JP2017514266A - 誘導装置及びその使用方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年1月28日に出願された米国仮出願No.61/932,418に関連して優先権を主張するものであり、その全開示は、本明細書によって、すべての目的のために参照により本明細書に組込まれる。
Claims (264)
- トーチ内にイオン化源を維持するための、前記トーチの動作中にガスの流れが導入される長手方向軸を備える装置であって:
前記トーチの本体を受容するように構築され配置された内側開口部を備えたコイルを提供するように構成されたベース;及び
前記ベースに結合された半径方向フィン、を備え、
前記装置は、前記トーチ内に前記イオン化源を維持するために、前記トーチの前記本体に高周波エネルギーを供給するように構成される、装置。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延びる、請求項1に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項2に記載の装置。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずに調整可能である、請求項1に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項4に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項1に記載の装置。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項2に記載の装置。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項7に記載の装置。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項7に記載の装置。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項7に記載の装置。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項7に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項12に記載の装置。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項12に記載の装置。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項1に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項16に記載の装置。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項16に記載の装置。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項16に記載の装置。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項1に記載の装置。
- イオン化源を維持するためのシステムであって:
長手方向軸を備える本体を備えるトーチであって、前記トーチの動作中に前記長手方向軸に沿ってガスの流れが導入されるトーチ;及び
前記トーチ本体の一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置、を備え、
前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備え、
前記装置は、前記トーチ本体の前記一部内に前記イオン化源を維持するために、前記開口部によって受容された前記トーチ本体の前記一部に高周波エネルギーを供給するように構成されている、システム。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部内の前記トーチ本体から離れて延びる、請求項21に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項22に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記トーチ本体の前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項21に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項24に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項21に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項22に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項27に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項27に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項27に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項27に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項32に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項32に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項21に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項21に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項36に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項36に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項36に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項21に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチ本体の前記一部内に維持される前記イオン化源にサンプルを供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項42に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項42に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチからサンプルを受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項41に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項21に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項21に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項21に記載のシステム。
- 質量分析計であって、
長手方向軸を備えた本体を備えたトーチであって、前記トーチの動作中にガスの流れが前記長手方向軸に沿って導入されるトーチ;
前記トーチ本体の一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置であって、前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備える、装置;
前記装置に電気的に結合され、前記ベースの前記開口部の前記トーチ本体の前記一部内にイオン化源を維持するために前記装置に電力を供給するように構成された高周波エネルギー源;及び
前記トーチに流体的に結合された質量分析器、
を備えた質量分析計。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部内の前記トーチ本体から離れて延びる、請求項51に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項52に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記トーチ本体の前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項51に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項54に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項51に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項52に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項57に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項57に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項57に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項57に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項62に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項62に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンを備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項51に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項51に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項66に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項66に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項66に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項51に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチ本体の前記一部内に維持される前記イオン化源にサンプルを供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項72に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項72に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチからサンプルを受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項71に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項51に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項51に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項51に記載のシステム。
- 発光を検出するためのシステムであって、
長手方向軸を備えた本体を備えたトーチであって、前記トーチの動作中にガスの流れが前記長手方向軸に沿って導入されるトーチ;
前記トーチ本体の一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置であって、前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備える、装置;
前記装置に電気的に結合され、前記ベースの前記開口部の前記トーチ本体の前記一部内にイオン化源を維持するために前記装置に電力を供給するように構成された高周波エネルギー源;及び
前記トーチ内の発光を検出するように構成された光検出器、
