JP2018044044A - 樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
[1] (A)リン原子及びフェノール性水酸基を含有するエラストマー、(B)リン原子含有化合物(但し(A)成分に該当するエラストマーを除く)、(C)エポキシ樹脂、及び(D)金属水和物を含有する、樹脂組成物。
[2] (A)成分が、さらにポリブタジエン構造、ポリシロキサン構造、ポリ(メタ)アクリレート構造、ポリアルキレン構造、ポリアルキレンオキシ構造、ポリイソプレン構造、ポリイソブチレン構造、及びポリカーボネート構造から選択される1種以上の構造を有する、[1]に記載の樹脂組成物。
[3] (D)成分が、水酸化マグネシウムである、[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4] (D)成分が、シランカップリング剤で処理されている、[1]〜[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[5] (A)成分が、リン原子及びフェノール性水酸基を有するリン化合物の残基を含有する、[1]〜[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6] (A)成分が、フェノール性水酸基を有するホスファゼン構造及び/又はフェノール性水酸基を有するホスファフェナントレン構造を有する、[1]〜[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7] (A)成分の数平均分子量(Mn)が、1,000〜1,000,000である、[1]〜[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[8] 樹脂組成物中に含まれるリン原子の含有量が、無機充填材及び(D)成分を除いた樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、1.5質量%以上である、[1]〜[7]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[9] (D)成分の含有量が、樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、25質量%〜70質量%である、[1]〜[8]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[10] (A)成分の含有量が、樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、10質量%〜50質量%である、[1]〜[9]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[11] 支持体と、該支持体上に設けられた、[1]〜[10]のいずれかに記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
[12] 半導体チップパッケージの絶縁層用である、[11]に記載の樹脂シート。
[13] [1]〜[10]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物により形成された絶縁層を含む、回路基板。
[14] [13]に記載の回路基板上に、半導体チップが搭載された、半導体チップパッケージ。
[15] [1]〜[10]のいずれかに記載の樹脂組成物、または[11]又は[12]に記載の樹脂シートにより封止された半導体チップを含む半導体チップパッケージ。
本発明の樹脂組成物は、(A)リン原子及びフェノール性水酸基を含有するエラストマー、(B)リン原子含有化合物(但し(A)成分に該当するエラストマーを除く)、(C)エポキシ樹脂、及び(D)金属水和物を含有する。
樹脂組成物は、(A)リン原子及びフェノール性水酸基を含有するエラストマーを含む。(A)成分中にリン原子が含まれることで樹脂組成物の難燃性が向上し、フェノール性水酸基が含まれることで(C)成分との相溶性が向上し、その結果、導体層とのピール強度及びリフロー耐性を向上させることができる。なお、本発明においてエラストマーは、ゴム弾性を有する樹脂、或いは重合または固形化してゴム弾性を示す樹脂が好ましい。ゴム弾性としては、例えば、日本工業規格(JIS K7161)に準拠し、温度25℃、湿度40%RHにて、引っ張り試験を行った場合に、1GPa以下の弾性率を示す樹脂が好ましい。または本発明において、エラストマーは、反りを抑制する観点から、ガラス転移温度(Tg)が25℃以下の樹脂、及び25℃で液状である樹脂から選択される1種以上の樹脂が好ましい。
ポリアルキレン構造の原料となるアルキレン樹脂の具体例としては旭化成せんい社製の「PTXG−1000」、「PTXG−1800」、三菱化学社製の「YX−7180」(エーテル結合を有するアルキレン構造を含有する樹脂)等が挙げられる。
ポリアルキレンオキシ構造の原料となるアルキレンオキシ樹脂の具体例としては、DIC Corporation社製「EXA−4850−150」「EXA−4816」「EXA−4822」ADEKA社製「EP−4000」、「EP−4003」、「EP−4010」、及び「EP−4011」、新日本理化社製「BEO−60E」「BPO−20E」ならびに三菱化学社製「YL7175」、及び「YL7410」等が挙げられる。
ポリイソプレン構造の原料となるイソプレン樹脂の具体例としてはクラレ社製の「KL−610」、「KL613」等が挙げられる。
ポリイソブチレン構造の原料となるイソブチレン樹脂の具体例としてはカネカ社製の「SIBSTAR−073T」(スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体)、「SIBSTAR−042D」(スチレン−イソブチレンジブロック共重合体)等が挙げられる。
