JP2017532788A - 調整可能ガスフロー制御のためのガス分離器を含むガス供給配送配置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (31)
- 少なくとも第1の、第2の、及び第3のガス注入ゾーンを通して導入されるガスによって半導体基板が処理されるプラズマ処理システムのチャンバにプロセスガスを供給するためのガス供給配送配置であって、
複数のプロセスガス供給入口及び複数の調整ガス入口と、
それぞれのプロセスガス供給部との流体連通を提供するように各自適応される複数のガス供給スティックを含む混合マニホールドと、
それぞれの調整ガス供給部との流体連通を提供するように各自適応される複数の調整ガススティックと、
前記第1のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第1のガス出口、前記第2のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第2のガス出口、及び前記第3のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第3のガス出口と、
前記混合マニホールドと流体連通しているガス分離器であって、前記混合マニホールドから出る混合ガスを、前記第1のガス出口に供給できる第1の混合ガスと、前記第2の及び/又は第3のガス出口に供給できる第2の混合ガスとに分離する第1のバルブ配置を含むガス分離器と、
前記調整ガススティックから前記第1の、第2の、及び/又は第3のガス出口へ調整ガスを選択式に配送する第2のバルブ配置と、
を備えるガス供給配送配置。 - 請求項1に記載のガス供給配送配置であって、
前記第2のバルブ配置は、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第1の調整ガス導管へ第1の調整ガスを選択的に配送する第1のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第2の調整ガス導管へ第2の調整ガスを選択的に配送する第2のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第3の調整ガス導管へ第3の調整ガスを選択的に配送する第3のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第4の調整ガス導管へ第4の調整ガスを選択的に配送する第4のバルブセットとを含む、ガス供給配送配置。 - 請求項2に記載のガス供給配送配置であって、
前記第2のバルブセットは、前記第1の、第2の、第3の、及び第4の調整ガススティックを前記混合マニホールド及び/又はパージラインに選択的に接続するバルブを含む、ガス供給配送配置。 - 請求項2に記載のガス供給配送配置であって、
前記第1のバルブ配置は、前記第1の混合ガスの比率を精密に制御して前記第1の混合ガスを前記第1のガス出口へ配送するための、限界オリフィスを伴う第1のバルブセットと、前記第2の混合ガスの比率を制御して前記第2の混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送するための、限界オリフィスを伴う第2のバルブセットと、前記混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送する第3のバルブセットとを含む、ガス供給配送配置。 - 請求項1に記載のガス供給配送配置であって、
前記第1のバルブ配置は、前記第1の混合ガスを前記第1のガス出口のみへ配送し、前記第2の混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口のみへ配送する、ガス供給配送配置。 - 請求項1に記載のガス供給配送配置を備えるプラズマ処理システムであって、
チャンバと、
前記チャンバの中の、半導体基板が上で処理される基板サポートと、
前記ガス供給配送システムの前記ガス出口に接続されたガス注入システムと、
前記チャンバを所望の真空圧力に維持するように動作可能である真空源と、
前記チャンバ内のガスをプラズマ状態に活性化するように動作可能である電力源と、
を備え、前記ガス注入システムは、前記ガス供給配送配置から前記半導体基板の上方の少なくとも第1の、第2の、及び第3のゾーンへガスを配送する、プラズマ処理システム。 - 請求項6に記載のプラズマ処理システムであって、
前記第1のゾーンは、前記半導体基板の中央ゾーンであり、前記第2のゾーンは、前記中央ゾーンを取り巻く中間ゾーンであり、前記第3のゾーンは、前記中間ゾーンを取り巻く縁ゾーンである、プラズマ処理システム。 - 請求項6に記載のプラズマ処理システムであって、
前記チャンバは、前記ガス注入システムがガス分配板である誘導結合プラズマ処理チャンバである、プラズマ処理システム。 - 請求項6に記載のプラズマ処理システムであって、
前記チャンバは、前記ガス注入システムがシャワーヘッド電極である容量結合プラズマ処理チャンバである、プラズマ処理システム。 - 少なくとも第1の、第2の、及び第3のガス注入ゾーンを通して導入されるガスによって半導体基板が処理されるプラズマ処理システムのチャンバにプロセスガスを供給するためのガス供給配送配置を使用する方法であって、前記ガス供給配送配置は、複数のプロセスガス供給入口及び複数の調整ガス入口と、それぞれのプロセスガス供給部との流体連通を提供するように各自適応される複数のガス供給スティックを含む混合マニホールドと、それぞれの調整ガス供給部との流体連通を提供するように各自適応される複数の調整ガススティックと、前記第1のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第1のガス出口、前記第2のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第2のガス出口、及び前記第3のガス注入ゾーンへガスを配送するように適応される第3のガス出口と、前記混合マニホールドと流体連通しているガス分離器であって、前記混合マニホールドから出る混合ガスを、前記第1のガス出口に供給できる第1の混合ガスと、前記第2の及び/又は第3のガス出口に供給できる第2の混合ガスとに分離する第1のバルブ配置を含むガス分離器と、前記調整ガススティックから前記第1の、第2の、及び/又は第3のガス出口へ調整ガスを選択式に配送する第2のバルブ配置とを含み、
