JP2018051901A - Metal-clad laminate - Google Patents

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和明 金子
Kazuaki Kaneko
和明 金子
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal-clad laminate having a laminated structure which has proper adhesiveness and can be easily peeled off.SOLUTION: There is provided a double-sided metal-clad laminate 100 having a structure having metal layers 101 and 101' on both surfaces of polyimide layers 110 and 110'. The polyimide layers 110 and 110' comprises low thermal expansion polyimide layers 102 and 102' and thermoplastic polyimide layers 103 and 103', the respective thermoplastic polyimide layers 103 and 103' are laminated on a release film 104 to form the double-sided metal-clad laminate 100. The thermoplastic polyimide layers 103 and 103' contains 1 to 10 vol.% of a filler 105.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、金属張積層板に関し、詳しくは、電子製品に使用されるフレキシブル回路基板(FPC)に用いられる金属張積層板に関する。   The present invention relates to a metal-clad laminate, and more particularly to a metal-clad laminate used for a flexible circuit board (FPC) used in electronic products.

FPCは、可撓性を有し、3次元配線への可能性を有するため、コンピュータ及びその周辺機器、スマートフォンに代表される通信機器などの電子製品等に幅広く適用されている。FPCは、金属層と絶縁樹脂層とが積層された構造を有する金属張積層板の金属層を回路加工することによって製造される。   FPC is flexible and has the possibility of three-dimensional wiring, and therefore is widely applied to electronic products such as computers and peripheral devices, and communication devices represented by smartphones. The FPC is manufactured by processing a metal layer of a metal-clad laminate having a structure in which a metal layer and an insulating resin layer are laminated.

電子機器の小型化に伴い、FPCの薄型化、高密度化、多機能化が進展している。FPCを薄型化すると、絶縁樹脂層の剛性が低下するため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合が発生しやすくなっている。これらの不具合は、FPCを使用する電子製品の歩留まりや信頼性を低下させるため、その対策が求められている。   Along with the downsizing of electronic devices, the FPC has become thinner, higher density, and multifunctional. When the thickness of the FPC is reduced, the rigidity of the insulating resin layer is reduced. Therefore, in the FPC manufacturing process, defects such as breakage, damage, and peeling of the wiring layer due to bending are likely to occur. Since these defects reduce the yield and reliability of electronic products using FPC, countermeasures are required.

上記問題に対し、片面金属張積層板における絶縁樹脂層に接着層を設け、該接着層の表面を改質処理した後、その改質表面に、直接又は離形材を介在させて、他の片面金属張積層板の絶縁樹脂層を貼り合わせ、FPC加工用の両面金属張積層板を形成することが提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。   For the above problems, an adhesive layer is provided on the insulating resin layer in the single-sided metal-clad laminate, and after modifying the surface of the adhesive layer, the modified surface is directly or by interposing a release material, It has been proposed that an insulating resin layer of a single-sided metal-clad laminate is bonded to form a double-sided metal-clad laminate for FPC processing (for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

特開2015−168261号公報(図1Eなど)Japanese Patent Laying-Open No. 2015-168261 (FIG. 1E, etc.) 特開2015−168262号公報(図1Dなど)Japanese Patent Laying-Open No. 2015-168262 (FIG. 1D, etc.)

上記特許文献1、2の技術では、一旦貼り合わせた片面金属張積層板の絶縁樹脂層と他の片面金属張積層板の絶縁樹脂層(又は離形材)との剥離を容易にするため、接着層の表面にプラズマ処理、紫外線照射などの改質処理を行って、絶縁樹脂層表面の表面エネルギーを低下させている。そのため、通常のFPCの製造プロセスに比べ、改質処理のための工程が余分に必要であり、工程数の増加と設備の複雑化、スループットの低下を招く恐れがある。他方、改質処理を行わない場合には、絶縁樹脂層どうしの接着力が強くなり過ぎるので、剥離強度が大きくなり、剥離が困難であったり、剥離後のFPCに反りが生じたりするという問題があった。   In the techniques of the above Patent Documents 1 and 2, in order to facilitate the peeling between the insulating resin layer of the single-sided metal-clad laminate and the insulating resin layer (or release material) of the other single-sided metal-clad laminate, The surface energy of the surface of the insulating resin layer is reduced by performing a modification treatment such as plasma treatment or ultraviolet irradiation on the surface of the adhesive layer. Therefore, an extra step for the reforming process is necessary as compared with a normal FPC manufacturing process, which may increase the number of steps, make the equipment complicated, and lower the throughput. On the other hand, when the modification treatment is not performed, the adhesive strength between the insulating resin layers becomes too strong, so that the peel strength becomes large and the peel is difficult or the FPC after the peel is warped. was there.

従って、本発明は、適度な接着性を有するとともに容易に剥離することが可能な、貼り合わせ構造の金属張積層板を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a metal-clad laminate having a bonded structure that has appropriate adhesiveness and can be easily peeled off.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、絶縁樹脂層側で離形層を介して互いに貼り合せられた2つの片面金属張積層板を含む両面金属張積層板において、貼り合わせ面を形成する樹脂層に所定の体積比率でフィラーを含有させることによって、改質処理を行わずとも容易に剥離可能になることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies, the present inventors have formed a bonding surface in a double-sided metal-clad laminate including two single-sided metal-clad laminates bonded to each other via a release layer on the insulating resin layer side. The present invention was completed by finding that the resin layer to be contained contains a filler at a predetermined volume ratio so that the resin layer can be easily peeled off without modification treatment.

すなわち、本発明は、金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/離形層(C)/絶縁樹脂層(D)/金属層(E)を有する金属張積層板であって、
前記絶縁樹脂層(B)は、前記離形層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有するとともに、
前記絶縁樹脂層(D)は、前記離形層(C)に接する樹脂層(D1)を有しており、該樹脂層(D1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有することを特徴とする金属張積層板である。
That is, the present invention is a metal-clad laminate having a metal layer (A) / insulating resin layer (B) / release layer (C) / insulating resin layer (D) / metal layer (E),
The insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (B1) contains a filler in a range of 1 to 10% by volume. With
The insulating resin layer (D) has a resin layer (D1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (D1) contains a filler in a range of 1 to 10% by volume. This is a metal-clad laminate.

本発明において、樹脂層(B1)と樹脂層(D1)におけるフィラー含有率の差が5体積%以下であってもよい。   In the present invention, the difference in filler content between the resin layer (B1) and the resin layer (D1) may be 5% by volume or less.

また、本発明において、絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(D)が、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下のベース層を含む多層構造であってもよい。 In the present invention, the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (D) may have a multilayer structure including a base layer having a linear thermal expansion coefficient of 20 × 10 −6 (1 / K) or less.

また、本発明において、前記離形層(C)は、エラストマー系感圧接着剤又は樹脂系感圧接着剤を含んでいてもよい。   In the present invention, the release layer (C) may contain an elastomer-based pressure sensitive adhesive or a resin-based pressure sensitive adhesive.

また、本発明において、前記絶縁樹脂層(B)と前記離形層(C)との剥離強度AdB−Cと、前記絶縁樹脂層(D)と前記離形層(C)との剥離強度AdD−Cの平均値(AdB−C+AdD−C)/2が1〜30N/mの範囲内であってもよい。 In the present invention, the peel strength Ad B-C between the insulating resin layer (B) and the release layer (C), and the peel strength between the insulating resin layer (D) and the release layer (C). The average value of Ad D-C (Ad B-C + Ad D-C ) / 2 may be within a range of 1 to 30 N / m.

また、本発明において、樹脂層(B1)及び樹脂層(D1)がポリイミドで形成されていてもよい。   In the present invention, the resin layer (B1) and the resin layer (D1) may be formed of polyimide.

更に、本発明において、ポリイミドを構成する全酸無水物成分の50モル%以上が3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)であってもよい。   Furthermore, in the present invention, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) may be used as 50 mol% or more of the total acid anhydride component constituting the polyimide.

更にまた、本発明において、ポリイミドを構成する全ジアミノ成分の50モル%以上が4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)であってもよい。   Furthermore, in this invention, 50 mol% or more of all the diamino components which comprise a polyimide may be 4,4'- diamino diphenyl ether (DAPE).

