JP2018059060A - Polyimide film with adhesive - Google Patents

Polyimide film with adhesive Download PDF

Info

Publication number
JP2018059060A
JP2018059060A JP2017176256A JP2017176256A JP2018059060A JP 2018059060 A JP2018059060 A JP 2018059060A JP 2017176256 A JP2017176256 A JP 2017176256A JP 2017176256 A JP2017176256 A JP 2017176256A JP 2018059060 A JP2018059060 A JP 2018059060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide film
adhesive
adhesive layer
thickness
flat cable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017176256A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6802131B2 (en
Inventor
まい 内山
Mai Uchiyama
まい 内山
雅一 奥井
Masakazu Okui
雅一 奥井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Du Pont Toray Co Ltd filed Critical Du Pont Toray Co Ltd
Publication of JP2018059060A publication Critical patent/JP2018059060A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6802131B2 publication Critical patent/JP6802131B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C08G73/1071Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1046Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • C08G73/105Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain with oxygen only in the diamino moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B7/00Insulated conductors or cables characterised by their form
    • H01B7/08Flat or ribbon cables
    • H01B7/0838Parallel wires, sandwiched between two insulating layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2463/00Presence of epoxy resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • C09J2479/086Presence of polyamine or polyimide polyimide in the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Insulated Conductors (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film excellent in fire retardancy and useful for manufacturing of a flat cable or the like even having an adhesive layer.SOLUTION: A polyimide film has an adhesive and oxygen index of 30% or more. The polyimide film with adhesive has an adhesive layer which satisfies needle penetration amount at 100°C of 10% or less and/or needle penetration amount at 140°C of 20% or more, in the needle penetration amount to thickness of the adhesive layer in a TMA needle penetration mode measurement.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導体を接着剤層と絶縁体層を有する基材2枚の間に挟持して製造されるフラットケーブルの製造等に有用な接着剤付きポリイミドフィルム、及びこの接着剤付きポリイミドフィルムで構成されたフラットケーブルに関する。   The present invention provides a polyimide film with an adhesive useful for manufacturing a flat cable manufactured by sandwiching a conductor between two substrates having an adhesive layer and an insulator layer, and the polyimide film with an adhesive. The constructed flat cable is related.

フラットケーブルは、テレビ、携帯電話やタブレット、パーソナルコンピュータのハードディスクなど、広く電気機器に使用されている。フラットケーブルは、配線状に形成した銅箔などの導体を、絶縁体層と接着剤層を有する基材(又は、単に「フラットケーブル用基材」ということがある。)間に並べ、基材の接着剤層で挟みこむことによって製造される。   Flat cables are widely used in electrical devices such as televisions, mobile phones and tablets, and hard disks for personal computers. In a flat cable, a conductor such as a copper foil formed in a wiring shape is arranged between a base material having an insulator layer and an adhesive layer (or simply referred to as a “flat cable base material”), and the base material. It is manufactured by sandwiching with an adhesive layer.

このようなフラットケーブルには、高い難燃性が要求されており、フラットケーブルにおける難燃性を向上させようとする技術が開発されつつある。   Such a flat cable is required to have high flame retardancy, and a technique for improving the flame retardance of the flat cable is being developed.

特許文献1には、絶縁フィルム層と接着剤層を有する2枚の絶縁基板の間に、各接着剤層を内側にして複数本の導体を並列して挟み、熱融着してなるフラットケーブルにおいて、絶縁基材の絶縁フィルム層が分子骨格中に芳香族環を有し、ハロゲン不含で、限界酸素指数が30%以上の芳香族系ポリマー(ポリイミドなど)により形成されたフィルムであって、かつ、接着剤層がベースポリマー100重量部に対して金属水和物50〜200重量部を含有し、ハロゲン化物不含の組成物からなるノンハロゲン難燃フラットケーブルが開示されている。   Patent Document 1 discloses a flat cable formed by sandwiching a plurality of conductors in parallel between two insulating substrates each having an insulating film layer and an adhesive layer, with each adhesive layer inside, and heat-sealing. In the film, the insulating film layer of the insulating substrate has an aromatic ring in the molecular skeleton, does not contain halogen, and is formed of an aromatic polymer (such as polyimide) having a critical oxygen index of 30% or more. And the halogen-free flame retardant flat cable which the adhesive bond layer contains metal hydrate 50-200 weight part with respect to 100 weight part of base polymers, and consists of a halide-free composition is disclosed.

特開平5−217430号公報JP-A-5-217430

本発明の目的は、難燃性に優れた接着剤付きポリイミドフィルム(基材)及びこのポリイミドフィルムで構成されたフラットケーブルを提供することにある。   The objective of this invention is providing the flat cable comprised with the polyimide film (base material) with an adhesive agent excellent in the flame retardance, and this polyimide film.

本発明の他の目的は、耐熱性(さらには、熱による寸法安定性)に優れた接着剤付きポリイミドフィルム及びこのポリイミドフィルムで構成されたフラットケーブルを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a polyimide film with an adhesive having excellent heat resistance (and dimensional stability due to heat) and a flat cable made of the polyimide film.

本発明のさらに他の目的は、気泡の発生を効率よく抑制又は防止できる接着剤付きポリイミドフィルム及びこのポリイミドフィルムで構成されたフラットケーブルを提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a polyimide film with an adhesive capable of efficiently suppressing or preventing the generation of bubbles and a flat cable composed of the polyimide film.

本発明者らは、フラットケーブルに使用する基材フィルムの中でも、ポリイミドフィルムに着目し、接着剤層を備えたポリイミドフィルムにおいて、さらなる難燃化方法を検討したが、難燃剤や難燃助剤(例えば、特許文献1の金属水和物など)を使用することなく、難燃性を向上させることは困難であった。   Among the base film used for the flat cable, the present inventors focused on the polyimide film and examined a further flame retardant method in the polyimide film provided with the adhesive layer. It has been difficult to improve flame retardancy without using (for example, the metal hydrate of Patent Document 1).

このようの中、本発明者らは、さらなる鋭意検討を重ねた結果、ポリイミドフィルムと接着剤層に関し、ポリイミドフィルムの処方や処理を選択したり、接着剤層のTMA針入りモード測定における針入り侵入量を調整したり、ポリイミドフィルムと接着剤層との厚み比を調整することなどにより、接着剤層を備えているにもかかわらず、接着剤層に難燃剤や難燃助剤を実質的に使用しなくても(さらにはノンハロゲン系であっても)、酸素指数の高い(すなわち、難燃性の高い)接着剤付きポリイミドフィルムが得られること、さらに、このような接着剤付きポリイミドフィルムは、耐熱性や熱による寸法安定性に優れることを見出した。   Under these circumstances, the present inventors have conducted further earnest studies, and as a result, regarding the polyimide film and the adhesive layer, the prescription and processing of the polyimide film can be selected, or the adhesive layer can be used for measuring the TMA needle mode. Despite having an adhesive layer by adjusting the amount of intrusion or adjusting the thickness ratio between the polyimide film and the adhesive layer, the adhesive layer is substantially free of flame retardants and flame retardant aids. Even if it is not used (even if it is non-halogen type), a polyimide film with an adhesive having a high oxygen index (that is, high flame retardancy) can be obtained. Has found that it has excellent heat resistance and dimensional stability due to heat.

また、フラットケーブル用基材で導体を挟み、加熱してフラットケーブルを形成する際に、特にフラットケーブル用基材の接着剤層に熱硬化性樹脂(例えば、エポキシ樹脂など)を用いると、フラットケーブルの導体間に空隙が発生しやすいが、本発明者らは、接着剤層をTMA針入りモード測定の針入り侵入量を特定の範囲となるように規定することにより、フラットケーブルの導体間に空隙が発生しにくいことを見出した。
これらの知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。
Also, when a flat cable is formed by sandwiching a conductor with a flat cable base material and heating it, if a thermosetting resin (for example, epoxy resin) is used for the adhesive layer of the flat cable base material, the flat cable Although the air gap is likely to be generated between the conductors of the cable, the present inventors define the adhesive layer so that the amount of penetration into the needle of the TMA needle entering mode measurement is in a specific range, thereby preventing the gap between the conductors of the flat cable. It has been found that voids are less likely to occur.
Based on these findings, further research has been conducted and the present invention has been completed.

本発明は、以下の接着剤付きポリイミドフィルム等に関する。
[1]酸素指数が30%以上である、接着剤付きポリイミドフィルム。
[2]接着剤層の厚さが、ポリイミドフィルムの厚さの0.25〜2.3倍である[1]記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[3]接着剤層のTMA針入りモード測定の100℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの10%以下である、及び/又は接着剤層のTMA針入りモード測定の140℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの20%以上である[1]又は[2]に記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[4]接着剤層のTMA針入りモード測定の180℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの40%以上である[1]〜[3]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[5]ポリイミドフィルムが、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、ピロメリット酸二無水物及び/又は3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の芳香族酸無水物成分とを原料に含む、[1]〜[4]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[6]接着剤層が、エポキシ樹脂を含む接着成分と、他の樹脂を含む添加剤とを含む、[1]〜[5]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[7]接着剤層が、難燃剤を実質的に含まない[1]〜[6]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[8]フラットケーブルの製造に用いるための[1]〜[7]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。
[9]導体を、一対の[1]〜[8]のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルムで挟持したフラットケーブル。
The present invention relates to the following polyimide film with an adhesive and the like.
[1] A polyimide film with an adhesive having an oxygen index of 30% or more.
[2] The polyimide film with an adhesive according to [1], wherein the thickness of the adhesive layer is 0.25 to 2.3 times the thickness of the polyimide film.
[3] The amount of penetration into the needle at 100 ° C. of the adhesive layer in the TMA needle entering mode measurement is 10% or less of the thickness of the adhesive layer and / or the measurement of the adhesive layer in the TMA needle entering mode at 140 ° C. The polyimide film with an adhesive according to [1] or [2], wherein the penetration amount with a needle is 20% or more of the thickness of the adhesive layer.
[4] The polyimide with adhesive according to any one of [1] to [3], wherein the amount of penetration with a needle at 180 ° C. in the TMA needle entering mode measurement of the adhesive layer is 40% or more of the thickness of the adhesive layer. the film.
[5] The polyimide film is one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride and / or The polyimide film with an adhesive according to any one of [1] to [4], which contains, as a raw material, an aromatic acid anhydride component of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride.
[6] The polyimide film with an adhesive according to any one of [1] to [5], wherein the adhesive layer includes an adhesive component containing an epoxy resin and an additive containing another resin.
[7] The polyimide film with an adhesive according to any one of [1] to [6], wherein the adhesive layer does not substantially contain a flame retardant.
[8] The polyimide film with an adhesive according to any one of [1] to [7] for use in production of a flat cable.
[9] A flat cable in which a conductor is sandwiched between a pair of polyimide films with an adhesive according to any one of [1] to [8].