前記方法は、
前記第1の混合ガスを前記第1のガス出口へ配送するように、並びに前記第2の混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送するように、前記第1のバルブ配置を動作させることと、
1つ以上の調整ガスを前記第1の、第2の、及び/又は第3のガス出口へ配送するように、前記第2のバルブ配置を動作させることと、
を備える方法。 - 請求項10に記載の方法であって、
前記第2のバルブ配置は、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第1の調整ガス導管へ第1の調整ガスを選択的に配送する第1のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第2の調整ガス導管へ第2の調整ガスを選択的に配送する第2のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第3の調整ガス導管へ第3の調整ガスを選択的に配送する第3のバルブセットと、前記第1のガス出口、前記第2のガス出口、前記第3のガス出口、又はこれらの組み合わせと流体連通している第4の調整ガス導管へ第4の調整ガスを選択的に配送する第4のバルブセットとを含み、
前記方法は、前記ガス分離器を迂回しつつ、前記少なくとも1つの調整ガスを前記第1の、第2の、及び/又は第3のガス出口へ配送することを備える方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記第2のバルブセットは、前記第1の、第2の、第3の、及び第4の調整ガススティックを前記混合マニホールド及び/又はパージラインに選択的に接続するバルブを含み、
前記方法は、各調整ガスを前記パージライン又は前記混合マニホールドのいずれかへ配送することを備える方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記第1のバルブ配置は、前記第1の混合ガスの比率を精密に制御して前記第1の混合ガスを前記第1のガス出口へ配送するための、限界オリフィスを伴う第1のバルブセットと、前記第2の混合ガスの比率を制御して前記第2の混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送するための、限界オリフィスを伴う第2のバルブセットと、前記混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送する第3のバルブセットとを含み、
前記方法は、
前記第1のバルブセットを、前記第1の混合ガスを前記第1のガス出口へ配送するように動作させることと、
前記第2のバルブセットを、前記第2の混合ガスを前記第2の及び/又は第3のガス出口へ配送するように動作させることと、
を備える方法。 - 請求項10に記載の方法であって、
前記第1の混合ガスが前記第1のガス出口のみへ配送され、前記第2の混合ガスが前記第2の及び/又は第3のガス出口のみへ配送されるように、コントローラが、前記第1のバルブ配置のバルブを動作させる、方法。 - 請求項10に記載の方法であって、
前記プラズマ処理システムは、チャンバと、前記チャンバの中の、半導体基板が上で処理される基板サポートと、前記ガス供給配送システムの前記ガス出口に接続されたガス注入システムと、前記チャンバを所望の真空圧力に維持するように動作可能である真空源と、前記チャンバ内のガスをプラズマ状態に活性化するように動作可能である電力源とを含み、前記ガス注入システムは、前記ガス供給配送配置から前記半導体基板の上方の少なくとも第1の、第2の、及び第3のゾーンへガスを配送し、
前記方法は、前記第1の及び第2のバルブ配置を、プロセスガス及び調整ガスを前記第1の、第2の、及び第3のゾーンへ配送するように動作させることを備える方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記第1のゾーンは、前記半導体基板の中央ゾーンであり、前記第2のゾーンは、前記中央ゾーンを取り巻く中間ゾーンであり、前記第3のゾーンは、前記中間ゾーンを取り巻く縁ゾーンであり、
前記方法は、前記調整ガス及び混合ガスを前記中央ゾーン、中間ゾーン、及び縁ゾーンへ配送することを備える方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記チャンバは、前記ガス注入システムがガス分配板である誘導結合プラズマ処理チャンバであり、
前記方法は、アンテナを活性化させて前記チャンバ内へRFエネルギを結合することによって前記チャンバの中でプラズマを発生させることを備える方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
前記チャンバは、前記ガス注入システムがシャワーヘッド電極である容量結合プラズマ処理チャンバであり、
前記方法は、前記シャワーヘッド電極にRFエネルギを供給することによって前記チャンバの中でプラズマを発生させることを備える方法。 - 請求項6に記載の半導体基板処理装置におけるウエハ処理の均一性を最適化する方法であって、
