JP2018045885A - Insulated wire - Google Patents

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有 木部
雅文 加賀
masafumi Kaga
雅文 加賀
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Motoharu Kajiyama
元治 梶山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology capable of obtaining high insulation properties and high flame retardancy and achieving reduction in a diameter in an insulated wire.SOLUTION: An insulated wire has a conductor and a coating layer arranged on the outer periphery of the conductor, where the coating layer has a semiconductive layer which is arranged on the outer periphery of the conductor, and is formed of a polymer composition containing a conductive agent and having volume resistivity of 1×10Ωcm or less, a high electric insulating layer which is arranged on the outer periphery of the semiconductive layer and is formed of a polymer composition having volume resistivity of 1×10Ωcm or more, and a flame retardant layer which is arranged on the outer periphery of the high electric insulation layer and is formed of a polymer composition containing a flame retardant, where each thickness of the high electric insulating layer and the semiconductive layer is thinner than a thickness of the flame retardant layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、絶縁電線に関する。   The present invention relates to an insulated wire.

鉄道車両や自動車等の配線として用いられる絶縁電線には、絶縁性だけでなく、火災時に燃えにくいような難燃性が求められている。そのため、絶縁電線の被覆層には難燃剤が配合される。例えば、特許文献1には、絶縁性を有する絶縁層の外周上に難燃剤を含む難燃層を積層させて被覆層を形成した絶縁電線が開示されている。   Insulated wires used as wiring for railway vehicles, automobiles, and the like are required not only to have insulation properties but also to have flame resistance that is difficult to burn in the event of a fire. Therefore, a flame retardant is mix | blended with the coating layer of an insulated wire. For example, Patent Document 1 discloses an insulated wire in which a coating layer is formed by laminating a flame retardant layer containing a flame retardant on the outer periphery of an insulating layer having an insulating property.

特開2010−97881号公報JP 2010-97881 A

近年、例えば軽量化の観点から、絶縁電線の細径化が求められている。しかしながら、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに、細径化を図ることは容易ではない。   In recent years, for example, from the viewpoint of weight reduction, the diameter of an insulated wire is required to be reduced. However, it is not easy to obtain a high insulating property and high flame retardancy and to reduce the diameter.

本発明の一目的は、絶縁電線において、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに細径化を図ることができる技術を提供することである。   One object of the present invention is to provide a technique capable of obtaining high insulation and high flame retardancy and reducing the diameter of an insulated wire.

本発明の一態様によれば、
導体と、
前記導体の外周上に配置された被覆層と、
を有し、
前記被覆層は、
前記導体の外周上に配置され導電剤を含み1×10Ωcm以下の体積抵抗率を有するポリマ組成物(A)で形成された半導電層と、
前記半導電層の外周上に配置され1×1016Ωcm以上の体積抵抗率を有するポリマ組成物(B)で形成された高電気絶縁層と、
少なくとも前記高電気絶縁層の外周上に配置され難燃剤を含むポリマ組成物(C)で形成された難燃層と、
を有し、
前記高電気絶縁層および前記半導電層の厚さは、それぞれ、前記難燃層の厚さよりも薄い絶縁電線
が提供される。
According to one aspect of the invention,
Conductors,
A coating layer disposed on the outer periphery of the conductor;
Have
The coating layer is
A semiconductive layer formed of a polymer composition (A) disposed on the outer periphery of the conductor and containing a conductive agent and having a volume resistivity of 1 × 10 9 Ωcm or less;
A high electrical insulating layer formed of a polymer composition (B) disposed on the outer periphery of the semiconductive layer and having a volume resistivity of 1 × 10 16 Ωcm or more;
A flame retardant layer formed of a polymer composition (C) including at least a flame retardant disposed on an outer periphery of the high electrical insulating layer;
Have
An insulated wire is provided in which the high electrical insulating layer and the semiconductive layer are thinner than the flame retardant layer, respectively.

本発明によれば、絶縁電線において、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに細径化を図ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in an insulated wire, high insulation and high flame retardance can be obtained, and diameter reduction can be achieved.

本発明の一実施形態に係る絶縁電線の長さ方向に垂直な断面図である。It is sectional drawing perpendicular | vertical to the length direction of the insulated wire which concerns on one Embodiment of this invention. 他の実施形態に係る絶縁電線の長さ方向に垂直な断面図である。It is sectional drawing perpendicular | vertical to the length direction of the insulated wire which concerns on other embodiment. 従来の絶縁電線の長さ方向に垂直な断面図である。It is sectional drawing perpendicular | vertical to the length direction of the conventional insulated wire.

本発明者らは、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに細径化を図ることができる絶縁電線の構造について検討した。   The inventors of the present invention have studied the structure of an insulated wire that can achieve high insulation and high flame retardancy and can be reduced in diameter.

まず、従来の電線構造について説明するとともに、本発明の実施形態における電線構造の考え方について説明する。図3は、従来の絶縁電線の長さ方向に垂直な断面図である。   First, the conventional wire structure will be described, and the concept of the wire structure in the embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view perpendicular to the length direction of a conventional insulated wire.

従来構造の絶縁電線200は、導体210と、導体210の外周上に配置された絶縁層220と、絶縁層220の外周上に配置され難燃剤が配合された難燃層230とを有する。   The insulated wire 200 having a conventional structure includes a conductor 210, an insulating layer 220 disposed on the outer periphery of the conductor 210, and a flame retardant layer 230 disposed on the outer periphery of the insulating layer 220 and blended with a flame retardant.

従来構造の絶縁電線200において、絶縁層220を形成するポリマ組成物には、絶縁層220自体にある程度の難燃性を付与するために、(ある程度の)難燃性を有する添加剤(例えば、炭酸カルシウム、クレー等の無機充填剤)が配合される。   In the insulated wire 200 having a conventional structure, the polymer composition forming the insulating layer 220 is provided with a certain amount of flame retardant additive (for example, for imparting a certain amount of flame resistance to the insulating layer 220 itself (for example, Inorganic fillers such as calcium carbonate and clay).

絶縁層220を形成するポリマ組成物の絶縁性は、難燃性を有する添加剤等の配合に起因して、当該ポリマ組成物のベースポリマが持つ絶縁性よりも低下する。例えば、絶縁層220を形成するポリマ組成物のベースポリマとしてポリエチレンを用いた場合、例えば1×1016Ωcm程度のオーダのベースポリマの体積抵抗率が得られる。ポリマ組成物に難燃性を有する添加剤等が配合されることで、絶縁層220を形成するポリマ組成物の体積抵抗率は、例えば1×1014Ωcm程度のオーダに低下する。 The insulating property of the polymer composition forming the insulating layer 220 is lower than the insulating property of the base polymer of the polymer composition due to the blending of flame retardant additives and the like. For example, when polyethylene is used as the base polymer of the polymer composition forming the insulating layer 220, a volume resistivity of the base polymer on the order of about 1 × 10 16 Ωcm can be obtained. When the flame retardant additive or the like is blended in the polymer composition, the volume resistivity of the polymer composition forming the insulating layer 220 is reduced to an order of about 1 × 10 14 Ωcm, for example.

本発明者らは、絶縁電線200の細径化を図るために、難燃層230を薄くすることを検討した。ただし、単に(絶縁層220の厚さを変えずに)難燃層230を薄くするだけでは、絶縁電線200の高い難燃性を得られなくなる。   The present inventors studied to make the flame retardant layer 230 thinner in order to reduce the diameter of the insulated wire 200. However, the high flame resistance of the insulated wire 200 cannot be obtained simply by thinning the flame retardant layer 230 (without changing the thickness of the insulating layer 220).

そこで、絶縁層220を薄くすることを検討した。ただし、単に絶縁層220を薄くするだけでは、絶縁電線200の高い絶縁性を得られなくなる。このため、絶縁層220への難燃性を有する添加剤等の配合量を抑制し、絶縁層220を形成するポリマ組成物の絶縁性をベースポリマが有する高い絶縁性に近づけることで、所望の絶縁性を得るために求められる絶縁層220の厚さを薄くすることを検討した。   Therefore, it was studied to make the insulating layer 220 thin. However, high insulation of the insulated wire 200 cannot be obtained simply by making the insulating layer 220 thin. For this reason, the amount of the flame retardant additive and the like added to the insulating layer 220 is suppressed, and the insulating property of the polymer composition forming the insulating layer 220 is brought close to the high insulating property of the base polymer, thereby achieving a desired level. It was studied to reduce the thickness of the insulating layer 220 required to obtain insulation.

ただし、導体210は、素線を撚り合せた撚線構造を有し、表面に凹凸を有する。このため、絶縁層220は、導体210の表面の凹凸に起因する電界集中により破壊しやすく、耐電圧特性を向上させるためにはある程度厚く構成する必要があり、単に絶縁層220を薄くすることはできない。   However, the conductor 210 has a twisted wire structure in which strands are twisted and has irregularities on the surface. For this reason, the insulating layer 220 is easily broken due to electric field concentration caused by unevenness on the surface of the conductor 210, and it is necessary to make the insulating layer 220 thick to some extent in order to improve withstand voltage characteristics. Can not.

