JP2018037543A - Load port device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a load port device that can keep the inside of a container in a clean state even in the case where a main opening of the container is opened.SOLUTION: A load port device has: a mounting table for mounting a container on which a main opening for inputting/outputting a wafer is formed; a wall part on which a device opening communicating with the main opening is formed; an opening/closing part which opens/closes the main opening and the device opening; a cover member which is protruded from the inside surface of the wall part and partitions the inside surface into an opening side closer to the device opening and an external side farther from the device opening; and a cover-attached movable plate which is connected to the cover member in a relatively movable manner, in which the cover-attached movable plate is moved between a shielding position at which a part of the plate is overlapped with the device opening seen from a direction perpendicular to the wall part and a retreat position at which an area overlapping the device opening is narrower than the shielding position seen from a direction perpendicular to the wall part.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、容器からウエハを取り出すためのインターフェースとして機能するロードポート装置に関する。   The present invention relates to a load port device that functions as an interface for taking out a wafer from a container.

半導体の製造工程では、プープ(FOUP)等と呼ばれる容器を用いて、各処理装置の間のウエハの搬送が行われる。ウエハに対して処理を実施する際、容器は、各処理装置に備えられるロードポート装置の載置台に載置され、ロードポート装置は、容器内の空間と処理室又は処理室へと繋がるウエハ搬送室の空間とを連通させる。これにより、ロボットアーム等により容器からウエハを取り出し、このウエハを処理室へ受け渡すことが可能となる。   In a semiconductor manufacturing process, a wafer called a FOUP or the like is used to transfer a wafer between processing apparatuses. When performing processing on a wafer, the container is placed on a mounting table of a load port device provided in each processing apparatus, and the load port device transports the wafer connected to the space in the container and the processing chamber or the processing chamber. Communicate with the room space. As a result, the wafer can be taken out from the container by a robot arm or the like and transferred to the processing chamber.

ここで、ウエハが収納される容器内の環境は、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、所定の状態を上回る不活性状態及び清浄度が保たれることが好ましい。しかしながら、ウエハを容器内から取り出す際には、容器の主開口を開放して容器内とウエハ搬送室とを連通させる必要があるため、たとえ容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つための技術が求められている(特許文献1参照)。   Here, in order to protect the wafer surface from oxidation and contamination, the environment in the container in which the wafer is stored is preferably maintained in an inactive state and a cleanliness level exceeding a predetermined state. However, when the wafer is taken out from the container, it is necessary to open the main opening of the container so that the container and the wafer transfer chamber communicate with each other. A technique for maintaining a clean state is required (see Patent Document 1).

特開2012−19046号公報JP 2012-19046 A

しかし、可動式のチャンバを用いる従来の技術では、装置開口全体を覆うチャンバ本体を移動させるため、大がかりな駆動機構が必要となり、駆動機構から生じるパーティクルが増えることにより、ウエハ搬送室およびこれと連通する容器内の清浄度を十分に上昇させることができないという問題を有している。   However, in the conventional technique using a movable chamber, the chamber body that covers the entire opening of the apparatus is moved, so that a large-scale driving mechanism is required, and the number of particles generated from the driving mechanism increases. There is a problem that the cleanliness in the container cannot be raised sufficiently.

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つことができるロードポート装置を提供することである。   The present invention is made in view of such a situation, and it is an object of the present invention to provide a load port device capable of maintaining the inside of a container in a clean state even when the main opening of the container is opened.

上記目的を達成するために、本発明に係るロードポート装置は、
ウエハを出し入れするための主開口が側面に形成された容器を載置する載置台と、
前記主開口に連通する装置開口が形成されており、前記載置台側を向く外側面と前記外側面とは反対方向を向く内側面とを有する壁部と、
前記主開口及び前記装置開口を開閉する開閉部と、
前記装置開口における少なくともいずれか1つの辺に沿って設けられており、前記壁部の前記内側面から突出し、前記装置開口に近い開口側と前記装置開口から遠い外部側とに前記内側面を仕切るカバー部材と、
前記カバー部材に対して相対移動可能に接続されるカバー付属可動板と、を有し、
前記カバー付属可動板は、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重なる面積が前記遮蔽位置より狭い退避位置と、の間で移動されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a load port device according to the present invention comprises:
A mounting table on which a container having a main opening formed on the side surface for loading and unloading a wafer is mounted;
A device opening communicating with the main opening is formed, and a wall portion having an outer surface facing the mounting table and an inner surface facing the opposite direction to the outer surface,
An opening / closing part for opening / closing the main opening and the device opening;
It is provided along at least one side of the device opening, protrudes from the inner surface of the wall portion, and divides the inner surface into an opening side near the device opening and an outer side far from the device opening. A cover member;
A cover-attached movable plate connected to the cover member so as to be relatively movable,
The cover-attached movable plate has a shielding position that partially overlaps the device opening when viewed from a direction perpendicular to the wall portion, and an area that overlaps the device opening when viewed from a direction perpendicular to the wall portion from the shielding position. It is characterized by being moved between a narrow retracted position.

本発明に係るロードポート装置は、カバー部材に対して相対移動可能に接続されるカバー付属可動板を有しており、カバー付属可動板が遮蔽位置に移動することにより装置開口及びこれに連通する主開口を遮蔽し、容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つことができる。また、カバー付属可動板は、チャンバとは異なり形状がシンプルであり、小型でシンプルな駆動部によって移動させることができるため、パーティクルの発生を防止し、容器内部及びウエハ搬送室の清浄度向上に資する。また、カバー付属可動板は、退避位置に移動することにより、搬送アーム等によるウエハの搬送に支障をきたすこともない。   The load port device according to the present invention has a cover-attached movable plate connected so as to be relatively movable with respect to the cover member, and the cover-attached movable plate moves to the shielding position and communicates with the device opening. Even when the main opening is shielded and the main opening of the container is opened, the inside of the container can be kept clean. In addition, the movable plate attached to the cover has a simple shape, unlike the chamber, and can be moved by a small and simple drive unit, preventing the generation of particles and improving the cleanliness of the inside of the container and the wafer transfer chamber. To contribute. Moreover, the cover-attached movable plate moves to the retracted position, so that it does not hinder the wafer transfer by the transfer arm or the like.

また、例えば、前記カバー部材は、前記装置開口における前記辺の一つである上辺に沿って設けられる庇部を有してもよく、
前記カバー付属可動板は、前記庇部に対して相対移動可能に接続されてもよい。
Further, for example, the cover member may have a flange provided along an upper side that is one of the sides in the device opening,
The cover-attached movable plate may be connected to the collar so as to be relatively movable.

カバー付属可動板が上辺に沿って設けられる庇部に接続されているため、このようなカバー付属可動板は、搬送室内に形成されるダウンフロー等が容器の主開口周辺の気流を乱す問題を好適に防止し、容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つことができる。また、従来の庇部とは異なり、庇部に取り付けられたカバー付属可動板は、装置開口に一部が重なる遮蔽位置まで延出することができるため、ダウンフロー等から容器の主開口周辺を好適に保護し、容器内部を清浄な状態に保つことができる。   Since the cover-attached movable plate is connected to the flange provided along the upper side, such a cover-attached movable plate has a problem that the downflow formed in the transfer chamber disturbs the airflow around the main opening of the container. Even when the main opening of the container is opened suitably, the inside of the container can be kept clean. Also, unlike the conventional heel part, the cover-attached movable plate attached to the heel part can extend to the shielding position where part of it overlaps the opening of the device. It can be suitably protected and the inside of the container can be kept clean.

また、例えば、前記庇部は、前記内側面から斜め下方に延出する庇上面を有してもよく、
前記カバー付属可動板は、前記庇上面に沿って、前記庇部に対して相対移動してもよい。
Further, for example, the flange portion may have a flange upper surface extending obliquely downward from the inner side surface,
The cover-attached movable plate may move relative to the flange along the upper surface of the flange.

カバー付属可動板が、庇上面に沿って斜めに移動することにより、主開口周辺だけでなく、カバー付属可動板の下方についても、広くダウンフローによる気流の乱れを防止することができるため、パーティクルの巻き上げや容器内へのパーティクルの流入を防止できる。   By moving the cover-attached movable plate diagonally along the top surface of the lid, not only around the main opening, but also below the cover-attached movable plate, it is possible to prevent turbulence of airflow due to downflow, so particles Can be prevented and particles can be prevented from flowing into the container.

また、例えば、前記開閉部は、前記装置開口を閉鎖する閉鎖位置と前記装置開口を開放する開放位置との間で移動されるドアを有してもよく、
前記ドアに対して相対移動可能に接続されており、前記ドアが前記開放位置にある状態において、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重ならない退避位置と、の間で移動されるドア付属可動板をさらに有してもよい。
Further, for example, the opening / closing part may have a door that is moved between a closed position for closing the device opening and an open position for opening the device opening,
A shield position that is connected to the door so as to be movable relative to the door, and in which the door is in the open position; And a door-attached movable plate that is moved between a retracted position that does not overlap the device opening when viewed from a direction perpendicular to the opening.

