JP2017534816A - ガス流を制御するためのデバイス、デバイスを利用するシステム及び方法 - Google Patents
ガス流を制御するためのデバイス、デバイスを利用するシステム及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017534816A JP2017534816A JP2017521626A JP2017521626A JP2017534816A JP 2017534816 A JP2017534816 A JP 2017534816A JP 2017521626 A JP2017521626 A JP 2017521626A JP 2017521626 A JP2017521626 A JP 2017521626A JP 2017534816 A JP2017534816 A JP 2017534816A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- environment
- gas flow
- nanohole
- nanoholes
- controlling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 51
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000002907 paramagnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 claims 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000002405 diagnostic procedure Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000013475 authorization Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000002650 habitual effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K99/0001—Microvalves
- F16K99/0003—Constructional types of microvalves; Details of the cutting-off member
- F16K99/0005—Lift valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K99/0001—Microvalves
- F16K99/0003—Constructional types of microvalves; Details of the cutting-off member
- F16K99/0005—Lift valves
- F16K99/0007—Lift valves of cantilever type
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K99/0001—Microvalves
- F16K99/0003—Constructional types of microvalves; Details of the cutting-off member
- F16K99/0028—Valves having multiple inlets or outlets
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K99/0001—Microvalves
- F16K99/0034—Operating means specially adapted for microvalves
- F16K99/0042—Electric operating means therefor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K99/0001—Microvalves
- F16K99/0034—Operating means specially adapted for microvalves
- F16K99/0042—Electric operating means therefor
- F16K99/0046—Electric operating means therefor using magnets
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F16K2099/0082—Microvalves adapted for a particular use
- F16K2099/0084—Chemistry or biology, e.g. "lab-on-a-chip" technology
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Mechanically-Actuated Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Lift Valve (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ガス流を制御するためのデバイスと方法、特に、ガスマイクロ流を制御することができるデバイスと方法の分野に関する。
数多くのガス流制御装置が知られている。広い意味で、全てのバルブシステムがこのカテゴリーに関連しているかもしれない。
小型のものでさえ、小さいが、まだ粘性領域内である流れの制御を許可する。このことは、これらの周知のシステムにおいて、流れの制御及び/又は測定における分解能と精度が、粘性流であって、管理できる最小の流れの精度に限定されることもまた含んでいる。
(詳細の説明)
他のナノホール20に関して、個々にそして独立した方法で、開放されるか又は閉鎖されてもよい。
そして、方法は、第1環境A1と第2環境A2の間で望まれる圧力勾配を得るために、第1環境と第2環境それぞれに関する、圧力センサー50によって測定される圧力値に基づく、調節インターフェース2を通るガス流を制御するステップを含む。
Claims (25)
- ガス流を制御するためのデバイス(1)であって、
制御された方法で、前記デバイス(1)を通るガス流を抑制又は許可するように構成されるガス流調節インターフェース(2)と、
調節インターフェース制御手段(3、4)と、
を備え、
前記調節インターフェース(2)は、複数のナノホール(20)を含み、各々の前記ナノホールは、サブミクロンのサイズを有し、制御された方法で、開放されるか又は閉鎖されるのに適しており、
前記制御手段(3、4)は、
前記ナノホールを開放するか又は閉鎖するのに適した作動手段(3)と、
