JP2018001204A - Laser machining device - Google Patents

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JP2018001204A JP2016129881A JP2016129881A JP2018001204A JP 2018001204 A JP2018001204 A JP 2018001204A JP 2016129881 A JP2016129881 A JP 2016129881A JP 2016129881 A JP2016129881 A JP 2016129881A JP 2018001204 A JP2018001204 A JP 2018001204A
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剛史 池田
Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
美紀 荒川
Miki Arakawa
美紀 荒川
百加 橋本
Momoka Hashimoto
百加 橋本
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem peculiar to a resin substrate, when the resin substrate is subjected to full-cut machining in a laser machining device.SOLUTION: A laser machining device 1 is a device for cutting a resin substrate P. The laser machining device 1 is equipped with a laser device 3 and a machining table 15. The laser device 3 generates a laser beam for cutting the resin substrate P. The machining table 15 has an upper surface 15a on which the resin substrate P is placed. On the upper surface 15a, a groove 15b corresponding to a cutting line C of the resin substrate P is formed.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、レーザ加工装置、特に、レーザ光を照射することで樹脂基板を切断する装置に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus, and more particularly to an apparatus for cutting a resin substrate by irradiating a laser beam.

樹脂基板の種類は、単層樹脂基板と、複層樹脂基板とに分かれる。複層樹脂基板は、異なる材料の複数の樹脂層を含む基板である。
樹脂基板を切断する装置として、レーザ加工装置が用いられる(例えば、特許文献1を参照)。樹脂基板は、レーザ加工装置によって、上側の一部だけが切断されたり(ハーフカット加工)、全てが切断されたりする(フルカット加工)。
The types of resin substrates are divided into single layer resin substrates and multilayer resin substrates. The multilayer resin substrate is a substrate including a plurality of resin layers of different materials.
As a device for cutting the resin substrate, a laser processing device is used (for example, see Patent Document 1). With the laser processing apparatus, only a part of the upper side of the resin substrate is cut (half cut processing) or all is cut (full cut processing).

特開2014−8511号公報JP 2014-8511 A

一般に、レーザ加工を行うときには、樹脂基板はテーブルに吸着固定されている。したがって、フルカット加工の場合は、下記の問題が生じ得る。
第1に、溶けた樹脂がテーブルに付着することがある。
第2に、加工時に発生したデブリ(加工くず)がテーブルに付着することがある。
いずれの場合も、付着物をテーブルから除去する作業が必要になる。
In general, when performing laser processing, the resin substrate is fixed to a table by suction. Therefore, in the case of full cut processing, the following problems may occur.
First, melted resin may adhere to the table.
Second, debris (processing waste) generated during processing may adhere to the table.
In either case, it is necessary to remove the deposits from the table.

本発明の目的は、レーザ加工装置において樹脂基板をフルカット加工する際に、樹脂基板に特有の問題を解消することにある。   An object of the present invention is to eliminate problems peculiar to a resin substrate when the resin substrate is fully cut in a laser processing apparatus.

以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。   Hereinafter, a plurality of modes will be described as means for solving the problems. These aspects can be arbitrarily combined as necessary.

本発明の一見地に係るレーザ加工装置は、樹脂基板を切断するための装置である。レーザ加工装置は、レーザ装置と、加工テーブルとを備えている。
レーザ装置は、樹脂基板を切断するためのレーザ光を発生する。
加工テーブルは、樹脂基板が置かれる上面を有している。上面には樹脂基板の切断ラインに対応する溝が形成されている。
この装置では、レーザ装置が、レーザ光によって、樹脂基板を切断ラインに沿って切断する。このとき、溶けた樹脂及びデブリはテーブルの溝内に落下して収容される。したがって、それらがテーブルの上面に付着しにくい。
A laser processing apparatus according to an aspect of the present invention is an apparatus for cutting a resin substrate. The laser processing apparatus includes a laser device and a processing table.
The laser device generates laser light for cutting the resin substrate.
The processing table has an upper surface on which the resin substrate is placed. A groove corresponding to the cutting line of the resin substrate is formed on the upper surface.
In this apparatus, the laser apparatus cuts the resin substrate along the cutting line with laser light. At this time, the melted resin and debris are dropped and accommodated in the groove of the table. Therefore, they hardly adhere to the upper surface of the table.

