JP2017228575A - Semiconductor module - Google Patents

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Hiroshi Nakamura
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor module less susceptible to noise.SOLUTION: The semiconductor module includes: a base plate 50; wiring patterns 60 to 64; semiconductor chips 70, 71; a detection element 72; and semiconductor chip lead-out terminals 90 to 94. The semiconductor chip lead-out terminals 90 to 94 are erected with respect to the base plate 50. The wiring patterns 63, 64 electrically connected to electrodes of the detection element 72 extend as detection element lead-out terminals up to the end of the base plate 50.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、半導体モジュールに関するものである。   The present invention relates to a semiconductor module.

インバータ装置等の電力変換装置を構成するパワースイッチング素子及び配線をモジュール化することが行われており、さらに、各アーム等を流れる電流の検出用の素子も含めてモジュール化することが行われている。この場合、一般的に電流検出用素子の端子を含めた各端子を同じ方向に揃えて延設している(特許文献1等)。   The power switching elements and wirings that constitute the power conversion device such as the inverter device are modularized, and the modularization is also performed including the elements for detecting the current flowing through each arm and the like. Yes. In this case, each terminal including the terminal of the current detection element is generally extended in the same direction (Patent Document 1, etc.).

特開2013−98425号公報JP2013-98425A

ところが、電流検出用素子の端子を含めた各端子を同じ方向に揃えて延設すると、電流検出用素子の端子は他の端子からノイズを受けないように配置する必要もあり、例えば、ノイズを受けないように電流検出用素子の端子を他の端子から離して配置すると大型化を招いてしまう。   However, if the terminals including the terminals of the current detection elements are aligned and extended in the same direction, the terminals of the current detection elements need to be arranged so as not to receive noise from other terminals. If the terminals of the current detection elements are arranged away from other terminals so as not to be received, an increase in size is caused.

本発明の目的は、ノイズの影響を受けにくい半導体モジュールを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor module that is not easily affected by noise.

請求項1に記載の発明では、金属板の上面に絶縁層を形成してなるベースプレートと、前記ベースプレートの絶縁層上に形成された配線パターンと、前記ベースプレートに、電極が前記配線パターンに電気的に接続された状態で実装された半導体チップと、前記ベースプレートに、電極が前記配線パターンに電気的に接続された状態で実装された検出素子と、前記半導体チップの電極に電気的に接続された半導体チップ用引出端子と、を備え、前記半導体チップ用引出端子は、前記ベースプレートに対し立設され、前記検出素子の電極に電気的に接続された前記配線パターンが前記ベースプレートの端部まで検出素子用引出端子として延設されてなることを要旨とする。   According to the first aspect of the present invention, a base plate formed by forming an insulating layer on the upper surface of a metal plate, a wiring pattern formed on the insulating layer of the base plate, and electrodes on the base plate are electrically connected to the wiring pattern. A semiconductor chip mounted in a connected state, a detection element mounted in a state where an electrode is electrically connected to the wiring pattern on the base plate, and an electrical connection to the electrode of the semiconductor chip A semiconductor chip lead terminal, wherein the semiconductor chip lead terminal is erected with respect to the base plate, and the wiring pattern electrically connected to the electrode of the detection element extends to the end of the base plate. The gist of the present invention is that it is extended as a lead-out terminal.

請求項1に記載の発明によれば、半導体チップ用引出端子がベースプレートに対し立設されるとともに、検出素子の電極に電気的に接続された配線パターンがベースプレートの端部まで検出素子用引出端子として延設されているので、検出素子の信号を他の信号と並走せずに取り出せるため、ノイズの影響を受けにくくなる。   According to the first aspect of the present invention, the semiconductor chip lead terminal is erected with respect to the base plate, and the wiring pattern electrically connected to the electrode of the detection element extends to the end portion of the base plate. Since the signal of the detection element can be taken out without running in parallel with other signals, it is less susceptible to noise.

