JP2018035716A - 排ガス浄化装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が少ない、排ガス浄化装置を提供する。
【解決手段】排ガス浄化装置は、車両の内燃機関で生じた排ガスを浄化する装置であって、排ガス管と、前記排ガス管の内部に窒素酸化物還元用の還元剤を噴射するための還元剤噴射部と、前記排ガス管の内部、かつ前記還元剤噴射部より排ガス下流側に配置された還元触媒と、を含む。前記排ガス管は、前記還元剤噴射部から噴射された還元剤が溜まる液溜まり領域を有し、前記還元触媒の排ガス流れ方向の軸は、前記液溜まり領域に対して傾斜している。
【選択図】図2

Description

本発明は、車両の内燃機関で生じた排ガスを浄化するための排ガス浄化装置に関する。
従来、車両の内燃機関からの排ガスに含まれる窒素酸化物(一般的に「NOx」とも称される)除去のための排ガス浄化装置が種々開発されている。例えば、図1に示すように、内燃機関(図示せず)に接続された排ガス管510と、当該排ガス管510内に尿素水を噴射するための還元剤噴射部530と、排ガス管510内に配置された還元触媒520と、を有する排ガス浄化装置500が知られている(例えば、特許文献1)。当該排ガス浄化装置500では、還元剤噴射部530から噴射された尿素水が排ガスによって暖められて気化し、加水分解する。そして、当該反応によって生じたアンモニアと排ガス中の窒素酸化物とが、還元触媒520存在下で反応し、窒素酸化物が無害化される。
しかしながら、排ガスの温度が低い場合や、排ガス管510の温度が低い場合には、尿素水の温度が十分に高まらず、その一部が、液体状のまま、排ガス管510の重力方向下側に溜まりやすかった。
特開2000−27627号公報
従来の排ガス浄化装置(例えば、特許文献1の排ガス浄化装置500)では、排ガス管510の重力方向下側に溜まった液体状の尿素水580が、排ガスと共に還元触媒520側に移動しやすく、還元触媒520や、還元触媒520を保護するための保護部材521に染み込みやすかった。そして、還元触媒520や保護部材521内で尿素水が冷却されると、尿素が結晶化しやすく、還元触媒520の細孔を押しつぶしたり、還元触媒520の細孔内に詰まったりしやすかった。その結果、排ガス浄化装置の圧力損失が増大したり、還元触媒の有効体積が減少して、十分に窒素酸化物を除去できなくなる等の不具合が生じることがあった。
そこで、液体状の尿素水が還元触媒や保護部材に染み込まないよう、還元触媒の排ガス上流側の端部を、金属板等で覆うことも検討されている。しかしながらこの場合、金属板の背後に位置する還元触媒を十分に機能させることができず、この場合にも、排ガス浄化装置の圧力損失が増大したり、触媒の有効体積が減少する等の課題が生じやすかった。
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものである。すなわち、還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が少ない、排ガス浄化装置の提供を目的とする。
本発明は、車両の内燃機関で生じた排ガスを浄化するための排ガス浄化装置であって、排ガス管と、前記排ガス管の内部に窒素酸化物還元用の還元剤を噴射するための還元剤噴射部と、前記排ガス管の内部、かつ前記還元剤噴射部より排ガス下流側に配置された還元触媒と、を含み、前記排ガス管が、前記還元剤噴射部から噴射された還元剤が溜まる液溜まり領域を有し、前記還元触媒の排ガス流れ方向の軸が、前記液溜まり領域に対して傾斜している、排ガス浄化装置に関する。
本発明の排ガス浄化装置によれば、還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が生じ難い。
従来の排ガス浄化装置の一例を示す概略断面図である。 本発明の第1の実施形態に係る排ガス浄化装置の排ガス管の延在方向の縦断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る排ガス浄化装置の排ガス管の延在方向の縦断面図である。
1.第1の実施形態
(排ガス浄化装置の構成)
以下、図面を参照して、第1の実施形態の排ガス浄化装置について詳しく説明する。ただし、第1の実施形態の排ガス浄化装置は、当該図面に示す構造に限定されない。
図2に、本発明の第1の実施形態に係る排ガス浄化装置100の排ガス管110の延在方向の縦断面図を示す。なお、図2における上下方向が「重力方向」と一致する。さらに、図2の矢印は、排ガス流れ方向を示す。
