JP2018098441A - Die bonder - Google Patents

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章仁 川合
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a die bonder which bonds a device such as an LED, an IC, a LSI or the like with efficiency to a substrate.SOLUTION: A die bonder is constructed at least by: substrate holding means having a holding surface regulated in a X-axial direction and a Y-axial direction holding a substrate 10 on which a device is bonded while laminating an LED layer through a peering layer 30 onto an upper surface of an epitaxy substrate 241; wafer holding means of holding an external periphery of a wafer 24 distributed on the surface through the peeling layer by the plurality of devices; facing surface means of facing the surface of the wafer onto the upper surface of the substrate; device positioning means of positioning the device disposed to the wafer to a predetermined position of the substrate; and laser irradiation means of breaking the peeling layer 30 of the device by irradiating a laser light beam LB from a back surface of the wafer and bonding to the predetermined position of the substrate.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、複数のデバイスを効率よく配線基板にボンディングするダイボンダーに関する。   The present invention relates to a die bonder for efficiently bonding a plurality of devices to a wiring board.

サファイア基板、SiC基板等のエピタキシー基板の上面にエピタキシャル成長によってバファー層、N型半導体層、発光層、及びP型半導体層からなるエピタキシャル層と、N型半導体層、及びP型半導体層に配設された電極と、によって構成された複数のLEDが分割予定ラインによって区画されて形成されたウエーハは、分割予定ラインがレーザー光線等によってエピタキシー基板と共に切断されて個々のLEDに生成される。そして、個々に分割された赤色LED、緑色LED、青色LEDは、モジュールチップ(基板)にボンディングするダイボンダーによってモジュールとして組み立てられ、例えば、モニター等に使用される(例えば、特許文献1を参照。)。   An epitaxial layer consisting of a buffer layer, an N-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a P-type semiconductor layer, and an N-type semiconductor layer and a P-type semiconductor layer are disposed on the upper surface of an epitaxial substrate such as a sapphire substrate or SiC substrate by epitaxial growth. In a wafer formed by dividing a plurality of LEDs composed of the electrodes and the planned division lines, the divided division lines are cut together with the epitaxy substrate by a laser beam or the like to be generated into individual LEDs. The individually divided red LED, green LED, and blue LED are assembled as a module by a die bonder bonded to a module chip (substrate) and used for, for example, a monitor (see, for example, Patent Document 1). .

IC、LSI等のデバイスも、ダイシングテープに貼られ個々のデバイスに分割されたウエーハから選択的にコレットによりピックアップされ、ダイボンダーによって配線基板にボンディングされる。   Devices such as IC and LSI are also selectively picked up by a collet from a wafer that is affixed to a dicing tape and divided into individual devices, and bonded to a wiring board by a die bonder.

特開平10−305420号公報JP-A-10-305420

上記したダイボンダーによってLEDをモジュールとして組み立てる場合、分割したLEDを一個一個モジュールチップにボンディングする等の手間が掛かり、近年LEDが小型化されていることから、生産性が悪化してきているという問題がある。   When assembling LEDs as modules by the above-described die bonder, it takes time and effort to bond the divided LEDs to the module chip one by one, and since LEDs have been downsized in recent years, there is a problem that productivity has deteriorated. .

また、IC、LSI等のデバイスの寸法も、一辺が100μm以下、50μm以下と徐々に小型化が進み、厚みも20μm以下と薄くなってきていることから、ダイシングテープに貼られ個々のデバイスに分割されたウエーハから、選択的にデバイスを突き上げコレットによりピックアップして配線基板にボンディングすることが極めて困難になってきているという問題がある。   In addition, the dimensions of devices such as IC and LSI are gradually reduced in size, with one side being 100 μm or less and 50 μm or less, and the thickness is becoming as thin as 20 μm or less. There is a problem that it has become extremely difficult to selectively push up a device from a wafer thus picked up and pick it up by a collet and bond it to a wiring board.

本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、小型化、薄化が進むLED、IC、LSI等のデバイスを効率よく基板側にボンディングするダイボンダーを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above facts, and a main technical problem thereof is to provide a die bonder for efficiently bonding devices such as LEDs, ICs, LSIs, and the like, which are becoming smaller and thinner, to the substrate side. .

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、デバイスを基板にボンディングするダイボンダーであって、デバイスがボンディングされる基板を保持するX軸方向、Y軸方向で規定される保持面を有する基板保持手段と、複数のデバイスが剥離層を介して表面に配設されたウエーハの外周を保持するウエーハ保持手段と、該ウエーハ保持手段が保持したウエーハの表面を該基板保持手段に保持された基板の上面に対面させる対面手段と、該基板保持手段と該ウエーハ保持手段とをX方向、Y方向に相対的に移動してウエーハに配設されたデバイスを基板の所定位置に位置付けるデバイス位置付け手段と、ウエーハの裏面からレーザー光線を照射して対応するデバイスの剥離層を破壊して基板の所定位置にデバイスをボンディングするレーザー照射手段と、から少なくとも構成されるダイボンダーが提供される。   In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, a die bonder for bonding a device to a substrate has a holding surface defined in the X-axis direction and the Y-axis direction for holding the substrate to which the device is bonded. A substrate holding means, a wafer holding means for holding the outer periphery of a wafer having a plurality of devices disposed on the surface via a release layer, and the wafer holding means holding the surface of the wafer held by the substrate holding means Face-to-face means for facing the upper surface of the substrate, and device positioning means for moving the substrate holding means and the wafer holding means relative to each other in the X and Y directions to position a device disposed on the wafer at a predetermined position on the substrate Then, irradiate a laser beam from the backside of the wafer to destroy the peeling layer of the corresponding device and bond the device to a predetermined position on the substrate And Za irradiating means, at least configured die bonder is provided from the.

該基板には、デバイスの電極に対峙する電極が配設され、基板側、又はデバイス側にボンド層が敷設されていて、該デバイスに対応して照射されたレーザー光線の衝撃波によってデバイスを基板の所定位置にボンディングすることが好ましく、該ボンド材としては、異方性導電体のボンド材を採用することができる。   The substrate is provided with an electrode facing the electrode of the device, and a bond layer is laid on the substrate side or the device side, and the device is mounted on the substrate by a shock wave of a laser beam irradiated corresponding to the device. Bonding at a position is preferable, and as the bonding material, a bonding material of an anisotropic conductor can be adopted.

該ウエーハ保持手段は、2つ以上配設され、2種類以上のデバイスが選択的に該基板に位置付けられるようにしてもよく、該レーザー光線照射手段は、パルスレーザー光線を発振するレーザー発振器と、該レーザー発振器が発振したレーザー光線を該ウエーハ保持手段に保持されたウエーハの剥離層に集光するfθレンズと、該レーザー発振器と該fθレンズとの間に配設され対応するデバイスにレーザー光線を位置付ける位置付けユニットと、から構成されるようにすることができる。   Two or more wafer holding means may be provided, and two or more types of devices may be selectively positioned on the substrate. The laser beam irradiation means includes a laser oscillator that oscillates a pulsed laser beam, and the laser. An fθ lens for condensing a laser beam oscillated by an oscillator onto a peeling layer of a wafer held by the wafer holding means; a positioning unit disposed between the laser oscillator and the fθ lens and positioning the laser beam on a corresponding device; , Can be made up of.

該位置付けユニットとしては、該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向AOD及びY方向に偏向するY方向AOD、又は、該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向レゾナントスキャナー及びY方向に偏向するY方向レゾナントスキャナー、又は該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向ガルバノスキャナー及びY方向に偏向するY方向ガルバノスキャナーと、から構成することができ、これらに加えて、ポリゴンミラーを更に備えるようにしもてよい。   The positioning unit includes an X direction AOD that deflects the laser beam oscillated by the laser oscillator in the X direction and a Y direction AOD that deflects the laser beam oscillated in the Y direction, or an X direction resonant that deflects the laser beam oscillated by the laser oscillator in the X direction. A Y direction resonant scanner that deflects in the Y direction, a X direction galvano scanner that deflects the laser beam generated by the laser oscillator in the X direction, and a Y direction galvano scanner that deflects in the Y direction. In addition, a polygon mirror may be further provided.

本発明のダイボンダーは、デバイスがボンディングされる基板を保持するX軸方向、Y軸方向で規定される保持面を有する基板保持手段と、複数のデバイスが剥離層を介して表面に配設されたウエーハの外周を保持するウエーハ保持手段と、該ウエーハ保持手段が保持したウエーハの表面を該基板保持手段に保持された基板の上面に対面させる対面手段と、該基板保持手段と該ウエーハ保持手段とをX方向、Y方向に相対的に移動してウエーハに配設されたデバイスを基板の所定位置に位置付けるデバイス位置付け手段と、ウエーハの裏面からレーザー光線を照射して対応するデバイスの剥離層を破壊して基板の所定位置にデバイスをボンディングするレーザー照射手段と、から少なくとも構成されていることにより、個々のデバイスに分割されたウエーハから選択的にデバイスを突き上げてコレットによりピックアップする必要がなくボンディングすることが可能になり、デバイスの寸法が小さくなっても効率よくボンディングすることが可能になり、従来のダイボンダーに比べ、生産性が格段に向上する。   In the die bonder of the present invention, a substrate holding means having a holding surface defined in the X-axis direction and the Y-axis direction for holding a substrate to which a device is bonded, and a plurality of devices are arranged on the surface via a release layer. Wafer holding means for holding the outer periphery of the wafer, facing means for causing the surface of the wafer held by the wafer holding means to face the upper surface of the substrate held by the substrate holding means, the substrate holding means and the wafer holding means, Is moved relative to the X direction and the Y direction to position the device disposed on the wafer at a predetermined position on the substrate, and a laser beam is irradiated from the back surface of the wafer to destroy the peeling layer of the corresponding device. And at least a laser irradiation means for bonding the device to a predetermined position on the substrate. It is possible to bond without the need to pick up the device selectively from the wafer and pick it up with a collet, making it possible to bond efficiently even if the size of the device is small, compared to the conventional die bonder, Productivity is greatly improved.

本発明に基づき構成されたダイボンダーの全体斜視図、及びLED基板保持手段を拡大して示す図である。It is a whole perspective view of the die bonder comprised based on this invention, and a figure which expands and shows a LED board holding means. 図1に示すダイボンダーに装着されるレーザー光線照射手段の説明をするためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the laser beam irradiation means with which the die bonder shown in FIG. 1 is mounted | worn. 本実施形態においてデバイスがボンディングされる基板が配設されるモジュール基板を示す図である。It is a figure which shows the module board | substrate with which the board | substrate with which a device is bonded in this embodiment is arrange | positioned. 本実施形態におけるデバイスが剥離層を介して配設されたウエーハを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the wafer by which the device in this embodiment was arrange | positioned through the peeling layer. 本実施形態の赤色LEDが配設されたLEDウエーハを保持するウエーハ保持手段の作用を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the effect | action of the wafer holding means to hold | maintain the LED wafer by which red LED of this embodiment was arrange | positioned. 本実施形態の緑色LEDが配設されたLEDウエーハを保持するウエーハ保持手段の作用を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the effect | action of the wafer holding means to hold | maintain the LED wafer by which green LED of this embodiment was arrange | positioned. 本実施形態の青色LEDが配設されたLEDウエーハを保持するウエーハ保持手段の作用を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the effect | action of the wafer holding means to hold | maintain the LED wafer by which blue LED of this embodiment was arrange | positioned. 本実施形態において、基板保持手段がウエーハ保持手段直下に位置付けされてレーザー光線が照射される状態を説明するための説明図である。In this embodiment, it is explanatory drawing for demonstrating the state in which a board | substrate holding means is positioned directly under a wafer holding means, and a laser beam is irradiated. 本実施形態において赤色LEDがボンディングされる工程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the process by which red LED is bonded in this embodiment. 本実施形態において緑色LEDがボンディングされる工程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the process in which green LED is bonded in this embodiment. 本実施形態において青色LEDがボンディングされる工程を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the process by which blue LED is bonded in this embodiment.