本発明のポリイミドフィルム(接着剤付きポリイミドフィルム)は、接着剤層を備えているにもかかわらず、難燃性に優れている。特に、このようなポリイミドフィルムは、接着剤層に実質的に難燃剤や難燃助剤(例えば、金属水和物、アンチモン系化合物、ハロゲン系化合物など)を含んでいなくても、高い難燃性を示す。また、実質的に、ハロゲンを含んでいなくても、優れた難燃性を実現できる。そのため、誘電率などの物性を損なうことなく、ノンハロゲン(ハロゲンフリー)で、接着剤付きポリイミドフィルムを難燃化でき、極めて有用性が高い。   The polyimide film (polyimide film with an adhesive) of the present invention is excellent in flame retardancy despite having an adhesive layer. In particular, such a polyimide film is highly difficult even if the adhesive layer does not substantially contain a flame retardant or a flame retardant aid (for example, metal hydrate, antimony compound, halogen compound, etc.). Shows flammability. Moreover, even if it does not contain a halogen substantially, the outstanding flame retardance is realizable. Therefore, it is possible to make the polyimide film with adhesive non-halogen (halogen-free) flame retardant without impairing physical properties such as dielectric constant, and is extremely useful.

また、本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、耐熱性や熱による寸法安定性に優れている。そのため、例えば、PETフィルム等では使用できない高温(例えば、180℃以上など)においても効率よく使用できる。   Moreover, the polyimide film with an adhesive of the present invention is excellent in heat resistance and dimensional stability due to heat. Therefore, for example, it can be used efficiently even at high temperatures (eg, 180 ° C. or higher) that cannot be used with PET films.

さらに、本発明の接着剤付きポリイミドフィルムでは、気泡の発生を効率よく抑制又は防止できる。そのため、例えば、導体間に発生する空隙を効率良く抑制又は防止できるなどの効果が得られる。   Furthermore, in the polyimide film with an adhesive of the present invention, the generation of bubbles can be efficiently suppressed or prevented. Therefore, for example, the effect that the space generated between the conductors can be efficiently suppressed or prevented can be obtained.

このように、本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、上記のような優れた特性を有しており、特に、フラットケーブル(フラットケーブル用基材)に用いれば、高性能のフラットケーブルを得ることができる。
フラットケーブルとしては、例えば、各種電気機器(例えば、テレビ、携帯電話、タブレット、パーソナルコンピュータ)用などとして用いられ、特に、FPD(フラットパネルディスプレイ)用に用いてもよい。
Thus, the polyimide film with an adhesive of the present invention has excellent characteristics as described above. In particular, when used for a flat cable (a substrate for a flat cable), a high-performance flat cable is obtained. Can do.
As a flat cable, for example, it is used for various electric appliances (for example, a television, a mobile phone, a tablet, a personal computer), and may be used for an FPD (flat panel display).

以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、接着剤層を備えたポリイミドフィルムであり、特定の酸素指数を有している。このような接着剤付きポリイミドフィルムは、通常、ポリイミドフィルムの片面に接着剤層を有する。なお、接着剤付きポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルム面(ポリイミドフィルムの面のうち、接着剤層が設けられていない面)側に、さらに他の層を備えていてもよい。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The polyimide film with an adhesive of the present invention is a polyimide film provided with an adhesive layer and has a specific oxygen index. Such a polyimide film with an adhesive usually has an adhesive layer on one side of the polyimide film. In addition, the polyimide film with an adhesive may further include another layer on the polyimide film surface (the surface of the polyimide film where the adhesive layer is not provided).

[ポリイミドフィルム]
ポリイミドフィルムを得るに際しては、まず、芳香族ジアミン成分及び芳香族酸無水物成分を有機溶媒中で重合させることにより、ポリアミック酸溶液(以下、ポリアミド酸溶液ともいう)を得る。
ポリアミック酸溶液は、芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分を主成分とする化学物質を有機溶媒中で重合させることによって得ることができる。
[Polyimide film]
In obtaining a polyimide film, first, an aromatic diamine component and an aromatic acid anhydride component are polymerized in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution (hereinafter also referred to as a polyamic acid solution).
The polyamic acid solution can be obtained by polymerizing a chemical substance mainly composed of an aromatic diamine component and an aromatic acid anhydride component in an organic solvent.

芳香族ジアミン成分としては、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンジジン、パラキシリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメトキシベンジジン、1,4−ビス(3−メチル−5−アミノフェニル)ベンゼン及びこれらのアミド形成性誘導体が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the aromatic diamine component include paraphenylene diamine, metaphenylene diamine, benzidine, paraxylylene diamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4, 4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethoxybenzidine, 1,4-bis (3-methyl-5-amino Phenyl) benzene and their amide-forming derivatives. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

芳香族ジアミン成分としては、接着剤付きポリイミドフィルムが耐熱性に優れ、フラットケーブルを形成した際に耐熱性や熱による寸法安定性が優れるなどの観点から、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上が好ましく、パラフェニレンジアミンと4,4’−ジアミノジフェニルエーテルの組み合わせがより好ましい。   As the aromatic diamine component, paraphenylenediamine, 4,4′-diamino is used from the viewpoint that the polyimide film with an adhesive is excellent in heat resistance and has excellent heat resistance and dimensional stability due to heat when a flat cable is formed. One or more selected from the group consisting of diphenyl ether and 3,4'-diaminodiphenyl ether is preferable, and a combination of paraphenylenediamine and 4,4'-diaminodiphenyl ether is more preferable.

ポリアミック酸溶液の形成に使用される原料としては、本発明の効果を妨げない範囲で前記芳香族ジアミン成分以外の他のジアミン成分を含んでもよい。
他のジアミン成分としては、例えば、3,3'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、3,4'−ジアミノジフェニルプロパン、3,3'−ジアミノジフェニルプロパン、3,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルサルファイド、3,4'−ジアミノジフェニルサルファイド、3,3'−ジアミノジフェニルサルファイド、3,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、2,6−ジアミノピリジン、ビス−(4−アミノフェニル)ジエチルシラン、3,3'−ジクロロベンジジン、ビス−(4−アミノフェニル)エチルホスフィノキサイド、ビス−(4−アミノフェニル)フェニルホスフィノキサイド、ビス−(4−アミノフェニル)−N−フェニルアミン、ビス−(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,4'−ジメチル−3',4−ジアミノビフェニル−3,3'−ジメトキシベンチジン、2,4−ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、p−ビス(2−メチル−4−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス−(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル)ベンゼン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,3−ジアミノアダマンタン、3,3'−ジアミノ−1,1'−ジアミノアダマンタン、3,3'−ジアミノメチル−1,1'−ジアダマンタン、ビス(p−アミノシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4'−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシヘキサエチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾール、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド、4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
As a raw material used for formation of a polyamic acid solution, you may contain other diamine components other than the said aromatic diamine component in the range which does not prevent the effect of this invention.
Examples of other diamine components include 3,3′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 3,4′-diaminodiphenylpropane, 3,3′-diaminodiphenylpropane, and 3,4′-diamino. Diphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ′ -Diaminodiphenylsulfone, 2,6-diaminopyridine, bis- (4-aminophenyl) diethylsilane, 3,3'-dichlorobenzidine, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphinoxide, bis- (4- Aminophenyl) phenylphosphinoxide, bis- (4- Minophenyl) -N-phenylamine, bis- (4-aminophenyl) -N-methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,4′-dimethyl -3 ′, 4-diaminobiphenyl-3,3′-dimethoxybenzidine, 2,4-bis (p-β-amino-t-butylphenyl) ether, bis (p-β-amino-t-butylphenyl) Ether, p-bis (2-methyl-4-aminopentyl) benzene, p-bis- (1,1-dimethyl-5-aminopentyl) benzene, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,3 -Diaminoadamantane, 3,3'-diamino-1,1'-diaminoadamantane, 3,3'-diaminomethyl-1,1'-diadamantane, bis (p-aminocyclohexyl) ) Methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2 -Bis (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexaethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1 , 4-diaminocyclohexane, 1,12-diaminooctadecane, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, N- (3-amino Phenyl) -4-amino Nzuamido, 4-aminophenyl-3-aminobenzoate, and the like. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

芳香族酸無水物成分の具体例としては、例えば、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸及びこれらのアミド形成性誘導体等の芳香族テトラカルボン酸の酸無水物成分が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   Specific examples of the aromatic acid anhydride component include pyromellitic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3, 3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, pyridine-2,3,5 Examples thereof include acid anhydride components of aromatic tetracarboxylic acids such as 6-tetracarboxylic acid and amide-forming derivatives thereof. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

芳香族酸無水物成分としては、接着剤付きポリイミドフィルムが耐熱性に優れ、フラットケーブルを形成した際に耐熱性や熱による寸法安定性が優れるなどの観点から、ピロメリット酸二無水物及び/又は3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。   As an aromatic acid anhydride component, pyromellitic dianhydride and / or pyromellitic acid dianhydride and / or from the viewpoint of excellent heat resistance of a polyimide film with an adhesive and excellent heat resistance and dimensional stability due to heat when a flat cable is formed. Alternatively, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferable.

本発明において、ポリアミック酸溶液の形成に使用される原料としては、本発明の効果を妨げない範囲で、前記芳香族酸無水物成分以外の他の酸無水物成分を含んでもよい。
他の酸無水物成分としては、例えば、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−デカヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,5,6−ヘキサヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−テトラクロロ−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,8,9,10−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、3,4,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
In this invention, as a raw material used for formation of a polyamic acid solution, you may contain other acid anhydride components other than the said aromatic acid anhydride component in the range which does not prevent the effect of this invention.
Examples of other acid anhydride components include 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8, and the like. -Decahydronaphthalene tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,5,6-hexahydronaphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloro-1,4,5,8-naphthalene Tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloro-1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloro-1,4,5,8-naphthalenetetra Carboxylic dianhydride, 1,8,9,10-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl Ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane Dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic acid A dianhydride etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

なお、芳香族ジアミン成分及び/又は芳香族酸無水物成分は、非ハロゲン系成分(ハロゲンを含有しない成分)であってもよい。   The aromatic diamine component and / or aromatic acid anhydride component may be a non-halogen component (a component not containing halogen).

本発明において、芳香族ジアミン成分及び酸無水物成分の組み合わせとしては、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、ピロメリット酸二無水物及び/又は3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の芳香族酸無水物成分の組み合わせが特に好ましい。   In the present invention, the combination of the aromatic diamine component and the acid anhydride component includes at least one aromatic diamine component selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether. And a combination of pyromellitic dianhydride and / or an aromatic acid anhydride component of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is particularly preferable.