本発明の金属張積層板は、離形層を介して貼り合わせられた2つの片面金属張積層板において、離形層との貼り合わせ面を形成する樹脂層にそれぞれ所定の体積比率でフィラーを含有するため、適度な接着性を有するとともに剥離が容易であり、剥離不能となったり、剥離後に反りが発生することを抑制できる。本発明の金属張積層板は、容易に片面金属張積層板へ分離可能な両面金属張積層板であるため、両面の金属層に同時に回路配線加工を行った後、剥離することが可能であり、FPC製造プロセスの効率を大幅に向上させることができる。   In the metal-clad laminate of the present invention, in two single-sided metal-clad laminates bonded together through a release layer, fillers are respectively added to the resin layers forming the bonded surface with the release layer at a predetermined volume ratio. Since it contains, it has moderate adhesiveness, it is easy to peel off, and it can suppress that it becomes impossible to peel or warp occurs after peeling. Since the metal-clad laminate of the present invention is a double-sided metal-clad laminate that can be easily separated into a single-sided metal-clad laminate, it can be peeled off after simultaneously performing circuit wiring on the metal layers on both sides. The efficiency of the FPC manufacturing process can be greatly improved.

また、本発明の金属張積層板は、片面金属張積層板の状態に比べて剛性が高いため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。従って、本発明の金属張積層板を用いることによって、FPC自体及びFPCを使用する電子製品の歩留まりと信頼性を向上させることができる。   In addition, since the metal-clad laminate of the present invention has higher rigidity than the state of a single-sided metal-clad laminate, it is possible to prevent the occurrence of defects such as breakage, damage, and peeling of the wiring layer due to bending in the FPC manufacturing process. . Therefore, by using the metal-clad laminate of the present invention, the yield and reliability of the FPC itself and electronic products using the FPC can be improved.

本発明の一実施の形態の両面金属張積層板の構成を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the double-sided metal-clad laminated board of one embodiment of this invention. 図1の両面金属張積層板を構成する2つの片面金属張積層板の構成を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the two single-sided metal-clad laminates which comprise the double-sided metal-clad laminate of FIG.

本発明の金属張積層板は、金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/離形層(C)/絶縁樹脂層(D)/金属層(E)がこの順に積層された構造を有する両面金属張積層板である。つまり、金属層(A)と金属層(E)は、それぞれ外側に位置し、その間に絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(D)が配置され、さらに絶縁樹脂層(B)と絶縁樹脂層(D)の間には、離形層(C)が介在配置される。ここで、絶縁樹脂層(B)は、離形層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%含有する。また、絶縁樹脂層(D)は、離形層(C)に接する樹脂層(D1)を有しており、該樹脂層(D1)に、フィラーを1〜10体積%含有する。   The metal-clad laminate of the present invention has a structure in which a metal layer (A) / insulating resin layer (B) / release layer (C) / insulating resin layer (D) / metal layer (E) are laminated in this order. It is a double-sided metal-clad laminate. That is, the metal layer (A) and the metal layer (E) are respectively located outside, and the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (D) are disposed therebetween, and further, the insulating resin layer (B) and the insulating resin are disposed. A release layer (C) is interposed between the layers (D). Here, the insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (B1) contains 1 to 10% by volume of filler. Moreover, the insulating resin layer (D) has a resin layer (D1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (D1) contains 1 to 10% by volume of filler.

[両面金属張積層板]
本発明の一実施の形態について、適宜図面を参照して説明する。図1は、本実施の形態の両面金属張積層板100の構成を示す模式的断面図である。図2は、図1の両面金属張積層板100を構成する2つの片面金属張積層板120,120’の構成を示す模式的断面図である。本実施の形態の両面金属張積層板100は、図1に示すように、金属層(A)及び金属層(E)としての金属層101,101’と、絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(D)としてのポリイミド層110,110’と、離形層(C)としての離形フィルム104を備えている。ここで、ポリイミド層110,110’は、ベース層としての低熱膨張性ポリイミド層102,102’と、樹脂層(B1)及び樹脂層(D1)としての熱可塑性ポリイミド層103,103’とを備えた積層構造の複数のポリイミド層によって構成されている。また、両面金属張積層板100は、ポリイミド層110,110’のそれぞれの片側表面に、金属層101,101’を備えた構造をしている。金属層101,101’に積層された低熱膨張性ポリイミド層102,102’、さらにこれと接着している熱可塑性ポリイミド層103,103’は、いずれもキャスティング法により形成されている。熱可塑性ポリイミド層103,103’は、それぞれ離形フィルム104に貼り合わされ、両面金属張積層板100を形成している。熱可塑性ポリイミド層103,103’は、所定量のフィラー105を含有している。離形フィルム104は、両面金属張積層板100において機械的剛性を高めるためのフィルムであり、表面に接着剤層(図示省略)を有していてもよい。熱可塑性ポリイミド層103と離形フィルム104は貼付境界107で互いに貼り合わされ、熱可塑性ポリイミド層103’と離形フィルム104は貼付境界107’で互いに貼り合わされている。なお、ポリイミド層110,110’は、それぞれ2層構造に限らず、1層でもよいし、3層以上のポリイミド層を有していてもよい。
[Double-sided metal-clad laminate]
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a double-sided metal-clad laminate 100 according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ constituting the double-sided metal-clad laminate 100 of FIG. As shown in FIG. 1, the double-sided metal-clad laminate 100 according to the present embodiment includes metal layers 101 and 101 'as a metal layer (A) and a metal layer (E), an insulating resin layer (B), and an insulating resin. A polyimide layer 110, 110 ′ as a layer (D) and a release film 104 as a release layer (C) are provided. Here, the polyimide layers 110 and 110 ′ include low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 ′ as a base layer, and thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ as a resin layer (B 1) and a resin layer (D 1). It is constituted by a plurality of polyimide layers having a laminated structure. Further, the double-sided metal-clad laminate 100 has a structure in which metal layers 101 and 101 ′ are provided on one surface of each of the polyimide layers 110 and 110 ′. The low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 ′ laminated on the metal layers 101 and 101 ′, and the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ bonded thereto are formed by a casting method. The thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ are bonded to the release film 104 to form a double-sided metal-clad laminate 100. The thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ contain a predetermined amount of filler 105. The release film 104 is a film for increasing the mechanical rigidity in the double-sided metal-clad laminate 100, and may have an adhesive layer (not shown) on the surface. The thermoplastic polyimide layer 103 and the release film 104 are bonded to each other at the bonding boundary 107, and the thermoplastic polyimide layer 103 ′ and the release film 104 are bonded to each other at the bonding boundary 107 ′. The polyimide layers 110 and 110 ′ are not limited to the two-layer structure, but may be one layer or may have three or more polyimide layers.

本実施の形態の両面金属張積層板100は、機械力によって、両面金属張積層板100を構成する2つの片面金属張積層板120,120’を離形フィルム104から引き離すことができる。両面金属張積層板100を2つの片面金属張積層板120又は120’と離形フィルム104とに分離するために必要な剥離強度(引き剥がし強度)は、一方のポリイミド層110と離形フィルム104との剥離強度AdB−Cと、他方のポリイミド層110’と離形フィルム104との剥離強度AdD−Cの平均値(AdB−C+AdD−C)/2が、例えば1〜30N/mの範囲内であることが好ましく、さらには5〜20N/mの範囲内であることがより好適である。剥離強度が1N/mを満たないと、FPC製造プロセスにおける機械的な外力により貼付境界107,107’での剥離が生じ易くなる。剥離強度が30N/mを上回ると、2つの片面金属張積層板120,120’と離形フィルム104への分離が不能になったり、剥離できたとしても分離時に金属張積層板が引き伸ばされ反りが発生し易くなる。 The double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment can separate the two single-sided metal-clad laminates 120, 120 ′ constituting the double-sided metal-clad laminate 100 from the release film 104 by mechanical force. The peeling strength (peeling strength) required for separating the double-sided metal-clad laminate 100 into two single-sided metal-clad laminates 120 or 120 ′ and the release film 104 is one polyimide layer 110 and the release film 104. peel strength Ad and B-C, the average value of peel strength Ad D-C with the other polyimide layer 110 'and a release film 104 with (Ad B-C + Ad D -C) / 2 is, for example 1~30N / M is preferable, and more preferably within a range of 5 to 20 N / m. If the peeling strength does not satisfy 1 N / m, peeling at the bonding boundaries 107 and 107 ′ is likely to occur due to mechanical external force in the FPC manufacturing process. When the peel strength exceeds 30 N / m, it becomes impossible to separate the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ from the release film 104, or even if they can be separated, the metal-clad laminate is stretched and warped at the time of separation. Is likely to occur.