以下、本発明により構成されたダイボンダーの好適な実施形態について、添付図面を参照して、詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a die bonder configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1を参照しながら、本実施形態におけるダイボンダー40について説明する。図に示すダイボンダー40は、基台41と、デバイスがボンディングされる基板を保持する基板保持手段42と、基板保持手段42を移動させる移動手段43と、レーザー光線を照射するレーザー光線照射手段44と、基台41の上面から上方に延び、次いで実質上水平に延びる該レーザー光線照射手段44が内蔵された枠体45と、後述するコンピュータにより構成される制御手段と、を備え、該制御手段により各手段が制御されるように構成されている。また、水平に延びる該枠体45の先端部の下面には、レーザー光線照射手段44を構成するfθレンズを含む集光器44aと、該集光器44aに対して図中矢印Xで示す方向に並び隣接して配設された複数のデバイスウエーハを保持するウエーハ保持手段50と、被加工物の加工領域を撮像するための撮像手段48が配設されている。   The die bonder 40 in this embodiment is demonstrated referring FIG. The die bonder 40 shown in the figure includes a base 41, a substrate holding means 42 for holding a substrate to which a device is bonded, a moving means 43 for moving the substrate holding means 42, a laser beam irradiation means 44 for irradiating a laser beam, A frame 45 containing the laser beam irradiation means 44 extending upward from the upper surface of the table 41 and then extending substantially horizontally; and a control means constituted by a computer to be described later. It is configured to be controlled. Further, on the lower surface of the front end portion of the frame 45 extending horizontally, a condenser 44a including an fθ lens constituting the laser beam irradiation means 44, and a direction indicated by an arrow X in the figure with respect to the condenser 44a A wafer holding means 50 for holding a plurality of device wafers arranged adjacent to each other and an imaging means 48 for imaging a processing region of the workpiece are provided.

基板保持手段42は、図中に矢印Xで示すX方向において移動自在に基台41に搭載された矩形状のX方向可動板60と、図中に矢印Yで示すY方向において移動自在にX方向可動板60に搭載された矩形状のY方向可動板61と、Y方向可動板61の上面に固定された円筒状の支柱62と、支柱62の上端に固定された矩形状のカバー板63とを含む。カバー板63には該カバー板63上に形成された長穴を通って上方に延びる円形状の被加工物を保持する保持テーブル64が配設されている。被加工物は、この保持テーブル64の上面を構成する図示しない吸引手段に接続された吸着チャックによって吸引保持される。保持テーブル64の外周には、被加工物を、粘着テープを介して保持するフレームを把持して固定するクランプ65が配設されている。なお、本実施形態でいうX方向とは図1に矢印Xで示す方向であり、Y方向は図1に矢印Yで示す方向であってX方向に直交する方向である。X方向、Y方向で規定される平面は実質上水平である。   The substrate holding means 42 has a rectangular X-direction movable plate 60 mounted on the base 41 so as to be movable in the X direction indicated by an arrow X in the drawing, and a X-movable X in the Y direction indicated by an arrow Y in the drawing. A rectangular Y-direction movable plate 61 mounted on the directional movable plate 60, a cylindrical column 62 fixed to the upper surface of the Y-direction movable plate 61, and a rectangular cover plate 63 fixed to the upper end of the column 62. Including. The cover plate 63 is provided with a holding table 64 for holding a circular workpiece that extends upward through a long hole formed on the cover plate 63. The workpiece is sucked and held by a suction chuck connected to a suction means (not shown) constituting the upper surface of the holding table 64. On the outer periphery of the holding table 64, a clamp 65 for holding and fixing a frame for holding a workpiece via an adhesive tape is disposed. In the present embodiment, the X direction is a direction indicated by an arrow X in FIG. 1, and the Y direction is a direction indicated by an arrow Y in FIG. 1 and is a direction orthogonal to the X direction. The plane defined by the X direction and the Y direction is substantially horizontal.

本発明のデバイス位置付け手段として機能する移動手段43は、X方向移動手段80と、Y方向移動手段82と、を含む。X方向移動手段80は、モータの回転運動を直線運動に変換してX方向可動板60に伝達し、基台41上の案内レールに沿ってX方向可動板60をX方向において進退させる。Y方向移動手段82は、モータの回転運動を直線運動に変換し、Y方向可動板61に伝達し、X方向可動板60上の案内レールに沿ってY方向可動板61をY方向において進退させる。なお、図示は省略するが、X方向移動手段80、Y方向移動手段82には、それぞれ位置検出手段が配設されており、保持テーブル64のX方向の位置、Y方向の位置、周方向の回転位置が正確に検出され、後述する制御手段から指示される信号に基づいてX方向移動手段80、Y方向移動手段82が駆動され、任意の位置および角度に上記保持テーブルを正確に位置付けることが可能になっている。   The moving means 43 functioning as the device positioning means of the present invention includes an X direction moving means 80 and a Y direction moving means 82. The X direction moving means 80 converts the rotational motion of the motor into a linear motion and transmits it to the X direction movable plate 60, and moves the X direction movable plate 60 forward and backward along the guide rail on the base 41. The Y-direction moving means 82 converts the rotational motion of the motor into a linear motion, transmits it to the Y-direction movable plate 61, and advances and retracts the Y-direction movable plate 61 in the Y direction along the guide rail on the X-direction movable plate 60. . Although not shown, the X direction moving means 80 and the Y direction moving means 82 are respectively provided with position detecting means, and the holding table 64 is positioned in the X direction, the Y direction, and the circumferential direction. The rotational position is accurately detected, and the X-direction moving means 80 and the Y-direction moving means 82 are driven based on a signal instructed by the control means described later, so that the holding table can be accurately positioned at an arbitrary position and angle. It is possible.

該撮像手段48は、顕微鏡を構成する光学系と撮像素子(CCD)を備えており、撮像した画像信号を該制御手段に送り、図示しない表示手段に表示することが可能に構成されている。なお、制御手段は、コンピュータにより構成され、制御プログラムに従って演算処理する中央演算処理装置(CPU)と、制御プログラム等を格納するリードオンリメモリ(ROM)と、検出した検出値、演算結果等を一時的に格納するための読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)と、入力インターフェース、及び出力インターフェースとを備えている(詳細についての図示は省略する。)。   The image pickup means 48 includes an optical system and an image pickup device (CCD) constituting a microscope, and is configured to send a picked up image signal to the control means and display it on a display means (not shown). The control means is composed of a computer, and a central processing unit (CPU) that performs arithmetic processing according to the control program, a read only memory (ROM) that stores the control program, etc., and the detected detection values, arithmetic results, etc. are temporarily stored. A random access memory (RAM) that can be read and written, an input interface, and an output interface (details are omitted).

図2に基づいて、集光器44aからレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段44について説明する。レーザー光線照射手段44は、例えば図2(a)に示すように、レーザー光線LBを発振するレーザー発振器44bと、レーザー発振器44bから発振されたレーザー光線LBの透過率を変化させ出力を調整するアッテネータ44cと、レーザー光線LBの光軸の角度を保持テーブル64の所定の位置に位置付ける作用を奏する位置付けユニット44dを備えている、本実施形態における該位置付けユニット44dは、光軸をX方向において偏向する音響光学素子(以下、「X方向AOD」という。)44d1と、該X方向AOD44d1と同様の構成により、該光軸をY方向において偏向する音響光学素子(以下、「Y方向AOD」という。)44d2と、を含み、X方向AOD44d1、Y方向AOD44d2の作用により偏向された該光軸を保持テーブル64に向けて反射する反射ミラー44fと、反射ミラー44fにより反射されたレーザー光線LB1〜LB2を後述する被加工物に対して集光する集光器44aと、を備えている。   Based on FIG. 2, the laser beam irradiation means 44 which irradiates a laser beam from the collector 44a is demonstrated. For example, as shown in FIG. 2A, the laser beam irradiation means 44 includes a laser oscillator 44b that oscillates the laser beam LB, an attenuator 44c that changes the transmittance of the laser beam LB oscillated from the laser oscillator 44b, and adjusts the output. The positioning unit 44d in the present embodiment is provided with a positioning unit 44d that functions to position the angle of the optical axis of the laser beam LB at a predetermined position of the holding table 64. The positioning unit 44d in this embodiment deflects the optical axis in the X direction ( (Hereinafter referred to as “X direction AOD”) 44d1 and an acoustooptic device (hereinafter referred to as “Y direction AOD”) 44d2 that deflects the optical axis in the Y direction with the same configuration as the X direction AOD44d1. And deflected by the action of the X direction AOD44d1 and the Y direction AOD44d2. A reflection mirror 44f for reflecting axis holding table 64 includes a condenser 44a for condensing the to the workpiece to be described later laser LB1~LB2 reflected by the reflecting mirror 44f.

集光器44aは、fθレンズ44gを含み、該集光器44aから照射されるレーザー光線の照射位置は、上述した位置付けユニット44dを構成するX方向AOD44d1、Y方向AOD44d2によってLB1〜LB2の範囲で制御され、fθレンズ44gの所望の位置に照射可能に構成されている。該X方向AOD44d1、Y方向AOD44d2を適宜制御することにより、集光器44aの直下に位置付けられるウエーハ保持リング52、53、54に保持されるウエーハの所望の位置にレーザー光線LB1〜LB2を位置付けて照射することが可能に構成されており、図2が記載される紙面に垂直なY方向、紙面の左右方向を示すX方向にその照射位置を制御することが可能になっている。なお、fθレンズ44gの所望の位置に該レーザー光線を照射する位置付けユニット44dは、上述したX方向AOD44d1、Y方向AOD44d2から構成されるものに限定されず、レーザー光線の照射方向を偏向できる手段であれば、他の手段、例えば、X方向レゾナントスキャナー、Y方向レゾナントスキャナー、X方向ガルバノスキャナー、Y方向ガルバノスキャナー等を用いてもよい。さらに、レーザー光線照射手段44は、上記した構成のみを備えるものに限定されない。例えば、図2(b)に示すように、X方向AOD44d1、Y方向AOD44d2に加え、矢印44iで示す方向に回転するように構成されたポリゴンミラー44hを備えるようにしてもよい。該ポリゴンミラー44hは、レーザー発振器44bから発振されるパルスレーザー光線の周波数に合わせてポリゴンモータ(図示しない)によって駆動され高速回転されてレーザー光線LBの照射方向を高速に変化させる(2点鎖線で示す44h´を参照。)。これにより、ウエーハ保持リング52、53、54に保持されるウエーハの複数の所望の位置に対して高速にレーザー光線を照射することができる。   The condenser 44a includes an fθ lens 44g, and the irradiation position of the laser beam emitted from the condenser 44a is controlled in the range of LB1 to LB2 by the X direction AOD 44d1 and the Y direction AOD 44d2 constituting the positioning unit 44d described above. In addition, a desired position of the fθ lens 44g can be irradiated. By appropriately controlling the X direction AOD 44d1 and the Y direction AOD 44d2, the laser beams LB1 and LB2 are positioned and irradiated at desired positions of the wafers held by the wafer holding rings 52, 53, and 54 located immediately below the condenser 44a. The irradiation position can be controlled in the Y direction perpendicular to the paper surface illustrated in FIG. 2 and the X direction indicating the left-right direction of the paper surface. Note that the positioning unit 44d that irradiates the laser beam to a desired position of the fθ lens 44g is not limited to the above-described X direction AOD44d1 and Y direction AOD44d2, and any means that can deflect the laser beam irradiation direction. Other means such as an X direction resonant scanner, a Y direction resonant scanner, an X direction galvano scanner, a Y direction galvano scanner, and the like may be used. Further, the laser beam irradiation means 44 is not limited to the one having only the above-described configuration. For example, as shown in FIG. 2B, in addition to the X direction AOD 44d1 and the Y direction AOD 44d2, a polygon mirror 44h configured to rotate in the direction indicated by the arrow 44i may be provided. The polygon mirror 44h is driven by a polygon motor (not shown) in accordance with the frequency of the pulse laser beam oscillated from the laser oscillator 44b and is rotated at a high speed to change the irradiation direction of the laser beam LB at a high speed (44h indicated by a two-dot chain line). (See ´.) Thereby, a laser beam can be irradiated at high speed to a plurality of desired positions of the wafer held by the wafer holding rings 52, 53, and 54.

