JP2017518347A - 経口組成物 - Google Patents

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Abstract

本発明は、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療するための、抗菌効果の提供が不十分な量の抗菌剤、非常に低濃度の生理学的に許容される二価金属イオン、並びに理学的に許容される高分子を含む組成物に関する。

Description

本発明は、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療するための、抗菌効果の提供が不十分な量の抗菌剤、非常に低濃度の生理学的に許容される二価金属イオン、並びに理学的に許容される高分子を含む組成物に関する。
口臭は、嫌な臭気がする息である。この臭気は、原因に応じて周期的に襲ってくる、又は持続的である場合がある。口臭は、主に、口腔内の天然の細菌叢を形成するいくつかの細菌、特に舌の後部の陰窩及び歯周ポケットに位置する細菌によって引き起こされる。上記細菌は、嫌気性代謝によって揮発性硫黄化合物を生成し、これは主に、硫化水素及びメチルメルカプタンであり、不快な臭いを生じさせる。
亜鉛イオンは、ある種の抗菌活性を有し、ある程度、口腔内の揮発性硫黄化合物の生成を減少させることは当該技術分野において周知である。例えば、クロルヘキシジン、塩化セチルピリジニウム及びさらにはキトサンのような抗菌剤は、揮発性硫黄化合物の生成を減少させ、それによって不快な臭気を減少させるために示唆され、調査されている。
Youngら(Eur J Oral Sci 2003;111:400−404)は、亜鉛、クロロヘキシジン又は塩化セチルピリジニウムによる、経口的に生成された揮発性硫黄化合物の阻害、及びその濃度の効果を開示している。
Roldanら (J Clin Periodontol 2004;31:1128−1134)は、揮発性硫黄化合物及び唾液細菌数に対する様々なクロルヘキシジンによるマウスリンス製剤の比較効果を開示している。
Verkaikら(J Dentistry 2011;39:218−224)は、インビトロで経口バイオフィルムに対する練り歯磨き製剤中の天然抗菌剤の有効性を開示している。
NO 307168は、亜鉛イオンの抗揮発性硫黄化合物効果が、主に硫化水素生成に向けられ、口臭の不完全な除去を解明するメチルメルカプタンの生成に対してはるかに少ない程度であることを開示している。しかしながら、亜鉛イオンと低濃度の特定のカチオン性抗菌剤の組み合わせを使用した場合、この組み合わせは相乗的な方法で硫化水素とメチルメルカプタンの形成を阻害した。
口腔内の微生物フローラは、免疫系において、及び我々が摂取する栄養を分解する際に、重要な役割を果たす微調整された保護系であり、さらに消化系をバランスのとれた状態に維持する役割も担っている。抗菌剤からの抗菌活性に起因するこの繊細な系におけるシフトは、菌類の増殖、口の渇き、下痢などにつながる可能性がある。上記剤はまた、歯の染色を引き起こし得る。
本発明に至る研究において、本発明者は、驚くべきことに、非常に低い濃度の生理学的に許容される二価金属イオン及び生理学的に許容される高分子と、抗菌効果を提供するには不十分な量の抗菌剤とを合せることによって、組成物は、口腔内の微生物フローラに何ら干渉もなく、相乗的な方法で硫酸ガスを減少させることを検出した。この組成物は、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療することが示された。
亜鉛ロゼンジは、一般的な風邪の治療法として提案されている(Eby IIIら、Medical Hypotheses 2010;74:482−92)。これは、まだ議論の余地があり、この目的のために使用される亜鉛濃度は、本発明の組成物よりもはるかに高く、抗菌及び/又は抗ウイルス効果によって引き起こされる可能性がある。したがって、明らかな抗菌効果がないにもかかわらず、喉の痛みに対して有効であることが判明した本発明は、非常に驚くべきことであり、予想外である。これについての作用機序はまだ不明である。
したがって、本発明は、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みの予防及び/又は治療において、より安全であり、より効果的な組成物であると考えられる。
