JP2018090492A - Fluorination method and production method of perfluoropolyether-based compound - Google Patents

Fluorination method and production method of perfluoropolyether-based compound Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a perfluoropolyether-based compound with high efficiency from an inexpensive and readily available raw material compound such as a polyethylene glycol with a large number of repeating units.SOLUTION: A fluorination method includes: a step (1) to introduce a compound represented by formula (i): R-O-(R-O-)-R, a hydrogen fluoride scavenger, an inert gas, fluorine gas, and a solvent into a reactor; a step (2) to remove the hydrogen fluoride scavenger from the reactor; a step (3) to circulate the inert gas and fluorine gas through the reactor; and a step (4) to circulate a perhalogen unsaturated compound through the reactor while conducting the step (3). A production method of a perfluoropolyether-based compound including the fluorination method is also disclosed.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、潤滑剤として有用なパーフルオロポリエーテル系化合物を製造するためのフッ素化方法および該フッ素化方法を用いたパーフルオロポリエーテル系化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a fluorination method for producing a perfluoropolyether compound useful as a lubricant and a method for producing a perfluoropolyether compound using the fluorination method.

パーフルオロ化されたポリエーテル系化合物は、潤滑剤として広く使用される化合物であり、末端基が−CH2OHであるパーフルオロポリエーテル系化合物は特に有用であることが知られている。 A perfluorinated polyether compound is a compound widely used as a lubricant, and a perfluoropolyether compound having a terminal group of —CH 2 OH is known to be particularly useful.

炭化水素系化合物中のC−H部分の全てをC−Fにフッ素化する方法としては、フッ素ガスを用いてフッ素化する方法、または、フッ化水素を電解槽中で電気分解することにより発生する生成物をフッ素原子源としてフッ素化する方法が知られている。また、フッ素ガスを用いた反応には、気相法と液相法が知られている。   As a method of fluorinating all C—H portions in hydrocarbon compounds to C—F, a method of fluorination using a fluorine gas, or generation of hydrogen fluoride by electrolysis in an electrolytic cell A method of fluorinating a product to be used as a fluorine atom source is known. As a reaction using fluorine gas, a gas phase method and a liquid phase method are known.

しかし、電解フッ素化反応は、異性化反応や、C−C結合の切断および再結合反応等が起こりやすく、目的とする化合物を純度よく得られないという問題があった。また、気相でフッ素ガスと反応させると、C−C単結合の切断が起こり、多種類の副生成物が生成するという問題があった。   However, the electrolytic fluorination reaction has a problem that an isomerization reaction, a C—C bond cleavage and a recombination reaction easily occur, and a target compound cannot be obtained with high purity. Moreover, when it reacts with fluorine gas in a gaseous phase, there was a problem that a C—C single bond was broken and many types of by-products were generated.

気相法の問題を解決する方法として、液相でフッ素ガスと反応させる方法が報告されている(例えば特許文献1)。しかしながら、特許文献1の方法には、以下の問題点がある。
・高分子量のポリエチレングリコール(n≧4)のフッ素化には適していない。
・反応器内にNaFを存在させた場合、NaF存在下でパーフルオロ化を実施しているので、末端の分解反応が進行して目的物が取得できない。
・反応器外にNaFを設置して、ガス状生成物を循環させた場合、ポリエチレングリコールの流通導入時に発生したHFがエーテル結合を分解するため、繰り返し数の多いポリエチレングリコールのフッ素化に適さず、エーテル結合の分解を防ぐためには極端に導入速度を落とさなければならない。
・パーフルオロ化のために低分子量の炭化水素を添加しているが、炭化水素の場合、HFが副生して副反応が進行する確率が高くなる。
As a method for solving the problem of the gas phase method, a method of reacting with fluorine gas in a liquid phase has been reported (for example, Patent Document 1). However, the method of Patent Document 1 has the following problems.
・ Not suitable for fluorination of high molecular weight polyethylene glycol (n ≧ 4).
When NaF is present in the reactor, since the perfluorination is carried out in the presence of NaF, the terminal decomposition proceeds and the target product cannot be obtained.
・ When NaF is installed outside the reactor and the gaseous product is circulated, HF generated during the introduction of polyethylene glycol decomposes the ether bond, which is not suitable for fluorination of polyethylene glycol with a large number of repetitions. In order to prevent the decomposition of the ether bond, the introduction rate must be extremely reduced.
-Although low molecular weight hydrocarbons are added for perfluorination, in the case of hydrocarbons, there is a high probability that HF will be by-produced and side reactions will proceed.

特許第2945693号Japanese Patent No. 2945693

本発明は、従来の方法が有する課題を解決する目的でなされ、繰り返し数の多いポリエチレングリコール等の安価で入手容易な原料化合物から、高効率でパーフルオロポリエーテル系化合物を製造し得る方法を提供することを目的とする。   The present invention is made for the purpose of solving the problems of conventional methods, and provides a method capable of producing perfluoropolyether compounds with high efficiency from inexpensive and readily available raw material compounds such as polyethylene glycol having a large number of repetitions. The purpose is to do.

本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、原料導入時に反応系内にフッ化水素補足剤を共存させることで原料を速く導入でき、第一段階のフッ素化工程で反応消費分のフッ素ガスを逐次的に導入することでF2ロスを減らし、次いで、フッ化水素補足剤を分離した後、第二段階のフッ素化工程を行いながら、パーハロゲン不飽和化合物を流通させることで、高収率でパーフルオロポリエーテル系化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の態様を含む。 The present inventor has intensively studied to solve the above problems. As a result, the raw material can be introduced quickly by allowing the hydrogen fluoride scavenger to coexist in the reaction system when the raw material is introduced, and F 2 by sequentially introducing the fluorine gas for the reaction consumption in the first stage fluorination step. After reducing the loss and then separating the hydrogen fluoride scavenger, the perfluorinated polyether compound is produced in high yield by circulating the perhalogen unsaturated compound while performing the second stage fluorination step. As a result, the present invention has been completed. That is, the present invention includes the following aspects.

[1] 下記式(i)で表される化合物、フッ化水素補足剤、不活性ガス、フッ素ガス、および溶媒を反応器に導入する工程(1)と、
前記工程(1)の後に、前記反応器からフッ化水素補足剤を除去する工程(2)と、
前記工程(2)の後に、前記反応器に不活性ガスおよびフッ素ガスを流通させる工程(3)と、
前記工程(3)を行いながら、前記反応器にパーハロゲン不飽和化合物を流通させる工程(4)とを含む、下記式(i)で表される化合物のフッ素化方法。
1−O−(R−O−)n−R2 (i)
式(i)中、(R−O−)は直鎖構造もしくは分岐構造の炭素数2〜3の繰り返し単位を表し、R1およびR2は水酸基の保護基を表し、nは4〜20の整数を表す。
[1] A step (1) of introducing a compound represented by the following formula (i), a hydrogen fluoride scavenger, an inert gas, a fluorine gas, and a solvent into a reactor;
After step (1), removing hydrogen fluoride scavenger from the reactor (2);
A step (3) of passing an inert gas and a fluorine gas through the reactor after the step (2);
A method for fluorinating a compound represented by the following formula (i), comprising a step (4) of circulating a perhalogen unsaturated compound in the reactor while performing the step (3).
R 1 —O— (R—O—) n —R 2 (i)
In formula (i), (R—O—) represents a linear or branched repeating unit having 2 to 3 carbon atoms, R 1 and R 2 represent a hydroxyl-protecting group, and n represents 4 to 20 Represents an integer.

[2] 前記R1およびR2がアシル基である、項[1]に記載のフッ素化方法。
[3] 前記フッ化水素補足剤がアルカリ金属フッ化物である、項[1]または[2]に記載のフッ素化方法。
[2] The fluorination method according to item [1], wherein R 1 and R 2 are acyl groups.
[3] The fluorination method according to item [1] or [2], wherein the hydrogen fluoride scavenger is an alkali metal fluoride.

[4] 前記工程(1)における溶媒が完全ハロゲン置換された化合物である、項[1]〜[3]のいずれか1項に記載のフッ素化方法。
[5] 項[1]〜[4]のいずれか1項に記載のフッ素化方法を含み、かつ、
前記工程(4)の後に、前記反応器に炭素数1〜3のアルコールを導入してエステル化反応を行う工程(5)を含む、下記式(ii)で表される化合物の製造方法。
3O−CO−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CO−OR4 (ii)
式(ii)中、R3およびR4は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rfは、前記式(i)におけるRの全ての水素原子がフッ素原子に置換されたパーフルオロポリエーテル鎖を表し、nは4〜20の整数を表す。
[4] The fluorination method according to any one of items [1] to [3], wherein the solvent in the step (1) is a completely halogen-substituted compound.
[5] The fluorination method according to any one of items [1] to [4], and
The manufacturing method of the compound represented by following formula (ii) including the process (5) which introduce | transduces C1-C3 alcohol into the said reactor after the said process (4), and performs esterification reaction.
R 3 O-CO-CF 2 -O- (Rf) n-2 -CF 2 -CO-OR 4 (ii)
In the formula (ii), R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and Rf is a perfluoropolyether chain in which all hydrogen atoms of R in the formula (i) are substituted with fluorine atoms. N represents an integer of 4 to 20.