芳香族ジアミン成分がパラフェニレンジアミンと4,4'−ジアミノジフェニルエーテルを含む場合、パラフェニレンジアミンと4,4'−ジアミノジフェニルエーテルのモル比は、50/50〜0/100であることが好ましく、40/60〜0/100であることがより好ましい。   When the aromatic diamine component contains paraphenylene diamine and 4,4′-diaminodiphenyl ether, the molar ratio of paraphenylene diamine to 4,4′-diaminodiphenyl ether is preferably 50/50 to 0/100, More preferably, it is / 60 to 0/100.

芳香族酸無水物成分がピロメリット酸二無水物と3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含む場合、ピロメリット酸二無水物と3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物のモル比は、100/0〜50/50であることが好ましく、100/0〜60/40であることがより好ましい。   When the aromatic acid anhydride component comprises pyromellitic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ′, 4,4 The molar ratio of '-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferably 100/0 to 50/50, more preferably 100/0 to 60/40.

また、ポリアミック酸溶液の形成に使用される有機溶媒の具体例としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド等のホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン等のピロリドン系溶媒、フェノール、o−,m−,或いはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール等のフェノール系溶媒、ヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができ、さらには、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素と組み合わせて使用することができる。   Specific examples of the organic solvent used for forming the polyamic acid solution include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide. Acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m-, or Examples thereof include phenolic solvents such as p-cresol, xylenol, halogenated phenol and catechol, and aprotic polar solvents such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone. These can be used singly or in combination of two or more, and further can be used in combination with aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene.

ポリアミック酸溶液の重合方法は公知のいずれの方法で行ってもよく、例えば、
(1)先に芳香族ジアミン成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族酸無水物成分を芳香族ジアミン成分全量と当量になるよう加えて重合する方法、
(2)先に芳香族酸無水物成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族ジアミン成分を芳香族酸無水物成分と当量になるよう加えて重合する方法、
(3)一方の芳香族ジアミン成分を溶媒中に入れた後、反応成分に対して一方の芳香族酸無水物成分が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、もう一方の芳香族ジアミン成分を添加し、続いてもう一方の芳香族酸無水物成分を全芳香族ジアミン成分と全芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるよう添加して重合する方法、
(4)一方の芳香族酸無水物成分を溶媒中に入れた後、反応成分に対して一方の芳香族ジアミン成分が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、もう一方の芳香族酸無水物成分を添加し、続いてもう一方の芳香族ジアミン成分を全芳香族ジアミン成分と全芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるよう添加して重合する方法、
(5)溶媒中で一方の芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分をどちらかが過剰になるよう反応させてポリアミック酸溶液(A)を調整し、別の溶媒中でもう一方の芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分をどちらかが過剰になるよう反応させポリアミック酸溶液(B)を調整する。こうして得られた各ポリアミック酸溶液(A)と(B)を混合し、重合を完結する方法。この時ポリアミック酸溶液(A)を調整するに際し芳香族ジアミン成分が過剰の場合、ポリアミック酸溶液(B)では芳香族酸無水物成分を過剰に、またポリアミック酸溶液(A)で芳香族酸無水物成分が過剰の場合、ポリアミック酸溶液(B)では芳香族ジアミン成分を過剰にし、ポリアミック酸溶液(A)と(B)を混ぜ合わせこれら反応に使用される全芳香族ジアミン成分と全芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるよう調整する方法、等が挙げられる。
なお、重合方法はこれらに限定されることはなく、その他公知の方法を用いてもよい。
The polymerization method of the polyamic acid solution may be performed by any known method, for example,
(1) A method in which an aromatic diamine component total amount is first put in a solvent, and then an aromatic acid anhydride component is added so as to be equivalent to the aromatic diamine component total amount, followed by polymerization,
(2) A method in which the entire amount of the aromatic acid anhydride component is first put in a solvent, and then the aromatic diamine component is added so as to be equivalent to the aromatic acid anhydride component for polymerization.
(3) After one aromatic diamine component is put in a solvent, after mixing for a time required for the reaction at a ratio of 95 to 105 mol% of one aromatic acid anhydride component with respect to the reaction component, A method in which one aromatic diamine component is added, and then the other aromatic acid anhydride component is added and polymerized so that the total aromatic diamine component and the total aromatic acid anhydride component are approximately equivalent,
(4) After one aromatic acid anhydride component is placed in a solvent, after mixing for one reaction time at a ratio of 95 to 105 mol% of one aromatic diamine component with respect to the reaction component, A method in which one aromatic acid anhydride component is added, and then the other aromatic diamine component is added and polymerized so that the wholly aromatic diamine component and the wholly aromatic acid anhydride component are approximately equivalent,
(5) A polyamic acid solution (A) is prepared by reacting one aromatic diamine component and an aromatic acid anhydride component in a solvent so that either one becomes excessive, and the other aromatic diamine component in another solvent. The polyamic acid solution (B) is prepared by reacting either the diamine component or the aromatic acid anhydride component so as to be excessive. A method in which the polyamic acid solutions (A) and (B) thus obtained are mixed to complete the polymerization. At this time, when adjusting the polyamic acid solution (A), if the aromatic diamine component is excessive, the polyamic acid solution (B) has excessive aromatic acid anhydride component, and the polyamic acid solution (A) has aromatic acid anhydride. When the component is excessive, in the polyamic acid solution (B), the aromatic diamine component is excessive, and the polyamic acid solutions (A) and (B) are mixed and the wholly aromatic diamine component and wholly aromatic used in these reactions. The method of adjusting so that an acid anhydride component may become substantially equivalent, etc. are mentioned.
The polymerization method is not limited to these, and other known methods may be used.

本発明においてポリアミック酸を構成する芳香族酸無水物成分と芳香族ジアミン成分とは、それぞれのモル数が大略等しくなる割合で重合されるが、その一方が10モル%、好ましくは5モル%の範囲内で他方に対して過剰に配合されてもよい。   In the present invention, the aromatic acid anhydride component and the aromatic diamine component constituting the polyamic acid are polymerized at a ratio in which the respective mole numbers are approximately equal, and one of them is 10 mol%, preferably 5 mol%. You may mix | blend excessively with respect to the other within the range.

重合反応は、有機溶媒中で撹拌しながら行うことが好ましい。重合温度は、特に限定されないが、通常は、反応溶液の内温0〜80℃で行なわれる。重合時間は、特に限定されないが、10分〜30時間連続して行うことが好ましい。重合反応は、必要により重合反応を分割したり、温度を上下させてもよい。両反応体の添加順序には特に制限はないが、芳香族ジアミン成分の溶液中に芳香族酸無水物を添加することが好ましい。重合反応中に真空脱泡することは、良質なポリアミック酸の有機溶媒溶液を製造するのに有効な方法である。また、重合反応の前に芳香族ジアミン類に少量の末端封止剤を添加することによって、重合反応の制御を行ってもよい。前記末端封止剤は、特に限定されず、公知のものを使用することができる。   The polymerization reaction is preferably performed with stirring in an organic solvent. The polymerization temperature is not particularly limited, but is usually carried out at an internal temperature of the reaction solution of 0 to 80 ° C. The polymerization time is not particularly limited, but it is preferably performed continuously for 10 minutes to 30 hours. In the polymerization reaction, the polymerization reaction may be divided or the temperature may be increased or decreased as necessary. Although there is no restriction | limiting in particular in the addition order of both reactants, It is preferable to add an aromatic acid anhydride in the solution of an aromatic diamine component. Vacuum degassing during the polymerization reaction is an effective method for producing a high-quality organic solvent solution of polyamic acid. Further, the polymerization reaction may be controlled by adding a small amount of an end-capping agent to the aromatic diamine before the polymerization reaction. The end-capping agent is not particularly limited, and a known one can be used.

こうして得られるポリアミック酸溶液は、固形分を通常5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%含有する。また、その粘度は、ブルックフィールド粘度計による測定値であり、特に限定されないが、通常10〜2000Pa・s(100〜20000poise)であり、安定した送液のために、好ましくは100〜1000Pa・s(1000〜10000poise)である。尚、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。   The polyamic acid solution thus obtained contains a solid content of usually 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight. The viscosity is a value measured by a Brookfield viscometer and is not particularly limited, but is usually 10 to 2000 Pa · s (100 to 20000 poise), and preferably 100 to 1000 Pa · s for stable liquid feeding. (1000-10000 poise). In addition, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

前記ポリアミック酸溶液を加熱することにより、ポリイミドフィルムを製造することができる。
ポリイミドフィルムを製造する方法としては、例えば、ポリアミック酸溶液をフィルム状にキャストし熱的に脱環化脱溶媒させてポリイミドフィルムを得る方法、ポリアミック酸溶液に環化触媒及び脱水剤を混合し化学的に脱環化させてゲルフィルムを作製し、これを加熱脱溶媒することによりポリイミドフィルムを得る方法が挙げられるが、後者の方が好ましい。
A polyimide film can be produced by heating the polyamic acid solution.
As a method for producing a polyimide film, for example, a method in which a polyamic acid solution is cast into a film and thermally decyclized and desolvated to obtain a polyimide film, a cyclization catalyst and a dehydrating agent are mixed in the polyamic acid solution, and a chemical is obtained. A method of obtaining a polyimide film by preparing a gel film by decyclizing it and heating and desolvating it is preferred, but the latter is preferred.

化学的に脱環化させる方法においては、まず上記ポリアミック酸溶液を調製する。上記ポリアミック酸溶液は、環化触媒(イミド化触媒)、脱水剤及びゲル化遅延剤等を含有することができる。   In the method of chemically decyclizing, first, the polyamic acid solution is prepared. The polyamic acid solution can contain a cyclization catalyst (imidization catalyst), a dehydrating agent, a gelation retarder, and the like.

環化触媒の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチレンジアミン等の脂肪族第3級アミン、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン、イソキノリン、ピリジン、β−ピコリン等の複素環式第3級アミン等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を併用できる。なかでも複素環式第3級アミンを少なくとも一種以上使用する態様が好ましい。   Specific examples of the cyclization catalyst include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylenediamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as isoquinoline, pyridine, and β-picoline. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, an embodiment in which at least one heterocyclic tertiary amine is used is preferable.

脱水剤の具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族カルボン酸無水物、無水安息香酸等の芳香族カルボン酸無水物等が挙げられるが、なかでも無水酢酸及び/又は無水安息香酸が好ましい。   Specific examples of the dehydrating agent include aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic carboxylic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Among them, acetic anhydride and / or Benzoic anhydride is preferred.