請求項2に記載のように、請求項1に記載の半導体モジュールにおいて、前記検出素子が前記ベースプレートの辺または隅に配置されているとよい。
請求項3に記載のように、請求項1または2に記載の半導体モジュールにおいて、内方に前記半導体チップおよび前記検出素子が位置する状態で前記ベースプレートに配置された樹脂製枠体を備え、前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンは、前記樹脂製枠体を貫通しているとよい。
As described in claim 2, in the semiconductor module according to claim 1, the detection element may be arranged at a side or a corner of the base plate.
The semiconductor module according to claim 1 or 2, further comprising a resin frame disposed on the base plate in a state where the semiconductor chip and the detection element are located inside, The wiring pattern extended as a detection element lead-out terminal may pass through the resin frame.

請求項4に記載のように、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体モジュールにおいて、前記検出素子は電流検出素子であるとよい。
請求項5に記載のように、請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体モジュールにおいて、前記半導体チップ用引出端子に接続される基板が重なって配置され、前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンに接続されるコントローラが、前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンの端部に隣接して配置されるとよい。
As described in claim 4, in the semiconductor module according to any one of claims 1 to 3, the detection element may be a current detection element.
As described in claim 5, in the semiconductor module according to any one of claims 1 to 4, a substrate connected to the semiconductor chip lead terminal is disposed so as to overlap, and the detection element lead terminal is provided. A controller connected to the extended wiring pattern may be arranged adjacent to an end of the wiring pattern extended as the detection element lead-out terminal.

本発明によれば、ノイズの影響を受けにくくできる。   According to the present invention, it is difficult to be affected by noise.

実施形態におけるインバータ装置の部品配置を示す斜視図。The perspective view which shows the components arrangement | positioning of the inverter apparatus in embodiment. インバータ装置の電気的構成を示す回路図。The circuit diagram which shows the electric constitution of an inverter apparatus. (a)は半導体モジュールの平面図、(b)は(a)のA−A線での縦断面図、(c)は(a)のB−B線での縦断面図。(A) is a top view of a semiconductor module, (b) is a longitudinal cross-sectional view in the AA line of (a), (c) is a longitudinal cross-sectional view in the BB line of (a). (a)は基板と樹脂製枠体が無い状態での半導体モジュールの平面図、(b)は半導体モジュールの正面図、(c)は半導体モジュールの右側面図。(A) is a top view of a semiconductor module in a state without a substrate and a resin frame, (b) is a front view of the semiconductor module, and (c) is a right side view of the semiconductor module. (a)は基板と樹脂製枠体と端子が無い状態での半導体モジュールの平面図、(b)は半導体モジュールの正面図、(c)は半導体モジュールの右側面図。(A) is a top view of the semiconductor module in the state without a board | substrate, a resin-made frame, and a terminal, (b) is a front view of a semiconductor module, (c) is a right view of a semiconductor module. (a)は基板と樹脂製枠体と端子と素子が無い状態での半導体モジュールの平面図、(b)は半導体モジュールの正面図、(c)は半導体モジュールの右側面図。(A) is a top view of the semiconductor module in a state without a board | substrate, a resin-made frame, a terminal, and an element, (b) is a front view of a semiconductor module, (c) is a right view of a semiconductor module.

以下、本発明をインバータ装置に具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
本実施形態のインバータ装置は、モータへ3相交流電力を供給する3相インバータ装置であり、バッテリから供給される直流電力を交流電力に変換する。図1に示すように、インバータ装置10は、半導体モジュール20とドライブ回路30とコントローラ40を備えている。コントローラ40とドライブ回路30はバスラインで接続されている。
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is embodied in an inverter device will be described with reference to the drawings.
The inverter device of the present embodiment is a three-phase inverter device that supplies three-phase AC power to a motor, and converts DC power supplied from a battery into AC power. As shown in FIG. 1, the inverter device 10 includes a semiconductor module 20, a drive circuit 30, and a controller 40. The controller 40 and the drive circuit 30 are connected by a bus line.

図2に示すように、インバータ装置10は正極母線Lpと負極母線Lnを有する。正極母線Lpはバッテリの正極に接続され、負極母線Lnはバッテリの負極に接続される。インバータ装置10は、6つのスイッチング素子Q1,Q2,Q3,Q4,Q5,Q6を備えている。各スイッチング素子Q1,Q2,Q3,Q4,Q5,Q6にはパワーMOSFETが使用されている。   As shown in FIG. 2, the inverter device 10 has a positive electrode bus Lp and a negative electrode bus Ln. Positive bus Lp is connected to the positive electrode of the battery, and negative bus Ln is connected to the negative electrode of the battery. The inverter device 10 includes six switching elements Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, and Q6. A power MOSFET is used for each switching element Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, and Q6.

