes according to the zoom position. .

次に、本発明の実施例における、湾曲制御装置15の制御の詳細を図9のフローチャートを用いて説明する。まず、ステップS10ではユーザーにより、撮像装置1の操作部20によってカメラの撮像動作の開始操作が行われる。そして次のステップS20では、撮像開始の初期設定が行われる。続くステップS30では、ユーザーによって設定されたズーム位置をDSP16にて取得する。続くステップS40では、ステップS30において取得されたズーム位置と、図8(A)の曲率制御テーブルとに基づいて、DSP16が湾曲制御装置15に与える曲率Xを選択する。   Next, details of the control of the bending control device 15 in the embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. First, in step S <b> 10, the user performs an operation of starting the imaging operation of the camera by the operation unit 20 of the imaging device 1. In the next step S20, an initial setting for starting imaging is performed. In the subsequent step S30, the zoom position set by the user is acquired by the DSP 16. In subsequent step S40, the curvature X that the DSP 16 gives to the bending control device 15 is selected based on the zoom position acquired in step S30 and the curvature control table of FIG.

次にステップS50では、湾曲制御装置15がステップS40において選択された曲率Xの湾曲形状を形成するよう、撮像素子13を湾曲させ撮像素子13の湾曲部Cの曲率を変える。次にステップS60では、DSP16からの撮像動作の終了命令を確認する。DSP16から撮像動作の終了命令が出されておらず、撮像動作が引きつづき行われる場合は、ステップS30に戻りズーム位置を取得する動作が再び行われる。一方、DSP16から撮像動作の終了命令が指示された場合、次のステップS70へ進み撮像動作を終了する。   Next, in step S50, the bending control device 15 bends the imaging element 13 to change the curvature of the bending portion C of the imaging element 13 so as to form the curved shape having the curvature X selected in step S40. Next, in step S60, an imaging operation end command from the DSP 16 is confirmed. If the DSP 16 has not issued an imaging operation end command and the imaging operation continues, the operation returns to step S30 and the operation of acquiring the zoom position is performed again. On the other hand, when an instruction to end the imaging operation is instructed from the DSP 16, the process proceeds to the next step S70 and the imaging operation is terminated.

以上、積層センサとして構成される撮像素子13において、本発明の実施例のように画素200を含まない第2の半導体基板S2の柔軟性を確保することにより、画素200を含む第1の半導体基板S1の湾曲形状を高精度に制御することが可能となる。加えて、第2の半導体基板S2の破壊や第2の半導体基板S2の歪みによる回路部のインピーダンスの変化等のリスクを回避することが可能となる。結果として、積層センサの形態でありながら湾曲形状を形成することが可能となる。さらに、レンズ11からの光線入射角が高いような撮影光学系であっても、撮影光学系に応じて湾曲形状を変化させることができるため、高画質な画像を取得することができるとともに、積層センサ固有の多様な機能を持つ撮像装置1を提供することができる。また、本発明の実施例では、曲率の変更方法として、撮像素子13の中心部を吸引させることで湾曲部Cの曲率を制御する方法を示したが、他の方法で曲率を制御する場合であっても同様に実現することができる。   As described above, in the image sensor 13 configured as a stacked sensor, the first semiconductor substrate including the pixel 200 is ensured by ensuring the flexibility of the second semiconductor substrate S2 that does not include the pixel 200 as in the embodiment of the present invention. It becomes possible to control the curved shape of S1 with high accuracy. In addition, it is possible to avoid risks such as destruction of the second semiconductor substrate S2 and changes in the impedance of the circuit portion due to distortion of the second semiconductor substrate S2. As a result, it is possible to form a curved shape while being in the form of a laminated sensor. Furthermore, even in a photographing optical system in which the light incident angle from the lens 11 is high, the curved shape can be changed according to the photographing optical system, so that a high-quality image can be obtained and The imaging device 1 having various functions unique to the sensor can be provided. In the embodiment of the present invention, as a method of changing the curvature, a method of controlling the curvature of the curved portion C by sucking the central portion of the image sensor 13 is shown. However, in another case where the curvature is controlled by another method. Even if it exists, it is realizable similarly.