そこで、難燃性を有する添加剤等の配合量が抑制された絶縁層を用いるとともに、当該絶縁層の内側(導体側)であって導体の直上に、導電剤が配合された半導電層を配置した新規な構造について検討した。難燃性を有する添加剤等の配合量が抑制された絶縁層を「高電気絶縁層」と呼ぶこととする。   Therefore, while using an insulating layer in which the amount of flame retardant additives and the like is suppressed, a semiconductive layer containing a conductive agent is provided inside the insulating layer (on the conductor side) and immediately above the conductor. The arranged new structure was examined. The insulating layer in which the blending amount of the flame retardant additive or the like is suppressed is referred to as a “high electrical insulating layer”.

このような構造によれば、難燃性を有する添加剤等の配合量が抑制されて絶縁性が高められた(絶縁性の低下が抑制された)高電気絶縁層を用いることで、所望の絶縁性を得るための高電気絶縁層の厚さを薄くすることができる。また、半導電層が、導体表面の凹凸を被覆することで凹凸緩和層として機能し、半導電層上に配置される高電気絶縁層を薄くすることができる。さらに、燃焼しやすい高電気絶縁層を薄くできることに伴い、所望の難燃性を得るための難燃層の厚さを薄くすることも可能となる。   According to such a structure, by using a high electrical insulating layer in which the blending amount of the flame retardant additive or the like is suppressed and the insulating property is increased (decrease in insulating property is suppressed), a desired electrical insulation layer is used. The thickness of the high electrical insulation layer for obtaining insulation can be reduced. In addition, the semiconductive layer functions as an uneven relief layer by covering the unevenness of the conductor surface, and the high electrical insulating layer disposed on the semiconductive layer can be thinned. Further, as the high electrical insulating layer that is easy to burn can be made thinner, the thickness of the flame retardant layer for obtaining desired flame retardance can also be reduced.

高電気絶縁層を形成するポリマ組成物の体積抵抗率は、難燃性を有する添加剤等の配合量が抑制されることで、元の絶縁層220を形成するポリマ組成物の体積抵抗率と比べて、例えば100倍程度に大幅に向上させることができる。このため、体積抵抗率を向上させることで所望の絶縁性を得つつ絶縁層を薄くすることは、難燃層を薄くすることに比べると、容易であるといえる。   The volume resistivity of the polymer composition forming the high electrical insulation layer is controlled by the volume resistivity of the polymer composition forming the original insulation layer 220 by suppressing the amount of the flame retardant additive and the like. Compared to, for example, it can be greatly improved to about 100 times. For this reason, it can be said that it is easier to make the insulating layer thinner while improving the volume resistivity while obtaining the desired insulating property than to make the flame retardant layer thinner.

このようにして、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに細径化を図ることができる電線構造が得られる。   In this way, an electric wire structure that can achieve high insulation and high flame retardancy and can be reduced in diameter can be obtained.

このような電線構造が好ましく適用される細径の絶縁電線として、例えば、外径(直径)が7mm以下のものが想定される。絶縁電線の絶縁性は、例えば、後述のような直流安定性試験で評価される。絶縁電線の難燃性は、例えば、後述のようなVFT試験やVTFT試験で評価される。絶縁電線の用途は特に限定されないが、例えば、鉄道車両用途や、自動車用途や、医療用途等が挙げられる。   As a thin insulated wire to which such a wire structure is preferably applied, for example, one having an outer diameter (diameter) of 7 mm or less is assumed. The insulation of the insulated wire is evaluated by, for example, a direct current stability test as described later. The flame retardancy of an insulated wire is evaluated by, for example, a VFT test or a VTFT test as described later. Although the use of an insulated wire is not specifically limited, For example, a railway vehicle use, a motor vehicle use, a medical use, etc. are mentioned.

次に、図1を参照して、本発明の一実施形態による絶縁電線100について説明する。図1は、絶縁電線100の構造の一例を示す、長さ方向に垂直な断面図である。   Next, with reference to FIG. 1, the insulated wire 100 by one Embodiment of this invention is demonstrated. FIG. 1 is a cross-sectional view perpendicular to the length direction showing an example of the structure of the insulated wire 100.

<絶縁電線の構成>
絶縁電線100は、導体110と、導体110の外周上に配置された被覆層120とを有する。
<Configuration of insulated wire>
The insulated wire 100 includes a conductor 110 and a coating layer 120 disposed on the outer periphery of the conductor 110.

〔導体〕
導体110としては、例えば、複数本の素線(金属線)が撚り合された撚線を用いることができる。素線としては、例えば、銅線、銅合金線の他、アルミニウム線、金線、銀線等を用いることができ、外周に錫やニッケル等の金属めっきを施したものを用いてもよい。導体110の外径(直径)は、例えば、1mm以上6mm以下である。素線の外径(直径)は、例えば、0.1mm以上0.5mm以下である。導体110の材料や構造や寸法等は、絶縁電線100における導体110に求められる特性に応じて適宜選択することができる。
〔conductor〕
As the conductor 110, for example, a stranded wire in which a plurality of strands (metal wires) are twisted together can be used. As an element wire, an aluminum wire, a gold wire, a silver wire, etc. other than a copper wire and a copper alloy wire can be used, for example, and the thing which gave metal plating, such as tin and nickel, to the perimeter may be used. The outer diameter (diameter) of the conductor 110 is, for example, not less than 1 mm and not more than 6 mm. The outer diameter (diameter) of a strand is 0.1 mm or more and 0.5 mm or less, for example. The material, structure, dimensions, and the like of the conductor 110 can be appropriately selected according to the characteristics required for the conductor 110 in the insulated wire 100.

〔被覆層〕
被覆層120は、導体110の外周上に配置された半導電層130と、半導電層130の外周上に配置された高電気絶縁層140と、高電気絶縁層140の外周上に配置された難燃層150とが積層された積層構造160を有する。
(Coating layer)
The covering layer 120 is disposed on the outer periphery of the semiconductive layer 130 disposed on the outer periphery of the conductor 110, the high electrical insulating layer 140 disposed on the outer periphery of the semiconductive layer 130, and the outer periphery of the high electrical insulating layer 140. It has a laminated structure 160 in which a flame retardant layer 150 is laminated.

(半導電層)
半導電層130は、導電剤を含み1×10Ωcm以下の体積抵抗率を有するポリマ組成物(A)から形成される。半導電層130は、例えば、ポリマ組成物(A)を導体110の外周上に押出すことで形成される。
(Semiconductive layer)
The semiconductive layer 130 is formed from a polymer composition (A) containing a conductive agent and having a volume resistivity of 1 × 10 9 Ωcm or less. The semiconductive layer 130 is formed by, for example, extruding the polymer composition (A) onto the outer periphery of the conductor 110.

ポリマ組成物(A)に用いられるベースポリマとしては、例えば、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂等を用いることができる。ポリエチレン系樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)等のポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−メチルアクリレート共重合体、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ブテン−ヘキセン三元共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体(EPDM)、エチレン−オクテン共重合体(EOR)、エチレン−プロピレン共重合体(EPR)、エチレン−スチレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、および、これらをマレイン酸などの酸で変性したもの等を用いることができる。ポリオレフィン樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the base polymer used in the polymer composition (A) include a polyolefin resin. As the polyolefin resin, for example, a polyethylene resin or the like can be used. Examples of the polyethylene resin include polyethylenes such as low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and high density polyethylene (HDPE), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), and ethylene-ethyl acrylate. Copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-glycidyl methacrylate copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-butene-hexene terpolymer, ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM) ), Ethylene-octene copolymer (EOR), ethylene-propylene copolymer (EPR), ethylene-styrene copolymer, styrene-butadiene copolymer, and those modified with an acid such as maleic acid, etc. Can be used. A polyolefin resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

ポリマ組成物(A)に用いられるベースポリマは、好ましくは例えば、EVAを含む。EVAは、フィラー受容性が大きいので導電剤を添加しやすく、また、樹脂自体にある程度の難燃性を有するため、好ましい。EVAのVA量としては、例えば、フィラー受容性の観点から15%以上であることが好ましく、また例えば、粘着等の製造性の観点から80%以下であることが好ましい。   The base polymer used in the polymer composition (A) preferably contains, for example, EVA. EVA is preferable because it has a high filler receptivity, so it is easy to add a conductive agent, and the resin itself has a certain degree of flame retardancy. The EVA VA amount is preferably 15% or more from the viewpoint of filler acceptability, for example, and preferably 80% or less from the viewpoint of manufacturability such as adhesion.