本実施形態の排ガス浄化装置100は、車両のディーゼルエンジンに直接または間接的に接続されて使用される。また、本実施形態の排ガス浄化装置100より排ガス上流または排ガス下流には、通常、ディーゼル微粒子捕集フィルター(以下、「DPF」とも称する)を有するディーゼル微粒子捕集部(以下、「DPD」とも称する)が配置される。以下、排ガス浄化装置100の排ガス上流側にDPDが配置される場合を例に説明するが、本発明は当該実施形態に制限されない。
本実施形態の排ガス浄化装置100は、図2に示すように、排ガス管110と、排ガス管110内部に還元剤を噴射するための還元剤噴射部130と、排ガス管110の内部、かつ還元剤噴射部130より排ガス下流側に配置された還元触媒(以下、「SCR」(Selective Catalytic Filter)とも称する)120と、排ガス管110の内部、かつSCR120より排ガス下流側に配置された酸化触媒(以下、「DOC」(Diesel Oxidation Catalyst)とも称する)140と、を含む。
ここで、排ガス管110は、図2に示すように、排ガス浄化装置100の排ガス上流側に配置される部材(例えばDPD)に接続するための排ガス導入部110aと、SCR120およびDOC140を内部に収容する触媒収容部110cと、排ガス浄化装置100の排ガス下流側に配置される部材(例えばマフラー)に接続するための排ガス排出部110eと、を有する。本実施形態では、排ガス導入部110a、触媒収容部110c、および排ガス排出部110eのいずれもが略円筒形状である。また、触媒収容部110cの径はSCR120やDOC140の径に合わせて設定されており、排ガス導入部110aおよび排ガス排出部110eの径は、内燃機関からの排ガス量等に合わせて設定されている。
本実施形態の排ガス管110では、図2に示すように、排ガス導入部110aの排ガス流れ方向の軸が略水平方向に延びているのに対し、触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸が、排ガス上流側が重力方向下側、排ガス下流側が重力方向上側となるように延びている。つまり、排ガス導入部110aの排ガス流れ方向の軸に対して、触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸が傾斜している。そして、排ガス導入部110aおよび触媒収容部110cの間には、これらを繋ぐための第一屈曲部110bが配置されている。本実施形態では、触媒収容部110cの径が、排ガス導入部110aの径より大きく設定されている。したがって、屈曲部110bは、排ガス下流側に向かって径が大きくなるよう、形成されている。
一方、排ガス排出部110eの排ガス流れ方向の軸は、略水平方向に延びている。したがって、触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸に対して、排ガス排出部110eの排ガス流れ方向の軸も傾斜しており、触媒収容部110cおよび排ガス排出部110eの間にも、これらを繋ぐための第二屈曲部110dが配置されている。本実施形態では、触媒収容部110cの径が、排ガス排出部110eの径より大きく設定されている。したがって、屈曲部110dは、排ガス下流側に向かって径が小さくなるよう、形成されている。
本実施形態において、触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸と、排ガス導入部110aとがなす角度は、略30°である。ただし、当該角度は特に制限されず、例えば15〜90°とすることができる。
ここで、排ガス管110は、還元剤噴射部から噴射された還元剤が溜まる液溜まり領域110Sを有する。図2では、液溜まり領域110Sを明示するため、便宜的に液溜まり領域110Sに相当する領域を太線で示す。液溜まり領域110Sとは、還元剤噴射部130から噴射された還元剤のうち、液体状のまま排ガス管110の内壁に到達した還元剤が寄り集まる領域である。
なお、液溜まり領域110Sは、排ガス管110内に、還元剤を溜めるための特別な構造(例えば凹み等)を設けた領域であってもよい。一方で、還元剤を溜めるための特別な構造を有さず、例えば円筒状の排ガス管110内で、液体状の還元剤が溜まってしまう領域等であってもよい。
本実施形態では、触媒収容部110cが、排ガス下流側が重力方向上側となるように傾斜しているため、液体状の還元剤が触媒収容部110c内に流れ込み難い。したがって、液溜まり領域110Sは、排ガス管110(排ガス導入部110a)と還元剤噴射部130との接続部より排ガス下流側、かつ還元剤収容部110cより排ガス上流側の領域となる。