ポリアミック酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法としては、例えば、環化触媒及び脱水剤を含有せしめたポリアミック酸溶液をスリット付き口金等から支持体上に流延してフィルム状に成形し、支持体上でイミド化を一部進行させて自己支持性を有するゲルフィルムとした後、支持体より剥離して熱処理を行うことにより、ポリイミドフィルムを得る方法が挙げられる。   As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, for example, a polyamic acid solution containing a cyclization catalyst and a dehydrating agent is cast on a support from a base with a slit and formed into a film shape. There is a method of obtaining a polyimide film by partly proceeding imidization to obtain a gel film having self-supporting property, and then performing heat treatment after peeling from the support.

上記ポリアミック酸溶液は、加熱された支持体上に流延され、支持体上で閉環反応をし、自己支持性を有するゲルフィルムとなって支持体から剥離される。   The polyamic acid solution is cast on a heated support, undergoes a ring-closing reaction on the support, and becomes a gel film having self-supporting properties and is peeled off from the support.

上記支持体とは、金属製の回転ドラムやエンドレスベルトであり、その温度は液体又は気体の熱媒、及び/又は電気ヒーター等の輻射熱により制御される。   The support is a metal rotating drum or an endless belt, and its temperature is controlled by radiant heat from a liquid or gaseous heat medium and / or an electric heater.

上記ゲルフィルムは、支持体からの受熱及び/又は熱風や電気ヒーター等の熱源からの受熱により、通常30〜200℃、好ましくは40〜150℃に加熱されて閉環反応し、遊離した有機溶媒等の揮発分を乾燥させることにより自己支持性を有するようになり、支持体から剥離される。   The gel film is usually heated to 30 to 200 ° C., preferably 40 to 150 ° C. by receiving heat from the support and / or receiving heat from a heat source such as hot air or an electric heater. It becomes self-supporting by drying the volatile matter of and is peeled from the support.

上記支持体から剥離されたゲルフィルムは、通常、回転ロールにより走行速度を規制しながら走行方向に延伸される。延伸は、通常は140℃以下の温度で1.01〜1.90倍、好ましくは1.05〜1.60倍、さらに好ましくは1.10〜1.50倍の倍率で実施される。走行方向に延伸されたゲルフィルムは、テンター装置に導入され、テンタークリップに幅方向両端部を把持されて、テンタークリップと共に走行しながら、幅方法へ延伸される。   The gel film peeled off from the support is usually stretched in the running direction while regulating the running speed with a rotating roll. Stretching is usually carried out at a temperature of 140 ° C. or lower at a magnification of 1.01-1.90 times, preferably 1.05-1.60 times, more preferably 1.10-1.50 times. The gel film stretched in the running direction is introduced into the tenter device, and both ends in the width direction are held by the tenter clip, and stretched in the width method while running with the tenter clip.

上記の延伸されたゲルフィルムは、通常、風、赤外ヒーター等で15秒から30分加熱される。次いで、熱風及び/又は電気ヒーター等により、通常、250〜500℃の温度で15秒〜30分熱処理を行う。   The stretched gel film is usually heated for 15 seconds to 30 minutes with a wind, an infrared heater or the like. Next, heat treatment is usually performed at a temperature of 250 to 500 ° C. for 15 seconds to 30 minutes with hot air and / or an electric heater or the like.

また、ポリイミドフィルムの厚みは、走行速度によって調整することができる。ポリイミドフィルムの厚みは、目的とする積層フィルムの厚みや使用するポリイミドフィルムの枚数等に合わせて適宜選択すれば良い。   Moreover, the thickness of a polyimide film can be adjusted with a running speed. What is necessary is just to select the thickness of a polyimide film suitably according to the thickness of the target laminated | multilayer film, the number of sheets of the polyimide film to be used, etc.

このようにして得られたポリイミドフィルムに対して、さらにアニール処理を行うことが好ましい。アニール処理により、効率良く熱収縮率を小さくしやすい(具体的には、例えば、200℃で60分加熱後の熱収縮率を0.2%以下とできる)。アニール処理の方法は、特に限定されず、常法に従ってよい。アニール処理の温度としては、特に限定されないが、200〜500℃が好ましく、200〜370℃がより好ましく、210〜350℃が特に好ましい。具体的には、前記温度範囲に加熱された炉の中を、低張力下にてフィルムを走行させ、アニール処理を行うことが好ましい。炉の中でフィルムが滞留する時間が処理時間となるが、走行速度を変えることでコントロールすることになり、5秒〜5分の処理時間であることが好ましい。また走行時のフィルム張力は10〜50N/mが好ましく、さらには20〜30N/mが好ましい。   It is preferable to further anneal the polyimide film thus obtained. By annealing, the thermal shrinkage rate can be easily reduced efficiently (specifically, for example, the thermal shrinkage rate after heating at 200 ° C. for 60 minutes can be 0.2% or less). The method of annealing treatment is not particularly limited, and may be according to a conventional method. Although it does not specifically limit as temperature of annealing treatment, 200-500 degreeC is preferable, 200-370 degreeC is more preferable, 210-350 degreeC is especially preferable. Specifically, it is preferable to carry out the annealing treatment by running the film in a furnace heated to the above temperature range under low tension. The time during which the film stays in the furnace is the processing time, but it is controlled by changing the running speed, and the processing time is preferably 5 seconds to 5 minutes. The film tension during running is preferably 10 to 50 N / m, more preferably 20 to 30 N / m.

ポリイミドフィルムは、フィラー(例えば、無機粒子、有機フィラーなど)を含んでいてもよく、無機粒子を含むことが好ましい。
ポリイミドフィルム中のフィラーの含有量は、特に限定されないが、例えば0.03〜1重量%、好ましくは0.05〜0.8重量%程度であってよい。
The polyimide film may contain a filler (for example, inorganic particles, organic filler, etc.), and preferably contains inorganic particles.
Although content of the filler in a polyimide film is not specifically limited, For example, it may be 0.03-1 weight%, Preferably it may be about 0.05-0.8 weight%.

ポリイミドフィルムにフィラーを含有させる方法は、特に限定されないが、上記したポリアミック酸溶液にフィラーを添加してもよい。フィラーは、予め重合したポリアミック酸溶液に添加してもよいし、フィラーの存在下でポリアミック酸溶液を重合してもよい。   Although the method of making a polyimide film contain a filler is not specifically limited, You may add a filler to an above described polyamic acid solution. The filler may be added to a previously polymerized polyamic acid solution, or the polyamic acid solution may be polymerized in the presence of the filler.

ポリイミドフィルムにおいて、200℃で60分加熱後の熱収縮率は、特に限定されないが、例えば、0.2%以下(例えば、0.01〜0.15%)、好ましくは0.15%以下(例えば、0.01〜0.1%)、さらに好ましくは0.1%以下(例えば、0.01〜0.07%)であってもよい。このようなポリイミドフィルムを使用することで、接着剤付きポリイミドフィルムにおける熱収縮率も効率良く小さくしやすい。
ポリイミドフィルムの200℃で60分加熱後の熱収縮率は、25℃、60%RHに調整された部屋に2時間以上放置した後のフィルム寸法(L1)を、CNC画像処理装置システムNEXIV VM−250(ニコン製)を用いて測定し、続いて200℃で60分間加熱した後再び25℃、60%RHに調整された部屋に1日間放置した後のフィルム寸法(L2)を、前記CNC画像処理装置システムを用いて測定し、下記式により算出することができる。
熱収縮率(%)=−{(L2−L1)/L1}×100
In the polyimide film, the heat shrinkage ratio after heating at 200 ° C. for 60 minutes is not particularly limited, but is, for example, 0.2% or less (for example, 0.01 to 0.15%), preferably 0.15% or less ( For example, it may be 0.01 to 0.1%), more preferably 0.1% or less (for example, 0.01 to 0.07%). By using such a polyimide film, it is easy to efficiently reduce the thermal shrinkage rate in the polyimide film with an adhesive.
The heat shrinkage rate after heating the polyimide film at 200 ° C. for 60 minutes is the CNC image processing system NEXIV VM- after the film size (L1) after being left in a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH for 2 hours or more. The film dimensions (L2) after measurement using a 250 (Nikon), followed by heating at 200 ° C. for 60 minutes and then leaving again in a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH for one day are measured with the CNC image. It can be measured using a processing apparatus system and calculated by the following formula.
Thermal contraction rate (%) = − {(L2−L1) / L1} × 100

ポリイミドフィルムの平均線膨張係数は、特に限定されないが、例えば0〜100ppm/℃、好ましくは0〜50ppm/℃、より好ましくは3〜35ppm/℃であってもよい。前記熱膨張係数は、島津製作所製TMA−50を使用し、測定温度範囲:50〜200℃、昇温速度:10℃/分の条件で測定することができる。   Although the average linear expansion coefficient of a polyimide film is not specifically limited, For example, 0-100 ppm / degrees C, Preferably it is 0-50 ppm / degrees C, More preferably, 3-35 ppm / degrees C may be sufficient. The thermal expansion coefficient can be measured using TMA-50 manufactured by Shimadzu Corporation under the conditions of a measurement temperature range: 50 to 200 ° C. and a temperature increase rate: 10 ° C./min.

ポリイミドフィルムの表面粗さRmaxは、接着剤層や接着剤層と反対面に貼り合わせる補強板との接着性が向上するなどの観点から、好ましくは、0.6μm以上(例えば、0.6〜2μm)程度であってよい。また、ポリイミドフィルムの表面粗さRzは、接着剤層との接着性が向上するなどの観点から、好ましくは、0.3μm以上(例えば、0.3〜1.2μm)程度であってよい。ポリイミドフィルムの表面粗さの測定は、JIS B 0601(2001)に従ってよい。
このような表面粗さを有するポリイミドフィルムを得る方法は、特に限定されないが、例えば、公知の表面処理(例えば、ウェットブラスト処理、サンドマット処理、樹脂マット処理、プラズマ処理等など)によって得ることができる。尚、表面処理は、ポリイミドフィルムの片面でも両面でもよい。
The surface roughness Rmax of the polyimide film is preferably 0.6 μm or more (for example, 0.6 to 0.6 μm or more from the viewpoint of improving the adhesiveness between the adhesive layer and the reinforcing plate bonded to the surface opposite to the adhesive layer). 2 μm). Further, the surface roughness Rz of the polyimide film is preferably about 0.3 μm or more (for example, 0.3 to 1.2 μm) from the viewpoint of improving the adhesiveness with the adhesive layer. The measurement of the surface roughness of the polyimide film may be in accordance with JIS B 0601 (2001).
A method for obtaining a polyimide film having such a surface roughness is not particularly limited. For example, it can be obtained by a known surface treatment (for example, wet blast treatment, sand mat treatment, resin mat treatment, plasma treatment, etc.). it can. The surface treatment may be performed on one side or both sides of the polyimide film.