正極母線Lpと負極母線Lnとの間において、U相の上アーム用スイッチング素子Q1と下アーム用スイッチング素子Q2が直列に接続されている。両スイッチング素子Q1,Q2の中間点がモータのU相端子に接続される。正極母線Lpと負極母線Lnとの間において、V相の上アーム用スイッチング素子Q3と下アーム用スイッチング素子Q4が直列に接続されている。両スイッチング素子Q3,Q4の中間点がモータのV相端子に接続される。正極母線Lpと負極母線Lnとの間において、W相の上アーム用スイッチング素子Q5と下アーム用スイッチング素子Q6が直列に接続されている。両スイッチング素子Q5,Q6の中間点がモータのW相端子に接続される。   The U-phase upper arm switching element Q1 and the lower arm switching element Q2 are connected in series between the positive electrode bus Lp and the negative electrode bus Ln. An intermediate point between both switching elements Q1, Q2 is connected to the U-phase terminal of the motor. Between the positive electrode bus Lp and the negative electrode bus Ln, the V-phase upper arm switching element Q3 and the lower arm switching element Q4 are connected in series. An intermediate point between both switching elements Q3 and Q4 is connected to the V-phase terminal of the motor. A W-phase upper arm switching element Q5 and a lower arm switching element Q6 are connected in series between the positive electrode bus Lp and the negative electrode bus Ln. An intermediate point between both switching elements Q5 and Q6 is connected to the W-phase terminal of the motor.

インバータ装置10は、3つのシャント抵抗Ru,Rv,Rwを備えている。U相の下アーム用スイッチング素子Q2のソース電極と負極母線Lnとの間にはシャント抵抗Ruが接続されている。V相の下アーム用スイッチング素子Q4のソース電極と負極母線Lnとの間にはシャント抵抗Rvが接続されている。W相の下アーム用スイッチング素子Q6のソース電極と負極母線Lnとの間にはシャント抵抗Rwが接続されている。シャント抵抗Ru,Rv,Rwの両端電圧を測定することによりシャント抵抗Ru,Rv,Rwを流れる電流を検出することができる。   The inverter device 10 includes three shunt resistors Ru, Rv, and Rw. A shunt resistor Ru is connected between the source electrode of the U-phase lower arm switching element Q2 and the negative bus Ln. A shunt resistor Rv is connected between the source electrode of the V-phase lower arm switching element Q4 and the negative bus Ln. A shunt resistor Rw is connected between the source electrode of the W-phase lower arm switching element Q6 and the negative electrode bus Ln. The current flowing through the shunt resistors Ru, Rv, Rw can be detected by measuring the voltage across the shunt resistors Ru, Rv, Rw.

スイッチング素子Q1〜Q6、シャント抵抗Ru,Rv,Rw及びこれらを継ぐ配線がモジュール化され、半導体モジュール20を構成している。
ドライブ回路30は、半導体モジュール20のゲート用接続端子G1,G2,G3,G4,G5,G6と接続されている。コントローラ40はドライブ回路30と接続されている。コントローラ40はドライブ回路30に駆動信号を出力する。この駆動信号によりドライブ回路30はスイッチング素子Q1〜Q6のゲート電極にパルス状の電圧を印加してスイッチング素子Q1〜Q6をオン・オフする。
The switching elements Q <b> 1 to Q <b> 6, the shunt resistors Ru, Rv, Rw and the wiring that connects them are modularized to constitute a semiconductor module 20.
The drive circuit 30 is connected to the gate connection terminals G1, G2, G3, G4, G5, and G6 of the semiconductor module 20. The controller 40 is connected to the drive circuit 30. The controller 40 outputs a drive signal to the drive circuit 30. With this drive signal, drive circuit 30 applies a pulse voltage to the gate electrodes of switching elements Q1-Q6 to turn on / off switching elements Q1-Q6.