ポリマ組成物(A)に用いられる導電剤としては、例えば、カーボンブラックやカーボンナノチューブ等が挙げられ、好ましくは例えば、カーボンブラックを用いることができる。カーボンブラックとしては、例えば、ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック等を用いることができ、好ましくは、少量で高い導電性を付与できるため、アセチレンブラックを用いることができる。導電剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the conductive agent used in the polymer composition (A) include carbon black and carbon nanotubes. Preferably, for example, carbon black can be used. As carbon black, for example, furnace black, channel black, acetylene black, thermal black and the like can be used. Preferably, acetylene black can be used because high conductivity can be imparted in a small amount. A conductive agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

導電剤の配合量は、半導電層130を形成するポリマ組成物(A)の体積抵抗率を1×10Ωcm以下とするような量であれば特に制限されない。例えば、ベースポリマ100質量部に対するカーボンブラックの配合量は、30質量部以上である。なお、例えば、半導電層130の機械特性が低下し伸び率が低くなるおそれがあるので、導電剤の配合量は、過剰とならないことが好ましい。例えば、ベースポリマ100質量部に対するカーボンブラックの配合量は、150質量部以下である。 The blending amount of the conductive agent is not particularly limited as long as the volume resistivity of the polymer composition (A) forming the semiconductive layer 130 is 1 × 10 9 Ωcm or less. For example, the compounding amount of carbon black with respect to 100 parts by mass of the base polymer is 30 parts by mass or more. Note that, for example, the mechanical properties of the semiconductive layer 130 may be deteriorated and the elongation rate may be lowered, so that the blending amount of the conductive agent is preferably not excessive. For example, the blending amount of carbon black with respect to 100 parts by mass of the base polymer is 150 parts by mass or less.

半導電層130は、耐熱性を向上させるために、架橋されたポリマ組成物(A)で構成されていることが好ましい。架橋方法としては、照射架橋、化学架橋、シラン架橋等が挙げられる。ポリマ組成物(A)は、架橋を良好に行うために、架橋助剤や架橋剤を含有してもよい。なお、後述のように、高電気絶縁層140の架橋は照射架橋が好ましいことから、高電気絶縁層140の照射架橋と同時に、つまり高電気絶縁層140の照射架橋と同じ工程で、半導電層130も照射架橋することが効率的である。   The semiconductive layer 130 is preferably composed of a crosslinked polymer composition (A) in order to improve heat resistance. Examples of the crosslinking method include irradiation crosslinking, chemical crosslinking, and silane crosslinking. The polymer composition (A) may contain a crosslinking aid or a crosslinking agent in order to achieve good crosslinking. As will be described later, since the cross-linking of the high electrical insulating layer 140 is preferably irradiation cross-linking, the semiconductive layer is formed simultaneously with the irradiation cross-linking of the high electrical insulating layer 140, that is, in the same process as that of the high electrical insulating layer 140. It is efficient to crosslink 130 by irradiation.

なお、半導電層130が架橋されたポリマ組成物(A)で構成されている場合、ポリマ組成物(A)の体積抵抗率は、架橋されたポリマ組成物(A)の体積抵抗率を示す。   In addition, when the semiconductive layer 130 is comprised by the crosslinked polymer composition (A), the volume resistivity of a polymer composition (A) shows the volume resistivity of a crosslinked polymer composition (A). .

ポリマ組成物(A)は、半導電層130の特性を損なわない範囲で、必要に応じて、その他の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、銅害防止剤、補強剤、プロセスオイル等を含有してもよい。   The polymer composition (A) is within the range that does not impair the properties of the semiconductive layer 130, and, if necessary, other additives such as flame retardants, antioxidants, copper damage inhibitors, reinforcing agents, process oils, etc. It may contain.

(高電気絶縁層)
高電気絶縁層140は、1×1016Ωcm以上の体積抵抗率を有するポリマ組成物(B)から形成される。高電気絶縁層140は、例えば、ポリマ組成物(B)を半導電層130の外周上に押出すことで形成される。
(High electrical insulation layer)
The high electrical insulating layer 140 is formed from a polymer composition (B) having a volume resistivity of 1 × 10 16 Ωcm or more. The high electrical insulating layer 140 is formed, for example, by extruding the polymer composition (B) onto the outer periphery of the semiconductive layer 130.

ポリマ組成物(B)に用いられるベースポリマとしては、体積抵抗率が1×1016Ωcm以上のポリマ、例えば、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、LDPE、LLDPE、HDPE等のポリエチレンを用いることができる。ポリオレフィン樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the base polymer used in the polymer composition (B) include a polymer having a volume resistivity of 1 × 10 16 Ωcm or more, such as a polyolefin resin. As the polyolefin resin, for example, polyethylene such as LDPE, LLDPE, and HDPE can be used. A polyolefin resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

ポリマ組成物(B)に用いられるベースポリマは、好ましくは例えば、ポリエチレンを含む。ポリエチレンは、架橋により体積抵抗率を向上させることができ、好ましい。ポリエチレンとしては、LDPE、LLDPE、HDPEのいずれを用いてもよい。架橋させやすいという観点から、LDPEを用いてもよい。   The base polymer used in the polymer composition (B) preferably contains, for example, polyethylene. Polyethylene is preferable because volume resistivity can be improved by crosslinking. As polyethylene, any of LDPE, LLDPE, and HDPE may be used. From the viewpoint of easy crosslinking, LDPE may be used.

高電気絶縁層140は、体積抵抗率を向上させるために、架橋されたポリマ組成物(B)で構成されることが好ましい。架橋方法としては、照射架橋、化学架橋、シラン架橋等が挙げられる。ポリマ組成物(B)は、架橋を良好に行うために、架橋助剤や架橋剤を含有してもよい。ただし、電気絶縁性を低下させない観点からは、添加剤の添加を必要としない照射架橋が好ましい。   The high electrical insulating layer 140 is preferably composed of a crosslinked polymer composition (B) in order to improve the volume resistivity. Examples of the crosslinking method include irradiation crosslinking, chemical crosslinking, and silane crosslinking. The polymer composition (B) may contain a crosslinking aid or a crosslinking agent in order to achieve good crosslinking. However, irradiation crosslinking that does not require the addition of an additive is preferable from the viewpoint of not lowering the electrical insulation.

なお、高電気絶縁層140が架橋されたポリマ組成物(B)で構成されている場合、ポリマ組成物(B)の体積抵抗率は、架橋されたポリマ組成物(B)の体積抵抗率を示す。   When the high electrical insulating layer 140 is composed of a crosslinked polymer composition (B), the volume resistivity of the polymer composition (B) is the volume resistivity of the crosslinked polymer composition (B). Show.

ポリマ組成物(B)は、体積抵抗率の低下を抑制する観点から、できるたけ添加剤を含まない方が好ましいものの、体積抵抗率を1×1016Ωcm以上に維持できる範囲で、必要に応じて、各種の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤や銅害防止剤等が挙げられる。 Although it is preferable that the polymer composition (B) does not contain as much an additive as possible from the viewpoint of suppressing a decrease in volume resistivity, the volume resistivity can be maintained at 1 × 10 16 Ωcm or more as necessary. In addition, various additives may be contained. Examples of the additive include an antioxidant and a copper damage inhibitor.

ポリマ組成物(B)の体積抵抗率の低下を抑制する観点から、例えば、炭酸カルシウム、クレー、タルク、シリカ、ウォラストナイト(珪灰石)、ゼオライト、けい藻土、けい砂、軽石粉、スレート粉、アルミナ、硫酸アルミニウム、硫酸バリウム、リトポン、硫酸カルシウム、二硫化モリブデン等の無機充填剤や、金属水酸化物等の難燃剤は、ポリマ組成物(B)に含有されないことが好ましい。   From the viewpoint of suppressing the decrease in volume resistivity of the polymer composition (B), for example, calcium carbonate, clay, talc, silica, wollastonite, zeolite, diatomaceous earth, silica sand, pumice powder, slate It is preferable that inorganic fillers such as powder, alumina, aluminum sulfate, barium sulfate, lithopone, calcium sulfate, and molybdenum disulfide, and flame retardants such as metal hydroxides are not contained in the polymer composition (B).

(難燃層)
難燃層150は、難燃剤を含むポリマ組成物(C)から形成される。難燃層150は、例えば、ポリマ組成物(C)を高電気絶縁層140の外周上に押出すことで形成される。
(Flame retardant layer)
The flame retardant layer 150 is formed from a polymer composition (C) containing a flame retardant. The flame retardant layer 150 is formed by, for example, extruding the polymer composition (C) on the outer periphery of the high electrical insulating layer 140.

ポリマ組成物(C)に用いられるベースポリマとしては、例えば、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂等を用いることができる。ポリエチレン系樹脂としては、例えば、LDPE、LLDPE、HDPE等のポリエチレン、EVA、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−メチルアクリレート共重合体、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ブテン−ヘキセン三元共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体(EPDM)、エチレン−オクテン共重合体(EOR)、エチレン−プロピレン共重合体(EPR)、エチレン−スチレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、および、これらをマレイン酸などの酸で変性したもの等を用いることができる。ポリオレフィン樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the base polymer used in the polymer composition (C) include polyolefin resins. As the polyolefin resin, for example, a polyethylene resin or the like can be used. Examples of the polyethylene resin include polyethylene such as LDPE, LLDPE, HDPE, EVA, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-glycidyl methacrylate copolymer, ethylene-butene copolymer, Ethylene-butene-hexene terpolymer, ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM), ethylene-octene copolymer (EOR), ethylene-propylene copolymer (EPR), ethylene-styrene copolymer Polymers, styrene-butadiene copolymers, and those modified with an acid such as maleic acid can be used. A polyolefin resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

ポリマ組成物(C)に用いられるベースポリマは、好ましくは例えば、EVAを含む。EVAは、フィラー受容性が大きいので難燃剤を添加しやすく、また、樹脂自体にある程度の難燃性を有するため、好ましい。EVAのVA量としては、例えば、フィラー受容性の観点から15%以上であることが好ましく、また例えば、低温性の低下を抑制する観点から60%以下であることが好ましい。   The base polymer used in the polymer composition (C) preferably contains, for example, EVA. EVA is preferable because it has a high filler receptivity, so that it is easy to add a flame retardant, and the resin itself has a certain degree of flame retardancy. For example, the EVA VA content is preferably 15% or more from the viewpoint of filler acceptability, and is preferably 60% or less from the viewpoint of suppressing a decrease in low-temperature properties, for example.