[6] 項[5]に記載の製造方法により得られた化合物を水素化ホウ素金属によって還元する工程(6)を含む、下記式(iii)で表わされる化合物の製造方法。
HO−CH2−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CH2−OH (iii)
式(iii)中、Rfおよびnは、前記式(ii)のRfおよびnと同義である。
[6] A method for producing a compound represented by the following formula (iii), comprising a step (6) of reducing the compound obtained by the production method according to item [5] with a metal borohydride.
HO—CH 2 —CF 2 —O— (R f) n−2 —CF 2 —CH 2 —OH (iii)
In formula (iii), Rf and n have the same meanings as Rf and n in formula (ii).

本発明によれば、繰り返し数の多いポリエチレングリコール等の安価で入手容易な原料化合物からパーフルオロポリエーテル系化合物を製造する際に、エーテル結合の分解反応を抑制してフッ素化することができ、短時間、かつ、高収率でパーフルオロポリエーテル系化合物を製造することができる。   According to the present invention, when producing a perfluoropolyether compound from a cheap and easily available raw material compound such as polyethylene glycol having a large number of repetitions, it can be fluorinated while suppressing the decomposition reaction of the ether bond, A perfluoropolyether compound can be produced in a short time and with a high yield.

以下、本発明に係るフッ素化方法およびパーフルオロポリエーテル系化合物の製造方法について詳細に説明する。なお、本発明における「パーフルオロポリエーテル系化合物」は、ポリエーテル鎖がパーフルオロ化されていればよく、末端部分はパーフルオロ化されていなくてもよい。   Hereinafter, the fluorination method and the method for producing a perfluoropolyether compound according to the present invention will be described in detail. In the “perfluoropolyether compound” in the present invention, the polyether chain may be perfluorinated and the terminal portion may not be perfluorinated.

[フッ素化方法]
本発明のフッ素化方法は、下記式(i)で表される化合物(以下「化合物(i)」ともいう。)のフッ素化方法であって、該化合物(i)、フッ化水素補足剤、不活性ガス、フッ素ガス、および溶媒を反応器に導入する工程(1)と、前記工程(1)の後に、前記反応器からフッ化水素補足剤を除去する工程(2)と、前記工程(2)の後に、前記反応器に不活性ガスおよびフッ素ガスを流通させる工程(3)と、前記工程(3)を行いながら、前記反応器にパーハロゲン不飽和化合物を流通させる工程(4)とを含むことを特徴とする。
1−O−(R−O−)n−R2 (i)
式(i)中、(R−O−)は直鎖構造もしくは分岐構造の炭素数2〜3の繰り返し単位を表し、R1およびR2は水酸基の保護基を表し、nは4〜20の整数を表す。
[Fluorination method]
The fluorination method of the present invention is a fluorination method of a compound represented by the following formula (i) (hereinafter also referred to as “compound (i)”), which comprises the compound (i), a hydrogen fluoride scavenger, A step (1) of introducing an inert gas, a fluorine gas, and a solvent into the reactor; a step (2) of removing a hydrogen fluoride scavenger from the reactor after the step (1); Step (3) for passing an inert gas and a fluorine gas through the reactor after 2), Step (4) for flowing a perhalogen unsaturated compound through the reactor while performing the step (3), It is characterized by including.
R 1 —O— (R—O—) n —R 2 (i)
In formula (i), (R—O—) represents a linear or branched repeating unit having 2 to 3 carbon atoms, R 1 and R 2 represent a hydroxyl-protecting group, and n represents 4 to 20 Represents an integer.

<工程(1)>
工程(1)は、前記化合物(i)、フッ化水素補足剤、不活性ガス、フッ素ガス、および溶媒等の原料を反応器に導入する原料導入工程である。
<Step (1)>
Step (1) is a raw material introduction step of introducing raw materials such as the compound (i), hydrogen fluoride scavenger, inert gas, fluorine gas, and solvent into the reactor.

前記化合物(i)における−R−O−としては、例えば、−CH2−CH2−O−、−CH2−CH2−CH2−O−、−CH2−CH(CH3)−O−、−CH(CH3)−CH2−O−が挙げられる。 The compound (i) as -R-O-in, for example, -CH 2 -CH 2 -O -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -O -, - CH (CH 3) -CH 2 -O- and the like.

ここで、本発明のフッ素化方法により化合物(i)をフッ素化することにより得られる生成物の末端は、1級OH由来の構造(酸素の隣は−CF2−)と2級OH由来の構造(酸素の隣は−CF(CF3)−)との両方が存在(混在)する場合がある。このように2種の末端構造が混在した生成物が、後述するアルコール導入によるエステル化工程を経ることにより、1級OH由来の構造については脱フルオライドとエステル化によって末端基としてアルコキシカルボニル基が生成する一方、2級OH由来の構造については脱フルオライドによって末端基として−CF2−CO−CF3が生成する。さらに還元工程を経ることにより、前記アルコキシカルボニル基は−CH2OHに変換される。なお、−R−O−が−CH2−CH2−O−または−CH2−CH2−CH2−O−のときは、混在することなく、後述する式(ii)および式(iii)で表わされる化合物のみが生成する。このように混在しない場合、両末端がアルコキシカルボニル基の化合物が単一成分として取得でき、精製が容易になることから好ましい。一方、混在した場合、両末端アルコキシカルボニル、片末端アルコキシカルボニル―片末端ケトン、両末端ケトンの混合物として取得され、それぞれを単離する必要性が生じることがある。 Here, the terminal of the product obtained by fluorinating the compound (i) by the fluorination method of the present invention is derived from a structure derived from primary OH (next to oxygen is —CF 2 —) and from secondary OH. There may be a case where both the structure (next to oxygen is —CF (CF 3 ) —) exist (mixed). In this way, a product in which two kinds of terminal structures are mixed is subjected to an esterification step by introducing an alcohol, which will be described later, whereby a structure derived from primary OH generates an alkoxycarbonyl group as a terminal group by defluoride and esterification. On the other hand, the structure derived from secondary OH produces —CF 2 —CO—CF 3 as a terminal group by defluorination. Further, the alkoxycarbonyl group is converted to —CH 2 OH through a reduction step. In addition, when —R—O— is —CH 2 —CH 2 —O— or —CH 2 —CH 2 —CH 2 —O—, there is no mixture, and the following formula (ii) and formula (iii) Only the compound represented by is produced. When such a mixture is not used, a compound having alkoxycarbonyl groups at both ends can be obtained as a single component, which is preferable because purification becomes easy. On the other hand, when mixed, it may be obtained as a mixture of both-end alkoxycarbonyl, one-end alkoxycarbonyl-one-end ketone, and both-end ketone, and it may be necessary to isolate each.

前記化合物(i)において、R1およびR2は同一でも異なっていてもよい。前記R1およびR2における水酸基の保護基は、2価の結合基と1価の有機基からなる。2価の結合基としては、例えば、−CO−、−SO2−、−O−、−CH2−、−C24−、−SO2NR’−、−CONR’−(R’は炭素数1〜3の低級アルキル)などが挙げられ、−CO−が容易に合成できることから好ましい。1価の有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、ベンジル基、アミノ基、ニトリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化シクロアルキル基、ハロゲン化ビニル基、ハロゲン化アリル基、ハロゲン化フェニル基、ハロゲン化ベンジル基、ハロゲン化アミノ基などが挙げられ、入手の容易さから、アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。 In the compound (i), R 1 and R 2 may be the same or different. The hydroxyl protecting group for R 1 and R 2 is composed of a divalent linking group and a monovalent organic group. Examples of the divalent linking group include —CO—, —SO 2 —, —O—, —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —SO 2 NR′—, —CONR′— (R ′ represents Lower alkyl having 1 to 3 carbon atoms) and the like, and —CO— is preferable because it can be easily synthesized. Examples of monovalent organic groups include alkyl groups, cycloalkyl groups, vinyl groups, allyl groups, phenyl groups, benzyl groups, amino groups, nitrile groups, halogenated alkyl groups, halogenated cycloalkyl groups, and halogenated vinyl groups. A halogenated allyl group, a halogenated phenyl group, a halogenated benzyl group, a halogenated amino group, and the like. From the viewpoint of availability, an alkyl group is preferable, and a methyl group is particularly preferable.