樹脂組成物は(B)リン原子含有化合物(但し(A)成分に該当するエラストマーを除く)を含有する。(B)成分としては(A)成分以外であってリン原子を含有していれば特に限定されず、例えば、無機リン化合物、有機リン化合物等が挙げられる。(B)成分は難燃剤として作用するので、難燃性を効果的に高めることができる。(B)成分は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
樹脂組成物は、(C)エポキシ樹脂を含有する。エポキシ樹脂としては、例えば、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert−ブチル−カテコール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂組成物は、(D)金属水和物を含有する。金属水和物とは、金属原子を含む水和物であり、金属の水和物の他に金属の水酸化物も含む概念である。金属水和物は、加熱によって水を放出するので、この水によって難燃性を効果的に高めることができる。
樹脂組成物は、(E)無機充填材(但し(D)成分に該当するものは除く)を含有していてもよい。
樹脂組成物は、(F)硬化剤を含んでいてもよい。硬化剤としては、(C)成分等の樹脂を硬化する機能を有する限り特に限定されず、例えば、フェノール系硬化剤、ナフトール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、及びカルボジイミド系硬化剤などが挙げられる。硬化剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。(F)成分は、フェノール系硬化剤、ナフトール系硬化剤、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上であることが好ましい。
樹脂組成物は、(G)硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤としては、例えば、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、金属系硬化促進剤等が挙げられ、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、金属系硬化促進剤が好ましく、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、金属系硬化促進剤がより好ましい。硬化促進剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂組成物は、さらに必要に応じて、他の添加剤を含んでいてもよく、斯かる他の添加剤としては、例えば、有機銅化合物、有機亜鉛化合物及び有機コバルト化合物等の有機金属化合物、並びにバインダー、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤、及び着色剤等の樹脂添加剤等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物の硬化物(例えば190℃で90分間硬化させて得られる硬化物)は、弾性率が低いという特性を示す。即ち反りが抑制される絶縁層をもたらす。これは、樹脂組成物中に含まれる(A)成分は柔軟性を示すことから弾性率が低くなるものと考えられる。該硬化物の25℃における弾性率は2GPa以下であることが好ましく、1.5GPa以下であることがより好ましく、1GPa以下であることがさらに好ましい。下限については特に限定されないが、例えば、0.01GPa以上、0.05GPa以上、又は0.1GPa以上等とし得る。上記弾性率は、後述する<弾性率の測定>に記載の方法に従って測定することができる。
本発明の樹脂シートは、支持体と、該支持体上に設けられた、本発明の樹脂組成物を含む樹脂組成物層とを有する。
例えば、本発明の樹脂シートは、回路基板の絶縁層を形成するため(回路基板の絶縁層用樹脂シート)に好適に使用することができ、その上にメッキにより導体層が形成される層間絶縁層を形成するため(メッキにより導体層を形成する回路基板の層間絶縁層用)にさらに好適に使用することができる。このような基板を使ったパッケージの例としては、FC−CSP、MIS−BGAパッケージ、ETS−BGAパッケージが挙げられる。
本発明の樹脂シートはまた、高い絶縁信頼性が要求される他の広範な用途、例えば、プリント配線板等の回路基板の絶縁層を形成するために好適に使用することができる。
本発明の回路基板は、本発明の樹脂組成物の硬化物により形成された絶縁層を含む。
本発明の回路基板の製造方法は、
(1)基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた配線層とを有する配線層付き基材を準備する工程、
(2)本発明の樹脂シートを、配線層が樹脂組成物層に埋め込まれるように、配線層付き基材上に積層し、熱硬化させて絶縁層を形成する工程、
(3)配線層を層間接続する工程を含む。また、回路基板の製造方法は、(4)基材を除去する工程、を含んでいてもよい。
工程(1)は、基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた配線層とを有する配線層付き基材を準備する工程である。通常、配線層付き基材は、基材の両面に基材の一部である第1金属層、第2金属層をそれぞれ有し、第2金属層の基材側の面とは反対側の面に配線層を有する。詳細は、基材上にドライフィルム(感光性レジストフィルム)を積層し、フォトマスクを用いて所定の条件で露光、現像しパターンドライフィルムを形成する。現像したパターンドライフィルムをめっきマスクとして電解めっき法により配線層を形成した後、パターンドライフィルムを剥離する。なお、第1金属層、第2金属層は有していなくてもよい。
工程(2)は、本発明の樹脂シートを、配線層が樹脂組成物層に埋め込まれるように、配線層付き基材上に積層し、熱硬化させて絶縁層を形成する工程である。詳細は、前述の工程(1)で得られた配線層付き基材の配線層を、樹脂シートの樹脂組成物層に埋め込まれるように積層させ、樹脂シートの樹脂組成物層を熱硬化させ絶縁層を形成する。
工程(3)は、配線層を層間接続する工程である。詳細は、絶縁層にビアホールを形成し、導体層を形成して配線層を層間接続する工程である。または絶縁層を研磨又は研削し、配線層を露出させて配線層を層間接続する工程である。
回路基板の製造方法は、基材を除去し、本発明の回路基板を形成する工程である。基材の除去方法は特に限定されない。好適な一実施形態は、第1及び第2金属層の界面で回路基板から基材を剥離し、第2金属層を例えば塩化銅水溶液などでエッチング除去する。必要に応じて、導体層を保護フィルムで保護した状態で基材を剥離してもよい。
本発明の半導体チップパッケージの第1の態様は、上記本発明の回路基板上に、半導体チップが搭載された、半導体チップパッケージである。上記本発明の回路基板に、半導体チップを接合することにより半導体チップパッケージを製造することができる。
(A)基材に仮固定フィルムを積層する工程、
(B)半導体チップを、仮固定フィルム上に仮固定する工程、
(C)本発明の樹脂シートの樹脂組成物層を、半導体チップ上に積層、又は本発明の樹脂組成物を半導体チップ上に塗布し、熱硬化させて封止層を形成する工程、
(D)基材及び仮固定フィルムを半導体チップから剥離する工程、
(E)半導体チップの基材及び仮固定フィルムを剥離した面に再配線形成層(絶縁層)を形成する工程、
(F)再配線形成層(絶縁層)上に導体層(再配線層)を形成する工程、及び
(G)導体層上にソルダーレジスト層を形成する工程、を含む。また、半導体チップパッケージの製造方法は、(H)複数の半導体チップパッケージを個々の半導体チップパッケージにダイシングし、個片化する工程を含み得る。
工程(A)は、基材に仮固定フィルムを積層する工程である。基材と仮固定フィルムの積層条件は、回路基板の製造方法における工程(2)における配線層と樹脂シートとの積層条件と同様であり、好ましい範囲も同様である。
工程(B)は、半導体チップを、仮固定フィルム上に仮固定する工程である。半導体チップの仮固定は、フリップチップボンダー、ダイボンダー等の公知の装置を用いて行うことができる。半導体チップの配置のレイアウト及び配置数は、仮固定フィルムの形状、大きさ、目的とする半導体パッケージの生産数等に応じて適宜設定することができ、例えば、複数行で、かつ複数列のマトリックス状に整列させて仮固定することができる。
工程(C)は、発明の樹脂シートの樹脂組成物層を、半導体チップ上に積層、又は本発明の樹脂組成物を半導体チップ上に塗布し、熱硬化させて封止層を形成する工程である。工程(C)では、本発明の樹脂シートの樹脂組成物層を、半導体チップ上に積層し、熱硬化させて封止層を形成することが好ましい。
工程(D)は、基材及び仮固定フィルムを半導体チップから剥離する工程である。剥離する方法は、仮固定フィルムの材質等に応じて適宜変更することができ、例えば、仮固定フィルムを加熱、発泡(又は膨張)させて剥離する方法、及び基材側から紫外線を照射させ、仮固定フィルムの粘着力を低下させ剥離する方法等が挙げられる。
工程(E)は、半導体チップの基材及び仮固定フィルムを剥離した面に再配線形成層(絶縁層)を形成する工程である。
工程(F)は、再配線形成層(絶縁層)上に導体層(再配線層)を形成する工程である。再配線形成層(絶縁層)上に導体層を形成する方法は、回路基板の製造方法における工程(3)の絶縁層にビアホールを形成した後の導体層を形成する方法と同様であり、好ましい範囲も同様である。なお、工程(E)及び工程(F)を繰り返し行い、導体層(再配線層)及び再配線形成層(絶縁層)を交互に積み上げて(ビルドアップ)もよい。
工程(G)は、導体層上にソルダーレジスト層を形成する工程である。
半導体チップパッケージの製造方法は、工程(A)〜(G)以外に工程(H)を含んでいてもよい。工程(H)は、複数の半導体チップパッケージを個々の半導体チップパッケージにダイシングし、個片化する工程である。
本発明の半導体チップパッケージを実装することとなる半導体装置としては、電気製品(例えば、コンピューター、携帯電話、スマートフォン、タブレット型デバイス、ウェラブルデバイス、デジタルカメラ、医療機器、及びテレビ等)及び乗物(例えば、自動二輪車、自動車、電車、船舶及び航空機等)等に供される各種半導体装置が挙げられる。
(1)内層基板の作製
ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.8mm、松下電工社製R5715ES)の両面にマイクロエッチング剤(メック社製、CZ8100)で粗化処理を行い、内層基板を作製した。
実施例及び比較例において得られた樹脂ワニスを、キャリア付銅箔(三井金属鉱業社製、「MT−Ex」、銅箔厚み3μm)に乾燥後の樹脂組成物層の厚みが40μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、130℃で5分間乾燥し銅箔付樹脂シートを作製し、上記内層基板の上下に配置し、ニッコー・マテリアルズ社製ラミネーター(2ステージビルドアップラミネーター CVP700)を用いて貼り合わせた。ラミネート条件は、積層時の真空度0.099967kPa、加圧7kgf/cm2、温度120℃の条件で30秒とした。その後、オーブンで190℃、90分間加熱して樹脂組成物層を硬化させ絶縁層を得た。その後キャリア付銅箔を剥がして、絶縁層、内層基板、及び絶縁層をこの順に有する基板を得た。
上記基板上にアトテックジャパン社製薬液を使用した電解銅めっきを行って合計30μm厚の導体層を形成して積層板を得た。
<銅密着強度の測定>
積層板の導体層に、幅10mm、長さ100mmの切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具(ティー・エス・イー社製、オートコム型試験機 AC−50CSL)で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重(kgf/cm)を測定し、さらに以下の基準に基づいて評価した。
○:密着強度が0.60kgf/cm以上
△:密着強度が0.40kgf/cm以上0.60kgf/cm未満
×:密着強度が0.40kgf/cm未満
積層板を、100mm×100mmの試験片に切断した。得られた試験片について、リフロー装置(アントム社製、HAS6116)を用い、IPC/JEDEC J−STD−020C(「Moisture/Reflow Sensitivity Classification For Nonhermetic Solid State Surface Mount Devices」、2004年7月)に記載されるリフロー温度プロファイル(鉛フリーアセンブリ用プロファイル;ピーク温度260℃)にて模擬的なリフロー工程を5回繰り返した。そして、下記評価基準に従って、リフロー耐性を評価した。
○:絶縁層と導体層間の剥離が0箇所
△:絶縁層と導体層間の剥離が1箇所以上、5箇所未満
×:絶縁層と導体層間の剥離が5箇所以上
実施例及び比較例で調製した樹脂ワニスを、離型処理されたPETフィルム(リンテック社製、「PET501010」)上にバーコーターを用いて塗布し、130℃で5分間乾燥し、その後190℃で90分間加熱し硬化させ硬化体を得た。硬化体の厚みは50μmであった。その後、PETフィルムを剥離した。日本工業規格(JIS K7161)に準拠し、温度25℃、湿度40%RH、引っ張り速度50mm/分にてテンシロン万能試験機(エー・アンド・デイ社製)を用いて引っ張り試験を行った。弾性率の測定は、評価サンプルの降伏点を測定するとともに、以下の基準に基づいて評価した。
○:0.7GPa未満
△:0.7GPa以上1.0GPa未満
×:1.0GPa以上
UL−94VTMに従い実施した。実施例及び比較例において得られた樹脂ワニスを、ポリイミドフィルム(宇部興産社製、「UPILEX25CA」、厚み25μm)に乾燥後の樹脂組成物層の厚みが15μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、130℃で5分間乾燥し2層フィルムを作製した。その後、SUS板上に2層フィルムをポリイミドテープにて固定し、オーブンで190℃、90分間加熱して樹脂組成物層を硬化させた。
VTM−0:燃焼物の落下、試験片の全焼がなく、試験片の燃焼時間が50秒未満
VTM−1:燃焼物の落下、試験片の全焼がなく、試験片の燃焼時間が50秒以上250秒未満
Not:燃焼物の落下、試験片の全焼、または試験片の燃焼時間が250秒以上
反応容器にG−3000(2官能性ヒドロキシル基末端ポリブタジエン、数平均分子量=5047(GPC法)、ヒドロキシル基当量=1798g/eq.、固形分100質量%:日本曹達社製)50gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)23.5gと、ジブチル錫ラウレート0.005gとを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(イソシアネート基当量=111.15g/eq.)7.4gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これに反応型難燃剤(水酸基当量162、三光社製「HCA−HQ」、リン含有量9.5%)10.8gを添加し撹拌しながら150℃まで昇温し、約12時間反応を行った。FT−IRより2250cm−1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過してエラストマー1を得た。
エラストマー1の性状は、粘度が1.5Pa・s(25℃、E型粘度計)、固形分が50質量%、数平均分子量が4093、ポリブタジエン構造部分の含有率が73.3質量%であった。
反応容器にG−3000(2官能性ヒドロキシル基末端ポリブタジエン、数平均分子量=5047(GPC法)、ヒドロキシル基当量=1798g/eq.、固形分100質量%:日本曹達社製)50gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)23.5gと、ジブチル錫ラウレート0.005gとを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(イソシアネート基当量=111.15g/eq.)7.4gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これに反応型難燃剤(水酸基当量249、大塚化学社製「SPH−100」、リン含有量12.5%)24.9gを添加し撹拌しながら150℃まで昇温し、約12時間反応を行った。FT−IRより2250cm−1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過してエラストマー2を得た。
エラストマー2の性状は、粘度が2.5Pa・s(25℃、E型粘度計)、固形分が50質量%、数平均分子量が4940、ポリブタジエン構造部分の含有率が60.7質量%であった。
反応容器にGI−3000(2官能性ヒドロキシル基末端水添ポリブタジエン、数平均分子量=5047(GPC法)、ヒドロキシル基当量=1851g/eq.、固形分100質量%:日本曹達社製)50gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)23.5gと、ジブチル錫ラウレート0.005gとを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(イソシアネート基当量=111.15g/eq.)7.4gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これに反応型難燃剤(水酸基当量162、三光社製「HCA−HQ」、リン含有量9.5%)10.8gを添加し撹拌しながら150℃まで昇温し、約12時間反応を行った。FT−IRより2250cm−1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過してエラストマー3を得た。
エラストマー3の性状は、粘度が1.9Pa・s(25℃、E型粘度計)、固形分が50質量%、数平均分子量が4180、ポリブタジエン構造部分の含有率が73.3質量%であった。
反応容器にG−3000(2官能性ヒドロキシル基末端ポリブタジエン、数平均分子量=5167(GPC法)、ヒドロキシル基当量=1798g/eq.、固形分100質量%:日本曹達社製)50gと、イプゾール150(芳香族炭化水素系混合溶媒:出光石油化学社製)23.5gと、ジブチル錫ラウレート0.005gとを混合し均一に溶解させた。均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、イソホロンジイソシアネート(イソシアネート基当量=111.15g/eq.)7.4gを添加し約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これにクレゾールノボラック型フェノール樹脂(水酸基当量117、DIC社製「KA−1160」)24.2gを添加し撹拌しながら150℃まで昇温し、約12時間反応を行った。FT−IRより2250cm−1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから100メッシュの濾布で濾過してエラストマー4を得た。
エラストマー4の性状は、粘度が3.9Pa・s(25℃、E型粘度計)、固形分が50質量%、数平均分子量が4890、ポリブタジエン構造部分の含有率が61.3質量%であった。
<実施例1>
上記で得られたエラストマー1 25部と、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC社製「HP7200H」、エポキシ当量247)5部と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学社製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品、エポキシ当量約169)0.5部と、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学社製「YX4000」、エポキシ当量190)1部と、リン原子含有化合物(大八化学社製「PX−200」、リン含有量8.7%)2部をメチルエチルケトン(MEK)10部に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック系硬化剤(DIC社製「LA−3018−50P」、水酸基当量151、不揮発成分50%の1−メトキシ−2−プロパノール溶液)1部、硬化促進剤(四国化成社製、1B2PZ(1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール)、不揮発成分5質量%のMEK溶液)10部と、(D)成分としてフェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製「MGZ−6R」、平均粒径1.5μm、)16部と、リン原子含有化合物(三光社製「HCA−HQ」、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド、平均粒径2μm、リン含有量9.5%)4.5部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス1を作製した。
実施例1において、エラストマー1をエラストマー2に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス2を作製した。
実施例1において、エラストマー1をエラストマー3に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス3を作製した。
実施例1において、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製「MGZ−6R」、平均粒径1.5μm)16部を、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化アルミニウム(河合石灰工業社製「ALH−3L」、平均粒径4.5μm)16部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス4を作製した。
実施例1において、リン原子含有化合物(大八化学社製「PX−200」、リン含有量8.7%)を添加しなかった。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス5を作製した。
実施例1において、リン原子含有化合物(三光社製「HCA−HQ」、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド、平均粒径2μm)4.5部をリン原子含有化合物(大塚化学社製「SPH−100」、水酸基当量249、リン含有量12.5%)4部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス6を作製した。
実施例1において、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製「MGZ−6R」、平均粒径1.5μm、)の量を16部から12部に変え、さらにフェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径1.0μm、アドマテックス社製「SOC4」)4部を混合させた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス7を作製した。