ポリマ組成物(C)に用いられる難燃剤としては、有毒ガスを発生させないことからノンハロゲン難燃剤が好ましく、好ましくは例えば金属水酸化物を用いることができる。金属水酸化物としては、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、および、これらにニッケルが固溶した金属水酸化物等を用いることができる。難燃剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The flame retardant used in the polymer composition (C) is preferably a non-halogen flame retardant because it does not generate a toxic gas, and for example, a metal hydroxide can be used. Examples of the metal hydroxide that can be used include magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium hydroxide, and a metal hydroxide in which nickel is dissolved in these. A flame retardant may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

難燃剤は、難燃層150の機械特性(引張強さと伸びとのバランス)をコントロールする観点から、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、ステアリン酸等の脂肪酸、ステアリン酸塩等の脂肪酸塩、ステアリン酸カルシウム等の脂肪酸金属等によって表面処理されていることが好ましい。   From the viewpoint of controlling the mechanical properties (balance between tensile strength and elongation) of the flame retardant layer 150, the flame retardant is a silane coupling agent, a titanate coupling agent, a fatty acid such as stearic acid, or a fatty acid salt such as stearate. The surface treatment is preferably performed with a fatty acid metal such as calcium stearate.

難燃剤の配合量は、ベースポリマ100質量部に対して、例えば、100質量部以上250質量部以下であることが好ましい。配合量が100質量部未満であると、所望の高い難燃性を得られないおそれがある。配合量が250質量部を超えると、難燃層150の機械特性が低下し、伸び率が低くなるおそれがある。   It is preferable that the compounding quantity of a flame retardant is 100 to 250 mass parts with respect to 100 mass parts of base polymers. There exists a possibility that desired high flame retardance may not be acquired as a compounding quantity is less than 100 mass parts. If the blending amount exceeds 250 parts by mass, the mechanical properties of the flame retardant layer 150 may be reduced, and the elongation may be reduced.

難燃層150は、難燃性および耐熱性を向上させるために、架橋されたポリマ組成物(C)で構成されていることが好ましい。架橋方法としては、照射架橋、化学架橋、シラン架橋等が挙げられる。ポリマ組成物(C)は、架橋を良好に行うために、架橋助剤や架橋剤を含有してもよい。なお、高電気絶縁層140の架橋は照射架橋が好ましいことから、高電気絶縁層140の照射架橋と同時に、つまり高電気絶縁層140の照射架橋と同じ工程で、難燃層150も照射架橋することが効率的である。   The flame retardant layer 150 is preferably composed of a crosslinked polymer composition (C) in order to improve flame retardancy and heat resistance. Examples of the crosslinking method include irradiation crosslinking, chemical crosslinking, and silane crosslinking. The polymer composition (C) may contain a crosslinking aid or a crosslinking agent in order to achieve good crosslinking. In addition, since the crosslinking of the high electrical insulating layer 140 is preferably irradiation crosslinking, the flame retardant layer 150 is also radiation crosslinked at the same time as the irradiation crosslinking of the high electrical insulating layer 140, that is, in the same process as the irradiation crosslinking of the high electrical insulating layer 140. Is efficient.

難燃層150は、例えば、ポリマ組成物(C)が1×1014Ωcm程度の(1×1013Ωcm以上または1×1014Ωcm以上の)体積抵抗率を有する電気絶縁層である。なお、難燃層150が架橋されたポリマ組成物(C)で構成されている場合、ポリマ組成物(C)の体積抵抗率は、架橋されたポリマ組成物(C)の体積抵抗率を示す。 The flame retardant layer 150 is, for example, an electrical insulating layer having a volume resistivity of about 1 × 10 14 Ωcm (1 × 10 13 Ωcm or more, or 1 × 10 14 Ωcm or more) of the polymer composition (C). When the flame retardant layer 150 is composed of a crosslinked polymer composition (C), the volume resistivity of the polymer composition (C) indicates the volume resistivity of the crosslinked polymer composition (C). .

ポリマ組成物(C)は、難燃層150の特性を損なわない範囲で、必要に応じて、その他の添加剤、例えば、酸化防止剤、銅害防止剤、滑剤、無機充填剤、相溶化剤、安定剤、カーボンブラック、着色剤等を含有してもよい。   As long as the polymer composition (C) does not impair the properties of the flame retardant layer 150, other additives such as antioxidants, copper damage inhibitors, lubricants, inorganic fillers, compatibilizers are used as necessary. , Stabilizers, carbon black, colorants and the like.

(被覆層の積層構造)
次に、被覆層120における、半導電層130と、高電気絶縁層140と、難燃層150との積層構造160について、さらに説明する。
(Laminated structure of coating layer)
Next, the laminated structure 160 of the semiconductive layer 130, the high electrical insulating layer 140, and the flame retardant layer 150 in the coating layer 120 will be further described.

高電気絶縁層140は、難燃層150よりも薄く構成されている。これにより、高電気絶縁層140に起因する積層構造160の燃焼性を難燃層150で抑制しやすくして高い難燃性を得つつ、積層構造160を薄くし絶縁電線100の細径化を図ることができる。なお、燃焼しやすい高電気絶縁層140を薄くすることに伴い、難燃層150を薄くすることも可能となる。   The high electrical insulating layer 140 is configured to be thinner than the flame retardant layer 150. As a result, the flammability of the laminated structure 160 caused by the high electrical insulating layer 140 can be easily suppressed by the flame retardant layer 150 to obtain high flame resistance, and the laminated structure 160 is thinned to reduce the diameter of the insulated wire 100. Can be planned. In addition, the flame retardant layer 150 can be made thinner as the high electrical insulating layer 140 that is easy to burn is made thinner.

高い絶縁性を得つつ高電気絶縁層140を薄く構成するために、高電気絶縁層140を形成するポリマ組成物(B)の体積抵抗率は、好ましくは1×1016Ωcm以上、より好ましくは1×1017Ωcm以上とする。なお、ポリマ組成物(B)の体積抵抗率の上限については、特に制限されない。 In order to make the high electrical insulation layer 140 thin while obtaining high insulation, the volume resistivity of the polymer composition (B) forming the high electrical insulation layer 140 is preferably 1 × 10 16 Ωcm or more, more preferably 1 × 10 17 Ωcm or more. The upper limit of the volume resistivity of the polymer composition (B) is not particularly limited.

高い難燃性を得つつ細径化を図る観点から、高電気絶縁層140の厚さは、難燃層150の厚さの1/2以下であることがより好ましく、難燃層150の厚さの1/3以下であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of reducing the diameter while obtaining high flame retardancy, the thickness of the high electrical insulating layer 140 is more preferably ½ or less of the thickness of the flame retardant layer 150. More preferably, it is 1/3 or less.

半導電層130は、導体110の直上に(導体110と接触して)配置されており、導体110の表面の凹凸を被覆することで、電界集中を抑制する凹凸緩和層として機能する。これにより、半導電層130上に配置される高電気絶縁層140を薄くすることができる。半導電層130の導電性を高めるために、半導電層130を形成するポリマ組成物(A)の体積抵抗率は、好ましくは1×10Ωcm以下とする。なお、ポリマ組成物(A)の体積抵抗率の下限については、特に制限されない。 The semiconductive layer 130 is disposed immediately above the conductor 110 (in contact with the conductor 110), and functions as an unevenness reducing layer that suppresses electric field concentration by covering the unevenness of the surface of the conductor 110. As a result, the high electrical insulating layer 140 disposed on the semiconductive layer 130 can be thinned. In order to increase the conductivity of the semiconductive layer 130, the volume resistivity of the polymer composition (A) forming the semiconductive layer 130 is preferably 1 × 10 9 Ωcm or less. The lower limit of the volume resistivity of the polymer composition (A) is not particularly limited.

半導電層130は、導体110の表面の凹凸を被覆していればよく(凹部を埋めて表面を平滑化していればよく)、半導電層130の厚さは、所望の薄さにすることができる。ここで、半導電層130の厚さは、導体110の表面の撚り目の凸部上(最薄部)の厚さ、つまり、導体110の外径の外側の厚さとして表される。   The semiconductive layer 130 only needs to cover the unevenness of the surface of the conductor 110 (it is sufficient that the concave portion is filled and the surface is smoothed), and the thickness of the semiconductive layer 130 is set to a desired thickness. Can do. Here, the thickness of the semiconductive layer 130 is expressed as the thickness on the convex part (the thinnest part) of the twist of the surface of the conductor 110, that is, the thickness outside the outer diameter of the conductor 110.