前記保護基の具体例としては、ホルミル、アセチル、エトキシアセチル、フルオロアセチル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、ブロモアセチル、ジブロモアセチル、トリブロモアセチル、プロピオニル、2−クロロプロピオニル、3−クロロプロピオニル、ブチリル、2−クロロブチリル、3−クロロブチリル、4−クロロブチリル、2−メチルブチリル、2−エチルブチリル、バレリル、2−メチルバレリル、4−メチルバレリル、ヘキサノイル、イソブチリル、イソバレリル、ピバロイル、ベンゾイル、o−クロロベンゾイル、m−クロロベンゾイル、p−クロロベンゾイル、o−ヒドロキシベンゾイル、m−ヒドロキシベンゾイル、p−ヒドロキシベンゾイル、o−アセトキシベンゾイル、o−メトキシベンゾイル、m−メトキシベンゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−ニトロベンゾイル等のアシル基、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリルなどのシリル基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、1−エトキシエチルなどのアルコキシメチル基、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、t−ブチル基、トリチル基、メチル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等が挙げられる。これらの中ではアシル基が好ましい。   Specific examples of the protecting group include formyl, acetyl, ethoxyacetyl, fluoroacetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, bromoacetyl, dibromoacetyl, tribromoacetyl, propionyl, and 2-chloro. Propionyl, 3-chloropropionyl, butyryl, 2-chlorobutyryl, 3-chlorobutyryl, 4-chlorobutyryl, 2-methylbutyryl, 2-ethylbutyryl, valeryl, 2-methylvaleryl, 4-methylvaleryl, hexanoyl, isobutyryl, isovaleryl, pivaloyl, benzoyl, o -Chlorobenzoyl, m-chlorobenzoyl, p-chlorobenzoyl, o-hydroxybenzoyl, m-hydroxybenzoyl, p-hydroxybenzoyl, -Acyl groups such as acetoxybenzoyl, o-methoxybenzoyl, m-methoxybenzoyl, p-methoxybenzoyl, p-nitrobenzoyl, silyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-butyldiphenylsilyl, tetrahydro Alkoxymethyl groups such as pyranyl, methoxymethyl, methoxyethoxymethyl, 1-ethoxyethyl, benzyl group, p-methoxybenzyl group, t-butyl group, trityl group, methyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group And allyloxycarbonyl group. Of these, acyl groups are preferred.

前記化合物(i)において、nは、好ましくは4〜10の整数、より好ましくは5〜8の整数である。
前記化合物(i)は、市販品を使用してもよいし、末端が水酸基のポリエーテルとクロライドまたはフルオライドとを反応させて得られる化合物を使用してもよい。
In the compound (i), n is preferably an integer of 4 to 10, more preferably an integer of 5 to 8.
As the compound (i), a commercially available product may be used, or a compound obtained by reacting a polyether having a hydroxyl group with chloride or fluoride may be used.

前記フッ化水素補足剤としては、例えば、NaFやKF等のアルカリ金属フッ化物およびトリアルキルアミン等の有機塩基が挙げられ、分離の容易さから固体状のアルカリ金属フッ化物が好ましく、NaFが特に好ましい。原料導入時に反応系内にフッ化水素補足剤を共存させることで、フッ化水素によるエーテル結合の分解反応を抑制することができるため、高収率でフッ素化反応を行うことが可能になる。   Examples of the hydrogen fluoride scavenger include alkali metal fluorides such as NaF and KF, and organic bases such as trialkylamine. Solid alkali metal fluorides are preferred for ease of separation, and NaF is particularly preferred. preferable. By allowing the hydrogen fluoride scavenger to coexist in the reaction system when the raw material is introduced, it is possible to suppress the decomposition reaction of the ether bond by hydrogen fluoride, so that the fluorination reaction can be performed in a high yield.

前記溶媒としては、前記化合物(i)の溶解性が高い化合物が好ましく、C−H結合を含まない完全ハロゲン置換された化合物がより好ましく、フッ素原子と塩素原子を含有するパーハロゲンアルカンが特に好ましい。C−H結合を含む化合物を溶媒として使用した場合、溶媒中のC−H結合とフッ素ガスが反応して、フッ素ガス使用量の増加と反応熱での温度上昇により分解反応の促進が懸念される。   As the solvent, a compound having high solubility of the compound (i) is preferable, a completely halogen-substituted compound not containing a C—H bond is more preferable, and a perhalogen alkane containing a fluorine atom and a chlorine atom is particularly preferable. . When a compound containing a C—H bond is used as a solvent, the C—H bond in the solvent reacts with the fluorine gas, and there is a concern that the decomposition reaction may be accelerated due to an increase in the amount of fluorine gas used and a temperature rise due to reaction heat. The

前記完全ハロゲン置換された化合物としては、飽和の炭素数2〜8のものが好ましく、環状でも直鎖状でも分岐があってもよく、エーテル結合を含有してもよく、例えば、ジクロロテトラフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン、ジクロロヘキサフルオロプロパン、テトラクロロヘキサフルオロブタン、ジクロロトリフルオロエチルトリフルオロメチルエーテル、ジクロロトリフルオロエチルペンタフロロエチルエーテル、n-またはイソ-ヘプタフルオロプロピルジクロロトリフルオロエチルエーテル、ペンタフルオロエチルヘプタフルオロプロピルエーテル、パーフルオロシクロブテン、パーフルオロ(メチルシクロプロペン)、パーフルオロポリエーテル油などが挙げられる。   The completely halogen-substituted compound is preferably a saturated one having 2 to 8 carbon atoms, and may be cyclic, linear or branched, and may contain an ether bond. For example, dichlorotetrafluoroethane , Trichlorotrifluoroethane, dichlorohexafluoropropane, tetrachlorohexafluorobutane, dichlorotrifluoroethyl trifluoromethyl ether, dichlorotrifluoroethyl pentafluoroethyl ether, n- or iso-heptafluoropropyl dichlorotrifluoroethyl ether, penta Examples include fluoroethyl heptafluoropropyl ether, perfluorocyclobutene, perfluoro (methylcyclopropene), perfluoropolyether oil, and the like.

前記溶媒は、1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記溶媒と前記フッ化水素補足剤は、前記化合物(i)を導入する前に反応器に導入することが望ましい。溶媒とフッ化水素補足剤を同時に反応器に導入してから、反応器を密閉する方法が簡便で好ましい。
The said solvent may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
It is desirable to introduce the solvent and the hydrogen fluoride scavenger into the reactor before introducing the compound (i). A method in which the solvent and the hydrogen fluoride scavenger are simultaneously introduced into the reactor and then the reactor is sealed is simple and preferable.

前記化合物(i)の導入方法としては、反応器内に不活性ガスおよびフッ素ガスを流通させながら、前記化合物(i)を前記溶媒に溶解して供給する方法が好ましい。フッ素ガスを導入する前に前記化合物(i)を反応器に導入した場合、副生したフッ化水素とエーテル結合の分解反応が進行して副生成物が揮発するため、収率が低下する傾向にある。   As a method for introducing the compound (i), a method in which the compound (i) is dissolved and supplied in the solvent while an inert gas and a fluorine gas are circulated in the reactor is preferable. When the compound (i) is introduced into the reactor before introducing the fluorine gas, the decomposition of the by-produced hydrogen fluoride and the ether bond proceeds and the by-product volatilizes, so the yield tends to decrease. It is in.

不活性ガスおよびフッ素ガスの導入方法としては、前記化合物(i)を反応器に導入する前に、または前記化合物(i)の反応器への導入とともに、不活性ガスおよびフッ素ガスを導入する工程(1a)と、前記化合物(i)を反応器に導入した後に、フッ素ガス、または不活性ガスおよびフッ素ガスを導入する工程(1b)とが存在することが好ましい。   As a method for introducing the inert gas and the fluorine gas, a step of introducing the inert gas and the fluorine gas before introducing the compound (i) into the reactor or together with introducing the compound (i) into the reactor. Preferably, (1a) and a step (1b) of introducing fluorine gas or an inert gas and fluorine gas after introducing the compound (i) into the reactor are present.

≪工程(1a)≫
前記工程(1a)は、不活性ガスおよびフッ素ガスの反応器への導入を、前記化合物(i)の反応器への導入前または前記化合物(i)の反応器への導入とともに行う。
≪Process (1a) ≫
In the step (1a), the inert gas and the fluorine gas are introduced into the reactor before the compound (i) is introduced into the reactor or together with the introduction of the compound (i) into the reactor.