また、排ガス管110の排ガス流れと直交方向の断面を観察した場合、液溜まり領域110Sは、円筒状の排ガス管110(排ガス導入部110aの一部および第一屈曲部110bの一部)の重力方向下側の領域、すなわち排ガス管110の重力方向を0°としたとき、当該重力方向(0°)を中心として±30°程度の領域となる。
上述の形状を有する排ガス管110の成形方法は特に制限されず、一般的な排ガス管の成形方法と同様とすることができる。
一方、排ガス浄化装置100が有する還元剤噴射部130は、SCR120より排ガス上流側に配置されており、排ガス管110内部に還元剤を噴射可能なものであればよい。還元噴射部130は通常、還元剤を噴射するための噴射ノズルと、還元剤を貯留しておくための貯留部(図示せず)と、これらを接続する配管(図示せず)とを少なくとも有する。本実施形態では、還元剤噴射部130の噴射ノズルが、排ガス管110の排ガス導入部110aの重力方向上側に配置されており、噴射ノズルの先端が、排ガス導入部110a内部に位置するように配置されているが、噴射ノズルの位置は適宜変更することが可能である。
還元剤噴射部130は、必要に応じて、還元剤および圧縮空気を、噴射ノズルから配管110内に噴射するが、還元剤の噴射量や噴射タイミングは、内燃機関の回転速度や燃料噴射量等に応じて制御されている。
また、還元剤噴射部130が噴射する還元剤の種類は、排ガス中の窒素酸化物と反応して、窒素酸化物を無害化可能な化合物(例えばアンモニア)、もしくはその前駆体であれば特に制限されない。ただし、通常は、加水分解によってアンモニアを生成可能な尿素水を還元剤として使用する。
一方、SCR120は、排ガス管110の触媒収容部110c内に配置されている。本実施形態では、SCR120が円柱状であるが、SCR120の形状は特に制限されず、例えば多角柱状等であってもよい。
ここで、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXは、排ガス管110の触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸と合致する。つまり、SCR120は、排ガス上流側が重力方向下側、排ガス下流側が重力方向上側となるように傾斜して配置されている。本実施形態では、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXが、排ガス管110の液溜まり領域110Sに対して傾斜している。SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、排ガス管110の液溜まり領域110Sとがなす角度θは、排ガス管110の触媒収容部110cの排ガス流れ方向の軸と、排ガス導入部110aの排ガス流れ方向の軸とがなす角度と同一であり、略30°である。なお、本実施形態において、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、排ガス管110の液溜まり領域110Sとがなす角度θとは、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、排ガス管110の液溜まり領域に溜まる還元剤の液面とがなす角度とする。当該角度θは略30°に制限されず、例えば15〜90°とすることができる。
また、本実施形態において、SCR120は、その排ガス上流側端面120aが、排ガス管110の液溜まり領域110Sより重力方向上側となるように配置されている。そのため、本実施形態の排ガス浄化装置100では、液溜まり領域110Sに溜まった還元剤がSCR120に流れ込むことがない。
なお、SCR120は、還元剤等(本実施形態では、アンモニア)を吸着し、SCR120内部で窒素酸化物と還元剤等とを反応させることが可能なものであればよい。SCR120は、例えば多孔質セラミック担体にゼオライト等を担持させた部材とすることができる。
一方、DOC140は、排ガス管110の触媒収容部110c内、かつSCRより排ガス下流に配置されている。DOC140は、SCR120から下流側に通過(スリップ)したアンモニアを酸化し、無害化することが可能なものであればよく、多孔質セラミック担体に白金やロジウム、酸化セリウム等を担持させた部材とすることができる。
ここで、SCR120およびDOC140は、保護部材121、141を介して排ガス管110に固定されている。SCR120やDOC140が保護部材121、141を介して固定されていると、これらが、外部からの衝撃や震動からの影響を受け難くなる。保護部材121、141は、例えばセラミックや金属繊維からなるマット等とすることができる。
(作用)
以下、本実施形態の排ガス浄化装置100の作用について、還元剤が尿素水である場合を例に説明する。本実施形態の排ガス浄化装置100では、排ガスが排ガス管110内を通過する際、還元剤噴射部130から尿素水が噴射される。排ガス管110内に噴射された尿素水は、その多くが排ガス熱によって暖められて気化し、加水分解する。当該反応によって生じたアンモニアガスは、排ガスと共にSCR120側に移動する。そして、SCR120内で排ガス中の窒素酸化物およびアンモニアが反応することにより、窒素酸化物が窒素および水に分解される。続いて、排ガスは、DOC140内に移動する。DOC140内部では、排ガス中に含まれるアンモニア(SCR120からスリップしたアンモニア)が酸化され、無害化される。その後、排ガスは、排ガス浄化装置100の外部に排出され、例えば排ガス浄化装置100に接続されたマフラー(図示せず)等を介して大気中に放出される。
ここで、本実施形態の排ガス浄化装置100は、前述のように、DPDと接続して用いられる。DPDは、DPFによって排ガス中のディーゼル微粒子(以下、「PM」とも称する)を捕集すると共に、ユーザからの指示を受けて、DPFに堆積したPMを除去し、DPFを再生する。DPFの再生時には、内燃機関のシリンダ内の燃料噴射制御でポスト噴射したり、排ガスに未然燃料を供給し、その未然燃料を酸化触媒で酸化する。これにより、一時的に排ガスの温度が上昇し、DPFに堆積したPMが燃焼除去される。
本実施形態の排ガス浄化装置100では、排ガスの温度が低い場合や、排ガス管110の温度が低い場合等に、還元剤噴射部130から噴射された尿素水の一部が液体状のまま、排ガス管110に付着する。そして、排ガス管110に付着した液体状の尿素水は、重力によって排ガス管110の重力方向下側に集まり、液溜まり領域110Sに溜まる。当該尿素水は、上述のDPF再生の熱によって除去される。具体的には、上述のDPF再生が行われると、高温の排ガスが排ガス浄化装置100内にも供給され、排ガス管110の温度が上昇する。そして、液溜まり領域110Sに溜まった尿素水の温度が上昇し、尿素水が揮発する。
(効果)
前述のように、本実施形態の排ガス浄化装置では、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXが、液溜まり領域110Sに対して傾斜している。また、SCR120の排ガス上流側の端面120aが、液溜まり領域110Sより重力方向上側に位置するよう、SCR120が配置されている。そのため、排ガス管110の液溜まり領域110Sに溜まった還元剤(尿素水)が、SCR120やこれを保持する保護部材121に染み込むことがない。したがって、従来のような、還元剤(尿素水)の結晶化によるSCRの変形や、保持部材の変形が生じない。つまり、本実施形態の排ガス浄化装置によれば、還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が生じ難い。
2.第2の実施形態
(排ガス浄化装置の構成)
以下、図面を参照して、第2の実施形態の排ガス浄化装置について詳しく説明する。ただし、第2の実施形態の排ガス浄化装置は、当該図面に示す構造に限定されない。
本発明の第2の実施形態に係る排ガス浄化装置200の排ガス管210の延在方向の縦断面図を図3に示す。また、図3における上下方向が「重力方向」と一致する。また、図3の矢印は、排ガスの流動する方向(排ガス流れ方向)を示す。なお、第1の実施形態の排ガス浄化装置100と同一の構成については、同一の符番を付し、説明を省略する。
本実施形態の排ガス浄化装置200は、図3に示すように、排ガス管210と、排ガス管210内部に還元剤を噴射するための還元剤噴射部130と、排ガス管210の内部、かつ還元剤噴射部130より排ガス下流側に配置されたSCR120と、排ガス管210の内部、かつSCR120より排ガス下流側に配置されたDOC140と、を含む。
ここで、排ガス管210は、図3に示すように、排ガス浄化装置200の排ガス上流側に配置される部材(例えばDPD)に接続するための排ガス導入部210aと、SCR120およびDOC140を内部に収容する触媒収容部210cと、排ガス浄化装置200の排ガス下流側に配置される部材(例えばマフラー)に接続するための排ガス排出部210eと、を有する。排ガス導入部210a、触媒収容部210c、および排ガス排出部210eは、いずれも略円筒形状である。触媒収容部210cの径はSCR120やDOC140の径に合わせて設定されており、排ガス導入部110aおよび排ガス排出部110cの径は、内燃機関からの排ガス量等に合わせて設定されている。