溝の幅は、樹脂基板のレーザ光による熱影響幅より広くてもよい。
この装置では、溝の幅が十分に広いので、溶けた樹脂及びデブリが加工テーブルの溝内に確実に落下する。
The width of the groove may be wider than the heat affected width of the resin substrate by the laser beam.
In this apparatus, since the width of the groove is sufficiently wide, the melted resin and debris reliably fall into the groove of the processing table.

レーザ加工装置は、溝内の空気を移動させるための空気移動装置をさらに備えていてもよい。
この装置では、空気移動装置が、移動する空気によって、溝内の溶けた樹脂やデブリを溝から外部に移動させることができる。したがって、溝内での上記物質の堆積が防止される。
The laser processing apparatus may further include an air moving device for moving the air in the groove.
In this device, the air moving device can move the melted resin and debris in the groove to the outside by the moving air. Therefore, the deposition of the substance in the groove is prevented.

本発明に係るレーザ加工装置では、樹脂基板をフルカット加工するときに、樹脂基板に特有の問題が発生しにくい。   In the laser processing apparatus according to the present invention, a problem peculiar to the resin substrate hardly occurs when the resin substrate is fully cut.

本発明の第1実施形態のレーザ加工装置の模式図。The schematic diagram of the laser processing apparatus of 1st Embodiment of this invention. 加工テーブル及び樹脂基板の平面図。The top view of a process table and a resin substrate. 加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図。The typical sectional view of a processing table and a resin substrate. 加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図。The typical sectional view of a processing table and a resin substrate. 樹脂基板の加工状態を示す模式的断面図。The typical sectional view showing the processing state of a resin substrate. 第2実施形態の加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図。The typical sectional view of the processing table and resin substrate of a 2nd embodiment. 第2実施形態の樹脂基板の加工状態を示す模式的断面図。The typical sectional view showing the processing state of the resin substrate of a 2nd embodiment. 第3実施形態のレーザ加工装置の模式図。The schematic diagram of the laser processing apparatus of 3rd Embodiment. 第3実施形態の加工テーブル及び樹脂基板の平面図。The top view of the process table and resin substrate of 3rd Embodiment.

1.第1実施形態
(1)全体構成
図1に、本発明の一実施形態による樹脂基板切断用のレーザ加工装置1の全体構成を示す。図1は、本発明の第1実施形態のレーザ加工装置の模式図である。
レーザ加工装置1は、樹脂基板Pをフルカット加工するための装置である。樹脂基板とは、樹脂シート、樹脂フィルムともいわれるものである。
1. First Embodiment (1) Overall Configuration FIG. 1 shows an overall configuration of a laser processing apparatus 1 for cutting a resin substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic diagram of a laser processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
The laser processing apparatus 1 is an apparatus for full-cutting the resin substrate P. The resin substrate is also called a resin sheet or a resin film.

レーザ加工装置1は、レーザ装置3を備えている。レーザ装置3は、樹脂基板Pにレーザ光を照射するためのレーザ発振器9を有している。
レーザ装置3は、レーザ光を後述する機械駆動系に伝送する伝送光学系11を有している。伝送光学系11は、例えば、図示しないが、集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等を有する。また、伝送光学系11は、例えば、レーザ発振器9及び他の光学系が組み込まれたレーザ照射ヘッド(図示せず)をX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構(図示せず)を有している。
The laser processing apparatus 1 includes a laser apparatus 3. The laser device 3 has a laser oscillator 9 for irradiating the resin substrate P with laser light.
The laser device 3 includes a transmission optical system 11 that transmits laser light to a mechanical drive system described later. The transmission optical system 11 includes, for example, a condensing lens, a plurality of mirrors, a prism, and a beam expander, although not shown. Further, the transmission optical system 11 includes, for example, an X-axis direction moving mechanism (not shown) for moving a laser irradiation head (not shown) in which the laser oscillator 9 and other optical systems are incorporated in the X-axis direction. Have.