対照の割合における硫化水素量を示す。対照は、システインでリンスした後にガスクロマトグラフで測定された硫化水素の量である。0.0049%の濃度のクロルヘキシジン単独の結果は、1時間後に12%、2時間後に8%、3時間後に7%の硫化水素ガスの減少を示す。濃度0.049%のZn2+と組み合わせた濃度0.0049%のクロルヘキシジンの結果は、1時間後に39%、2時間後に26%、3時間後に17%の硫化水素ガスの減少を示す。濃度0.049%のZn2+及び0.1%のキトサンと組み合わせた濃度0.0049%のクロルヘキシジンの結果は、1時間後に58%、2時間後に41%、3時間後に32%の硫化水素の減少を示す。
全唾液の好気性菌及び嫌気性菌の培養を示す。 i)ウェル中の20μlの溶液A(0.0049%CHX+0.049%Zn2++0.1%キトサン)を伴う完全唾液の好気性培養は、阻害を示さない。 ii)ウェル中の20μlの溶液Aを伴う全唾液の嫌気性培養は、阻害を示さない。 全唾液の好気性菌及び嫌気性菌の培養を示す。 iii)ウェル中の20μlの溶液B(0.025%CHX+0.3%Zn2+)を伴う完全唾液を嫌気性培養は、10mmの阻害ゾーンを示す。
本発明の目的は、正常な口腔微生物フローラにおける最小限の阻害作用を有する、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを引き起こす揮発性硫黄ガスに対して最大の阻害効果を示す組成物を提供することである。したがって、本発明は、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療するための、抗菌効果を提供するには不十分な量の抗菌剤、非常に低濃度生理学的に許容される二価金属イオン、及び生理学的に許容される高分子を含む組成物を提供する。
ビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物などの抗菌剤は、現在、抗菌効果を提供するために経口組成物中で使用される。
本発明者は、驚くべきことに、抗菌効果を提供するには不十分な量の抗菌剤、非常に低濃度の生理学的に許容される二価金属イオン、及び生理学的に許容される高分子を組み合わせることによって、組成物が、口腔内の硫黄ガスを減少させる能力を有することを検出し、口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療することができる。
さらに、驚くべきことに、キトサンは、わずかに酸性の条件下で、亜鉛及びクロルヘキシジンとともに非常に低い濃度で相乗効果を発揮することが確認された。
キトサンは、天然に存在する高分子であるキチンの脱アセチル化に由来する多糖類であり、セルロースの次に最も豊富な高分子である。正確な抗菌メカニズムはいまだに未知であるが、キトサンは、生体適合性及び生分解性であり、ある程度の抗菌効果を有することが示されている。しかしながら、キトサンはまた、負に荷電した表面及び構造に結合する強い生体接着特性を有する。
本発明の一実施形態において、抗菌効果を実証することはできず、したがって、本発明の組成物におけるキトサン又はその誘導体の効果は、抗菌剤、例えば、クロルヘキシジンに結合することによる効果を増強すると考えられ、揮発性硫黄組成物が形成される負に荷電された表面上の細菌にそれを接近させ、抗菌剤、例えば、クロルヘキシジンを、SH結合を切断すると考えられているその作用を発揮させるために亜鉛に結合する。
Znに関するキトサンの効果は、キトサンが粘膜及び負に帯電された歯の表面に結合し、それによって口腔内での亜鉛の存在及び効果を延長すると考えられる。
実験1において、3つの異なる組成物を試験し、以下の組み合わせを含む:
−組成物1:濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
−濃度が0.049重量%であるZn2+と組み合わせた、濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
−濃度が0.049重量%であるZn2+及び濃度が0.1重量%のキトサンと組み合わせた、濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
実施例1及び図1から分かるように、組成物3は、揮発性硫黄化合物の減少において最も効果的であることが明らかに示される。1時間後に58%、2時間後に41%、3時間後に32%の減少が達成された。これは、溶液2と比較して、それぞれ19%、15%及び15%の効果の増加である。溶液1と比較すると、効果の差は、それぞれ46%、33%及び25%であった。