両面金属張積層板100は、片面金属張積層板120又は120’に比べて厚みを有するとともに、離形フィルム104を備えているため、片面金属張積層板120又は120’の剛性を補強し、より優れた機械性質を付与することができる。そのため、両面金属張積層板100は、露光、現像、エッチング、メッキ加工などのウェットプロセス加工、ベーキング、高速プレスなどの高温域の加工を含むFPCの加工プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。   The double-sided metal-clad laminate 100 has a thickness compared to the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ and includes the release film 104, thereby reinforcing the rigidity of the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′, More excellent mechanical properties can be imparted. Therefore, the double-sided metal-clad laminate 100 breaks or damages the wiring layer due to bending in a FPC processing process including wet process processing such as exposure, development, etching, and plating, baking, and high-temperature processing such as high-speed press. The occurrence of defects such as peeling can be prevented.

本実施の形態の両面金属張積層板100は、図2に示すように、ポリイミド層110,110’と金属層101,101’とを有する片面金属張積層板120又は120’の貼付・剥離可能面103a,103a’を、離形フィルム104の両面に圧着して製造される。片面金属張積層板120又は120’におけるポリイミド層110,110’が2層以上の複数層からなる場合には、上記したように熱可塑性ポリイミド層103,103’と低熱膨張性ポリイミド層102,102’を含むことができる。ここで、「熱可塑性ポリイミド層」は、加熱圧着温度で他の離形層との接着性を担保するのに必要な熱可塑性を有しているものをいう。また、「低熱膨張性ポリイミド層」とは、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲であるポリイミド層をいう。 As shown in FIG. 2, the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment can be applied to and peeled off from a single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ having polyimide layers 110 and 110 ′ and metal layers 101 and 101 ′. The surfaces 103a and 103a ′ are manufactured by pressure-bonding to both surfaces of the release film 104. When the polyimide layers 110 and 110 ′ in the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ are composed of two or more layers, as described above, the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ and the low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 are used. 'Can contain. Here, the “thermoplastic polyimide layer” refers to a layer having the thermoplasticity necessary to ensure adhesion with other release layers at the thermocompression bonding temperature. The “low thermal expansion polyimide layer” means a linear thermal expansion coefficient of 20 × 10 −6 (1 / K) or less, preferably in the range of 1 × 10 −6 to 17 × 10 −6 (1 / K). It refers to a certain polyimide layer.

2つの片面金属張積層板120,120’のポリイミド層110,110’を離形フィルム104に貼り合わせるときの圧着は、例えば次のような方法を選択することができる。すなわち、ハイドロプレス、真空タイプのハイドロプレス、オートクレーブ加圧式真空プレス、連続式熱ラミネータなどを使用することができる。このうち生産性に優れる点から、一対のロールを用いて加圧を行う連続式ラミネータがより好適な圧着方法である。   For example, the following method can be selected for pressure bonding when the polyimide layers 110 and 110 ′ of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ are bonded to the release film 104. That is, a hydro press, a vacuum type hydro press, an autoclave pressurizing vacuum press, a continuous thermal laminator, or the like can be used. Among these, a continuous laminator that performs pressurization using a pair of rolls is a more preferable pressure bonding method from the viewpoint of excellent productivity.

圧着時の温度(プレス温度)については、特に限定されるものではなく、加熱してもよいが、常温が好ましい。また、プレス圧力については、使用するプレス機器の種類にもよるが、0.1〜50MPa(約1〜約500kg/cm)が適当である。圧着時に加熱する場合のプレス温度は、片面金属張積層板120,120’の最外層に位置する熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドのガラス転移点温度以上であることが好ましい。圧着時のプレス温度が高くなりすぎると金属層101,101’およびポリイミド層110,110’の劣化等の不具合が発生する懸念があるため、この点においても常温でプレスすることが好ましい。 The temperature at the time of pressure bonding (press temperature) is not particularly limited and may be heated, but normal temperature is preferable. Moreover, about press pressure, although based also on the kind of press apparatus to be used, 0.1-50 MPa (about 1-about 500 kg / cm < 2 >) is suitable. The pressing temperature when heating at the time of pressure bonding is preferably equal to or higher than the glass transition temperature of the thermoplastic polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ located in the outermost layer of the single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′. . If the pressing temperature at the time of pressure bonding becomes too high, there is a concern that defects such as deterioration of the metal layers 101, 101 ′ and the polyimide layers 110, 110 ′ may occur.

<片面金属張積層板>
片面金属張積層板120,120’の製造においては、逐次的に複数のポリアミド酸の樹脂層を形成した後に一括してイミド化し、ポリイミド層110,110’とする方法が好ましいが、これに限定されるものではない。すなわち、金属層101,101’に対し、多層ダイ等により複数のポリアミド酸の樹脂層を一括して塗布し、これを乾燥した後に一括して熱処理によるイミド化を行うことで複数のポリイミド層を形成してもよいし、あるいは、複数のポリアミド酸の樹脂層を逐次的に塗布した後に一括して乾燥、イミド化を行ってもよい。また、複数のポリアミド酸の樹脂溶液の塗布乾燥からイミド化までを逐次的に行うことで1層ずつポリイミド層を形成してもよい。複数のポリイミド層を形成するに当たって、これらの各処理は任意に組み合わせることができる。
<Single-sided metal-clad laminate>
In the production of the single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′, a method in which a plurality of polyamide acid resin layers are sequentially formed and then imidized at once to form polyimide layers 110 and 110 ′ is preferable, but is not limited thereto. Is not to be done. That is, a plurality of polyamic acid resin layers are collectively applied to the metal layers 101 and 101 ′ by a multi-layer die or the like, dried, and then simultaneously imidized by heat treatment to form a plurality of polyimide layers. Alternatively, a plurality of polyamic acid resin layers may be sequentially applied and then dried and imidized together. Moreover, you may form a polyimide layer one layer at a time by performing sequentially from application | coating drying of the resin solution of a some polyamic acid to imidation. In forming a plurality of polyimide layers, each of these treatments can be arbitrarily combined.

<金属層>
金属層101,101’は、接着性の観点からは金属箔を用いることが好ましく、当該金属箔の金属として、銅、アルミニウム、ステンレス、鉄、銀、パラジウム、ニッケル、クロム、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、金、コバルト、チタン、タンタル、亜鉛、鉛、錫、シリコン、ビスマス、インジウム又はこれらの合金などから選択される金属を挙げることができる。導電性の点で特に好ましいものは銅箔である。なお、本実施の形態の両面金属張積層板100及び片面金属張積層板120,120’を連続的に生産する場合には、金属箔として、所定の厚さのものがロール状に巻き取られた長尺状の金属箔が用いられる。
<Metal layer>
The metal layers 101 and 101 ′ are preferably metal foils from the viewpoint of adhesiveness. As the metal of the metal foil, copper, aluminum, stainless steel, iron, silver, palladium, nickel, chromium, molybdenum, tungsten, zirconium And metals selected from gold, cobalt, titanium, tantalum, zinc, lead, tin, silicon, bismuth, indium, and alloys thereof. A copper foil is particularly preferable in terms of conductivity. In the case where the double-sided metal-clad laminate 100 and the single-sided metal-clad laminates 120, 120 ′ of the present embodiment are continuously produced, a metal foil having a predetermined thickness is wound into a roll. An elongated metal foil is used.

また、金属層101,101’のポリイミド層110,110’と直接接する面の表面粗さは、Rzで0.5〜4μmであることが好ましい。この範囲であれば、ポリイミド層110,110’との接着力がより良好となるためである。さらにはRzが0.5〜2.5μmであれば、好適な接着力と高密度配線形成時に求められる良好なエッチング性との両立を図ることができるため、より好ましい。ここで、Rzは、JIS B 0601(1994)に規定される十点平均粗さを示す。   The surface roughness of the surfaces of the metal layers 101 and 101 ′ that are in direct contact with the polyimide layers 110 and 110 ′ is preferably 0.5 to 4 μm in Rz. This is because the adhesive strength with the polyimide layers 110 and 110 'is better within this range. Furthermore, if Rz is 0.5 to 2.5 μm, it is more preferable because it is possible to achieve both a suitable adhesive force and a good etching property required when forming a high-density wiring. Here, Rz indicates a ten-point average roughness defined in JIS B 0601 (1994).