実施例1において、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製「MGZ−6R」、平均粒径1.5μm)の量を16部から40部に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス8を作製した。
実施例1において、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック系硬化剤(DIC社製「LA−3018−50P」、水酸基当量151、不揮発成分50%の1−メトキシ−2−プロパノール溶液)の量を1部から10部に変え、リン原子含有化合物(三光社製「HCA−HQ」、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド、平均粒径2μm)を添加しなかった。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス9を作製した。
実施例1において、エラストマー1をエラストマー4に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス10を作製した。
実施例1において、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製「MGZ−6R」、平均粒径1.5μm、)を、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径1.0μm、アドマテックス社製「SOC4」)に変えた。以上の事項以外は実施例1と同様にして樹脂ワニス11を作製した。
エラストマー1:合成例1で合成したエラストマー
エラストマー2:合成例2で合成したエラストマー
エラストマー3:合成例3で合成したエラストマー
エラストマー4:合成例4で合成したエラストマー
HCA−HQ:10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド(三光社製、平均粒径2μm、リン含有量9.5%)
SPH−100:ホスファゼン化合物(大塚化学社製、水酸基当量249、リン含有量12.5%)
PX−200:芳香族縮合リン酸エステル(大八化学社製、リン含有量8.7%)
HP7200H:エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC社製、エポキシ当量247)
ZX1059:エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学社製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品、エポキシ当量約169)
YX4000:エポキシ樹脂、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学社製、エポキシ当量190)
MGZ−6R:金属水和物、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化マグネシウム(堺化学社製、平均粒径1.5μm、)
ALH−3L:金属水和物、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製、「KBM573」)で表面処理された水酸化アルミニウム(河合石灰工業社製、平均粒径4.5μm)
SOC4:無機充填材、フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業社製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径1.0μm、アドマテックス社製)
LA−3018−50P:硬化剤、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック系硬化剤(DIC社製、水酸基当量151、不揮発成分50%の1−メトキシ−2−プロパノール溶液)
1B2PZ:硬化促進剤(四国化成社製、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、不揮発成分5質量%のMEK溶液)
固形分中の(D)成分の含有量(質量%):樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合の(D)成分の含有量(質量%)を表す。
(D)成分及び/又は(E)成分を除く固形分中のリン原子の含有量(質量%):(D)成分を除いた樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合の樹脂組成物中に含まれるリン原子の含有量を表す(実施例1〜6、8、比較例1〜2)。(D)成分及び(E)成分を除いた樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合の樹脂組成物中に含まれるリン原子の含有量を表す(実施例7、比較例3)。
固形分中の(A)成分の含有量(質量%):樹脂組成物の不揮発成分を100質量%とした場合の(A)成分の含有量(質量%)を表す。
110 半導体チップ
120 封止層
130 再配線形成層(絶縁層)
140 導体層(再配線層)
150 ソルダーレジスト層
160 バンプ
Claims (15)
- (A)リン原子及びフェノール性水酸基を含有するエラストマー、(B)リン原子含有化合物(但し(A)成分に該当するエラストマーを除く)、(C)エポキシ樹脂、及び(D)金属水和物を含有する、樹脂組成物。
- (A)成分が、さらにポリブタジエン構造、ポリシロキサン構造、ポリ(メタ)アクリレート構造、ポリアルキレン構造、ポリアルキレンオキシ構造、ポリイソプレン構造、ポリイソブチレン構造、及びポリカーボネート構造から選択される1種以上の構造を有する、請求項1に記載の樹脂組成物。
