JP2017532606A - 断熱グレージングユニット及び微細構造化拡散部を含む微小光学層並びに方法 - Google Patents

断熱グレージングユニット及び微細構造化拡散部を含む微小光学層並びに方法 Download PDF

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Abstract

転写テープ、及び転写テープを製造する方法が記載される。一態様では、転写テープは、構造化面を有するテンプレート層と、テンプレート層の少なくとも一部の上に配置されている、構造化面の反対側の微細構造化面を有するバックフィル層と、微細構造化面に隣接して配置されている層とを有し、微細構造化面に隣接して配置されている層は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する。微細構造化面は、隣接する層と共に、拡散層として又は換言すれば拡散境界面として、機能する。更に、微小光学グレージング、及び微小光学グレージングを製造する方法、並びに断熱グレージングユニット、及び断熱グレージングユニットを製造する方法も記載される。

Description

断熱グレージングユニット(Insulated Glazing Unit、IGU)は、建築用外壁窓を通した熱損失を低減させるために使用されている。典型的なIGUは、2枚のガラス板と、スペーサーフレームと、そしてこれら3つの要素により形成される内部空間とを有する。IGUに組み込まれた微小光学素子は、IGUを通過する日光を部分的に室内天井に向けて方向変換させるため、既存の室内照明を増幅し、ひいては建物のエネルギー効率を向上させるために使用される。多くの事例では、例えば屈折性又は回折性の光学構造を、ガラスの面へ、例えばIGUの内部空間内に適用することにより、微小光学素子を窓ガラスに直接組み込むことは便利なことがあり、これは、例えば参照により本明細書に組み込まれる米国特許第2014/0021492号及び同第2014/0178646号に記載されている。
日光方向変換微小光学素子は、太陽光の大部分を上方へ方向変換させる。しかしながら、光の一部分は下方に向かい、まぶしさを引き起こす可能性がある。特に、(例えばプリズムの)構造が直線的であり水平に配向しているとき、入射光線は主に垂直方向に屈折される/反射される。太陽光は広がりが約0.5度で高度に平行化しており、ソーラーディスクとして見える。日光方向変換フィルムの効果は、この光を垂直に広げて「ソーラーカラム」と称されるものを形成することである。
下方へ方向付けられた光の部分全体と、ソーラーカラムの明るさとの双方が、まぶしさを助長する。微細構造化拡散層を使用すると、本明細書に記載されているように、依然として、30〜60度の範囲の入力角について、光の少なくとも80%を上方へ方向変換させる一方で、ソーラーカラムの可視度を減らすことによってまぶしさが低減する。
いくつかの実施形態では、転写テープ、及び転写テープを製造する方法が記載される。
一態様では、転写テープは、構造化面を有するテンプレート層と、テンプレート層の少なくとも一部の上に配置されている、構造化面の反対側の微細構造化面を有するバックフィル層と、微細構造化面に隣接して配置されている層とを含み、微細構造化面に隣接して配置されている層は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する。微細構造化面は、隣接する層と共に、拡散層として、又は換言すれば拡散境界面として、機能する。
別の態様では、微細構造化面に隣接する層は、接着剤であり、この接着剤は、バックフィル層(又は微小光学層)をガラス板の主面に接着させることができる。別の実施形態では、微細構造化面に隣接する層は、接着剤ではない。この実施形態では、接着剤層は、バックフィル層(又は微小光学層)をガラス板の主面に接着させることができる転写テープの外側面上に付与される。この後者の実施形態では、1つ以上の任意選択の追加の層が、微細構造化面に隣接する層と、外側の接着剤層との間に存在することができる。
別の態様では、バックフィル層は、テンプレート層上にパターン状で配置されており、かつ/又は隣接する(例えば接着剤)層は、バックフィル層の微細構造化面上にパターン状で配置されている。更に他の実施形態では、転写テープは、刻み目を入れた部分のみが転写してそれによりレセプタ基材(例えばガラス)上にパターンを形成するように、刻み目を形成することを含むことができる。刻み目を入れた転写テープを製造し使用する方法もまた記載される。
いくつかの実施形態では、微小光学グレージング、及び微小光学グレージングを製造する方法が記載される。
一態様では、微小光学グレージングは、主面を有するガラス板と、主面の少なくとも一部に接着されている、微細構造化面を有する硬化バックフィル層を備える微小光学層であって、微細構造化面が、バックフィル層とは異なる屈折率を有する層に隣接する、微小光学層とを備える。
別の態様では、主面を有するガラス板と、主面の少なくとも一部に接着された微小光学層と、異なる屈折率を有する層に隣接する微細構造化境界面とを備える、微小光学グレージングが記載される。30°〜60°の範囲の入力角について、微小光学グレージングは、日光の少なくとも80%を方向変換させ、かつソーラーカラムを呈しない。
更に他の実施形態では、断熱グレージングユニット、及び断熱グレージングユニットを製造する方法が記載される。
一態様では、断熱グレージングは、間隙によって、部屋に面した外部面を有するガラス板から離間した、太陽に面した板の外部面を有するガラス板であって、各板が間隙に隣接する内部面を有する、ガラス板を備える。断熱グレージングユニットは、断熱グレージングユニットの内部面上に配置されている微小光学層と、微小光学層と部屋に面した外部面との間に配置されている微細構造化境界面とを備える。
転写テープの概略断面図を示す。 転写テープの概略断面図を示す。 転写テープの概略断面図を示す。 微小光学グレージングの概略断面図を示す。 微小光学グレージングの概略断面図を示す。 微小光学グレージングの概略断面図を示す。 微小光学グレージングの概略断面図を示す。 断熱グレージングユニット(IGU)の一部の概略断面図を示す。 微小光学グレージングの概略正面図を示す。 微小光学グレージングの概略正面図を示す。 転写フィルムの形成の概略的プロセスフロー図である。 微小光学グレージングの形成の概略的プロセスフロー図である。 刻み目を入れた転写フィルムの形成の概略的プロセスフロー図である。 パターニングした微小光学グレージングの形成の概略的プロセスフロー図である。 微細構造化面の平面図の走査電子顕微鏡写真である。 微細構造化面の透視図の走査電子顕微鏡写真である。 微細構造化面上に配置される日光方向変換構造部の透視図の走査電子顕微鏡写真である。 埋め込まれた微細構造化境界面を有する微小光学グレージングを形成する別の方法の概略的プロセスフロー図である。 微小光学層と、部屋に面した外部面との間に配置される微細構造化境界面を有する微小光学グレージングを形成する別の方法の概略的プロセスフロー図である。 本発明による微小光学グレージングについての双方向透過率分布関数(Bi-directional Transmission Distribution Function、BTDF)を描く。 これらの図は、必ずしも一定の比率の縮尺ではない。これらの図で使用されている同様の数字は、同様の構成要素を指す。
図1Aは、一体化した転写テープ100の概略断面図を示す。転写テープ100は、構造化面114を有するテンプレート層110と、テンプレート層110の少なくとも一部の上に配置されているバックフィル層120とを有する。テンプレート層110は、典型的には、バックフィル層120から除去され得る。バックフィル層120は、構造化面114の反対側に微細構造化面122を備える。バックフィル層120は、構造化面114に適合して、隣接して配置されている主(転写構造化)面124を有する。換言すれば、バックフィル層の転写構造化面124は、一般に、テンプレート層の構造面114のネガティブ型複製である。本明細書に記載されている多くの実施形態では、転写テープ100は、微細構造化面122に隣接して配置される、バックフィル層120とは異なる屈折率を有する層150を更に有する。典型的な実施形態では、バックフィル層と、微細構造化層に隣接した(例えば接着剤)層との屈折率の差は、少なくとも0.05又は0.10である。微細構造化面は、隣接する層と共に、拡散層として機能する。典型的な実施形態では、層150は、レセプタ基材、例えばガラス面に接着させることができる接着剤である。いくつかの実施形態では、微細構造化層上に配置される層は、光学的接着剤層である。(例えば接着剤)層150は、微細構造化面上の連続層として配置されていてもよい。別法では、接着剤層は、米国特許第2014/017646号に記載されて例えば図1B及び図2Dに描かれているようにパターニングされてもよい。
転写テープ100は、構造化面114の反対側の、テンプレート層110の平坦面112上に配置される任意選択のキャリアフィルム140を有してもよい。任意選択のキャリアフィルム140は、搬送時及び後続の製造工程でのテンプレート層110の支持に有用であり得て、かついくつかの事例では、テンプレート層110の製造中に使用することができる。いくつかの事例では、任意選択のキャリアフィルム140は、2つの層が容易に離間されないようにテンプレート層110に接着され得る。転写テープ100は、任意選択のキャリアフィルム140の反対側に配置された任意選択の剥離ライナー170を更に有し、他の層、とりわけ転写テープ100の(例えば接着剤)層150をその間に挟むことができる。
特定の一実施形態では、任意選択の転写層130を、テンプレート層110のテンプレート構造化面114に適合するように配置して、任意選択の転写層130により構造化面114が転写構造化面124から離間しやすくなるようにしてもよい。任意選択の転写層130は、転写剥離コーティングを含むことができる。
図1Bは、転写テープ101の概略断面図を示す。図1Bに示される要素のそれぞれは、先に記載された図1Aに示されている同様の符号の要素に対応する。バックフィル層120は、テンプレート層110上でパターン状に配置されており、それにより、バックフィル層120を有する転写テープ101の第1の部分123が、バックフィル層120を有していない第2の部分125に隣接して位置される。第1の及び第2の部分123、125で形成される、転写テープ101のパターンは、後に記載されるように、転写テープ101の面全体に延在する複数の島、線、又は島と線との組み合わせを含むことができ、更に、転写テープ101の一端から反対側の端部にかけて、面密度の勾配を有してもよい。
図1Cは、転写テープ102の概略断面図を示す。図1Cに示される要素のそれぞれは、先に記載された図1Aに示されている同様の符号の要素に対応する。図1Cにおいて、転写テープ102は、それぞれ、平坦領域116を持つ構造化面114を有するテンプレート層110と、テンプレート層110の平坦領域116を持つ構造化面114に隣接しその外形に倣って配置される転写平坦領域126を持つ転写構造化面124を有するバックフィル層120とを有する。転写テープ102は、構造化面114、124を有する第1の部分127と、パターン状で配置される平坦領域116、126を有する隣接する第2の部分129とを有する。第1の及び第2の部分127、129で形成された、転写テープ102のパターンは、転写テープ102の面全体に延在する複数の島、線、又は島と線との組合せを含むことができ、更に、転写テープ102の一端から反対側の端部にかけて、面密度の勾配を有してもよい。図1B及び図1Cのパターン状のバックフィル層は、拡散層として機能する微細構造面122及び隣接する(例えば接着剤)層150を備える。パターン状のバックフィル層は、任意選択で、テンプレート層110のテンプレート構造化面114上に配置されて適合する転写層、及び/又は任意選択の剥離ライナー170を更に備える。
図2A〜2Dは、微小光学グレージングの概略断面図を示す。
図2Aにおいて、微小光学グレージング203は、主面282を有するガラス板などのレセプタ基材280と、主面282の少なくとも一部に接着された微小光学層293とを有する。微小光学層293は、微細構造化面222及びその反対側の構造化面224を有する硬化バックフィル層220と、微細構造化面222に隣接する面254を有する硬化(例えば接着剤)層250とを備え、硬化(例えば接着剤)層250は、主面282に直に隣接する。硬化(例えば接着剤)層250は、硬化バックフィル層220とは異なる屈折率を有する。典型的には、硬化(例えば接着剤)層250は、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する。更に、(例えば接着剤)層250は、一般に、レセプタ基材280(例えばガラス)と屈折率が一致する。「屈折率が一致する」により、屈折率における差が、0.05、0.04、0.03、0.02、0.01又は0.001未満であることが意味される。構造化面224は、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する低屈折率材料(例えば空気)に隣接する。
図2Bにおいて、微小光学グレージング203は、主面282を有するガラス板などのレセプタ基材280と、主面282の少なくとも一部に接着された微小光学層293とを有する。微小光学層293は、微細構造化面222及びその反対側の構造化面224を有する硬化バックフィル層220と、微細構造化面222に隣接する面254を有する硬化層250とを有し、硬化層250は、主面282に直近に隣接する。硬化層250は、硬化バックフィル層220とは異なる屈折率を有する。典型的には、硬化層250は、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する。この実施形態では、追加の接着剤層251が、硬化層250とレセプタ基材280との間に配置されている。この実施形態では、接着剤層251は、一般に、レセプタ基材280(例えばガラス)と屈折率が一致する。構造化面224は、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する低屈折率材料(例えば空気)に隣接する。
図2Cにおいて、微小光学グレージング204は、主面282を有するガラス板などのレセプタ基材280と、主面282の少なくとも一部に接着された微小光学層294とを有する。微小光学層294は、硬化バックフィル層220を有し、これは、微細構造化面222と、構造化面224を有する第1の部分227’および平坦領域226を有する隣接する第2の部分229’がパターン状で配置された反対側の面と、を備える。微小光学層294は、更に、微細構造化面222に隣接する面254を有する硬化(例えば接着剤)層250を有する。特定の一実施形態では、微小光学層294は、図1Cに示し説明されるように、転写テープ102からの転写によって得ることができる。特定の一実施形態では、微小光学層294の第2の部分229’(即ち平坦領域226)は、転写テープ100の非硬化部分からのリフローによって得られ、このリフローの技術は、本出願人の上記係属出願にあり、上に引用されている。
構造化面224及び平坦領域226は、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する低屈折率材料(例えば空気)に隣接する。第1の及び第2の部分227’、229’で形成された、微小光学グレージング201のパターンは、他部でも示すとおり、レセプタ基材280の面全体に延在する複数の島、線、又は島と線との組み合わせを含むことができ、更に、レセプタ基材280の一端から反対側の端部にかけて、構造化面224の面密度勾配を有してもよい。
図2Dにおいて、微小光学グレージング205は、主面282を有するガラス板などのレセプタ基材280と、主面282の少なくとも一部に接着された微小光学層295とを有する。微小光学層295は、微細構造化面222と、構造化面224を備えた第1の部分223’を含む反対側の面と、を有する硬化バックフィル層220、及び微小光学層295を欠く隣接する第2の部分225を有し、これらはパターン状で配置されている。微小光学層295は、微細構造化面222に隣接する面254を有する硬化(例えば接着剤)層250を更に有し、硬化拡散層(即ち微細構造化面222および250)は、主面282に直に隣接する。第1の部分223’の構造化面224と、隣接する第2の部分225とは、硬化バックフィル層220よりも低い屈折率を有する低屈折率材料に隣接する。第1の及び第2の部分223’、225で形成される微小光学グレージング205のパターンは、他部でも示すとおり、レセプタ基材280の面全体に延在する複数の島、線、又は島と線の組み合わせを含むことができ、更に、レセプタ基材280の一端から反対側の端部にかけて、構造化面224の面密度勾配を有してもよい。
図3Aは、断熱グレージングユニット(IGU)300の一部の概略断面図を示す。IGU300は、第1のガラス板380’を有し、これは、間隙394によって、第1のガラス板380’に面している第2のガラス板380から離間されている。第1のガラス板380’は、外側の(即ち外部の)太陽に面した面「a」と、第1の板の内部面「b」とを有する。第2のガラス板380は、第2の板の内部面「c」と、部屋に面した(即ち外部の)面「d」とを含む。微小光学層390は、微細構造化面322と、微細構造化面と直に隣接している、硬化バックフィル層とは異なる(例えば低い)屈折率を有する層350とを有する。層350は、典型的に、微小光学層390を、第2の板の内部面「c」の少なくとも一部へ更に接着させる接着剤である。(例えば接着剤)層350の屈折率は、一般に、ガラス380と屈折率が一致する。
構造化面324は、第1のガラス板380’と第2のガラス板380との間の間隙394を充填している低屈折率材料392に隣接する。いくつかの事例では、低屈折率材料392は、気体を含んでもよく又は真空であってもよい。低屈折率の層又は材料は、微小光学層390とは対照的な屈折率をもたらす。
微小光学層を含むガラス板が、図2Bに示されるような追加の層を有することができることが理解されよう。
図4は、本開示の一態様による、微小光学グレージング401、あるいは微小光学グレージング401を形成するのに有用な転写テープの概略的正面図を示す。微小光学グレージング401は、ガラス板380上の、図2C〜2Dに示される領域225、226と同様の領域425によって互いに離間した構造化面の島427と線423’とのパターン426を有する。パターン426は、微小光学グレージング401の縁から離れるにしたがって、構造化面の線423’と島427との面密度が低下する勾配パターンを示す。
図5は、本開示の一態様による、微小光学グレージング502の概略的断面図を示す。微小光学グレージング502は、ガラス板580上の、図2C〜2Dに示される領域225、226と同様の領域525’によって互いに離間した構造化面の線523’のパターン528を有する。パターン528は、微小光学グレージング502の縁から離れるにしたがって、構造化面の線523’の面密度が低下する勾配パターンを示す。パターン526、528は、勾配パターンでなくてもよく、かつ島、点、線、又はその他の任意の規則的又は不規則的な形の、任意の所望の配置から成ってもよい。
図6は、転写フィルムを形成する例示的な方法を示す概略的プロセスフロー図である。この方法は、構造化面614及び任意選択のキャリアフィルム640を有するテンプレート層610を備える(例えば第1の)テンプレート616を用意することを含む。この方法は、バックフィル層620が、第1のテンプレートの構造化面に適合する主面、及び典型的には実質的に平坦である反対側の面(図示せず)を有するように、即ち第2のテンプレート615と接触させる前に、構造化面614上に硬化性バックフィル層620(バックフィル材料から成る)を付与することを更に含む。
テンプレート層610の構造化面614は、複数の山611及び谷612を備える。バックフィル層620は、典型的には、山611の最大の高さを超える厚さを有する。
この方法は、バックフィル層の反対側の(例えば平坦)面を、第2のテンプレート615と接触させることを更に含む。第2のテンプレートは、微細構造化層の面617と、任意選択のキャリアフィルム641とを備える。この方法は、第1のテンプレート616の構造化面614と、第2のテンプレート615の微細構造化面617とが、バックフィル層620に接触している間に、バックフィル層を硬化させることを更に含む。
いくつかの実施形態では、転写テープ601は、第1の及び第2のテンプレート616及び615、並びにこれらの間の硬化バックフィル層620を備えてもよく又はこれらから成ってもよい。この実施形態では、接着剤層650は、レセプタ基材(例えばガラス板)への適用(application)時に、この転写テープ構造部へ適用(applied)されてもよい。この実施形態では、微小光学グレージングを製造する方法は、転写テープ601を用意すること、第2のテンプレート615を除去すること、及び硬化微細構造化バックフィル層をガラス板680に、硬化バックフィル層620とは異なる屈折率を有する接着剤650で、接着させることを含む。
別の実施形態では、転写テープ602を製造する方法は、第2のテンプレート層を除去することを更に含む。この実施形態では、転写テープ602は、第1のテンプレート616、及び硬化バックフィル層620を備えてもよく又はこれらから成ってもよい。この実施形態では、接着剤層650はまた、レセプタ基材(例えばガラス板)への適用(application)時に、この転写テープ構造部に適用(applied)されてもよい。この実施形態では、微小光学グレージングを製造する方法は、転写テープを用意することと、硬化微細構造化バックフィル層をガラス板680に、硬化バックフィル層620とは異なる屈折率を有する接着剤650で、接着させることを含む。
更に別の実施形態では、転写テープ603を製造する方法は、硬化バックフィル層の微細構造化面上に、層650を付与することを更に含み、この層は、硬化バックフィル層とは異なる屈折率を有する。しかしながら、この実施形態では、層650は、接着剤ではない。除去可能な剥離ライナー(図示せず)は、接着剤層の、曝された主面657上へ、即ち硬化バックフィル層620の微細構造化面に対して反対側の面上へ、付与されてもよい。この実施形態では、微小光学グレージングを製造する方法は、転写テープを用意すること、剥離ライナー(存在する場合)を除去すること、及び硬化微細構造化バックフィル層をガラス板680に接着剤によって接着させることを含む。
図7は、転写テープを活用して微小光学グレージングを形成する例示的な方法の概略的プロセスフロー図であり、ここで、バックフィル材料の微細構造化面に隣接する層は、接着剤であり、こうした接着剤は、転写テープ603が微小光学グレージングのために利用される時に、転写テープ上に存在する。そのため、この実施形態は、転写テープを用意することを含み、転写テープは、第1のテンプレート616と硬化バックフィル層650とを備える。硬化バックフィル層620(バックフィル材料から成る)は構造化面614上に配置され、バックフィル層620は第1のテンプレートの構造化面614に適合する主面及びその反対側の微細構造化面622を有する。転写テープは、微細構造化面622上に配置される接着剤650を更に含む。微小光学グレージングの方法は、硬化バックフィル層をガラス板680に、バックフィル層の微細構造化面上に付与された接着剤650によって接着させることを含む。
微小光学グレージングの各方法は、第1のテンプレート616を除去することを更に含む。そのため、微小光学グレージングは、ガラス板680と、ガラス板を微小光学層に接着させている接着剤層と、ガラス板680と硬化微小光学層610との間の微細構造化面622とを含む。第1のテンプレート616は、典型的に、テンプレートを硬化バックフィル層620から剥がすことによって除去される。更に、微小光学グレージング加工方法及び微小光学グレージング品のそれぞれにおいて、接着剤は、典型的に、レセプタ基材(ガラス)と屈折率が一致する。
微細構造化拡散境界面を付与する別の方法
本明細書に記載されている、バックフィル層が微細構造化面を備える方法及び物品が、好ましい実施形態ではあるものの、ガラスの、微小光学層と、部屋に面した外部面との間に拡散層を付与するという別法もある。
図12を参照すると、一実施形態では、微小光学グレージングを製造する方法は、転写テープ1200を用意することを含み、転写テープは、構造化面1214と光学的キャリアフィルム1240とを有する第1のテンプレート層1210を備える(先に記載した実施形態と同じである)。転写テープは、硬化バックフィル層が第1のテンプレートの構造化面1214に適合する主面を有するように、構造化面1214上に硬化バックフィル層1220を更に備える。この実施形態では、硬化バックフィル層1210の反対側の面1215は、平坦であり、微細構造化されていない。この方法は、粗面1222を有する一片のガラスを用意することを更に含む。粗面は、面を摩耗することによって付与してもよく、又は面上に拡散コーティングを付与することによってでもよい。粗面又は拡散コーティングは、先に記載した微細構造化面1222と同じ特徴を有してもよい。この方法は、ガラス1280の粗面1220を、硬化バックフィル層1220の反対側の(平坦)面に接着剤層1250で接着させることを更に含む。接着剤1250は、典型的に、硬化バックフィル層1220と実質的に同じ屈折率を有する。更に、接着剤1250は、典型的に、ガラス1280とは異なる屈折率を有する。
図13を参照すると、別の実施形態では、微小光学グレージングを製造する方法は、転写テープ1300を用意することを含み、転写テープは、構造化面1314と任意選択のキャリアフィルム1340とを有する第1のテンプレート層1310を備える(先に記載した実施形態と同じである)。転写テープは、硬化バックフィル層が第1のテンプレートの構造化面1314に適合する主面を有するように、構造化面1314上に硬化バックフィル層1320を更に備える。この実施形態では、硬化バックフィル層1310の反対側の面1315は、平坦であり、微細構造化されていない。この方法は、粗面1322及び平坦面1321(非粗面)を有する一片のガラスを用意することを更に含む。粗面は、面を摩耗することによって付与してもよく、又は面上に拡散コーティングを付与することによってでもよい。粗面又は拡散コーティングは、先に記載した微細構造化面1322と同じ特徴を有してもよい。この方法は、ガラス1380の平坦面1321を、硬化バックフィル層1320の反対側の(平坦)面に接着剤層1350で接着させることを更に含む。接着剤1350は、典型的に、硬化バックフィル層1320と実質的に同じ屈折率を有する(屈折率が一致する)。更に、接着剤1350は、典型的に、ガラス1380と同じ屈折率を有する。
テンプレート層
構造化面114は、典型的に一次元(1D)的、つまりこの構造部が1つの方向のみに規則的であることを意味し、即ち最近傍の特徴同士の等間隔配置が面に沿って1方向に生じ、それに直交する方向では生じない。一次元構造としては、例えば、連続的な又は延長されたプリズム又は嶺、直線格子状、円筒形又は曲面レンズ形の特徴、及びカオス構造を含む不規則構造などが挙げられる。
構造化面114は、一般に、任意の所望の高さ、例えば微小光学屈折面に適切な高さの面特徴を有してもよく、その高さは、数ナノメートルから数マイクロメートルの範囲であってもよく、例えば約1マイクロメートル超、又は約5マイクロメートル超、又は約10マイクロメートル超、又は約20マイクロメートル超、又は約50マイクロメートル超、又は約100マイクロメートル超、又は更に約2000マイクロメートル以上であってもよい。微小光学屈折面は、建築用グレージングに使用されるような材料を通じた、装飾的な、機能的な、又は装飾的と機能的との組み合わせの、光の再分配に有用であり得る。
構造化面114は微細構造化面122よりサイズが小さい構造部を有しうるものの、都合上、用語「構造部」又は「構造化」は、本明細書で用いられるとき、(例えば光を方向変換させる)構造部114を指して使用される。更に、用語「微細構造化」は、微細構造化拡散面122を指して使用される。
好ましい一実施形態では、構造化面114から形成された微小光学屈折構造部(例えば図3の390)は、30°〜60°の範囲(例えば45°)の入力角について少なくとも75%又は80%の光を上方へ方向変換するために適切である。
いくつかの実施形態では、例えば図11で描写された(例えば光を方向変換させる)構造部は、拡散微細構造化面の微細構造部と比べ、実質的にサイズが大きい。例えば、いくつかの実施形態では、拡散微細構造部の平均(山の)高さは、5、4、3、2又は1マイクロメートル以下である。
微細構造化面
図3を参照すると、日光はフィルムを透過し、構造化微小光学層390によって上方へ方向変換され、次いで屈折の(かつ、いくらかの程度までは回折の)結果として主面322(又はそうでなければ続いて記載されることになる粗面)のトポグラフィーによって散乱され又は拡散される。微細構造化面322(並びに1222及び1322)は、主に、ソーラーカラムの出現を低減させるために、存在することができる。
微細構造化面は、一般に、直交する面内方向に沿って延在し、これは、局所的デカルトx−y−z座標系を画定するために使用され得る。微細構造化面のトポグラフィーは、その場合、微細構造化面に平行に延びる基準面(平面x−y)に対して、厚さ方向(z軸)に沿った偏差により表現され得る。多くの事例では、微細構造化面のトポグラフィーにおいて、別々の個々の微細構造部が画定され得る。こうした微細構造部は、微細構造化面の工具の対応する空洞より形成される突出部の形態を取ってもよく、又は微細構造化面の工具の対応する突出部から製造される空洞の形態を取ってもよい。微細構造部は、典型的に、2つの直交する面内方向に沿ったサイズは限定されており、即ち微細構造化面の平面視において、個々の微細構造部は、典型的に、いかなる面内方向に沿っても線的に無限には延在しない。突出部であれ空洞であれ、微細構造部はまた、いくつかの事例では、密に充填されてもよく、即ち多くの又は大部分の隣接する微細構造部の境界の少なくとも一部が実質的にぶつかる又は合致するように配置されてもよい。微細構造部はまた、典型的に、微細構造化面上に、不規則に又は非均一的に分散される。いくつかの事例では、いくつかの、大部分の又は実質的に全ての(例えば>90%の、又は>95%の、又は>99%の)微細構造部は、曲面であってもよく、又は丸くなった又はそうでなければ曲面ベースの面を含んでもよい。いくつかの事例では、微細構造部の少なくともいくつかは、角錐形であってもよく、又はそうでなければ、実質的に平坦な面(ファセット)によって画定されてもよい。
微細構造化面はまた、以下に定義づけるRa及びRzなどの種々の粗さの測定基準を参照して特徴づけることができる:
Ra−測定されたアレイ全体に亘って計算された平均粗さ

式中、Zjk=各画素の測定された高さとアレイの平均高さの差である。
Rzは、評価範囲内の10個の最大の山−谷分離の平均最大面高さであり、

式中、Hは山高さであり、Lは谷高さであり、H及びLは、共通の基準面を有する。
いくつかの実施形態では、Raは、3、2.5、2又は1.5マイクロメートル以下である。いくつかの実施形態では、Rzは、30、25、20又は15マイクロメートル以下である。
いくつかの実施形態では、所与の微細構造部のサイズは、平面図において円相当直径(equivalent circular diameter、ECD)という用語で表現されてもよく、かつ微細構造部は、平均ECDが、例えば15マイクロメートル未満、又は10マイクロメートル未満、又は4〜10マイクロメートルの範囲であってもよい。微細構造化面及び構造部はまた、本明細書の他の箇所で検討されている他のパラメータで、例えば深さ又は高さの、ECDなどの特徴的な横断寸法に対するアスペクト比、又は平面視における単位面積当たりの面上の嶺の長さの総計によっても特徴づけることができる。
光の拡散又は散乱は、「光ヘーズ」又は単に「ヘーズ」という用語によって表現され得る。いくつかの実施形態では、微細構造化拡散部は、微細構造化面に隣接する層が空気であるときに、高いヘーズ、例えば80%超、又は90%超のヘーズを有する。更に、拡散層の、光学的ヘーズ、光学的透明度、及び他の特徴が、微細構造化面若しくは微細構造化面上、又は光学フィルムの内部のどこかにおいて、ビーズ(例えばマットな粒子)を一切使用せずに、付与され得る。
いくつかの実施形態では、微細構造化拡散部は、垂直入射光のかなりの部分を、半角2.5度の円錐の外側かつ半角約15度(あるいは10度)未満の円錐の内側へと拡散させ、日光方向変換の特性は障害されない。
拡散微細構造化面は、任意の適切な製作方法により製造することができる。テンプレートの微細構造部は、一般に、米国特許第5,175,030号(Luet al.)及び同第5,183,597号(Lu)に記載されているように、重合性樹脂組成物を工具面と接触させてキャスト成型(cast)及び硬化させることにより、製作される。工具は、任意の利用可能な製作方法、例えばエングレービング又はダイヤモンド切削を用いることによって製作することができる。例示的なダイヤモンド切削システム及び方法は、例えば国際出願公開第00/48037号、並びに米国特許第7,350,442号及び同第7,328,638号に記載されているような高速工具サーボ(fast tool servo、FTS)を含み、かつ使用し得る。
別法では、工具は、電着によって製造され得る。一実施形態では、この工具は、国際公開第2014/081693号(参照により本明細書に組み込まれる)に開示されているように、第1の電気めっき処理を用いて金属を電着させることにより、その金属から成る第1の層を形成することによって、第1の平均粗さを有する第1の層の第1の主面をもたらすことと、第2の電気めっき処理を用いて第1の主面上にその金属を電着させることにより、第1の層の第1の主面上にその金属から成る第2の層を形成して、第1の平均粗さよりも小さい第2の平均粗さを有する第2の層の第2の主面をもたらすことによって調製される。
微細構造化面は、典型的に、バックフィル層の反対側の面である。そのため、微細構造化面の屈折率は、バックフィル層と同じである。層150は、微細構造化面に隣接して配置されており、典型的には、微細構造化面と直に接触している。層150は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する材料を含む。屈折率の差は、少なくとも0.05又は0.10である。バックフィル層の微細構造化面は、これに隣接する層と共に、拡散境界面を形成する。好ましい実施形態では、層150は、バックフィル層をレセプタ基材(例えばガラス板)に接着させるためにも適切な(光学的に透明な)接着剤である。しかしながら、転写テープが、図2Bを参照して記載されているような、別個の接着剤層あるいは他の任意選択の層を提供してもよい。
光学的接着剤層
いくつかの実施形態では、層150、250又は350が、(例えば光学)接着剤層である。(例えば光学)接着剤は、感圧性接着剤、又は感圧性ではない構造的接着剤である。典型的な実施形態では、接着剤は「光学的に透明」であり、これは、波長範囲350〜800nmにおいて、光透過率が約90パーセント超、ヘーズが約2パーセント未満又は約1.5パーセント未満である材料を指す。ヘーズは、典型的には1パーセント未満又は0.5パーセント未満である。更に、不透明度は、典型的に、約1パーセント未満である。光透過率とヘーズとの双方が、例えば、ASTM−D 1003−95を用いて測定され得る。典型的に、光学的に透明な接着剤は、目視において気泡を含まなくてもよい。光学的接着剤はまた、望ましくは、初期に及び促進老化後に、黄色化がない。例えばCIELAB bは、厚さ10mil(約250マイクロメートル)では、典型的に1.5未満、又は1.0未満又は0.5未満である。
種々の光学的接着剤が当技術分野で公知であるものの、いくつかの実施形態では、光学的接着剤は、有機ケイ素ポリマー、例えばポリジオルガノシロキサンを含む。用語「ポリジオルガノシロキサン」は、次式の二価のセグメントを指し、

式中、各Rは、それぞれ独立して、アルキル、ハロアルキル、アラルキル、アルケニル、アリール、又はアルキル、アルコキシ、若しくはハロで置換されたアリールであり、各Yは、それぞれ独立に、アルキレン、アラルキレン、又はこれらの組み合わせであり、下付きのnは、独立に、1〜1500の整数である。いくつかの実施形態では、nは、少なくとも25、50又はそれ以上である。
いくつかの実施形態では、光学的接着剤は、米国特許第7,947,376号及び同第8,765,881号に記載されているようなポリジオルガノシロキサンポリオキサミドコポリマーを含む。
ポリジオルガノシロキサンは、低いガラス転移温度、熱的安定性及び酸化安定性、紫外線への抵抗力、低表面エネルギー及び低疎水性、数多くの気体に対する高透過性などの、多くの望ましい特性を有する。更に、コポリマーは、良好ないし優れた機械的強度を呈する。
感圧接着剤及び熱活性化接着剤は、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドを、シリケート粘着付与樹脂などの粘着付与剤と組み合わせることによって配合することができる。本明細書で用いられるとき、用語「感圧性接着剤」は、十分にアグレッシブで永久的な粘性、微小光学層をガラスなどのレセプタ基材に接着させるために十分な力、及びいくつかの実施形態ではレセプタ基材からきれいに除去されるために典型的に十分な凝集力、を有する接着剤を指す。本明細書で用いられるとき、用語「熱活性化接着剤」は、本質的に室温で非粘着性であるが、室温を上回る、例えば約30℃超などの活性化温度を超えた温度にて粘着性となる、接着剤組成物を意味する。熱活性化接着剤は、典型的には、活性化温度超において、感圧性接着剤の特性を有する。
コポリマーの接着特性を付与する又は高めるために、シリケート粘着付与樹脂のような粘着付与樹脂が、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドコポリマーに添加される。シリケート粘着付与樹脂は、得られた接着剤組成物の物理的特性に影響を与え得る。例えば、シリケート粘着付与樹脂含量が増加するにつれて、接着剤組成物のガラス状からゴム状への転移は、次第に高温で生じるようになる。
適切なシリケート粘着付与樹脂としては、以下の構造単位M(即ち一価のR’SiO1/2単位)、D(即ち二価のR’SiO2/2単位)、T(即ち三価のR’SiO3/2単位)、及びQ(即ち四価のSiO4/2単位)、並びにこれらの組み合わせで構成される樹脂が挙げられる。典型的なシリケート樹脂としては、MQシリケート粘着付与樹脂、MQDシリケート粘着付与樹脂、及びMQTシリケート粘着付与樹脂が挙げられる。これらのシリケート粘着付与樹脂は、通常、100〜50,000の範囲の、又は500〜15,000の範囲の数平均分子量を有し、かつ、一般に、メチルR’基を有する。
MQシリケート粘着付与樹脂は、R’SiO1/2単位(「M」単位)及びSiO4/2単位(「Q」単位)を有するコポリマー樹脂であり、ここで、M単位はQ単位に結合しており、その各々が少なくとも1つの他のQ単位に結合している。SiO4/2単位(「Q」単位)の一部は、ヒドロキシル基に結合して、HOSiO3/2単位(「TOH」単位)をもたらし、それにより、シリケート粘着付与樹脂のケイ素結合ヒドロキシル含量を占め、一部は、他のSiO4/2単位にのみ結合している。
適切なシリケート粘着付与樹脂は、Dow Corning(Midland,MI)、General Electric Silicones(Waterford,NY)及びRhodia Silicones(Rock Hill,SC)などの供給源から市販されている。特に有用なMQシリケート粘着付与樹脂の例としては、取引表示SR−545及びSR−1000で入手可能なものが挙げられ、それらの双方が、GE Silicones(Waterford,NY)から市販されている。このような樹脂は、一般に、有機溶媒中にて供給され、受け取ったままで本発明の接着剤の配合に利用してもよい。2種以上のシリケート樹脂のブレンドを接着剤組成物中に含ませることができる。
接着剤組成物は、典型的には、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドとシリケート粘着付与樹脂とを合わせた重量を基準にして、20〜80重量パーセントのポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び20〜80重量パーセントのシリケート粘着付与樹脂を含有する。例えば、接着剤組成物は、30〜70重量パーセントのポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び30〜70重量パーセントのシリケート粘着付与樹脂、35〜65重量パーセントのポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び35〜65重量パーセントのシリケート粘着付与樹脂、40〜60重量パーセントのポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び40〜60重量パーセントのシリケート粘着付与樹脂、又は45〜55重量パーセントのポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び45〜55重量パーセントのシリケート粘着付与樹脂を含有することができる。
接着剤組成物は、無溶媒であるか、又は溶媒を含有することができる。適切な溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、脂肪族炭化水素(例えばヘキサンなどのアルカン)、又はこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。接着剤組成物としては、当技術分野で公知の他の接着剤が更に挙げられる。
キャリアフィルム
第1の及び第2のテンプレート層は、任意選択のキャリアフィルム(例えば140、640、641)を備えてもよい。光学的キャリアフィルムは、例えば他の層に機械的支持を提供することができる熱安定性可撓性フィルムなどの、任意の適切なフィルムであり得る。任意選択のキャリアフィルム140は、50℃超で、あるいは70℃で、あるいは120℃超で熱的に安定であり得る。任意選択のキャリアフィルム140の一例は、ポリエチレンテレフタレート(Polyethylene Terephthalate、PET)である。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルム140としては、紙、剥離コーティングした紙、不織布、織布(布地)、金属フィルム及び金属箔を含みうる。
種々の熱硬化又は熱可塑性ポリマーで構成される種々の有機ポリマーフィルム基材は、任意選択のキャリアフィルム140として使用するのに適している。この支持体は、単層フィルム又は多層フィルムであり得る。任意選択のキャリアフィルムとして使用することができるポリマーの実例としては、(1)ポリ(クロロトリフルオロエチレン)、ポリ(テトラフルオロエチレン−コヘキサフルオロプロピレン)、ポリ(テトラフルオロエチレン−co−ペルフルオロ(アルキル)ビニルエーテル)、ポリ(フッ化ビニリデン−コヘキサフルオロプロピレン)などのフッ素化ポリマー、(2)E.I.duPont Nemours(Wilmington,DE)から入手可能なSURLYN−8920 Brand及びSURLYN−9910 Brandなどの、ナトリウムイオン又は亜鉛イオンを有するイオノマーエチレンコポリマーポリ(エチレン−co−メタクリル酸)、(3)低密度ポリエチレンなどの低密度ポリエチレン、直鎖状の低密度ポリエチレン、及びごく低密度のポリエチレン、可塑化ポリ(塩化ビニル)などの可塑化ビニルハロゲン化ポリマー、(4)ポリ(エチレン−co−アクリル酸)「EAA」、ポリ(エチレン−co−メタクリル酸)「EMA」、ポリ(エチレン−co−マレイン酸)、及びポリ(エチレン−co−フマル酸)などの酸官能性ポリマーを含むポリエチレンコポリマー;アルキル基がメチル、エチル、プロピル、ブチルなど、又はCH3(CH2)n−(式中、nは0〜12である)であるポリ(エチレン−co−アルキルアクリレート)及びポリ(エチレン−co−ビニルアセテート)「EVA」などのアクリル官能性ポリマー、並びに(5)(例えば)脂肪族ポリウレタンが挙げられる。任意選択のキャリアフィルムは、オレフィン高分子材料とすることができ、典型的に2〜8個の炭素原子を有するアルキレンを少なくとも50重量%を含み、最も一般的にはエチレン及びプロピレンが使用されてもよい。他の本体層としては、例えば、ポリ(エチレンナフタレート)、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート(例えばポリメチルメタクリレート又は「PMMA」)、ポリオレフィン(例えばポリプロピレン又は「PP」)、ポリエステル(例えばポリエチレンテレフタレート又は「PET」)、ポリアミド、ポリイミド、フェノール樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、環状オレフィンコポリマー、エポキシなどが挙げられる。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルムとしては、紙、剥離コーティングした紙、不織布、織布(布地)、金属フィルム及び金属箔を含みうる。
テンプレートはキャリアフィルムを備えることができるものの、テンプレート層は、微小光学層がレセプタ基材(例えばガラス板)上へ転写された後に除去される。
そのため、ひとたび微小光学層がレセプタ基材(例えばガラス板)上へ移されると、微小光学層とガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材はない。更に、断熱グレージングユニットは、典型的に、有機ポリマーフィルム基材を一切含まない。こうした有機ポリマーフィルム基材は、典型的に、少なくとも1mil又は2milの厚さを有する。
除去可能なテンプレート
テンプレート層110は、例えば、エンボス加工、複製(replication)プロセス、押出加工、キャスト又は表面構造化を通じて形成することができる。テンプレート層110が、ナノ構造、ミクロ構造又は階層的構造を有し得る構造化面114を有してもよいことが理解されよう。いくつかの実施形態では、テンプレート層110は、パターニング、化学線パターニング、エンボス加工、押出加工及び共押出加工に適合可能であり得る。
典型的には、テンプレート層110は、複製プロセス中に低い粘度を有してもよく、次いで、急速に硬化して、複製されたナノ構造、ミクロ構造又は階層的構造内に「固定される」永久架橋ポリマーネットワークを形成することができる、光硬化性材料を含む。テンプレート層110には、光重合の当業者に公知の任意の光硬化性樹脂を使用することができる。テンプレート層110に使用される樹脂は、架橋されたときに、開示されている転写テープの使用中にバックフィル層120から剥離されることが可能であるか、又は剥離層の適用(application)と、剥離層を適用(applying)する工程と、に適合可能でなければならない。
テンプレート層110として使用することができるポリマーとしてはまた、以下が挙げられる:スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン(メタ)アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオダクチックポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、環状オレフィンポリマー、及びアクリロニトリルとブタジエンとスチレンとのコポリマー。好ましい1つのポリマーは、Ineos ABS(USA)Corporationから入手可能なLustran SAN Sparkle材料である。放射線硬化テンプレート層110用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
パターニングされた構造化テンプレート層は、曝された面を有する層を付与するために放射線硬化性組成物の層を放射線透過性支持体の1つの面上に堆積させることと、遠位面部分及び隣接する陥凹面部分を含む、正確に成形され、かつ位置付けられる相互作用的な機能的不連続性の三次元微細構造を、その支持体上の放射線硬化性組成物の層の曝された面の中に付与することができるパターンを担持する予備成形面にマスタを十分な接触圧力下で接触させて、そのパターンをその層へ付与することと、放射線硬化性組成物の層がマスタのパターニングされた面と接触している間に、キャリアを通してその硬化性組成物を十分なレベルの放射線に曝して、その組成物を硬化させることと、によって形成することができる。このキャスト及び硬化の工程は、支持体のロールを使用して連続的に行うことができ、硬化性材料の層を該支持体上に堆積させ、この硬化性材料を原型に対して積層し、化学線を使用してこの硬化性材料を硬化させる。次いで、これにより得られた、パターニングされた構造化テンプレートをその上に有する支持体のロールは、巻き取られ得る。この方法は、例えば、米国特許第6,858,253号(Williamsら)で開示されている。
押出加工又はエンボス加工したテンプレート層の場合、テンプレート層を構成する材料は、付与される頂部構造化面の特定のトポグラフィーに応じて選択することができる。一般に、材料は、材料が固化する前に構造が完全に複製されるように選択される。これは、押出加工の工程中に材料が保持される温度、頂部構造化面を付与するために使用される工具の温度、及び押出加工が実行されているときの速度に、部分的に依存する。典型的には、頂部層において使用される押出可能なポリマーは、大部分の動作条件下での押出加工複製及びエンボス加工に適するように、約140℃未満のT、又は約85℃〜約120℃のTを有する。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルム及びテンプレート層は、同時に共押出加工することができる。この実施形態は、少なくとも2つの共押出加工層、すなわち、1つのポリマーを有する頂部層と、別のポリマーを有する底部層とを必要とする。頂部層が第1の押出可能なポリマーを含む場合、第1の押出可能なポリマーは、Tが約140℃未満であり得て、又はTが約85℃〜約120℃であり得る。頂部層が第2の押出可能なポリマーを含む場合、任意選択のキャリアフィルムとして機能することができる第2の押出可能なポリマーは、Tが約140℃、又はTが約85℃〜約120℃であり得る。分子量及び溶融粘度などの他の特性もまた考慮されなければならず、この特性は、使用される特定のポリマーに依存する。テンプレート層で使用される材料もまた、任意選択のキャリアフィルムが良好な接着性を有し、それにより物品の製品寿命中に2つの層の層間剥離を最小限に抑えるように選択されなければならない。
押出加工又は共押出加工されたテンプレート層は、テンプレート層にパターニングされた構造部を付与することができるマスタロール上にキャストすることができる。これは、バッチ式で、又は連続的なロールツーロール処理で行うことができる。加えて、任意選択のキャリアフィルムは、押出加工又は共押出加工されたテンプレート層上に押出加工することができる。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルムとテンプレート層との両層は、同時に共押出加工され得る。
テンプレート層ポリマーとして使用することができる有用なポリマーとしては、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン(メタ)アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオダクチックポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、及びアクリロニトリルとブタジエンとスチレンとのコポリマーから成る群から選択される1種以上のポリマーが挙げられる。第1の押出加工可能なポリマーとして使用することができる特に有用なポリマーとしては、Dow Chemicalから入手可能なTYRILコポリマーとして知られているスチレンアクリロニトリルコポリマーが挙げられ、例としては、TYRIL880及び125が挙げられる。テンプレートポリマーとして使用することができる特に有用な他のポリマーとしては、双方ともNova Chemicalによる、スチレン無水マレイン酸コポリマーDYLARK 332及びスチレンアクリレートコポリマーNAS 30が挙げられる。また、ケイ酸マグネシウム、酢酸ナトリウム、又はメチレンビス(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)酸リン酸ナトリウムなどの成核剤とブレンドしたポリエチレンテレフタレートも有用である。
更なる有用なポリマーとしては、CoPEN(ポリエチレンナフタレートのコポリマー)、CoPVN(ポリビニルナフタレンのコポリマー)、及びポリエーテルイミドを含むポリイミドが挙げられる。適切な樹脂組成物としては、寸法安定性、耐久性、耐候性があり、かつ所望の構成へ容易に成形可能である透明材料が挙げられる。適切な材料の例としては、Rohm and Haas社製、製品名PLEXIGLASの樹脂のような、約1.5の屈折率を有するアクリル、約1.59の屈折率を有するポリカーボネート、熱硬化アクリレート及びエポキシアクリレートなどの反応性材料、E.I.Dupont de Nemours and Co.,Inc.により商品名SURLYNで市販されているものなどのポリエチレン系イオノマー、(ポリ)エチレン−co−アクリル酸、ポリエステル、ポリウレタン、及びセルロースアセテートブチレートが挙げられる。テンプレート層は、米国特許第5,691,846号(Benson)で開示されているように、任意選択のキャリアフィルム上に直接キャストすることによって調製することができる。放射線硬化構造用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
テンプレート層の調製に使用される重合性組成物は、放射線硬化性部分については、単官能性でも多官能性(例えば、ジ−、トリ−、及びテトラ−)でもよい。適切な単官能性重合性前駆物質の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、置換スチレン、ビニルエステル、ビニルエーテル、オクチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールエトキシレート(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、脂環式エポキシド、α−エポキシド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、N−ビニルカプロラクタム、ステアリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシル官能性カプロラクトンエステル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシイソプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシイソブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフリル(メタ)アクリレート、及びこれらの任意の組み合わせが挙げられる。
適切な多官能性重合性前駆物質の例としては、エチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ポリ(1,4−ブタンジオール)ジ(メタ)アクリレート、上に列挙した材料の、任意の置換、エトキシ化又はプロポキシ化したもの、又はこれらの任意の組み合わせが挙げられる。
重合反応は、一般に、三次元の「架橋」高分子ネットワークの形成をもたらし、ネガ型フォトレジストとして当技術分野で公知でもあって、Shaw et al.,「Negative photoresists for optical lithography」,IBM Journal of Research and Development(1997)41,81−94で論評されている。ネットワークの形成は、共有結合、イオン結合若しくは水素結合のいずれかを通して、又は鎖のもつれなどの物理架橋機序を通して発生し得る。この反応はまた、1つ以上の中間体種、例えば、フリーラジカル生成光重合開始剤、光増感剤、光酸発生剤、光塩基発生剤又は熱酸発生剤を通して開始することもできる。使用される硬化剤の種類は、使用される重合性前駆物質、及びその重合性前駆物質を硬化させるために使用される放射線の波長に依存する。適切な市販のフリーラジカル生成光重合開始剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾインエーテル及びアシルホスフィン光重合開始剤が挙げられ、例えば、Ciba Specialty Chemicals(Tarrytown,NY)から取引表示「IRGACURE」及び「DAROCUR」で販売されている。他の例示的な光重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(DMPAP)、2,2−ジメトキシアセトフェノン(DMAP)、キサントン及びチオキサントンが挙げられる。
共開始剤及びアミン共力剤(synergist)もまた、硬化速度を向上させるために含まれてもよい。架橋マトリックス内の硬化剤の適切な濃度は、重合性前駆物質の全重量に対して、約1重量%〜約10重量%の範囲であり、特に適切な濃度は約1重量%〜約5重量%の範囲である。重合性前駆物質はまた、任意選択の添加物、例えば熱安定剤、紫外線光安定剤、フリーラジカル捕捉剤、及びこれらの組み合わせも含んでよい。適切な市販の紫外線光安定剤の例としては、ベンゾフェノン型紫外線吸収剤が挙げられ、これは、BASF Corp.(Florham Park,NJ)から取引表示「UVINOL 400」で、Cytec Industries(West Patterson,NJ)から取引表示「CYASORB UV−1164」で、及びBASF Corp.(Florham Park,NJ)から取引表示「TINUVIN 900」及び「TINUVIN 1130」で入手可能である。重合性前駆物質における紫外線光安定剤の適切な濃度の例は、重合性前駆物質の全重量に対して、約0.1重量%〜約10重量%の範囲であり、特に適切な合計濃度は約1重量%〜約5重量%の範囲である。
適切なフリーラジカル捕捉剤の例としては、ヒンダードアミン光安定剤(hindered amine light stabilizer、HALS)化合物、ヒドロキシルアミン、立体障害性フェノール、及びこれらの組み合わせが挙げられる。適切な市販のHALS化合物の例としては、BASF Corp.(Florham Park,NJ)からの取引表示「TINUVIN 292」及び「TINUVIN 123」、及びCytec Industries(West Patterson,NJ)からの取引表示「CYASORB UV−24」が挙げられる。重合性前駆物質におけるフリーラジカル捕捉剤の適切な濃度の例は、約0.05重量%〜約0.25重量%の範囲である。
テンプレート層110は、典型的に、硬化バックフィル層120から除去されて最終的な微小光学グレージングをもたらす。バックフィル層120の、テンプレート層110への接着性を低減させる1つの方法は、上に記載した剥離コーティングであり得る任意選択の転写層130を適用(apply)することである。
剥離層
適用(applied)される任意の層への接着力の低下を、剥離層又はコーティングを適用(application)することによって達成することができ、かつそのような剥離コーティングは、剥がしやすくするために転写フィルム中の任意の層に適用(applied)することができ、例えば剥離ライナー内で使用することもできる。剥離コーティングを支持用キャリアフィルムの面に適用(applying)する1つの方法は、プラズマ蒸着によるものである。プラズマ架橋剥離コーティングを作出するために、オリゴマーを使用することができる。オリゴマーは、コーティング前に、液体形態又は固体形態であってもよい。典型的に、オリゴマーは、1000を超える分子量を有する。また、オリゴマーは、オリゴマーの揮発性が高過ぎないように、典型的には、10,000未満の分子量を有する。10,000を超える分子量を有するオリゴマーは、典型的には、揮発性が低すぎる場合があり、コーティングの最中に液滴を生じさせ得る。一実施形態では、オリゴマーは、3000超、かつ7000未満の分子量を有する。別の実施形態では、オリゴマーは、3500超、かつ5500未満の分子量を有する。典型的には、オリゴマーは、低摩擦面コーティングを付与するという特性を有する。適切なオリゴマーとしては、シリコーン含有炭化水素類、反応性シリコーン含有トリアルコキシシラン類、芳香族及び脂肪族の炭化水素、フルオロケミカル、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。例えば、適切な樹脂としては、ジメチルシリコーン、炭化水素系ポリエーテル、フルオロケミカルポリエーテル、エチレンテトラフルオロエチレン、及びフルオロシリコーンが挙げられるが、これらに限定されない。フルオロシラン表面化学、真空蒸着及び表面フッ素化を用いて、剥離コーティングを付与することもできる。
プラズマポリマー薄膜は、従来のポリマーとは異なる分類の、剥離層又はコーティングに使用可能な材料である。プラズマポリマーでは、重合が不規則で、架橋度が極めて高く、結果として生じるポリマーフィルムが、対応する「従来の」ポリマーフィルムとは非常に異なる。したがって、プラズマポリマーは、当業者によって、独特に異なる分類の材料であるとみなされており、開示される物品において有用である。加えて、剥離コーティングをテンプレート層に適用(apply)する他の方法が存在し、ブルーミング、コーティング、共押出加工、スプレーコーティング、電着又は浸漬コーティングが挙げられるがこれらに限定されない。
剥離コーティング又は層は、フッ素含有材料、ケイ素含有材料、フルオロポリマー、シリコーンポリマー、又は12〜30個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを含むモノマーから誘導されるポリ(メタ)アクリレートエステルであり得る。一実施形態では、アルキル基は分枝状であってもよい。有用なフルオロポリマー及びシリコーンポリマーの実例は、米国特許第4,472,480号(Olson)、同第4,567,073号、及び同第4,614,667号(双方ともLarson et al.)内に確認できる。有用なポリ(メタ)アクリレートエステルの実例は、米国特許出願公開第2005/118352号(Suwa)内に確認できる。ライナーを除去しても、転写層の表面トポロジーが不利に変化すべきではない。
バックフィル層
バックフィル層120の材料は、典型的には、いくつかの要件を満たすことができる。第1に、これは、コーティングされるテンプレート層110の構造化面114に適合することができる。これは、コーティング溶液の粘性が、気泡を捕らえずにごく小さい特徴の中に流れ込むことができる程度に十分低くあるべきことを意味し、それが複製された構造の良好な忠実度(fidelity)につながる。それが溶媒系である場合、それは、下層のテンプレート層110を溶解しない溶媒によりコーティングされるべきであり、溶解が生じると、バックフィル層120のクラック又は他の有害な欠陥を生じさせ得る。溶媒が、テンプレート層110のガラス転移温度のそれよりも低い沸点を有することが望ましい。好ましくは、イソプロパノール、ブチルアルコール、及び他のアルコール溶媒を使用する。第2に、この材料は、十分な機械的一体性(例えば「グリーン強度」)を有して硬化させるべきである。バックフィル層120の材料が、硬化後に十分なグリーン強度を有していない場合、バックフィル層120の転写構造化面124の特徴が沈下し、複製の忠実度(fidelity)が低下することがある。第3に、いくつかの実施形態の場合、硬化材料の屈折率は、適切な光学効果を生成するように調整されるべきである。第4に、バックフィル層120の材料はその後の工程における温度の上側の範囲を超える温度で、熱的に安定して(例えば、最小限のクラッキング、ブリスタリング又はポッピングを示す)いるべきである。
ポリマーは、当技術分野で、有機部分と無機部分との組合せを有すると知られている。ポリマーにおける有機部分は、硬化性、可撓性などのために使用されてもよく、一方、無機部分は、高い耐熱性、耐候性、耐久性などのために使用されてもよい。こうした1種のポリマーが、長瀬産業株式会社(日本、大阪)から取引表示「SA−250P」で入手可能である。このポリマーは、当技術分野で公知の方法、例えば紫外線光を吸収する光重合開始剤と組み合わせた紫外線照射を用いて硬化され得る。硬化後、このポリマーは、屈折率計で測定した屈折率が約1.6であり、UV−Vis分光光度計で測定した透過率が高い(T>88%)。有機部分と無機部分との組合せを含有する他の硬化性ポリマーは、硬化後に、約1.50の屈折率を有する。
いくつかの事例では、高度に分枝化された有機ケイ素材料は、高度に分枝化された有機ケイ素オリゴマー、高度に分枝化された有機ケイ素ポリマー、又はこれらの組み合わせを含む。バックフィル層120は、紫外(UV)線、電離放射線などの化学線によって硬化され得、熱的に硬化され得、又は化学線硬化と熱硬化との組み合わせにより硬化可能であってもよい。高度に分枝化された有機ケイ素材料としては、更に、ナノ粒子充填シルセスキオキサンなどの複合材料を形成する、有機ケイ素材料と屈折率が一致し得る、ガラス又はセラミックなどの無機粒子が挙げられる。
バックフィル材料は、高度に分枝化された有機ケイ素オリゴマーの分類、及びSi−OH基のホモ縮合、残存する加水分解性基(例えばアルコキシ)とのヘテロ縮合、及び/又は有機官能基(例えばビニル、アクリレート又はメタクリレートなどのエチレン性不飽和)による反応による、架橋ネットワークを形成するよう更に反応され得る、一般式(下記)のポリマーを含んでもよく又はそれから成ってもよい。この分類の材料は、以下の一般式のオルガノシランから主に誘導される。
SiZ4−x
式中、
Rは、水素、置換若しくは非置換C〜C20アルキル、置換若しくは非置換C〜C10アルキレン、置換若しくは非置換C〜C20アルケニレン、C〜C20アルキニレン、置換若しくは非置換C〜C20シクロアルキル、置換若しくは非置換C〜C20アリール、置換若しくは非置換C〜C20アリーレン、置換若しくは非置換C〜C20アリールアルキル基、置換若しくは非置換C〜C20ヘテロアルキル基、置換若しくは非置換C〜C20ヘテロシクロアルキル基、及び/又はこれらの組み合わせから選択される。
Zは、加水分解性基、例えばハロゲン(元素F、Br、Cl又はIを含有)、C〜C20アルコキシ、C〜C20アリールオキシ、及び/又はこれらの組み合わせである。
組成の大半は、RSiO3/2単位から成り、したがって材料の分類は、シルセスキオキサン(又はT樹脂)と呼ばれることも多いが、これらはまた、モノ−(RSi−O1/2)、ジ−(RSiO2/2)、及びテトラ官能基(Si−O4/2)を含有してもよい。以下の式の有機修飾ジシラン:
3−nSi−Y−SiR3−n
は、加水分解性組成において使用されてこの材料の特性を更に修飾する(いわゆる架橋されたシルセスキオキサンを形成する)ことが多く、R基及びZ基は、上記のように定義される。この材料は、金属アルコキシド(M(OR))との配合及び反応を更に経て、金属シルセスキオキサンを形成することもできる。
バックフィル材料は、以下の一般式の、高度に分枝化された有機ケイ素オリゴマー及びポリマーを含んでもよく又はこれらから成ってもよい:

1、、R3、及びRは、独立に、水素、置換又は非置換C〜C20アルキル、置換又は非置換C〜C10アルキレン、置換又は非置換C〜C20アルケニレン、C〜C20アルキニレン、置換又は非置換C〜C20シクロアルキル、置換又は非置換C〜C20アリール、置換又は非置換C〜C20アリーレン、置換又は非置換C〜C20アリールアルキル基、置換又は非置換C〜C20ヘテロアルキル基、置換又は非置換C〜C20ヘテロシクロアルキル基、及び/又はこれらの組み合わせから選択され、
Zは、ハロゲン(元素F、Br、Cl、又はIを含有)、C〜C20アルコキシ、C〜C20アリールオキシ、及び/又はこれらの組み合わせなどの、加水分解性基である。
mは、0〜500の整数であり、
nは、1〜500の整数であり、
pは、0〜500の整数であり、
qは、0〜100の整数である。
本明細書で用いられるとき、用語「置換されている」は、化合物の水素ではなく、ハロゲン(元素F、Br、Cl、又はIを含む)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシ基又はその塩、スルホン酸基又はその塩、リン酸基又はその塩、アルキル基、C〜C20アルケニル基、C〜C20アルキニル基、C〜C30アリール基、C〜C13アリールアルキル基、C〜Cオキシアルキル基、C〜C20ヘテロアルキル基、C〜C20ヘテロアリールアルキル基、C〜C30シクロアルキル基、C〜C15シクロアルケニル基、C〜C15シクロアルキニル基、ヘテロシクロアルキル基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つの置換基で置換されていることを指す。
得られた高度に分枝化された有機ケイ素ポリマーは、分子量が、150〜300,000Daの範囲であり、好ましくは150〜30,000Daの範囲である。
バックフィルのために使用されてもよい材料としては、ポリシロキサン樹脂、ポリシラザン、ポリイミド、ブリッジ又はラダー型のシルセスキオキサン、シリコーン及びシリコーンハイブリッド材料、並びに他の多くのものが挙げられる。これらの分子は、典型的に、高い寸法安定性、機械的強度、及び耐化学性をもたらす無機成分と、溶解度及び反応性に役立つ有機成分とを有する。
多くの実施形態では、熱安定性分子種としては、ケイ素、ハフニウム、ストロンチウム、チタン又はジルコニウムが挙げられる。いくつかの実施形態では、熱安定性分子種としては、金属、金属酸化物又は金属酸化物前駆物質が挙げられる。金属酸化前駆物質は、無機ナノ粒子の非晶質の「結合剤」として作用するために使用されてもよく、又はそれらは単独で使用されてもよい。
本明細書に記載されているバックフィル組成物は、無機ナノ粒子を含んでもよい。これらのナノ粒子は、種々のサイズ及び形をとることができる。ナノ粒子は、約1000nm未満、約100nm未満、約50nm未満、又は約35nm未満の平均粒径を有することができる。ナノ粒子は、約3nm〜約50nm、又は約3nm〜約35nm、又は約5nm〜約25nmの平均粒径を有することができる。ナノ粒子が凝集される場合、凝集粒子の最大断面寸法は、これらの任意の範囲内とすることができ、また、約100nm超とすることもできる。一次粒径が約50nm未満の「ヒュームド」ナノ粒子(例えばシリカ及びアルミナ)、例えばCabot Co.(Boston,MA)から入手可能なCAB−OSPERSE PG002ヒュームドシリカ、CAB−O−SPERSE2017Aヒュームドシリカ、及びCAB−OSPERSE PG003ヒュームドアルミナなどを使用してもよい。これらの測定は、透過電子顕微鏡法(transmission electron microscopy、TEM)に基づいて行うことができる。ナノ粒子は、実質的に完全に凝縮(fully condensed)されていてもよい。コロイド状シリカのような完全凝縮ナノ粒子は、典型的に、実質的に内部に水酸基を実質的に有していない。非シリカ含有完全凝縮ナノ粒子の結晶化度(独立粒子として測定)は、典型的には55%超、好ましくは60%超、より好ましくは70%超である。例えば、結晶化度は、最大約86%以上の範囲であり得る。結晶化度を、X線回折法によって測定することができる。凝縮された結晶性(例えばジルコニア)ナノ粒子は、高い屈折率を有するが、一方で、非晶質ナノ粒子は、典型的に、より低い屈折率を有する。無機又は有機ナノ粒子の種々の形、例えば球形、棒状、シート状、筒状、ワイヤー状、立方体、円錐、四面体などが使用されてもよい。
粒子のサイズは、一般に、透明度又は散乱などの所望の光学的効果を生じるように選ばれる。ナノ材料の組成はまた、種々の光学的特性(即ち屈折率、複屈折)、電気的特性(例えば導電性)、機械的特性(例えば靭性、鉛筆硬度、耐ひっかき性)、又はこれら特性の組み合わせを提供することができる。光学特性又は材料特性を最適化するために、かつ組成物の総コストを下げるために、有機物粒子と無機酸化物粒子との混合物を使用することが望ましいことがある。
適切な無機ナノ粒子の例としては、元素のジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、ハフニウム(Hf)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、バナジウム(V)、アンチモン(Sb)、スズ(Sn)、金(Au)、銅(Cu)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、クロム(Cr)、マンガン(Mn)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、イットリウム(Y)、ニオブ(Nb)、モリブデン(Mo)、テクネチウム(Te)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、カドミウム(Cd)、ランタン(La)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、レニウム(Rh)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、及びこれらの任意の組み合わせを含む金属ナノ粒子又はこれらのそれぞれの酸化物が挙げられる。
適切な無機ナノ粒子の例としては、ランタン(La)、セリウム(CeO)、プラセオジム(Pr11)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、ユーロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、及びルテチウム(Lu)などの希土類元素及びその酸化物として知られる元素が挙げられる。
ナノ粒子は、典型的に、表面処理剤で処理される。ナノサイズの粒子を表面処理することで、ポリマー樹脂中での安定した分散をもたらすことができる。好ましくは、表面処理は、粒子が実質的に均一な組成物中でよく分散されるように、ナノ粒子を安定化させる。更に、ナノ粒子は、安定化された粒子が硬化中に組成物の一部と共重合できる又は反応できるように、その表面の少なくとも一部に亘り、表面処理剤で改質することができる。一般に、表面処理剤は、粒子表面に付着(共有結合、イオン結合又は強い物理吸着による結合)する第1の末端、及び粒子と組成物との適合性を提供する、及び/又は硬化中に組成物と反応する、第2の末端を有する。表面処理剤の例としては、アルコール、アミン、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、シラン及びチタン酸塩が挙げられる。好ましいタイプの処理剤は、部分的には、金属酸化物表面の化学的性質により決定される。シリカに対してはシランが好ましく、ケイ質充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアなどの金属酸化物に対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。表面改質は、モノマーとの混合に続いて又は混合後のいずれかで行うことができる。シランの事例では、組成物中へ組み込む前にシランを粒子又はナノ粒子の表面と反応させるのが好ましい。表面改質剤の必要量は、粒径、粒子タイプ、改質剤の分子量及び改質剤のタイプなどのいくつかの要素に依存する。一般に、おおむね単層の改質剤を、粒子の表面に付着させることが好ましい。必要とされる付着方法又は反応条件もまた、使用される表面改質剤に依存する。シランの場合、酸性又は塩基性の条件下、高温で約1〜24時間表面処理することが好ましい。カルボン酸のような表面処理剤は、高温も長時間も必要としないことがある。
本組成物に適切な表面処理剤の代表的な実施形態としては、例えば、イソオクチルトリメトキシ−シラン、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート(PEGTES)、N−(3−トリエトキシシリルプロピル)メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート(PEGTES)、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、3−(アクリロイルオキシプロピル)メチルジメトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、3−(メタクリロイルオキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−5グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸(MEEAA)、β−カルボキシエチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)酢酸、メトキシフェニル酢酸、及びこれらの混合物などの化合物が挙げられる。更に、取引表示「Silquest A1230」でOSI Specialties(Crompton South Charleston,WV)から市販されている独自開発のシラン表面改質剤が特に適切であることが確認されている。
いくつかの実施形態では、バックフィル層としては、複製処理中に低い粘度を有することができ、次いで、急速に硬化して、複製されたナノ構造、ミクロ構造又は階層的構造内に「固定される」永久架橋ポリマーネットワークを形成することができる、光硬化性(例えばポリシロキサン)材料が挙げられる。
パターニング
転写テープ、微小光学グレージング及び断熱ガラスユニットは、図4及び図5に描かれているような微小光学パターンを備えることができる。いくつかの実施形態では、バックフィル層は、テンプレート層の構造化面上に、パターン状で配置される。別法では、かつより典型的にこれらの組み合わせでは、接着剤層は、(例えば、パターニングされた)バックフィル層の微細構造化面上にパターン状で配置される。いくつかの実施形態では、上端での構造化面領域の面積率は、>90%であり、反対側の下端での構造化面領域の面積率は、<10%である。バックフィル層材料及び/又は接着剤は、印刷材料又はそうでなければ堆積材料によって、パターン状で、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷などによって、例えば当業者に公知の技術によって適用され得る。
バックフィル層及び接着剤がパターニングされているとき、バックフィル層及び接着剤層は、図1B及び図2Cに描かれているように、x軸に沿って不連続的(例えば垂直のストリップパターン)、y軸に沿って不連続的(例えば水平のストリップパターン)、又はx軸とy軸との双方に沿って不連続的(例えば島)であり得る。
別の実施形態では、転写テープが製造されるときにバックフィル層と接着剤層とがx軸とy軸とに沿って連続的である、転写テープを製造する方法が記載されている。バックフィル層と接着剤層とは、パターンコーティングがされない。しかしながら、転写テープは、図1Bに描かれているように、(例えば刻み目が)カットされ、カットされていない部分が一旦除去されると、転写テープはパターニングされたバックフィル層及び接着剤を備える。
図8Aを参照すると、この方法は、任意選択のキャリアフィルム840と、テンプレート層810と、第1のテンプレートの少なくとも一部で配置される微小光学層とを含む(第1の)テンプレートを備える転写テープ801を用意することを含む。微小光学層は、硬化バックフィル層820を備え、ここで、微小光学層は、構造化面814と、その反対側の面とを有する。接着剤層850は、微小光学層の反対側の面上に配置される。典型的な実施形態では、剥離ライナー870が、接着剤層850の対向面上に付与される。連続的剥離ライナー870上に配置される、連続的バックフィル層820と連続的接着剤層850とを有する転写テープは、次いで、カットされた部分が剥離ライナーを残し、カットしてない部分が除去され得る(例えば1つの連続片として)ように、第1のテンプレート802と硬化バックフィル層820及び接着剤層850を貫通して刻み目カッティングに供される。刻み目カッティングは、レーザーカッティング及びロータリーダイカッティングなどの任意の適切な手段によって行われ得る。
いくつかの実施形態では、微小光学層の反対側の面は、微細構造化面822である。この実施形態では、接着剤850は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する。微細構造化面822が描かれてはいるが、この態様は、刻み目カットされた転写テープに関して任意選択である。
図8Bを参照すると、転写テープ801又は802は、微小光学グレージングを製造する方法において利用され得る。こうした方法は、剥離ライナー870上に配置される複数の刻み目部分を有する転写テープ801を用意することと、剥離ライナー870を除去することと、刻み目カット部分の接着剤850をガラス板880に接着させることと、を含む。この方法は、任意選択のキャリアフィルム840とテンプレート層810とを備える第1のテンプレート840を除去することを更に含む。転写テープ802が利用されるとき、第1のテンプレート840のカットしていない部分は、微小光学層820及び接着剤850(その部分によって「X」と指定される)と共に除去され(例えば1つの連続片として)、その後に接着剤850をガラス板880に接着させる。接着剤850は、典型的には、ガラス板840と屈折率が一致する。
剥離ライナー
任意選択の剥離ライナー170は、取り扱い中に、パターニングされた構造化層を保護することができ、かつ/又は接着剤層(例えば150、850)を保護することができ、かつ構造化層若しくは構造化層の一部をレセプタ基材に転写するために、必要なときに容易に除去することができる剥離ライナーであり得る。開示されている、パターニングされた構造化テープに有用な例示的なライナーは、PCT特許出願公開WO2012/082536号(Baran et al.)で開示されている。
ライナーは、可撓性であっても剛性であってもよい。好ましくは、それは、可撓性である。適切なライナー(好ましくは可撓性ライナー)は、典型的には、少なくとも厚さ0.5mil、かつ典型的には厚さ20mil以下である。ライナーは、その第1の面上に配置されている剥離コーティングを有する裏材であり得る。任意選択で、剥離コーティングは、その第2の面上に配置され得る。この裏材がロールの形態である移動物品に使用される場合、第2の剥離コーティングは、第1の剥離コーティングよりも低い剥離値を有する。剛性ライナーとして機能し得る適切な材料には、金属、金属合金、金属マトリクス複合材料、金属化プラスチック、無機ガラス及びガラス化された有機樹脂、成形セラミック、並びにポリマーマトリクス補強複合材料が挙げられる。
例示的なライナー材料としては、紙及び高分子材料が挙げられる。例えば、可撓性裏材としては、高密度クラフト紙(例えばLoparex North America(Willowbrook,IL)から市販されているもの)、ポリエチレン塗布クラフト紙などのポリコート紙、及び高分子フィルムが挙げられる。適切な高分子フィルムとしては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、セルロース、ポリアミド、ポリイミド、ポリシリコーン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、又はこれらの組み合わせが挙げられる。不織布又は織布ライナーもまた、有用であり得る。不織布又は織布ライナーを用いた実施形態は、剥離コーティングを組み込んでもよい。CLEARSIL T50剥離ライナー、Solutia/CP Films(Martinsville,VA)から入手可能なシリコーンコーティングした2milのポリエステルフィルムライナー、及びLoparex,North America(Willowbrook,IL)から入手可能なLOPAREX 5100 Relase Liner、フルオロシリコーンコーティングした2milのポリエステルフィルムライナーが、有用な剥離ライナーの例である。
他の添加剤
当技術分野で公知である種々の接着剤が、転写テープの層の任意のものの中に含まれてもよく、例えばフィルムの保管、出荷及び取り扱いの工程における時期尚早の硬化を防止するための抗酸化剤、安定剤、阻害剤などである。
レセプタ基材
転写フィルム及び転写フィルムを適用(applying)する関連した工程の具体的な利点には、建築用ガラスのような広大な面を有するレセプタ面に構造部を提供できる能力がある。ロールツーロール加工と円筒形マスターテンプレートとを組み合わせて使用すると、大きい寸法の積層転写フィルムが可能になる。本明細書で開示されている転写処理の更なる利点は、平面ではないレセプタ面へ構造部を付与する能力である。レセプタ基材は、転写テープの可撓性フォーマットに起因して、湾曲させることができ、捻じ曲げることができ、又は凹状若しくは凸状の特徴を有することができる。レセプタ基材としては、例えば、自動車用ガラス、板ガラス、回路化可撓性フィルムなどの可撓性電子基材、ディスプレイバックプレーン、ソーラーガラス、金属、ポリマー、ポリマー複合体及びガラス繊維が挙げられる。また更に、別のところで記載しているように、当業者に公知の技術によって、テンプレートフィルム上に、パターン状で材料を印刷する又はそうでなければ堆積することで転写層をパターニングできることも、利点である。
別段の指示がない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される特徴サイズ、量及び物理的特性を表す全ての数は、用語「約」によって修飾されているものとして理解されるべきである。したがって、そうではないことが示されない限り、上記の明細書及び添付の特許請求の範囲に記載されている数値パラメータは、本明細書で開示されている教示を利用して当業者が得ようとする所望の特性に応じて変動し得る、近似値である。
別段の指示がない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される特徴サイズ、量及び物理的特性を表す全ての数は、全ての例において、用語「約」によって修飾されているものとして理解されたい。したがって、そうではないことが示されない限り、上記の明細書及び添付の特許請求の範囲に記載されている数値パラメータは、本明細書で開示されている教示を利用して当業者が得ようとする所望の特性に応じて変動し得る、近似値である。端点による数値範囲の使用は、その範囲内の全ての数(例えば、1〜5は、1、1.5、2、2.75、3、3.80、4及び5を含む)及びその範囲内の任意の範囲を含む。
本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用するとき、単数形「a」、「an」及び「the」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、複数の指示対象を有する実施形態を包含する。本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用するとき、用語「又は」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、一般に、「及び/又は」を含む意味で用いられる。
「下部」、「上部」、「〜の下」、「下側」、「上側」及び「〜の上」などを含むがこれらに限定されない空間に関連する用語は、本明細書で使用される場合、ある要素(複数可)の、別の要素に対する空間的関係を述べる説明を容易にするために利用される。空間に関するこのような用語は、図面に描かれ本明細書で説明される特定の向きに加えて、使用中又は動作中の装置の異なる向きを包含する。例えば、図面に描かれている物体が反転又は裏返された場合、その前の時点で、他の要素の下側又はその下にあるとして説明されていた部分は、したがって、これらの他の要素の上側になるであろう。
本明細書で用いられるとき、ある要素、構成要素若しくは層が、例えば、別の要素、構成要素若しくは層と「一致する境界面」を形成する、これらの「上にある」、これらと「接続される」、「結合される」、若しくは「接触する」として述べられる場合、その要素、構成要素若しくは層は、例えば特定の要素、構成要素若しくは層の直接上にあるか、これらと直接接続されるか、直接接着されるか、直接接触してもよく、又は介在する要素、構成要素若しくは層が特定の要素、構成要素若しくは層の上にあるか、これらと接続されるか、接着されるか、若しくは接触し得る。例えばある要素、構成要素、又は層が、別の要素の「直接上にある」か、別の要素に「直接接続される」、「直接接着する」、又は「直接接触する」ものとして表される場合、例えば介在する要素、構成要素、又は層は存在しない。
用語「化学線」は、ポリマーを架橋する、又は硬化させることができる発光波長を指し、紫外線波長、可視波長及び赤外線波長を含むことができ、ラスタ化レーザーによるデジタル露光、熱デジタル撮像及び電子ビーム走査を含むことができる。
用語「ポリシロキサン」は、ケイ素−酸素結合を含み、かつ炭素−炭素結合及び/又は炭素−水素結合を含んでもよい、高度に分枝化されたオリゴマー又はポリマーの有機ケイ素化合物を指す。
本明細書で引用されている参照文献及び刊行物は全て、それらが本開示を直接、否定し得る範囲を除いて、それらの全体が参照により本開示に明確に組み込まれている。具体的な実施形態が、本明細書で図示し説明されてきたが、当業者であれば、本開示の範囲から逸脱することなく、図示されかつ説明された具体的な実施形態を、様々な代替的かつ/又は等価な実現形態で置き換えることができることが認識されるであろう。本出願は、本明細書において検討している具体的な実施形態の任意の適合例又は変形例を包含することを意図している。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されることが意図される。
埋め込まれた微細構造部を有する転写フィルムを調製してガラス基材へ移した。これらの実施例は、単に例示的目的に過ぎず、添付の特許請求の範囲を限定することを意図するものではない。特に明記されていない限り、実施例及び本明細書の他における全ての部、割合、比などは、重量基準である。使用した溶媒及び他の試薬は、特に明記されていない限り、Sigma−Aldrich Chemical Company(St.Louis,Missouri)から得た。
比較例1
日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム
テンプレート/剥離コーティング
ベースフィルムは、UVACURE 1500(Allnex(Smyrna,GA)から入手可能)とLAROMER TMPTA(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)との50/50ブレンドに1%のOMAN 071光重合開始剤(Gelest Inc.(Philadelphia,PA)から入手可能)を含むUV硬化プライマーでプライマー処理した2milのPETとした。複製樹脂は、PHOTOMER 6210(IGM Resins(Charlotte,NC)から入手可能)とヘキサンジオールジアクリレートとの75/25ブレンドに0.5%のLUCRIN TPO(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)を含有する光重合開始剤パッケージを含むものとした。樹脂の複製は、125°Fへ加熱した工具上で30fpmで行った。所望の日光方向変換構造部と同じ形を有する工具を、ダイヤモンド切削処理を用いて製作した。所望の周期的構造部は、1周期当たり2つの山と4つの面から成り、図11に示すように、1機能面当たり1つの面がある。山は、ダイヤモンド切削処理の結果、やや丸くなった。
工具と接触している間に、600W/inで動作するFusion「D」ランプからの放射線を、フィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。複合フィルムを工具から除去し、100°Fへ加熱したロールと接触している間に、フィルムのパターニングした側を、360W/inで動作するFusion「D」ランプを用いてポストUV硬化させた。
複製されたテンプレートフィルムをチャンバ内に置き、その表面を、200cc/分(SCCM)の標準流量、200mトールの圧力、及び30秒間500ワットのRF電力で、酸素ガスでプライマー処理した。続いて、この試料を、250SCCMの流量で酸素は加えずにオクタフルオロプロパン(C)プラズマに曝した。チャンバ内の圧力は、6mトールとし、1000ワットのRF電力を90秒間維持した。
バックフィル/コーティング
剥離コーティングしたテンプレートフィルムを、ロールツーロール処理ライン上で、5Ft/分のライン速度、及び4インチのコーティング幅、及び5.8cc/分の流量で、MEK中、SA−250P(長瀬産業株式会社(日本、東京))の70%の固形分溶液でダイコーティングした。この試料を、200°Fにて加熱した2つの5フィートのプレートを通過させることによって乾燥させ、窒素雰囲気下でFusion Hバルブを用いて硬化した。
接着剤コーティング
バックフィルされたテンプレートフィルムを、30%の固形分が酢酸エチル溶液に溶解したシリコーン接着剤(接着剤組成物は、米国特許第7,947,376号の実施例1に記載されたものと同じ割合及び同じMQ樹脂を用いたが、米国特許第8,765,881号の実施例12に記載されたポリマー溶液を用いて調製した)によって、2mil間隔のノッチバーコーターを用いてコーティングした。この溶液を、ホットプレート上で50℃で5分間乾燥させ、次いで剥離ライナーM117(SILICONATURE USA,LLC(Chicago,IL))へ手で積層した。これによって、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムが形成された。
ガラス上の日光方向変換光学素子
最初に、50mm×50mmの磨きスライドガラスを、リントのない布できれいにし、次いで、洗浄チャンバにて洗剤で20分間、次いで、温水を有する2つのカスケードリンスチャンバのそれぞれにて20分間、超音波処理した。次いで、スライドを、空気循環炉内で20分間乾燥させた。上記からの、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム上の剥離ライナーを手ではいだ。このフィルムを、スライドガラスへ、接着側を下にしてローラーで積層した。テンプレートフィルムを剥がして除去し、ガラス上に、日光方向変換光学素子を残した。
比較例2
バルク拡散部を有する日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム
テンプレート/剥離コーティング
ベースフィルムは、UVACURE 1500(Allnex(Smyrna,GA)から入手可能)とLAROMER TMPTA(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)との50/50ブレンドに1%のOMAN 071光重合開始剤(Gelest Inc.(Philadelphia,PA)から入手可能)を含むUV硬化プライマーでプライマー処理した2milのPETとした。複製樹脂は、PHOTOMER 6210(IGM Resins(Charlotte,NC)から入手可能)とヘキサンジオールジアクリレートとの75/25ブレンドに0.5%のLUCRIN TPO(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)を含有する光重合開始剤パッケージを含むものとした。樹脂の複製は、125°Fへ加熱した工具上で30fpmで行った。所望の日光方向変換構造部と同じ形を有する工具を、ダイヤモンド切削処理を用いて製作した。所望の周期的構造部は、1周期当たり2つの山と4つの面から成り、図11に示すように、1機能面当たり1つの面がある。山は、ダイヤモンド切削処理の結果、やや丸くなった。
工具と接触している間に、600W/inで動作するFusion「D」ランプからの放射線を、フィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。複合フィルムを工具から除去し、100°Fへ加熱したロールと接触している間に、フィルムのパターニングした側を、360W/inで動作するFusion「D」ランプを用いてポストUV硬化させた。
複製されたテンプレートフィルムをチャンバ中に置き、その表面を、200cc/分(SCCM)の標準流量、200mトールの圧力、及び30秒間500ワットのRF電力で、酸素ガスでプライマー処理した。続いて、この試料を、250SCCMの流量で酸素は加えずオクタフルオロプロパン(C)プラズマに曝した。チャンバ内の圧力は、6mトールとし、1000ワットのRF電力を90秒間維持した。
バックフィル/コーティング
剥離コーティングしたテンプレートフィルムを、ロールツーロール処理ライン上で、5Ft/分のライン速度、及び4インチのコーティング幅、及び5.8cc/分の流量で、MEK中、SA−250P(長瀬産業株式会社(日本、東京))の70%の固形分溶液でダイコーティングした。この試料を、200°Fにて加熱した2つの5フィートのプレートを通過させることによって乾燥させ、窒素雰囲気下でFusion Hバルブを用いて硬化した。
接着剤コーティング
バックフィルされたテンプレートフィルムを、10%w/wのフュームチタニア(AEROXIDE TiO NKT 90、Evonik Industries(Parsippany,NJ)から入手可能)と混合したシリコーン接着剤(接着剤組成物は、米国特許第7,947,376号の実施例1に記載されたものと同じ割合及び同じMQ樹脂を用いたが、米国特許第8,765,881号の実施例12に記載されたポリマー溶液を用いて調製した)によって、2milの間隔のノッチバーコーターを用いてコーティングして、バルク拡散層を作出した。コーティング溶液は、酢酸エチル溶液中30%の固形分とした。この溶液を、ホットプレート上で、50℃にて5分間乾燥させ、次いで剥離ライナーM117(SILICONATURE USA,LLC(Chicago,IL))へ手で積層した。これによって、バルク拡散部を有する日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムが形成された。
ガラス上にバルク拡散部を含有する日光方向変換光学素子
最初に、50mm×50mmの磨きスライドガラスを、リントのない布できれいにし、次いで、洗浄チャンバにて洗剤で20分間、次いで、温水を有する2つのカスケードリンスチャンバのそれぞれにて20分間、超音波処理した。次いで、空気循環炉内でスライドを20分間乾燥させた。上記からの、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム上の剥離ライナーを手ではいだ。このフィルムを、スライドガラスへ、接着側を下にしてローラーで積層した。テンプレートフィルムを剥がして除去し、ガラス上に、バルク拡散部を含有する日光方向変換光学素子を残した。
実施例1
埋め込まれた微細構造化拡散部を含有する日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム
テンプレート/剥離コーティング
ベースフィルムは、UVACURE 1500(Allnex(Smyrna,GA)から入手可能)とLAROMER TMPTA(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)との50/50ブレンドに1%のOMAN 071光重合開始剤(Gelest Inc.(Philadelphia,PA)から入手可能)を含むUV硬化プライマーでプライマー処理した2milのPETとした。複製樹脂は、PHOTOMER 6210(IGM Resins(Charlotte,NC)から入手可能)とヘキサンジオールジアクリレートとの75/25ブレンドに0.5%のLUCRIN TPO(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)を含有する光重合開始剤パッケージを含むものとした。樹脂の複製は、125°Fへ加熱した工具上で30fpmで行った。所望の日光方向変換構造部と同じ形を有する工具を、ダイヤモンド切削処理を用いて製作した。所望の周期的構造部は、1周期当たり2つの山と4つの面から成り、図11に示すように、1機能面当たり1つの面がある。山は、ダイヤモンド切削処理の結果、やや丸くなった。
工具と接触している間に、600W/inで動作するFusion「D」ランプからの放射線を、フィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。複合フィルムを工具から除去し、100°Fへ加熱したロールと接触している間に、フィルムのパターニングした側を、360W/inで動作するFusion「D」ランプを用いてポストUV硬化させた。
複製されたテンプレートフィルムをチャンバ中に置き、その表面を、200cc/分(SCCM)の標準流量、200mトールの圧力、及び30秒間500ワットのRF電力で、酸素ガスでプライマー処理した。続いて、この試料を、250SCCMの流量で酸素は加えずにオクタフルオロプロパン(C)プラズマに曝した。チャンバ内の圧力は、6mトールとし、1000ワットのRF電力を90秒間維持した。
バックフィル/コーティング
剥離コーティングしたテンプレートフィルムを、ロールツーロール処理ライン上で、10Ft/分のライン速度、及び8インチのコーティング幅、及び20cc/分の流量で、MEK中、SA−250P(長瀬産業株式会社(日本、東京))の70%の溶液でダイコーティングした。この試料を、200°Fにて加熱した2つの5フィートのプレート上を通過させることによって乾燥させた。国際公開第2014/081693号に記載されている工具を用いて製造した微細構造化拡散(第2)テンプレートフィルムを、テンプレートフィルムと同じ方法で剥離処理した。剥離処理したテンプレートフィルムを、乾燥させた後ではあるがバックフィルコーティングがFusion Hバルブで窒素雰囲気下で硬化される前に、非硬化のバックフィルコーティングへ積層した。微細構造化拡散(第2)テンプレートフィルムを除去した。得られた微細構造化拡散構造部を、図9及び図10に描く。
接着剤コーティング
バックフィルされたテンプレートフィルムの微細構造化拡散構造部を、30%の固形分が酢酸エチル溶液に溶解したシリコーン接着剤(接着剤組成物は、米国特許第7,947,376号の実施例1に記載されたものと同じ割合及び同じMQ樹脂を用いたが、米国特許第8,765,881号の実施例12に記載されたポリマー溶液を用いて調製した)によって、2mil間隔のノッチバーコーターを用いてコーティングした。この溶液を、ホットプレート上で50℃で5分間乾燥させ、次いで剥離ライナーM117(SILICONATURE USA,LLC(Chicago,IL))へ手で積層した。これによって、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムが形成された。
ガラス上の埋め込まれた拡散部を含有する日光方向変換光学素子
最初に、50mm×50mmの磨きスライドガラスを、リントのない布できれいにし、次いで、洗浄チャンバにて洗剤で20分間、次いで、温水を有する2つのカスケードリンスチャンバのそれぞれにて20分間、超音波処理した。次いで、空気循環炉内でスライドを20分間乾燥させた。上記からの、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム上の剥離ライナーを手ではいだ。このフィルムを、スライドガラスへ、接着側を下にしてローラーで積層した。テンプレートフィルムを剥がして除去し、ガラス上に、埋め込まれた拡散部を含有する日光方向変換光学素子を残した。
光の方向変換の測定
光を方向変換させるフィルム構造の能力の測定は、制御された強度でフィルム構造上へ光のビームを輝かせること、及び上方へ方向変換される光の量を測定することを含む試験を利用した実験室試験によって決定することができる。光の入力ビームは、所与の角度(例えば入力角)で固定されてもよく、又はある範囲の角度にわたって変化してもよい。上方へ方向変換される光の量は、例えば、光検出器で測定され得る。このタイプの測定値は、一般に、双方向透過分布関数(bi-directional transmission distribution function、BTDF)と称される。Radiant Imaging(WA)から商品名IMAGING SPHEREで入手可能な器具が、こうした測定を行うために使用され得る。
実施例2−ガラス上の埋め込まれた拡散部を含有する環状にパターニングした日光方向変換光学素子
実施例1の日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムを、パターニングし、次いでガラスへ転写して、ガラス上に、埋め込まれた拡散部を含有するパターニングした方向変換光学素子を形成した。レーザーシステム(Universal Laser Systems(Scottsdale,AZ)から入手可能なILS9.75)を用いて、テンプレートフィルムと方向変換光学素子と接着剤層とを貫通させて環状のパターンを刻み目カットした。接着剤ライナーを、そのまま残して、カットしたサークルの相対的な向き及び位置を維持した。ウィードを、環状のパターンの周囲から手で除去した。3M Company(St.Paul,MN)から入手可能なポリエステルテープ#8403を、残っているテンプレートフィルム面(ライナー上のサークル)上に貼った。接着剤ライナーを除去し、接着剤を曝した。埋め込まれた拡散部を含有する日光方向変換構造部のサークルを含有するポリエステルテープを、ガラス基材(上記のように調製した)上に積層して剥がし、その工程において、テンプレートフィルムを、方向変換光学素子から除去した。ガラス上に、埋め込まれた拡散部を含有する環状にパターニングした日光方向変換光学素子が残った。
実施例3−日光方向変換光学素子を有する転写フィルムを粗面上へ積層することを通じて埋め込まれた拡散部を含有する日光方向変換グレージング要素
テンプレート/剥離コーティング
ベースフィルムは、UVACURE 1500(Allnex(Smyrna,GA)から入手可能)とLAROMER TMPTA(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)との50/50ブレンドに1%のOMAN 071光重合開始剤(Gelest Inc.(Philadelphia,PA)から入手可能)をを含むUV硬化プライマーでプライマー処理した2milのPETとした。複製樹脂は、PHOTOMER 6210(IGM Resins(Charlotte,NC)から入手可能)とヘキサンジオールジアクリレートとの75/25ブレンドに0.5%のLUCRIN TPO(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)を含有する光重合開始剤パッケージを含むものとした。樹脂の複製は、125°Fへ加熱した工具上で30fpmで行った。所望の日光方向変換構造部と同じ形を有する工具を、ダイヤモンド切削処理を用いて製作した。所望の周期的構造部は、1周期当たり2つの山と4つの面から成り、図11に示すように、1機能面当たり1つの面がある。山は、ダイヤモンド切削処理の結果、やや丸くなった。
工具と接触している間に、600W/inで動作するFusion「D」ランプからの放射線を、フィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。複合フィルムを工具から除去し、100°Fへ加熱したロールと接触している間に、フィルムのパターニングした側を、360W/inで動作するFusion「D」ランプを用いてポストUV硬化させた。
複製されたテンプレートフィルムをチャンバ内に置き、その表面を、200cc/分(SCCM)の標準流量、200mトールの圧力、及び30秒間500ワットのRF電力で、酸素ガスでプライマー処理した。続いて、この試料を、250SCCMの流量で酸素は加えずにオクタフルオロプロパン(C)プラズマに曝した。チャンバ内の圧力は、6mトールとし、1000ワットのRF電力を90秒間維持した。
バックフィル/コーティング
剥離コーティングしたテンプレートフィルムを、ロールツーロール処理ライン上で、5Ft/分のライン速度、及び4インチのコーティング幅、及び5.8cc/分の流量で、MEK中、SA−250P(長瀬産業株式会社(日本、東京))の70%の固形分溶液でダイコーティングした。この試料を、200°Fにて加熱した2つの5フィートのプレートを通過させることによって乾燥させ、窒素雰囲気下でFusion Hバルブを用いて硬化した。
接着剤コーティング
バックフィルされたテンプレートフィルムを、30%の固形分が酢酸エチル溶液に溶解したシリコーン接着剤(接着剤組成物は、米国特許第7,947,376号の実施例1に記載されたものと同じ割合及び同じMQ樹脂を用いたが、米国特許第8,765,881号の実施例12に記載されたポリマー溶液を用いて調製した)によって、2milの間隔のノッチバーコーターを用いてコーティングした。この溶液を、ホットプレート上で50℃で5分間乾燥させ、次いで剥離ライナーM117(SILICONATURE USA,LLC(Chicago,IL))へ手で積層した。これによって、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムが形成された。
ガラス上の日光方向変換光学素子
厚さ5.6mmのスライドガラスを、50マイクロメートルの酸化アルミニウムでブラストし、ガラスの面を粗くして微細構造化拡散面を作出した。上記からの、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム上の剥離ライナーを手ではいだ。このフィルムを、スライドガラスの粗面側へ、接着側を下にしてローラーで積層した。テンプレートフィルムを剥がして除去し、ガラス上の日光方向変換光学素子を残し、埋め込まれた拡散境界面を有する日光方向変換グレージング要素を作出した。
実施例4−日光方向変換光学積層の反対側の粗ガラス面によって製造された一体型拡散部を有する日光方向変換グレージング要素
テンプレート/剥離コーティング
ベースフィルムは、1%のOMAN 071光重合開始剤(Gelest Inc.(Philadelphia,PA)から入手可能)を有する、UVACURE 1500(Allnex(Smyrna,GA)から入手可能)とLAROMER TMPTA(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)との50/50ブレンドを含むUV硬化プライマーでプライマー処理された2milのPETとした。複製樹脂は、0.5%のLUCRIN TPO(BASF Corp.(Wyandotte,MI)から入手可能)を含む光重合開始剤パッケージを有する、PHOTOMER 6210(IGM Resins(Charlotte,NC)から入手可能)とヘキサンジオールジアクリレートとの75/25ブレンドとした。樹脂の複製は、125°Fへ加熱した工具上で30fpmで行った。所望の日光方向変換構造部と同じ形を有する工具を、ダイヤモンド切削処理を用いて製作した。所望の周期的構造部は、1周期当たり2つの山と4つの面から成り、図11に示すように、1機能面当たり1つの面がある。山は、ダイヤモンド切削処理の結果、やや丸くなった。
工具と接触している間に、600W/inで動作するFusion「D」ランプからの放射線を、フィルムを通して透過させて、樹脂を硬化させた。複合フィルムを工具から除去し、100°Fへ加熱したロールと接触している間に、フィルムのパターニングした側を、360W/inで動作するFusion「D」ランプを用いてポストUV硬化させた。
複製されたテンプレートフィルムをチャンバ内に置き、その表面を、200cc/分(SCCM)の標準流量、200mトールの圧力、及び30秒間500ワットのRF電力で、酸素ガスでプライマー処理した。続いて、この試料を、250SCCMの流量で酸素は加えずにオクタフルオロプロパン(C)プラズマに曝した。チャンバ内の圧力は、6mトールとし、1000ワットのRF電力を90秒間維持した。
バックフィル/コーティング
剥離コーティングしたテンプレートフィルムを、ロールツーロール処理ライン上で、5Ft/分のライン速度、及び4インチのコーティング幅、及び5.8cc/分の流量で、MEK中、SA−250P(長瀬産業株式会社(日本、東京))の70%の固形分溶液でダイコーティングした。この試料を、200°Fにて加熱した2つの5フィートのプレートを通過させることによって乾燥させ、窒素雰囲気下でFusion Hバルブを用いて硬化した。
接着剤コーティング
バックフィルされたテンプレートフィルムを、30%の固形分が酢酸エチル溶液に溶解したシリコーン接着剤(接着剤組成物は、米国特許第7,947,376号の実施例1に記載されたものと同じ割合及び同じMQ樹脂を用いたが、米国特許第8,765,881号の実施例12に記載されたポリマー溶液を用いて調製した)によって、2milの間隔のノッチバーコーターを用いてコーティングした。この溶液を、ホットプレート上で50℃で5分間乾燥させ、次いで剥離ライナーM117(SILICONATURE USA,LLC(Chicago,IL))へ手で積層した。これによって、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルムが形成された。
ガラス上の日光方向変換光学素子
厚さ5.6mmのスライドガラスを、50マイクロメートルの酸化アルミニウムでブラストし、ガラスの面を粗くして微細構造化拡散面を作出した。上記からの、日光方向変換光学素子を有する積層転写フィルム上の剥離ライナーを手ではいだ。このフィルムを、接着側を下にして、スライドガラスの平坦で滑らかな側へローラーで積層した。テンプレートフィルムを剥がして除去し、ガラス上の日光方向変換光学素子を残し、曝された拡散境界面を有する日光方向変換グレージング要素を作出した。

Claims (44)

  1. 構造化面を有する除去可能なテンプレート層と、
    前記テンプレート層の前記構造化面の少なくとも一部の上に配置されている第1の面、及び前記構造化面の反対側の第2の面を有するバックフィル層であって、前記第2の面が微細構造化面を備えるバックフィル層と、
    前記微細構造化面の少なくとも一部の上に配置されている層であって、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する層とを備える、転写テープ。
  2. 前記微細構造化面が、前記微細構造化面の少なくとも一部の上に配置されている層と共に、拡散層をなす、請求項1に記載の転写テープ。
  3. 前記層が、接着剤を含む、請求項1又は2に記載の転写テープ。
  4. 前記接着剤が、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドコポリマーを含む、請求項3に記載の転写テープ。
  5. 前記バックフィル層が、接着剤層よりも高い屈折率を有する、請求項1又は2に記載の転写テープ。
  6. バックフィル材料が、ポリシロキサン材料を含む、請求項1に記載の転写テープ。
  7. 前記構造化面の反対側の前記テンプレート層の平坦面上に配置されているキャリアフィルムを更に備える、請求項1〜6に記載の転写テープ。
  8. 前記テンプレート層の前記構造化面と前記バックフィル層との間に配置されている転写層を更に備える、請求項1〜7に記載の転写テープ。
  9. 前記転写層が、剥離コーティングを含む、請求項1〜8に記載の転写テープ。
  10. 前記構造化面が、微小光学屈折面を備える、請求項1〜9に記載の転写テープ。
  11. 前記構造化面が、高さが約10マイクロメートル超の面特徴を含む、請求項1〜10に記載の転写テープ。
  12. 前記バックフィル層が、前記テンプレート層の前記構造化面上にパターン状で配置されている、請求項1〜11に記載の転写テープ。
  13. 前記接着剤層が、前記バックフィル層の前記微細構造化面上にパターン状で配置されている、請求項1〜12に記載の転写テープ。
  14. 前記パターンが、複数の島、線、又は島と線との組み合わせを含む、請求項12及び/又は13に記載の転写テープ。
  15. 主面を有するガラス板と、
    前記主面の少なくとも一部に接着されている、硬化バックフィル層を備える微小光学層であって、構造化面及びその反対側の微細構造化面を有する微小光学層と、前記微細構造化面に隣接する、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する層とを備える、微小光学グレージング。
  16. 前記微細構造化面に隣接する前記層が、接着剤であり、かつ前記接着剤が、前記微小光学層を前記ガラス板の前記主面に接着させている、請求項15に記載の微小光学グレージング。
  17. 前記微小光学層と前記ガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材がない、請求項15又は16に記載の微小光学グレージング。
  18. 請求項2〜14のいずれか一項又はそれらの組み合わせによって更に特徴づけられる、請求項15〜17に記載の微小光学グレージング。
  19. 主面を有するガラス板と、
    前記主面の少なくとも一部に接着されている微小光学層と、
    異なる屈折率を有する層に隣接する微細構造化境界面とを有する微小光学グレージングであって、
    30°〜60°の範囲の入力角について、日光の少なくとも80%を上方へ方向変換し、かつソーラーカラムを呈しない、微小光学グレージング。
  20. 間隙によって、部屋に面した外部面を有するガラス板から離間した、太陽に面した板の外部面を有するガラス板であって、各板が前記間隙に隣接する内部面を有するガラス板と、
    ガラス板の内部面の少なくとも一部に接着されている、硬化バックフィル層を備える微小光学層であって、構造化面及びその反対側の微細構造化面を有し、前記微細構造化面は前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する層に隣接する、微小光学層とを備える、断熱グレージングユニット。
  21. 前記微細構造化面に隣接する前記層が、接着剤であり、かつ前記接着剤が、前記微小光学層を前記ガラス板の前記主面に接着させている、請求項20に記載の断熱グレージングユニット。
  22. 間隙によって、部屋に面した外部面を有するガラス板から離間した、太陽に面した板の外部面を有するガラス板であって、各板が前記間隙に隣接する内部面を有するガラス板と、
    断熱グレージングユニットの内部面上に配置されている微小光学層と、
    前記微小光学層と前記部屋に面した外部面との間に配置されている微細構造化境界面とを備える、断熱グレージングユニット。
  23. 前記微小光学層が、構造化面及びその反対側の平坦面を有し、前記平坦面が、ガラス板の、太陽に面した内部面の微細構造化境界面に接着剤で接着されている、請求項22に記載の断熱ガラスユニット。
  24. 前記微小光学層が、構造化面及びその反対側の平坦面を有し、かつ前記微細構造化境界面が、ガラス板の、前記部屋に面した外部面上に配置されている、請求項22に記載の断熱ガラスユニット。
  25. 前記微小光学層と前記ガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材がない、請求項22〜24に記載の微小光学グレージング。
  26. 前記構造化面が、前記外部面を通過する日光が前記内部面を通過する前に前記構造化面によって屈折されるように、前記間隙を充填する気体に隣接している、請求項19〜25に記載の断熱ガラスユニット。
  27. 請求項2〜14のいずれか一項又はそれらの組み合わせによって更に特徴づけられる、請求項19〜26に記載の断熱グレージングユニット。
  28. 転写テープを製造する方法であって、
    構造化面を有する第1のテンプレートを用意することと、
    硬化性バックフィル層が、前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の平坦面を有するように前記硬化性バックフィル層を前記構造化面上に付与することと、
    前記硬化性バックフィル層の前記平坦面を、微細構造化面を備える第2のテンプレートと接触させることと、
    バックフィル材料を硬化して、これにより、構造化面及びその反対側の微細構造化面を有する硬化バックフィル層を形成することとを含む、方法。
  29. 前記第2のテンプレート層を除去することを更に含む、請求項28に記載の方法。
  30. 前記硬化バックフィル層の前記微細構造化面上に層を付与することを更に含み、前記層が、前記硬化バックフィル層とは異なる屈折率を有する、請求項28及び29に記載の方法。
  31. 前記硬化バックフィル層の前記微細構造化面上に付与された前記層が、接着剤である、請求項30に記載の方法。
  32. 除去可能な剥離ライナーを前記接着剤の対向面上に付与することを更に含む、請求項30に記載の方法。
  33. 前記構造化面が、複数の山及び谷を備える、請求項28〜32に記載の方法。
  34. 前記バックフィル層が、前記山の最大の高さを超える厚さを有する、請求項33に記載の方法。
  35. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面を有する第1のテンプレート、
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の面を有する、前記構造化面上の硬化性バックフィル層、並びに
    前記バックフィル層の前記反対側の面と接触して配置されている微細構造化面を有する第2のテンプレートを含む、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    前記第2のテンプレート層を除去することと、
    前記硬化微細構造化バックフィル層をガラス板に、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する接着剤で接着させることとを含む、方法。
  36. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面を有する第1のテンプレート、
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の微細構造化面を有する、前記構造化面上の硬化性バックフィル層、並びに
    前記硬化バックフィル層の前記微細構造化面上に配置されている層であって、前記硬化バックフィル層とは異なる屈折率を有する層を含む、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    接着剤を、前記硬化バックフィル層とは異なる屈折率を有する前記層に適用することと、
    前記硬化微細構造化バックフィル層をガラス板に接着させることとを含む、方法。
  37. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面を有する第1のテンプレート、
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の微細構造化面を有する、構造化面上の硬化性バックフィル層、並びに
    前記硬化バックフィル層の前記微細構造化面上に配置されている接着剤層であって、前記硬化バックフィル層とは異なる屈折率を有する接着剤層を備える、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    前記硬化微細構造化バックフィル層をガラス板に、前記バックフィル層の前記微細構造化面上に配置されている前記接着剤層によって接着させることとを含む、方法。
  38. 転写テープを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面及びその反対側の面を有する第1のテンプレート、
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の面を有する、前記構造化面上の硬化バックフィル層、
    前記バックフィル層の前記反対側の面上に配置されている接着剤層、並びに
    前記接着剤層上に配置されている剥離ライナーを備える、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    カットした部分が前記剥離ライナーに残り、カットしていない部分が除去され得るように、前記第1のテンプレートとバックフィル層及び接着剤層を貫通してカットすることとを含む、方法。
  39. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    請求項38に記載の転写テープを用意することと、
    前記剥離ライナーを除去することと、
    刻み目カット部分の接着剤をガラス板に接着させることと、
    第1のテンプレートを除去することとを含む、方法。
  40. 前記接着剤が、前記ガラス板と屈折率が一致する、請求項39に記載の微小光学グレージングを製造する方法。
  41. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面及びその反対側の面を有する第1のテンプレート、並びに
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の面を有する、前記構造化面上の硬化バックフィル層を備える、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    粗面を有する一片のガラスを用意することと、
    前記ガラスの前記粗面を前記バックフィル層の前記反対側の面に、前記硬化バックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、かつ前記ガラスとは異なる屈折率を有する接着剤で接着させることとを含む、方法。
  42. 微小光学グレージングを製造する方法であって、
    転写テープが、
    構造化面及びその反対側の面を有する第1のテンプレート、並びに
    前記第1のテンプレートの前記構造化面に適合する主面及びその反対側の面を有する、前記構造化面上の硬化バックフィル層を備える、転写テープであり、
    前記転写テープを用意することと、
    粗面及び平坦面を有する一片のガラスを用意することと、
    前記ガラスの前記平坦面を前記バックフィル層に、前記硬化バックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、かつ前記ガラスと実質的に同じ屈折率を有する接着剤で接着させることとを含む、方法。
  43. 前記ガラスの前記粗面が、微細構造化コーティングを含む、請求項41及び42に記載の方法。
  44. 前記微細構造化コーティングが、マットな粒子を含まない、請求項43に記載の方法。
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