<フィラー>
本実施の形態では、離形フィルム104に圧着される2つの片面金属張積層板120又は120’の両方の最外層(最表面)に位置する熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドは、フィラー105を1〜10体積%の範囲内で含有することが好ましく、さらには2〜6体積%の範囲内で含有することがより好適である。熱可塑性ポリイミド層103,103’におけるフィラー105の含有量が1体積%に満たないと、貼付境界107,107’の密着力が強固となり、両面金属張積層板100を2つの片面金属張積層板120又は120’へ分離する際に、分離が不能になったり、剥離できたとしても分離時に片面金属張積層板120又は120’が引き伸ばされ反りが発生し易くなる。一方、フィラー105の含有量が10体積%を超えると表面の凹凸が大きくなり外観的に平滑性が損なわれたり、貼付境界107,107’の密着力が低下してFPC製造プロセスにおける機械的な外力により貼付境界107,107’で剥離が生じ易くなる。
<Filler>
In the present embodiment, the polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ located on the outermost layer (outermost surface) of both of the two single-sided metal-clad laminates 120 or 120 ′ to be pressure-bonded to the release film 104 is The filler 105 is preferably contained within a range of 1 to 10% by volume, and more preferably within a range of 2 to 6% by volume. If the content of the filler 105 in the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ is less than 1% by volume, the adhesion of the bonding boundaries 107 and 107 ′ becomes strong, and the double-sided metal-clad laminate 100 is replaced with two single-sided metal-clad laminates. When separating into 120 or 120 ′, even if separation becomes impossible or separation is possible, the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ is stretched during the separation and warpage is likely to occur. On the other hand, when the content of the filler 105 exceeds 10% by volume, the unevenness of the surface becomes large and the smoothness is deteriorated in appearance, or the adhesive strength between the bonding boundaries 107 and 107 ′ is reduced, resulting in mechanical in the FPC manufacturing process. Exfoliation is likely to occur at the bonding boundaries 107 and 107 ′ due to external force.

熱可塑性ポリイミド層103,103’におけるフィラー105の含有量は、上記範囲内であれば、同じであってもよいし、異なっていてもよい。フィラー105の含有量が異なる場合、熱可塑性ポリイミド層103と、熱可塑性ポリイミド層103’におけるフィラー105の含有率の差は、接着力を同程度にコントロールする観点から、5体積%以下であることが好ましい。   The content of the filler 105 in the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ may be the same or different as long as it is within the above range. When the content of the filler 105 is different, the difference in the content of the filler 105 in the thermoplastic polyimide layer 103 and the thermoplastic polyimide layer 103 ′ is 5% by volume or less from the viewpoint of controlling the adhesive strength to the same extent. Is preferred.

なお、フィラー105は、ポリイミド層110,110’の全体に分布していてもよい。すなわち、低熱膨張性ポリイミド層102,102’もフィラー105を含有していてもよい。   The filler 105 may be distributed throughout the polyimide layers 110 and 110 '. That is, the low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 ′ may also contain the filler 105.

フィラー105の材質としては、シリカ、アルミナ、窒化アルミニウム等が挙げられるが、これらの中でもシリカが好ましい。   Examples of the material of the filler 105 include silica, alumina, aluminum nitride, and the like. Among these, silica is preferable.

フィラー105の形状としては、樹脂中への分散の均一性の観点から破砕状ではなく、球状であることが好ましい。さらには、フィラー105の平均粒子径が1〜10μmであることがより好ましい。なお、本発明において、球状とは、真球又は実質的に角のない丸味のある粒子状態であるものをいい、破砕状とは、破砕粒子が有する角のある任意の形状をもつ粒子状態であるものをいい、電子顕微鏡又は他の顕微鏡により確認することができる。   The shape of the filler 105 is preferably not spherical but spherical in terms of uniformity of dispersion in the resin. Furthermore, the average particle diameter of the filler 105 is more preferably 1 to 10 μm. In the present invention, the spherical shape refers to a true sphere or a rounded particle state having substantially no corners, and the crushed shape refers to a particle state having an arbitrary shape with corners of the crushed particles. Some say, and can be confirmed with an electron microscope or other microscope.

<離形フィルム>
離形フィルム104は、両面金属張積層板100の剛性を高める作用を有するものであり、その材質は問わないが、例えば樹脂フィルム、金属箔、それらの複合フィルムなどを用いることができる。離形フィルム104に使用可能な樹脂としては、例えばポリエステル、ポリロピレン、ポリイミド、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル等が好ましい。また、金属箔としては、例えば銅箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、及びこれらの合金からなる金属箔を挙げることができる。上記の材質の中でも、取扱いが容易なポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステルが好ましい。
<Release film>
The release film 104 has an effect of increasing the rigidity of the double-sided metal-clad laminate 100, and any material can be used. For example, a resin film, a metal foil, a composite film thereof, or the like can be used. As a resin that can be used for the release film 104, for example, polyester, polypropylene, polyimide, polyethylene, polyvinyl chloride, and the like are preferable. Moreover, as metal foil, metal foil which consists of copper foil, stainless steel foil, aluminum foil, and these alloys can be mentioned, for example. Among the above materials, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) that are easy to handle are preferable.

離形フィルム104は、その両表面に接着剤層を有していることが好ましい。接着剤層を構成する接着剤としては、感圧接着剤が好ましく、例えばエラストマー系感圧接着剤、樹脂系感圧接着剤などを用いることがよい。ここで、エラストマー系感圧接着剤としては、例えば、天然ゴム系感圧接着剤、合成ゴム系感圧接着剤、熱可塑性エラストマー感圧接着剤などが好ましい。樹脂系感圧接着剤としては、例えば、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルエーテルなどが好ましい。離形フィルム104の両表面に感圧接着剤層を設けることによって、2つの片面金属張積層板120,120’のポリイミド層110,110’を離形フィルム104に貼り合わせるときに加熱が不要となり、常温圧着が可能となる。なお、離形フィルム104に接着剤層を設けた場合、樹脂層(B1)及び樹脂層(D1)は、必ずしも熱可塑性樹脂によって形成しなくともよい。   The release film 104 preferably has an adhesive layer on both surfaces thereof. As the adhesive constituting the adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive is preferable. For example, an elastomer-based pressure-sensitive adhesive or a resin-based pressure-sensitive adhesive is preferably used. Here, as the elastomer-based pressure-sensitive adhesive, for example, a natural rubber-based pressure-sensitive adhesive, a synthetic rubber-based pressure-sensitive adhesive, a thermoplastic elastomer-pressure-sensitive adhesive, and the like are preferable. As the resin-based pressure sensitive adhesive, for example, polyacrylate, polyurethane, polyvinyl chloride, polyvinyl ether and the like are preferable. By providing a pressure-sensitive adhesive layer on both surfaces of the release film 104, heating is not required when the polyimide layers 110 and 110 ′ of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ are bonded to the release film 104. , Room temperature crimping is possible. In the case where an adhesive layer is provided on the release film 104, the resin layer (B1) and the resin layer (D1) are not necessarily formed of a thermoplastic resin.

<ポリイミド>
次に、ポリイミド層110,110’を構成するポリイミドについて説明する。本発明でポリイミドという場合、ポリイミドの他、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリシロキサンイミド、ポリベンズイミダゾールイミドなど、分子構造中にイミド基を有するポリマーからなる樹脂を意味する。
<Polyimide>
Next, the polyimide constituting the polyimide layers 110 and 110 ′ will be described. In the present invention, the term “polyimide” means a resin made of a polymer having an imide group in its molecular structure such as polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polysiloxaneimide, polybenzimidazoleimide, etc. in addition to polyimide.