図1に戻り説明を続けると、図中に拡大して示すように、本実施形態のウエーハ保持手段50は、デバイスが形成される3種類のウエーハを保持することが可能なウエーハ保持リング52、53、54と、ウエーハ保持リング52、53、54を支持する保持アーム52d、53d、54d(54dについては、図7を参照。)と、該保持アーム52d、53d、54dを支持するために該枠体45の先端部の下面に配設された保持基体56を備えている。保持基体56は、例えば略三角柱形状をなし、該保持基体56の3つの側壁面には、それぞれ、上下方向に開口する開口孔56a、56b、56cが形成され(56cについては図7を参照。)、保持アーム52d、53d、54dは、開口孔56a、56b、56cを介して保持基体56に内蔵された駆動手段(図示は省略する。)に連結されている。さらに、保持基体56は、図示しない駆動手段により矢印56dで示す方向に回転可能に構成されており、ウエーハ保持リング52、53、54を保持テーブル64上に保持されるウエーハの直上位置に対して選択的に位置付けることが可能になっている。   Returning to FIG. 1 and continuing the explanation, as shown in an enlarged view in the drawing, the wafer holding means 50 of the present embodiment includes a wafer holding ring 52 capable of holding three types of wafers on which devices are formed, 53, 54, holding arms 52d, 53d, 54d for supporting the wafer holding rings 52, 53, 54 (see FIG. 7 for 54d), and for supporting the holding arms 52d, 53d, 54d A holding base 56 is provided on the lower surface of the front end of the frame 45. The holding base 56 has, for example, a substantially triangular prism shape, and three side wall surfaces of the holding base 56 are respectively formed with opening holes 56a, 56b, and 56c that open in the vertical direction (see FIG. 7 for 56c). ), The holding arms 52d, 53d, and 54d are connected to driving means (not shown) built in the holding base 56 through the opening holes 56a, 56b, and 56c. Further, the holding base 56 is configured to be rotatable in a direction indicated by an arrow 56d by a driving means (not shown), and the wafer holding rings 52, 53, 54 are positioned with respect to the position immediately above the wafer held on the holding table 64. It can be selectively positioned.

ウエーハ保持リング52、53、54は、それぞれが保持するウエーハの寸法に合わせて形成された上下方向に貫通する開口部58を有しており、ウエーハが載置される環状の段差部52a、53a、54aがウエーハ保持リング52、53、54の内側に沿って配設されている。段差部52a、53a、54aの上面には、載置されるウエーハを吸引保持するための吸引孔52b、53b、54bが周方向に所定の間隔をおいて複数配設されており、図示しない吸引手段に接続されることにより、該段差部52a、53a、54a上に載置されるウエーハを吸引保持することが可能になっている。ウエーハ保持リング52、53、54の開口部58には、直線部52c、53c、54cが形成されており、ウエーハのオリエンテーションフラットを対向させて位置付けて載置することで、ウエーハ保持リング52、53、54に保持されるウエーハの方向を正確に規定することが可能である。なお、吸引孔52b、53b、54bと該吸引手段とは、ウエーハ保持リング52、53、54、及び保持アーム52d、53d、54dに沿って形成された吸引通路を介して連結される。   Each of the wafer holding rings 52, 53, and 54 has an opening 58 that penetrates in the vertical direction and is formed in accordance with the dimensions of the wafer held by each of the wafer holding rings 52, 53, and 54, and annular step portions 52a, 53a on which the wafer is placed. , 54a are arranged along the inside of the wafer holding rings 52, 53, 54. A plurality of suction holes 52b, 53b, and 54b for sucking and holding the wafer to be placed are provided at predetermined intervals in the circumferential direction on the upper surfaces of the stepped portions 52a, 53a, and 54a. By being connected to the means, the wafer placed on the step portions 52a, 53a, 54a can be sucked and held. Linear portions 52c, 53c, and 54c are formed in the opening portions 58 of the wafer holding rings 52, 53, and 54, and the wafer holding rings 52, 53 are placed by placing the wafer orientation flats facing each other. , 54 can accurately define the direction of the wafer. The suction holes 52b, 53b, 54b and the suction means are connected to each other through suction passages formed along the wafer holding rings 52, 53, 54 and the holding arms 52d, 53d, 54d.

ウエーハを保持するウエーハ保持リング52、53、54は、保持基体56内部に配設された保持アーム52d、53d、54dを支持する該駆動手段により、矢印pで示す方向に回転させることが可能になっており、ウエーハ保持リング52、53、54に保持されるデバイスウエーハの表面、裏面のいずれをも上方、又は下方に向けることができる。さらに、ウエーハ保持リング52、53、54は、該制御手段の指令により、矢印qで示す上下方向に移動させることが可能に構成され、所望の高さ位置に正確に位置付けることが可能になっている。   The wafer holding rings 52, 53, 54 for holding the wafer can be rotated in the direction indicated by the arrow p by the driving means for supporting the holding arms 52d, 53d, 54d disposed in the holding base 56. Thus, both the front and back surfaces of the device wafer held by the wafer holding rings 52, 53, and 54 can be directed upward or downward. Further, the wafer holding rings 52, 53, 54 can be moved in the vertical direction indicated by the arrow q in accordance with a command from the control means, and can be accurately positioned at a desired height position. Yes.

本実施形態におけるダイボンダー40は、概ね以上のような構成を有しており、本実施形態においてボンディングされるデバイスが赤色LED、緑色LED、青色LEDであり、該赤色LED、緑色LED、青色LEDが形成されたウエーハがLEDウエーハであって、該赤色LED、緑色LED、青色LEDがボンディングされる基板が3色のLEDを構成するモジュールチップであり、該モジュールチップが複数形成された基板がモジュール基板である場合を例にとって、その作用について説明する。   The die bonder 40 in this embodiment generally has the above-described configuration, and the devices bonded in this embodiment are a red LED, a green LED, and a blue LED, and the red LED, the green LED, and the blue LED are The formed wafer is an LED wafer, and the substrate to which the red LED, the green LED, and the blue LED are bonded is a module chip constituting a three-color LED, and a substrate on which a plurality of the module chips are formed is a module substrate The operation will be described by taking the case of the above as an example.

図3(a)に示すように、モジュール基板10は、略円板形状をなし、裏面10b側を粘着テープTに貼着し、粘着テープTを介して環状のフレームFに保持される(図3(b)を参照。)。モジュール基板10は、直径4インチ≒100mmで形成され、分割予定ラインによって格子状に区画された表面10a側の各領域に、LEDがボンディングされる基板、すなわち、モジュールチップ12が形成されている。   As shown in FIG. 3A, the module substrate 10 has a substantially disk shape, the back surface 10b side is attached to the adhesive tape T, and is held by the annular frame F via the adhesive tape T (see FIG. 3A). (See 3 (b).) The module substrate 10 is formed with a diameter of 4 inches≈100 mm, and a substrate to which an LED is bonded, that is, a module chip 12 is formed in each region on the surface 10a side partitioned in a grid pattern by division lines.

各モジュールチップ12は、図中にモジュール基板10の一部を拡大して示すように、赤色LEDがボンディングされる矩形状の開口を有する凹部からなる収容領域121と、緑色LEDがボンディングされる矩形状の開口を有する凹部からなる収容領域122と、青色LEDがボンディングされる矩形状の開口部を有する凹部からなる収容領域123とを少なくとも備え、各収容領域121〜123の各底部には、LEDを収容した際に各LEDの電極(アノード電極、カソード電極)が対峙する電極、すなわちバンプ124が2ずつ配設されている。   Each module chip 12 includes a housing region 121 formed of a concave portion having a rectangular opening to which a red LED is bonded and a rectangular to which a green LED is bonded, as shown in an enlarged view of a part of the module substrate 10 in the drawing. At least a housing region 122 made of a recess having a shape opening and a housing region 123 made of a recess having a rectangular opening to which a blue LED is bonded, and each bottom of each housing region 121 to 123 has an LED Two electrodes, i.e., bumps 124, which are opposed to the electrodes (anode electrode, cathode electrode) of each LED when the LED is housed are disposed.

モジュールチップ12の各収容領域121〜123に長手方向で隣接する上面には、各収容領域121〜123に配設された該バンプ124、124と導通する電極125が6つ設けられており、該電極125からバンプ124、124を介して各収容領域121〜123に収容されるLEDに電力が供給される構造となっている。該モジュールチップ12の外径寸法は、平面視で長手方向に40μm、短手方向に10μm程度の大きさで形成され、各収容領域の開口は、1辺が9μmの正方形で形成される。なお、図3のモジュール基板10上に表現されているモジュールチップ12は、説明の都合上、実寸法よりも大きく記載されており、実際は図示されているモジュールチップ12よりも極めて小さく、より多くのモジュールチップ12がモジュール基板10上に形成される。   Six electrodes 125 are provided on the upper surface of the module chip 12 adjacent to the receiving areas 121 to 123 in the longitudinal direction. The electrodes 125 are electrically connected to the bumps 124 and 124 provided in the receiving areas 121 to 123. Electric power is supplied from the electrode 125 to the LEDs housed in the housing regions 121 to 123 via the bumps 124 and 124. The module chip 12 has an outer diameter of about 40 μm in the longitudinal direction and about 10 μm in the lateral direction in plan view, and the opening of each housing region is formed in a square shape with a side of 9 μm. Note that the module chip 12 represented on the module substrate 10 in FIG. 3 is shown larger than the actual size for the convenience of explanation, and is actually much smaller than the module chip 12 shown in FIG. A module chip 12 is formed on the module substrate 10.

図4(a)〜(c)には、上述したモジュールチップ12にボンディングされるデバイスとしての赤色LED21が形成されたLEDウエーハ20、緑色LED23が形成されたLEDウエーハ22、青色LED25が形成されたLEDウエーハ24と、それぞれの一部拡大断面図A−A、B−B、C−Cが示されている。各LEDウエーハ20、22、24は図に示すように、略円板状をなし、モジュール基板10と略同一の寸法(直径4インチ≒100mm)で構成されている。各LEDウエーハ20、22、24は、いずれもサファイア基板、又はSiC基板等のエピタキシー基板201、221、241の上面に、Ga化合物(例えば、窒化ガリウム:GaN)からなる剥離層30を介して赤色に発光をするLED21、緑色に発光をするLED23、青色に発光するLED25(以下、LED21を赤色LED21、LED23を緑色LED23、LED25を青色LED25という。)を構成するLED層が形成されている。該赤色LED21、緑色LED23、青色LED25は、個々の寸法が平面視で8μm×8μmの寸法で形成され、N型半導体層、発光層、P型半導体層からなるエピタキシャル層と、該エピタキシャル層の上面に配設されるP型半導体、N型半導体からなる電極とによって構成される(図示は省略する。)。各LEDウエーハ20、22、24においては隣接するLEDが、所定の間隔202、222、242をもって区画されて形成されており、各LED間を構成する所定の間隔202、222、242が形成されている領域は、該LED層を形成する際にマスクされていることから剥離層30が露出している状態となっている。上述したように、該赤色LED21、緑色LED23、青色LED25は、個々の寸法が平面視で1辺が8μmの正方形状で形成されていることにより、1辺が9μmの正方形状に形成されたモジュールチップ12の各収容領域121〜123に収容されることが可能になっている。   4A to 4C, an LED wafer 20 having a red LED 21 as a device bonded to the module chip 12 described above, an LED wafer 22 having a green LED 23, and a blue LED 25 are formed. The LED wafer 24 and partially enlarged sectional views AA, BB, and CC are shown. As shown in the drawing, each of the LED wafers 20, 22, and 24 has a substantially disk shape, and is configured with substantially the same dimensions as the module substrate 10 (diameter 4 inches≈100 mm). Each LED wafer 20, 22, 24 is red on the upper surface of an epitaxy substrate 201, 221, 241 such as a sapphire substrate or SiC substrate via a release layer 30 made of a Ga compound (for example, gallium nitride: GaN). The LED layer which comprises LED21 which emits light, LED23 which emits green light, LED25 which emits blue light (Hereinafter, LED21 is called red LED21, LED23 is green LED23, and LED25 is blue LED25.) Is formed. The red LED 21, green LED 23, and blue LED 25 are each formed with a size of 8 μm × 8 μm in plan view, an epitaxial layer composed of an N-type semiconductor layer, a light-emitting layer, and a P-type semiconductor layer, and an upper surface of the epitaxial layer And an electrode made of a P-type semiconductor and an N-type semiconductor (not shown). In each LED wafer 20, 22, 24, adjacent LEDs are divided and formed with predetermined intervals 202, 222, 242, and predetermined intervals 202, 222, 242 constituting the respective LEDs are formed. Since the masked area is masked when the LED layer is formed, the release layer 30 is exposed. As described above, the red LED 21, the green LED 23, and the blue LED 25 are modules each having a square shape with a side of 9 μm because each dimension is formed in a square shape with a side of 8 μm in plan view. It is possible to be accommodated in the accommodating areas 121 to 123 of the chip 12.

各LEDウエーハ20、22、24の外周には、結晶方位を示す直線部分、所謂オリエンテーションフラットOFが形成されており、LEDウエーハ20、22、24の上面に形成される赤色LED21、緑色LED23、青色LED25は、該結晶方位を基準にして所定の方向に配列される。赤色LED21、緑色LED23、青色LED25における赤色、緑色、青色の発光は、発光層を構成する材料を変更することにより得ることが知られており、例えば、赤色LED21はアルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、緑色LED23はリン化ガリウム(GaP)、青色LED25は窒化ガリウム(GaN)が使用される。なお、本発明の赤色LED21、緑色LED23、青色LED25を形成する材料はこれに限定されず、各色を発光させるための公知の材料を採用することができ、他の材料を用いて各色を発光させることも可能である。また、本実施形態では、図4(b)、(c)に示すように、緑色LED23、青色LED25を表面に備えたLEDウエーハ22、24は、後述するLED収容工程の際に、緑色LED23、青色LED25が、先にモジュールチップ12に収容されるLEDと重ならないように間隔222、242を開けてLEDウエーハ22、24の表面に形成される。この点については、おって詳述する。   On the outer periphery of each of the LED wafers 20, 22, 24, a linear portion indicating a crystal orientation, a so-called orientation flat OF is formed. A red LED 21, a green LED 23, and a blue LED formed on the upper surfaces of the LED wafers 20, 22, 24 are formed. The LEDs 25 are arranged in a predetermined direction with reference to the crystal orientation. It is known that red, green, and blue light emission in the red LED 21, green LED 23, and blue LED 25 is obtained by changing the material constituting the light emitting layer. For example, the red LED 21 is made of aluminum gallium arsenide (AlGaAs), green The LED 23 uses gallium phosphide (GaP), and the blue LED 25 uses gallium nitride (GaN). In addition, the material which forms red LED21 of this invention, green LED23, and blue LED25 is not limited to this, The well-known material for light-emitting each color can be employ | adopted, and each color is light-emitted using another material. It is also possible. In the present embodiment, as shown in FIGS. 4B and 4C, the LED wafers 22 and 24 having the green LED 23 and the blue LED 25 on the surface thereof are formed by the green LED 23, The blue LEDs 25 are formed on the surfaces of the LED wafers 22 and 24 at intervals 222 and 242 so that they do not overlap with the LEDs previously accommodated in the module chip 12. This point will be described in detail later.

図1、5〜11に基づいて、赤色LED21、緑色LED23、青色LED25をモジュール基板10に形成されたモジュールチップ12にボンディングする工程について説明する。上述したLEDウエーハ20、22、24と、モジュール基板10を準備したならば、該LEDウエーハ20、22、24の赤色LED21、緑色LED23、青色LED25を該モジュールチップ12の所定の収容領域121〜123に位置付ける位置付け工程と、各LEDを該エピタキシー基板201、221、241から剥離して該モジュールチップの赤、緑、青のLEDが収容される所定の収容領域121〜123に各LEDを収容しボンディングするLED収容工程を実施する。   A process of bonding the red LED 21, the green LED 23, and the blue LED 25 to the module chip 12 formed on the module substrate 10 will be described with reference to FIGS. If the LED wafers 20, 22, 24 and the module substrate 10 described above are prepared, the red LED 21, the green LED 23, and the blue LED 25 of the LED wafers 20, 22, 24 are stored in predetermined receiving areas 121 to 123 of the module chip 12. A positioning step of positioning each LED in the predetermined receiving area 121-123 in which each LED is peeled off from the epitaxy substrates 201, 221, 241 and the red, green, and blue LEDs of the module chip are stored. An LED housing step is performed.

先ず、図1に示すダイボンダー40における基板保持手段42に配設された保持テーブル64を、移動手段43を作動することにより、図中手前側の基板搭載領域に移動させた状態とする。保持テーブル64を図1で示す位置に移動させたならば、保持テーブル64の上面に、粘着テープTを介してフレームFにより保持されたモジュール基板10の表面10aを上方に、裏面10b側を下方にして載置し、図示しない吸引手段を作動させて、保持テーブル64上に吸引保持すると共に、モジュール基板10の該フレームFを保持テーブル64の外周に配設されたクランプ機構65により固定したならば、保持テーブル64上に吸引保持したモジュール基板10を、上記した撮像手段48を用いて撮像し、レーザー光線照射手段44の集光器44aと、モジュール基板10の位置との位置合わせを行うアライメントを実行する。   First, the holding table 64 disposed on the substrate holding means 42 in the die bonder 40 shown in FIG. 1 is moved to the front substrate mounting region in the figure by operating the moving means 43. If the holding table 64 is moved to the position shown in FIG. 1, the front surface 10a of the module substrate 10 held by the frame F via the adhesive tape T is placed on the upper surface of the holding table 64, and the back surface 10b side is lowered. Then, the suction means (not shown) is operated and sucked and held on the holding table 64, and the frame F of the module substrate 10 is fixed by the clamp mechanism 65 disposed on the outer periphery of the holding table 64. For example, the module substrate 10 sucked and held on the holding table 64 is imaged by using the imaging unit 48 described above, and alignment is performed to align the condenser 44a of the laser beam irradiation unit 44 with the position of the module substrate 10. Run.

該アライメントを実行して両者の位置合わせが完了したならば、図示しない制御手段の指令によりウエーハ保持リング52、53、54の位置を下方に下げる。ウエーハ保持リング52が図1に示す状態に位置付けられたならば、図5(a)に示すように、赤色LED21が形成されたLEDウエーハ20をウエーハ保持リング52の段差部52aに載置する。なお、上述したように、LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に保持する際には、LEDウエーハ20のオリエンテーションフラットOFをウエーハ保持リング52の直線部52cに位置付け、赤色LED21が形成された表面20aを上方に向けて載置することによりウエーハ保持リング52に対して所望の方向に正確に位置付けられる(図5(b)を参照。)。   When the alignment is completed by performing the alignment, the positions of the wafer holding rings 52, 53, and 54 are lowered downward by a command from a control means (not shown). When the wafer holding ring 52 is positioned in the state shown in FIG. 1, the LED wafer 20 on which the red LED 21 is formed is placed on the stepped portion 52 a of the wafer holding ring 52 as shown in FIG. As described above, when the LED wafer 20 is held on the wafer holding ring 52, the orientation flat OF of the LED wafer 20 is positioned on the straight portion 52c of the wafer holding ring 52, and the surface 20a on which the red LED 21 is formed is formed. By being placed upward, the wafer is accurately positioned in a desired direction with respect to the wafer holding ring 52 (see FIG. 5B).

該段差部52aにLEDウエーハ20を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔52bから吸引しLEDウエーハ20を吸引保持状態とする。LEDウエーハ20をウエーハ保持リング52に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング52を図5(c)に示すように図中矢印pの方向に180°回転させてLEDウエーハ20の裏面20b側を上方に露出させ、赤色LED21が形成された表面20aが下方を向くように方向を転換する。これでLEDウエーハ20の保持が完了する。   When the LED wafer 20 is placed on the stepped portion 52a, a suction means (not shown) is operated to suck the LED wafer 20 from the suction hole 52b and bring the LED wafer 20 into a suction holding state. If the LED wafer 20 is sucked and held by the wafer holding ring 52, the driving means of the holding base 56 is operated to rotate the wafer holding ring 52 by 180 ° in the direction of the arrow p in the figure as shown in FIG. Then, the back surface 20b side of the LED wafer 20 is exposed upward, and the direction is changed so that the front surface 20a on which the red LED 21 is formed faces downward. This completes the holding of the LED wafer 20.

LEDウエーハ20の保持が完了したならば、保持基体56を図1に矢印56dで示す方向に120°回転させて、ウエーハ保持リング53を図1に示す保持リング52があった位置に移動させる。ウエーハ保持リング53をこのように移動させたならば、上述したLEDウエーハ20と同じように、図6(a)に示す如く緑色LED23が形成されたLEDウエーハ22をウエーハ保持リング53の段差部53aに載置する。この際、LEDウエーハ20と同様に、LEDウエーハ22をウエーハ保持リング53に保持する際には、LEDウエーハ22のオリエンテーションフラットOFをウエーハ保持リング53の直線部53cに位置付け、緑色LED23が形成された表面22aを上方に向けて載置してウエーハ保持リング53に対して所望の方向に正確に位置付ける(図6(b)を参照。)。   When the holding of the LED wafer 20 is completed, the holding base 56 is rotated by 120 ° in the direction indicated by the arrow 56d in FIG. 1, and the wafer holding ring 53 is moved to the position where the holding ring 52 shown in FIG. If the wafer holding ring 53 is moved in this way, the stepped portion 53a of the wafer holding ring 53 is replaced with the LED wafer 22 on which the green LED 23 is formed as shown in FIG. Placed on. At this time, similarly to the LED wafer 20, when the LED wafer 22 is held on the wafer holding ring 53, the orientation flat OF of the LED wafer 22 is positioned on the straight portion 53 c of the wafer holding ring 53, and the green LED 23 is formed. The front surface 22a is placed facing upward, and is accurately positioned in a desired direction with respect to the wafer holding ring 53 (see FIG. 6B).

該段差部53aにLEDウエーハ22を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔53bから吸引しLEDウエーハ22を吸引保持状態とする。LEDウエーハ22をウエーハ保持リング53に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング53を上述した図5(c)に示したのと同様に図中矢印pの方向に180°回転させて緑色LED23が形成された表面22aが下方を向くように方向を転換する。これでLEDウエーハ22の保持が完了する。   When the LED wafer 22 is placed on the stepped portion 53a, a suction means (not shown) is operated to suck the LED wafer 22 from the suction hole 53b and bring the LED wafer 22 into a suction holding state. If the LED wafer 22 is sucked and held by the wafer holding ring 53, the driving means of the holding base 56 is operated to move the wafer holding ring 53 in the direction of the arrow p in the figure in the same manner as shown in FIG. , And the direction is changed so that the surface 22a on which the green LED 23 is formed faces downward. This completes the holding of the LED wafer 22.

LEDウエーハ22の保持が完了したならば、保持基体56を図1に矢印56dで示す方向にさらに120°回転させて、ウエーハ保持リング54をウエーハ保持リング53があった位置に移動させる。ウエーハ保持リング54を移動させたならば、上述したLEDウエーハ20、22と同じように、青色LED25が形成されたLEDウエーハ24をウエーハ保持リング54の段差部54aに載置する。LEDウエーハ20、22と同様に、LEDウエーハ24をウエーハ保持リング54に保持する際には、LEDウエーハ24のオリエンテーションフラットOFをウエーハ保持リング54の直線部54cに位置付け、青色LED25が形成された表面24aを上方に向けて載置してウエーハ保持リング54に対して所望の方向に正確に位置付ける(図7(b)を参照。)。   When the holding of the LED wafer 22 is completed, the holding base 56 is further rotated by 120 ° in the direction indicated by the arrow 56d in FIG. 1, and the wafer holding ring 54 is moved to the position where the wafer holding ring 53 was located. When the wafer holding ring 54 is moved, the LED wafer 24 on which the blue LED 25 is formed is placed on the stepped portion 54 a of the wafer holding ring 54 in the same manner as the LED wafers 20 and 22 described above. Similar to the LED wafers 20 and 22, when the LED wafer 24 is held on the wafer holding ring 54, the orientation flat OF of the LED wafer 24 is positioned on the straight portion 54c of the wafer holding ring 54, and the surface on which the blue LED 25 is formed. 24a is placed facing upward and positioned accurately in a desired direction with respect to the wafer holding ring 54 (see FIG. 7B).

該段差部54aにLEDウエーハ24を載置したならば、図示しない吸引手段を作動させて吸引孔54bから吸引しLEDウエーハ24を吸引保持状態とする。LEDウエーハ24をウエーハ保持リング54に吸引保持したならば、保持基体56の駆動手段を作動させてウエーハ保持リング54を上述した図5(c)に示したのと同様に、図中矢印pの方向に180°回転させて青色LED25が形成された表面24aが下方を向くように方向を転換する。これでLEDウエーハ24の保持が完了する。   When the LED wafer 24 is placed on the stepped portion 54a, a suction means (not shown) is operated to suck the LED wafer 24 from the suction hole 54b and bring the LED wafer 24 into a suction holding state. When the LED wafer 24 is sucked and held by the wafer holding ring 54, the driving means of the holding base 56 is operated to cause the wafer holding ring 54 to be indicated by the arrow p in the figure, as shown in FIG. The direction is changed so that the surface 24a on which the blue LED 25 is formed is turned downward by rotating 180 ° in the direction. This completes the holding of the LED wafer 24.

以上のようにしてウエーハ保持リング52、53、54にLEDウエーハ20、22、24を保持したならば、後述するボンディング工程に備えてLEDウエーハ20を吸引保持しているウエーハ保持リング52を図1に示す位置に移動させておく。なお、上述した実施形態では、LEDウエーハ20、22、24をウエーハ保持リング52、53、54に載置する毎に裏面側を上方に向けるべくその都度矢印pの方向に回転させていたが、これに限定されず、例えば、該3枚のLEDウエーハ20、22、24をウエーハ保持リング52、53、54に載置した後、該ウエーハ保持リング52、53、54を矢印p方向に同時に回転させるようにしてもよい。   When the LED wafers 20, 22, and 24 are held on the wafer holding rings 52, 53, and 54 as described above, the wafer holding ring 52 that sucks and holds the LED wafer 20 in preparation for the bonding process described later is shown in FIG. Move to the position shown in. In the above-described embodiment, each time the LED wafers 20, 22, and 24 are placed on the wafer holding rings 52, 53, and 54, the back surface is rotated in the direction of the arrow p each time to turn upward. For example, after the three LED wafers 20, 22, and 24 are placed on the wafer holding rings 52, 53, and 54, the wafer holding rings 52, 53, and 54 are simultaneously rotated in the direction of the arrow p. You may make it make it.

上述したように、ウエーハ保持リング52、53、54にLEDウエーハ20、22、24を載置し、赤色LED21、緑色LED23、青色LED25が配設された表面側を下方に向けたならば、上述したアライメントを実行したことによって得た位置情報に基づき、移動手段43を作動して、保持テーブル64を集光器44a、及びウエーハ保持リング52の直下に位置付ける(図8を参照。)。そして、保持テーブル64がウエーハ保持リング52の直下に位置付けられたならば、LEDウエーハ20をモジュール基板10に対面させるべく、本発明の対面手段として機能する保持基体56の図示しない駆動手段を作動して、ウエーハ保持リング52を保持テーブル64上のモジュール基板10に向けて下降させる。このとき、LEDウエーハ20とモジュール基板10とを側方から見た位置関係をより具体的に示す図9(a)から理解されるように、LEDウエーハ20をモジュール基板10の表面10aに近接させることにより、LEDウエーハ20の赤色LED21aの直下に、モジュールチップ12aの収容領域121が近接した状態に位置付けられる。なお、図9〜11ではLEDウエーハ20、22、24を保持しているウエーハ保持リング52、53、54は説明の都合上省略されている。   As described above, when the LED wafers 20, 22, and 24 are placed on the wafer holding rings 52, 53, and 54 and the surface side on which the red LED 21, the green LED 23, and the blue LED 25 are disposed is directed downward, Based on the positional information obtained by executing the alignment, the moving means 43 is operated to position the holding table 64 directly below the condenser 44a and the wafer holding ring 52 (see FIG. 8). When the holding table 64 is positioned immediately below the wafer holding ring 52, the driving means (not shown) of the holding base 56 that functions as the facing means of the present invention is operated so that the LED wafer 20 faces the module substrate 10. Then, the wafer holding ring 52 is lowered toward the module substrate 10 on the holding table 64. At this time, the LED wafer 20 is brought close to the surface 10a of the module substrate 10 as can be understood from FIG. 9A, which shows the positional relationship when the LED wafer 20 and the module substrate 10 are viewed from the side. As a result, the housing area 121 of the module chip 12a is positioned in a state of being close to the LED wafer 20 immediately below the red LED 21a. 9 to 11, the wafer holding rings 52, 53, and 54 holding the LED wafers 20, 22, and 24 are omitted for convenience of explanation.

図9に戻り説明を続けると、LEDウエーハ20の赤色LED21aの直下に、モジュールチップ12aの収容領域121が位置付けられたならば、レーザー光線照射手段44を作動して、赤色LED21aを該収容領域121にボンディングする。より具体的には、該制御手段からの指令によりレーザー光線照射手段44のレーザー発振器44bによりれーザー光線が発振され、X軸AOD44d1、Y軸AOD44d2を作動してfθレンズ44gに対する入射位置が調整され、レーザー光線LBがLEDウエーハ20の裏面20b側からターゲットとなる赤色LED21aの裏面に位置する剥離層30に向けて照射される。   Returning to FIG. 9 and continuing the description, when the housing area 121 of the module chip 12a is positioned immediately below the red LED 21a of the LED wafer 20, the laser beam irradiation means 44 is operated to move the red LED 21a to the housing area 121. Bond. More specifically, a laser beam is oscillated by the laser oscillator 44b of the laser beam irradiation unit 44 according to a command from the control unit, and the X axis AOD 44d1 and the Y axis AOD 44d2 are operated to adjust the incident position with respect to the fθ lens 44g. The laser beam LB is irradiated from the back surface 20b side of the LED wafer 20 toward the peeling layer 30 located on the back surface of the red LED 21a serving as a target.

なお、本実施形態におけるダイボンダー40のレーザー光線照射条件は、例えば以下のように設定される。
レーザー光線の波長 :266nm
繰り返し周波数 :50kHz
平均出力 :0.25W
スポット径 :φ10μm
In addition, the laser beam irradiation conditions of the die bonder 40 in this embodiment are set as follows, for example.
Laser beam wavelength: 266 nm
Repetition frequency: 50 kHz
Average output: 0.25W
Spot diameter: φ10μm

上記レーザー光線の波長は、LEDウエーハ20を構成するエピタキシー基板201に対して透過性を有し、剥離層30に対し吸収性を有する波長に設定されている。これにより、剥離層30が破壊されて、エピタキシー基板201と、赤色LED21aとの境界面に瞬時にガス層が形成され衝撃波を形成して、該赤色LED21がエピタキシー基板201から剥離される。LEDウエーハ20から剥離された赤色LED21aは、LEDウエーハ20から剥離される前の状態で、既にモジュールチップ12の該収容領域121に極めて近接しており、剥離された時点で該収容領域121に収容される。   The wavelength of the laser beam is set to a wavelength that is transmissive to the epitaxy substrate 201 constituting the LED wafer 20 and absorbable to the release layer 30. As a result, the release layer 30 is destroyed, and a gas layer is instantaneously formed on the boundary surface between the epitaxy substrate 201 and the red LED 21a to form a shock wave, and the red LED 21 is peeled from the epitaxy substrate 201. The red LED 21a peeled off from the LED wafer 20 is already very close to the housing area 121 of the module chip 12 before being peeled from the LED wafer 20, and is housed in the housing area 121 when it is peeled off. Is done.

赤色LED21aをLEDウエーハ20から剥離してモジュールチップ12aの収容領域121に収容したならば、本発明のデバイス位置付け手段として機能する移動手段43のX方向移動手段80を作動して、モジュール基板10を、図9(b)にて矢印で示す方向に所定量移動し、次のモジュールチップ12bにおいて赤色LED21bを収容するための収容領域121を、次の赤色LED21bの直下に位置付ける。モジュールチップ12bの収容領域121を、赤色LED21bの直下に位置付けたならば、該制御手段からの指令により、レーザー光線照射手段のX軸AOD44d1及びY軸AOD44d2が制御され、レーザー光線LBの照射位置が変更されて、赤色LED21bの裏面に位置する剥離層30に照射される。これにより、赤色LED21bの裏面に位置する剥離層30が破壊され、赤色LED21aと同様にLEDウエーハ20から赤色LED21bが剥離され、モジュールチップ12bの収容領域121に赤色LED21bが収容される。さらに、上記と同様の工程を実行することにより、モジュールチップ12bに隣接して形成されているモジュールチップ12cの収容領域121に、次の赤色LED21cが収容される。このようにしてX方向に配列された全てのモジュールチップ12に対して赤色LED21を収容したならば、モジュール基板10をY方向にインデックス送りして再度X方向に配列された全てのモジュールチップ12の収容領域121に対してLEDウエーハ20上の赤色LED21を収容する。このような位置付け工程、LED収容工程を繰り返すことで、モジュール基板10上の全てのモジュールチップ12の収容領域121に対して赤色LED21が収容される。ここで、図9(b)に記載されたモジュールチップ12aを参照することで理解されるように、モジュールチップ12に収容されるLED21は、モジュールチップ12の表面から上方に突出した状態となる。なお、赤色LED21が各モジュールチップ12の収容領域121に収容されることで、赤色LED21上のP型半導体、N型半導体からなる電極が、収容領域121の底部に形成されているバンプ124、124に当接するが、本実施形態では、予めバンプ124、124の先端部に異方性導電体からなるボンド材を積層したボンド層が形成されており、これにより赤色LED21側の電極と、該バンプ124、124が電気的に接続され、赤色LED21のボンディングが完了する。   When the red LED 21a is peeled from the LED wafer 20 and accommodated in the accommodating area 121 of the module chip 12a, the X-direction moving means 80 of the moving means 43 functioning as the device positioning means of the present invention is operated to 9B, a predetermined amount is moved in the direction indicated by the arrow, and the accommodation area 121 for accommodating the red LED 21b in the next module chip 12b is positioned immediately below the next red LED 21b. If the accommodation area 121 of the module chip 12b is positioned immediately below the red LED 21b, the X-axis AOD 44d1 and the Y-axis AOD 44d2 of the laser beam irradiation unit are controlled by the command from the control unit, and the irradiation position of the laser beam LB is changed. Then, the peeling layer 30 located on the back surface of the red LED 21b is irradiated. Thereby, the peeling layer 30 located on the back surface of the red LED 21b is broken, the red LED 21b is peeled from the LED wafer 20 similarly to the red LED 21a, and the red LED 21b is accommodated in the accommodation area 121 of the module chip 12b. Further, by performing the same process as described above, the next red LED 21c is accommodated in the accommodation area 121 of the module chip 12c formed adjacent to the module chip 12b. When the red LEDs 21 are accommodated in all the module chips 12 arranged in the X direction in this way, the module substrate 10 is indexed in the Y direction and all the module chips 12 arranged in the X direction again. The red LED 21 on the LED wafer 20 is accommodated in the accommodation area 121. By repeating such positioning process and LED housing process, the red LEDs 21 are housed in the housing areas 121 of all the module chips 12 on the module substrate 10. Here, as understood by referring to the module chip 12 a described in FIG. 9B, the LED 21 accommodated in the module chip 12 protrudes upward from the surface of the module chip 12. The red LEDs 21 are accommodated in the accommodating areas 121 of the module chips 12, so that the bumps 124 and 124 formed on the bottom of the accommodating area 121 are electrodes made of P-type semiconductors and N-type semiconductors on the red LEDs 21. In this embodiment, a bond layer in which a bond material made of an anisotropic conductor is laminated is formed in advance on the tip ends of the bumps 124 and 124, whereby the electrode on the red LED 21 side and the bumps are formed. 124 and 124 are electrically connected, and the bonding of the red LED 21 is completed.

モジュール基板10上に形成された全てのモジュールチップ12に赤色LED21をボンディングしたならば、次に緑色LED23を各モジュールチップ12の所定の収容領域122にボンディングするための位置付け工程、及び収容工程を実施する。より具体的には、上述したように赤色LED21をボンディングした後、ウエーハ保持リング52を上昇させ、保持基体56を図1の矢印56dに示す方向に120°回転させ、LEDウエーハ22が保持されたウエーハ保持リング53をウエーハ保持リング52があった位置に移動させる。そして、改めて移動手段43を作動してモジュール基板10をLEDウエーハ22に対する所定の位置(直下)に位置付ける。この際、モジュール基板10は、モジュールチップ12aに形成された収容領域122がLEDウエーハ22の所定の緑色LED23aの直下になるように位置付けられる。そして、モジュール基板10がLEDウエーハ22の直下に移動させられたならば、本発明の対面手段として機能する保持基体56の図示しない駆動手段を作動してウエーハ保持リング53を下降させることにより、LEDウエーハ22がモジュール基板10の表面10aに近接させられる(図10(a)を参照。)。   If the red LEDs 21 are bonded to all the module chips 12 formed on the module substrate 10, the positioning process and the accommodating process for bonding the green LEDs 23 to the predetermined accommodating regions 122 of the respective module chips 12 are performed next. To do. More specifically, after bonding the red LED 21 as described above, the wafer holding ring 52 is raised, the holding base 56 is rotated by 120 ° in the direction indicated by the arrow 56d in FIG. 1, and the LED wafer 22 is held. The wafer holding ring 53 is moved to the position where the wafer holding ring 52 was located. Then, the moving means 43 is operated again to position the module substrate 10 at a predetermined position (directly below) with respect to the LED wafer 22. At this time, the module substrate 10 is positioned so that the accommodation area 122 formed in the module chip 12 a is directly below the predetermined green LED 23 a of the LED wafer 22. When the module substrate 10 is moved directly below the LED wafer 22, the driving means (not shown) of the holding base 56 that functions as the facing means of the present invention is operated to lower the wafer holding ring 53, thereby The wafer 22 is brought close to the surface 10a of the module substrate 10 (see FIG. 10A).

本実施形態におけるLEDウエーハ22の詳細についてさらに説明する。図4(b)、図10に記載されたLEDウエーハ22から理解されるように、LEDウエーハ22に配設された緑色LED23は、所定の間隔222を開けて配設されており、図9に示すLEDウエーハ20に配設された赤色LED21の所定の間隔202よりも広く形成されている。ここで、LEDウエーハ22における上記所定の間隔222は、図10(a)に示すように、LEDウエーハ22の緑色LED23をモジュールチップ12にボンディングすべく近接させた際に、先に各モジュールチップ12に収容されている赤色LED21と平面視で重ならないように設定される。これにより、図10(a)に示すように、緑色LED23をモジュールチップ12にボンディングすべく、LEDウエーハ22をモジュール基板10に近づけても、所定の間隔222が設けられていることにより該緑色LED23が既にモジュールチップ12に収容された赤色LED21と重ならず、緑色LED23を所定の収容領域122にボンディングするのに適した位置まで近接させることができる。   Details of the LED wafer 22 in this embodiment will be further described. As can be understood from the LED wafer 22 shown in FIG. 4B and FIG. 10, the green LEDs 23 arranged on the LED wafer 22 are arranged at a predetermined interval 222, as shown in FIG. It is formed wider than the predetermined interval 202 of the red LED 21 disposed on the LED wafer 20 shown. Here, the predetermined interval 222 in the LED wafer 22 is set such that when the green LED 23 of the LED wafer 22 is brought close to the module chip 12 to be bonded, as shown in FIG. Is set so as not to overlap with the red LED 21 accommodated in the plan view. Accordingly, as shown in FIG. 10A, even if the LED wafer 22 is brought close to the module substrate 10 in order to bond the green LED 23 to the module chip 12, the green LED 23 is provided by the predetermined interval 222. However, the green LED 23 does not overlap the red LED 21 already accommodated in the module chip 12, and can be brought close to a position suitable for bonding the green LED 23 to the predetermined accommodation region 122.

図10(a)を参照しながら説明を続けると、上記位置付け工程を実施することによりモジュールチップ12aの収容領域122をLEDウエーハ22の緑色LED23aの直下に近接して位置付けたならば、上述した赤色LED21のボンディングと同様に、レーザー光線照射手段44を作動して、緑色LED23aを該収容領域122に収容するLED収容工程を実施する。すなわち、LEDウエーハ22の裏面22b側から、エピタキシー基板221に対しては透過性を有し、該剥離層30に対しては吸収性を有する波長のレーザー光線LBを、ターゲットとなる緑色LED23aの裏面に位置する剥離層30に向けて照射する。これにより、剥離層30が破壊されて、エピタキシー基板221と、緑色LED23aとの境界面にガス層が形成され、該緑色LED23aがエピタキシー基板221から剥離される。LEDウエーハ22から剥離された緑色LED23aは該収容領域122に収容される。   When the description is continued with reference to FIG. 10A, if the housing region 122 of the module chip 12a is positioned in the vicinity of the green LED 23a of the LED wafer 22 by performing the positioning step, the red color described above is obtained. Similarly to the bonding of the LED 21, the laser beam irradiating means 44 is operated to perform the LED housing process for housing the green LED 23 a in the housing area 122. That is, from the back surface 22b side of the LED wafer 22, a laser beam LB having a wavelength that is transmissive to the epitaxy substrate 221 and absorbable to the release layer 30 is applied to the back surface of the target green LED 23a. Irradiation is performed toward the release layer 30 located. Thereby, the peeling layer 30 is destroyed, a gas layer is formed on the boundary surface between the epitaxy substrate 221 and the green LED 23a, and the green LED 23a is peeled from the epitaxy substrate 221. The green LED 23 a peeled off from the LED wafer 22 is accommodated in the accommodating area 122.

モジュールチップ12aの収容領域122に緑色LED23aが収容されたならば、本発明のデバイス位置付け手段として機能する移動手段43を作動して図10(b)に示す矢印の方向にモジュール基板10を所定距離移動し、次のモジュールチップ12bにおける収容領域122を、次の緑色LED23bの直下に位置付ける。なお、図10(b)から理解されるように、LEDウエーハ22がモジュール基板10に近接された状態では、LEDウエーハ22に形成されている緑色LED23の下端が、モジュールチップ12に先に収容されている赤色LED21の上端よりも低い位置にあるため、そのままでは、モジュール基板10を図中の矢印の方向に移動させることができない。よって、移動手段43による矢印方向への移動を実施する際には、LEDウエーハ22を保持するウエーハ保持リング53を保持基体56に備えられた該駆動手段を作動して一旦上昇させ、モジュール基板10を所定距離移動させた後に再度下降させてモジュール基板10に近接させる動作を実施する。   If the green LED 23a is accommodated in the accommodating area 122 of the module chip 12a, the moving means 43 functioning as the device positioning means of the present invention is activated to move the module substrate 10 in the direction of the arrow shown in FIG. It moves, and the accommodation area | region 122 in the next module chip | tip 12b is positioned just under the next green LED23b. As can be understood from FIG. 10B, when the LED wafer 22 is close to the module substrate 10, the lower end of the green LED 23 formed on the LED wafer 22 is first accommodated in the module chip 12. The module substrate 10 cannot be moved in the direction of the arrow in the figure as it is because it is lower than the upper end of the red LED 21. Therefore, when the movement in the direction of the arrow is performed by the moving means 43, the wafer holding ring 53 for holding the LED wafer 22 is actuated once by operating the driving means provided on the holding base 56, and the module substrate 10 Is moved again for a predetermined distance and then moved down again to bring it close to the module substrate 10.

上述したように、該モジュールチップ12bの収容領域122を、緑色LED23bの直下に位置付けたならば、該制御手段からの指令により、レーザー光線照射手段のX方向AOD44d、Y方向AOD44eを制御することで、fθレンズ44gに入射されるレーザー光線LBの位置が所定の位置に位置付けられ、緑色LED23bの裏面に位置する剥離層30に照射される。これにより、緑色LED23bの裏面に位置する剥離層30が破壊され、LEDウエーハ22から緑色LED23bが剥離され、モジュールチップ12bの収容領域122に緑色LED23bが収容される。この際、上述したようにバンプ124、124には、異方性導電体からなるボンド材を積層したボンド層が形成されており、該ボンド材によって緑色LED23の電極と、バンプ124、124が電気的に接続され、ダイボンディングされる。そして、同様の工程をさらに繰り返し実行することにより、モジュールチップ12bに隣接して形成されているモジュールチップ12cの収容領域122に、次の緑色LED23cが収容されダイボンディングされる。このようにしてX方向に配列された全てのモジュールチップ12に対して緑色LED23をボンディングしたならば、モジュール基板10をY方向にインデックス送りして再度X方向に配列された全てのモジュールチップ12の収容領域122に対してLEDウエーハ22上の緑色LED23をボンディングする。このような位置付け工程、LED収容工程を繰り返すことで、モジュール基板10上の全てのモジュールチップ12の収容領域122に対して緑色LED23がダイボンディングされる。なお、上述したように、LEDウエーハ22に形成される緑色LED23は、赤色LED21がLEDウエーハ20に形成される場合に比して広い間隔で配列されており、LEDウエーハ22に配設される緑色LED23の数は赤色LED21が配設されるLEDウエーハ20に対して概ね1/2程度であり、1枚のLEDウエーハ20に対して概ね2枚のLEDウエーハ22を必要とするため、LEDウエーハ22上の緑色LED23が全てボンディングされたならば、緑色LED23が形成された新たなLEDウエーハ22と交換を行う。   As described above, if the housing area 122 of the module chip 12b is positioned directly below the green LED 23b, the X direction AOD 44d and the Y direction AOD 44e of the laser beam irradiation means are controlled by a command from the control means. The position of the laser beam LB incident on the fθ lens 44g is positioned at a predetermined position, and is applied to the release layer 30 positioned on the back surface of the green LED 23b. Thereby, the peeling layer 30 located on the back surface of the green LED 23b is destroyed, the green LED 23b is peeled from the LED wafer 22, and the green LED 23b is accommodated in the accommodation area 122 of the module chip 12b. At this time, as described above, the bumps 124 and 124 are formed with a bond layer in which a bond material made of an anisotropic conductor is laminated, and the electrode of the green LED 23 and the bumps 124 and 124 are electrically connected by the bond material. Connected and die bonded. Then, by repeating the same process further, the next green LED 23c is housed and die-bonded in the housing area 122 of the module chip 12c formed adjacent to the module chip 12b. If the green LEDs 23 are bonded to all the module chips 12 arranged in the X direction in this way, the module substrate 10 is indexed in the Y direction, and all the module chips 12 arranged in the X direction again. The green LED 23 on the LED wafer 22 is bonded to the accommodation area 122. By repeating such positioning process and LED housing process, the green LEDs 23 are die-bonded to the housing areas 122 of all the module chips 12 on the module substrate 10. As described above, the green LEDs 23 formed on the LED wafer 22 are arranged at a wider interval than the case where the red LEDs 21 are formed on the LED wafer 20, and the green LEDs 23 are arranged on the LED wafer 22. The number of LEDs 23 is approximately ½ of the LED wafer 20 on which the red LED 21 is disposed, and approximately two LED wafers 22 are required for one LED wafer 20. If all the upper green LEDs 23 are bonded, the new LED wafer 22 on which the green LEDs 23 are formed is replaced.

モジュール基板10上に形成された全てのモジュールチップ12に緑色LED23をボンディングしたならば、次に青色LED25を各モジュールチップ12の所定の収容領域123に収容するための位置付け工程、及びLED収容工程を実施する。より具体的には、上述したようにモジュール基板10上の全てのモジュールチップ12に対し赤色LED21、緑色LED23をボンディングした後、ウエーハ保持リング53を上昇させ、保持基体56を図1の矢印56dに示す方向にさらに120°回転させ、青色LED25が配設されたLEDウエーハ24を吸引保持しているウエーハ保持リング54をウエーハ保持リング53があった位置に移動させる。そして、改めて移動手段43を作動してモジュール基板10をLEDウエーハ24の直下に位置付ける。この際、モジュール基板10は、モジュールチップ12aに形成された収容領域123がLEDウエーハ24の所定の青色LED25aの直下に位置付けられる。そして、モジュール基板10がLEDウエーハ24の直下に移動させられたならば、保持基体56の図示しない駆動手段を作動してウエーハ保持リング54を下降させることにより、LEDウエーハ24がモジュール基板10の表面10aに近接させられる(図11(a)を参照。)。   If the green LEDs 23 are bonded to all the module chips 12 formed on the module substrate 10, the positioning process and the LED accommodating process for accommodating the blue LEDs 25 in the predetermined accommodating regions 123 of the respective module chips 12 are performed next. carry out. More specifically, after bonding the red LEDs 21 and the green LEDs 23 to all the module chips 12 on the module substrate 10 as described above, the wafer holding ring 53 is raised and the holding base 56 is moved to the arrow 56d in FIG. The wafer holding ring 54 that sucks and holds the LED wafer 24 on which the blue LED 25 is disposed is moved to the position where the wafer holding ring 53 was located. Then, the moving means 43 is operated again to position the module substrate 10 directly below the LED wafer 24. At this time, in the module substrate 10, the accommodation area 123 formed in the module chip 12 a is positioned immediately below the predetermined blue LED 25 a of the LED wafer 24. Then, if the module substrate 10 is moved directly below the LED wafer 24, the LED wafer 24 is moved to the surface of the module substrate 10 by operating a driving means (not shown) of the holding base 56 to lower the wafer holding ring 54. 10a (refer to FIG. 11A).

本実施形態におけるLEDウエーハ24の詳細についてさらに説明する。図4(c)、図11に記載されたLEDウエーハ24の記載から理解されるように、LEDウエーハ24に配設された青色LED25は、所定の間隔242を開けて配設されており、図10に示すLEDウエーハ22に配設された緑色LED23が配設される所定の間隔222よりもさらに広く形成されている。ここで、LEDウエーハ24における上記所定の間隔242は、図11(a)に示すように、LEDウエーハ24の青色LED25をモジュールチップ12に収容すべく近接させた際に、先にモジュールチップ12に収容された赤色LED21、及び緑色LED23と平面視で重ならないように設定されている。これによって、図11(a)に示すように、青色LED25をモジュールチップ12にボンディングすべく、LEDウエーハ24をモジュール基板10に近づけても、該青色LED25が既にモジュールチップに収容された赤色LED21、及び緑色LED23と重ならず、青色LED25を所定の収容領域123にボンディングするのに適した位置まで近接させることができる。   Details of the LED wafer 24 in this embodiment will be further described. As can be understood from the description of the LED wafer 24 illustrated in FIG. 4C and FIG. 11, the blue LEDs 25 disposed on the LED wafer 24 are disposed with a predetermined interval 242 therebetween. 10 is formed wider than the predetermined interval 222 in which the green LEDs 23 arranged on the LED wafer 22 shown in FIG. Here, the predetermined interval 242 in the LED wafer 24 is such that when the blue LED 25 of the LED wafer 24 is brought close to the module chip 12 as shown in FIG. It is set so as not to overlap with the accommodated red LED 21 and green LED 23 in plan view. Accordingly, as shown in FIG. 11A, even if the LED wafer 24 is brought close to the module substrate 10 to bond the blue LED 25 to the module chip 12, the red LED 21 already contained in the module chip, In addition, the blue LED 25 can be brought close to a position suitable for bonding to the predetermined accommodation region 123 without overlapping with the green LED 23.

図11(a)を参照しながら説明を続けると、上記位置付け工程を実施することにより、LEDウエーハ24の青色LED25aを、モジュールチップ12aの収容領域123に近接するよう位置付けたならば、赤色LED21、緑色LED23をモジュールチップ12aに収容したLED収容工程と同様に、レーザー光線照射手段44を作動して、青色LED25aを該収容領域123にボンディングする。すなわち、LEDウエーハ24の裏面24b側から、エピタキシー基板241に対しては透過性を有し、該剥離層30に対しては吸収性を有する波長のレーザー光線LBを、ターゲットとなる青色LED25aの裏面に位置する剥離層30に向けて照射する。これにより、剥離層30が破壊されて、エピタキシー基板241と、青色LED25aとの境界面にガス層が形成され、該青色LED25aがエピタキシー基板241から剥離される。LEDウエーハ24から剥離された青色LED25aは、剥離された時点で該収容領域123に収容されボンディングされる。   When the description is continued with reference to FIG. 11A, if the blue LED 25a of the LED wafer 24 is positioned so as to be close to the housing region 123 of the module chip 12a by performing the positioning step, the red LED 21, Similarly to the LED housing process in which the green LED 23 is housed in the module chip 12 a, the laser beam irradiation means 44 is operated to bond the blue LED 25 a to the housing region 123. That is, from the back surface 24b side of the LED wafer 24, a laser beam LB having a wavelength that is transmissive to the epitaxy substrate 241 and absorbable to the release layer 30 is applied to the back surface of the target blue LED 25a. Irradiation is performed toward the release layer 30 located. Thereby, the peeling layer 30 is destroyed, a gas layer is formed on the boundary surface between the epitaxy substrate 241 and the blue LED 25a, and the blue LED 25a is peeled from the epitaxy substrate 241. The blue LED 25a peeled off from the LED wafer 24 is housed and bonded in the housing region 123 when peeled off.

モジュールチップ12aの収容領域123に青色LED25aが収容されたならば、移動手段43を作動して図11(b)に示す矢印の方向にモジュール基板10を所定量移動し、次のモジュールチップ12bにおいて青色LED25bを収容するための収容領域123を、次の青色LED25bの直下に位置付ける(位置付け工程)。なお、緑色LED23をモジュールチップ12に収容した際と同様に、LEDウエーハ24がモジュール基板10に近接された状態では、LEDウエーハ24に形成された青色LED25の下端が、モジュールチップ12に先に収容された赤色LED22、及び緑色LED24の上端よりも低い位置にあるため、そのままでは、モジュール基板10を図中の矢印の方向に移動させることができない。よって、移動手段43による矢印方向への移動を実施する際には、LEDウエーハ24を保持するウエーハ保持リング52を一旦上昇させ、モジュール基板10を所定距離移動させた後に再度下降させてモジュール基板10に近接させる動作を実施する。   If the blue LED 25a is accommodated in the accommodating area 123 of the module chip 12a, the moving means 43 is operated to move the module substrate 10 by a predetermined amount in the direction of the arrow shown in FIG. 11B, and in the next module chip 12b An accommodation region 123 for accommodating the blue LED 25b is positioned immediately below the next blue LED 25b (positioning step). As in the case where the green LED 23 is accommodated in the module chip 12, the lower end of the blue LED 25 formed on the LED wafer 24 is accommodated first in the module chip 12 when the LED wafer 24 is in proximity to the module substrate 10. Since the red LED 22 and the green LED 24 are positioned lower than the upper ends, the module substrate 10 cannot be moved in the direction of the arrow in the drawing as it is. Therefore, when the movement in the direction of the arrow is performed by the moving means 43, the wafer holding ring 52 that holds the LED wafer 24 is once raised, the module substrate 10 is moved a predetermined distance, and then lowered again to bring the module substrate 10 The operation to make it close to is performed.

上述したようにして、次の青色LED25bの直下に次のモジュールチップ12bの収容領域123を近接するように位置付けたならば、該制御手段からの指令により、レーザー光線照射手段のX方向AOD44d1、Y方向AOD44d2を制御し、レーザー光線LBの照射位置が変更されて、青色LED25bの裏面に位置する剥離層30に照射される。これにより、青色LED25bの裏面に位置する剥離層30が破壊され、青色LED25aと同様に、LEDウエーハ24から青色LED25bが剥離され、モジュールチップ12bの収容領域123に青色LED25bが収容される。同様の位置付け工程、LED収容工程をさらに実行することにより、モジュールチップ12bに隣接して形成されているモジュールチップ12cの収容領域123には、次の青色LED25cが収容される。このようにしてX方向に配列された全てのモジュールチップ12に対して青色LED25を収容したならば、モジュール基板10をY方向にインデックス送りして再度X方向に配列された全てのモジュールチップ12の収容領域123に対してLEDウエーハ24上の青色LED25を収容する。上述したように、バンプ124、124には異方性導電体からなるボンド材が積層されたボンド層が形成されており、モジュールチップ12の収容領域123に対してLEDウエーハ24上の青色LED25を収容することで該ボンド材を介してモジュールチップ12と青色LED25の電極とが電気的に接続され、ダイボンディングが完了する。このような位置付け工程、LED収容工程を繰り返すことで、モジュール基板10上の全てのモジュールチップ12の収容領域123に対して青色LED25が収容される。なお、上述したように、LEDウエーハ24に形成される青色LED25は、緑色LED23がLEDウエーハ22に形成される場合に比してさらに広い間隔で配列されており、LEDウエーハ24に配設される青色LED25の数は赤色LED21が配設されるLEDウエーハ20に対して概ね1/3程度であり、1枚のLEDウエーハ20に対して概ね3枚のLEDウエーハ24を必要とする。よって、LEDウエーハ24上の青色LED25の全てがモジュール基板10上にダイボンディングされ、さらに継続して青色LED25をボンディングする場合は、青色LED25が形成された新たなLEDウエーハ24と交換する。   As described above, if the receiving area 123 of the next module chip 12b is positioned immediately below the next blue LED 25b, the X direction AOD44d1, Y direction of the laser beam irradiating means is specified by the control means. The AOD 44d2 is controlled, the irradiation position of the laser beam LB is changed, and the peeling layer 30 positioned on the back surface of the blue LED 25b is irradiated. Thereby, the peeling layer 30 located on the back surface of the blue LED 25b is destroyed, and the blue LED 25b is peeled off from the LED wafer 24 in the same manner as the blue LED 25a, and the blue LED 25b is housed in the housing region 123 of the module chip 12b. By further executing the same positioning process and LED housing process, the next blue LED 25c is housed in the housing area 123 of the module chip 12c formed adjacent to the module chip 12b. When the blue LEDs 25 are accommodated in all the module chips 12 arranged in the X direction in this way, the module substrate 10 is indexed in the Y direction, and all the module chips 12 arranged in the X direction are again transmitted. The blue LED 25 on the LED wafer 24 is accommodated in the accommodation area 123. As described above, the bumps 124 and 124 are formed with a bond layer in which a bond material made of an anisotropic conductor is laminated, and the blue LED 25 on the LED wafer 24 is placed on the housing area 123 of the module chip 12. By housing, the module chip 12 and the electrode of the blue LED 25 are electrically connected through the bond material, and die bonding is completed. By repeating the positioning process and the LED housing process, the blue LEDs 25 are housed in the housing areas 123 of all the module chips 12 on the module substrate 10. As described above, the blue LEDs 25 formed on the LED wafer 24 are arranged at a wider interval than the case where the green LEDs 23 are formed on the LED wafer 22 and are arranged on the LED wafer 24. The number of blue LEDs 25 is approximately 1/3 of the LED wafer 20 on which the red LEDs 21 are disposed, and approximately three LED wafers 24 are required for one LED wafer 20. Therefore, when all the blue LEDs 25 on the LED wafer 24 are die-bonded on the module substrate 10 and the blue LEDs 25 are continuously bonded, they are replaced with new LED wafers 24 on which the blue LEDs 25 are formed.

以上のようにして、モジュール基板10に配設された全てのモジュールチップ12に、赤色、緑色、青色のLEDがボンディングされると、モジュールの組み立てが完了する。なお、上記した全てのモジュールチップ12にLEDがボンディングされたならば、周知の方法で、各モジュールチップ12を個片化する個片化工程を実施すればよい。該LED個片化工程は、例えば、適宜のレーザー加工装置を適用して、モジュール基板10の材質に対して吸収性を有する波長によるレーザー光線を、モジュールチップ12を区画する分割予定ラインに沿って照射して分割するようにして実行することができるが、該基板をレーザー加工装置により分割する方法は、周知であるので、詳細については省略する。   As described above, when red, green, and blue LEDs are bonded to all the module chips 12 disposed on the module substrate 10, the assembly of the module is completed. If the LEDs are bonded to all the module chips 12 described above, an individualization process for individualizing each module chip 12 may be performed by a known method. In the LED singulation process, for example, an appropriate laser processing apparatus is applied, and a laser beam having a wavelength that is absorptive with respect to the material of the module substrate 10 is irradiated along the planned division lines that partition the module chip 12. However, since the method of dividing the substrate by the laser processing apparatus is well known, the details are omitted.

本発明は、上述した実施形態に限定されず、本発明の技術的範囲に属する限り適宜変形例を想定することができる。
例えば、上述した実施形態では、ボンディングするデバイスをLEDウエーハ20、22、24に形成された赤色、緑色、青色LED21、23、24とし、該デバイスがボンディングされる基板をモジュールチップ12として説明したが、本発明のダイボンダーはこれに限定されず、例えば、IC、LSI等の集積回路を含む複数のデバイスを、チップサイズパッケージ(CSP)を構成する配線基板に対してボンディングするダイボンダーに適用してもよい。例えば、IC、LSI等の複数の半導体デバイスが分割予定ラインによって区画されシリコン基板の上面に形成されたデバイスウエーハを用意し、先に表面側から分割予定ラインに沿ってデバイスの仕上がり厚さに相当する深さ程度までダイシングして溝を形成した後、裏面側を研削することによってデバイスの薄化加工と、個々のデバイスに分割する分割加工を同時に実施する所謂先ダイシングを実行する。その後、ガラス基板の上面にエポキシ樹脂等のボンド材により構成されるボンド層を介して該複数のデバイスを貼着させることにより、本発明のダイボンダーに適用されるデバイスウエーハを形成してもよい。その場合は、該ボンド層が剥離層となり、ガラス基板側、即ちデバイスウエーハの裏面側から該ボンド層を焦点とするレーザー光線を照射してレーザー光線の衝撃波により該ボンド層を破壊し、デバイスを配線基板側にボンディングすることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications can be assumed as appropriate as long as they belong to the technical scope of the present invention.
For example, in the above-described embodiment, the device to be bonded is described as the red, green, and blue LEDs 21, 23, and 24 formed on the LED wafers 20, 22, and 24, and the substrate to which the device is bonded is described as the module chip 12. The die bonder of the present invention is not limited to this. For example, the present invention may be applied to a die bonder for bonding a plurality of devices including integrated circuits such as IC and LSI to a wiring board constituting a chip size package (CSP). Good. For example, a device wafer is prepared in which a plurality of semiconductor devices such as IC, LSI, etc. are partitioned by the planned dividing line and formed on the upper surface of the silicon substrate, and the finished thickness of the device corresponds to the finished thickness along the scheduled dividing line from the surface side first. After forming a groove by dicing to a depth of about, a so-called first dicing is performed in which the thinning process of the device is performed by grinding the back surface side and the dividing process of dividing into individual devices is performed at the same time. Then, you may form the device wafer applied to the die bonder of this invention by sticking this several device through the bond layer comprised by bond materials, such as an epoxy resin, on the upper surface of a glass substrate. In that case, the bond layer becomes a release layer, the laser beam having the focus on the bond layer is irradiated from the glass substrate side, that is, the back surface side of the device wafer, the bond layer is destroyed by the shock wave of the laser beam, and the device is connected to the wiring board. Can be bonded to the side.

上述した実施形態におけるダイボンダーでは、デバイスウエーハである3種類のLEDウエーハを同時に保持すべく、基板保持手段において3つのウエーハ保持リングを備えるようにしたが、本発明はこれに限定されず2種類以上のデバイスウエーハを保持するように構成されていればよい。   In the die bonder in the embodiment described above, the substrate holding means is provided with three wafer holding rings in order to hold the three types of LED wafers which are device wafers at the same time, but the present invention is not limited to this, and two or more types are provided. The device wafer may be configured to be held.

10:モジュール基板
12:モジュールチップ
121〜123:収容領域
124:バンプ
125:電極
20、22、24:LEDウエーハ
21:赤色LED
23:緑色LED
25:青色LED
40:レーザー加工装置
42:基板保持手段
43:移動手段
44:レーザー光線照射手段
44a:集光器
44b:レーザー発振器
44c:アッテネータ
44d:X軸AOD
44e:Y軸AOD
44h:ポリゴンミラー
50:ウエーハ保持手段
52、53、54:ウエーハ保持リング
10: Module substrate 12: Module chip 121-123: Accommodating area 124: Bump 125: Electrode 20, 22, 24: LED wafer 21: Red LED
23: Green LED
25: Blue LED
40: Laser processing apparatus 42: Substrate holding means 43: Moving means 44: Laser beam irradiation means 44a: Condenser 44b: Laser oscillator 44c: Attenuator 44d: X-axis AOD
44e: Y-axis AOD
44h: Polygon mirror 50: Wafer holding means 52, 53, 54: Wafer holding ring

Claims (9)

デバイスを基板にボンディングするダイボンダーであって、
デバイスがボンディングされる基板を保持するX軸方向、Y軸方向で規定される保持面を有する基板保持手段と、
複数のデバイスが剥離層を介して表面に配設されたウエーハの外周を保持するウエーハ保持手段と、
該ウエーハ保持手段が保持したウエーハの表面を該基板保持手段に保持された基板の上面に対面させる対面手段と、
該基板保持手段と該ウエーハ保持手段とをX方向、Y方向に相対的に移動してウエーハに配設されたデバイスを基板の所定位置に位置付けるデバイス位置付け手段と、
ウエーハの裏面からレーザー光線を照射して対応するデバイスの剥離層を破壊して基板の所定位置にデバイスをボンディングするレーザー照射手段と、
から少なくとも構成されるダイボンダー。
A die bonder for bonding a device to a substrate,
A substrate holding means having a holding surface defined in the X-axis direction and the Y-axis direction for holding the substrate to which the device is bonded;
A wafer holding means for holding the outer periphery of the wafer having a plurality of devices disposed on the surface via a release layer;
Facing means for causing the surface of the wafer held by the wafer holding means to face the upper surface of the substrate held by the substrate holding means;
Device positioning means for moving the substrate holding means and the wafer holding means relative to each other in the X and Y directions to position a device disposed on the wafer at a predetermined position on the substrate;
A laser irradiation means for irradiating a laser beam from the back surface of the wafer to destroy the peeling layer of the corresponding device and bonding the device to a predetermined position on the substrate;
A die bonder consisting of at least.
該基板には、デバイスの電極に対峙する電極が配設されており、基板側、又はデバイス側にボンド層が敷設されていて、該デバイスに対応して照射されたレーザー光線の衝撃波によってデバイスを基板の所定位置にボンディングする請求項1に記載のダイボンダー。   The substrate is provided with an electrode facing the electrode of the device, a bond layer is laid on the substrate side or the device side, and the device is mounted by a shock wave of a laser beam irradiated corresponding to the device. The die bonder according to claim 1, wherein bonding is performed at a predetermined position. 該ボンド層は異方性導電体を有する請求項2に記載のダイボンダー。   The die bonder according to claim 2, wherein the bond layer has an anisotropic conductor. 該ウエーハ保持手段が2つ以上配設され、2種類以上のデバイスが選択的に該基板に位置付けられる請求項1に記載のダイボンダー。   2. The die bonder according to claim 1, wherein two or more wafer holding means are disposed, and two or more kinds of devices are selectively positioned on the substrate. 該レーザー光線照射手段は、パルスレーザー光線を発振するレーザー発振器と、該レーザー発振器が発振したレーザー光線を該ウエーハ保持手段に保持されたウエーハの剥離層に集光するfθレンズと、該レーザー発振器と該fθレンズとの間に配設され対応するデバイスにレーザー光線を位置付ける位置付けユニットと、から構成される請求項1に記載のダイボンダー。   The laser beam irradiation means includes a laser oscillator that oscillates a pulsed laser beam, an fθ lens that focuses the laser beam oscillated by the laser oscillator on a release layer of the wafer held by the wafer holding means, the laser oscillator and the fθ lens And a positioning unit for positioning the laser beam on a corresponding device disposed between the die bonder and the die bonder according to claim 1. 該位置付けユニットは、該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向AODと、Y方向に偏向するY方向AODと、から少なくとも構成される請求項5に記載のダイボンダー。   6. The die bonder according to claim 5, wherein the positioning unit includes at least an X direction AOD for deflecting a laser beam oscillated by the laser oscillator in the X direction and a Y direction AOD for deflecting in the Y direction. 該位置付けユニットは、該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向レゾナントスキャナーと、Y方向に偏向するY方向レゾナントスキャナーと、から少なくとも構成される請求項5に記載のダイボンダー。   6. The die bonder according to claim 5, wherein the positioning unit includes at least an X-direction resonant scanner that deflects a laser beam oscillated by the laser oscillator in the X direction and a Y-direction resonant scanner that deflects the laser beam in the Y direction. 該位置付けユニットは、該レーザー発振器が発振したレーザー光線をX方向に偏向するX方向ガルバノスキャナーと、Y方向に偏向するY方向ガルバノスキャナーと、から少なくとも構成される請求項5に記載のダイボンダー。   6. The die bonder according to claim 5, wherein the positioning unit includes at least an X-direction galvano scanner that deflects a laser beam oscillated by the laser oscillator in the X direction, and a Y-direction galvano scanner that deflects the laser beam in the Y direction. 該レーザー光線照射手段は、該位置付けユニットに加え、ポリゴンミラーを更に備える請求項6乃至8のいずれかに記載のダイボンダー。   The die bonder according to any one of claims 6 to 8, wherein the laser beam irradiation means further includes a polygon mirror in addition to the positioning unit.
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