レーザ加工装置1は、機械駆動系5を備えている。機械駆動系5は、ベッド13と、樹脂基板Pが載置される加工テーブル15と、加工テーブル15をベッド13に対して水平方向に移動させる移動装置17とを有している。移動装置17は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The laser processing apparatus 1 includes a mechanical drive system 5. The mechanical drive system 5 includes a bed 13, a processing table 15 on which the resin substrate P is placed, and a moving device 17 that moves the processing table 15 in the horizontal direction with respect to the bed 13. The moving device 17 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

レーザ加工装置1は、制御部7を備えている。制御部7は、プロセッサ(例えば、CPU)と、記憶装置(例えば、ROM、RAM、HDD、SSDなど)と、各種インターフェース(例えば、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、通信インターフェースなど)を有するコンピュータシステムである。制御部7は、記憶部(記憶装置の記憶領域の一部又は全部に対応)に保存されたプログラムを実行することで、各種制御動作を行う。
制御部7は、単一のプロセッサで構成されていてもよいが、各制御のために独立した複数のプロセッサから構成されていてもよい。
The laser processing apparatus 1 includes a control unit 7. The control unit 7 includes a processor (for example, CPU), a storage device (for example, ROM, RAM, HDD, SSD, etc.), and various interfaces (for example, an A / D converter, a D / A converter, a communication interface, etc.). It is a computer system. The control unit 7 performs various control operations by executing a program stored in the storage unit (corresponding to a part or all of the storage area of the storage device).
The control unit 7 may be configured by a single processor, but may be configured by a plurality of independent processors for each control.

制御部7には、図示しないが、樹脂基板Pの大きさ、形状及び位置を検出するセンサ、各装置の状態を検出するためのセンサ及びスイッチ、並びに情報入力装置が接続されている。
この実施形態では、制御部7は、レーザ発振器9を制御できる。また、制御部7は、移動装置17を制御できる。さらに、制御部7は、伝送光学系11を制御できる。
Although not shown, the controller 7 is connected to a sensor for detecting the size, shape and position of the resin substrate P, sensors and switches for detecting the state of each device, and an information input device.
In this embodiment, the control unit 7 can control the laser oscillator 9. Further, the control unit 7 can control the moving device 17. Further, the control unit 7 can control the transmission optical system 11.

レーザ発振器9は、従来と同様のレーザ管により構成されている。レーザ発振器9は、例えば、ピコ秒UVレーザである。   The laser oscillator 9 is composed of a laser tube similar to the conventional one. The laser oscillator 9 is, for example, a picosecond UV laser.

図2及び図3を用いて、加工テーブル15の上面15aを説明する。図2は、加工テーブル及び樹脂基板の平面図である。図3は、加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図である。
図2に示すように、上面15aには、複数の溝15bが形成されている。溝15bは、平面部分から下方に下がった形状である。溝15bは、樹脂基板Pの切断ラインCに対応している。「対応している」とは、切断ラインCが溝15bの幅内に位置していることを意味する。本実施形態では、切断ラインCは、溝15bの幅方向中心又はその近傍に配置される。なお、切断ラインCは実線でもよいし、仮想線でもよい。
The upper surface 15a of the processing table 15 will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a plan view of the processing table and the resin substrate. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the processing table and the resin substrate.
As shown in FIG. 2, a plurality of grooves 15b are formed on the upper surface 15a. The groove 15b has a shape that is lowered downward from the plane portion. The groove 15b corresponds to the cutting line C of the resin substrate P. “Corresponding” means that the cutting line C is located within the width of the groove 15b. In the present embodiment, the cutting line C is disposed at the center in the width direction of the groove 15b or in the vicinity thereof. Note that the cutting line C may be a solid line or a virtual line.

(2)動作
図3及び図4を用いて、レーザ光による樹脂基板Pの加工動作を説明する。図4は、加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図である。
最初に、図3に示すように、樹脂基板Pが、加工テーブル15の上面15aに載置される。具体的には、樹脂基板Pの切断ラインCが溝15bに対応するように、樹脂基板Pが載置される。この実施形態では、樹脂基板Pは単層である。
(2) Operation The processing operation of the resin substrate P by laser light will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the processing table and the resin substrate.
First, as shown in FIG. 3, the resin substrate P is placed on the upper surface 15 a of the processing table 15. Specifically, the resin substrate P is placed so that the cutting line C of the resin substrate P corresponds to the groove 15b. In this embodiment, the resin substrate P is a single layer.

続いて、図示しない装置によって、樹脂基板Pは、加工テーブル15に対して吸着又は押さえ付けられる。   Subsequently, the resin substrate P is sucked or pressed against the processing table 15 by an apparatus (not shown).

次に、制御部7が、レーザ発振器9を駆動して、樹脂基板Pの切断を実行する(つまり、切断部19が形成される)。レーザ発振器9は、レーザ光を切断ラインCに沿って移動させることで、樹脂基板Pを複数片に切断する。レーザ光の走査回数は1回でもよいし、複数回でもよい。   Next, the control unit 7 drives the laser oscillator 9 to execute the cutting of the resin substrate P (that is, the cutting unit 19 is formed). The laser oscillator 9 cuts the resin substrate P into a plurality of pieces by moving the laser light along the cutting line C. The number of scans of the laser beam may be one or more times.

上記のように加工テーブル15の上面15aには樹脂基板Pの切断ラインCに対応する溝15bが形成されているので、レーザ装置3が、レーザ光Rによって、樹脂基板Pを切断ラインCに沿って切断するとき、溶けた樹脂及びデブリは加工テーブル15の溝15b内に落下して収容される。したがって、それらが加工テーブル15の上面15aに付着しにくい。   Since the groove 15b corresponding to the cutting line C of the resin substrate P is formed on the upper surface 15a of the processing table 15 as described above, the laser device 3 moves the resin substrate P along the cutting line C by the laser light R. When cutting, the melted resin and debris fall into the groove 15b of the processing table 15 and are accommodated. Therefore, they are difficult to adhere to the upper surface 15 a of the processing table 15.

図5を用いて、溝15bをさらに詳細に説明する。図5は、樹脂基板の加工状態を示す模式的断面図である。なお、図5において、図面の簡略化のために、各部分の寸法比は実際とは異なっている。
図5に示すように、溝15bの幅W3は、切断部19の幅W1より広く、樹脂基板Pのレーザ光Rによる熱影響部20の幅W2より広い。熱影響部20とは、レーザ光による熱によって変形する部分をいう。このように溝15bの幅が十分に広いので、溶けた樹脂及びデブリが加工テーブル15の溝15b内に確実に落下する。
一例として、溝15bの幅W3は、3mm程度である。切断部19の幅W1は、20〜30μmである。熱影響部20の幅W2は、200μm程度である
The groove 15b will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a processed state of the resin substrate. In FIG. 5, for simplification of the drawing, the dimensional ratio of each part is different from the actual one.
As shown in FIG. 5, the width W <b> 3 of the groove 15 b is wider than the width W <b> 1 of the cut portion 19 and wider than the width W <b> 2 of the heat affected zone 20 by the laser beam R of the resin substrate P. The heat affected zone 20 refers to a portion that is deformed by the heat of the laser beam. Thus, since the width of the groove 15b is sufficiently wide, the melted resin and debris surely fall into the groove 15b of the processing table 15.
As an example, the width W3 of the groove 15b is about 3 mm. The width W1 of the cutting part 19 is 20 to 30 μm. The width W2 of the heat affected zone 20 is about 200 μm.

2.第2実施形態
第1実施形態では樹脂基板は単層であったが、樹脂基板は複層であってもよい。
図6及び図7を用いて、そのような実施形態を説明する。図6は、第2実施形態の加工テーブル及び樹脂基板の模式的断面図である。図7は、第2実施形態の樹脂基板の加工状態を示す模式的断面図である。
2. Second Embodiment In the first embodiment, the resin substrate is a single layer, but the resin substrate may be a multilayer.
Such an embodiment will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a processing table and a resin substrate according to the second embodiment. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a processed state of the resin substrate of the second embodiment.