本実施形態の排ガス管210では、図3に示すように、排ガス導入部210aの排ガス流れ方向の軸が略水平方向に延びているのに対し、触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸が、重力方向に延びている。つまり、排ガス導入部210aの排ガス流れ方向の軸および触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸のなす角度が略90°である。そして、排ガス導入部210aおよび触媒収容部210cの間には、これらを繋ぐ第一屈曲部110bが配置されている。本実施形態では、触媒収容部210cの径が、排ガス導入部210aの径より大きく設定されている。したがって、屈曲部210bは、排ガス下流側に向かって径が大きくなるよう、形成されている。
一方、排ガス排出部210eの排ガス流れ方向の軸は、重力方向に延びており、触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸および排ガス排出部210eの排ガス流れ方向の軸が、合致している。ただし、本実施形態では、触媒収容部210cの径が、排ガス排出部210eの径より大きく設定されている。そこで、触媒収容部210cおよび排ガス排出部210eの間には、触媒収容部210cおよび排ガス排出部210eを繋ぐための領域であって、排ガス下流側に向かって径が小さくなる縮径部210fが配置されている。
また、本実施形態の排ガス管210も、還元剤噴射部から噴射された還元剤が溜まる液溜まり領域210Sを有する。図3では、液溜まり領域210Sを明示するため、便宜的に液溜まり領域210Sに相当する領域を太線で示す。前述のように、液溜まり領域210Sは、還元剤噴射部130から噴射された還元剤のうち、還元剤噴射部130から噴射された還元剤のうち、液体状のまま排ガス管210の内壁に到達した還元剤が寄り集まって溜まる領域である。
本実施形態においても、液溜まり領域210Sは、排ガス管210内に、還元剤を溜めるための特別な構造(例えば凹み等)を設けた領域であってもよい。一方で、還元剤を溜めるための特別な構造を有さず、例えば円筒状の排ガス管210内で、液体状の還元剤が溜まってしまう領域等であってもよい。
本実施形態では、触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸が、液溜まり部210Sに対して直交している。また、触媒収容部210cは、排ガス流れ上流から下流にかけて、重力方向下側から重力方向上側へと延びている。したがって、液体状の還元剤は、触媒収容部210c内に流れ込まない。したがって、液溜まり領域210Sは、排ガス管210(排ガス導入部210a)と還元剤噴射部130との接続部より排ガス下流側、かつ触媒収容部210cより排ガス上流側の領域となる。
また、排ガス管210の排ガス流れと直交方向の断面を観察した場合、液溜まり領域210Sは、排ガス管210(排ガス導入部210aの一部および第一屈曲部210bの一部)の重力方向下側の領域、すなわち排ガス管210の重力方向を0°としたとき、当該重力方向(0°)を中心として±30°程度の領域となる。
上述の排ガス管210の成形方法は特に制限されず、一般的な排ガス管の成形方法と同様とすることができる。
なお、本実施形態においても、上記排ガス管210の触媒収容部210cに配置されるSCR120の排ガス流れ方向の軸AXが、排ガス管210の触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸と合致する。そして、当該SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと排ガス管210の液溜まり領域210Sとがなす角度θは、排ガス管210の触媒収容部210cの排ガス流れ方向の軸と、排ガス導入部210aの排ガス流れ方向の軸とがなす角度と同一であり、略90°である。なお、本実施形態においても、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、排ガス管210の液溜まり領域210Sとがなす角度θとは、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、排ガス管210の液溜まり領域に溜まる還元剤の液面とがなす角度とする。
また、SCR120は、その排ガス上流側端面120aが、排ガス管210の液溜まり領域210Sより重力方向上側となるように配置されている。そのため、本実施形態の排ガス浄化装置200でも、液溜まり領域210Sに溜まった還元剤がSCR120内に流れ込むことがない。