反応器内に流通させるフッ素ガス濃度は、好ましくは1〜50体積%、より好ましくは10〜30体積%である。フッ素ガス濃度が高すぎる場合、溶媒およびフッ素ガス中に可燃性混合物が生じて、爆発反応の可能性が高くなる一方で、フッ素ガス濃度が低すぎる場合、反応速度が低下して反応時間が長くなり非効率になる傾向にある。前記フッ素ガス濃度となるように不活性ガスを反応器内に流通させるが、不活性ガスとフッ素ガスは別系統で導入してもよく、予め不活性ガスでフッ素ガスを希釈した混合ガスを反応器内に導入してもよい。不活性ガスとしては、入手、取扱いの容易さから、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどが好ましい。   The concentration of fluorine gas to be circulated in the reactor is preferably 1 to 50% by volume, more preferably 10 to 30% by volume. If the fluorine gas concentration is too high, a flammable mixture is formed in the solvent and fluorine gas, increasing the possibility of an explosive reaction, while if the fluorine gas concentration is too low, the reaction rate decreases and the reaction time increases. Tend to be inefficient. The inert gas is circulated in the reactor so that the concentration of the fluorine gas becomes the same, but the inert gas and the fluorine gas may be introduced in different systems, and the mixed gas obtained by diluting the fluorine gas with the inert gas in advance is reacted. It may be introduced into the vessel. As the inert gas, nitrogen gas, helium gas, argon gas and the like are preferable because of easy availability and handling.

前記工程(1a)において、フッ素ガス導入時における反応器内の温度は、好ましくは−20〜60℃、より好ましくは−10〜30℃である。前記温度が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記温度が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。また、フッ素ガス導入時における反応器内の圧力は、好ましくは0.10〜0.20MPa、より好ましくは0.10〜0.15MPaである。前記圧力が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記圧力が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。   In the step (1a), the temperature in the reactor when introducing the fluorine gas is preferably -20 to 60 ° C, more preferably -10 to 30 ° C. If the temperature is too low, the reaction rate decreases, while if the temperature is too high, the possibility of an explosion reaction increases. Moreover, the pressure in the reactor when introducing the fluorine gas is preferably 0.10 to 0.20 MPa, more preferably 0.10 to 0.15 MPa. If the pressure is too low, the reaction rate decreases, while if the pressure is too high, the possibility of an explosion reaction increases.

≪工程(1b)≫
前記工程(1b)は、前記工程(1a)および前記化合物(i)を反応器に導入する工程に引き続いて行われる工程であり、反応器にフッ素ガス、または不活性ガスおよびフッ素ガスを導入して前記化合物(i)のフッ素化を行う第一フッ素化工程である。工程(1b)におけるフッ素ガスの導入方法は、流通方式またはバッチ方式が好ましい。
<< Step (1b) >>
The step (1b) is a step performed subsequent to the step (1a) and the step of introducing the compound (i) into the reactor, and introducing fluorine gas or an inert gas and fluorine gas into the reactor. A first fluorination step of fluorinating the compound (i). The introduction method of the fluorine gas in the step (1b) is preferably a distribution method or a batch method.

流通方式では、不活性ガスで希釈したフッ素ガスを反応器内に流通させてフッ素化反応を行う。フッ素ガス濃度は、好ましくは5〜50体積%、より好ましくは10〜30体積%である。フッ素ガス濃度が高すぎる場合、溶媒およびフッ素ガス中に可燃性混合物が生じて、爆発反応の可能性が高くなる一方で、フッ素ガス濃度が低すぎる場合、反応速度が低下して反応時間が長くなり非効率になる。また、フッ素ガス導入時において、反応器内の温度は、好ましくは−20〜60℃、より好ましくは−10〜30℃であり、反応器内の圧力は、好ましくは0.10〜0.20MPa、より好ましくは0.10〜0.15MPaである。前記温度が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記温度が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。前記圧力が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記圧力が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。また、流通時間は、好ましくは1〜3時間である。   In the distribution method, a fluorination reaction is performed by flowing a fluorine gas diluted with an inert gas into the reactor. The fluorine gas concentration is preferably 5 to 50% by volume, more preferably 10 to 30% by volume. If the fluorine gas concentration is too high, a flammable mixture is formed in the solvent and fluorine gas, increasing the possibility of an explosive reaction, while if the fluorine gas concentration is too low, the reaction rate decreases and the reaction time increases. Become inefficient. Further, when introducing the fluorine gas, the temperature in the reactor is preferably -20 to 60 ° C, more preferably -10 to 30 ° C, and the pressure in the reactor is preferably 0.10 to 0.20 MPa. More preferably, it is 0.10 to 0.15 MPa. If the temperature is too low, the reaction rate decreases, while if the temperature is too high, the possibility of an explosion reaction increases. If the pressure is too low, the reaction rate decreases, while if the pressure is too high, the possibility of an explosion reaction increases. The distribution time is preferably 1 to 3 hours.

バッチ方式では、不活性ガスで置換した反応器内にフッ素ガスを導入する。反応器出口を閉めて、入口から圧力調整したフッ素ガスを反応消費した分だけ導入する。フッ素ガス導入時における反応器内の圧力は、好ましくは0.11〜0.30MPa、より好ましくは0.15〜0.25MPaである。前記圧力が低すぎる場合、反応速度が低下して反応時間が長くなり非効率になる一方で、前記圧力が高すぎる場合、溶媒およびフッ素ガス中に可燃性混合物が生じて、爆発反応の可能性が高くなる。また、フッ素ガス導入時における反応器内の温度は、好ましくは−20〜60℃、より好ましくは−10〜30℃である。前記温度が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記温度が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。フッ素ガス濃度は圧力に応じて決定される。   In the batch system, fluorine gas is introduced into a reactor substituted with an inert gas. The reactor outlet is closed, and the pressure-adjusted fluorine gas is introduced from the inlet by the amount consumed by the reaction. The pressure in the reactor at the time of introducing the fluorine gas is preferably 0.11 to 0.30 MPa, more preferably 0.15 to 0.25 MPa. If the pressure is too low, the reaction rate will decrease and the reaction time will be longer and inefficient, while if the pressure is too high, a flammable mixture will form in the solvent and fluorine gas, possibly causing an explosive reaction Becomes higher. Further, the temperature in the reactor when introducing the fluorine gas is preferably -20 to 60 ° C, more preferably -10 to 30 ° C. If the temperature is too low, the reaction rate decreases, while if the temperature is too high, the possibility of an explosion reaction increases. The fluorine gas concentration is determined according to the pressure.

工程(1b)でのフッ素化度は、好ましくは50〜90%、より好ましくは70〜85%である。ここでいうフッ素化度とは、前記化合物(i)中の水素原子がフッ素原子に置換された割合をいう。フッ素化度が低い場合、後工程での分解反応が顕著になり収率が低下する一方で、フッ素化度が高い場合、水酸基の保護基の分解反応が進行して収率が低下する傾向にある。   The degree of fluorination in the step (1b) is preferably 50 to 90%, more preferably 70 to 85%. The degree of fluorination as used herein refers to the ratio of hydrogen atoms in the compound (i) replaced with fluorine atoms. When the degree of fluorination is low, the decomposition reaction in the post-process becomes prominent and the yield decreases. On the other hand, when the degree of fluorination is high, the decomposition reaction of the hydroxyl protecting group proceeds and the yield tends to decrease. is there.

<工程(2)>
工程(2)は、反応器から前記フッ化水素補足剤を除去する分離工程である。前記フッ化水素除去剤を分離しない場合、後述する工程(4)において、前記化合物(i)の末端の分解反応が進行して目的物が得られない傾向にある。
<Step (2)>
Step (2) is a separation step for removing the hydrogen fluoride scavenger from the reactor. When the hydrogen fluoride removing agent is not separated, in the step (4) to be described later, the decomposition reaction of the terminal of the compound (i) proceeds and the target product tends not to be obtained.

前記フッ化水素補足剤の除去方法は、ろ過による分離が簡便で好ましい。具体的には、反応器内を不活性ガスでパージした後、反応器を開放してセルロースのろ紙にフッ化水素補足剤が混濁した反応液を通過させることで、反応液とフッ化水素補足剤を分離できる。作業時間の短縮が可能であることから、フッ素ガスに不活性なフィルターを反応器内に設置して、ドレイン弁から反応液を流通させることで反応液とフッ化水素補足剤を分離する方法が、より好ましい。フッ素ガスに不活性なフィルターとしては、例えば、SUSやニッケルといった金属またはテフロン材質のフィルターが挙げられる。   The method for removing the hydrogen fluoride scavenger is preferable because separation by filtration is simple. Specifically, after purging the inside of the reactor with an inert gas, the reactor is opened and the reaction liquid in which the hydrogen fluoride scavenger is turbid is passed through the cellulose filter paper, thereby supplementing the reaction liquid and hydrogen fluoride. The agent can be separated. Since the working time can be shortened, there is a method of separating the reaction liquid and the hydrogen fluoride scavenger by installing a filter inert to the fluorine gas in the reactor and circulating the reaction liquid from the drain valve. More preferable. Examples of the filter inert to the fluorine gas include a filter made of a metal such as SUS or nickel or a Teflon material.