なお、接着剤付きポリイミドフィルムにおいて、ポリイミドフィルムは、実質的に非ハロゲン系ポリイミドフィルム(ハロゲンを含有しないポリイミドフィルム)であってもよく、後述の接着剤層と同様に、実質的に難燃剤(難燃助剤)を含有しないポリイミドフィルムであってもよい。   In addition, in the polyimide film with an adhesive, the polyimide film may be a substantially non-halogen-based polyimide film (a polyimide film not containing a halogen). A polyimide film containing no flame retardant aid may be used.

[接着剤層]
接着剤としては、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されないが、通常、接着成分を含む。
接着成分としては、例えば、熱可塑性樹脂(例えば、ポリアミド樹脂など)、熱硬化性樹脂(例えば、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂など)などが挙げられ、熱硬化性樹脂が好ましい。
[Adhesive layer]
The adhesive is not particularly limited as long as it can form an adhesive layer, but usually contains an adhesive component.
Examples of the adhesive component include thermoplastic resins (for example, polyamide resins), thermosetting resins (for example, unsaturated polyester resins, epoxy resins), and the like, and thermosetting resins are preferable.

接着剤層は、接着性を損なわない範囲で、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、難燃剤(又は難燃助剤)、酸化防止剤、架橋剤、接着成分の範疇に含まれない樹脂{以下、単に「他の樹脂」ともいう。例えば、エラストマー(例えば、スチレン系エラストマーなど)}などが挙げられる。
特に、接着剤層は、難燃剤(難燃助剤を含む)を含んでいてもよいが、実質的に難燃剤を含んでいなくてもよい。本発明では、実質的に接着剤層に難燃剤を含んでいなくても、優れた難燃性を発現できる。
The adhesive layer may contain an additive as long as the adhesiveness is not impaired. As the additive, for example, a flame retardant (or a flame retardant aid), an antioxidant, a crosslinking agent, a resin not included in the category of an adhesive component (hereinafter also simply referred to as “other resin”). For example, an elastomer (for example, a styrene-based elastomer)} or the like can be given.
In particular, the adhesive layer may contain a flame retardant (including a flame retardant aid), but may not substantially contain a flame retardant. In the present invention, excellent flame retardancy can be exhibited even if the adhesive layer does not substantially contain a flame retardant.

難燃剤(難燃助剤を含む)としては、汎用の成分、例えば、金属水和物[例えば、金属水酸化物(例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなど)、酸化スズ水和物、塩基性炭酸マグネシウムなど]、ハロゲン系化合物{例えば、ハロゲン含有低分子化合物(デカブロモジフェニルエーテル、ハロゲン化ビスフェノールAなど)、ハロゲン含有樹脂[例えば、エポキシ樹脂(臭素化エポキシ樹脂など)など]など}、アンチモン系化合物(例えば、三酸化アンチモンなど)、リン系化合物(例えば、リン含有オリゴマー、リン酸アンモニウム、トリスジフェニルホスフィン酸アルミニウムなど)などが挙げられる。   Flame retardants (including flame retardant aids) include general-purpose components such as metal hydrates [for example, metal hydroxides (eg, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, etc.) , Tin oxide hydrate, basic magnesium carbonate, etc.], halogen compounds {eg, halogen-containing low molecular weight compounds (decabromodiphenyl ether, halogenated bisphenol A, etc.), halogen-containing resins [eg, epoxy resins (brominated epoxy resins) Etc.], etc.], antimony compounds (eg, antimony trioxide, etc.), phosphorus compounds (eg, phosphorus-containing oligomers, ammonium phosphate, aluminum trisdiphenylphosphinate), and the like.

また、接着剤層は、溶剤(例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、ジメチルケトンなどのケトン系溶剤など)を含んでいてもよい。   The adhesive layer may contain a solvent (for example, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or xylene, a ketone solvent such as methyl ethyl ketone or dimethyl ketone).

接着剤層において、添加剤(特に、難燃剤でない添加剤)は、接着成分1重量部に対して、例えば、1.5〜200重量部(例えば、2〜170重量部)、好ましくは2〜150重量部(例えば、3〜140重量部)、さらに好ましくは3〜120重量部(例えば、5〜100重量部)程度であってよい。   In the adhesive layer, the additive (particularly an additive that is not a flame retardant) is, for example, 1.5 to 200 parts by weight (for example, 2 to 170 parts by weight), preferably 2 to 1 part by weight of the adhesive component. It may be about 150 parts by weight (for example, 3 to 140 parts by weight), more preferably about 3 to 120 parts by weight (for example, 5 to 100 parts by weight).

特に、難燃剤については、接着剤層が難燃剤を含む場合であっても、実質的に含まないレベルであるのが好ましく、難燃剤の割合は、例えば、接着剤層の構成成分(固形分)全体に対して、20重量%以下、好ましくは10重量%以下、さらに好ましくは5重量%以下、特に好ましくは3重量%以下であってもよい。   In particular, for the flame retardant, even if the adhesive layer contains a flame retardant, it is preferably at a level that does not substantially contain the flame retardant, and the ratio of the flame retardant is, for example, a component of the adhesive layer (solid content ) 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 3% by weight or less based on the whole.

また、接着剤層は、実質的に非ハロゲン系(ハロゲンフリー、ハロゲンを含有しない)であってもよい。   Further, the adhesive layer may be substantially non-halogen (halogen-free, halogen-free).

[接着剤付きポリイミドフィルム]
接着剤付きポリイミドフィルムにおいて、ポリイミドフィルムの厚さ(平均厚さ)は、例えば1〜150μm(例えば、3〜125μm)、好ましくは5〜120μm(例えば、7〜100μm)、より好ましくは10〜80μm(例えば、15〜50μm)程度であってもよい。
[Polyimide film with adhesive]
In the polyimide film with an adhesive, the thickness (average thickness) of the polyimide film is, for example, 1 to 150 μm (for example, 3 to 125 μm), preferably 5 to 120 μm (for example, 7 to 100 μm), and more preferably 10 to 80 μm. (For example, about 15-50 micrometers) may be sufficient.

接着剤付きポリイミドフィルムにおいて、接着剤層の厚さ(平均厚さ)は、特に限定されないが、例えば、300μm以下(例えば、1〜250μm)、好ましくは200μm以下(例えば、2〜180μm)、さらに好ましくは150μm以下(例えば、3〜120μm)、特に100μm以下(例えば、5〜80μm)であってもよく、通常1〜50μm(例えば、3〜40μm、好ましくは5〜35μm、さらに好ましくは10〜30μm)であってもよい。   In the polyimide film with an adhesive, the thickness (average thickness) of the adhesive layer is not particularly limited, but is, for example, 300 μm or less (for example, 1 to 250 μm), preferably 200 μm or less (for example, 2 to 180 μm), It may be preferably 150 μm or less (for example, 3 to 120 μm), particularly 100 μm or less (for example, 5 to 80 μm), and usually 1 to 50 μm (for example, 3 to 40 μm, preferably 5 to 35 μm, more preferably 10 to 10 μm). 30 μm).

特に、接着剤層の厚さ(平均厚さ)は、接着剤付きポリイミドフィルムの全体厚さに対してあまり大きくなりすぎないのが好ましく、例えば、ポリイミドフィルム(接着剤層を設けていないポリイミドフィルム)の厚さ(平均厚さ)に対して、3倍以下(例えば、0.01〜2.8倍)の範囲から選択でき、例えば、2.5倍以下(例えば、0.05〜2.4倍)、好ましくは2.3倍以下(例えば、0.1〜2.2倍)、さらに好ましくは2倍以下(例えば、0.15〜1.8倍)、特に1.5倍以下(例えば、0.2〜1.2倍)であってもよく、通常0.25〜2.3倍であってもよい。   In particular, the thickness of the adhesive layer (average thickness) is preferably not too large relative to the total thickness of the polyimide film with adhesive, for example, a polyimide film (a polyimide film without an adhesive layer) ) Thickness (average thickness) of 3 times or less (for example, 0.01 to 2.8 times), for example, 2.5 times or less (for example, 0.05 to 2. 4 times), preferably 2.3 times or less (for example, 0.1 to 2.2 times), more preferably 2 times or less (for example, 0.15 to 1.8 times), particularly 1.5 times or less ( For example, it may be 0.2 to 1.2 times), and may be usually 0.25 to 2.3 times.

接着剤層の厚さを上記のように調整することで、難燃性などに優れた接着剤付きポリイミドフィルムを得やすい。   By adjusting the thickness of the adhesive layer as described above, it is easy to obtain a polyimide film with an adhesive having excellent flame retardancy.

また、接着剤層の厚さ(平均厚さ)は、導体の埋め込み性を考慮し、導体の厚さの1/2以上であってもよい。この場合、導体の埋め込みが十分となり、導体間に空隙が発生しにくい等の観点から好ましい。   Further, the thickness (average thickness) of the adhesive layer may be 1/2 or more of the thickness of the conductor in consideration of the embedding property of the conductor. In this case, it is preferable from the viewpoint of sufficient embedding of the conductors and less likelihood of voids between the conductors.

本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、難燃性に優れている。
例えば、本発明の接着剤付きポリイミドフィルムの酸素指数は、25%以上(例えば、27〜90%)の範囲から選択でき、例えば、30%以上(例えば、32〜80%)、好ましくは35%以上(例えば、37〜75%)、さらに好ましくは40%以上(例えば、42〜70%)、特に45%以上(例えば、46〜65%)であってもよい。
The polyimide film with an adhesive of the present invention is excellent in flame retardancy.
For example, the oxygen index of the polyimide film with an adhesive of the present invention can be selected from a range of 25% or more (for example, 27 to 90%), for example, 30% or more (for example, 32 to 80%), preferably 35%. It may be more (for example, 37 to 75%), more preferably 40% or more (for example, 42 to 70%), particularly 45% or more (for example, 46 to 65%).

なお、酸素指数は、例えば、JIS K7201−2に準拠して測定できる。   In addition, an oxygen index can be measured based on JISK7201-2, for example.

接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層は、TMA針入りモード測定における針入り侵入量を特定の範囲に調整してもよい。   The adhesive layer of the polyimide film with an adhesive may adjust the penetration amount with needles in the TMA needle mode measurement to a specific range.

例えば、接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層は、TMA針入りモード測定における接着剤層の厚さに対する、100℃における針入り侵入量(侵入割合)が、10%以下(例えば、0〜8%)、好ましくは7%以下(例えば、0.1〜6%)、さらに好ましくは6%以下(例えば、0.3〜5.5%)、特に5%以下(例えば、0.5〜5%)を充足してもよい。   For example, the adhesive layer of the polyimide film with adhesive has a needle penetration amount (penetration ratio) at 100 ° C. of 10% or less (for example, 0 to 8%) with respect to the thickness of the adhesive layer in the TMA needle penetration mode measurement. ), Preferably 7% or less (for example, 0.1 to 6%), more preferably 6% or less (for example, 0.3 to 5.5%), particularly 5% or less (for example, 0.5 to 5%) ) May be satisfied.