組成物3に記載されるクロルヘキシジン、Zn2+及びキトサンの組み合わせは、組成物1及び2と比較して相乗効果を有することが示された。実施例2において、抗菌作用を示すには不十分な濃度である、濃度が0.049重量%であるZn2+及び濃度が0.1重量%であるキトサンと組み合わせた、濃度が0.0049重量%のクロルヘキシジンを含む、実施例1における組成物3は、口腔内細菌フローラには何ら影響も与えなかった。
実施例1において、クロルヘキシジンは、抗菌剤として試験されているが、ビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物又はそれらの任意の組み合わせから選択される任意の薬剤又はその塩を利用することができる。
生理学的に許容される二価金属イオンとして、Znの代わりにCu又はSnを選択することができる。上記金属イオンは、塩、キレート又はそれらの任意の混合物の形態で存在することができる。
キトサン以外の多糖類又は多糖類誘導体のような生理学的に許容される高分子を本発明の組成物に利用することができる。
安息香酸、グリシン又はこれらの任意の混合物の群から選択される、pKaが2〜6の範囲である、生理学的に許容される有機酸は、単独で又は生理学的に許容される高分子と組み合わせて使用することができる。
組成物のpHは、約2.5〜約9.0、好ましくは約2.5〜約6.5の範囲であり得る。
組成物は、少なくとも1種のフッ化物源をさらに含んでもよい。少なくとも1つのフッ化物源は、組成物中に約0.005重量%〜2.5重量%の量で存在することができる。少なくとも1つのフッ化物源は、可溶性の無機フッ化物塩、可溶性の有機フッ化物塩、HF、又はそれらの任意の混合物であってもよい。実施例2において、溶液A及びBを、抗菌作用を提供する能力について試験した。口腔由来の微生物をペトリディッシュ上で培養し、以下のものに供した:
溶液A:クロルヘキシジン(0.0049重量%)、Zn2+(0.049重量%)及びキトサン(0.1重量%)を含む。
溶液B:クロルヘキシジン(0.025重量%)及びZn2+(0.3重量%)を含む。
表1及び図2のi)とii)に示される試験の結果は、クロルヘキシジン(0.0049重量%)、Zn2+(0.049重量%)及びキトサン(0.1重量%)を含む溶液Aが、2種の真菌株であるC.アルビカンス及びC.パラプシルを除いて、微生物の増殖を阻害しなかったことを示す。しかしながら、上記真菌株は、硫黄ガスの生成に関与していない。
クロルヘキシジン(0.025重量%)及びZn2+(0.3重量%)を含む溶液Bは、表1及び図2(iii)から分かるように増殖を阻害する。
したがって、本発明の組成物の技術的効果は、ガスを中和することによって硫黄ガスを減少させることとして説明することができる。その背景にある機構は、抗菌剤が硫黄ガスのS−H結合を切断すると考えられる;Zn及びおそらくキトサンもまた硫黄を硫化物に沈殿させ、それを飲み込んで、次に排泄する。口腔の細菌/微生物フローラは、抗菌剤の濃度が低いために無傷のままである。
実施例3において、本発明の組成物は、試験被験者が最初のリンスの数時間後に不快感から救済されたことから、咽の痛みに対しても効果があることが示される。この効果の背景にあるメカニズムは不明である。
したがって、本発明の一態様は、抗菌剤、生理学的に許容される二価金属イオン及び生理学的に許容される高分子を含む組成物に関し、抗菌剤は、ビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物又はそれらの任意の組み合わせから選択されてもよく;生理学的に許容される二価金属イオンは、Zn、Cu及びSnからなる群から選択されてもよい。
本明細書中で使用するとき、「抗菌剤」は、微生物を死滅させる又は微生物の増殖を阻害する薬剤を指す。組成物のさらなる実施形態において、抗菌剤は、クロルヘキシジン又はその塩であり得る。クロルヘキシジンは、組成物中に、0.001重量%〜1重量%、好ましくは0.002〜0.5重量%、より好ましくは0.004〜0.01重量%の量で存在することができる。
組成物のさらなる実施形態において、抗菌剤は、組成物中に、口腔内の細菌を効果的に死滅させる又は細菌の増殖を効果的に阻害するには不十分な量で存在し得る。