なお、半導電層130が厚すぎると、細径化と難燃性とを阻害することになる。このため、半導電層130の厚さは、難燃層150よりも薄いことが好ましく、難燃層150の厚さの1/2以下であることがより好ましく、難燃層150の厚さの1/3以下であることがさらに好ましい。   If the semiconductive layer 130 is too thick, the diameter reduction and the flame retardance are hindered. For this reason, the thickness of the semiconductive layer 130 is preferably thinner than the flame retardant layer 150, more preferably ½ or less of the thickness of the flame retardant layer 150, and the thickness of the flame retardant layer 150 is More preferably, it is 1/3 or less.

高い難燃性を得つつ細径化を図る観点から、半導電層130と高電気絶縁層140との積層部分の厚さ、つまり、半導電層130の厚さと高電気絶縁層140の厚さとの和は、難燃層150の厚さよりも薄いことがより好ましく、難燃層150の厚さの2/3以下であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of reducing the diameter while obtaining high flame retardancy, the thickness of the laminated portion of the semiconductive layer 130 and the high electrical insulation layer 140, that is, the thickness of the semiconductive layer 130 and the thickness of the high electrical insulation layer 140 Is more preferably thinner than the thickness of the flame retardant layer 150, and more preferably 2/3 or less of the thickness of the flame retardant layer 150.

高電気絶縁層140は、高電気絶縁層140と難燃層150との積層部分の厚さ方向に印加される電圧の好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上を分担するように構成されているとよい。   The high electrical insulation layer 140 is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, more preferably 95% or more of the voltage applied in the thickness direction of the laminated portion of the high electrical insulation layer 140 and the flame retardant layer 150. It is good that it is configured to share.

これにより、難燃層150に印加される電圧を、相対的に低く抑えることができる。難燃層150は、難燃剤等の添加剤を多く含み、高電気絶縁層140に比べて絶縁性が破壊しやすくなっている。難燃層150に加わる電圧を低く抑えることで、絶縁電線100の高い絶縁性を得ることができる。   Thereby, the voltage applied to the flame retardant layer 150 can be kept relatively low. The flame retardant layer 150 includes a large amount of additives such as a flame retardant, and the insulating property is more easily destroyed than the high electrical insulating layer 140. By keeping the voltage applied to the flame retardant layer 150 low, high insulation of the insulated wire 100 can be obtained.

高電気絶縁層140に高電気絶縁層140と難燃層150との積層部分にかかる80%以上の電圧を分担させつつ、高電気絶縁層140を薄く構成するために、高電気絶縁層140を形成するポリマ組成物(B)の体積抵抗率は、好ましくは1×1016Ωcm以上、より好ましくは1×1017Ωcm以上であるとよい。 In order to make the high electrical insulation layer 140 thin while making the high electrical insulation layer 140 share a voltage of 80% or more applied to the laminated portion of the high electrical insulation layer 140 and the flame retardant layer 150, The volume resistivity of the polymer composition (B) to be formed is preferably 1 × 10 16 Ωcm or more, more preferably 1 × 10 17 Ωcm or more.

また、高電気絶縁層140に高電気絶縁層140と難燃層150との積層部分にかかる80%以上の電圧を分担させつつ、高電気絶縁層140を薄く構成するために、高電気絶縁層140を形成するポリマ組成物(B)の体積抵抗率は、難燃層150を形成するポリマ組成物(C)の体積抵抗率の、好ましくは10倍以上、より好ましくは50倍以上、さらに好ましくは100倍以上であるとよい。   Further, in order to make the high electrical insulation layer 140 thin while allowing the high electrical insulation layer 140 to share a voltage of 80% or more applied to the laminated portion of the high electrical insulation layer 140 and the flame retardant layer 150, the high electrical insulation layer 140 is configured to be thin. The volume resistivity of the polymer composition (B) forming 140 is preferably 10 times or more, more preferably 50 times or more, more preferably the volume resistivity of the polymer composition (C) forming the flame retardant layer 150. Is preferably 100 times or more.

細径の絶縁電線という観点から、絶縁電線100の外径(直径)は、7mm以下であることが好ましい。絶縁電線100の定格電圧(交流)は、例えば3600V以下である。なお、細径であることで、半導電層130、高電気絶縁層140、および、難燃層150を、照射架橋により同時に架橋させやすいという利点もある。   From the viewpoint of a thin insulated wire, the outer diameter (diameter) of the insulated wire 100 is preferably 7 mm or less. The rated voltage (AC) of the insulated wire 100 is 3600 V or less, for example. Note that the small diameter also has an advantage that the semiconductive layer 130, the high electrical insulating layer 140, and the flame retardant layer 150 are easily cross-linked simultaneously by irradiation cross-linking.

半導電層130の厚さ(導体110の表面の撚り目の凸部上つまり最薄部の厚さ)の上限については、細径化の観点から、例えば、0.10mm以下であることが好ましい。なお、半導電層130の厚さの下限については、導体110の表面の凹凸を被覆できれば、特に制限されないが、例えば、半導電層130の厚さの均一性を高めて安定した耐電圧特性を得る観点からは、0.05mm以上であることが好ましい。なお、導体110の表面の撚り目の凹部上の、凹部を埋める部分の厚さとしては、素線外径の1/2以上であることが好ましい。   The upper limit of the thickness of the semiconductive layer 130 (on the convex portion of the twist of the surface of the conductor 110, that is, the thickness of the thinnest portion) is preferably, for example, 0.10 mm or less from the viewpoint of reducing the diameter. . The lower limit of the thickness of the semiconductive layer 130 is not particularly limited as long as the unevenness on the surface of the conductor 110 can be covered. However, for example, the thickness uniformity of the semiconductive layer 130 is improved and stable withstand voltage characteristics are obtained. From the viewpoint of obtaining, it is preferably 0.05 mm or more. In addition, it is preferable that the thickness of the portion filling the concave portion on the concave portion of the twist of the surface of the conductor 110 is not less than ½ of the outer diameter of the strand.

高電気絶縁層140の厚さの上限については、細径化の観点から、例えば、0.15mm以下であることが好ましく、0.10mm以下であることがより好ましい。なお、高電気絶縁層140の厚さの下限については、所望の絶縁性が得られれば、特に制限されないが、例えば、高電気絶縁層140の厚さの均一性を高めて安定した絶縁性を得る観点からは、0.05mm以上であることが好ましい。   The upper limit of the thickness of the high electrical insulating layer 140 is, for example, preferably 0.15 mm or less, and more preferably 0.10 mm or less, from the viewpoint of reducing the diameter. Note that the lower limit of the thickness of the high electrical insulation layer 140 is not particularly limited as long as desired insulation can be obtained. For example, the thickness of the high electrical insulation layer 140 can be increased by increasing the uniformity of the thickness, thereby providing stable insulation. From the viewpoint of obtaining, it is preferably 0.05 mm or more.

難燃層150の厚さの上限については、細径化の観点から、例えば、0.30mm以下であることが好ましい。なお、難燃層150の厚さの下限については、高電気絶縁層140(および半導電層130)の厚さに応じて難燃性を得られる厚さであれば、特に制限されないが、例えば、難燃層150の厚さの均一性を高めて安定した難燃性を得る観点からは、0.10mm以上であることが好ましい。   About the upper limit of the thickness of the flame-resistant layer 150, it is preferable that it is 0.30 mm or less from a viewpoint of diameter reduction, for example. The lower limit of the thickness of the flame retardant layer 150 is not particularly limited as long as it is a thickness that provides flame retardancy according to the thickness of the high electrical insulating layer 140 (and the semiconductive layer 130). From the viewpoint of increasing the uniformity of the thickness of the flame retardant layer 150 and obtaining stable flame retardancy, the thickness is preferably 0.10 mm or more.

細径化の観点からは、半導電層130と高電気絶縁層140との間に、他の層が配置されていないことが好ましい。つまり、高電気絶縁層140は、半導電層130の直上に(半導電層130と接触して)配置されていることが好ましい。また、高電気絶縁層140と難燃層150との間に、他の層が配置されていないことが好ましい。つまり、難燃層150は、高電気絶縁層140の直上に(高電気絶縁層140と接触して)配置されていることが好ましい。また、難燃層150の外周上に、他の層が配置されていないことが好ましい。つまり、難燃層150は、被覆層120の、つまり絶縁電線100の最外層であることが好ましい。   From the viewpoint of reducing the diameter, it is preferable that no other layer is disposed between the semiconductive layer 130 and the high electrical insulating layer 140. That is, the high electrical insulating layer 140 is preferably disposed immediately above the semiconductive layer 130 (in contact with the semiconductive layer 130). Further, it is preferable that no other layer is disposed between the high electrical insulating layer 140 and the flame retardant layer 150. That is, it is preferable that the flame retardant layer 150 is disposed immediately above the high electrical insulation layer 140 (in contact with the high electrical insulation layer 140). Further, it is preferable that no other layer is disposed on the outer periphery of the flame retardant layer 150. That is, the flame retardant layer 150 is preferably the outermost layer of the covering layer 120, that is, the insulated wire 100.