<熱可塑性ポリイミド>
熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドとしては、酸無水物成分として、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を50モル%以上含有する酸無水物を用い、これとジアミノ化合物と反応させて得られたものが好ましい。BTDAを50モル%以上含有するものとすることで、熱可塑性ポリイミド層103,103’と離形フィルム104との間の剥離性が向上し、分離時に片面金属張積層板120又は120’(あるいは、回路加工済みのもの)が引き伸ばされ反りが発生するリスクが抑えられる。BTDAのより好ましい含有量は70〜100モル%の範囲である。
<Thermoplastic polyimide>
The thermoplastic polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ contains 50 mol% or more of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) as an acid anhydride component. What was obtained by using an acid anhydride and making it react with a diamino compound is preferable. By including 50 mol% or more of BTDA, the peelability between the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ and the release film 104 is improved, and the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ (or The risk of warping due to stretching of the circuit processed product). A more preferable content of BTDA is in the range of 70 to 100 mol%.

熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドとしては、ジアミノ成分として、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)を50モル%以上含有するジアミノ化合物を用い、これと酸無水物と反応させて得られたものが好ましい。DAPEを50モル%以上含有するものとすることで、熱可塑性ポリイミド層103,103’と離形フィルム104との間の剥離性が向上し、分離時に片面金属張積層板120又は120’(あるいは、回路加工済みのもの)が引き伸ばされ反りが発生するリスクが抑えられる。DAPEのより好ましい含有量は70〜100モル%の範囲である。   As the thermoplastic polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′, a diamino compound containing 50 mol% or more of 4,4′-diaminodiphenyl ether (DAPE) is used as a diamino component, and this is reacted with an acid anhydride. What was obtained was made to be preferable. By including DAPE in an amount of 50 mol% or more, the peelability between the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ and the release film 104 is improved, and the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ (or The risk of warping due to stretching of the circuit processed product). A more preferable content of DAPE is in the range of 70 to 100 mol%.

ジアミノ化合物のうちDAPE以外のものとしては、NH−Ar1−NHで表される芳香族ジアミノ化合物が好適なものとして挙げられる。ここで、Ar1は下記式で表される基から選択されるものであり、アミノ基の置換位置は任意であるが、p,p’位が好ましい。Ar1は置換基を有することもできるが、好ましくは有しないか、有する場合にはその置換基は炭素数1〜6の低級アルキルまたは低級アルコキシ基であるのがよい。これらの芳香族ジアミノ化合物は1種のみを使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。 Among diamino compounds other than DAPE, aromatic diamino compounds represented by NH 2 —Ar 1 —NH 2 are preferred. Here, Ar1 is selected from the group represented by the following formula, and the substitution position of the amino group is arbitrary, but the p and p ′ positions are preferred. Ar1 may have a substituent, but it is preferably not present, or when present, the substituent is preferably a lower alkyl or lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. These aromatic diamino compounds may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2018051901
Figure 2018051901

ジアミノ化合物と反応させるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸およびその酸無水物、エステル化物、ハロゲン化物などが挙げられるが、芳香族テトラカルボン酸化合物が好適であり、ポリアミド酸の合成の容易さの点で、その酸無水物が好ましい。なお、芳香族テトラカルボン酸化合物としては、O(CO)Ar2(CO)Oで表される化合物が好適なものとして挙げられる。ここで、Ar2は、下記式で表される4価の芳香族基であることが好ましく、酸無水物基[(CO)O]の置換位置は任意であるが、対称の位置が好ましい。Ar2は、置換基を有することもできるが、好ましくは有しないか、有する場合にはその置換基は炭素数1〜6の低級アルキル基であるのがよい。より好ましい芳香族テトラカルボン酸化合物のうちBTDA以外のものとしては、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)、ピロメリット酸無水物(PMDA)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、および4,4’−オキシジフタル酸無水物(ODPA)又はこれらの組合せであるのがよい。これらのテトラカルボン酸化合物は1種のみを使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound to be reacted with the diamino compound include aromatic tetracarboxylic acid and acid anhydrides, esterified products, halides, etc., but aromatic tetracarboxylic acid compounds are preferred and are used for synthesizing polyamic acid. In terms of ease, the acid anhydride is preferred. As the aromatic tetracarboxylic acid compound, O (CO) 2 Ar2 ( CO) compound represented by the 2 O is mentioned as suitable. Here, Ar2 is preferably a tetravalent aromatic group represented by the following formula, and the substitution position of the acid anhydride group [(CO) 2 O] is arbitrary, but a symmetric position is preferred. Ar2 may have a substituent, but preferably does not have it or, when it is present, the substituent is preferably a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Among the more preferred aromatic tetracarboxylic acid compounds, those other than BTDA include biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA), pyromellitic anhydride (PMDA), 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic. It may be acid dianhydride (DSDA) and 4,4′-oxydiphthalic anhydride (ODPA) or combinations thereof. These tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2018051901
Figure 2018051901

<低熱膨張性ポリイミド>
低熱膨張性ポリイミド層102,102’を構成するポリイミドは、上記した熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドの場合と同様に、NH−Ar1−NHで表される芳香族ジアミノ化合物とテトラカルボン酸化合物と反応させて得られたものが好ましい。ただし、低熱膨張性ポリイミド層102,102’の線熱膨張係数を20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲とするのがよく、この条件を達成する上で好適な芳香族ジアミノ化合物を選択することが好ましい。例えば、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル(m-TB)を50モル%以上含有するジアミノ化合物をテトラカルボン酸化合物と反応させて得られたものが好適なものとして挙げられ、さらには70モル%以上含有するジアミノ化合物を選択することがより好ましい。
<Low thermal expansion polyimide>
Low thermal expansion polyimide layer 102, 102 'polyimide constituting the, the thermoplastic polyimide layer 103, 103 as described above' as in the case of the polyimide constituting the aromatic diamino compound represented by NH 2 -Ar1-NH 2 Those obtained by reacting with a tetracarboxylic acid compound are preferred. However, the linear thermal expansion coefficient of the low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 ′ is 20 × 10 −6 (1 / K) or less, preferably in the range of 1 × 10 −6 to 17 × 10 −6 (1 / K). It is preferable to select an aromatic diamino compound suitable for achieving this condition. For example, those obtained by reacting a diamino compound containing 50 mol% or more of 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl (m-TB) with a tetracarboxylic acid compound are preferred. Furthermore, it is more preferable to select a diamino compound containing 70 mol% or more.

ジアミノ化合物と反応させるテトラカルボン酸化合物としては、上記した熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドの場合と同様の化合物を使用することができる。線熱膨張係数を20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲とする上でより好ましい芳香族テトラカルボン酸化合物は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)、ピロメリット酸無水物(PMDA)又はこれらの組合せである。 As the tetracarboxylic acid compound to be reacted with the diamino compound, the same compounds as in the case of the polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ can be used. The aromatic tetracarboxylic acid compound is more preferable in that the linear thermal expansion coefficient is 20 × 10 −6 (1 / K) or less, preferably in the range of 1 × 10 −6 to 17 × 10 −6 (1 / K). , Biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA), pyromellitic anhydride (PMDA) or a combination thereof.

<ポリイミド層(絶縁樹脂層全体)>
圧着に供される2つの片面金属張積層板120,120’のポリイミド層110,110’の全体の線熱膨張係数については、好ましくは両方のポリイミド層110,110’が15×10−6〜35×10−6(1/K)の範囲であり、さらには16×10−6〜33×10−6(1/K)の範囲であることがより好適である。ポリイミド層110,110’の全体の線熱膨張係数が前記範囲外である場合、片面金属張積層板120,120’を得る工程において、片面金属張積層板120,120’の幅方向端部の反りが大きくなり、安定生産に支障が生じ易くなる。さらには2つの片面金属張積層板120,120’と離形フィルム104とを圧着して両面金属張積層板100を得る工程においても、幅方向端部の反りが内側に折れ込み易くなり、安定生産に支障が生じてしまうおそれがある。
<Polyimide layer (insulating resin layer as a whole)>
Regarding the overall linear thermal expansion coefficient of the polyimide layers 110 and 110 ′ of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ used for the pressure bonding, preferably both the polyimide layers 110 and 110 ′ are 15 × 10 −6 to It is in the range of 35 × 10 −6 (1 / K), and more preferably in the range of 16 × 10 −6 to 33 × 10 −6 (1 / K). When the overall linear thermal expansion coefficient of the polyimide layers 110 and 110 ′ is out of the above range, in the step of obtaining the single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′, the width direction end portions of the single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′ are obtained. Warpage increases, and stable production tends to be hindered. Furthermore, even in the process of obtaining the double-sided metal-clad laminate 100 by crimping the two single-sided metal-clad laminates 120, 120 ′ and the release film 104, the warp at the end in the width direction is easily folded inward and stable. Production may be hindered.