本明細書中で使用するとき、「抗菌効果を提供するには不十分な量」とは、微生物を死滅させる又は微生物の増殖を阻害することができない薬剤の濃度又は用量を指す。
組成物の1つ以上の実施形態において、二価金属イオン及び/又は二価金属イオンキレートの生理学的に許容される塩は、0.01重量%〜0.5重量%の量で、又は0.01重量%〜0.049重量%の量で、又は0.01重量%〜0.04重量%の量で存在し得る。
組成物の1つ以上の実施形態において、二価金属イオン及び/又は二価金属イオンキレートの生理学的に許容される塩は、組成物中に、0.01重量%〜0.19重量%、又は0.01重量%〜0.15重量%の量で存在し得る。さらに、生理学的に許容される二価金属イオンは、塩、キレート又はそれらの任意の混合物の形態で存在してもよい。
組成物の1つ以上の実施形態において、生理学的に許容される高分子は、組成物中に0.1重量%〜2重量%の量で存在してもよく、さらに、カプセル化された形態、微粒子の形態、又はナノ粒子の形態、又はそれらの任意の混合物であってもよい。生理学的に許容される高分子は、高分子が約3〜7のpHで水溶液中にカプセル化され得るカプセル化形態であってもよい。さらに、生理学的に許容される高分子は、多糖類又は多糖類誘導体であってもよい。生理学的に許容される高分子は、キトサン又はキトサン誘導体であってもよい。キトサン又はキトサン誘導体は、抗菌効果を提供するには不十分な量で組成物中に存在し得る。
組成物の一実施形態において、組成物は、水溶液又はゲルであり得る。組成物の一実施形態において、組成物は、約2.5〜6.5のpHを有し得る。組成物の一実施形態において、抗菌剤は、ビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物又はそれらの任意の組み合わせから選択されてもよく、組成物中に0.001重量%〜1重量%の量で存在してもよい;生理学的に許容される二価金属イオンは、Zn、Cu又はSnであってもよく、組成物中に0.01重量%〜0.5重量%の量で存在してもよい;生理学的に許容される高分子は、多糖類又は多糖類誘導体であってもよく、組成物中に0.1重量%〜2重量%の量で存在してもよい。
さらなる一実施形態において、生理学的に許容される高分子は、組成物中に0.1%〜2%の量で存在し得るキトサン又はキトサン誘導体であってもよい。
一実施形態において、組成物は、口臭を予防及び/又は治療する。
一実施形態において、組成物は、臭い息を予防及び/又は治療する。
一実施形態において、組成物は、口渇を予防及び/又は治療する。
一実施形態において、組成物は、喉の痛みを予防及び/又は治療する。
一実施形態において、組成物は、ウイルス感染又は細菌感染によって引き起こされる喉の痛みを予防及び/又は治療する。
一実施形態において、組成物は、約10〜120秒間、口腔内に維持され、次に口から排出され得る。
一実施形態において、組成物は、約10〜120秒間、うがいされ(gurgled)、次に口から排出され得る。
理解を明瞭にするために、例示及び実施例によって本発明をある程度詳細に完全に記載してきたが、当業者には、本発明を、条件、処方及びそれらの他のパラメータの幅広くかつ均等な範囲で修飾又は変更することにより、同じことが可能であること、並びに、このような修飾又は変更は、添付の特許請求の範囲内に包含されることが意図されていることは明らかである。
実施例1:試験被験者における口の悪臭(H2S)測定
本実験で試験される組成物は以下の通りであった:
組成物1:濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
組成物2:濃度が0.049重量%であるZn2+と組み合わせた、濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
組成物3:濃度が0.049重量%であるZn2+及び濃度が0.1重量%であるキトサンと組み合わせた、濃度が0.0049重量%であるクロルヘキシジン。
試験日に、試験被験者(3人の被験者)は、朝食後の通常の口腔衛生の日常的作業を控えるように指示された。口の悪臭は、6mMのL−システイン溶液(pH7.2)の5mlを用いて、30秒間リンスをすることにより被験者に導入された。次に、被験者は、1分30秒の間、口を閉じたままにし、その後、ガスクロマトグラフのオートインジェクターの出口に接続された10mlのシリンジを用いて、口の息を吸引することによりベースラインの口の息サンプルを記録した。次に、揮発性硫黄化合物H2Sを直接測定した。この手順の直後に、試験溶液(組成物1〜3)のうちの1つの10mlを用いて被験者を1分間リンスし、溶液を吐き出させた。システインリンス及び口の息の分析を、それぞれの溶液を用いて、リンスの1時間後、2時間後及び3時間後に繰り返した。試験期間中、飲食及び喫煙は認められなかった。