樹脂基板P1は、図6に示すように、複層の樹脂からなる複層樹脂基板である。具体的には、樹脂基板P1は、三層構造であり、表側から、第1樹脂層L1と、第2樹脂層L2と、第3樹脂層L3とを有している。
一例として、第1樹脂層L1は、PETを含む。第2樹脂層L2は、PIを含む。第3樹脂層L3は、PETを含む。
一例として、各樹脂層は接着層により互いに接着されている。
一例として、第2樹脂層L2の上面には、回路が形成されている。
As shown in FIG. 6, the resin substrate P1 is a multilayer resin substrate made of a multilayer resin. Specifically, the resin substrate P1 has a three-layer structure, and has a first resin layer L1, a second resin layer L2, and a third resin layer L3 from the front side.
As an example, the first resin layer L1 includes PET. The second resin layer L2 includes PI. The third resin layer L3 includes PET.
As an example, the resin layers are bonded to each other by an adhesive layer.
As an example, a circuit is formed on the upper surface of the second resin layer L2.

最初に、図6に示すように、樹脂基板P1が、加工テーブル15の上面15aに載置される。具体的には、樹脂基板P1の切断ラインCが溝15bに対応するように、樹脂基板Pが載置される。
続いて、図示しない装置によって、樹脂基板P1は、加工テーブル15に対して吸着又は押さえ付けられる。
First, as shown in FIG. 6, the resin substrate P <b> 1 is placed on the upper surface 15 a of the processing table 15. Specifically, the resin substrate P is placed so that the cutting line C of the resin substrate P1 corresponds to the groove 15b.
Subsequently, the resin substrate P <b> 1 is sucked or pressed against the processing table 15 by an apparatus (not shown).

次に、制御部7が、レーザ発振器9を駆動して、樹脂基板P1の切断を実行する(つまり、切断部19が形成される)。図7に示すように、レーザ発振器9は、レーザ光を切断ラインCに沿って移動させることで、樹脂基板P1を複数片に切断する。レーザ光の走査回数は1回でもよいし、複数回でもよい。   Next, the control unit 7 drives the laser oscillator 9 to execute the cutting of the resin substrate P1 (that is, the cutting unit 19 is formed). As shown in FIG. 7, the laser oscillator 9 cuts the resin substrate P1 into a plurality of pieces by moving the laser light along the cutting line C. The number of scans of the laser beam may be one or more times.

上記のように加工テーブル15の上面15aには樹脂基板P1の切断ラインCに対応する溝15bが形成されているので、レーザ装置3が、レーザ光Rによって、樹脂基板P1を切断ラインCに沿って切断するとき、溶けた樹脂及びデブリは加工テーブル15の溝15b内に落下して収容される。したがって、それらが加工テーブル15の上面15aに付着しにくい。   Since the groove 15b corresponding to the cutting line C of the resin substrate P1 is formed on the upper surface 15a of the processing table 15 as described above, the laser device 3 uses the laser light R to cut the resin substrate P1 along the cutting line C. When cutting, the melted resin and debris fall into the groove 15b of the processing table 15 and are accommodated. Therefore, they are difficult to adhere to the upper surface 15 a of the processing table 15.

3.第3実施形態
第1実施形態及び第2実施形態では、加工テーブル内に落下した溶融物やデブリはそのまま堆積した。しかし、それら堆積物を積極的に除去するようにしてもよい。
そのような実施形態を図8及び図9を用いて説明する。図8は、第3実施形態のレーザ加工装置の模式図である。図9は、第3実施形態の加工テーブル及び樹脂基板の平面図である。
3. Third Embodiment In the first embodiment and the second embodiment, the melt and debris dropped in the processing table are deposited as they are. However, these deposits may be positively removed.
Such an embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic diagram of a laser processing apparatus according to the third embodiment. FIG. 9 is a plan view of the processing table and the resin substrate according to the third embodiment.

図8に示すように、レーザ加工装置1は、溝内に気流を発生するためのブロー装置21(空気移動装置の一例)をさらに備えている。
ブロー装置21によって、気流によって、溝15b内の溶けた樹脂やデブリを溝15bから外部に移動させることができる。したがって、溝15b内での上記物質の堆積が防止される。
As shown in FIG. 8, the laser processing apparatus 1 further includes a blow device 21 (an example of an air moving device) for generating an air flow in the groove.
The blowing device 21 can move the melted resin and debris in the groove 15b to the outside from the groove 15b by an air flow. Therefore, the deposition of the substance in the groove 15b is prevented.