このようなロードポート装置は、カバー付属可動板に加えて、ドア付属可動板が遮蔽位置に移動することにより、容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つことができる。また、2つの可動板を有するため主開口を効果的に保護することが可能であり、また、2つの可動板を搬送アームの動きに応じて移動させることにより、主開口の広い範囲を、搬送アームの動きを阻害しないように保護することが可能である。   Such a load port device can keep the inside of the container clean even when the main opening of the container is opened by moving the door-attached movable plate to the shielding position in addition to the cover-attached movable plate. it can. In addition, since it has two movable plates, it is possible to effectively protect the main opening, and by moving the two movable plates according to the movement of the transfer arm, a wide range of the main opening can be transferred. It is possible to protect the arm so as not to obstruct the movement of the arm.

また、例えば、前記カバー付属可動板は、前記遮蔽位置であって前記装置開口に重なる面積が互いに異なる第1遮蔽位置と第2遮蔽位置とで停止することが可能であってもよく、前記ウエハを搬送するウエハ搬送アームの動きに応じて、停止する位置が変化してもよい。   Further, for example, the cover-attached movable plate may be able to stop at the first shielding position and the second shielding position which are different from each other in the shielding position and overlap with the opening of the apparatus. The stop position may be changed in accordance with the movement of the wafer transfer arm for transferring.

カバー付属可動板の停止位置は、遮蔽位置と退避位置の2箇所に限定されず、カバー付属可動板は第1遮蔽位置と第2遮蔽位置の2つの遮蔽位置に停止することにより、ウエハ搬送アームの動きに応じて開口周辺を広範囲に保護することができる。   The stop position of the cover-attached movable plate is not limited to the two positions of the shield position and the retracted position, and the cover-attached movable plate stops at the two shield positions of the first shield position and the second shield position, thereby enabling the wafer transfer arm. It is possible to protect the periphery of the opening over a wide range according to the movement of the lens.

また、例えば、本発明に係るロードポート装置は、前記カバー部材に対して前記開口側に設けられており、前記装置開口及び前記主開口を介して前記容器の内部に清浄化ガスを導入するフロントガス導入部をさらに有してもよい。   Further, for example, the load port device according to the present invention is provided on the opening side with respect to the cover member, and introduces a cleaning gas into the container through the device opening and the main opening. You may further have a gas introduction part.

前記カバー付属可動板は、開口側に設けられるフロントガス導入部の気流が、ダウンフロー等によって乱される問題を防止することができるため、このようなロードポート装置は、容器内を効果的に清浄化することが可能である。   The cover-attached movable plate can prevent a problem that the airflow of the front gas introduction portion provided on the opening side is disturbed by a downflow or the like. It can be cleaned.

本発明の第2の観点に係るロードポート装置は、
ウエハを出し入れするための主開口が側面に形成された容器を載置する載置台と、
前記主開口に連通する装置開口が形成されており、前記載置台側を向く外側面と前記外側面とは反対方向を向く内側面とを有する壁部と、
前記装置開口を閉鎖する閉鎖位置と前記装置開口を開放する開放位置との間で移動されるドアを有し、前記主開口及び前記装置開口を開閉する開閉部と、
前記ドアに対して相対移動可能に接続されるドア付属可動板と、を有し、
前記ドア付属可動板は、前記ドアが前記開放位置にある状態において、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重なる面積が前記遮蔽位置より狭い退避位置と、の間で移動されることを特徴とする。
A load port device according to a second aspect of the present invention is:
A mounting table on which a container having a main opening formed on the side surface for loading and unloading a wafer is mounted;
A device opening communicating with the main opening is formed, and a wall portion having an outer surface facing the mounting table and an inner surface facing the opposite direction to the outer surface,
An opening / closing part that has a door that is moved between a closed position that closes the device opening and an open position that opens the device opening; and that opens and closes the main opening and the device opening;
A door-attached movable plate connected to be movable relative to the door,
When the door is in the open position, the door-attached movable plate is seen from a direction perpendicular to the wall portion and a shielding position where the device opening partially overlaps the device opening as seen from the direction perpendicular to the wall portion. The area overlapping the opening of the apparatus is moved between a retracted position narrower than the shielding position.

本発明の第2の観点に係るロードポート装置は、ドアに対して相対移動可能に接続されるドア付属可動板を有しており、ドア付属可動板が遮蔽位置に移動することにより装置開口及びこれに連通する主開口を遮蔽し、容器の主開口を開放した状態においても、容器内部を清浄な状態に保つことができる。また、ドア付属可動板は、チャンバとは異なり形状がシンプルであり、小型でシンプルな駆動部によって移動させることができるため、パーティクルの発生を防止し、容器内部及びウエハ搬送室の清浄度向上に資する。また、ドア付属可動板は、退避位置に移動することにより、搬送アーム等によるウエハの搬送に支障をきたすこともない。さらに、ドアは装置開口を閉鎖できる大きさを有しているため、比較的大きなドア付属可動板を、コンパクトに接続することが可能であり、小型化の点で有利である。   A load port device according to a second aspect of the present invention has a door-attached movable plate connected so as to be relatively movable with respect to the door, and when the door-attached movable plate moves to a shielding position, Even in a state where the main opening communicating therewith is shielded and the main opening of the container is opened, the inside of the container can be kept clean. Unlike the chamber, the door-attached movable plate is simple in shape and can be moved by a small and simple drive unit, preventing the generation of particles and improving the cleanliness of the inside of the container and the wafer transfer chamber. To contribute. Further, the door-attached movable plate moves to the retracted position, so that it does not hinder the wafer transfer by the transfer arm or the like. Furthermore, since the door has a size capable of closing the apparatus opening, a relatively large door-attached movable plate can be connected in a compact manner, which is advantageous in terms of miniaturization.

図1は本発明の一実施形態に係るロードポート装置及びロードポート装置を含むEFEMの概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a load port apparatus and an EFEM including the load port apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示すロードポート装置を、壁部の内側面側から見た概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of the load port device shown in FIG. 1 as viewed from the inner surface side of the wall portion. 図3(a)は、カバー付属可動板が退避位置にある状態を表す断面図であり、図3(b)は、カバー付属可動板が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。3A is a cross-sectional view illustrating a state in which the cover-attached movable plate is in the retracted position, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a state in which the cover-attached movable plate is in the shielding position. 図4(a)は、図3(a)に示す退避位置にあるカバー付属可動板を、壁部に垂直な方向から見た側面図であり、図4(b)は、図3(b)に示す遮蔽位置にあるカバー付属可動板を、壁部に垂直な方向から見た側面図である。4A is a side view of the cover-attached movable plate in the retracted position shown in FIG. 3A as viewed from a direction perpendicular to the wall portion, and FIG. 4B is a view in FIG. It is the side view which looked at the cover attachment movable board in the shielding position shown to from the direction perpendicular | vertical to a wall part. 図5(a)は、第2実施形態に係るロードポート装置のカバー付属可動板が退避位置にある状態を表す断面図であり、図5(b)は、カバー付属可動板が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view illustrating a state in which the cover-attached movable plate of the load port device according to the second embodiment is in the retracted position, and FIG. 5B is a cover-attached movable plate in the shielding position. It is sectional drawing showing a state. 図6(a)は、第3実施形態に係るロードポート装置のドア付属可動板が退避位置にある状態を表す断面図であり、図6(b)は、ドア付属可動板が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。FIG. 6A is a cross-sectional view illustrating a state in which the door-attached movable plate of the load port device according to the third embodiment is in the retracted position, and FIG. 6B is a diagram illustrating the door-attached movable plate in the shielding position. It is sectional drawing showing a state. 図7(a)は、図6(a)に示す退避位置にあるドア付属可動板を、壁部に垂直な方向から見た側面図であり、図7(b)は、図6(b)に示す遮蔽位置にあるドア付属可動板を、壁部に垂直な方向から見た側面図である。FIG. 7A is a side view of the door-attached movable plate in the retracted position shown in FIG. 6A as viewed from the direction perpendicular to the wall portion, and FIG. 7B is the same as FIG. It is the side view which looked at the door attached movable board in the shielding position shown to from the direction perpendicular | vertical to a wall part. 図8(a)は、第4実施形態に係るロードポート装置のカバー付属可動板及びドア付属可動板が退避位置にある状態を表す断面図であり、図8(b)は、カバー付属可動板及びドア付属可動板が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。FIG. 8A is a sectional view showing a state where the cover-attached movable plate and the door-attached movable plate of the load port device according to the fourth embodiment are in the retracted position, and FIG. 8B is a cover-attached movable plate. It is sectional drawing showing the state which has a door attached movable plate in a shielding position.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るロードポート装置10及びロードポート装置10を含むEFEM50の概略図である。EFEM(イーフェム、Equipment front end module)50は、ロードポート装置10の他に、ミニエンバイロメント装置51を有する。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram of a load port apparatus 10 and an EFEM 50 including the load port apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. An EFEM (Equipment front end module) 50 includes a mini-environment device 51 in addition to the load port device 10.