結果
結果を図1に見ることができ、濃度が0.049%であるZn2+と濃度が0.1%であるキトサンと組み合わせた、濃度が0.0049%のクロルヘキシジンを含む溶液が、揮発性硫黄化合物の減少に最も有効であることが実証され、この場合、1時間後に58%の減少、2時間後に41%の減少、3時間後に32%の減少が達成され、Zn2+と組み合わせたクロルヘキシジンを含む溶液と比較して、それぞれ、19%、15%及び15%の増加である。クロルヘキシジンのみを含む溶液と比較して、パーセンテージ効果の差は、それぞれ46%、33%及び25%であった。
実施例2:CHX(0.025%)及びZn2+(0.3%)からなる溶液(B)と比較したCHX(0.0049%)及びZn2+(0.049%)及びキトサン(0.1%)からなる溶液(A)の微生物試験
口腔由来の微生物をペトリディッシュ上で培養し、以下:
溶液A:CHX(0.0049重量%)及びZn2+(0.049重量%)及びキトサン(0.1重量%)、並びに
溶液B:CHX(0.025重量%)及びZn2+(0.3重量%)
に共し、それじれ、ディッシュの中央のウェルにそれぞれ付着させた。阻害活性は、ウェル周囲の阻害ゾーンとして測定することができた(図2iii参照)。試験結果を表1に示す。
Ad.2と8。0.5mlの刺激されていない全唾液のサンプルを滅菌した目盛り付き試験管に回収した。実験室では、サンプルを分散させ(60秒のボルテックス)、連続希釈し、5%ヒツジ血液、0.0005%ヘミン及び0.00003%メナジオンを添加したトリプチカーゼダイズ寒天(BBL Microbiological Systems、Cockeysville、MD、USA)上には播種した。
各寒天は、溶液A又はBのいずれかで満たされた、中心の標準化されたウェルを含めた:
・20μlの溶液A(0.049%CHX+0.049%Zn2++0.1%キトサン)をウェルに供給した。
・20μlの溶液B(0.025%CHX+0.3%Zn2+)をウェルに供給した。
その後、それらを以下の通りにインキュベートした:
Ad.3。嫌気性インキュベーション:嫌気性チャンバー(90%N2、5%H2、5%CO2)(Anoxomat,WS9000;Mart;Lichtenvoorde,The Nether)中、37℃にて7〜14日間インキュベートする。
Ad.8。好気性インキュベーション:好気的に37℃で24〜48時間インキュベートする。
残りを選択培地上で以下の通りに培養した:
Ad.1。S.ミュータンス、Mitis−salivarius−bacitracin寒天プレート上で3日間、上記の通り嫌気性菌培養。S.ミュータンスは、小さなムコイドコロニーとして同定された。
Ad.2。大腸菌、大気中、37℃にて3日間、エオシン・メチレン・ブルー寒天(EMB寒天)上で培養した。コロニーは暗い中心と緑色の金属光沢を有する。
Ad.4。E.ファエシウム。Cephalexin−aztreonam−arabinose(CAA)(Fordら、1994)上で3日間、37℃、空気中でインキュベートする。
Ad.5。S.アウレウス。スタフィロコッカス寒天プレート上で37℃にて3日間空気中でインキュベートし、DNA寒天プレート(Difco)上のDNAを分解するそれらの能力によりS.エピデルミディスと区別する。
Ad.6。カルビカンス。Sabouraud T寒天プレート上で3日間、空気中で37℃にて培養する。それらは、光沢のないクリーミーなホワイトピンク色、又はピンク色のコロニーとして同定された。
Ad.7。C.パラプシル。Sabouraudのデキストロース寒天上で3日間、空気中で37℃にて培養する。
Ad.9.A.a。A.a.の選択的単離のためのトリプチカーゼダイズ血清バシトラシン−バンコマイシン(TSBV)培地上で3〜5日間嫌気培養(上述)した(Slots 1982)。
結果:
表1及び図1i)(好気性菌培養)及びii)(嫌気性菌培養)に示される試験の結果は、クロルヘキシジン(0.0049重量%)、Zn2+(0.049重量%)及びキトサン(0.1重量%)を含む溶液Aが、2種の真菌株であるC.アルビカンス及びC.パラプシルを除いて、微生物の増殖を阻害しなかったことを示す。しかしながら、上記真菌株は、硫黄ガスの生成に関与していない。クロルヘキシジン(0.025重量%)及びZn2+(0.3重量%)を含む溶液Bは、表1及び図2iii)から分かるように、阻害ゾーンの伸長(mm)として測定される増殖を阻害する。