- (D)成分が、水酸化マグネシウムである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- (D)成分が、シランカップリング剤で処理されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (A)成分が、リン原子及びフェノール性水酸基を有するリン化合物の残基を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (A)成分が、フェノール性水酸基を有するホスファゼン構造及び/又はフェノール性水酸基を有するホスファフェナントレン構造を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (A)成分の数平均分子量(Mn)が、1,000〜1,000,000である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物中に含まれるリン原子の含有量が、無機充填材及び(D)成分を除いた樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、1.5質量%以上である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (D)成分の含有量が、樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、25質量%〜70質量%である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- (A)成分の含有量が、樹脂組成物の不揮発成分を100質量%以上とした場合、10質量%〜50質量%である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
- 支持体と、該支持体上に設けられた、請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む樹脂組成物層と、を有する樹脂シート。
- 半導体チップパッケージの絶縁層用である、請求項11に記載の樹脂シート。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物により形成された絶縁層を含む、回路基板。
- 請求項13に記載の回路基板上に、半導体チップが搭載された、半導体チップパッケージ。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の樹脂組成物、または請求項11又は12に記載の樹脂シートにより封止された半導体チップを含む半導体チップパッケージ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020063392A (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2022027768A (ja) * | 2018-09-04 | 2022-02-14 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
WO2022270316A1 (ja) * | 2021-06-22 | 2022-12-29 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、樹脂シート、回路基板、及び、半導体チップパッケージ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006001076A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 難燃性樹脂組成物を用いた樹脂付き銅はく、接着シート、プリント配線板 |
JP2006089534A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 難燃性樹脂加工品 |
JP2006316104A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Hitachi Chem Co Ltd | プリント配線板用熱硬化性樹脂組成物およびこれを用いたローフロープリプレグとプリント配線板 |
-
2016
- 2016-09-13 JP JP2016178452A patent/JP6874309B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006001076A (ja) * | 2004-06-16 | 2006-01-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 難燃性樹脂組成物を用いた樹脂付き銅はく、接着シート、プリント配線板 |
JP2006089534A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 難燃性樹脂加工品 |
JP2006316104A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Hitachi Chem Co Ltd | プリント配線板用熱硬化性樹脂組成物およびこれを用いたローフロープリプレグとプリント配線板 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022027768A (ja) * | 2018-09-04 | 2022-02-14 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
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