半導電層130、高電気絶縁層140、および、難燃層150は、導体110の外周上に、同時押出により形成することが好ましい。これにより、半導電層130と高電気絶縁層140との境界面上、および、高電気絶縁層140と難燃層150との境界面上に、電界集中の原因となる大気中のゴミが付着することを抑制できる。   The semiconductive layer 130, the high electrical insulating layer 140, and the flame retardant layer 150 are preferably formed on the outer periphery of the conductor 110 by coextrusion. As a result, dust in the atmosphere that causes electric field concentration adheres to the boundary surface between the semiconductive layer 130 and the high electrical insulation layer 140 and the boundary surface between the high electrical insulation layer 140 and the flame retardant layer 150. Can be suppressed.

なお、半導電層130は、必要に応じて、複数の半導電層(サブ半導電層)の積層構造で構成されていてもよい。また、高電気絶縁層140は、必要に応じて、複数の絶縁層(サブ絶縁層)の積層構造で構成されていてもよい。また、難燃層150は、必要に応じて、複数の難燃層(サブ難燃層)の積層構造で構成されていてもよい。   Note that the semiconductive layer 130 may have a stacked structure of a plurality of semiconductive layers (sub-semiconductive layers) as necessary. Moreover, the high electrical insulating layer 140 may be configured by a stacked structure of a plurality of insulating layers (sub-insulating layers) as necessary. Moreover, the flame retardant layer 150 may be configured by a laminated structure of a plurality of flame retardant layers (sub flame retardant layers) as necessary.

以上説明したように、本実施形態によれば、絶縁電線において、高い絶縁性および高い難燃性を得るとともに細径化を図ることができる。   As described above, according to the present embodiment, the insulated wire can achieve high insulation and high flame retardancy and can be reduced in diameter.

なお、実施形態による絶縁電線は、絶縁電線単体での使用に限られず、ケーブルのコアに使用する等、必要に応じて、他の部材と組み合わせて使用してもよい。   In addition, the insulated wire by embodiment is not restricted to use with an insulated wire single-piece | unit, You may use it in combination with another member as needed, such as using for the core of a cable.

<本発明の他の実施形態>
以上、本発明の一実施形態を例示的、具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、以下のような他の実施形態も可能である。
<Other Embodiments of the Present Invention>
As mentioned above, although one embodiment of the present invention has been exemplarily and specifically described, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist thereof. For example, the following other embodiments are possible.

図2を参照して、他の実施形態による絶縁電線100について説明する。図2は、他の実施形態による絶縁電線100の構造の一例を示す、長さ方向に垂直な断面図である。   With reference to FIG. 2, the insulated wire 100 by other embodiment is demonstrated. FIG. 2 is a cross-sectional view perpendicular to the length direction showing an example of the structure of an insulated wire 100 according to another embodiment.

他の実施形態においては、導体110の外周上に配置された被覆層120が、半導電層130と、半導電層130の外周上に配置された難燃層150aと、難燃層150aの外周上に配置された(難燃層150aを介して半導電層130の外周上に配置された)高電気絶縁層140と、高電気絶縁層140の外周上に配置された難燃層150bとが積層された積層構造160を有する。難燃層150aと難燃層150bとが、全体の難燃層150を構成する。   In another embodiment, the covering layer 120 disposed on the outer periphery of the conductor 110 includes the semiconductive layer 130, the flame retardant layer 150a disposed on the outer periphery of the semiconductive layer 130, and the outer periphery of the flame retardant layer 150a. A high electrical insulating layer 140 (on the outer periphery of the semiconductive layer 130 via the flame retardant layer 150a), and a flame retardant layer 150b disposed on the outer periphery of the high electrical insulating layer 140. A stacked structure 160 is stacked. The flame retardant layer 150 a and the flame retardant layer 150 b constitute the entire flame retardant layer 150.

つまり、他の実施形態では、難燃層150が、高電気絶縁層140の外側(導体110と反対側)に配置された難燃層150bに加えて、高電気絶縁層140の内側(導体110側)に配置された難燃層150aを有する。難燃層150aは、難燃層150bと同様に、難燃剤を含むポリマ組成物から形成され、例えば、当該ポリマ組成物を半導電層130の外周上に押出すことで形成される。必要に応じて、例えば、難燃性をより高めるために、このような構成の難燃層150としてもよい。   That is, in another embodiment, in addition to the flame retardant layer 150b disposed on the outside (opposite side of the conductor 110) of the high electrical insulation layer 140, the flame retardant layer 150 is disposed on the inside (conductor 110). The flame retardant layer 150a is disposed on the side). The flame retardant layer 150 a is formed from a polymer composition containing a flame retardant, similarly to the flame retardant layer 150 b, and is formed, for example, by extruding the polymer composition on the outer periphery of the semiconductive layer 130. For example, in order to further improve the flame retardancy, the flame retardant layer 150 having such a configuration may be used as necessary.

このように難燃層150は、高電気絶縁層140の外側のみに配置されている構成とすることも、高電気絶縁層140の外側および内側の両方に配置されている構成とすることもできる。ただし、絶縁電線100の難燃性を高めるため、難燃層150は、少なくとも高電気絶縁層140の外側(外周上)に配置されていることが好ましい。   Thus, the flame retardant layer 150 may be configured to be disposed only on the outside of the high electrical insulating layer 140, or may be configured to be disposed on both the outside and inside of the high electrical insulating layer 140. . However, in order to enhance the flame retardancy of the insulated wire 100, the flame retardant layer 150 is preferably disposed at least on the outer side (outer periphery) of the high electrical insulating layer 140.

次に、本発明について実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。   EXAMPLES Next, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these Examples.

〔絶縁電線の作製〕
実施例1〜実施例3および比較例1〜比較例3として、図1に示した積層構造を有する絶縁電線を、以下のようにして作製した。
[Production of insulated wires]
As Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, insulated wires having the laminated structure shown in FIG. 1 were produced as follows.

半導電層を形成するポリマ組成物(A)、高電気絶縁層を形成するポリマ組成物(B)、および、難燃層を形成するポリマ組成物(C)を調製した。ポリマ組成物(A)〜(C)の配合を、それぞれ、表1〜表3に示す。   A polymer composition (A) that forms a semiconductive layer, a polymer composition (B) that forms a high electrical insulating layer, and a polymer composition (C) that forms a flame retardant layer were prepared. The formulations of the polymer compositions (A) to (C) are shown in Tables 1 to 3, respectively.

Figure 2018045885
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Figure 2018045885
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Figure 2018045885
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導体として、外径が1.23mmのもの(外径0.18mmのスズメッキ銅素線を37本撚り合せたもの)を準備した。導体の外周上に、ポリマ組成物(A)、ポリマ組成物(B)、および、ポリマ組成物(C)を同時に押出し、電子線照射により架橋を行うことで、半導電層、高電気絶縁層、および、難燃層を形成して、絶縁電線を作製した。   A conductor having an outer diameter of 1.23 mm (a twist of 37 tin-plated copper strands having an outer diameter of 0.18 mm) was prepared. A polymer composition (A), a polymer composition (B), and a polymer composition (C) are simultaneously extruded on the outer periphery of the conductor, and crosslinked by electron beam irradiation so that a semiconductive layer and a high electrical insulating layer are obtained. And the flame-resistant layer was formed and the insulated wire was produced.

実施例1〜実施例3および比較例1〜比較例3の絶縁電線において、半導電層、高電気絶縁層、および、難燃層の厚さを異ならせた。なお、比較例1では、半導電層を形成しなかった。各層の厚さ、および、合計の被覆厚さを、表4に示す。   In the insulated wires of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, the thicknesses of the semiconductive layer, the high electrical insulating layer, and the flame retardant layer were varied. In Comparative Example 1, no semiconductive layer was formed. Table 4 shows the thickness of each layer and the total coating thickness.

Figure 2018045885
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〔絶縁電線の評価〕
実施例1〜実施例3および比較例1〜比較例3の絶縁電線について、絶縁性(電気特性)および難燃性を、以下のようにして評価した。評価結果を、表4に示す。
[Evaluation of insulated wires]
For the insulated wires of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, the insulating properties (electric properties) and flame retardancy were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 4.

(直流安定性試験)
絶縁電線の電気特性、つまり、絶縁信頼性は、EN50305.6.7に準じて、85℃、3%NaCl水溶液中で300Vの直流を課電する直流安定性試験により評価した。10日で短絡しないもの、つまり、短絡するまでの時間が240時間以上となるものを合格(○)とし、10日未満で短絡するもの、つまり、短絡するまでの時間が240時間未満であったものを不合格(×)とした。
(DC stability test)
The electrical characteristics of the insulated wire, that is, the insulation reliability, was evaluated by a direct current stability test in which a direct current of 300 V was applied in an aqueous solution of 3% NaCl at 85 ° C. according to EN50305.6.7. Those that do not short-circuit in 10 days, that is, those in which the time until short-circuiting is 240 hours or more are passed (O), and those that are short-circuited in less than 10 days, that is, the time until short-circuiting is less than 240 hours Things were rejected (x).