実施例3:本発明の組成物を用いたマウス/喉のリンスは喉の痛みにプラスの効果を有した喉の痛みを患っている5人の試験被験者は、本発明の組成物を含む溶液で、1日2回(朝及び夕方)、彼らの口/喉をリンスし/うがいした。リンス/うがい後、溶液を吐き出した。
溶液は、濃度が0.049%であるZn2+と濃度が0.1%であるキトサンを組み合わせた、濃度が0.0049%であるクロルヘキシジンを含む。
被験者1は、2日間、喉の痛みを患っていた。
被験者2は、1日間、喉の痛みを患っていた。
被験者3は、2日間、喉の痛みを患っていた。
被験者4は、3日間、喉の痛みを患っていた。
被験者4は、1日間、喉の痛みを患っていた。
結果
1日2回のうがいにより2日以内に、喉の痛みの全ての症状は、残り全ての試験被験者において消失した。

Claims (12)

  1. 抗菌剤、生理学的に許容される二価金属イオン、及び生理学的に許容される高分子を含む組成物であって、ここで、抗菌剤がビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物又はそれらの任意の組み合わせから選択され;生理学的に許容される二価金属イオンは、Zn、Cu及びSnからなる群から選択される、上記組成物。
  2. 抗菌剤がクロルヘキシジン又はその塩である、請求項1に記載の組成物。
  3. 抗菌剤がクロルヘキシジンであり、クロルヘキシジンが組成物中に0.001重量%〜1重量%、好ましくは0.002重量%〜0.5重量%、より好ましくは0.004重量%〜0.01重量%の量で存在する、請求項1又は2に記載の組成物。
  4. 抗菌剤が、組成物中に、口腔内の細菌を効果的に死滅させる又はその増殖を阻害するには不十分な量で存在する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。
  5. 二価金属イオン及び/又は二価金属イオンキレートの生理学的に許容される塩が、組成物中に、0.01重量%〜0.5重量%、0.01重量%〜0.049重量%、0.01重量%〜0.04重量%、0.01重量%〜0.19重量%、又は0.01重量%〜0.15重量%の量で存在する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
  6. 生理学的に許容される高分子が、組成物中に0.1重量%〜2重量%の量で存在する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
  7. 生理学的に許容される高分子が、多糖類又は多糖類誘導体である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
  8. 生理学的に許容される高分子が、キトサン又はキトサン誘導体である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
  9. キトサン又はキトサン誘導体が、抗菌効果を与えるのには不十分な量で組成物中に存在する、請求項8に記載の組成物。
  10. −抗菌剤が、ビス−ビグアニド及び第4級アンモニウム化合物又はそれらの任意の組み合わせから選択され、組成物中に0.001重量%〜1重量%の量で存在し;
    −生理学的に許容される二価金属イオンが、Zn、Cu又はSnであり、組成物中に0.01重量%〜0.5重量%の量で存在し;ならびに
    −生理学的に許容される高分子は、組成物中に0.1重量%〜2重量%の量で存在する多糖類又は多糖類誘導体である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の組成物。
  11. 生理学的に許容される高分子が、組成物中に0.1重量%〜2重量%の量で存在するキトサン又はキトサン誘導体である、請求項10に記載の組成物。
  12. 口臭、臭い息、口渇又は喉の痛みを予防及び/又は治療するための請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物。
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