コントローラ40は、半導体モジュール20の電流検出用モニタ端子S1,S2,S3,S4,S5,S6と接続されている。コントローラ40はシャント抵抗Ruの両端電圧を測定してシャント抵抗Ruに流れるU相電流を検知する。コントローラ40はシャント抵抗Rvの両端電圧を測定してシャント抵抗Rvに流れるV相電流を検知する。コントローラ40はシャント抵抗Rwの両端電圧を測定してシャント抵抗Rwに流れるW相電流を検知する。このように検知された電流値によりフィードバック制御が行われる。また、検知された電流値によりスイッチング素子Q1,Q2,Q3,Q4,Q5,Q6等の良否検査が行われる。   The controller 40 is connected to the current detection monitor terminals S1, S2, S3, S4, S5 and S6 of the semiconductor module 20. The controller 40 measures the voltage across the shunt resistor Ru and detects the U-phase current flowing through the shunt resistor Ru. The controller 40 measures the voltage across the shunt resistor Rv and detects the V-phase current flowing through the shunt resistor Rv. The controller 40 measures the voltage across the shunt resistor Rw and detects the W-phase current flowing through the shunt resistor Rw. Feedback control is performed based on the detected current value. Further, the quality of the switching elements Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, Q6, etc. is inspected based on the detected current value.

図3(a),(b),(c)には半導体モジュール20を示す。ここで、図2における破線で囲った部分のみを図3(a),(b),(c)において示している。つまり、図2におけるU相、V相、W相のうち、U相のスイッチング素子Q1,Q2およびシャント抵抗Ruの配置部分について示し、V相およびW相のスイッチング素子Q3,Q4,Q5.Q6およびシャント抵抗Rv,Rwの配置部分については省略している。   3A, 3B, and 3C show the semiconductor module 20. FIG. Here, only the part enclosed by the broken line in FIG. 2 is shown in FIG. 3 (a), (b), (c). That is, of U-phase, V-phase, and W-phase in FIG. 2, U-phase switching elements Q1 and Q2 and shunt resistor Ru are arranged, and V-phase and W-phase switching elements Q3, Q4, Q5. The arrangement portion of Q6 and shunt resistors Rv and Rw is omitted.

なお、図面において、水平面を、直交するX,Y方向で規定するとともに、上下方向をZ方向で規定している。
図3(a),(b),(c)に示すように、半導体モジュール20は立方体形状をなし、半導体モジュール20の上面にはドライブ回路30を構成するドライブ基板31が配置されている。ドライブ基板31には各種の電子部品が搭載されている。半導体モジュール20の上面から、図2におけるゲート用接続端子G1,G2を構成する半導体チップ用引出端子93,94が突出している。半導体モジュール20の一側面から、図2における電流検出用モニタ端子S1,S2を構成する検出素子用引出端子としての配線パターン63,64が突出している。
In the drawings, the horizontal plane is defined by the orthogonal X and Y directions, and the vertical direction is defined by the Z direction.
As shown in FIGS. 3A, 3 </ b> B, and 3 </ b> C, the semiconductor module 20 has a cubic shape, and a drive substrate 31 constituting the drive circuit 30 is disposed on the upper surface of the semiconductor module 20. Various electronic components are mounted on the drive substrate 31. From the upper surface of the semiconductor module 20, semiconductor chip lead terminals 93 and 94 constituting the gate connection terminals G1 and G2 in FIG. From one side surface of the semiconductor module 20, wiring patterns 63 and 64 as detection element lead terminals constituting the current detection monitor terminals S1 and S2 in FIG.

半導体モジュール20は、図6(a),(b),(c)に示すように、金属板51の上面に絶縁層52を形成してなるベースプレート50と、ベースプレート50の絶縁層52上に形成された配線パターン60,61,62,63,64を備えている。金属板51は長方形状をなし、所定の厚みを有する。絶縁層52が金属板51の上面全域にわたりコーティングされている。   6A, 6B, and 6C, the semiconductor module 20 is formed on a base plate 50 in which an insulating layer 52 is formed on the upper surface of the metal plate 51, and on the insulating layer 52 of the base plate 50. Wiring patterns 60, 61, 62, 63, 64 are provided. The metal plate 51 is rectangular and has a predetermined thickness. An insulating layer 52 is coated over the entire upper surface of the metal plate 51.