制御された方法で、個々に又は集合的に、前記ナノホール(20)を開放するか又は閉鎖するために、前記作動手段を起動させるように構成される、電子処理手段(4)と、
を備える、デバイス(1)。 - 各々の前記ナノホール(20)は、開放されている時、大気圧以上の状態でさえ、分子又は支配的な分子領域でガスマイクロ流を許可するように、そして、閉鎖されている時、前記ガスマイクロ流を抑制するように構成され、そのため、前記調節インターフェース(2)を通過する全体の前記ガス流は、開放された前記ナノホール(20)を通過する、分子又は支配的な分子領域でのマイクロ流の総和である、請求項1に記載のデバイス(1)。
- 前記デバイス(1)は、集積化デバイス(1)である、請求項1又は2に記載のデバイス(1)。
- 前記調節インターフェース(2)と前記制御手段(3、4)は、前記集積化デバイス(1)の1つの小型チップ(10)に含まれる、請求項3に記載のデバイス。
- 前記処理手段(4)は、前記作動手段(3)を制御するように構成され、そのため、各々のナノホール(20)は、個々にそして他の前記ナノホール(20)に関して独立した方法で、開放されるか又は閉鎖され得る、請求項1から4のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 各々のナノホール(20)は、規定された形状と、確定的に測定可能なコンダクタンスを有する、請求項1から5のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 各々のナノホール(20)は、10nmから100nmの範囲に含まれる直径を有する、請求項1から6のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 前記調節インターフェース(2)は、1以上の流れ制御ウィンドウを含み、各々のウィンドウは前記ナノホール(20)が得られる膜(21)を含み、前記ナノホール(20)は、行と列の2次元配列に従って配置され、前記ナノホール(20)の数は100オーダーである、請求項1から7のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 前記作動手段(3)は、前記ナノホール(20)のコンダクタンスを最大又は最小にするために、複数の小型ナノホール開閉要素(30)を含み、各々の前記要素(30)は、対応するナノホール(20)をそれぞれ開放するか又は閉鎖するのに適している、請求項1から8のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 各々の小型開閉要素(30)は、前記ナノホールに関する軸方向の動きによって、対応する前記ナノホール(20)を閉鎖するか又は開放するように、電気機械的に作動可能なプラグ(31)を含み、
前記プラグ(31)は、
前記閉鎖の動きにおいて、前記プラグ(31)が位置している、前記調節インターフェース(2)の面上の、前記ナノホール(20)の出口を完全にふさぐために、前記ナノホール(20)よりも大きなサイズを有する、ベース(310)と、
前記閉鎖の動きにおいて、前記ナノホール(20)に入り込むのに適している、前記ベース(310)と一体的なチップ(311)と、
を含む、請求項9に記載のデバイス(1)。 - 各々の小型開閉要素(30)は、
対応する前記ナノホール(20)の直径と概ね等しい直径を有するシリンダー(32)であって、前記ナノホールに関する軸方向の動きによって、対応する前記ナノホール(20)に差し込まれるか又は対応する前記ナノホール(20)から引き抜かれるように、電磁気的に作動することができる前記シリンダー(32)と、
複数のソレノイド(320)であって、各々のソレノイド(320)は、対応するナノホール(20)と対応するシリンダー(32)に同軸上に関連付けられている、複数のソレノイド(320)と、
を含み、
各々のシリンダー(32)は、前記ソレノイド(320)によって発生した磁場に対して感度がよいように、そして、前記磁場の作用として動くように、強磁性又は常磁性材料で作られる部品を含む、
請求項9に記載のデバイス(1)。 - 各々の開閉要素(30)は、振動する先端に、前記ナノホール(20)に差し込まれるか又は前記ナノホール(20)から引き抜かれるのに適した、概ね円錐のマイクロチップ(330)を有する、マイクロカンチレバー(33)を含み、前記マイクロカンチレバー(33)は、前記マイクロチップ(330)が前記ナノホール(20)に入ってそれを閉鎖する閉鎖位置と、前記マイクロチップ(330)が前記ナノホール(20)を抜け出てそれを開放する開放位置との間で振動するように、電気機械的に作動することができる、請求項9に記載のデバイス(1)。
- 前記作動手段(3)は、前記調節インターフェース(2)の全ての前記ナノホール(20)を同時に開閉するように構成される、複合的な開閉振動をする平面要素(35)を含み、
1つの前記小型ナノホール開閉要素(30)は前記平面要素(35)の片方の面で、前記ナノホール(20)の配列に対応する配列で配置され、そのため、各々の小型開閉要素(30)は、前記平面要素(35)の対応する動きにおいて、同時に、対応する前記ナノホール(20)に差し込まれるか又は対応する前記ナノホール(20)から引き抜かれる、
請求項9に記載のデバイス(1)。 - 前記作動手段(3)は、前記調節インターフェース(2)の片方の面に配置され、前記面に対応する各々のナノホール(20)の前記開口部を開閉するように構成されるか、又は、前記調節インターフェース(20)の両方の面に配置され、前記調節インターフェース(2)の両方の面に対応する各々のナノホール(20)の両方の開口部を開閉するように構成される、請求項9から13のいずれか一項にデバイス(1)。
- 前記小型開閉要素(30)は、さらに、閉鎖とそれに続く開放の、各々の動作事象において、又は、特定の非閉鎖の開閉事象において、起こりうる閉鎖に関する各々のナノホール(20)を掃除してきれいにするように構成される、請求項9から14のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 前記電子処理手段(4)は、
電子信号を送ることによって前記作動手段(3)を制御するために、前記作動手段(3)に電子的に動作的に接続される、プロセッサー(40)と、
複数のナノホールに関する開閉制御信号を受信するために、前記プロセッサー(40)に動作的に接続される、バッファと、
前記開閉制御信号を連続して受信するために、前記バッファに動作的に接続され、そして、複数のナノホールに関する、対応する開閉駆動信号を連続的に発生させるように構成される駆動要素(41)と、
前記開閉駆動信号を連続して受信するために、前記駆動要素(41)に動作的に接続され、そして、各々の開閉駆動信号を、前記複数のナノホールの、対応するナノホール(20)に向けるように構成される、マルチプレクサー(42)と、