(難燃性)
絶縁電線の難燃性は、以下に示す垂直燃焼試験(VFT試験およびVTFT試験)により評価した。
(Flame retardance)
The flame retardancy of the insulated wire was evaluated by the vertical combustion test (VFT test and VTFT test) shown below.

EN60332−1−2に規定される一条ケーブル垂直燃焼試験(Vertical flame propagation for a single insulated wire or cable)に準じて、VFT試験を実施した。具体的には、長さ600mmの絶縁電線を垂直に保持し、絶縁電線に炎を60秒間当てた。炎を取り去った後、60秒以内に消火したものを合格(○)、60秒以内に消火しなかったものを不合格(×)とした。   A VFT test was performed in accordance with a vertical flame propagation for a single insulated wire or cable specified in EN60332-1-2. Specifically, an insulated wire having a length of 600 mm was held vertically, and a flame was applied to the insulated wire for 60 seconds. After removing the flame, the fire extinguished within 60 seconds was accepted (◯), and the fire extinguished within 60 seconds was rejected (x).

EN50266−2−4に規定される多条ケーブル垂直燃焼試験(Flame propagation (bunched cables))に準じて、VTFT試験を実施した。具体的には、全長3.5mの絶縁電線を7本撚り合わせて1束とし、11束を等間隔に垂直に並べ、20分間燃焼させ、自己消炎後、下端部からの炭化長を測定した。炭化長が2.5m以下であれば合格(○)、炭化長が2.5mを超えれば不合格(×)とした。   A VTFT test was conducted in accordance with a multi-cable cable vertical combustion test (Flame propagation (bunched cables)) defined in EN50266-2-4. Specifically, seven insulated wires with a total length of 3.5 m are twisted to form one bundle, 11 bundles are arranged vertically at equal intervals, burned for 20 minutes, and after self-extinguishing, the carbonization length from the lower end is measured. . If the carbonization length was 2.5 m or less, it was judged as pass (◯), and if the carbonization length was over 2.5 m, it was judged as failure (x).

(総合評価)
直流安定性試験および難燃性の両方について合格した絶縁電線について、総合評価を合格(○)とし、それ以外のものについて、総合評価を不合格(×)とした。
(Comprehensive evaluation)
For the insulated wires that passed both the direct current stability test and the flame retardancy, the overall evaluation was passed (O), and for the other insulated wires, the overall evaluation was rejected (X).

<実施例1〜実施例3>
実施例1は、半導電層の厚さが0.10mm、高電気絶縁層の厚さが0.11mm、難燃層の厚さが0.29mmである。実施例2は、半導電層の厚さが0.05mm、高電気絶縁層の厚さが0.15mm、難燃層の厚さが0.30mmである。実施例3は、半導電層の厚さが0.10mm、高電気絶縁層の厚さが0.08mm、難燃層の厚さが0.29mmである。
<Example 1 to Example 3>
In Example 1, the thickness of the semiconductive layer is 0.10 mm, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.11 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.29 mm. In Example 2, the thickness of the semiconductive layer is 0.05 mm, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.15 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.30 mm. In Example 3, the thickness of the semiconductive layer is 0.10 mm, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.08 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.29 mm.

実施例1〜実施例3において、高電気絶縁層の厚さが、難燃層の厚さよりも薄く、さらに、半導電層の厚さが、難燃層の厚さよりも薄いことで、難燃性と細径化が両立されている。また、半導電層が形成されていることで、良好な絶縁性が得られている。   In Example 1 to Example 3, the thickness of the high electrical insulating layer is thinner than the thickness of the flame retardant layer, and the thickness of the semiconductive layer is thinner than the thickness of the flame retardant layer. Compatibility and narrow diameter. In addition, since the semiconductive layer is formed, good insulating properties are obtained.

高電気絶縁層の厚さは、実施例1〜実施例3において、難燃層の厚さの1/2以下であり、実施例3において、難燃層の厚さの1/3以下である。半導電層の厚さは、実施例1〜実施例3において、難燃層の厚さの1/2以下であり、実施例2において、難燃層の厚さの1/3以下である。半導電層の厚さと高電気絶縁層の厚さとの和は、実施例1〜実施例3において、難燃層の厚さよりも薄く、実施例2および実施例3において、難燃層の厚さの2/3以下である。なお、実施例3では、半導電層の厚さよりも高電気絶縁層の厚さが薄くなっている。   The thickness of the high electrical insulation layer is 1/2 or less of the thickness of the flame retardant layer in Examples 1 to 3, and is 1/3 or less of the thickness of the flame retardant layer in Example 3. . In Examples 1 to 3, the thickness of the semiconductive layer is ½ or less of the thickness of the flame retardant layer, and in Example 2 is 1 / or less of the thickness of the flame retardant layer. The sum of the thickness of the semiconductive layer and the thickness of the high electrical insulating layer is thinner than the thickness of the flame retardant layer in Examples 1 to 3, and the thickness of the flame retardant layer in Examples 2 and 3. 2/3 or less. In Example 3, the thickness of the high electrical insulating layer is thinner than the thickness of the semiconductive layer.

<比較例1〜比較例3>
比較例1は、半導電層が形成されておらず、高電気絶縁層の厚さが0.11mm、難燃層の厚さが0.4mmである。比較例2は、半導電層の厚さが0.10mm、高電気絶縁層の厚さが0.20mm、難燃層の厚さが0.20mmである。比較例3は、半導電層の厚さが0.20mm、高電気絶縁層の厚さが0.10mm、難燃層の厚さが0.20mmである。
<Comparative Examples 1 to 3>
In Comparative Example 1, the semiconductive layer is not formed, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.11 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.4 mm. In Comparative Example 2, the thickness of the semiconductive layer is 0.10 mm, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.20 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.20 mm. In Comparative Example 3, the thickness of the semiconductive layer is 0.20 mm, the thickness of the high electrical insulating layer is 0.10 mm, and the thickness of the flame retardant layer is 0.20 mm.

比較例1は、高電気絶縁層が薄いことで難燃性は良好であるものの、半導電層が形成されていないことで、絶縁性が不合格である。   In Comparative Example 1, although the high electrical insulating layer is thin and the flame retardancy is good, the insulating property is unacceptable because the semiconductive layer is not formed.

比較例2および比較例3は、半導電層が形成されていることで絶縁性は合格しているものの、比較例2は、高電気絶縁層の厚さが難燃層の厚さと等しく、比較例3は、半導電層の厚さが難燃層の厚さと等しいことで、難燃性が不合格となっている。   Although Comparative Example 2 and Comparative Example 3 passed the insulation because a semiconductive layer was formed, Comparative Example 2 had a thickness of the high electrical insulating layer equal to the thickness of the flame retardant layer. In Example 3, the thickness of the semiconductive layer is equal to the thickness of the flame retardant layer, and the flame retardancy is rejected.

なお、各層の厚さを実施例1と同様とし、半導電層を形成するポリマ組成物(A)、高電気絶縁層を形成するポリマ組成物(B)、および、難燃層を形成するポリマ組成物(C)の配合を様々に異ならせた他の実施例の絶縁電線も作製しており、これらについても、上述の実施例1〜実施例3と同様な特性が得られている。例えば、体積抵抗率が1016Ωcmのオーダのポリマ組成物(B)を用いた高電気絶縁層を有する絶縁電線を作製しており、ポリマ組成物(B)としては、1×1016Ωcm以上の体積抵抗率を有するものを用いることができる。また例えば、体積抵抗率が10Ωcmのオーダのポリマ組成物(A)を用いた半導電層を有する絶縁電線を作製しており、ポリマ組成物(A)としては、1×10Ωcm以下の体積抵抗率を有するものを用いることができる。 The thickness of each layer is the same as in Example 1, and the polymer composition (A) for forming the semiconductive layer, the polymer composition (B) for forming the high electrical insulating layer, and the polymer for forming the flame retardant layer are used. Insulated wires of other examples in which the composition (C) is mixed in various ways are also produced, and the same characteristics as those of the above-described examples 1 to 3 are also obtained for these examples. For example, an insulated wire having a high electrical insulation layer using a polymer composition (B) having a volume resistivity of the order of 10 16 Ωcm is produced, and the polymer composition (B) is 1 × 10 16 Ωcm or more. Those having a volume resistivity of 5 can be used. In addition, for example, an insulated wire having a semiconductive layer using a polymer composition (A) on the order of a volume resistivity of 10 8 Ωcm is manufactured, and the polymer composition (A) is 1 × 10 9 Ωcm or less. Those having a volume resistivity of 5 can be used.

以上、実施形態に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合せ等が可能なことは当業者に自明であろう。   As mentioned above, although this invention was demonstrated along embodiment, this invention is not restrict | limited to these. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

<本発明の好ましい態様>
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
<Preferred embodiment of the present invention>
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be additionally described.