図9に示すように、ブロー装置21は、ポンプ等を有する本体21aと、ノズル23と、ホース25を有している。ノズル23は、各溝15bの一端に配置されている。ホース25は、ノズル23と本体21aとを接続している。
ブロー装置21は、さらに、回収装置27を有している。回収装置27は、タンク等を有する本体27aと、ノズル29と、ホース31とを有している。ノズル29は、各溝15bの他端に接続されている。ホース31は、ノズル29と本体27aとを接続している。
上記の構成により、ブロー装置21から供給される空気は溝15b内を通って回収装置27に回収される。これにより、溝15b内の溶けた樹脂やデブリが回収される。特に、樹脂基板Pの加工中に溝15b内の残渣を回収できるというメリットがある。
なお、空気移動装置としては、溝内の空気を吸引する吸引装置でもよい。
As shown in FIG. 9, the blow device 21 includes a main body 21 a having a pump and the like, a nozzle 23, and a hose 25. The nozzle 23 is disposed at one end of each groove 15b. The hose 25 connects the nozzle 23 and the main body 21a.
The blow device 21 further has a collection device 27. The collection device 27 includes a main body 27 a having a tank or the like, a nozzle 29, and a hose 31. The nozzle 29 is connected to the other end of each groove 15b. The hose 31 connects the nozzle 29 and the main body 27a.
With the above configuration, the air supplied from the blow device 21 passes through the groove 15b and is recovered by the recovery device 27. Thereby, the melted resin and debris in the groove 15b are recovered. In particular, there is an advantage that the residue in the groove 15b can be collected during the processing of the resin substrate P.
The air moving device may be a suction device that sucks air in the groove.

4.他の実施形態
以上、本発明の複数の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
レーザ装置、機械駆動系の具体的な構成は、前記実施形態に限定されない。
樹脂基板の切断形状は特に限定されない。
4). Other Embodiments Although a plurality of embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
The specific configurations of the laser device and the mechanical drive system are not limited to the above embodiments.
The cutting shape of the resin substrate is not particularly limited.

本発明は、レーザ光を照射することで樹脂基板を切断するレーザ加工装置に広く適用できる。     The present invention can be widely applied to a laser processing apparatus that cuts a resin substrate by irradiating a laser beam.

1 :レーザ加工装置
3 :レーザ装置
5 :機械駆動系
7 :制御部
9 :レーザ発振器
11 :伝送光学系
13 :ベッド
15 :加工テーブル
15a :上面
15b :溝
17 :移動装置
21 :ブロー装置
21a :本体
23 :ノズル
25 :ホース
27 :回収装置
27a :タンク
29 :ノズル
C :切断ライン
L1 :第1樹脂層
L2 :第2樹脂層
L3 :第3樹脂層
P :樹脂基板
P1 :樹脂基板
1: Laser processing device 3: Laser device 5: Machine drive system 7: Control unit 9: Laser oscillator 11: Transmission optical system 13: Bed 15: Processing table 15a: Upper surface 15b: Groove 17: Moving device 21: Blow device 21a: Main body 23: Nozzle 25: Hose 27: Recovery device 27a: Tank 29: Nozzle C: Cutting line L1: First resin layer L2: Second resin layer L3: Third resin layer P: Resin substrate P1: Resin substrate

Claims (3)

樹脂基板を切断するためのレーザ加工装置であって、
前記樹脂基板を切断するためのレーザ光を発生するレーザ装置と、
前記樹脂基板が置かれる上面を有しており、前記上面には前記樹脂基板の切断ラインに対応する溝が形成されている、加工テーブルと、
を備えたレーザ加工装置。
A laser processing apparatus for cutting a resin substrate,
A laser device that generates laser light for cutting the resin substrate;
A processing table having a top surface on which the resin substrate is placed, and a groove corresponding to a cutting line of the resin substrate is formed on the top surface;
A laser processing apparatus comprising:
前記溝の幅は、前記樹脂基板の前記レーザ光による熱影響幅より広い、請求項1に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 1, wherein a width of the groove is wider than a thermal influence width of the resin substrate by the laser beam. 前記溝内の空気を移動させるための空気移動装置をさらに備えている、請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising an air moving device for moving the air in the groove.
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