熱可塑性ポリイミド層103,103’と低熱膨張性ポリイミド層102,102’を構成するポリイミドは、例えば次のような方法により製造することができる。すなわち、溶媒中で、上記のジアミノ化合物およびテトラカルボン酸二無水物をほぼ等モルの割合で混合し、反応温度0〜200℃の範囲で、好ましくは0〜100℃の範囲で反応させて、ポリアミド酸の樹脂溶液を得て、さらに、これをイミド化することによりポリイミドを得る方法がある。   The polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ and the low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 ′ can be manufactured by the following method, for example. That is, in a solvent, the above diamino compound and tetracarboxylic dianhydride are mixed in an approximately equimolar ratio, and reacted in a reaction temperature range of 0 to 200 ° C., preferably in a range of 0 to 100 ° C., There is a method of obtaining a polyimide by obtaining a polyamide acid resin solution and imidizing it.

溶媒としては、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルフォキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルフォラン、ブチロラクトン、クレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジグライム、トリグライムなどが挙げられる。   As the solvent, N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol, cyclohexanone, Examples include dioxane, tetrahydrofuran, diglyme, and triglyme.

通常、ポリアミド酸の合成は、金属層101,101’への塗布前に、反応容器等の中で行われる。そして、ポリアミド酸の樹脂溶液を金属層101,101’上に塗布乾燥してポリアミド酸層を形成し、続く熱処理によってポリアミド酸層をイミド化することでポリイミド層を得る。当然、すでに形成されているポリアミド酸層上あるいはポリイミド層上に塗布してもよい。   Usually, the synthesis of the polyamic acid is performed in a reaction vessel or the like before application to the metal layers 101 and 101 '. Then, a polyamic acid resin solution is applied and dried on the metal layers 101 and 101 'to form a polyamic acid layer, and the polyamic acid layer is imidized by a subsequent heat treatment to obtain a polyimide layer. Of course, you may apply | coat on the polyamic-acid layer already formed or the polyimide layer.

乾燥および加熱イミド化処理の方法としては、例えばバッチ処理方式、連続処理方式などの任意の方法を選択可能である。バッチ処理方式は、ポリアミド酸の樹脂溶液を長尺状の金属箔に塗布した後、イミド化していない状態でその積層体をロール状に巻き取り、所定の温度に設定可能な熱風乾燥炉の中に一定時間静置し、最終的に200℃以上の高温にて熱処理することでイミド化を完了させる方法である。連続処理方式は、ポリアミド酸の樹脂溶液を長尺状の金属箔に塗布した後、乾燥炉内を連続移動させて所定の熱処理時間を確保させた上で、最終的に200℃以上の高温にて熱処理を行う方法である。   As a method of drying and heating imidization treatment, any method such as a batch treatment method and a continuous treatment method can be selected. In the batch processing method, after applying a polyamic acid resin solution to a long metal foil, the laminate is wound in a roll shape without being imidized, and is set in a hot air drying furnace that can be set to a predetermined temperature. And imidation is completed by heat-treating at a high temperature of 200 ° C. or higher. In the continuous treatment method, after applying a polyamic acid resin solution to a long metal foil, the inside of the drying furnace is continuously moved to ensure a predetermined heat treatment time, and finally the temperature is increased to 200 ° C. or higher. This is a method of performing heat treatment.

これらは、生産性や歩留り等の観点からいずれの方法を選択してもよいが、金属層101,101’の酸化を防ぐことを目的として、200℃以上の高温における熱処理は減圧環境下、還元性気体雰囲気下あるいは還元性気体雰囲気下かつ減圧環境下にて行うことが好ましい。   Any of these methods may be selected from the viewpoints of productivity, yield, etc., but heat treatment at a high temperature of 200 ° C. or higher is performed under reduced pressure in order to prevent oxidation of the metal layers 101 and 101 ′. It is preferable to carry out in a reducing gas atmosphere or a reducing gas atmosphere and a reduced pressure environment.

なお、乾燥およびイミド化処理工程における加熱によってポリアミド酸樹脂の溶媒が除去され、イミド化されるわけであるが、この際、高温で急激に熱処理を行うと樹脂表面にスキン層が生成して溶媒が蒸発しづらくなったり、発砲が生じたりするため、低温から段階的に高温まで上昇させながら熱処理を行うことが好ましい。また、加熱イミド化工程においては最終的に300〜400℃の温度で熱処理することが好ましい。   In addition, the solvent of the polyamic acid resin is removed and imidized by heating in the drying and imidization treatment step. At this time, if heat treatment is performed rapidly at a high temperature, a skin layer is formed on the resin surface, and the solvent is removed. However, it is preferable to perform heat treatment while gradually raising the temperature from a low temperature to a high temperature. Moreover, in the heating imidation process, it is preferable to heat-process finally at the temperature of 300-400 degreeC.

金属層101,101’に塗布するポリアミド酸の樹脂溶液の濃度は、ポリマーであるポリアミド酸の重合度にもよるが、5〜30重量%が好ましく、さらに好ましくは10〜20重量%である。ポリマー濃度が5重量%以上であれば1回の塗布で十分な膜厚が得られ、30重量%以下であれば当該樹脂溶液の粘度が高くなり過ぎず、均一かつ平滑に塗布することができるためである。   The concentration of the polyamic acid resin solution applied to the metal layers 101 and 101 'is preferably 5 to 30% by weight, more preferably 10 to 20% by weight, although it depends on the degree of polymerization of the polyamic acid that is a polymer. If the polymer concentration is 5% by weight or more, a sufficient film thickness can be obtained by one application, and if it is 30% by weight or less, the viscosity of the resin solution does not become too high and can be applied uniformly and smoothly. Because.

以上、詳述したように、本実施の形態の両面金属張積層板100は、2つの片面金属張積層板120,120’における熱可塑性ポリイミド層103,103’にそれぞれ所定の体積比率でフィラー105を含有するため、離形フィルム104に対して適度な接着性を有するとともに、剥離が容易であり、剥離不能となったり、剥離後に反りが発生することを抑制できる。本実施の形態の両面金属張積層板100は、貼付境界107,107’で容易に剥離可能であるため、両面の金属層101,101’に同時に回路配線加工を行った後、剥離することが可能であり、FPC製造プロセスの効率を大幅に向上させることができる。   As described above in detail, the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment has the filler 105 at a predetermined volume ratio with respect to the thermoplastic polyimide layers 103 and 103 ′ in the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120 ′. Since it contains, it has moderate adhesiveness with respect to the release film 104, and peeling is easy, and it can suppress that it becomes impossible to peel or a curvature generate | occur | produces after peeling. Since the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment can be easily peeled off at the bonding boundaries 107 and 107 ′, it can be peeled off after simultaneously performing circuit wiring processing on the metal layers 101 and 101 ′ on both sides. It is possible and the efficiency of the FPC manufacturing process can be greatly improved.

また、本実施の形態の両面金属張積層板100は、片面金属張積層板120,120’の状態に比べて剛性が高いため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。従って、本実施の形態の両面金属張積層板100を用いることによって、FPC自体及びFPCを使用する電子製品の歩留まりと信頼性を向上させることができる。   In addition, since the double-sided metal-clad laminate 100 of this embodiment has higher rigidity than the state of the single-sided metal-clad laminate 120, 120 ′, the wiring layer is broken, damaged, or peeled off by bending in the FPC manufacturing process. It is possible to prevent the occurrence of problems such as. Therefore, by using the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment, the yield and reliability of the FPC itself and electronic products using the FPC can be improved.

以下、実施例により、本発明の実施の形態についてより具体的に説明する。また、比較例を示すことにより、本実施の形態の優位性を明らかにする。   Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to examples. Further, the superiority of the present embodiment will be clarified by showing a comparative example.