を含む、請求項1から15のいずれか一項に記載のデバイス(1)。 - 前記制御手段(3、4)は、開閉ナノホール(20)の前記パターンを決定することによって、開閉ナノホールの数と位置によって、又は、前記ナノホール(2)の前記開放時間と閉鎖時間の間の関係又は前記動作サイクルを決定することによって、前記ナノホール(20)を通過する、前記マイクロ流に対応する精密さと細かさで、前記調節インターフェース(2)を通過する前記ガス流を制御するように構成される、請求項1から16のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 封止補助を含み、前記調節インターフェース(2)を組み入れ、異なる圧力を有する環境に直面するのに適した、前記補助の2つの反対側の前記面との間で可能な唯一の前記流れが、前記調節インターフェースを通した制御された前記流れであるように構成され、さらに、前記封止補助に関して反対の面で、対応する圧力値を測定し、測定された前記圧力値を前記処理手段(4)に提供するように構成される、2つの対応する小型圧力センサー(50)を含む、請求項1から17のいずれか一項に記載のデバイス(1)。
- 第1圧力(P1)下の第1環境(A1)と、前記第1圧力(P1)よりも低い第2圧力(P2)下の第2環境(A2)との間のガスサンプリングのためのシステム(100)であって、
ガス流を制御するための少なくとも1つの、請求項1〜18のいずれか一項に記載のデバイス(1)と、
対応する少なくとも1つの前記デバイス(1)を収納するのに適しており、そのため、前記第1(A1)と前記第2(A2)環境の間の流体のやりとりが、ガス流(F)を通してのみ、つまり、ガス流を制御するための少なくとも1つの前記デバイス(1)の前記調節インターフェース(2)を通してのみ起こりうる、前記第1環境(A1)と第2環境(A2)の間の、少なくとも1つの分離構造(101)と、
前記第2環境で望まれる一定の圧力(P2)を保つために、前記第2環境(A2)からガスを排出するように構成される、ポンプ手段(102)と、
より低い圧力下(P2)であるが、前記第1環境(A1)に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度を、前記第2環境(A2)で再生するために、ガス流を制御するための少なくとも1つの前記デバイス(1)の前記制御手段(3、4)と、前記ポンプ手段(102)に、動作的に接続され、ガス流を制御するための少なくとも1つの前記デバイス(1)と前記ポンプ手段(102)を制御するように構成される、システム制御手段(103)と、
を備える、ガスサンプリングのためのシステム(100)。 - 前記第1環境の前記圧力値(P1)から前記第2環境の前記圧力値(P2)に至るまで、次第に低下する圧力下の、前記第1環境(A1)と前記第2環境(A2)の間の複数の中間環境(An、Am)を規定するために、複数のデバイス(1)と対応する複数の分離構造(101)を備え、2つの連続した中間環境間の前記ガス流(Fnm)は、分子又は支配的な分子領域であり、そのため、各々の前記中間環境に存在する、前記ガスの濃度は、前記第1環境(A1)に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度である、請求項19に記載のシステム(100)。
- 第1環境(A1)と第2環境(A2)の間に存在する、前記圧力勾配を制御するための、システム(200)であって、
ガス流を制御するための少なくとも1つの、請求項18に記載のデバイス(1)と、
ガス流を制御するための少なくとも1つのデバイス(1)を収納するのに適しており、そのため、前記第1(A1)と前記第2(A2)環境間の流体のやりとりが、ガス流(F)によってのみ、つまり、ガス流を制御するための少なくとも1つの前記デバイス(1)の前記調節インターフェース(2)を通してのみ起こりうる、前記第1環境(A1)と第2環境(A2)の間の分離構造(101)と、
を備え、
ガス流を制御するための少なくとも1つの前記デバイス(1)の前記制御手段(3、4)は、前記第1(A1)と前記第2(A2)環境間で望まれる圧力勾配を得るように、前記第1(A1)と前記第2(A2)環境のそれぞれに関する、前記調節インターフェース(2)の2つの面で存在する前記圧力センサー(50)によって測定される前記圧力値に基づいて、前記調節インターフェース(2)を通る前記ガス流を制御するように構成される、
前記圧力勾配を制御するためのシステム(200)。 - マイクロ流に対応する分解能で、ガス流を制御するための方法において、
対応するマイクロ流の前記通過を抑制又は許可するために、サブミクロンのサイズを有する複数のナノホール(20)を備え、各々の前記ナノホールは開放されるか又は閉鎖されるのに適している、ガス流調節インターフェース(2)を通過するための、制御された方法での、ガス流を抑制又は許可するステップを含み、
前記抑制又は許可のステップは、各々の前記ナノホール(20)の前記開放又は閉鎖の、個々の又は集合的な、制御を含み、そのため、前記調節インターフェースを通過する全体の前記ガス流が、開放された前記ナノホールを通過する前記マイクロ流の総和である、
ガス流を制御するための方法。 - マイクロ流に対応する分解能で、ガス流を測定するための方法であって、
制御された方法での、ガス流調節インターフェース(2)を通した前記ガス流の前記通過の抑制又は許可において、対応するマイクロ流の前記通過を抑制又は許可し、開放された前記ナノホールを通過する前記マイクロ流の総和に対応する出力ガス流を発生させるために、開放され閉鎖され得る、サブミクロンのサイズを有する複数のナノホール(20)を備え、各々の前記ナノホールは開放されるか又は閉鎖されるのに適している、前記ガス流の前記通過を抑制又は許可するステップと、
前記出力ガス流を測定するステップと、
を含む、ガス流を測定するための方法。 - 第1環境の圧力よりも低い圧力下の、前記第1環境(A1)と第2環境(A2)との間のガスをサンプリングするための方法であって、
ガス流を制御するための少なくとも1つの、請求項1から18のいずれか一項に記載のデバイス(1)が収納される分離構造(101)による、前記第1環境(A1)と第2環境(A2)を分離するステップと、
ガス流を通してのみ、つまり、ガス流を制御するための、少なくとも1つの前記デバイス(1)の前記調節インターフェース(2)を通してのみの、前記第1(A1)と前記第2(A2)環境との間の流体のやりとりを許可するステップと、
前記第2環境(A2)で、望まれる一定の圧力(P2)を保つための、前記第2環境(A2)からのガスを排出するステップと、
前記第2環境(A2)で、より低い圧力(P2)であるが、前記第1環境(A1)に存在する、前記ガスの濃度と同一濃度を再生するための、前記調節インターフェース(2)を通した、前記ガス流の制御と、前記第2環境(A2)からの前記ガス排出を制御するステップと、
を含む、ガスをサンプリングするための方法。 - 第1環境(A1)と第2環境(A2)の間に存在する、前記圧力勾配を制御するための方法であって、