以上、本発明をその好適な実施例に基づいて詳述してきたが、本発明はこれら特定の実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の様々な形態も本発明に含まれる。上記の実施例の一部を適宜組み合わせてもよい。   The present invention has been described in detail based on the preferred embodiments thereof, but the present invention is not limited to these specific embodiments, and various forms within the scope of the present invention are also included in the present invention. included. A part of the above embodiments may be appropriately combined.

13 撮像素子
15 湾曲制御装置(湾曲制御機構)
100 画像チップ
110 処理チップ
110a 変形部(歪応力を低減する構造)
120 マイクロバンプ
201 フォトダイオード(光電変換素子)
202〜205 トランジスタ(アナログ回路部)
210 AD変換回路部(デジタル回路部)
220 デジタル画像処理回路部(デジタル回路部)
310a 分割部(歪応力を低減する構造)
S1 第1の半導体基板
S2 第2の半導体基板
PD 受光部(受光面)
13 Image sensor 15 Bending control device (bending control mechanism)
100 Image chip 110 Processing chip 110a Deformed portion (structure for reducing strain stress)
120 Micro bump 201 Photodiode (photoelectric conversion element)
202 to 205 transistor (analog circuit part)
210 AD conversion circuit (digital circuit)
220 Digital image processing circuit (digital circuit)
310a Dividing part (structure for reducing strain stress)
S1 First semiconductor substrate S2 Second semiconductor substrate PD Light receiving portion (light receiving surface)

Claims (9)

複数の光電変換素子により構成される受光面を有する第1の半導体基板と、
前記第1の半導体基板から出力される信号にデジタル信号処理を施すデジタル回路部を有する第2の半導体基板と、
を備える撮像素子であって、
前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とは積層されて接続されており、前記撮像素子は湾曲させることが可能であり、湾曲させる際に生じる歪応力を低減する構造を有することを特徴とする、撮像素子。
A first semiconductor substrate having a light receiving surface composed of a plurality of photoelectric conversion elements;
A second semiconductor substrate having a digital circuit section for performing digital signal processing on a signal output from the first semiconductor substrate;
An imaging device comprising:
The first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate are stacked and connected, and the imaging element can be bent, and has a structure that reduces strain stress generated when the imaging element is bent. An imaging device as a feature.
前記第2の半導体基板は、前記歪応力を低減する構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の撮像素子。   The image sensor according to claim 1, wherein the second semiconductor substrate has a structure that reduces the strain stress. 前記歪応力を低減する構造は、溝状の形状が変形する変形部であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein the structure that reduces the strain stress is a deformed portion that deforms a groove shape. 前記変形部は、エッチング又はメカニカルスクライブにより形成されることを特徴とする、請求項3に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 3, wherein the deformable portion is formed by etching or mechanical scribing. 前記歪応力を低減する構造は、前記デジタル回路部が複数個に分割されることによって形成された分割部であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の撮像素子。   The image pickup device according to claim 1, wherein the structure for reducing the strain stress is a divided portion formed by dividing the digital circuit portion into a plurality of portions. 前記歪応力を低減する構造は、前記第2の半導体基板の長軸方向に少なくとも2つ、短軸方向に少なくとも1つ設けられていることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の撮像素子。   The structure for reducing the strain stress is provided with at least two in the major axis direction and at least one in the minor axis direction of the second semiconductor substrate. The imaging device according to item. 前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とは、マイクロバンプによって接続されていることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate are connected by a micro bump. 前記撮像素子を湾曲させる際の湾曲形状の曲率を制御する湾曲制御機構を備え、前記湾曲制御機構は、撮影光学系に応じて前記湾曲形状を変化させることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の撮像素子を備えた撮像装置。   8. A bending control mechanism that controls a curvature of a curved shape when the imaging element is bent, wherein the bending control mechanism changes the curved shape according to a photographing optical system. An imaging apparatus comprising the imaging device according to any one of the above. 前記湾曲制御機構は、吸引により前記湾曲形状を変化させることを特徴とする、請求項8に記載の撮像素子を備えた撮像装置。   The imaging apparatus including the imaging device according to claim 8, wherein the bending control mechanism changes the bending shape by suction.
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