を備えたシステム。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部内の前記トーチ本体から離れて延びる、請求項81に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項82に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記トーチ本体の前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項81に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項84に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項81に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項82に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項87に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項87に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項87に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項87に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項92に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項92に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項81に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項81に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項96に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項96に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項96に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項81に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチ本体の前記一部内に維持される前記イオン化源にサンプルを供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項102に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項102に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチからサンプルを受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項101に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項81に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項81に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項81に記載のシステム。
- 原子吸光発光を検出するためのシステムであって、
長手方向軸を備えた本体をそなえたトーチであって、前記トーチの動作中にガスの流れが前記長手方向軸に沿って導入されるトーチ;
前記トーチ本体の一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置であって、前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備える、装置;
前記装置に電気的に結合され、前記ベースの前記開口部の前記トーチ本体の前記一部内にイオン化源を維持するために前記装置に電力を供給するように構成された高周波エネルギー源;
前記トーチに光を供給するように構成された光源;及び
前記トーチを透過した前記供給された光の量を測定するように構成された光検出器、を備えたシステム。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部内の前記トーチ本体から離れて延びる、請求項111に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項112に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記トーチ本体の前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項111に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項114に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項111に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項112に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項117に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項117に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項117に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項117に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項122に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項122に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項111に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項111に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項126に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項126に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項126に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項111に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチ本体の前記一部内に維持される前記イオン化源にサンプルを供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項132に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項132に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチからサンプルを受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項131に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項111に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項111に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項111に記載のシステム。
- 化学反応システムであって:
反応チャンバー;
前記反応チャンバーの一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置であって、前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備える、装置;及び
前記装置に電気的に結合され、前記ベースの前記開口部の前記反応チャンバーの前記一部内にイオン化源を維持するために前記装置に電力を供給するように構成された高周波エネルギー源、
を備えるシステム。 - 前記半径方向フィンは、前記反応チャンバーの長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部から離れて延びる、請求項141に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記反応チャンバーの前記長手方向軸に直交している、請求項142に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記反応チャンバーの前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項141に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項144に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項141に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項142に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項147に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項147に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項147に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項147に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記反応チャンバーの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項152に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項152に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンを備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項141に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記反応チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項141に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記反応チャンバーの前記長手方向軸に直交している、請求項156に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記反応チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項156に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記反応チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項156に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項141に記載のシステム。
- 前記反応チャンバーに流体的に結合され、前記反応チャンバー内に維持される前記イオン化源に反応剤を供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項162に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項162に記載のシステム。
- 前記反応チャンバーに流体的に結合され、前記反応チャンバーから反応生成物を受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項161に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項141に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項141に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項141に記載のシステム。
- 材料蒸着システムであって:
噴霧チャンバー;
前記噴霧チャンバーの一部を受容するように構成された内側開口部を備えたコイルとして構築され配置されたベースを備えた装置であって、前記装置は前記ベースに結合された半径方向フィンをさらに備える、装置;及び
前記装置に電気的に結合され、前記ベースの前記開口部の前記噴霧チャンバーの前記一部内にイオン化源を維持するために前記装置に電力を供給するように構成された高周波エネルギー源;及び
前記噴霧チャンバーに流体的に結合され、前記チャンバーから原子化された種を受取って前記受取った原子化された種を下地に供給するように構成されたノズル、
を備えるシステム。 - 前記半径方向フィンは、前記噴霧チャンバーの長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部から離れて延びる、請求項171に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸に直交している、請求項172に記載のシステム。
- 前記ベース上の前記半径方向フィンの位置は、前記ベースから前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記噴霧チャンバーの前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項171に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記ベースに結合する、請求項174に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記ベースに一体的に結合されている、請求項171に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項172に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項177に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、
前記ベースに対して実質的に同じ角度で傾斜している、請求項177に記載のシステム。 - 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースがコイル巻きされていない場合、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項177に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項177に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項182に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記ベースによって形成される前記開口部に向かって傾斜している、請求項182に記載のシステム。
- 前記装置は前記ベースに結合された複数の半径方向フィンを備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項171に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項171に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸に直交している、請求項186に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項186に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記噴霧チャンバーの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項186に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項171に記載のシステム。
- 前記噴霧チャンバーに流体的に結合され、前記噴霧チャンバー内に維持される前記イオン化源に反応剤を供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項192に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項192に記載のシステム。
- 前記反応チャンバーに流体的に結合され、前記反応チャンバーから反応生成物を受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項191に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記ベースによって形成される前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項171に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項171に記載のシステム。
- 前記ベースに結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、多数の半径方向フィンが前記装置の前記ベースの近位端に向かって存在するように、前記ベース上に配置されている、請求項171に記載のシステム。
- トーチ内にイオン化源を維持するための、前記トーチの動作中にガスの流れが導入される長手方向軸を備える装置であって:
前記トーチの本体を受容するように構築され配置された内側開口部を備える平板電極;及び
前記平板電極に結合された半径方向フィン、を備え、前記平板電極は前記トーチ内に前記イオン化源を維持するために前記トーチの前記本体に高周波エネルギーを供給するように構成されている、
装置。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記平板電極の前記開口部から離れて延びる、請求項201に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項202に記載の装置。
- 前記平板電極上の前記半径方向フィンの位置は、前記平板電極から前記半径方向フィンを分離せずに、調整可能である、請求項201に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記平板電極に結合する、請求項204に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記平板電極に一体的に結合されている、請求項201に記載の装置。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項202に記載の装置。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項207に記載の装置。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、実質的に同じ角度で傾斜している、請求項207に記載の装置。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、異なる角度で傾斜している、請求項207に記載の装置。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項207に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項201に記載の装置。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項212に記載の装置。
- 前記フィンの開口部は前記平板電極の前記開口部に向かって傾斜している、請求項212に記載の装置。
- 前記装置は前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンを備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項201に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項201に記載の装置。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項216に記載の装置。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項216に記載の装置。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項216に記載の装置。
- 前記トーチの本体を受容するように構築され配置された内側開口部を備えた第2平板電極、及び前記第2平板電極に結合された半径方向フィンをさらに備え、前記第2平板電極は、前記トーチ内にイオン化源を維持するために前記トーチの前記本体に高周波エネルギーを供給するように構成されている、請求項201に記載の装置。
- イオン化源を維持するためのシステムであって:
長手方向軸を備える本体を備えるトーチであって、前記トーチの動作中に前記長手方向軸に沿ってガスの流れが導入されるトーチ;並びに
前記トーチの本体を受容するように構築され配置された内側開口部を備えた平板電極
及び前記平板電極に結合された半径方向フィン、を備え、前記平板電極は、前記トーチ内に前記イオン化源を維持するために前記トーチの前記本体に高周波エネルギーを供給するように構成されている、
システム。 - 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記開口部内の前記トーチ本体から離れて延びる、請求項221に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項222に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの位置は、前記平板電極から前記半径方向フィンを分離せずにまたは前記開口部内の前記トーチ本体の前記一部を除去せずに、調整可能である、請求項221に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは留め具を介して前記平板電極に結合する、請求項224に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記平板電極に一体的に結合されている、請求項221に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備える、請求項222に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンの少なくとも2つは同じ角度を備える、請求項227に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンのそれぞれは、実質的に同じ角度で傾斜している、請求項227に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは、前記ベースに対して異なる角度で傾斜している、請求項227に記載のシステム。
- 前記複数の半径方向フィンの少なくとも2つは異なる断面形状を有する、請求項227に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記フィン内に少なくとも1つの開口部を備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記開口部は、前記トーチの前記長手方向軸と実質的に平行に配置された貫通孔として構成されている、請求項232に記載のシステム。
- 前記フィンの開口部は前記開口部に向かって傾斜している、請求項232に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンの少なくとも2つは前記フィン内に開口部を備え、前記2つの半径方向フィン内の前記開口部は異なって構築され配置されている、請求項221に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは、前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項221に記載のシステム。
- 前記半径方向フィンは前記トーチの前記長手方向軸に直交している、請求項236に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、前記複数のフィンのそれぞれは前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項236に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれは前記トーチの前記長手方向軸に非平行に配向しており、少なくとも1つの半径方向フィンは前記ベースによって形成される前記開口部内で内側に延びている、請求項236に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは、前記平板電極の前記開口部から離れて延び、前記複数の半径方向フィンの少なくとも1つの半径方向フィンは、前記平板電極の前記開口部内で内側に延びている、請求項221に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチ本体の前記一部内に維持された前記イオン化源にサンプルを供給するように構成されたインジェクターをさらに備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記装置に電気的に結合された高周波源をさらに備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記高周波源は、約10ワット〜約10,000ワットの電力で約1MHz〜約1000MHzの高周波を供給するように構成されている、請求項242に記載のシステム。
- 前記装置の前記ベースに電気的に結合された接地板をさらに備える、請求項242に記載のシステム。
- 前記トーチに流体的に結合され、前記トーチからサンプルを受取るように構成された検出器をさらに備える、請求項241に記載のシステム。
- 前記平板電極の前記開口部は実質的に円形の断面形状を備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記平板電極の前記開口部は実質的に矩形の断面形状を備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記平板電極の前記開口部は、実質的に円形の断面形状または実質的に矩形の断面形状以外の断面形状を備える、請求項221に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記複数の半径方向フィンのそれぞれはサイズと配置が同様である、請求項221に記載のシステム。
- 前記平板電極に結合された複数の半径方向フィンをさらに備え、前記半径方向フィンは、より多数の半径方向フィンが前記開口部の一方の側に存在するように、前記平板電極上に配置されている、請求項221に記載のシステム。
- 前記トーチの本体を受容するように構築され配置された内側開口部を備えた第2平板電極、及び前記第2平板電極に結合された半径方向フィンをさらに備え、前記第2平板電極は、前記トーチ内に前記イオン化源を維持するために前記トーチの前記本体に高周波エネルギーを供給するように構成されている、請求項221に記載の装置。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項7に記載の装置。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項27に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項57に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項87に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項117に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項147に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項177に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項207に記載のシステム。
- 前記ベースの隣接するターン上の隣接する半径方向フィンを係合するように構成されたスペーサーをさらに備える、請求項227に記載のシステム。
- 前記スペーサーは前記同一面内に前記隣接するフィンを保持するように構成されている、請求項252に記載の装置。
- 前記スペーサーは異なる面内に前記隣接するフィンを保持するように構成されている、請求項252に記載の装置。
- 前記スペーサーは前記同一面内に前記隣接するフィンを保持するように構成されている、請求項253〜259のいずれか1項に記載のシステム。
- 前記スペーサーは異なる面内に前記隣接するフィンを保持するように構成されている、請求項253〜259のいずれか1項に記載のシステム。
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US10327319B1 (en) * | 2016-05-25 | 2019-06-18 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Counterflow sample introduction and devices, systems and methods using it |
CN105931940B (zh) * | 2016-06-01 | 2018-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种电感耦合等离子体装置 |
JP7108605B2 (ja) | 2016-09-27 | 2022-07-28 | パーキンエルマー・ヘルス・サイエンシーズ・カナダ・インコーポレイテッド | コンデンサ及び無線周波発生器、ならびにこれらを使用する他のデバイス |
US20180330933A1 (en) * | 2017-03-29 | 2018-11-15 | Brian Chan | Cooling devices and instruments including them |
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CN110519904B (zh) * | 2019-08-16 | 2020-09-29 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于集磁器的icp等离子源形成装置及方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4963401U (ja) * | 1972-09-14 | 1974-06-04 | ||
JPS54109025U (ja) * | 1978-01-20 | 1979-08-01 | ||
JPS56174945U (ja) * | 1980-05-27 | 1981-12-24 | ||
JPS5839005A (ja) * | 1981-09-02 | 1983-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 空芯コイル |
JPS5897820U (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-02 | 株式会社東芝 | リアクトル |
JPS6320400U (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-10 | ||
JPH02228005A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Toshiba Corp | 超電導コイルの製造方法 |
JP2007287406A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 大気圧プラズマ発生装置及び発生方法 |
JP2008004903A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導コイルおよび超電導コイルのボビン |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5298714A (en) * | 1992-12-01 | 1994-03-29 | Hydro-Quebec | Plasma torch for the treatment of gases and/or particles and for the deposition of particles onto a substrate |
US6502529B2 (en) * | 1999-05-27 | 2003-01-07 | Applied Materials Inc. | Chamber having improved gas energizer and method |
US6822185B2 (en) * | 2002-10-08 | 2004-11-23 | Applied Materials, Inc. | Temperature controlled dome-coil system for high power inductively coupled plasma systems |
US7106438B2 (en) * | 2002-12-12 | 2006-09-12 | Perkinelmer Las, Inc. | ICP-OES and ICP-MS induction current |
US7511246B2 (en) * | 2002-12-12 | 2009-03-31 | Perkinelmer Las Inc. | Induction device for generating a plasma |
JP4472372B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2010-06-02 | 株式会社オクテック | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 |
DE102006016259B4 (de) * | 2006-04-06 | 2010-11-04 | Bruker Daltonik Gmbh | HF-Multipol-Ionenleitsysteme für weiten Massenbereich |
US20090065177A1 (en) * | 2007-09-10 | 2009-03-12 | Chien Ouyang | Cooling with microwave excited micro-plasma and ions |
JP4971930B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2012-07-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
US20090145581A1 (en) * | 2007-12-11 | 2009-06-11 | Paul Hoffman | Non-linear fin heat sink |
CA2796815C (en) * | 2010-05-05 | 2019-06-25 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Inductive devices and low flow plasmas using them |
KR20120002795A (ko) * | 2010-07-01 | 2012-01-09 | 주성엔지니어링(주) | 피딩라인의 차폐수단을 가지는 전원공급수단 및 이를 포함한 기판처리장치 |
US8779353B2 (en) * | 2012-01-11 | 2014-07-15 | Bruker Daltonics, Inc. | Ion guide and electrode for its assembly |
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2015
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4963401U (ja) * | 1972-09-14 | 1974-06-04 | ||
JPS54109025U (ja) * | 1978-01-20 | 1979-08-01 | ||
JPS56174945U (ja) * | 1980-05-27 | 1981-12-24 | ||
JPS5839005A (ja) * | 1981-09-02 | 1983-03-07 | Mitsubishi Electric Corp | 空芯コイル |
JPS5897820U (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-02 | 株式会社東芝 | リアクトル |
JPS6320400U (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-10 | ||
JPH02228005A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Toshiba Corp | 超電導コイルの製造方法 |
JP2007287406A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 大気圧プラズマ発生装置及び発生方法 |
JP2008004903A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導コイルおよび超電導コイルのボビン |
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