なお、接着剤層の厚みに対する針入り侵入量(侵入割合)は、接着剤層の厚みをA(μm)、針入り量をB(μm)とするとき、(B/A)×100(%)で表すことができる。   In addition, the penetration amount (penetration ratio) into the needle with respect to the thickness of the adhesive layer is (B / A) × 100 (%) when the thickness of the adhesive layer is A (μm) and the penetration amount into the needle is B (μm). ).

また、接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層は、TMA針入りモード測定における接着剤層の厚さに対する、140℃における針入り侵入量(侵入割合)が、5%以上(例えば、7〜90%)の範囲から選択でき、例えば、10%以上(例えば、15〜88%)、好ましくは20%以上(例えば、20〜85%)、さらに好ましくは25%以上(例えば、26〜80%)を充足してもよい。   Further, the adhesive layer of the polyimide film with adhesive has a needle penetration amount (penetration ratio) at 140 ° C. of 5% or more (for example, 7 to 90%) with respect to the thickness of the adhesive layer in the TMA needle penetration mode measurement. 10% or more (for example, 15 to 88%), preferably 20% or more (for example, 20 to 85%), more preferably 25% or more (for example, 26 to 80%). You may be satisfied.

接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層は、TMA針入りモード測定における接着剤層の厚さに対する、180℃における針入り侵入量(侵入割合)が、20%以上(例えば、22〜95%)の範囲から選択でき、例えば、25%以上(例えば、27〜92%)、好ましくは30%以上(例えば、35〜90%)、さらに好ましくは40%以上(例えば、42〜88%)、特に45%以上(例えば、50〜85%)を充足してもよい。   The adhesive layer of the polyimide film with the adhesive has a penetration amount (penetration rate) of the needle at 180 ° C. of 20% or more (for example, 22 to 95%) with respect to the thickness of the adhesive layer in the TMA needle entering mode measurement. The range can be selected, for example, 25% or more (for example, 27 to 92%), preferably 30% or more (for example, 35 to 90%), more preferably 40% or more (for example, 42 to 88%), particularly 45 % Or more (for example, 50 to 85%) may be satisfied.

上記のように各温度における針入り侵入を調整することで、難燃性、耐熱性、寸法安定性、導体間の気泡の発生量などを効率よく調整しやすい。   By adjusting the penetration with a needle at each temperature as described above, it is easy to efficiently adjust flame retardancy, heat resistance, dimensional stability, the amount of bubbles generated between conductors, and the like.

なお、TMA針入りモード測定の各温度(100℃、140℃、180℃)における針入り侵入量は、TMA測定装置を用い、針入りモードの測定を昇温速度10℃/分で200℃まで行い、各温度(100℃、140℃、180℃)まで圧子の侵入深さ(針入量、単位:μm)を読み取り、接着剤層の厚みに対する各温度(100℃、140℃、180℃)まで圧子の侵入深さの比率によって、求めることができる。TMA測定装置としては、島津製作所製熱分析機(TMA−60)を用いてよい。   In addition, the penetration amount into the needle at each temperature (100 ° C., 140 ° C., 180 ° C.) of the TMA needle entering mode measurement is measured up to 200 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min using a TMA measuring device. The indenter penetration depth (penetration amount, unit: μm) is read up to each temperature (100 ° C., 140 ° C., 180 ° C.), and each temperature with respect to the thickness of the adhesive layer (100 ° C., 140 ° C., 180 ° C.) Can be determined by the ratio of the penetration depth of the indenter. As the TMA measuring device, a thermal analyzer (TMA-60) manufactured by Shimadzu Corporation may be used.

接着剤付きポリイミドフィルムは、例えば、ポリイミドフィルムの片面又は両面に接着剤を塗布し、乾燥させることによって得ることができる。塗布及び乾燥方法は、特に限定されない。   The polyimide film with an adhesive can be obtained, for example, by applying an adhesive to one or both sides of the polyimide film and drying it. The application and drying method is not particularly limited.

[フラットケーブル]
本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、特に、フラットケーブルの製造に使用することができる。
フラットケーブルの製造方法は、特に限定されず、導体を、2枚の(一対の)接着剤付きポリイミドフィルムで挟みこむ(挟持する)方法であればよい。フラットケーブルは、通常、接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層同士で、導体が挟みこまれている。フラットケーブルは、例えば、複数の導体を同一平面内で配列した導体列を、接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層同士で挟みこむことによって、製造することができる。尚、接着剤付きポリイミドフィルム間に導体を挟みこむ際に、加熱、加圧などを行ってもよい。
[Flat cable]
Especially the polyimide film with an adhesive agent of this invention can be used for manufacture of a flat cable.
The method for producing the flat cable is not particularly limited as long as it is a method of sandwiching (clamping) the conductor between two (a pair of) adhesive-attached polyimide films. In a flat cable, a conductor is usually sandwiched between adhesive layers of a polyimide film with an adhesive. A flat cable can be manufactured by, for example, sandwiching a conductor row in which a plurality of conductors are arranged in the same plane between adhesive layers of a polyimide film with an adhesive. In addition, you may perform a heating, pressurization, etc., when a conductor is inserted | pinched between the polyimide films with an adhesive agent.

導体としては、特に限定されないが、例えば、導電性金属の扁平箔や丸線、長方形の断面を持つ平角導体、有機導電体などが挙げられる。導電性金属としては、特に限定されないが、銅、銀、錫、インジウム、アルミニウム、モリブデン、これらの合金などを使用してよい。また、導体の幅や厚さは、特に限定されない。   Although it does not specifically limit as a conductor, For example, the flat metal foil of a conductive metal, a round wire, a flat conductor with a rectangular cross section, an organic conductor, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a conductive metal, You may use copper, silver, tin, an indium, aluminum, molybdenum, these alloys, etc. Further, the width and thickness of the conductor are not particularly limited.

フラットケーブルは、さらに補強板を有していてもよい。
補強板としては、例えば、ポリイミドフィルム単体、もしくはポリイミドフィルムを複数枚(例えば、2〜3枚)積層したもの等である。ポリイミドフィルムを複数枚積層する方法に指定はないが、ポリイミドフィルムのみを積層する方法やポリイミドフィルムの間に他の層(例えば、接着剤層など)を介して積層する方法等がある。この場合のポリイミドフィルムの構成、物性は、特に限定されない。
補強板の厚みは、例えば、50〜500μm(例えば、75〜300μmなど)程度であってよい。
また、補強板は、フラットケーブルの片面に積層されていてもよいし、両面に積層されていてもよい。
The flat cable may further have a reinforcing plate.
The reinforcing plate is, for example, a polyimide film alone or a laminate of a plurality of polyimide films (for example, 2 to 3 sheets). Although there is no designation for a method of laminating a plurality of polyimide films, there are a method of laminating only a polyimide film, a method of laminating other layers (for example, an adhesive layer) between polyimide films, and the like. The structure and physical properties of the polyimide film in this case are not particularly limited.
The thickness of the reinforcing plate may be, for example, about 50 to 500 μm (for example, 75 to 300 μm).
Moreover, the reinforcing plate may be laminated | stacked on the single side | surface of the flat cable, and may be laminated | stacked on both surfaces.

本発明のフラットケーブルは、熱による寸法安定性に優れ、180℃で10分加熱後の熱収縮率(寸法変化率)が、例えば0.2%以下(例えば、0.01〜0.15%)、好ましくは0.15%以下(例えば、0.01〜0.13%)である。   The flat cable of the present invention is excellent in dimensional stability due to heat, and the thermal shrinkage rate (dimensional change rate) after heating at 180 ° C. for 10 minutes is, for example, 0.2% or less (for example, 0.01 to 0.15%). ), Preferably 0.15% or less (for example, 0.01 to 0.13%).

次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではなく、多くの変形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により可能である。   EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples at all, and many variations are within the technical idea of the present invention. This is possible by those with ordinary knowledge.

[ポリアミック酸合成例A]
ピロメリット酸二無水物(分子量218.12)/4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(分子量200.24)をモル比で1:1の割合で用意し、DMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)中20重量%溶液にして重合し、4000poiseのポリアミック酸溶液を得た。
[Polyamic acid synthesis example A]
Pyromellitic dianhydride (molecular weight 218.12) / 4,4′-diaminodiphenyl ether (molecular weight 200.24) was prepared at a molar ratio of 1: 1, and 20 in DMAc (N, N-dimethylacetamide). Polymerization was performed in a weight% solution to obtain a 4000 poise polyamic acid solution.

[ポリアミック酸合成例B]
ピロメリット酸二無水物(分子量218.12)/3,3’,4、4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(分子量294.22)/4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(分子量200.24)/パラフェニレンジアミン(分子量108.14)を、モル比で60/40/80/20の割合で用意し、DMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)中20重量%溶液にして重合し、4000poiseのポリアミック酸溶液を得た。
[Polyamic acid synthesis example B]
Pyromellitic dianhydride (molecular weight 218.12) / 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (molecular weight 294.22) / 4,4′-diaminodiphenyl ether (molecular weight 200.24) / Paraphenylenediamine (molecular weight 108.14) is prepared in a molar ratio of 60/40/80/20, polymerized in a 20 wt% solution in DMAc (N, N-dimethylacetamide), and polymerized to 4000 poise An acid solution was obtained.