1.各種物性測定および性能試験方法
[ガラス転移点温度の測定]
銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルム(10mm×22.6mm)をDMAにて20℃から500℃まで5℃/分で昇温させたときの動的粘弾性を測定し、ガラス転移点温度Tg(tanδ極大値)を求めた。
1. Various physical properties measurement and performance test method [Measurement of glass transition temperature]
The dynamic viscoelasticity of a polyimide film (10mm x 22.6mm) obtained by etching and removing copper foil was measured at 5 ° C / min from 20 ° C to 500 ° C by DMA to measure the glass transition. The point temperature Tg (tan δ maximum value) was determined.

[線熱膨張係数の測定]
銅箔をエッチングして得られたポリイミドフィルムを、セイコーインスツルメンツ製のサーモメカニカルアナライザーを使用し、250℃まで昇温し、更にその温度で10分保持した後、5℃/分の速度で冷却し、240℃から100℃までの平均熱膨張係数(線熱膨張係数)を求めた。
[Measurement of linear thermal expansion coefficient]
The polyimide film obtained by etching the copper foil was heated to 250 ° C. using a thermomechanical analyzer manufactured by Seiko Instruments Inc., held at that temperature for 10 minutes, and then cooled at a rate of 5 ° C./min. The average thermal expansion coefficient (linear thermal expansion coefficient) from 240 ° C. to 100 ° C. was determined.

[剥離強度の測定]
2つの片面フレキシブル銅張積層板を離形層を介して貼り合せて得られた両面フレキシブル銅張積層板を25mm×100mmにカットし、予め一方の片面フレキシブル銅張積層板を引き剥がして除去した離形層付き片面フレキシブル銅張積層板の離形層を引っ張り試験器にて180°引き剥がし法により剥離強度を測定した。もう一方の面も同様にして剥離強度を測定し、両者の平均値を算出した。
[Measurement of peel strength]
A double-sided flexible copper-clad laminate obtained by bonding two single-sided flexible copper-clad laminates through a release layer was cut into 25 mm × 100 mm, and one of the single-sided flexible copper-clad laminates was previously removed by peeling off. The release strength of the release layer of the single-sided flexible copper clad laminate with release layer was measured by a 180 ° peeling method using a tensile tester. The peel strength was measured on the other surface in the same manner, and the average value of both was calculated.

[外観性状]
250mm×250mmサイズの片面フレキシブル銅張積層板の樹脂面側を目視で観察し、直径が100μm以上の突起が確認された場合、これを「外観不良」と判断した。
[Appearance properties]
The resin side of the single-sided flexible copper-clad laminate having a size of 250 mm × 250 mm was visually observed, and when a protrusion having a diameter of 100 μm or more was confirmed, this was judged as “poor appearance”.

[剥離後反りの測定]
フレキシブル銅張積層板から10cm×10cmサイズのシートを作成し、このシートを机上に載置したときに最も机の面から浮き上がった部分の机の面からの高さをノギスを用いて測定し、これを反り量とした。
[Measurement of warpage after peeling]
Create a 10cm x 10cm size sheet from a flexible copper clad laminate, and measure the height from the desk surface of the part that is the most lifted from the desk surface when this sheet is placed on the desk using a caliper, This was the amount of warpage.

2.ポリアミド酸樹脂の合成
合成例1(フィラー含有なし):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、312.20gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に4,4’−ジアミノジフェニルエーテル14.67g(0.073モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、23.13g(0.072モル)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,960mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液aを得た。なお、溶液粘度は、E型粘度計による25℃でのみかけ粘度の値である(以下、同様)。このポリアミド酸の樹脂溶液aから得られたポリイミドのガラス転移点温度は312℃で、線熱膨張係数は45×10−6(1/K)であった。
2. Synthetic synthesis example 1 of polyamic acid resin (without filler):
31.20 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. In this reaction vessel, 14.67 g (0.073 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether was dissolved in the vessel with stirring. Next, 23.13 g (0.072 mol) of 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride was added. Thereafter, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution a having a solution viscosity of 2,960 mPa · s. The solution viscosity is an apparent viscosity value only at 25 ° C. by an E-type viscometer (hereinafter the same). The glass transition temperature of the polyimide obtained from this polyamic acid resin solution a was 312 ° C., and the linear thermal expansion coefficient was 45 × 10 −6 (1 / K).

合成例2(フィラー含有量1体積%):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、312.20gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に球状フィラー(シリカ、平均粒径1.2μm、アドマテックス社製、「SE4050」;以下、同様である)を0.60g加え、超音波分散装置にて3時間分散させた。この溶液に4,4’−ジアミノジフェニルエーテル14.67g(0.073モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、23.13g(0.072モル)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度3,160mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液bを得た。
Synthesis example 2 (filler content 1 volume%):
31.20 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. To this reaction vessel, 0.60 g of spherical filler (silica, average particle size 1.2 μm, manufactured by Admatechs, “SE4050”; the same applies hereinafter) was added and dispersed for 3 hours using an ultrasonic dispersing apparatus. In this solution, 14.67 g (0.073 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether was dissolved in a container with stirring. Next, 23.13 g (0.072 mol) of 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride was added. Thereafter, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution b having a solution viscosity of 3,160 mPa · s.

合成例3(フィラー含有量10体積%):
球状フィラーを6.60gとしたこと以外は合成例2と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液cを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液cの溶液粘度は3,500mPa・sであった。
Synthesis Example 3 (filler content 10% by volume):
A polyamic acid resin solution c was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the spherical filler was changed to 6.60 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution c was 3,500 mPa · s.

合成例4(フィラー含有量15体積%):
球状フィラーを10.50gとしたこと以外は合成例2と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液dを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液dの溶液粘度は4,100mPa・sであった。
Synthesis Example 4 (filler content 15% by volume):
A polyamic acid resin solution d was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the spherical filler was changed to 10.50 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution d was 4,100 mPa · s.

合成例5(フィラー含有なし):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、308.00gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン27.14g(0.066モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、14.86g(0.068モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,850mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液eを得た。このポリアミド酸の樹脂溶液eから得られたポリイミドのガラス転移点温度は290℃で、線熱膨張係数は55×10−6(1/K)であった。
Synthesis Example 5 (without filler):
In a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen, 308.00 g of N, N dimethylacetamide was placed. In this reaction vessel, 27.14 g (0.066 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane was dissolved in the vessel with stirring. Next, 14.86 g (0.068 mol) of pyromellitic dianhydride was added. Thereafter, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution e having a solution viscosity of 2,850 mPa · s. The glass transition temperature of the polyimide obtained from this polyamic acid resin solution e was 290 ° C., and the linear thermal expansion coefficient was 55 × 10 −6 (1 / K).

合成例6(フィラー含有量1体積%):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、308.00gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に球状フィラーを0.70g加え、超音波分散装置にて3時間分散させた。この溶液に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン27.14g(0.066モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、14.86g(0.068モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,960mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液fを得た。
Synthesis Example 6 (filler content 1% by volume):
In a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen, 308.00 g of N, N dimethylacetamide was placed. To this reaction vessel, 0.70 g of spherical filler was added and dispersed for 3 hours with an ultrasonic dispersion device. In this solution, 27.14 g (0.066 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane was dissolved in a container with stirring. Next, 14.86 g (0.068 mol) of pyromellitic dianhydride was added. Thereafter, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution f having a solution viscosity of 2,960 mPa · s.

合成例7(フィラー含有量10体積%):
球状フィラーを7.30gとしたこと以外は合成例6と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液gを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液gの溶液粘度は3,200mPa・sであった。
Synthesis Example 7 (filler content 10% by volume):
A polyamic acid resin solution g was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the spherical filler was changed to 7.30 g. The solution viscosity of the polyamide acid resin solution g was 3,200 mPa · s.

合成例8(フィラー含有量15体積%):
球状フィラーを11.65gとしたこと以外は合成例6と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液hを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液hの溶液粘度は3,700mPa・sであった。
Synthesis Example 8 (filler content 15% by volume):
A polyamic acid resin solution h was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the spherical filler was changed to 11.65 g. The solution viscosity of the polyamide acid resin solution h was 3,700 mPa · s.