ミニエンバイロメント装置51は、ウエハ搬送室52と、ウエハ搬送機54と、ファンフィルタユニット56等を有する。ウエハ搬送機54は、ウエハ1を掴むことができるアーム54aと、アーム54aを移動させるアーム駆動部54bを有しており、ウエハ1を搬送する。ウエハ搬送機54は、フープ2の内部に収容してあるウエハ1を、クリーン状態に維持されたウエハ搬送室52を介して、図示しない処理室の内部に移動させることができる。また、ウエハ搬送機54は、処理室において処理が終了したウエハ1を、処理室からフープ2の内部に移動させることができる。   The mini-environment device 51 includes a wafer transfer chamber 52, a wafer transfer machine 54, a fan filter unit 56, and the like. The wafer transfer machine 54 includes an arm 54 a that can hold the wafer 1 and an arm drive unit 54 b that moves the arm 54 a, and transfers the wafer 1. The wafer transfer machine 54 can move the wafer 1 accommodated in the FOUP 2 to the inside of a processing chamber (not shown) through the wafer transfer chamber 52 maintained in a clean state. Further, the wafer transfer machine 54 can move the wafer 1 that has been processed in the processing chamber from the processing chamber to the inside of the FOUP 2.

ウエハ搬送室52は、ウエハ1を搬送する容器としてのフープ2と処理室(不図示)とを連結する空間である。後述するロードポート装置10は、ウエハ搬送室52の端部に設けられており、ロードポート装置10の壁部11は、ウエハ搬送室52の外壁に形成された開口を塞ぐように、ウエハ搬送室52に組み込まれている。   The wafer transfer chamber 52 is a space that connects the FOUP 2 as a container for transferring the wafer 1 and a processing chamber (not shown). A load port device 10 to be described later is provided at an end portion of the wafer transfer chamber 52, and the wall portion 11 of the load port device 10 closes the opening formed in the outer wall of the wafer transfer chamber 52. 52.

ウエハ搬送室52の天井部には、送風手段としてのファン56aと、パーティクル等を除去するフィルタ56bとを有するファンフィルタユニット56が設けられており、ファンフィルタユニット56は、ウエハ搬送室52にダウンフローを形成する。ファン56aは、例えば、回転方向に対して傾斜した羽根と、羽根を回転させるためのモータを有する。ファン56aは、フィルタ56bの直上に設けられる。フィルタ56bとしては特に限定されないが、たとえばパーティクル除去フィルタとケミカルフィルタとを組み合わせたものを用いることができ、ウエハ搬送室52を満たす気体中に存在するパーティクルや汚染物質を除去することができる。なお、ファンフィルタユニット56は、ファン56aのような送風手段とフィルタ56bを有していればよく、ファンフィルタユニット56には、送風手段とフィルタとが別々に配置されるものも含まれる。   A fan filter unit 56 having a fan 56 a as a blowing means and a filter 56 b for removing particles and the like is provided on the ceiling of the wafer transfer chamber 52. The fan filter unit 56 is lowered to the wafer transfer chamber 52. Form a flow. The fan 56a has, for example, blades inclined with respect to the rotation direction and a motor for rotating the blades. The fan 56a is provided immediately above the filter 56b. Although it does not specifically limit as the filter 56b, For example, what combined the particle removal filter and the chemical filter can be used, The particle and contaminant which exist in the gas which fills the wafer conveyance chamber 52 can be removed. The fan filter unit 56 only needs to have a blower unit such as the fan 56a and a filter 56b. The fan filter unit 56 includes a unit in which the blower unit and the filter are separately arranged.

ロードポート装置10は、フープ(Front Opening Unified Pod)2を載置する載置台14を有している。フープ2は、例えば天井搬送システム等によって、載置台14の上まで搬送される。   The load port device 10 has a mounting table 14 on which a hoop (Front Opening Unified Pod) 2 is mounted. The hoop 2 is transported to the top of the mounting table 14 by, for example, a ceiling transport system.

載置台14の上部に載置されるフープ2は、収容物としての複数のウエハ1を密封して保管及び搬送する。フープ2の内部には、ウエハ1を内部に収めるための空間が形成されている。フープ2は、箱状の形状を有しており、フープ2が有する複数の側面の一つには、フープ2の内部に収容したウエハ1を出し入れする主開口2bが形成されている。また、フープ2は、主開口2bを密閉するための蓋4を備えている。   The FOUP 2 mounted on the mounting table 14 seals and stores and transports a plurality of wafers 1 as contained items. A space for accommodating the wafer 1 is formed inside the hoop 2. The hoop 2 has a box shape, and a main opening 2b through which the wafer 1 accommodated in the hoop 2 is taken in and out is formed in one of a plurality of side surfaces of the hoop 2. Further, the hoop 2 includes a lid 4 for sealing the main opening 2b.

ロードポート装置10は、載置台14に載置されたフープ2の主開口2bを、ウエハ搬送室52に気密に接続することができる。すなわち、ロードポート装置10は、フープ2の主開口2bと壁部11に形成された装置開口13とを開閉するための開閉部18を有している。ロードポート装置10は、載置台14を移動させることにより、図1に示すように、フープ2の主開口2bを装置開口13に接続する。これにより、壁部11の装置開口13は、フープ2の主開口2bに連通する。フープ2の主開口2bおよび壁部11に形成される装置開口13は、いずれも略矩形である。   The load port device 10 can hermetically connect the main opening 2 b of the FOUP 2 mounted on the mounting table 14 to the wafer transfer chamber 52. That is, the load port device 10 has an opening / closing portion 18 for opening and closing the main opening 2b of the hoop 2 and the device opening 13 formed in the wall portion 11. The load port device 10 moves the mounting table 14 to connect the main opening 2b of the hoop 2 to the device opening 13 as shown in FIG. Thereby, the device opening 13 of the wall portion 11 communicates with the main opening 2 b of the hoop 2. The main opening 2b of the hoop 2 and the device opening 13 formed in the wall 11 are both substantially rectangular.

ロードポート装置10の開閉部18は、装置開口13に接続した主開口2bを閉鎖している蓋4を主開口2bから取り外し、主開口2bおよび装置開口13を介して、フープ2内部とウエハ搬送室52とを連通させることができる。すなわち、開閉部18は、装置開口13を閉鎖するドア18aと、ドア18aを移動させるドア駆動部18bとを有しており、ドア18aは、装置開口13を閉鎖する閉鎖位置(図1及び図2参照)と、装置開口13を開放する開放位置(図3(a)及び図3(b)参照)との間で移動される。ドア駆動部18bは、ドア18aとともに、ドア18aに係合したフープ2の蓋4を、ウエハ搬送室52の内部に移動させることができる(図3参照)。   The opening / closing part 18 of the load port apparatus 10 removes the lid 4 closing the main opening 2b connected to the apparatus opening 13 from the main opening 2b, and transfers the wafer inside and inside the FOUP 2 via the main opening 2b and the apparatus opening 13. The chamber 52 can be communicated. That is, the opening / closing part 18 has a door 18a for closing the device opening 13 and a door driving part 18b for moving the door 18a. The door 18a closes the device opening 13 (FIGS. 1 and 2) and an open position (see FIGS. 3A and 3B) where the device opening 13 is opened. The door drive unit 18b can move the lid 4 of the hoop 2 engaged with the door 18a together with the door 18a into the wafer transfer chamber 52 (see FIG. 3).

また、ロードポート装置10は、フープ2の内部に清浄化ガスを導入するガス導入部としてのボトムガス導入部16と、フロントガス導入部17とを有している。ボトムガス導入部16は、フープ2の底面に設けられた底孔5、6に対して、載置台14から突出して接続可能なガス導入ノズルを有しており、底孔5、6から清浄化ガスをフープ2内に導入する。なお、ボトムガス導入部16は、フープ2内部とウエハ搬送室52とが連通した状態において、フープ2内部に清浄化ガスを導入することができるが、このような場合だけでなく、フープ2の主開口2bが蓋4で閉鎖されている状態でも、フープ2内部に清浄化ガスを導入することができる。   Further, the load port device 10 includes a bottom gas introduction part 16 as a gas introduction part for introducing the cleaning gas into the inside of the hoop 2 and a front gas introduction part 17. The bottom gas introduction part 16 has a gas introduction nozzle which can be connected to the bottom holes 5 and 6 provided on the bottom surface of the hoop 2 by protruding from the mounting table 14. Is introduced into the hoop 2. The bottom gas introduction unit 16 can introduce the cleaning gas into the inside of the FOUP 2 in a state where the inside of the FOUP 2 and the wafer transfer chamber 52 communicate with each other. Even when the opening 2 b is closed by the lid 4, the cleaning gas can be introduced into the hoop 2.