ガス流を制御するための少なくとも1つの、請求項18に記載のデバイス(1)が収納される、分離構造(101)による前記第1環境(A1)と第2環境(A2)を分離するステップと、
前記第1(A1)と前記第2(A2)環境の間で望まれる圧力勾配を得るための、前記第1と前記第2環境それぞれに関する、前記調節インターフェース(2)の2つの前記面で存在する前記圧力センサ(50)によって測定される前記圧力値に基づく、前記調節インターフェース(2)を通した前記ガス流を制御するステップと、
を含む、前記圧力勾配を制御するための方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ITMI20141227 | 2014-07-07 | ||
ITMI2014A001227 | 2014-07-07 | ||
PCT/IB2015/054991 WO2016005863A1 (en) | 2014-07-07 | 2015-07-02 | Device for controlling a gaseous flow and systems and methods employing the device |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017534816A true JP2017534816A (ja) | 2017-11-24 |
JP2017534816A5 JP2017534816A5 (ja) | 2018-08-09 |
JP6805138B2 JP6805138B2 (ja) | 2020-12-23 |
Family
ID=51628286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017521626A Active JP6805138B2 (ja) | 2014-07-07 | 2015-07-02 | ガス流を制御するためのデバイス、デバイスを利用するシステム及び方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10781939B2 (ja) |
EP (1) | EP3167217B1 (ja) |
JP (1) | JP6805138B2 (ja) |
CN (1) | CN106605091B (ja) |
BR (1) | BR112017000230B1 (ja) |
RU (1) | RU2716837C2 (ja) |
WO (1) | WO2016005863A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR112017000230B1 (pt) * | 2014-07-07 | 2022-11-29 | Nanotech Analysis S.R.L.S. | Dispositivo de controle de fluxo gasoso, sistemas e métodos que empregam o dispositivo |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0379879A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-04-04 | Burkert Gmbh Werk Ingelfingen | マイクロ弁およびその製造方法 |
JPH0878340A (ja) * | 1994-09-06 | 1996-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | 流速分布制御装置 |
JP2001272127A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 極低温冷凍機 |
JP2002036196A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光駆動型集積化学システム |
JP2004324886A (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-18 | Lg Electron Inc | 流量制御弁装置とその製造方法およびこれを用いた熱交換装置 |
JP2005534111A (ja) * | 2002-07-19 | 2005-11-10 | マイクロリス・コーポレーション | 液体流量制御器および精密分注装置およびシステム |
WO2006104639A2 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Stanford University | Device comprising array of micro-or nano-reservoirs |
JP2008503876A (ja) * | 2004-06-14 | 2008-02-07 | ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・レランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ | 双安定小型弁 |
JP2009507193A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-02-19 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 流体装置におけるバルブの機械的作動に対する方法及び装置 |
US20090137874A1 (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-28 | The Hong Kong Polytechnic University | Polymer Microvalve with actuators and devices |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5964242A (en) | 1998-01-23 | 1999-10-12 | Aesop, Inc. | Method of and apparatus for substance processing with small opening gates actuated and controlled by large displacement members having fine surface finishing |
US6929030B2 (en) * | 1999-06-28 | 2005-08-16 | California Institute Of Technology | Microfabricated elastomeric valve and pump systems |