[酸素指数測定]
JIS K7201−2に準拠して測定した。接着剤付きポリイミドフィルムを150mmx20mmの大きさに裁断し、スガ試験機株式会社製の酸素指数方式燃焼性試験機を用い、燃焼した。
[Oxygen index measurement]
It measured based on JISK7201-2. The polyimide film with an adhesive was cut into a size of 150 mm × 20 mm and burned using an oxygen index method flammability tester manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

[ポリイミドフィルムの熱収縮率]
ポリイミドフィルムの200℃で60分加熱後の熱収縮率は、25℃、60%RHに調整された部屋に2時間以上放置した後のフィルム寸法(L1)を、CNC画像処理装置システムNEXIV VM−250(ニコン製)を用いて測定し、続いて200℃で60分間加熱した後再び25℃、60%RHに調整された部屋に1日間放置した後のフィルム寸法(L2)を、前記CNC画像処理装置システムを用いて測定し、下記式により算出した。
熱収縮率(%)=−{(L2−L1)/L1}×100
[Thermal shrinkage of polyimide film]
The heat shrinkage rate after heating the polyimide film at 200 ° C. for 60 minutes is the CNC image processing system NEXIV VM- after the film size (L1) after being left in a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH for 2 hours or more. The film dimensions (L2) after measurement using a 250 (Nikon), followed by heating at 200 ° C. for 60 minutes and then leaving again in a room adjusted to 25 ° C. and 60% RH for one day are measured with the CNC image. It measured using the processing apparatus system, and computed by the following formula.
Thermal contraction rate (%) = − {(L2−L1) / L1} × 100

[ポリイミドフィルムの表面粗さ]
ポリイミドフィルムの表面粗さの測定は、JIS B 0601(2001)に従って行った。接触式表面粗さ測定器を使用して以下の条件で表面粗Rmax、Rzを測定した。
カットオフ値:0.25mm、測定長さ:2mm、触針先端半半径:2μm
[Surface roughness of polyimide film]
The surface roughness of the polyimide film was measured according to JIS B 0601 (2001). Surface roughness Rmax and Rz were measured under the following conditions using a contact-type surface roughness measuring instrument.
Cut-off value: 0.25 mm, measurement length: 2 mm, stylus tip half radius: 2 μm

[針入り侵入割合]
接着剤付きポリイミドフィルムを10mmx10mmの大きさに裁断し、島津製作所製熱分析機(TMA−60)を用い、針入りモードの測定を昇温速度10℃/分で200℃まで50gfの一定荷重をかけて行い、100℃、140℃、180℃まで圧子の侵入深さ(針入量、単位:μm)を読み取った。そして、読み取った数値から、接着剤層の厚みに対する割合を算出した。
なお、使用した圧子は先端直径0.5mmの円柱状のもので、接着剤表面を圧子侵入面とした。
[Intrusion rate with needle]
A polyimide film with an adhesive is cut into a size of 10 mm × 10 mm, and a constant load of 50 gf is applied up to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min using a Shimadzu thermal analyzer (TMA-60). The indenter penetration depth (penetration amount, unit: μm) was read up to 100 ° C., 140 ° C., and 180 ° C. And the ratio with respect to the thickness of an adhesive bond layer was computed from the read numerical value.
The indenter used was a cylindrical shape with a tip diameter of 0.5 mm, and the surface of the adhesive was the indenter entry surface.

[埋め込み性]
フラットケーブル導体間の気泡の有無を目視にて確認し、気泡が発生している箇所の長さを測定した。フラットケーブルの長さに対する、気泡発生箇所の長さの割合を算出し、気泡発生率とした。
[Embeddability]
The presence or absence of air bubbles between the flat cable conductors was visually confirmed, and the length of the location where air bubbles were generated was measured. The ratio of the length of the bubble generation location to the length of the flat cable was calculated and used as the bubble generation rate.

[フラットケーブルの熱収縮率(寸法変化率)]
作製したフラットケーブルを180℃で10分間加熱し、加熱前の導体間寸法(L3)と加熱後の導体間寸法(L4)を、CNC画像処理装置システムNEXIV VM−250(ニコン製)を使って測定し、下記式にしたがって算出した。
熱収縮率(%)=−{(L4−L3)/L3}×100
[Heat shrinkage of flat cable (dimensional change rate)]
The produced flat cable is heated at 180 ° C. for 10 minutes, and the inter-conductor dimension (L3) before heating and the inter-conductor dimension (L4) after heating are measured using a CNC image processing system NEXIV VM-250 (made by Nikon). Measured and calculated according to the following formula.
Thermal contraction rate (%) =-{(L4-L3) / L3} × 100

[ポリイミドフィルムAの製膜]
無機粒子全粒子の粒子径が0.01μm以上6.0μm以下に収まっており、平均粒子径0.87μm、粒子径0.5〜2.5μmの粒子が全粒子中81.5体積%のリン酸水素カルシウムのN,N−ジメチルアセトアミドスラリーを合成例Aで得たポリアミック酸溶液に樹脂重量当たり0.15重量%添加し、十分に攪拌、分散させた。このポリアミック酸溶液に無水酢酸(分子量102.09)とβ−ピコリンからなる転化剤をポリアミック酸に対し、それぞれ2.0モル当量の割合での混合、攪拌した。得られた混合物を、口金より、回転する65℃のステンレス製ドラム上にキャストし、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをドラムから引き剥がし、その両端を把持し、加熱炉にて250℃×30秒、400℃×30秒、次いで550℃×30秒処理した。得られたフィルムを、300℃×1分、加熱炉でアニール処理を行い、厚さ25μm、Rmax0.8μm、Rz0.5μmのポリイミドフィルムを得た。
[Film formation of polyimide film A]
The total particle size of the inorganic particles is 0.01 μm or more and 6.0 μm or less, and the average particle size is 0.87 μm, and the particle size is 0.5 to 2.5 μm. N, N-dimethylacetamide slurry of calcium oxyhydrogen was added to the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example A by 0.15% by weight per resin weight, and sufficiently stirred and dispersed. The polyamic acid solution was mixed and stirred with a conversion agent composed of acetic anhydride (molecular weight 102.09) and β-picoline at a ratio of 2.0 molar equivalents with respect to the polyamic acid. The obtained mixture was cast from a die onto a rotating 65 ° C. stainless steel drum to obtain a gel film having self-supporting properties. The gel film was peeled off from the drum, and both ends thereof were gripped and treated in a heating furnace at 250 ° C. for 30 seconds, 400 ° C. for 30 seconds, and then 550 ° C. for 30 seconds. The obtained film was annealed in a heating furnace at 300 ° C. for 1 minute to obtain a polyimide film having a thickness of 25 μm, Rmax 0.8 μm, and Rz 0.5 μm.

[ポリイミドフィルムBの製膜]
ポリイミドフィルムAの片面をサンドマット処理し、厚さ25μm、サンドマット処理面のRmax1.4μm、Rz1.0μmのポリイミドフィルムBを得た。サンドマット処理は、サンド粒子径分布のサンド径80〜200μmの粒子をフィルム表面に打ち付けて行った。
[Film formation of polyimide film B]
One surface of the polyimide film A was sand-matted to obtain a polyimide film B having a thickness of 25 μm, a sand mat-treated surface of Rmax 1.4 μm, and Rz 1.0 μm. The sand mat treatment was performed by hitting particles having a sand particle size distribution with a sand diameter of 80 to 200 μm on the film surface.

[ポリイミドフィルムCの製膜]
ポリイミドフィルムAの製膜において、合成例Aで得たポリアミック酸溶液の代わりに合成例Bで得たポリアミック酸溶液を使用した以外は同様にして、ポリイミドフィルムCを作成した。得られたポリイミドフィルムCの厚さは25μm、Rmaxは0.8μm、Rzは0.5μmであった。
[Film formation of polyimide film C]
In forming the polyimide film A, a polyimide film C was prepared in the same manner except that the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example B was used instead of the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example A. The thickness of the obtained polyimide film C was 25 μm, Rmax was 0.8 μm, and Rz was 0.5 μm.

実施例1
[接着剤]
EPICLON HP−7200(DIC株式会社製、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂)10重量部、タフテックM1913(旭化成ケミカルズ株式会社、マレイン酸変性スチレンエチレンブロック共重合体)100重量部、キュアゾールC11−Z(四国化成株式会社製)0.3重量部及びトルエン420重量部を混合し、接着剤を作成した。
Example 1
[adhesive]
EPICLON HP-7200 (manufactured by DIC Corporation, dicyclopentadiene skeleton-containing epoxy resin) 10 parts by weight, Tuftec M1913 (Asahi Kasei Chemicals Corporation, maleic acid-modified styrene ethylene block copolymer) 100 parts by weight, Curesol C11-Z (Shikoku) 0.3 parts by weight (made by Kasei Co., Ltd.) and 420 parts by weight of toluene were mixed to prepare an adhesive.

[接着剤付きポリイミドフィルム]
上記で得られたポリイミドフィルムAの片面に、上記接着剤を塗布し、90℃で3分乾燥させて接着剤付きポリイミドフィルムを得た。接着剤付きポリイミドフィルムにおいて、接着剤層の厚みは25μmであった。
[Polyimide film with adhesive]
The said adhesive agent was apply | coated to the single side | surface of the polyimide film A obtained above, and it was made to dry at 90 degreeC for 3 minutes, and the polyimide film with an adhesive agent was obtained. In the polyimide film with an adhesive, the thickness of the adhesive layer was 25 μm.

[フラットケーブルサンプルの作製]
幅0.30mm、厚さ0.035mmの導体51本を0.50mmの導体間ピッチで、接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層側に配置し、さらにその上からもう1枚の接着剤付きポリイミドフィルムの接着剤層側を重ねる構造とし、熱ロールで180℃、0.5MPaで加圧することによりフラットケーブルを作製した。
[Flat cable sample preparation]
51 conductors with a width of 0.30 mm and a thickness of 0.035 mm are arranged on the adhesive layer side of the polyimide film with adhesive at a pitch of 0.50 mm between the conductors, and another polyimide with adhesive is further formed thereon. A flat cable was prepared by pressing the adhesive layer side of the film on top of each other and pressing with a hot roll at 180 ° C. and 0.5 MPa.

実施例2
ポリイミドフィルムAの代わりにポリイミドフィルムBを使用し、ポリイミドフィルムBのサンドマット処理面に接着剤を塗布した以外は実施例1と同様にして、フラットケーブルを作製した。
Example 2
A flat cable was produced in the same manner as in Example 1 except that polyimide film B was used instead of polyimide film A, and an adhesive was applied to the sand mat-treated surface of polyimide film B.

実施例3
接着剤において、EPICLON HP−7200の代わりにjER828(三菱化学株式会社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂)を使用し、タフテックM1913の代わりにTD773(DIC株式会社製、ノボラック型フェノール樹脂)を使用し、接着剤層の厚みが20μmとなるようにした以外は実施例1と同様にして、フラットケーブルを作製した。
Example 3
In the adhesive, jER828 (Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin) is used instead of EPICLON HP-7200, and TD773 (DIC Corporation, novolak type phenol resin) is used instead of Tuftec M1913. A flat cable was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the adhesive layer was 20 μm.

実施例4
接着剤において、EPICLON HP−7200の代わりにYDCN−700−3(新日鉄住金化学株式会社製、クレゾールノボラックエポキシ樹脂)を使用し、タフテックM1913の代わりにニポール1072J(日本ゼオン社製、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム)を使用し、ポリイミドフィルムの厚みを12.5μmとなるように調整した以外は実施例1と同様にして、フラットケーブルを作製した。
Example 4
In the adhesive, YDCN-700-3 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., cresol novolac epoxy resin) was used instead of EPICLON HP-7200, and Nipol 1072J (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., carboxyl group-containing acrylonitrile) instead of Tuftec M1913 A flat cable was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the polyimide film was adjusted to 12.5 μm.