合成例9
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、297.50gのN,N−ジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に4,4’−ジアミノ−2,2’ジメチルビフェニル25.27g(0.119モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、6.87g(0.023モル)の3,3’−4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物および20.36g(0.093モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度21,000mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液iを得た。このポリアミド酸の樹脂溶液iから得られたポリイミドのガラス転移点温度は360℃で、線熱膨張係数は15×10−6(1/K)であった。
Synthesis Example 9
In a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen, 297.50 g of N, N-dimethylacetamide was placed. In this reaction vessel, 25.27 g (0.119 mol) of 4,4′-diamino-2,2′dimethylbiphenyl was dissolved in the vessel with stirring. Next, 6.87 g (0.023 mol) of 3,3′-4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 20.36 g (0.093 mol) of pyromellitic dianhydride were added. . Thereafter, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution i having a solution viscosity of 21,000 mPa · s. The glass transition temperature of the polyimide obtained from this polyamic acid resin solution i was 360 ° C., and the linear thermal expansion coefficient was 15 × 10 −6 (1 / K).

(実施例1)
厚さ12μmで長尺状の電解銅箔の片面に合成例9で調製したポリアミド酸の樹脂溶液iを均一に塗布した後(第1層目)、130℃で加熱乾燥し溶媒を除去した。次に、この塗布面側に合成例2で調製したポリアミド酸の樹脂溶液bを均一に塗布し(第2層目)、130℃で加熱乾燥し溶媒を除去した。この長尺状の積層体を130℃から開始して300℃まで段階的に温度が上がるように設定した連続硬化炉にて、合計10分程度の時間をかけて熱処理し、ポリイミド層の厚みが25μmの片面フレキシブル銅張積層板を得た。続いてこの片面フレキシブル銅張積層板2つを、離形層として両面にアクリル樹脂系感圧接着剤層を有したPETフィルム(総厚み25μm)に各ポリイミド層面が離形層に接するように貼り合わせ、同時に一対のロール間に10m/分の速度で連続的に供給して常温加圧することで積層し、長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。このときロール間の線圧は5kN/mであった。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
Example 1
After applying the polyamic acid resin solution i prepared in Synthesis Example 9 uniformly on one side of a long electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm (first layer), the solvent was removed by heating at 130 ° C. Next, the polyamic acid resin solution b prepared in Synthesis Example 2 was uniformly applied to the coated surface side (second layer), and dried by heating at 130 ° C. to remove the solvent. This long laminate was heat-treated in a continuous curing furnace set so that the temperature gradually increased from 300 ° C. to 300 ° C. over a period of about 10 minutes. A 25 μm single-sided flexible copper-clad laminate was obtained. Subsequently, the two single-sided flexible copper-clad laminates were attached to a PET film (total thickness 25 μm) having an acrylic resin pressure sensitive adhesive layer on both sides as a release layer so that each polyimide layer surface was in contact with the release layer. At the same time, a continuous double-sided flexible copper-clad laminate was obtained by continuously supplying at a speed of 10 m / min between a pair of rolls and pressurizing at room temperature. At this time, the linear pressure between the rolls was 5 kN / m. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(実施例2)
第2層目を合成例3で調製したポリアミド酸の樹脂溶液cにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 2)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution c prepared in Synthesis Example 3. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(実施例3)
第2層目を合成例6で調製したポリアミド酸の樹脂溶液fにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 3)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed with the polyamic acid resin solution f prepared in Synthesis Example 6. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(実施例4)
第2層目を合成例7で調製したポリアミド酸の樹脂溶液gにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
Example 4
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution g prepared in Synthesis Example 7. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(比較例1)
第2層目を合成例1で調製したポリアミド酸の樹脂溶液aにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Comparative Example 1)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution a prepared in Synthesis Example 1. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(比較例2)
第2層目を合成例4で調製したポリアミド酸の樹脂溶液dにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は一部剥離が生じ貼り付き性が不十分であった。
(Comparative Example 2)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution d prepared in Synthesis Example 4. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were partially peeled off and the sticking property was insufficient.

(比較例3)
第2層目を合成例5で調製したポリアミド酸の樹脂溶液eにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Comparative Example 3)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution e prepared in Synthesis Example 5. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were adhered to each other without being peeled off from each other.

(比較例4)
第2層目を合成例8で調製したポリアミド酸の樹脂溶液hにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。常温加圧により積層したポリイミド層と離形層は一部剥離が生じ貼り付き性が不十分であった。
(Comparative Example 4)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed from the polyamic acid resin solution h prepared in Synthesis Example 8. The polyimide layer and the release layer laminated by pressing at room temperature were partially peeled off and the sticking property was insufficient.

以上の結果をまとめて表1に示す。   The above results are summarized in Table 1.

Figure 2018051901
Figure 2018051901


以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはない。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail for the purpose of illustration, this invention is not restrict | limited to the said embodiment.

100…両面金属張積層板、101,101’…金属層、102,102’…低熱膨張性ポリイミド層、103,103’…熱可塑性ポリイミド層、103a,103a’…貼付・剥離可能面、104…離形フィルム、105…フィラー、107,107’…貼付境界、110,110’…ポリイミド層、120,120’…片面金属張積層板   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Double-sided metal-clad laminate, 101, 101 '... Metal layer, 102, 102' ... Low thermal expansion polyimide layer, 103, 103 '... Thermoplastic polyimide layer, 103a, 103a' ... Sticking / peeling surface, 104 ... Release film, 105 ... filler, 107, 107 '... sticking boundary, 110, 110' ... polyimide layer, 120, 120 '... single-sided metal-clad laminate

Claims (8)

金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/離形層(C)/絶縁樹脂層(D)/金属層(E)を有する金属張積層板であって、
前記絶縁樹脂層(B)は、前記離形層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有するとともに、
前記絶縁樹脂層(D)は、前記離形層(C)に接する樹脂層(D1)を有しており、該樹脂層(D1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有することを特徴とする金属張積層板。
A metal-clad laminate having a metal layer (A) / insulating resin layer (B) / release layer (C) / insulating resin layer (D) / metal layer (E),
The insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (B1) contains a filler in a range of 1 to 10% by volume. With
The insulating resin layer (D) has a resin layer (D1) in contact with the release layer (C), and the resin layer (D1) contains a filler in a range of 1 to 10% by volume. A metal-clad laminate characterized by that.
前記樹脂層(B1)と前記樹脂層(D1)におけるフィラー含有率の差が5体積%以下である請求項1に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to claim 1, wherein a difference in filler content between the resin layer (B1) and the resin layer (D1) is 5% by volume or less. 前記絶縁樹脂層(B)及び前記絶縁樹脂層(D)が、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下のベース層を含む多層構造である請求項1又は2に記載の金属張積層板。 The insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (D) have a multilayer structure including a base layer having a linear thermal expansion coefficient of 20 × 10 −6 (1 / K) or less. Metal-clad laminate. 前記離形層(C)は、エラストマー系感圧接着剤又は樹脂系感圧接着剤を含む請求項1から3のいずれか1項に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the release layer (C) includes an elastomer-based pressure-sensitive adhesive or a resin-based pressure-sensitive adhesive. 前記絶縁樹脂層(B)と前記離形層(C)との剥離強度AdB−Cと、前記絶縁樹脂層(D)と前記離形層(C)との剥離強度AdD−Cの平均値(AdB−C+AdD−C)/2が1〜30N/mの範囲内である請求項1から4のいずれか1項に記載の金属張積層板。 Wherein a peel strength Ad B-C of the insulating resin layer (B) and the releasing layer (C), average the peel strength Ad D-C of the insulating resin layer (D) and the releasing layer (C) 5. The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the value (Ad B−C + Ad D−C ) / 2 is in the range of 1 to 30 N / m. 前記樹脂層(B1)及び前記樹脂層(D1)がポリイミドで形成される請求項1から5のいずれか1項に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin layer (B1) and the resin layer (D1) are formed of polyimide. 前記ポリイミドを構成する全酸無水物成分の50モル%以上が3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)である請求項6に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to claim 6, wherein 50 mol% or more of the total acid anhydride component constituting the polyimide is 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA). 前記ポリイミドを構成する全ジアミノ成分の50モル%以上が4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)である請求項6又は7に記載の金属張積層板。
The metal-clad laminate according to claim 6 or 7, wherein 50 mol% or more of all diamino components constituting the polyimide is 4,4'-diaminodiphenyl ether (DAPE).
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