プロセスレシピにしたがって、前記複数のガス注入ゾーンのそれぞれを通してガス組成及びガス流量を供給しつつ、前記半導体基板処理装置の中でテストウエハをエッチングすることであって、前記ガス組成及び/又はガス流量は、前記ガス分離器によって制御される、エッチングすることと、
前記テストウエハの表面にわたるそれぞれのゾーンのエッチング速度を決定するために、前記テストウエハの表面のエッチング均一性を測定することと、
前記プロセスレシピを修正することであって、前記ガス注入ゾーンのうちの1つ以上における前記ガス組成及び/又はガス流量が調節され、前記ガス組成及び/又はガス流量は、前記ガス分離器によって制御される、修正することと、
前記修正されたプロセスレシピにしたがって、前記1つ以上のガス注入ゾーンの前記調節されたガス組成及び/又はガス流量を供給しつつ、前記半導体基板処理装置の中でテストウエハをエッチングすることと、
前記テストウエハの表面にわたるそれぞれのゾーンのエッチング速度を決定するために、前記テストウエハの表面の均一性を測定することと、
前記エッチング均一性が所望の公差内であるかどうかを決定することと、
を備える方法。 - 請求項19に記載の方法であって、更に、
もし、前記決定された均一性が所望の公差内であるならば、前記1つ以上のガス注入ゾーンの前記調節されたガス組成及び/又はガス流量によって、基板一式をエッチングすることを備える方法。 - 請求項19に記載の方法であって、更に、
前記ガス注入ゾーンのうちの1つ以上において前記ガス組成及び/又はガス流量を修正することであって、前記ガス組成及び/又はガス流量は、前記ガス分離器によって制御される、修正することと、
前記修正されたプロセスレシピにしたがって、前記1つ以上のガス注入ゾーンの前記調節されたガス組成及び/又はガス流量を供給しつつ、前記半導体基板処理装置の中でテストウエハをエッチングすることと、
前記テストウエハの表面にわたるそれぞれのゾーンのエッチング速度を決定するために、前記テストウエハの表面のエッチング均一性を測定することと、
前記均一性が所望の公差内であるかどうかを決定することと、
を備える方法。 - 半導体基板処理装置のガス供給配送配置であって、
複数のガス源と流体連通しているガスパネルと、
対応するガス源からの、前記ガスパネルを通してのガスの供給を制御するように動作可能である、各ガス源のためのそれぞれの質量流量コントローラと、
前記ガスパネルに取り付けられたガス分離器であって、前記半導体基板処理装置のプロセスチャンバのそれぞれのガス注入ゾーンと流体連通するように構成される複数のガスゾーン供給口と流体連通しており、前記ガスパネルを通して前記ガス源のうちの対応するそれぞれから供給される1つ以上のガスを受け取るように、及び前記受け取られて前記複数のガスゾーン供給口のうちの対応するそれぞれに供給される前記1つ以上のガスの比率を制御するように動作可能であるガス分離器と、
を備えるガス供給配送配置。 - 請求項22に記載のガス供給配送配置であって、
前記ガス分離器は、前記複数のガスゾーン供給口のうちの対応するそれぞれに受け取られる前記ガス供給の流量を制御するように動作可能である11のバルブを含み、各バルブは、各バルブに関係付けられたそれぞれのオリフィスをガスの供給が通るように開く又は閉じるように動作可能であり、各オリフィスは、それぞれの各オリフィスに供給される前記ガス流量を制御するために、所定の断面積を有する、ガス供給配送配置。 - 請求項22に記載のガス供給配送配置であって、更に、
前記ガス分離器に供給されるガスの圧力を測定するように動作可能である1つ以上の圧力計を、前記ガス分離器の上流に備えるガス供給配送配置。 - 請求項22に記載のガス供給配送配置であって、
前記複数のガス源は、プロセスガス源、不活性ガス源、調整ガス源、又はこれらの組み合わせを含む、ガス供給配送配置。 - 請求項23に記載のガス供給配送配置であって、
前記バルブは、それらに関係付けられたオリフィスの上流に位置付けられる、ガス供給配送配置。 - シャワーヘッド電極アセンブリを含むプラズマ処理チャンバと、請求項22に記載のガス分配システムとを備える半導体基板処理装置であって、
前記複数のガスゾーン供給口は、各自、前記シャワーヘッド電極アセンブリにおけるそれぞれのガス注入ゾーンと流体連通している、半導体基板処理装置。 - 請求項27に記載の半導体基板処理装置であって、更に、
(a)前記プラズマ処理装置によって実施されるプロセスを制御するように動作可能であるコントローラと、
(b)前記システムの制御のためのプログラム命令を含む、非一時的なコンピュータ機械読み取り可能媒体と、
を備える半導体基板処理装置。 - 請求項27に記載の半導体基板処理装置であって、更に、
中央ガス注入ゾーンと、中間ガス注入ゾーンと、縁ガス注入ゾーンとを備える半導体基板処理装置。 - 請求項27に記載の半導体基板処理装置において半導体基板を処理する方法であって、
前記複数のプロセスガス源から前記ガス分離器に1つ以上のガスを供給することと、
前記複数のガスゾーン供給口に供給されるガスの比率を、前記ガス分離器のバルブの組み合わせを開く及び/又は閉じることによって制御することと、
前記複数のガスゾーン供給口を通して前記シャワーヘッド電極アセンブリのそれぞれのガス注入ゾーンにガスを供給することと、
前記シャワーヘッドアセンブリの前記それぞれのガス注入ゾーンを通して半導体基板の表面の上にガスを供給することによって、前記半導体基板を処理することであって、前記それぞれのガス注入ゾーンは、前記半導体基板の表面にわたるゾーンに対応し、それぞれの各ガス注入ゾーンに供給されるガスの比率は、所望の均一性内で前記半導体基板を処理するように操作可能である、処理することと、
を備える方法。 - 請求項30に記載の、半導体基板を処理する方法であって、
前記ガス分離器が前記ガスに1つ以上の調整ガスを加えることによって、前記ガスの組成を制御する方法。
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