図1に示すように、フロントガス導入部17は、壁部11の内側面11aに備えられ、主開口2bおよび装置開口13を介して、清浄化ガスをフープ2内に導入する。フロントガス導入部17は、装置開口13の2つの側辺13b(図2参照)に沿ってそれぞれ設けられているガス放出ノズルを有している。   As shown in FIG. 1, the front gas introduction part 17 is provided on the inner side surface 11 a of the wall part 11, and introduces the cleaning gas into the hoop 2 through the main opening 2 b and the apparatus opening 13. The front gas introduction unit 17 has gas discharge nozzles provided along two side sides 13b (see FIG. 2) of the device opening 13, respectively.

図1に示すように、フロントガス導入部17は、壁部11の内側面11aのうち、後述するカバー部材20(図2等参照)に対して、装置開口13に近い開口側11aa(図2参照)に配置されており、装置開口13に隣接して配置されるガス放出ノズルから清浄化ガスを放出することにより、フープ2内に清浄化ガスを導入する。したがって、フロントガス導入部17は、ボトムガス導入部16とは異なり、フープ2内部とウエハ搬送室52とが連通した状態のみで、フープ2内部に清浄化ガスを導入することができる。   As shown in FIG. 1, the front gas introduction part 17 has an opening side 11 aa (FIG. 2) close to the apparatus opening 13 with respect to a cover member 20 (see FIG. 2 and the like) described later on the inner side surface 11 a of the wall part 11. The cleaning gas is introduced into the hoop 2 by discharging the cleaning gas from a gas discharge nozzle disposed adjacent to the apparatus opening 13. Therefore, unlike the bottom gas introduction unit 16, the front gas introduction unit 17 can introduce the cleaning gas into the inside of the FOUP 2 only when the inside of the FOUP 2 and the wafer transfer chamber 52 communicate with each other.

ボトムガス導入部16およびフロントガス導入部17には、図示しない配管部を介して清浄化ガスが供給される。ボトムガス導入部16およびフロントガス導入部17によってフープ2内部に導入される清浄化ガスは特に限定されないが、例えば窒素ガス等が好適に用いられる。   A cleaning gas is supplied to the bottom gas introduction part 16 and the front gas introduction part 17 via a pipe part (not shown). The cleaning gas introduced into the hoop 2 by the bottom gas introduction part 16 and the front gas introduction part 17 is not particularly limited, but for example, nitrogen gas or the like is preferably used.

図2は、図1に示すロードポート装置10を、壁部11の内側面11a側から見た概略斜視図である。なお、図2では、説明の便宜上、図1に示すフロントガス導入部17およびフープ2については図示していない。   FIG. 2 is a schematic perspective view of the load port device 10 shown in FIG. 1 as viewed from the inner surface 11a side of the wall portion 11. In FIG. 2, the front gas introduction part 17 and the hoop 2 shown in FIG. 1 are not shown for convenience of explanation.

図2に示すように、ロードポート装置10の壁部11は、フープ2が載置される載置台14側を向く外側面11bと、外側面11bとは反対方向であるウエハ搬送室52側を向く内側面11aとを有している。内側面11aには、装置開口13における上辺13a及び2つの側辺13bに沿って、カバー部材20が設けられている。カバー部材20は、壁部11の内側面11aから突出し、装置開口13に近い開口側11aaと装置開口13から遠い外部側11abとに内側面11aを仕切っている。   As shown in FIG. 2, the wall portion 11 of the load port apparatus 10 has an outer surface 11b facing the mounting table 14 on which the hoop 2 is placed, and a wafer transfer chamber 52 side opposite to the outer surface 11b. And an inner side surface 11a facing. A cover member 20 is provided on the inner side surface 11 a along the upper side 13 a and the two side sides 13 b in the device opening 13. The cover member 20 protrudes from the inner side surface 11 a of the wall portion 11 and partitions the inner side surface 11 a into an opening side 11 aa close to the device opening 13 and an outer side 11 ab far from the device opening 13.

カバー部材20は、装置開口13における辺の一つである上辺13aに沿って設けられる庇部22と、装置開口13における他の辺である側辺13bに沿って設けられる側方庇部24とを有している。カバー部材20は、装置開口13の上辺13a及び一対の側辺13bに沿って設けられており、下辺13c側の除く3方向から装置開口13を囲っている。   The cover member 20 has a flange 22 provided along the upper side 13a which is one of the sides in the device opening 13, and a side flange 24 provided along the side 13b which is the other side in the device opening 13. have. The cover member 20 is provided along the upper side 13a and the pair of side sides 13b of the device opening 13, and surrounds the device opening 13 from three directions excluding the lower side 13c side.

図2に示すように、庇部22は、壁部11の内側面11aから斜め下方に延出する庇上面22bと、庇上面22bの先端から下方に向けて内側面11aと略平行に延びる庇折り返し部22aとを有している。図1に示すように、ウエハ搬送室52の上方にはファンフィルタユニット56が備えられており、ウエハ搬送室52の大部分には、上方から下方へ向かうダウンフローが形成されている。庇部22は、ウエハ搬送室52内のダウンフローを遮り、比較的清浄度の低い気体が装置開口13を介してフープ2内に流入することを防止する。   As shown in FIG. 2, the flange 22 has a flange upper surface 22 b that extends obliquely downward from the inner surface 11 a of the wall 11, and a flange that extends substantially parallel to the inner surface 11 a from the tip of the flange upper surface 22 b downward. And a folded portion 22a. As shown in FIG. 1, a fan filter unit 56 is provided above the wafer transfer chamber 52, and a downflow from the upper side to the lower side is formed in most of the wafer transfer chamber 52. The flange portion 22 blocks the downflow in the wafer transfer chamber 52 and prevents a relatively clean gas from flowing into the FOUP 2 through the device opening 13.

側方庇部24の基部は、壁部11の内側面11aから略垂直に突出しており、側方から装置開口13に向けて、比較的清浄度の低い気体が流れ込むことを防止している。側方庇部24は、基部の先端から装置開口13側へ、内側面11aと略平行に延びる側方庇折り返し部24aを有している。庇部22と側方庇部24とは、一体に接続されており、装置開口13を囲むカバー部材20を構成している。   The base part of the side flange part 24 protrudes substantially perpendicularly from the inner side surface 11 a of the wall part 11, and prevents a relatively clean gas from flowing from the side toward the device opening 13. The side flange portion 24 has a side flange return portion 24a that extends substantially parallel to the inner surface 11a from the tip of the base portion toward the device opening 13 side. The flange portion 22 and the side flange portion 24 are integrally connected and constitute a cover member 20 surrounding the device opening 13.

図2に示すように、ロードポート装置10は、カバー部材20に対して接続されるカバー付属可動板30を有している。図3(a)及び図3(b)に示すように、カバー付属可動板30は、図示省略の駆動部によって駆動されることにより、カバー部材20の庇部22に対して相対移動可能である。カバー付属可動板30の駆動部は、特に限定されないが、例えばステッピングモータ、サーボモータ、リニアモータ等を採用することができる。   As shown in FIG. 2, the load port device 10 has a cover-attached movable plate 30 connected to the cover member 20. As shown in FIGS. 3A and 3B, the cover-attached movable plate 30 can be moved relative to the flange portion 22 of the cover member 20 by being driven by a drive unit (not shown). . The drive unit of the cover-attached movable plate 30 is not particularly limited, and for example, a stepping motor, a servo motor, a linear motor, or the like can be employed.

図2に示すように、カバー付属可動板30は、矩形平板状の外形状を有しており、カバー部材20における庇部22の庇上面22bに接続されている。   As shown in FIG. 2, the cover-attached movable plate 30 has a rectangular flat plate-like outer shape, and is connected to the upper surface 22 b of the flange portion 22 in the cover member 20.

図3(a)は、カバー付属可動板30が退避位置にある状態を表す断面図であり、図3(b)は、カバー付属可動板30が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。カバー付属可動板30は、図示しない駆動部により、図3(a)に示す退避位置と、図3(b)に示す遮蔽位置との間で移動される。図3(a)に示す退避位置にあるカバー付属可動板30は、庇上面22bに沿って斜め下方に相対移動することにより、図3(b)に示す遮蔽位置まで移動する。また、図3(b)に示す遮蔽位置にあるカバー付属可動板30は、庇上面22bに沿って斜め上方に相対移動することにより、図3(a)に示す退避位置に移動する。   3A is a cross-sectional view illustrating a state where the cover-attached movable plate 30 is in the retracted position, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a state where the cover-attached movable plate 30 is in the shielding position. The cover-attached movable plate 30 is moved between a retracted position shown in FIG. 3A and a shield position shown in FIG. The cover-attached movable plate 30 in the retracted position shown in FIG. 3A moves to the shielding position shown in FIG. 3B by moving relatively obliquely downward along the collar upper surface 22b. Further, the cover-attached movable plate 30 in the shielding position shown in FIG. 3B moves to the retracted position shown in FIG. 3A by moving relatively obliquely upward along the upper surface 22b.

図4(a)は、退避位置にあるカバー付属可動板30を、壁部11に垂直な方向(Y軸正方向側)から見た側面図であり、図4(b)は、遮蔽位置にあるカバー付属可動板30を、壁部11に垂直な方向(Y軸正方向側)から見た側面図である。なお、図3(a)、図3(b)、図4(a)及び図4(b)では、説明の便宜上、図1に示すフロントガス導入部17については図示していない。   FIG. 4A is a side view of the cover-attached movable plate 30 in the retracted position as viewed from the direction perpendicular to the wall portion 11 (Y-axis positive direction side), and FIG. It is the side view which looked at a certain cover attachment movable board 30 from the direction (Y-axis positive direction side) perpendicular to the wall part 11. FIG. In FIG. 3A, FIG. 3B, FIG. 4A, and FIG. 4B, the front gas introduction portion 17 shown in FIG. 1 is not shown for convenience of explanation.

図4(b)に示すように、遮蔽位置にあるカバー付属可動板30は、壁部11に垂直な方向から見て装置開口13に一部が重なる(領域A)。これに対して、図4(a)に示すように、退避位置にあるカバー付属可動板30は、壁部11に垂直な方向から見て装置開口13に重なる面積が遮蔽位置より狭く、本実施形態では装置開口13とは重ならない。   As shown in FIG. 4B, the cover-attached movable plate 30 in the shielding position partially overlaps the device opening 13 when viewed from the direction perpendicular to the wall portion 11 (region A). On the other hand, as shown in FIG. 4A, the cover-attached movable plate 30 in the retracted position has an area that overlaps the device opening 13 when viewed from the direction perpendicular to the wall 11 and is smaller than the shielding position. The form does not overlap with the device opening 13.

カバー付属可動板30の位置は、ロードポート装置10又はEFEM50の制御部によって制御される。カバー付属可動板30は、少なくとも遮蔽位置と退避位置で停止することが可能であるが、図4(a)及び図4(b)に示す以外の位置で停止することが可能であってもよい。   The position of the cover-attached movable plate 30 is controlled by the control unit of the load port device 10 or the EFEM 50. The cover-attached movable plate 30 can be stopped at least at the shielding position and the retracted position, but may be able to be stopped at positions other than those shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). .

たとえば、カバー付属可動板30は、装置開口13に重なる面積が互いに異なる第1遮蔽位置と第2遮蔽位置を含む複数の遮蔽位置と、これらの遮蔽位置より装置開口13に重なる面積が少ない退避位置とで、停止することが可能であってもよい。この場合において、カバー付属可動板30は、例えば、ウエハ1を搬送するウエハ搬送機54のアーム54aの動きに応じて、停止する位置が変化することで、アーム54aに干渉する問題を避けつつ、効果的にフープ2内の環境を保護することができる。   For example, the cover-attached movable plate 30 has a plurality of shielding positions including a first shielding position and a second shielding position that are different in area overlapping the device opening 13, and a retreat position where the area overlapping the device opening 13 is smaller than these shielding positions. It may be possible to stop. In this case, the cover-attached movable plate 30 avoids the problem of interfering with the arm 54a, for example, by changing the stop position according to the movement of the arm 54a of the wafer transfer machine 54 that transfers the wafer 1. The environment in the hoop 2 can be effectively protected.

ロードポート装置10は、カバー付属可動板30の停止位置を、開閉機構18によるドア18aの開閉状態や、フロントガス導入部17によるフープ2内への清浄化ガスの導入動作や、ウエハ搬送機54の動きに応じて変化させることができる。たとえば、カバー付属可動板30は、ドア18aが閉鎖位置から開放位置まで移動するまでの間は遮蔽位置に位置し、ドア18aが開放位置に移動してウエハ搬送機54のアーム54aがウエハ1の搬送を行っている間は、退避位置に位置してもよい。また、ウエハ搬送機54がウエハ1の搬送を行っている間であっても、アーム54aの移動経路がカバー付属可動板30の遮蔽位置に干渉しない場合(たとえばフープ2下部のウエハ1を搬送する場合など)は、カバー付属可動板30を遮蔽位置に位置させてもよい。   The load port device 10 sets the stop position of the cover-attached movable plate 30 to the opening / closing state of the door 18a by the opening / closing mechanism 18, the operation of introducing the cleaning gas into the hoop 2 by the front gas introduction unit 17, and the wafer transfer device 54. Can be changed according to the movement of the. For example, the cover-attached movable plate 30 is located at the shielding position until the door 18a moves from the closed position to the open position, the door 18a moves to the open position, and the arm 54a of the wafer transfer device 54 moves to the wafer 1 position. While carrying, it may be located at the retracted position. Further, even when the wafer transfer device 54 is transferring the wafer 1, if the movement path of the arm 54 a does not interfere with the shielding position of the cover-attached movable plate 30 (for example, the wafer 1 below the hoop 2 is transferred). In some cases, the cover-attached movable plate 30 may be positioned at the shielding position.

上述のようなロードポート装置10は、カバー付属可動板30が図3(b)及び図4(b)に示すように遮蔽位置に移動することにより、装置開口13及びこれに連通する主開口2bを、ウエハ搬送室52内のダウンフロー等から遮蔽し、フープ2の主開口2bを開放した状態においても、フープ2内部を清浄な状態に保つことができる。また、庇部22に取り付けられたカバー付属可動板30は、装置開口13に一部が重なる遮蔽位置まで延出することができるため、ダウンフロー等からフープ2の主開口2b周辺を好適に保護し、フープ2内部を清浄な状態に保つことができる。また、カバー付属可動板39は、アーム54aが装置開口13を通過する時などは、図3(a)及び図4(a)に示す退避位置に移動することができるため、ウエハ搬送機54によるウエハ1の搬送に支障をきたすこともない。   In the load port device 10 as described above, the cover-attached movable plate 30 moves to the shielding position as shown in FIGS. 3B and 4B, whereby the device opening 13 and the main opening 2b communicating with the device opening 13 are obtained. Can be shielded from downflow or the like in the wafer transfer chamber 52, and the inside of the hoop 2 can be kept clean even when the main opening 2b of the hoop 2 is opened. Further, the cover-attached movable plate 30 attached to the collar portion 22 can extend to the shielding position where the device opening 13 partially overlaps, so that the periphery of the main opening 2b of the hoop 2 is suitably protected from downflow or the like. In addition, the inside of the hoop 2 can be kept clean. Also, the cover-attached movable plate 39 can be moved to the retracted position shown in FIGS. 3A and 4A when the arm 54a passes through the apparatus opening 13, and the like. There is no hindrance to the transfer of the wafer 1.

また、図3(b)に示すように、カバー付属可動板30は、庇上面22bに沿って斜めに移動することにより、主開口2b周辺だけでなく、カバー付属可動板30の下方についても、広くダウンフローによる気流の乱れを防止することができるため、パーティクルの巻き上げやフープ2内へのパーティクル等の流入を防止できる。また、カバー部材20より開口側11aaに設けられるフロントガス導入部17から放出される清浄化ガスの気流が乱されることを防止し、フープ2内の清浄度を高めることができる。また、ロードポート装置10は、カバー付属可動板30が斜め下方に延出するため、たとえカバー付属可動板30が遮蔽位置にある場合でも、開閉部18によるドア18aの移動経路に干渉する問題が生じ難く、効果的にフープ2内の環境を保護できる。   Further, as shown in FIG. 3B, the cover-attached movable plate 30 is moved not only around the main opening 2b but also below the cover-attached movable plate 30 by moving obliquely along the upper surface 22b. Since turbulence of the air flow due to the downflow can be widely prevented, it is possible to prevent the particles from being rolled up and flowing into the hoop 2. Further, it is possible to prevent the airflow of the cleaning gas discharged from the front gas introduction part 17 provided on the opening side 11aa from the cover member 20 from being disturbed, and to increase the cleanliness in the hoop 2. In addition, since the cover-attached movable plate 30 extends obliquely downward in the load port device 10, there is a problem of interfering with the movement path of the door 18 a by the opening / closing portion 18 even when the cover-attached movable plate 30 is in the shielding position. It is difficult to occur and the environment inside the hoop 2 can be effectively protected.

第2実施形態
図5は、第2実施形態に係るロードポート装置110を表す概略断面図であり、図5(a)は、カバー付属可動板130が退避位置にある状態を表す断面図であり、図5(b)は、カバー付属可動板30が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。第2実施形態に係るロードポート装置110は、カバー付属可動板130が、庇上面22bではなく、庇折り返し部22aに沿って移動する点が異なるが、その他の点は第1実施形態に係るロードポート装置10と同様である。したがって、ロードポート装置110の説明では、ロードポート装置10との相違点のみ説明し、共通点については説明を省略する。
Second Embodiment FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a load port device 110 according to a second embodiment, and FIG. 5 (a) is a cross-sectional view showing a state where the cover-attached movable plate 130 is in the retracted position. FIG. 5B is a cross-sectional view showing a state where the cover-attached movable plate 30 is in the shielding position. The load port device 110 according to the second embodiment is different in that the cover-attached movable plate 130 moves not along the heel upper surface 22b but along the heel folding portion 22a. The other points are the load according to the first embodiment. This is the same as the port device 10. Therefore, in the description of the load port device 110, only differences from the load port device 10 will be described, and description of common points will be omitted.

図5(a)及び図5(b)に示すように、カバー付属可動板130は、図3(a)及び図3(b)に示すカバー付属可動板30と同様に略矩形平板状であり、カバー部材20における庇部22に対して、相対移動可能に接続されている。しかしながら、図5(a)及び図5(b)に示すカバー付属可動板130は、壁部11の内側面11aに略平行な庇折り返し部22aに沿って、上下に移動する。   As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the cover-attached movable plate 130 has a substantially rectangular flat plate shape, similar to the cover-attached movable plate 30 shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). The cover member 20 is connected to the flange portion 22 so as to be relatively movable. However, the cover-attached movable plate 130 shown in FIGS. 5A and 5B moves up and down along the fold-back portion 22a that is substantially parallel to the inner surface 11a of the wall portion 11.

図5(b)に示すように、カバー付属可動板130は、内側面11aに略平行に移動するため、遮蔽位置にあるカバー付属可動板130が装置開口13に重なる面積が広い。したがって、図5(b)に示すカバー付属可動板130は、図3(b)に示すカバー付属可動板30と同じ大きさであったとしても、装置開口13およびこれに連通する主開口2bを、より効果的に保護できる。   As shown in FIG. 5B, the cover-attached movable plate 130 moves substantially parallel to the inner side surface 11 a, so that the cover-attached movable plate 130 at the shielding position overlaps with the device opening 13. Therefore, even if the cover-attached movable plate 130 shown in FIG. 5B is the same size as the cover-attached movable plate 30 shown in FIG. 3B, the device opening 13 and the main opening 2b communicating with the device opening 13 are provided. Can protect more effectively.

その他、図5(a)及び図5(b)に示すロードポート装置110も、第1実施形態に係るロードポート装置10と同様の効果を奏する。ただし、図5(b)に示す遮蔽位置にあるカバー付属可動板130が、開閉部18によるドア18aの移動経路に干渉するような場合には、ロードポート装置110は、開閉部18によるドア18aの移動動作に応じてカバー付属可動板130の位置を変化させ、ドア18aとカバー付属可動板130との干渉を回避できる。   In addition, the load port device 110 shown in FIGS. 5A and 5B also has the same effect as the load port device 10 according to the first embodiment. However, when the cover-attached movable plate 130 at the shielding position shown in FIG. 5B interferes with the movement path of the door 18a by the opening / closing part 18, the load port device 110 has the door 18a by the opening / closing part 18. The position of the cover-attached movable plate 130 is changed in accordance with the moving operation of the cover, and interference between the door 18a and the cover-attached movable plate 130 can be avoided.

第3実施形態
図6は、第3実施形態に係るロードポート装置210を表す概略断面図であり、図6(a)は、ドア付属可動板230が退避位置にある状態を表す断面図であり、図6(b)は、ドア付属可動板230が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。第3実施形態に係るロードポート装置210は、図3に示すカバー付属可動板30の代わりに、ドア付属可動板230を有する点で異なるが、その他の点は第1実施形態に係るロードポート装置10と同様である。したがって、ロードポート装置210の説明では、ロードポート装置10との相違点のみ説明し、共通点については説明を省略する。
Third Embodiment FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a load port device 210 according to a third embodiment, and FIG. 6A is a cross-sectional view showing a state in which the door-attached movable plate 230 is in the retracted position. FIG. 6B is a cross-sectional view showing a state in which the door-attached movable plate 230 is in the shielding position. The load port device 210 according to the third embodiment is different in that it has a door-attached movable plate 230 instead of the cover-attached movable plate 30 shown in FIG. 3, but the other points are the load port device according to the first embodiment. 10 is the same. Therefore, in the description of the load port device 210, only differences from the load port device 10 will be described, and description of common points will be omitted.

ドア付属可動板230は、略矩形平板状の外形状を有しており、開閉部18のドア18aに対して、相対移動可能に接続されている。ドア付属可動板230の駆動部としては、特に限定されないが、図3に示すカバー付属可動板30と同様に、例えばドア18aに搭載可能な小型のステッピングモータ、サーボモータ、リニアモータ等を採用することができる。   The door-attached movable plate 230 has a substantially rectangular flat plate-like outer shape, and is connected to the door 18a of the opening / closing portion 18 so as to be relatively movable. The drive unit of the door-attached movable plate 230 is not particularly limited, but, for example, a small stepping motor, servo motor, linear motor, or the like that can be mounted on the door 18a is employed in the same manner as the cover-attached movable plate 30 shown in FIG. be able to.

ドア付属可動板230は、図示しない駆動部により、図6(a)に示す退避位置と、図6(b)に示す遮蔽位置との間で移動される。図6(a)に示す退避位置にあるドア付属可動板230は、開放位置にあるドア18aに沿って上方へ相対移動することにより、図6(b)に示す遮蔽位置まで移動する。また、図6(b)に示す遮蔽位置にあるドア付属可動板230は、ドア18aに沿って下方に相対移動することにより、図6(a)に示す退避位置に移動する。   The door-attached movable plate 230 is moved between a retracted position shown in FIG. 6A and a shield position shown in FIG. 6B by a driving unit (not shown). The door-attached movable plate 230 in the retracted position shown in FIG. 6 (a) moves to the shielding position shown in FIG. 6 (b) by relatively moving upward along the door 18a in the open position. Further, the door-attached movable plate 230 in the shielding position shown in FIG. 6B moves to the retracted position shown in FIG. 6A by relatively moving downward along the door 18a.

また、ドア付属可動板230はドア18aに接続されているため、開閉部18のドア駆動部18bによって、ドア18aとともに移動される。ドア18aが装置開口13を閉鎖する閉鎖位置にある場合や、ドア18aが閉鎖位置と開放位置の間を移動中の場合は、ドア付属可動板230は、ドア18aの背面に重なる状態に収納された退避位置にある。したがって、ドア付属可動板230は、ドア18aと伴に移動する際に、カバー部材20等の周辺部材に衝突するなどの問題を適切に回避できる。   Moreover, since the door attached movable plate 230 is connected to the door 18a, it is moved together with the door 18a by the door driving portion 18b of the opening / closing portion 18. When the door 18a is in the closed position for closing the device opening 13 or when the door 18a is moving between the closed position and the open position, the door-attached movable plate 230 is stored in a state of overlapping the back surface of the door 18a. In the retracted position. Therefore, when the door attached movable plate 230 moves with the door 18a, problems such as collision with peripheral members such as the cover member 20 can be appropriately avoided.

図7(a)は、ドア18aが開放位置にある状態において、退避位置にあるドア付属可動板230を、壁部11に垂直な方向(Y軸正方向側)から見た側面図である。また、図4(b)は、図7(a)と同様にドア18aが開放位置にある状態において、遮蔽位置にあるドア付属可動板230を、壁部11に垂直な方向(Y軸正方向側)から見た側面図である。   FIG. 7A is a side view of the door-attached movable plate 230 in the retracted position when viewed from the direction perpendicular to the wall portion 11 (Y-axis positive direction side) in a state where the door 18a is in the open position. FIG. 4B shows the door-attached movable plate 230 in the shielding position in a direction perpendicular to the wall portion 11 (Y-axis positive direction) when the door 18a is in the open position as in FIG. 7A. It is the side view seen from the side.

図7(b)に示すように、遮蔽位置にあるドア付属可動板230は、壁部11に垂直な方向から見て装置開口13に一部が重なる(領域A)。これに対して、図7(a)に示すように、退避位置にあるドア付属可動板230は、壁部11に垂直な方向から見て装置開口13に重なる面積が遮蔽位置より狭く、本実施形態では装置開口13とは重ならない。   As shown in FIG. 7B, the door-attached movable plate 230 in the shielding position partially overlaps the device opening 13 when viewed from the direction perpendicular to the wall portion 11 (region A). On the other hand, as shown in FIG. 7A, the door-attached movable plate 230 in the retracted position has an area that overlaps with the device opening 13 when viewed from the direction perpendicular to the wall 11 and is smaller than the shielding position. The form does not overlap with the device opening 13.

ロードポート装置210は、ドア付属可動板230の停止位置を、フロントガス導入部によるフープ2内への清浄化ガスの導入動作や、ウエハ搬送機54の動きに応じて変化させることができる。たとえば、ロードポート装置210は、ウエハ1の搬送開始前においてフロントガス導入部からフープ2内へ清浄化ガスを導入する間、ドア付属可動板230を遮蔽位置に位置させ、ウエハ搬送機54がウエハ1の搬送を行っている間は、退避位置に位置させてもよい。また、ウエハ搬送機54がウエハ1の搬送を行っている間であっても、アーム54aの移動経路がドア付属可動板230の遮蔽位置に干渉しない場合(たとえばフープ2上部のウエハ1を搬送する場合など)は、ドア付属可動板230を遮蔽位置に位置させてもよい。   The load port device 210 can change the stop position of the door-attached movable plate 230 according to the operation of introducing the cleaning gas into the hoop 2 by the front gas introduction unit and the movement of the wafer transfer device 54. For example, the load port device 210 places the movable plate 230 attached to the door in the shielding position while the cleaning gas is introduced into the FOUP 2 from the front gas introduction unit before the transfer of the wafer 1 is started. While one transport is being performed, it may be positioned at the retracted position. Further, even when the wafer transfer device 54 is transferring the wafer 1, if the movement path of the arm 54 a does not interfere with the shielding position of the door-attached movable plate 230 (for example, transfer the wafer 1 above the hoop 2). In some cases, the door-attached movable plate 230 may be positioned at the shielding position.

退避位置にあるドア付属可動板230は、開放位置にあるドア18aと同様に、壁部11に垂直な方向から見て装置開口13とは重ならない位置にあるため、ウエハ搬送機54のアーム54a等が、ドア付属可動板230が衝突することを回避できる。   Like the door 18a in the open position, the door-attached movable plate 230 in the retracted position is in a position that does not overlap with the apparatus opening 13 when viewed from the direction perpendicular to the wall 11, so that the arm 54a of the wafer transfer device 54 is located. Etc. can prevent the door-attached movable plate 230 from colliding.

ドア付属可動板230は、少なくとも図7(a)に示す退避位置と及び図7(b)に示す遮蔽位置とで停止することが可能であるが、図7(a)及び図7(b)に示す以外の位置で停止することが可能であってもよい。また、ドア付属可動板230は、ドア18aに対して最も上方に相対移動する遮蔽位置(図7(b))において、装置開口13の全部を遮蔽する必要はなく、装置開口13の一部と重なる状態であればよい。   The door-attached movable plate 230 can be stopped at least at the retracted position shown in FIG. 7A and the shielding position shown in FIG. 7B, but FIG. 7A and FIG. It may be possible to stop at a position other than that shown in FIG. Further, the door-attached movable plate 230 does not need to shield the entire device opening 13 at the shielding position (FIG. 7B) that moves relative to the door 18a in the uppermost position. Any overlapping state is sufficient.

このようなドア付属可動板230を有するロードポート装置210は、第1実施形態に係るロードポート装置10と同様の効果を奏し、フープ2内へのパーティクルや清浄度の低い気体の流入を防止し、フープ2内の環境を保護することができる。また、ドア付属可動板230が接続するドア18aは、装置開口13を閉鎖できる大きさを有しているため、比較的大きなドア付属可動板230を、コンパクトに接続することが可能であり、ロードポート装置210の小型化の点で有利である。また、ドア付属可動板230は、特に装置開口13の下方側を遮蔽するため、巻き上げられたパーティクル等から、装置開口13を効果的に遮蔽できる。   The load port device 210 having such a door-attached movable plate 230 has the same effect as the load port device 10 according to the first embodiment, and prevents inflow of particles or low-cleanness gas into the hoop 2. The environment inside the hoop 2 can be protected. Further, since the door 18a to which the door-attached movable plate 230 is connected has a size that can close the device opening 13, it is possible to connect the relatively large door-attached movable plate 230 in a compact manner. This is advantageous in terms of downsizing the port device 210. Further, since the door-attached movable plate 230 shields the lower side of the device opening 13 in particular, the device opening 13 can be effectively shielded from the rolled up particles and the like.

なお、本実施形態に係るロードポート装置210では、ドア付属可動板230は、ドア18aに対して上方向に相対移動して装置開口13を遮蔽するが、ドア付属可動板の移動方向としてはこれに限定されない。例えば、開閉機構が、ドア18aを装置開口13に対して上方又は側方に移動させる場合、ドア付属可動板は、ドア18aに対して下方向又は側方に相対移動して、装置開口13を遮蔽することができる。   In the load port device 210 according to the present embodiment, the door-attached movable plate 230 moves upward relative to the door 18a to shield the device opening 13, but the door-attachable movable plate moves as this. It is not limited to. For example, when the opening / closing mechanism moves the door 18a upward or sideward with respect to the device opening 13, the door-attached movable plate relatively moves downward or sideward with respect to the door 18a, so that the device opening 13 is moved. Can be shielded.

第4実施形態
図8は、第4実施形態に係るロードポート装置310を表す概略断面図であり、図8(a)は、カバー付属可動板30及びドア付属可動板230が退避位置にある状態を表す断面図であり、図8(b)は、カバー付属可動板30及びドア付属可動板230が遮蔽位置にある状態を表す断面図である。第4実施形態に係るロードポート装置10は、第1実施形態に係るカバー付属可動板30と第3実施形態に係るドア付属可動板230の両方を有する点で、第1又は第3実施形態に係るロードポート装置10、210とは異なるが、カバー付属可動板30及びドア付属可動板230自体は、第1又は第3実施形態で説明したものと同様である。
State Fourth Embodiment FIG 8 is a schematic sectional view showing a load port apparatus 310 according to the fourth embodiment, FIG. 8 (a), the cover comes movable plate 30 and the door comes movable plate 230 is in the retracted position FIG. 8B is a cross-sectional view illustrating a state in which the cover-attached movable plate 30 and the door-attached movable plate 230 are in the shielding position. The load port device 10 according to the fourth embodiment is the same as the first or third embodiment in that both the cover-attached movable plate 30 according to the first embodiment and the door-attached movable plate 230 according to the third embodiment are included. Although different from the load port devices 10 and 210, the cover-attached movable plate 30 and the door-attached movable plate 230 are the same as those described in the first or third embodiment.

第4実施形態に係るロードポート装置310は、カバー付属可動板30とドア付属可動板230の両方を有しているため、図8(b)に示すように、カバー付属可動板30とドア付属可動板230の両方を遮蔽位置に移動させることにより、ウエハ搬送室52内に流れる比較的清浄度の低い気体等から、装置開口13及びフープ2を効果的に遮蔽することができる。   Since the load port device 310 according to the fourth embodiment includes both the cover-attached movable plate 30 and the door-attached movable plate 230, as shown in FIG. By moving both of the movable plates 230 to the shielding position, the apparatus opening 13 and the hoop 2 can be effectively shielded from a relatively clean gas flowing into the wafer transfer chamber 52.

また、ロードポート装置310は、上方に退避するカバー付属可動板30と、下方に退避するドア付属可動板230とを有している。したがって、ロードポート装置は、例えば、ウエハ搬送機54のアーム54aが通過できるように、カバー付属可動板30とドア付属可動板230との間に形成される隙間の位置を調整することにより、ウエハの搬送中であっても、装置開口13及びフープ2の主開口2bを効果的に遮蔽することが可能である。その他、ロードポート装置310は、第1及び第3実施形態に係るロードポート装置10、210と同様の効果を奏する。   The load port device 310 includes a cover-attached movable plate 30 that is retracted upward and a door-attached movable plate 230 that is retracted downward. Therefore, the load port device adjusts the position of the gap formed between the cover-attached movable plate 30 and the door-attached movable plate 230 so that the arm 54a of the wafer transfer device 54 can pass through, for example. It is possible to effectively shield the apparatus opening 13 and the main opening 2b of the hoop 2 even during the conveyance. In addition, the load port device 310 has the same effects as the load port devices 10 and 210 according to the first and third embodiments.

上述した実施形態は、本発明に含まれる実施形態の幾つかを例示したものであり、本発明を何ら限定するものではなく、また、本発明には他の実施形態が含まれることは言うまでもない。例えば、上述の実施形態において、カバー付属可動板30、130やドア付属可動板230は、遮蔽位置と退避位置との間を平行移動するが、カバー付属可動板およびドア付属可動板の移動形態はこれに限定されない。たとえば、カバー付属可動板およびドア付属可動板は、回動することにより遮蔽位置と退避位置との間を移動するものであってもよい。また、カバー付属可動板は、庇部22ではなく、側方庇部24に対して相対移動可能に接続されていてもよい。   The above-described embodiments exemplify some of the embodiments included in the present invention, and do not limit the present invention in any way. Needless to say, the present invention includes other embodiments. . For example, in the above-described embodiment, the cover-attached movable plates 30 and 130 and the door-attached movable plate 230 move in parallel between the shielding position and the retracted position. It is not limited to this. For example, the cover-attached movable plate and the door-attached movable plate may move between the shielding position and the retracted position by rotating. Further, the cover-attached movable plate may be connected to the side flange 24 instead of the flange 22 so as to be movable relative to the side flange 24.

1… ウエハ
2… フープ
4… 蓋
5、6…底孔
10、110、210、310…ロードポート装置
11…壁部
11a…内側面
11b…外側面
13…装置開口
13a…上辺
13b…側辺
14…載置台
16…ボトムガス導入部
17…フロントガス導入部
18…開閉部
18a…ドア
18b…ドア駆動部
20…カバー部材
22…庇部
22a…庇折り返し部
22b…庇上面
24…側方庇部
24a…側方庇折り返し部
30、130…カバー付属可動板
230…ドア付属可動板
50…EFEM
51…ミニエンバイロメント装置
52…ウエハ搬送室
54…ウエハ搬送機
54a…アーム
56…ファンフィルタユニット
56a…ファン
56b…フィルタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer 2 ... Hoop 4 ... Cover 5, 6 ... Bottom hole 10, 110, 210, 310 ... Load port apparatus 11 ... Wall part 11a ... Inner side surface 11b ... Outer side surface 13 ... Device opening 13a ... Upper side 13b ... Side 14 ... Place 16 ... Bottom gas introduction part 17 ... Front gas introduction part 18 ... Opening / closing part 18a ... Door 18b ... Door drive part 20 ... Cover member 22 ... Early part 22a ... Early folding part 22b ... Early upper surface 24 ... Side lateral part 24a ... Side fold-back part 30, 130 ... Moving plate 230 with cover ... Moving plate 50 with door ... EFEM
51 ... Mini-environment device 52 ... Wafer transfer chamber 54 ... Wafer transfer machine 54a ... Arm 56 ... Fan filter unit 56a ... Fan 56b ... Filter

Claims (7)

ウエハを出し入れするための主開口が側面に形成された容器を載置する載置台と、
前記主開口に連通する装置開口が形成されており、前記載置台側を向く外側面と前記外側面とは反対方向を向く内側面とを有する壁部と、
前記主開口及び前記装置開口を開閉する開閉部と、
前記装置開口における少なくともいずれか1つの辺に沿って設けられており、前記壁部の前記内側面から突出し、前記装置開口に近い開口側と前記装置開口から遠い外部側とに前記内側面を仕切るカバー部材と、
前記カバー部材に対して相対移動可能に接続されるカバー付属可動板と、を有し、
前記カバー付属可動板は、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重なる面積が前記遮蔽位置より狭い退避位置と、の間で移動されることを特徴とするロードポート装置。
A mounting table on which a container having a main opening formed on the side surface for loading and unloading a wafer is mounted;
A device opening communicating with the main opening is formed, and a wall portion having an outer surface facing the mounting table and an inner surface facing the opposite direction to the outer surface,
An opening / closing part for opening / closing the main opening and the device opening;
It is provided along at least one side of the device opening, protrudes from the inner surface of the wall portion, and divides the inner surface into an opening side near the device opening and an outer side far from the device opening. A cover member;
A cover-attached movable plate connected to the cover member so as to be relatively movable,
The cover-attached movable plate has a shielding position that partially overlaps the device opening when viewed from a direction perpendicular to the wall portion, and an area that overlaps the device opening when viewed from a direction perpendicular to the wall portion from the shielding position. A load port device which is moved between a narrow retreat position.
前記カバー部材は、前記装置開口における前記辺の一つである上辺に沿って設けられる庇部を有しており、
前記カバー付属可動板は、前記庇部に対して相対移動可能に接続されることを特徴とする請求項1に記載のロードポート装置。
The cover member has a flange provided along an upper side that is one of the sides in the device opening;
The load port device according to claim 1, wherein the cover-attached movable plate is connected to the collar portion so as to be relatively movable.
前記庇部は、前記内側面から斜め下方に延出する庇上面を有しており、
前記カバー付属可動板は、前記庇上面に沿って、前記庇部に対して相対移動することを特徴とする請求項2に記載のロードポート装置。
The collar portion has a collar upper surface extending obliquely downward from the inner surface,
The load port device according to claim 2, wherein the cover-attached movable plate moves relative to the flange along the upper surface of the flange.
前記開閉部は、前記装置開口を閉鎖する閉鎖位置と前記装置開口を開放する開放位置との間で移動されるドアを有し、
前記ドアに対して相対移動可能に接続されており、前記ドアが前記開放位置にある状態において、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重なる面積が前記遮蔽位置より狭い退避位置と、の間で移動されるドア付属可動板をさらに有する請求項1から請求項3までのいずれかに記載のロードポート装置。
The opening / closing part has a door that is moved between a closed position for closing the device opening and an open position for opening the device opening,
A shield position that is connected to the door so as to be movable relative to the door, and in which the door is in the open position; 4. The door-attached movable plate further moved between a retracted position having an area overlapping the device opening as viewed from a direction perpendicular to the retraction position narrower than the shielding position. 5. Load port device.
前記カバー付属可動板は、前記遮蔽位置であって前記装置開口に重なる面積が互いに異なる第1遮蔽位置と第2遮蔽位置とで停止することが可能であり、前記ウエハを搬送するウエハ搬送アームの動きに応じて、停止する位置が変化することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載のロードポート装置。   The cover-attached movable plate can stop at a first shielding position and a second shielding position that are different from each other in the shielding position and overlap with the apparatus opening. The load port device according to any one of claims 1 to 4, wherein a stop position changes according to the movement. 前記カバー部材に対して前記開口側に設けられており、前記装置開口及び前記主開口を介して前記容器の内部に清浄化ガスを導入するフロントガス導入部をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかに記載のロードポート装置。   The apparatus further comprises a front gas introduction part that is provided on the opening side with respect to the cover member and introduces a cleaning gas into the container through the apparatus opening and the main opening. The load port device according to any one of claims 1 to 5. ウエハを出し入れするための主開口が側面に形成された容器を載置する載置台と、
前記主開口に連通する装置開口が形成されており、前記載置台側を向く外側面と前記外側面とは反対方向を向く内側面とを有する壁部と、
前記装置開口を閉鎖する閉鎖位置と前記装置開口を開放する開放位置との間で移動されるドアを有し、前記主開口及び前記装置開口を開閉する開閉部と、
前記ドアに対して相対移動可能に接続されるドア付属可動板と、を有し、
前記ドア付属可動板は、前記ドアが前記開放位置にある状態において、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に一部が重なる遮蔽位置と、前記壁部に垂直な方向から見て前記装置開口に重なる面積が前記遮蔽位置より狭い退避位置と、の間で移動されることを特徴とするロードポート装置。
A mounting table on which a container having a main opening formed on the side surface for loading and unloading a wafer is mounted;
A device opening communicating with the main opening is formed, and a wall portion having an outer surface facing the mounting table and an inner surface facing the opposite direction to the outer surface,
An opening / closing part that has a door that is moved between a closed position that closes the device opening and an open position that opens the device opening; and that opens and closes the main opening and the device opening;
A door-attached movable plate connected to be movable relative to the door,
When the door is in the open position, the door-attached movable plate is seen from a direction perpendicular to the wall portion and a shielding position where the device opening partially overlaps the device opening as seen from the direction perpendicular to the wall portion. The load port device, wherein the load port device is moved between a retreat position in which an area overlapping with the device opening is narrower than the shielding position.
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6120229A (en) * 1999-02-01 2000-09-19 Brooks Automation Inc. Substrate carrier as batchloader
JP2003045933A (en) * 2001-08-01 2003-02-14 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Load port, substrate processing unit, and method for replacing atmosphere
JP2005079250A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
KR20070017284A (en) * 2000-08-23 2007-02-09 동경 엘렉트론 주식회사 A processing system for an object to be processed
JP2009038073A (en) * 2007-07-31 2009-02-19 Tdk Corp Cover opening/closing system for sealed container and substrate processing method using the same
WO2010007657A1 (en) * 2008-07-14 2010-01-21 株式会社ライト製作所 Purging device, load port, and purging method
JP2010129634A (en) * 2008-11-26 2010-06-10 Tokyo Electron Ltd Substrate storage device and substrate treatment device
JP2010232522A (en) * 2009-03-27 2010-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2014107296A (en) * 2012-11-22 2014-06-09 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, lid opening and closing mechanism, shielding mechanism and container purge method
WO2016035675A1 (en) * 2014-09-05 2016-03-10 ローツェ株式会社 Loading port and loading port atmoshpere substitution method

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6120229A (en) * 1999-02-01 2000-09-19 Brooks Automation Inc. Substrate carrier as batchloader
KR20070017284A (en) * 2000-08-23 2007-02-09 동경 엘렉트론 주식회사 A processing system for an object to be processed
JP2003045933A (en) * 2001-08-01 2003-02-14 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Load port, substrate processing unit, and method for replacing atmosphere
JP2005079250A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
JP2009038073A (en) * 2007-07-31 2009-02-19 Tdk Corp Cover opening/closing system for sealed container and substrate processing method using the same
WO2010007657A1 (en) * 2008-07-14 2010-01-21 株式会社ライト製作所 Purging device, load port, and purging method
JP2010129634A (en) * 2008-11-26 2010-06-10 Tokyo Electron Ltd Substrate storage device and substrate treatment device
JP2010232522A (en) * 2009-03-27 2010-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing apparatus
JP2014107296A (en) * 2012-11-22 2014-06-09 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, lid opening and closing mechanism, shielding mechanism and container purge method
WO2016035675A1 (en) * 2014-09-05 2016-03-10 ローツェ株式会社 Loading port and loading port atmoshpere substitution method

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