また、本実施形態では、還元剤噴射部130の噴射ノズルの先端が、SCR120の排ガス上流側端面120aより重力方向下側に配置されている。したがって、還元剤噴射部130から噴射された還元剤がSCR120に直接到達し難い。つまり、還元剤が液体状のまま、SCR120に付着することも抑制できる。
(作用)
本実施形態の排ガス浄化装置200でも、排ガスが排ガス管210内を通過する際、還元剤噴射部130から尿素水が噴射される。そして、排ガス中の窒素酸化物等が無害化されて、排ガス浄化装置100に接続されたマフラー(図示せず)等を介して大気中に放出される。
また、本実施形態の排ガス浄化装置200でも、排ガスの温度が低い場合や、排ガス管210の温度が低い場合、還元剤噴射部130から噴射された尿素水の一部が気化せずに、液体状のまま、排ガス管210に付着する。そして、排ガス管210に付着した液体状の尿素水は、重力によって排ガス管210の重力方向下側に集まり、液溜まり領域210Sに溜まるが、当該尿素水は、DPDによるDPF再生時の熱で除去される。
(効果)
前述のように、本実施形態の排ガス浄化装置では、SCR120の排ガス流れ方向の軸AXと、液溜まり領域210Sとがなす角度が略90°である。また、SCR120の排ガス上流側の端面120aが、液溜まり領域210Sより重力方向上側に位置するよう、SCR120が配置されている。そのため、排ガス管210の液溜まり領域210Sに溜まった還元剤(尿素水)が、SCR120やこれを保持する保護部材121に染み込むことがない。また、本実施形態では、還元剤噴射部130の噴射ノズルの先端が、SCR120の排ガス上流側端面120aより重力方向下側に配置されているため、還元剤噴射部130から噴射された還元剤(尿素水)がSCR120に直接到達しない。つまり、本実施形態では、気化した還元剤(尿素水)のみが、SCR120に到達する。したがって、従来のような、還元剤(尿素水)の結晶化によるSCRの変形や、保持部材の変形が生じ難く、本実施形態の排ガス浄化装置によれば、還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が生じ難い。
本発明の排ガス浄化装置によれば、還元剤に起因する圧力損失の低下や触媒の性能低下が生じ難い。したがって、ディーゼルエンジンを搭載した乗用車や商用車に好適である。
100、200、500 排ガス浄化装置
110、210、510 排ガス管
110S、210S 液溜まり領域
120、520 還元触媒(SCR)
121、141 保護部材
130、530 還元剤噴射部
140 酸化触媒(DOC)
580 尿素水

Claims (5)

  1. 車両の内燃機関で生じた排ガスを浄化するための排ガス浄化装置であって、
    排ガス管と、
    前記排ガス管の内部に窒素酸化物還元用の還元剤を噴射するための還元剤噴射部と、
    前記排ガス管の内部、かつ前記還元剤噴射部より排ガス下流側に配置された還元触媒と、
    を含み、
    前記排ガス管が、前記還元剤噴射部から噴射された還元剤が溜まる液溜まり領域を有し、
    前記還元触媒の排ガス流れ方向の軸が、前記液溜まり領域に対して傾斜している、
    排ガス浄化装置。
  2. 前記還元触媒の排ガス上流側端面が、前記液溜まり領域より上側に配置されている、
    請求項1に記載の排ガス浄化装置。
  3. 前記排ガス管の内部、かつ前記還元触媒より排ガス下流側に配置された酸化触媒をさらに有する、
    請求項1または2に記載の排ガス浄化装置。
  4. 前記還元触媒の排ガス流れ方向の軸および前記液溜まり領域のなす角度が、90°である、
    請求項1〜3のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
  5. 前記還元剤噴射部が、前記還元剤を噴射するための噴射ノズルを有し、
    前記噴射ノズルの先端が、前記還元触媒の排ガス上流側端面より、下側に配置されている、
    請求項1〜4のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019167843A (ja) * 2018-03-22 2019-10-03 いすゞ自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置

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