(付記1)
導体と、
前記導体の外周上に配置された被覆層と、
を有し、
前記被覆層は、
前記導体の外周上に配置され導電剤を含み1×10Ωcm以下の体積抵抗率を有するポリマ組成物(A)で形成された半導電層と、
前記半導電層の外周上に配置され1×1016Ωcm以上の体積抵抗率を有するポリマ組成物(B)で形成された高電気絶縁層と、
少なくとも前記高電気絶縁層の外周上に配置され難燃剤を含むポリマ組成物(C)で形成された難燃層と、
を有し、
前記高電気絶縁層および前記半導電層の厚さは、それぞれ、前記難燃層の厚さよりも薄い絶縁電線。
(Appendix 1)
Conductors,
A coating layer disposed on the outer periphery of the conductor;
Have
The coating layer is
A semiconductive layer formed of a polymer composition (A) disposed on the outer periphery of the conductor and containing a conductive agent and having a volume resistivity of 1 × 10 9 Ωcm or less;
A high electrical insulating layer formed of a polymer composition (B) disposed on the outer periphery of the semiconductive layer and having a volume resistivity of 1 × 10 16 Ωcm or more;
A flame retardant layer formed of a polymer composition (C) including at least a flame retardant disposed on an outer periphery of the high electrical insulating layer;
Have
The high electric insulation layer and the semiconductive layer are insulated wires that are thinner than the flame retardant layer, respectively.

(付記2)
前記高電気絶縁層の厚さは、より好ましくは前記難燃層の厚さの1/2以下であり、さらに好ましくは前記難燃層の厚さの1/3以下である付記1に記載の絶縁電線。
(Appendix 2)
The thickness of the high electrical insulating layer is more preferably 1/2 or less of the thickness of the flame retardant layer, and further preferably 1/3 or less of the thickness of the flame retardant layer. Insulated wire.

(付記3)
前記半導電層の厚さは、より好ましくは前記難燃層の厚さの1/2以下であり、さらに好ましくは前記難燃層の厚さの1/3以下である付記1または2に記載の絶縁電線。
(Appendix 3)
The thickness of the semiconductive layer is more preferably 1/2 or less of the thickness of the flame retardant layer, and further preferably 1/3 or less of the thickness of the flame retardant layer. Insulated wires.

(付記4)
前記半導電層の厚さと前記高電気絶縁層の厚さとの和は、好ましくは前記難燃層の厚さよりも薄く、より好ましくは前記難燃層の厚さの2/3以下である付記1〜3のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 4)
The sum of the thickness of the semiconductive layer and the thickness of the high electrical insulating layer is preferably smaller than the thickness of the flame retardant layer, more preferably 2/3 or less of the thickness of the flame retardant layer. The insulated wire as described in any one of -3.

(付記5)
前記高電気絶縁層は、前記高電気絶縁層と前記難燃層との積層部分の厚さ方向に印加される電圧の好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上を分担する付記1〜4のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 5)
The high electrical insulation layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, more preferably 95% or more of the voltage applied in the thickness direction of the laminated portion of the high electrical insulation layer and the flame retardant layer. The insulated wire according to any one of supplementary notes 1-4,

(付記6)
ポリマ組成物(B)は、1×1017Ωcm以上の体積抵抗率を有する付記1〜5のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 6)
The polymer composition (B) is an insulated wire according to any one of appendices 1 to 5 having a volume resistivity of 1 × 10 17 Ωcm or more.

(付記7)
前記高電気絶縁層を形成する前記ポリマ組成物(B)の体積抵抗率は、前記難燃層を形成する前記ポリマ組成物(C)の体積抵抗率の、好ましくは10倍以上、より好ましくは50倍以上、さらに好ましくは100倍以上である付記1〜6のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 7)
The volume resistivity of the polymer composition (B) forming the high electrical insulating layer is preferably 10 times or more, more preferably, the volume resistivity of the polymer composition (C) forming the flame retardant layer. The insulated wire according to any one of supplementary notes 1 to 6, which is 50 times or more, more preferably 100 times or more.

(付記8)
前記絶縁電線の外径は、7mm以下である付記1〜7のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 8)
The insulated wire according to any one of supplementary notes 1 to 7, wherein an outer diameter of the insulated wire is 7 mm or less.

(付記9)
前記半導電層の厚さは、0.10mm以下である付記1〜8のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 9)
The thickness of the said semiconductive layer is an insulated wire as described in any one of the additional remarks 1-8 which is 0.10 mm or less.

(付記10)
前記高電気絶縁層の厚さは、好ましくは0.15mm以下であり、より好ましくは0.10mm以下である付記1〜9のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 10)
The insulated wire according to any one of supplementary notes 1 to 9, wherein the thickness of the high electrical insulating layer is preferably 0.15 mm or less, more preferably 0.10 mm or less.

(付記11)
前記難燃層の厚さは、0.30mm以下である付記1〜10のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 11)
The thickness of the said flame-resistant layer is an insulated wire as described in any one of the additional remarks 1-10 which are 0.30 mm or less.

(付記12)
前記半導電層は、前記導体の直上に(前記導体と接触して)配置されている付記1〜11のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 12)
The insulated wire according to any one of supplementary notes 1 to 11, wherein the semiconductive layer is disposed immediately above the conductor (in contact with the conductor).

(付記13)
前記高電気絶縁層は、前記半導電層の直上に(前記半導電層と接触して)配置されている付記1〜12のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 13)
The insulated wire according to any one of appendices 1 to 12, wherein the high electrical insulating layer is disposed immediately above the semiconductive layer (in contact with the semiconductive layer).

(付記14)
前記難燃層は、さらに、前記半導電層と前記高電気絶縁層との間に配置されている付記1〜13のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 14)
14. The insulated wire according to any one of supplementary notes 1 to 13, wherein the flame retardant layer is further disposed between the semiconductive layer and the high electrical insulating layer.

(付記15)
前記難燃層は、前記高電気絶縁層の直上に(前記高電気絶縁層と接触して)配置されている付記1〜14のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 15)
The insulated flame according to any one of supplementary notes 1 to 14, wherein the flame retardant layer is disposed immediately above the high electrical insulation layer (in contact with the high electrical insulation layer).

(付記16)
前記難燃層は、前記絶縁電線の最外層である付記1〜15のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 16)
The said flame-retardant layer is an insulated wire according to any one of appendices 1 to 15, which is the outermost layer of the insulated wire.

(付記17)
前記導体は、複数本の素線が撚り合された撚線である付記1〜16のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 17)
The insulated conductor according to any one of appendices 1 to 16, wherein the conductor is a stranded wire in which a plurality of strands are twisted together.

(付記18)
前記難燃層は、前記ポリマ組成物(C)が1×1013Ωcm以上または1×1014Ωcm以上の体積抵抗率を有する電気絶縁層である付記1〜17のいずれか1つに記載の絶縁電線。
(Appendix 18)
The flame retardant layer according to any one of appendices 1 to 17, wherein the polymer composition (C) is an electrical insulating layer having a volume resistivity of 1 × 10 13 Ωcm or more or 1 × 10 14 Ωcm or more. Insulated wire.

100 絶縁電線
110 導体
120 被覆層
130 半導電層
140 高電気絶縁層
150、150a、150b 難燃層
160 積層構造
100 Insulated wire 110 Conductor 120 Cover layer 130 Semiconductive layer 140 High electrical insulation layers 150, 150a, 150b Flame retardant layer 160 Laminated structure

Claims (3)

導体と、
前記導体の外周上に配置された被覆層と、
を有し、
前記被覆層は、
前記導体の外周上に配置され導電剤を含み1×10Ωcm以下の体積抵抗率を有するポリマ組成物(A)で形成された半導電層と、
前記半導電層の外周上に配置され1×1016Ωcm以上の体積抵抗率を有するポリマ組成物(B)で形成された高電気絶縁層と、
少なくとも前記高電気絶縁層の外周上に配置され難燃剤を含むポリマ組成物(C)で形成された難燃層と、
を有し、
前記高電気絶縁層および前記半導電層の厚さは、それぞれ、前記難燃層の厚さよりも薄い絶縁電線。
Conductors,
A coating layer disposed on the outer periphery of the conductor;
Have
The coating layer is
A semiconductive layer formed of a polymer composition (A) disposed on the outer periphery of the conductor and containing a conductive agent and having a volume resistivity of 1 × 10 9 Ωcm or less;
A high electrical insulating layer formed of a polymer composition (B) disposed on the outer periphery of the semiconductive layer and having a volume resistivity of 1 × 10 16 Ωcm or more;
A flame retardant layer formed of a polymer composition (C) including at least a flame retardant disposed on an outer periphery of the high electrical insulating layer;
Have
The high electric insulation layer and the semiconductive layer are insulated wires that are thinner than the flame retardant layer, respectively.
前記高電気絶縁層の厚さは、前記難燃層の厚さの1/2以下である請求項1に記載の絶縁電線。   2. The insulated wire according to claim 1, wherein a thickness of the high electrical insulating layer is ½ or less of a thickness of the flame retardant layer. 前記半導電層の厚さは、前記難燃層の厚さの1/2以下である請求項1または2に記載の絶縁電線。   The insulated wire according to claim 1 or 2, wherein a thickness of the semiconductive layer is ½ or less of a thickness of the flame retardant layer.
JP2016180246A 2016-09-15 2016-09-15 Insulated wire Pending JP2018045885A (en)

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