GB2411046B (en) | 2004-02-12 | 2006-10-25 | Microsaic Systems Ltd | Mass spectrometer system |
GB2414059B (en) * | 2004-05-10 | 2008-06-11 | E2V Tech Uk Ltd | Microfluidic device |
US8628729B2 (en) * | 2008-03-27 | 2014-01-14 | President And Fellows Of Harvard College | Three-dimensional microfluidic devices |
DE102009023430B4 (de) * | 2009-05-29 | 2013-07-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung und Verfahren zum Steuern von Fluidströmen in Lab-on-a-Chip-Systemen sowie Verfahren zum Herstellen der Vorrichtung |
IT1400850B1 (it) * | 2009-07-08 | 2013-07-02 | Varian Spa | Apparecchiatura di analisi gc-ms. |
TWI435196B (zh) * | 2009-10-15 | 2014-04-21 | Pivotal Systems Corp | 氣體流量控制方法及裝置 |
US8646479B2 (en) * | 2010-02-03 | 2014-02-11 | Kci Licensing, Inc. | Singulation of valves |
US9328849B2 (en) * | 2010-09-14 | 2016-05-03 | Xingyue Peng | Microdevice structure of microchannel chip |
US9829451B2 (en) | 2011-10-09 | 2017-11-28 | Simon Fraser University | Microfluidic reconfiguration device for multi-plexed sample analysis |
CN104912779A (zh) * | 2014-03-10 | 2015-09-16 | 松下知识产权经营株式会社 | 微泵和微阀的驱动装置以及使用该驱动装置的微流体设备 |
BR112017000230B1 (pt) * | 2014-07-07 | 2022-11-29 | Nanotech Analysis S.R.L.S. | Dispositivo de controle de fluxo gasoso, sistemas e métodos que empregam o dispositivo |
WO2016005865A1 (en) * | 2014-07-07 | 2016-01-14 | Nanotech Analysis S.R.L.S. | Device for generating a composition-controlled and intensity-controlled ionic flow and related method |
-
2015
- 2015-07-02 BR BR112017000230-2A patent/BR112017000230B1/pt active IP Right Grant
- 2015-07-02 US US15/322,791 patent/US10781939B2/en active Active
- 2015-07-02 RU RU2017103498A patent/RU2716837C2/ru active
- 2015-07-02 CN CN201580047917.XA patent/CN106605091B/zh active Active
- 2015-07-02 WO PCT/IB2015/054991 patent/WO2016005863A1/en active Application Filing
- 2015-07-02 EP EP15753765.5A patent/EP3167217B1/en active Active
- 2015-07-02 JP JP2017521626A patent/JP6805138B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0379879A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-04-04 | Burkert Gmbh Werk Ingelfingen | マイクロ弁およびその製造方法 |
JPH0878340A (ja) * | 1994-09-06 | 1996-03-22 | Olympus Optical Co Ltd | 流速分布制御装置 |
JP2001272127A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 極低温冷凍機 |
JP2002036196A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光駆動型集積化学システム |
JP2005534111A (ja) * | 2002-07-19 | 2005-11-10 | マイクロリス・コーポレーション | 液体流量制御器および精密分注装置およびシステム |
JP2004324886A (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-18 | Lg Electron Inc | 流量制御弁装置とその製造方法およびこれを用いた熱交換装置 |
JP2008503876A (ja) * | 2004-06-14 | 2008-02-07 | ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・レランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ | 双安定小型弁 |
WO2006104639A2 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Stanford University | Device comprising array of micro-or nano-reservoirs |
JP2009507193A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-02-19 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 流体装置におけるバルブの機械的作動に対する方法及び装置 |