前記フッ化水素補足剤の除去は乾燥雰囲気で行うことが好ましく、不活性ガス雰囲気で行うことがより好ましい。いくつかの水素原子がフッ素原子に置換された化合物(i)の水酸基の保護基は、水と容易に反応するため、前記工程(1)後の反応液を大気と接触させると副反応が進行して収率が低下する。   The removal of the hydrogen fluoride scavenger is preferably performed in a dry atmosphere, and more preferably in an inert gas atmosphere. Since the hydroxyl-protecting group of compound (i) in which several hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms easily reacts with water, side reaction proceeds when the reaction solution after step (1) is brought into contact with the atmosphere. As a result, the yield decreases.

<工程(3)>
工程(3)は、反応器に不活性ガスおよびフッ素ガスを流通させてフッ素化反応を進行させる第二フッ素化工程である。
<Step (3)>
Step (3) is a second fluorination step in which an inert gas and a fluorine gas are passed through the reactor to advance the fluorination reaction.

工程(3)において、反応器内の温度は、副生したHFを効率的に除去するため、好ましくはHFの沸点(20℃)以上、より好ましくは20℃〜100℃、さらに好ましくは20℃〜60℃である。前記温度が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなり収率が低下する。また、反応器内の圧力は、好ましくは0.10〜0.20MPa、より好ましくは0.10〜0.15MPaである。前記圧力が低すぎる場合、反応速度が低下する一方で、前記圧力が高すぎる場合、爆発反応の可能性が高くなる。   In the step (3), the temperature in the reactor is preferably not less than the boiling point (20 ° C.) of HF, more preferably 20 ° C. to 100 ° C., further preferably 20 ° C. in order to efficiently remove by-produced HF. ~ 60 ° C. When the said temperature is too high, the possibility of an explosion reaction will become high and a yield will fall. Further, the pressure in the reactor is preferably 0.10 to 0.20 MPa, more preferably 0.10 to 0.15 MPa. If the pressure is too low, the reaction rate decreases, while if the pressure is too high, the possibility of an explosion reaction increases.

フッ素ガス濃度は、好ましくは5〜50体積%、より好ましくは10〜30体積%である。フッ素ガス濃度が高すぎる場合、溶媒およびフッ素ガス中に可燃性混合物が生じて、爆発反応の可能性が高くなる一方で、フッ素ガス濃度が低すぎる場合、反応速度が低下して反応時間が長くなり非効率になる傾向にある。   The fluorine gas concentration is preferably 5 to 50% by volume, more preferably 10 to 30% by volume. If the fluorine gas concentration is too high, a flammable mixture is formed in the solvent and fluorine gas, increasing the possibility of an explosive reaction, while if the fluorine gas concentration is too low, the reaction rate decreases and the reaction time increases. Tend to be inefficient.

<工程(4)>
フッ素化反応の後期では、フッ素化反応の反応速度が低下してくる。工程(4)は、効率的にフッ素化反応を進行させるため、前記工程(3)を行いながら、反応器にパーハロゲン不飽和化合物を添加する第三フッ素化工程である。工程(4)を行わないと、化合物内に水素原子が残存し、パーフルオロ化合物が得られない傾向にある。
<Process (4)>
In the latter stage of the fluorination reaction, the reaction rate of the fluorination reaction decreases. Step (4) is a third fluorination step in which a perhalogen unsaturated compound is added to the reactor while performing the step (3) in order to advance the fluorination reaction efficiently. If the step (4) is not performed, hydrogen atoms remain in the compound and a perfluoro compound tends to be not obtained.

前記パーハロゲン不飽和化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、クロロペンタフルオロベンゼン、トリクオロトリフルオロベンゼン、デカフルオロビフェニル、オクタフルオロナフタレン、ヘプタフルオロ−1−ブタジエン、デカフルオロ−1−ペンタジエン、テトラクロロエチレン、トリクロロフルオロエチレン、ジクロロジフルオロエチレン、トリクロロトリフルオロプロペン、ジクロロテトラフルオロプロペンなどが挙げられ、これらの中では入手および取扱いが容易なヘキサフルオロベンゼンが特に好ましい。パーハロゲン不飽和化合物ではなく、ベンゼン等の炭化水素化合物を使用した場合、該炭化水素化合物中のC−H結合のフッ素化にフッ素ガスが消費されるため、フッ素ガスの使用量が増加する。   Examples of the perhalogen unsaturated compound include hexafluorobenzene, hexachlorobenzene, chloropentafluorobenzene, trichlorotrifluorobenzene, decafluorobiphenyl, octafluoronaphthalene, heptafluoro-1-butadiene, decafluoro-1-pentadiene, and tetrachloroethylene. , Trichlorofluoroethylene, dichlorodifluoroethylene, trichlorotrifluoropropene, dichlorotetrafluoropropene, and the like, among which hexafluorobenzene, which is easy to obtain and handle, is particularly preferable. When a hydrocarbon compound such as benzene is used instead of a perhalogen unsaturated compound, fluorine gas is consumed for fluorination of the C—H bond in the hydrocarbon compound, so that the amount of fluorine gas used increases.

前記パーハロゲン不飽和化合物の添加方法としては、溶媒に溶解して一定量を流通導入することが好ましい。前記パーハロゲン不飽和化合物の流通量は、好ましくはフッ素ガス流通量の1/50〜1/5モル倍量、より好ましくは1/30〜1/10モル倍量である。前記流通量が少なすぎると、フッ素化反応の進行が遅くなり、反応時間が長くなる一方で、前記流通量が多すぎると、溶媒およびフッ素ガス中に可燃性混合物が生じて、爆発反応の可能性が高くなる傾向にある。   As a method of adding the perhalogen unsaturated compound, it is preferable to introduce a constant amount by dissolving in a solvent. The flow rate of the perhalogenated unsaturated compound is preferably 1/50 to 1/5 mol times, more preferably 1/30 to 1/10 mol times the fluorine gas flow rate. If the flow rate is too small, the progress of the fluorination reaction is delayed and the reaction time becomes long. On the other hand, if the flow rate is too high, a flammable mixture is generated in the solvent and fluorine gas, and an explosion reaction is possible. Tend to be higher.

[パーフルオロポリエーテル系化合物の製造方法]
本発明のパーフルオロポリエーテル系化合物の製造方法としては、前述した本発明のフッ素化方法を含み、かつ、前記工程(4)の後に、前記反応器に炭素数1〜3のアルコールを導入してエステル化反応を行う工程(5)を含む、下記式(ii)で表される化合物(以下「化合物(ii)」ともいう。)の製造方法と、前記工程(5)の後に、得られた前記化合物(ii)を水素化ホウ素金属によって還元する工程(6)を含む、下記式(iii)で表わされる化合物(以下「化合物(iii)」ともいう。)の製造方法とが挙げられる。
3O−CO−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CO−OR4 (ii)
HO−CH2−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CH2−OH (iii)
式(ii)および(iii)中、R3およびR4は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rfは前記式(i)におけるRの全ての水素原子がフッ素原子に置換されたパーフルオロポリエーテル鎖を表し、nは4〜20の整数である。
[Method for producing perfluoropolyether compound]
The method for producing the perfluoropolyether compound of the present invention includes the fluorination method of the present invention described above, and after the step (4), an alcohol having 1 to 3 carbon atoms is introduced into the reactor. And a method for producing a compound represented by the following formula (ii) (hereinafter also referred to as “compound (ii)”), which comprises the step (5) of conducting an esterification reaction, and obtained after the step (5). And a method for producing a compound represented by the following formula (iii) (hereinafter also referred to as “compound (iii)”), which comprises the step (6) of reducing the compound (ii) with a metal borohydride.
R 3 O-CO-CF 2 -O- (Rf) n-2 -CF 2 -CO-OR 4 (ii)
HO—CH 2 —CF 2 —O— (R f) n−2 —CF 2 —CH 2 —OH (iii)
In the formulas (ii) and (iii), R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and Rf represents perfluoro having all the hydrogen atoms of R in the formula (i) substituted with fluorine atoms. Represents a polyether chain, and n is an integer of 4 to 20.

<工程(5)>
工程(5)は、反応器にアルコールを導入するエステル化工程である。工程(4)で生成した化合物は、大気中の水分と容易に反応してカルボン酸化合物となるため、後工程での取扱いの容易さを考慮すると、アルコールと反応させて前記化合物(ii)とすることが好ましい。
<Step (5)>
Step (5) is an esterification step for introducing alcohol into the reactor. Since the compound produced in the step (4) easily reacts with moisture in the atmosphere to become a carboxylic acid compound, considering the ease of handling in the subsequent step, the compound (ii) It is preferable to do.

前記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノールなどが挙げられる。これらの中では、メタノールが好ましい。
エステル化の反応温度は、好ましくは0〜60℃、より好ましくは10〜40℃である。反応圧力は、好ましくは0.1〜0.2MPa、より好ましくは0.1〜0.15MPaである。アルコールの導入量は、好ましくは理論量の2〜10倍、より好ましくは3〜5倍である。
As said alcohol, methanol, ethanol, n-propanol etc. are mentioned, for example. Of these, methanol is preferred.
The reaction temperature for esterification is preferably 0 to 60 ° C, more preferably 10 to 40 ° C. The reaction pressure is preferably 0.1 to 0.2 MPa, more preferably 0.1 to 0.15 MPa. The amount of alcohol introduced is preferably 2 to 10 times the theoretical amount, more preferably 3 to 5 times.

前記化合物(ii)は、溶媒を留去した残渣として単離することができる。溶媒の留去前に、フッ化水素等の副生成物を完全に除去するために、アルカリ水で洗浄することが好ましい。アルカリ水は特に限定されないが、入手と取扱いの容易さから、炭酸水素ナトリウム水が好ましい。アルカリ水での洗浄後、二層分離した溶媒層を回収して溶媒を留去することで化合物(ii)を単離できるとともに、回収された溶媒の再利用が容易となり、完全ハロゲン置換された化合物のような高価な溶媒のロスを低減することができる。   The compound (ii) can be isolated as a residue obtained by distilling off the solvent. In order to completely remove by-products such as hydrogen fluoride before distilling off the solvent, washing with alkaline water is preferred. Alkaline water is not particularly limited, but sodium hydrogen carbonate water is preferred from the standpoint of availability and handling. After washing with alkaline water, the solvent layer separated into two layers is recovered and the solvent is distilled off to isolate the compound (ii), and the recovered solvent can be easily reused and completely halogenated. Loss of expensive solvents such as compounds can be reduced.

<工程(6)>
工程(6)は、前記化合物(ii)、アルコールおよび水素化ホウ素金属を混合することで前記化合物(iii)を得る還元反応工程である。
<Step (6)>
Step (6) is a reduction reaction step in which the compound (iii) is obtained by mixing the compound (ii), an alcohol and a metal borohydride.

前記アルコールは、炭素数1〜5のアルコールから選択でき、エタノールが特に好ましい。前記水素化ホウ素金属は、水素化ホウ素のアルカリ金属塩または水素化ホウ素のアルカリ土類金属塩から選択でき、水素化ホウ素ナトリウムが入手および取扱いの容易さから特に好ましい。   The alcohol can be selected from alcohols having 1 to 5 carbon atoms, and ethanol is particularly preferable. The borohydride metal can be selected from an alkali metal salt of borohydride or an alkaline earth metal salt of borohydride, and sodium borohydride is particularly preferred because of its availability and handling.

<反応例>
工程(1)〜(4)における化合物(i)としてポリエチレングリコール由来の化合物、すなわち−R−O−が−CH2CH2−O−であり、R1およびR2が共に−COCH3である化合物を用い、工程(5)におけるアルコールとしてメタノールを用い、工程(6)における水素化ホウ素金属およびアルコールとして、それぞれ水素化ホウ素ナトリウムおよびエタノールを用いた反応例を以下に示す。なお、本発明は以下の反応例に限定されるものではない。
<Example of reaction>
Compound (i) in steps (1) to (4) is a compound derived from polyethylene glycol, that is, —R—O— is —CH 2 CH 2 —O—, and R 1 and R 2 are both —COCH 3 . A reaction example using a compound, using methanol as the alcohol in step (5), and using sodium borohydride and ethanol as the metal borohydride and alcohol in step (6) is shown below. In addition, this invention is not limited to the following reaction examples.

Figure 2018090492
Figure 2018090492

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
[実施例1]
<原料調製工程>
繰り返し数が7と8のポリエチレングリコール(PEG)混合物30gを200mLの三口フラスコに導入して、スターラーチップで撹拌しながら、窒素ガスを100mL/minで流通した。窒素ガスを100mL/minで流通したまま、塩化アセチル(CH3COCl)81gを3回に分けて三口フラスコに導入し、15時間撹拌を継続した。回収した反応液を酢酸エチル800mLに溶解して分液漏斗に導入した。分液漏斗に飽和NaHCO3水100mLを導入して撹拌した後、酢酸エチル相を回収した。エバポレーターで酢酸エチルを留去して生成物(1−i)35gを得た。得られた生成物(1−i)を1H−NMRおよび13C−NMRで分析したところ、CH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=7,8)であることを確認した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples at all.
[Example 1]
<Raw material preparation process>
30 g of a polyethylene glycol (PEG) mixture having 7 and 8 repetitions was introduced into a 200 mL three-necked flask, and nitrogen gas was circulated at 100 mL / min while stirring with a stirrer chip. With nitrogen gas flowing at 100 mL / min, 81 g of acetyl chloride (CH 3 COCl) was introduced into the three-necked flask in three portions, and stirring was continued for 15 hours. The collected reaction solution was dissolved in 800 mL of ethyl acetate and introduced into a separatory funnel. After 100 mL of saturated NaHCO 3 water was introduced into the separatory funnel and stirred, the ethyl acetate phase was recovered. Ethyl acetate was distilled off with an evaporator to obtain 35 g of product (1-i). The obtained product (1-i) was analyzed by 1 H-NMR and 13 C-NMR, and found to be CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 7, 8). I confirmed that there was.

<工程(1a)>
1LオートクレーブにNaF 35gとテトラクロロヘキサフルオロブタン(HFTCB)400mLを導入して密閉した。オートクレーブ内の撹拌を開始して、オートクレーブ内に窒素ガスを800mL/minで1時間流通してパージした。窒素ガスを800mL/minで流通しながらオートクレーブを−10℃に冷却された冷媒に浸し、オートクレーブ内が約−10℃になるまで冷却した。フッ素ガスを200mL/minで流通してオートクレーブ内を20体積%フッ素ガスでパージした。フッ素ガスを200mL/min、窒素ガスを800mL/minで流通しながら、CH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=7,8)10.0gをHFTCB200mLに溶解して3.3mL/minの流量で流通導入した。
<Step (1a)>
Into a 1 L autoclave, 35 g of NaF and 400 mL of tetrachlorohexafluorobutane (HFTCB) were introduced and sealed. Stirring in the autoclave was started, and nitrogen gas was purged through the autoclave at 800 mL / min for 1 hour. While circulating nitrogen gas at 800 mL / min, the autoclave was immersed in a refrigerant cooled to −10 ° C., and the autoclave was cooled to about −10 ° C. Fluorine gas was circulated at 200 mL / min, and the inside of the autoclave was purged with 20 vol% fluorine gas. While flowing fluorine gas at 200 mL / min and nitrogen gas at 800 mL / min, 10.0 g of CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 7,8) was dissolved in 200 mL of HFTCB. And introduced at a flow rate of 3.3 mL / min.

<工程(1b)>
オートクレーブ内に窒素ガスを800mL/minで流通してパージした。窒素ガスの流通を止めて、オートクレーブ出口を閉じてオートクレーブ内を窒素雰囲気で0.1MPaAとした。0.2MPaAの100体積%フッ素ガスを、流量200mL/minに調整したマスフローコントローラーを通して、オートクレーブ内に導入した。CH3CO−O−(C24O)n−COCH3内の水素原子の68%がフッ素原子に置換される量のフッ素ガスをマスフローコントローラーの積算値でモニターしながらオートクレーブに導入した。
<Step (1b)>
Nitrogen gas was circulated through the autoclave at 800 mL / min for purging. The flow of nitrogen gas was stopped, the autoclave outlet was closed, and the inside of the autoclave was set to 0.1 MPaA in a nitrogen atmosphere. 0.2 MPaA of 100% by volume fluorine gas was introduced into the autoclave through a mass flow controller adjusted to a flow rate of 200 mL / min. An amount of fluorine gas in which 68% of the hydrogen atoms in CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 were replaced with fluorine atoms was introduced into the autoclave while monitoring the integrated value of the mass flow controller.

<工程(2)>
オートクレーブ内に窒素ガスを800mL/minで1時間流通してパージした。オートクレーブを窒素雰囲気のグローブボックス内で開放して、NaFが混濁した反応液をろ過して反応液からNaFを除去した。NaFを除去した反応液をオートクレーブに導入して密閉した。
<Step (2)>
The autoclave was purged by flowing nitrogen gas at 800 mL / min for 1 hour. The autoclave was opened in a nitrogen atmosphere glove box, and the reaction solution in which NaF was turbid was filtered to remove NaF from the reaction solution. The reaction solution from which NaF was removed was introduced into an autoclave and sealed.