実施例5
ポリイミドフィルムの片面に接着剤を塗布して乾燥する際の乾燥条件を、130℃10分とした以外は実施例1と同様にしてフラットケーブルを作製した。
Example 5
A flat cable was produced in the same manner as in Example 1 except that the drying condition for applying and drying the adhesive on one side of the polyimide film was 130 ° C. for 10 minutes.

実施例6
ポリイミドフィルムAの代わりにポリイミドフィルムCを使用したこと以外は、実施例1と同様にして、接着剤付きポリイミドフィルム及びフラットケーブルを作製した。
Example 6
A polyimide film with an adhesive and a flat cable were produced in the same manner as in Example 1 except that the polyimide film C was used instead of the polyimide film A.

参考例1
接着剤層の厚みを60μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、フラットケーブルを作製した。
Reference example 1
A flat cable was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the adhesive layer was 60 μm.

各実施例及び参考例で得られたポリイミドフィルム及びフラットケーブルの物性を、表1に示す。   Table 1 shows the physical properties of the polyimide film and flat cable obtained in each example and reference example.

実施例の接着剤付きポリイミドフィルムは、酸素指数が少なくとも37%と大きいものであった。また、180℃における熱収縮率(寸法変化率)が最大でも0.08%と小さくできた。さらに、実施例1〜4及び6では、導体間の気泡の発生を少ないものとできた。   The polyimide film with adhesive of the example had a large oxygen index of at least 37%. Further, the heat shrinkage rate (dimensional change rate) at 180 ° C. was as small as 0.08% at the maximum. Furthermore, in Examples 1 to 4 and 6, it was possible to reduce the generation of bubbles between conductors.

一方、参考例1の接着剤付きポリイミドフィルムは、酸素指数が20%と難燃性の低いものであった。   On the other hand, the polyimide film with an adhesive of Reference Example 1 had a low flame retardancy with an oxygen index of 20%.

本発明の接着剤付きポリイミドフィルムは、難燃性に優れ、フラットケーブル用などとして好適に使用できる。   The polyimide film with an adhesive of the present invention is excellent in flame retardancy and can be suitably used for flat cables and the like.

Claims (9)

酸素指数が30%以上である、接着剤付きポリイミドフィルム。   A polyimide film with an adhesive having an oxygen index of 30% or more. 接着剤層の厚さが、ポリイミドフィルムの厚さの0.25〜2.3倍である請求項1記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The polyimide film with an adhesive according to claim 1, wherein the thickness of the adhesive layer is 0.25 to 2.3 times the thickness of the polyimide film. 接着剤層のTMA針入りモード測定の100℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの10%以下である、及び/又は接着剤層のTMA針入りモード測定の140℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの20%以上である請求項1又は2に記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The amount of penetration into the adhesive layer at 100 ° C. in the TMA needle entering mode measurement is 10% or less of the thickness of the adhesive layer, and / or the penetration into the needle layer at 140 ° C. in the TMA needle entering mode measurement of the adhesive layer. The polyimide film with an adhesive according to claim 1 or 2, wherein the amount is 20% or more of the thickness of the adhesive layer. 接着剤層のTMA針入りモード測定の180℃における針入り侵入量が接着剤層の厚さの40%以上である請求項1〜3のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The polyimide film with an adhesive according to any one of claims 1 to 3, wherein an amount of penetration with a needle at 180 ° C in a TMA needle entry mode measurement of the adhesive layer is 40% or more of the thickness of the adhesive layer. ポリイミドフィルムが、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、ピロメリット酸二無水物及び/又は3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の芳香族酸無水物成分とを原料に含む、請求項1〜4のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The polyimide film is one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride and / or 3,3. The polyimide film with an adhesive according to any one of claims 1 to 4, comprising an aromatic acid anhydride component of ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride as a raw material. 接着剤層が、エポキシ樹脂を含む接着成分と、他の樹脂を含む添加剤とを含む、請求項1〜5のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The polyimide film with an adhesive in any one of Claims 1-5 in which an adhesive bond layer contains the adhesive component containing an epoxy resin, and the additive containing other resin. 接着剤層が、難燃剤を実質的に含まない請求項1〜6のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The adhesive-attached polyimide film according to claim 1, wherein the adhesive layer does not substantially contain a flame retardant. フラットケーブルの製造に用いるための請求項1〜7のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルム。   The polyimide film with an adhesive according to any one of claims 1 to 7, which is used for producing a flat cable. 導体を、一対の請求項1〜8のいずれかに記載の接着剤付きポリイミドフィルムで挟持したフラットケーブル。   The flat cable which pinched | interposed the conductor with the polyimide film with an adhesive in any one of a pair of Claims 1-8.
JP2017176256A 2016-09-29 2017-09-14 Polyimide film with adhesive Active JP6802131B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016192367 2016-09-29
JP2016192367 2016-09-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018059060A true JP2018059060A (en) 2018-04-12
JP6802131B2 JP6802131B2 (en) 2020-12-16

Family

ID=61780911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017176256A Active JP6802131B2 (en) 2016-09-29 2017-09-14 Polyimide film with adhesive

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6802131B2 (en)
KR (1) KR102387220B1 (en)
CN (1) CN107880802B (en)
TW (1) TWI754673B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210268781A1 (en) * 2019-01-11 2021-09-02 Lg Chem, Ltd. Film, metal-clad laminate, flexible substrate, manufacturing method for film, manufacturing method for metal-clad laminate, and manufacturing method for flexible substrate
JP7438790B2 (en) 2020-03-04 2024-02-27 東レ・デュポン株式会社 Polyimide film and flat cable with adhesive

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200027368A (en) * 2018-09-04 2020-03-12 에스케이씨 주식회사 Cable with insulating layer and manufacturing method of the insulating layer

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0860108A (en) * 1994-08-18 1996-03-05 Sony Chem Corp Adhesive sheet and flat cable
JP2003105167A (en) * 2001-07-27 2003-04-09 Toray Ind Inc Flame-retardant resin composition and adhesive sheet for semiconductor device using the same, cover lay film and flexible printed circuit board
JP2008031251A (en) * 2006-07-27 2008-02-14 Du Pont Toray Co Ltd Coverlay
WO2014147903A1 (en) * 2013-03-22 2014-09-25 東亞合成株式会社 Adhesive composition, and coverlay film and flexible copper-clad laminate using same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05217430A (en) * 1992-02-06 1993-08-27 Sumitomo Electric Ind Ltd Non-halogen flame retardant flat cable
CN1204220C (en) * 1998-05-19 2005-06-01 索尼化学株式会社 Flame-retardant adhesive flame-retardant adhesive film made using same, and flat cable
KR100875410B1 (en) * 1998-05-19 2008-12-23 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Adhesive and circuit material using the adhesive
JP2007055853A (en) * 2005-08-25 2007-03-08 Toshiba Ceramics Co Ltd Method of manufacturing ceramic composite material
JP5196342B2 (en) * 2007-05-24 2013-05-15 東レ・デュポン株式会社 Polyimide film and molded body
JP4888719B2 (en) * 2007-07-13 2012-02-29 東レ・デュポン株式会社 Copper plate
JP2009272083A (en) * 2008-05-01 2009-11-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Insulating film and flat cable equipped with the same
JP2014043511A (en) * 2012-08-27 2014-03-13 Du Pont-Toray Co Ltd Polyimide film and method for producing the same
JP6148556B2 (en) * 2013-07-22 2017-06-14 東レ・デュポン株式会社 Polyimide film
US10131748B2 (en) * 2013-08-06 2018-11-20 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin
JP6388483B2 (en) * 2014-03-13 2018-09-12 東レ・デュポン株式会社 High frequency circuit board coverlay and flexible flat cable base material

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0860108A (en) * 1994-08-18 1996-03-05 Sony Chem Corp Adhesive sheet and flat cable
JP2003105167A (en) * 2001-07-27 2003-04-09 Toray Ind Inc Flame-retardant resin composition and adhesive sheet for semiconductor device using the same, cover lay film and flexible printed circuit board
JP2008031251A (en) * 2006-07-27 2008-02-14 Du Pont Toray Co Ltd Coverlay
WO2014147903A1 (en) * 2013-03-22 2014-09-25 東亞合成株式会社 Adhesive composition, and coverlay film and flexible copper-clad laminate using same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210268781A1 (en) * 2019-01-11 2021-09-02 Lg Chem, Ltd. Film, metal-clad laminate, flexible substrate, manufacturing method for film, manufacturing method for metal-clad laminate, and manufacturing method for flexible substrate
US11845246B2 (en) * 2019-01-11 2023-12-19 Lg Chem, Ltd. Film, metal-clad laminate, flexible substrate, manufacturing method for film, manufacturing method for metal-clad laminate, and manufacturing method for flexible substrate
JP7438790B2 (en) 2020-03-04 2024-02-27 東レ・デュポン株式会社 Polyimide film and flat cable with adhesive

Also Published As

Publication number Publication date
CN107880802A (en) 2018-04-06
TWI754673B (en) 2022-02-11
KR20180035715A (en) 2018-04-06
CN107880802B (en) 2021-10-26
JP6802131B2 (en) 2020-12-16
TW201819568A (en) 2018-06-01
KR102387220B1 (en) 2022-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8809688B2 (en) Polyamic acid solution, polyimide resin and flexible metal clad laminate using the same
JP5285567B2 (en) Insulating polyimide film, coverlay film, and flexible printed wiring board
JP7446741B2 (en) Metal-clad laminates and circuit boards
JP6802131B2 (en) Polyimide film with adhesive
JP2011105811A (en) Insulating polyimide film, cover lay film, and flexible printed wiring board
WO2013162238A1 (en) Flexible metal clad laminate
KR20130003358A (en) Polyamic acid and polyamic acid solution, polyimide protecive layer, polyimide film
JP2017114098A (en) Laminated film
JP2021160148A (en) Resin film, metal-clad laminate and circuit board
JP6931278B2 (en) Film for flexible flat cable reinforcement plate
JP2010115797A (en) Multilayer polyimide film
JP2017214501A (en) Electromagnetic wave-shielding adhesive, electromagnetic wave-shielding material, and coaxial cable, and method for producing coaxial cable
CN106008969B (en) Polyimide film
JPWO2007083526A1 (en) Polyimide film and use thereof
JP6639249B2 (en) Polyimide film with adhesive
JP2008106141A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2008106139A (en) Polyimide film and method for producing the same
KR20150003166A (en) Method for manufacturing conductive polyimide film
JP6121176B2 (en) Polyimide film
KR101357236B1 (en) Color polyimide composition and preparation method of the same
JP7438790B2 (en) Polyimide film and flat cable with adhesive
JP2008106140A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP2007043023A (en) Resin composition for coverlay and its utilization
JP6603021B2 (en) Polyimide film
TW201434890A (en) Black polyimide film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190610

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200421

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200609

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201110

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201126

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6802131

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250