US20090137874A1 (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-28 | The Hong Kong Polytechnic University | Polymer Microvalve with actuators and devices |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106605091A (zh) | 2017-04-26 |
EP3167217B1 (en) | 2020-07-22 |
BR112017000230B1 (pt) | 2022-11-29 |
CN106605091B (zh) | 2019-08-30 |
RU2017103498A3 (ja) | 2019-02-07 |
RU2017103498A (ru) | 2018-08-02 |
US20170130870A1 (en) | 2017-05-11 |
US10781939B2 (en) | 2020-09-22 |
JP6805138B2 (ja) | 2020-12-23 |
BR112017000230A2 (pt) | 2018-01-16 |
WO2016005863A1 (en) | 2016-01-14 |
EP3167217A1 (en) | 2017-05-17 |
RU2716837C2 (ru) | 2020-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Tanyeri et al. | A microfluidic-based hydrodynamic trap: design and implementation | |
Chen et al. | Microfluidic cell sorter with integrated piezoelectric actuator | |
CN105026936B (zh) | 单细胞的机械表型化:高通量定量检测和分选 | |
JPH11345027A (ja) | 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備 | |
JP6727198B2 (ja) | デジタル的に実装された位相ロックループアレイを用いる多数の共振の同時振動および周波数追跡 | |
US8631685B2 (en) | Method and apparatus for extended time and varying environment measurements of single particles in microfluidic channels | |
Qin et al. | Acoustic valves in microfluidic channels for droplet manipulation | |
Tanaka | Electric actuating valves incorporated into an all glass-based microchip exploiting the flexibility of ultra thin glass | |
Oskooei et al. | Bubble gate for in-plane flow control | |
JP2017534816A (ja) | ガス流を制御するためのデバイス、デバイスを利用するシステム及び方法 | |
US11624741B2 (en) | Sensor arrangement and method for sensing an amount or a concentration of a target fluid in a medium with the sensor arrangement | |
Robertson et al. | A low pressure micromachined flow modulator | |
Collier et al. | Development of a rapid-response flow-control system using MEMS microvalve arrays | |
Yu et al. | μ-‘Diving suit’for liquid-phase high-Q resonant detection | |
JP2017534816A5 (ja) | ||
US10229809B2 (en) | Device for generating a composition-controlled and intensity-controlled ionic flow and related method | |
JP2008008347A (ja) | マイクロバルブ | |
JP2007255433A (ja) | 流量調整器 | |
Tonomura et al. | High-throughput single-particle detections using a dual-height-channel-integrated pore | |
WO2018066597A1 (ja) | サンプルの分析方法、及びサンプル分析用デバイス | |
CN112204254A (zh) | 泵送结构、粒子检测器和泵送方法 | |
Groen et al. | Proportional control valves integrated in silicon nitride surface channel technology | |
KR20180062827A (ko) | 수두 펌프를 갖는 미세유체 제어 시스템 | |
JP2570615Y2 (ja) | ドライエッチング装置のエッチャントガス微量供給装置 | |
NO323259B1 (no) | Miniatyr-gassensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180626 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180626 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190604 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200204 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200422 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200701 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6805138 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |