JP2017519969A - ウェハ検査のためのロジックの中のパターン抑制 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- ウェハの上の欠陥を検出するように構成されているシステムであって、
ウェハの上の少なくとも1つのスポットに光を方向付けするように構成されている照射サブシステムであって、前記照射サブシステムは、少なくとも1つの光源を含む、照射サブシステムと、
前記少なくとも1つのスポットが前記ウェハの上でスキャンされることを引き起こすように構成されているスキャニングサブシステムと、
1つ以上の検出チャネルであって、前記1つ以上の検出チャネルのうちの少なくとも1つは、
前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた光を検出するように、および、検出された散乱光に応答する出力を発生させるように構成されている検出器、ならびに
前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた前記光の1つ以上の第1の部分が前記検出器に到達することを阻止し、一方、前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた前記光の1つ以上の第2の部分が前記検出器によって検出されることを可能にするように構成されている少なくとも1つのエレメントであって、前記光の前記1つ以上の第1の部分は、前記ウェハの上のロジック領域の中に形成されている1つ以上のパターン付きの特徴から散乱させられ、前記光の前記1つ以上の第2の部分は、前記1つ以上のパターン付きの特徴から散乱させられず、前記1つ以上の検出チャネルは、イメージング検出器を含まない、少なくとも1つのエレメント
を含む、1つ以上の検出チャネルと、
前記出力に基づいて前記ウェハの上の欠陥を検出するように構成されているコンピュータサブシステムと
を含むシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のパターン付きの特徴は、1つ以上の非周期的なパターン付きの特徴を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のパターン付きの特徴は、1つ以上の非繰り返しのパターン付きの特徴を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のパターン付きの特徴は、1つ以上の繰り返しのパターン付きの特徴を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記少なくとも1つのエレメントは、前記1つ以上のパターン付きの特徴に起因して前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた前記光のフーリエフィルタリングのために構成されてはいないシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記スキャニングサブシステムは、前記少なくとも1つのスポットが、前記ウェハの上の1つ以上のダイの中に形成されている前記ロジック領域の1つだけまたは複数の部分の上でスキャンされることを引き起こすようにさらに構成されているシステム。
- 請求項6に記載のシステムであって、前記ロジック領域の前記1つ以上の部分は、前記ウェハの上のマイクロケアエリアに対応しているシステム。
- 請求項6に記載のシステムであって、前記ロジック領域の前記1つ以上の部分のそれぞれは、その中に形成されている前記同じパターン付きの特徴を有するように設計されているシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記少なくとも1つのスポットが、前記ウェハの上の1つ以上のダイの中に形成されている前記ロジック領域の1つだけまたは複数の第1の部分の上で、および、前記ウェハの上の前記1つ以上のダイの中に形成されている前記ロジック領域の1つ以上の第2の部分の上で、スキャンされることを引き起こすように、前記スキャニングサブシステムがさらに構成されており、前記ロジック領域の前記1つ以上の第1の部分の中に形成されている前記1つ以上のパターン付きの特徴は、前記ロジック領域の前記1つ以上の第2の部分の中に形成されている前記1つ以上のパターン付きの特徴の1つ以上の特性とは異なる1つ以上の特性を有しており、前記ロジック領域の前記1つ以上の第1の部分がスキャンされているか、または、前記ロジック領域の前記1つ以上の第2の部分がスキャンされているかに応じて、前記システムは、前記少なくとも1つのエレメントを変更するようにさらに構成されているシステム。
- 請求項9に記載のシステムであって、前記ロジック領域の前記1つ以上の第1の部分は、前記ロジック領域の前記1つ以上の第2の部分と同じパスでスキャンされるシステム。
- 請求項9に記載のシステムであって、前記ロジック領域の前記1つ以上の第1の部分は、1つのパスでスキャンされ、前記ロジック領域の前記1つ以上の第2の部分は、別のパスでスキャンされるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記システムは、前記1つ以上のパターン付きの特徴の1つ以上の特性に基づいて、前記少なくとも1つのエレメントの1つ以上の特性を変更するようにさらに構成されているシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記少なくとも1つのエレメントの1つ以上の特性は、前記1つ以上のパターン付きの特徴の1つ以上の特性に基づいて決定されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上の検出チャネルのうちの前記少なくとも1つは、前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた前記光を収集するように構成されているコレクターをさらに含み、前記コレクターは、イメージングコレクターではないシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のパターン付きの特徴から前記散乱光を遮断することは、前記システムの解像度を変更しないシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記コンピュータサブシステムは、前記検出器の前記出力に基づいて前記ロジック領域の少なくとも1つのイメージを生成させるようにさらに構成され、また、前記少なくとも1つのイメージに基づいて前記ウェハの上の前記欠陥を検出するようにさらに構成されており、前記1つ以上のパターン付きの特徴は、前記少なくとも1つのエレメントによる前記光の前記1つ以上の第1の部分の遮断に起因して、前記少なくとも1つのイメージの中で解像することができないシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記照射サブシステムは、少なくとも斜めの入射角を含む1つ以上の入射角で、前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットに前記光を方向付けするようにさらに構成されており、前記少なくとも1つの光源は、少なくとも1つのレーザーを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記少なくとも1つの光源は、1つだけまたは複数の狭帯域光源を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記照射サブシステムは、前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットのうちの2つ以上に同時に前記光を方向付けするようにさらに構成されているシステム。
- ウェハの上の欠陥を検出するための方法であって、
ウェハの上の少なくとも1つのスポットに光を方向付けするステップと、
前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットをスキャンするステップと、
前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた光の1つ以上の第1の部分が検出器に到達するのを阻止し、一方、前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた前記光の1つ以上の第2の部分が前記検出器によって検出されることを可能にするステップであって、前記光の前記1つ以上の第1の部分は、前記ウェハの上のロジック領域の中に形成されている1つ以上のパターン付きの特徴から散乱させられ、前記光の前記1つ以上の第2の部分は、前記1つ以上のパターン付きの特徴から散乱させられず、前記検出器は、イメージング検出器ではない、ステップと、
前記ウェハの上の前記少なくとも1つのスポットから散乱させられた光を前記検出器によって検出し、それによって、前記検出された散乱光に応答する出力を発生させるステップと、
前記出力に基づいて前記ウェハの上の欠陥を検出するステップと
を含む方法。
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