<工程(3)および(4)>
オートクレーブ内の撹拌を開始して、オートクレーブ内温度が約30℃になるよう外部ヒーターで加熱した。窒素ガスを450mL/min、フッ素ガスを50mL/minでオートクレーブ内に流通してフッ素化反応を開始した。30分間窒素ガスとフッ素ガスを流通した後、窒素ガスとフッ素ガスを流通したままC66約1.5gをHFTCB30mLに溶解して0.5mL/minで流通導入した。なお、得られた反応生成物を1H−NMRで分析した結果、化合物内に水素原子が残存していないことを確認した。
<Steps (3) and (4)>
Stirring in the autoclave was started, and the autoclave was heated with an external heater so that the temperature inside the autoclave was about 30 ° C. Nitrogen gas was passed through the autoclave at 450 mL / min and fluorine gas at 50 mL / min to initiate the fluorination reaction. After circulating nitrogen gas and fluorine gas for 30 minutes, about 1.5 g of C 6 F 6 was dissolved in 30 mL of HFTCB while flowing nitrogen gas and fluorine gas and introduced at 0.5 mL / min. As a result of analyzing the obtained reaction product by 1 H-NMR, it was confirmed that no hydrogen atoms remained in the compound.

<工程(5)>
66を流通導入した後、フッ素ガスの流通を停止して、窒素ガスを450mL/minで1時間流通してオートクレーブ内をパージした。窒素ガスの流通を停止してオートクレーブ内が0.1MPaAの窒素雰囲気下でメタノール40gを導入した。30分間オートクレーブの撹拌を継続した後、反応液を回収した。回収した反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄して、二層分離した溶媒層を回収し、エバポレーターで溶媒を留去して生成物(1−ii)16.7gを得た。得られた生成物(1−ii)を19F NMRで分析した結果、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3(n=5,6)であることを確認した。
<Step (5)>
After introducing C 6 F 6 into circulation, the circulation of fluorine gas was stopped, and nitrogen gas was circulated at 450 mL / min for 1 hour to purge the autoclave. The nitrogen gas flow was stopped, and 40 g of methanol was introduced under a nitrogen atmosphere of 0.1 MPaA in the autoclave. After stirring the autoclave for 30 minutes, the reaction solution was recovered. The recovered reaction solution was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, the solvent layer separated into two layers was recovered, and the solvent was distilled off with an evaporator to obtain 16.7 g of the product (1-ii). As a result of analyzing the obtained product (1-ii) by 19 F NMR, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CO—OCH 3 (n = 5) 6).

<工程(6)>
25mLナスフラスコにCH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3(n=5,6)16g、エタノール150gおよび水素化ホウ素ナトリウム1.1gを導入して撹拌した。4時間後、35%塩化水素を4mL加えた。反応液を水で洗浄した後、テトラクロロヘキサフルオロブタンで抽出した。抽出物からテトラクロロヘキサクロロブタンを留去して生成物(1−iii)約14gを得た。得られた生成物(1−iii)を1H NMRおよび19F NMRで分析した結果、HO−CH2−CF2−O−(C24O)n−CF2−CH2−OH(n=5,6)であることを確認した。
前記工程(1a)、(1b)、(3)〜(5)の詳細な条件を表1に示す。
<Step (6)>
In a 25 mL eggplant flask, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CO—OCH 3 (n = 5,6) 16 g, ethanol 150 g and sodium borohydride 1.1 g Was introduced and stirred. After 4 hours, 4 mL of 35% hydrogen chloride was added. The reaction solution was washed with water and extracted with tetrachlorohexafluorobutane. Tetrachlorohexachlorobutane was distilled off from the extract to obtain about 14 g of product (1-iii). As a result of analyzing the obtained product (1-iii) by 1 H NMR and 19 F NMR, HO—CH 2 —CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CH 2 —OH ( It was confirmed that n = 5, 6).
Table 1 shows the detailed conditions of the steps (1a), (1b) and (3) to (5).

[実施例2]
繰返し数が9と10のPEG混合物を使用したこと、および、表1に示す条件を採用したこと以外は、実施例1の原料調製工程および工程(1)〜(5)と同様の方法でパーフルオロポリエーテル系化合物を製造し、生成物(2−ii)17.9gを得た。得られた生成物(2−ii)を19F NMRで分析した結果、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3(n=7,8)であることを確認した。
[Example 2]
In the same manner as the raw material preparation step of Example 1 and steps (1) to (5), except that a PEG mixture having a repetition number of 9 and 10 was used and the conditions shown in Table 1 were adopted. A fluoropolyether compound was produced to obtain 17.9 g of the product (2-ii). As a result of analyzing the obtained product (2-ii) by 19 F NMR, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CO—OCH 3 (n = 7 8).

[実施例3]
和光純薬工業製ポリエチレングリコール600を使用したこと、および、表1に示す条件を採用したこと以外は実施例1の原料調製工程および工程(1)〜(5) と同様の方法でパーフルオロポリエーテル系化合物を製造し、生成物(3−ii)17.0gを得た。得られた生成物(3−ii)を19F NMRで分析した結果、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3であることを確認した。
[Example 3]
In the same manner as in the raw material preparation step and steps (1) to (5) of Example 1 except that Wako Pure Chemical Industries polyethylene glycol 600 was used and the conditions shown in Table 1 were adopted, perfluoropolyethylene was used. An ether compound was produced to obtain 17.0 g of the product (3-ii). As a result of analyzing the obtained product (3-ii) by 19 F NMR, it was confirmed that it was CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CO—OCH 3. confirmed.

[比較例1]
比較例1では、実施例1の原料調製工程で得られた生成物(1−i)の代わりにCH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=6)を用いたこと、工程(1b)、(2)および(3)を行わなかったこと以外は、概ね実施例1の工程(1a)、(4)および(5)と同様にして、パーフルオロポリエーテル系化合物の製造を試みた。具体的には以下のとおりである。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 6) was used instead of the product (1-i) obtained in the raw material preparation step of Example 1. Except that the steps (1b), (2) and (3) were not carried out, generally in the same manner as the steps (1a), (4) and (5) of Example 1 An attempt was made to produce the compound. Specifically, it is as follows.

1LオートクレーブにNaF 35gとHFTCB400mLを導入して密閉した。オートクレーブ内の撹拌を開始して、オートクレーブ内に窒素ガスを800mL/minで1時間流通してパージした。窒素ガスを800mL/minで流通しながらオートクレーブを−10℃に冷却された冷媒に浸し、オートクレーブ内が約−10℃になるまで冷却した。フッ素ガスを200mL/minで流通してオートクレーブ内を20体積%フッ素ガスでパージした。フッ素ガスを200mL/min、窒素ガスを800mL/minで流通しながら、CH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=6)4.9gをHFTCB200mLに溶解して3.3mL/minの流量で流通導入した。 Into a 1 L autoclave, 35 g of NaF and 400 mL of HFTCB were introduced and sealed. Stirring in the autoclave was started, and nitrogen gas was purged through the autoclave at 800 mL / min for 1 hour. While circulating nitrogen gas at 800 mL / min, the autoclave was immersed in a refrigerant cooled to −10 ° C., and the autoclave was cooled to about −10 ° C. Fluorine gas was circulated at 200 mL / min, and the inside of the autoclave was purged with 20 vol% fluorine gas. While flowing fluorine gas at 200 mL / min and nitrogen gas at 800 mL / min, 4.9 g of CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 6) was dissolved in 200 mL of HFTCB and 3 Circulated at a flow rate of 3 mL / min.

オートクレーブ内の撹拌を開始して、オートクレーブ内温度が約30℃になるよう外部ヒーターで加熱した。窒素ガスを450mL/min、フッ素ガスを50mL/minでオートクレーブ内に流通してフッ素化反応を開始するとともに、C66約1.5gをHFTCB30mLに溶解して0.5mL/minで流通導入した。 Stirring in the autoclave was started, and the autoclave was heated with an external heater so that the temperature inside the autoclave was about 30 ° C. Nitrogen gas was circulated in the autoclave at 450 mL / min and fluorine gas at 50 mL / min to start the fluorination reaction, and about 1.5 g of C 6 F 6 was dissolved in 30 mL of HFTCB and introduced at 0.5 mL / min. did.

66を流通導入した後、フッ素ガスの流通を停止して、窒素ガスを450mL/minで1時間流通してオートクレーブ内をパージした。窒素ガスの流通を停止してオートクレーブ内が0.1MPaAの窒素雰囲気下でメタノール40gを導入した。30分間オートクレーブの撹拌を継続した後、反応液を回収した。回収した反応液からエバポレーターで溶媒を留去して回収液3.5gを得た。得られた回収液を19F NMRで分析した結果、末端が−CF3のピークが検出され、LC分析の結果、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3が40%、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF3が25%、および、フッ素化が不十分と考えられる不純物が35%で検出された。
各工程における詳細な条件を表1に示す。
After introducing C 6 F 6 into circulation, the circulation of fluorine gas was stopped, and nitrogen gas was circulated at 450 mL / min for 1 hour to purge the autoclave. The nitrogen gas flow was stopped, and 40 g of methanol was introduced under a nitrogen atmosphere of 0.1 MPaA in the autoclave. After stirring the autoclave for 30 minutes, the reaction solution was recovered. The solvent was distilled off from the recovered reaction solution with an evaporator to obtain 3.5 g of a recovered solution. As a result of analyzing the obtained recovered liquid by 19 F NMR, a peak having a terminal —CF 3 was detected, and as a result of LC analysis, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n — CF 2 —CO—OCH 3 is 40%, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 3 is 25%, and impurities that are considered to be insufficiently fluorinated are 35%. % Was detected.
Detailed conditions in each step are shown in Table 1.

[比較例2]
比較例2では、実施例1の原料調製工程で得られた生成物(1−i)の代わりにCH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=6)を用いたこと、工程(1b)、(2)〜(4)を行わなかったこと以外は、概ね実施例1の工程(1a)および(5)と同様にして、パーフルオロポリエーテル系化合物の製造を試みた。具体的には以下のとおりである。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 6) was used instead of the product (1-i) obtained in the raw material preparation step of Example 1. In the same manner as in steps (1a) and (5) of Example 1, except that steps (1b) and (2) to (4) were not performed, a perfluoropolyether compound was produced. Tried. Specifically, it is as follows.

1LオートクレーブにNaF 35gとHFTCB400mLを導入して密閉した。オートクレーブ内の撹拌を開始して、オートクレーブ内に窒素ガスを800mL/minで1時間流通してパージした。窒素ガスを800mL/minで流通しながらオートクレーブを−10℃に冷却された冷媒に浸し、オートクレーブ内が約−10℃になるまで冷却した。フッ素ガスを200mL/minで流通してオートクレーブ内を20体積%フッ素ガスでパージした。フッ素ガスを200mL/min、窒素ガスを800mL/minで流通しながら、CH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=6)4.0gをHFTCB200mLに溶解して3.3mL/minの流量で流通導入した。 Into a 1 L autoclave, 35 g of NaF and 400 mL of HFTCB were introduced and sealed. Stirring in the autoclave was started, and nitrogen gas was purged through the autoclave at 800 mL / min for 1 hour. While circulating nitrogen gas at 800 mL / min, the autoclave was immersed in a refrigerant cooled to −10 ° C., and the autoclave was cooled to about −10 ° C. Fluorine gas was circulated at 200 mL / min, and the inside of the autoclave was purged with 20 vol% fluorine gas. While passing fluorine gas at 200 mL / min and nitrogen gas at 800 mL / min, 4.0 g of CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 6) was dissolved in 200 mL of HFTCB and 3 Circulated at a flow rate of 3 mL / min.

CH3CO−O−(C24O)n−COCH3(n=6)を流通導入した後、フッ素ガスの流通を停止して、窒素ガスを450mL/minで1時間流通してオートクレーブ内をパージした。窒素ガスの流通を停止してオートクレーブ内が0.1MPaAの窒素雰囲気下でメタノール40gを導入した。30分間オートクレーブの撹拌を継続した後、反応液を回収した。回収した反応液からエバポレーターで溶媒を留去して回収液3.6gを得た。得られた回収液をLCで分析した結果、CH3O−CO−CF2−O−(C24O)n−CF2−CO−OCH3は検出されず、フッ素化が不十分と考えられる不純物が99%で検出された。
各工程における詳細な条件を表1に示す。
After introducing CH 3 CO—O— (C 2 H 4 O) n —COCH 3 (n = 6), the flow of fluorine gas was stopped, and nitrogen gas was passed at 450 mL / min for 1 hour to autoclave The inside was purged. The nitrogen gas flow was stopped, and 40 g of methanol was introduced under a nitrogen atmosphere of 0.1 MPaA in the autoclave. After stirring the autoclave for 30 minutes, the reaction solution was recovered. The solvent was distilled off from the recovered reaction liquid with an evaporator to obtain 3.6 g of a recovered liquid. As a result of analyzing the obtained recovered liquid by LC, CH 3 O—CO—CF 2 —O— (C 2 F 4 O) n —CF 2 —CO—OCH 3 was not detected and fluorination was insufficient. Possible impurities were detected in 99%.
Detailed conditions in each step are shown in Table 1.

Figure 2018090492
Figure 2018090492

Claims (6)

下記式(i)で表される化合物、フッ化水素補足剤、不活性ガス、フッ素ガス、および溶媒を反応器に導入する工程(1)と、
前記工程(1)の後に、前記反応器からフッ化水素補足剤を除去する工程(2)と、
前記工程(2)の後に、前記反応器に不活性ガスおよびフッ素ガスを流通させる工程(3)と、
前記工程(3)を行いながら、前記反応器にパーハロゲン不飽和化合物を流通させる工程(4)とを含む、下記式(i)で表される化合物のフッ素化方法。
1−O−(R−O−)n−R2 (i)
[式(i)中、(R−O−)は直鎖構造もしくは分岐構造の炭素数2〜3の繰り返し単位を表し、R1およびR2は水酸基の保護基を表し、nは4〜20の整数を表す。]
A step (1) of introducing a compound represented by the following formula (i), a hydrogen fluoride scavenger, an inert gas, a fluorine gas, and a solvent into the reactor;
After step (1), removing hydrogen fluoride scavenger from the reactor (2);
A step (3) of passing an inert gas and a fluorine gas through the reactor after the step (2);
A method for fluorinating a compound represented by the following formula (i), comprising a step (4) of circulating a perhalogen unsaturated compound in the reactor while performing the step (3).
R 1 —O— (R—O—) n —R 2 (i)
[In the formula (i), (R—O—) represents a linear or branched repeating unit having 2 to 3 carbon atoms, R 1 and R 2 represent a hydroxyl-protecting group, and n represents 4 to 20 Represents an integer. ]
前記R1およびR2がアシル基である、請求項1に記載のフッ素化方法。 The fluorination method according to claim 1, wherein R 1 and R 2 are acyl groups. 前記フッ化水素補足剤がアルカリ金属フッ化物である、請求項1または2に記載のフッ素化方法。   The fluorination method according to claim 1 or 2, wherein the hydrogen fluoride scavenger is an alkali metal fluoride. 前記工程(1)における溶媒が完全ハロゲン置換された化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のフッ素化方法。   The fluorination method according to any one of claims 1 to 3, wherein the solvent in the step (1) is a completely halogen-substituted compound. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のフッ素化方法を含み、かつ、
前記工程(4)の後に、前記反応器に炭素数1〜3のアルコールを導入してエステル化反応を行う工程(5)を含む、下記式(ii)で表される化合物の製造方法。
3O−CO−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CO−OR4 (ii)
[式(ii)中、R3およびR4は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rfは、前記式(i)におけるRの全ての水素原子がフッ素原子に置換されたパーフルオロポリエーテル鎖を表し、nは4〜20の整数を表す。]
Including the fluorination method according to any one of claims 1 to 4, and
The manufacturing method of the compound represented by following formula (ii) including the process (5) which introduce | transduces C1-C3 alcohol into the said reactor after the said process (4), and performs esterification reaction.
R 3 O-CO-CF 2 -O- (Rf) n-2 -CF 2 -CO-OR 4 (ii)
[In Formula (ii), R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and Rf represents a perfluoropolyether in which all hydrogen atoms of R in Formula (i) are substituted with fluorine atoms. Represents a chain, and n represents an integer of 4 to 20. ]
請求項5に記載の製造方法により得られた化合物を水素化ホウ素金属によって還元する工程(6)を含む、下記式(iii)で表わされる化合物の製造方法。
HO−CH2−CF2−O−(Rf)n-2−CF2−CH2−OH (iii)
[式(iii)中、Rfおよびnは、前記式(ii)のRfおよびnと同義である。]
The manufacturing method of the compound represented by following formula (iii) including the process (6) which reduces the compound obtained by the manufacturing method of Claim 5 with a metal borohydride.
HO—CH 2 —CF 2 —O— (R f) n−2 —CF 2 —CH 2 —OH (iii)
[In the formula (iii), Rf and n have the same meanings as Rf and n in the formula (ii). ]
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