配線パターン60,61,62,63,64は金属製(例えば銅製、アルミ製等)である。絶縁層52の上に配線パターン60,61,62,63,64が延設されている。
配線パターン60は、図2における正極母線Lpを構成し、X方向に延設されている。配線パターン62は、図2における負極母線Lnを構成し、X方向に延設されている。配線パターン60と配線パターン62とはY方向において離間して配置されている。
The wiring patterns 60, 61, 62, 63, 64 are made of metal (for example, made of copper, aluminum, etc.). On the insulating layer 52, wiring patterns 60, 61, 62, 63 and 64 are extended.
The wiring pattern 60 constitutes the positive electrode bus Lp in FIG. 2 and extends in the X direction. The wiring pattern 62 constitutes the negative electrode bus Ln in FIG. 2 and extends in the X direction. The wiring pattern 60 and the wiring pattern 62 are spaced apart from each other in the Y direction.

配線パターン61は、図2におけるスイッチング素子Q1とスイッチング素子Q2との間の配線L3を構成し、長方形をなし、配線パターン60に接近した位置に配置されている。   The wiring pattern 61 constitutes a wiring L3 between the switching element Q1 and the switching element Q2 in FIG. 2, has a rectangular shape, and is disposed at a position close to the wiring pattern 60.

配線パターン63は、図2におけるスイッチング素子Q2とシャント抵抗Ruとの間の配線L4を構成するとともにシャント抵抗Ruの一端と電流検出用モニタ端子S1との間の配線L1を構成している。配線パターン63は、直線的に延びる帯板形をなし、配線パターン63の一端部は配線パターン61に接近した位置に配置され、他端側がY方向に延びている。   The wiring pattern 63 forms a wiring L4 between the switching element Q2 and the shunt resistor Ru in FIG. 2, and also forms a wiring L1 between one end of the shunt resistor Ru and the current detection monitor terminal S1. The wiring pattern 63 has a strip shape extending linearly, one end of the wiring pattern 63 is disposed at a position close to the wiring pattern 61, and the other end extends in the Y direction.

配線パターン64は、図2におけるシャント抵抗Ruの他端と電流検出用モニタ端子S2との間の配線L2を構成している。配線パターン64は、直線的に延びる帯板形をなし、配線パターン64は、配線パターン62の端部から連続する状態でY方向に延びている。配線パターン63と配線パターン64とは互いに接近した位置に配置されている。   The wiring pattern 64 forms a wiring L2 between the other end of the shunt resistor Ru in FIG. 2 and the current detection monitor terminal S2. The wiring pattern 64 has a strip shape extending linearly, and the wiring pattern 64 extends in the Y direction in a state of being continuous from the end of the wiring pattern 62. The wiring pattern 63 and the wiring pattern 64 are arranged at positions close to each other.

なお、半導体モジュール20のベースプレート50は、図示しないヒートシンク(放熱板)の上面に配置される。
半導体モジュール20は、図5(a),(b),(c)に示すように、半導体チップ70,71と、検出素子72を備える。半導体チップ70は、図2のスイッチング素子Q1を構成している。半導体チップ70は、縦型MOSFETであって、下面にドレイン電極74が形成され、上面にソース電極(パッド)73およびゲート電極(パッド)75が形成されている。半導体チップ71は、図2のスイッチング素子Q2を構成している。半導体チップ71は、縦型MOSFETであって、下面にドレイン電極77が形成され、上面にソース電極(パッド)76およびゲート電極(パッド)78が形成されている。検出素子72は、電流検出素子であり、図2のシャント抵抗Ruを構成している。検出素子72は、下面における一方の端部に電極79が、他方の端部に電極80が形成されている。
The base plate 50 of the semiconductor module 20 is disposed on the upper surface of a heat sink (heat sink) (not shown).
As shown in FIGS. 5A, 5 </ b> B, and 5 </ b> C, the semiconductor module 20 includes semiconductor chips 70 and 71 and a detection element 72. The semiconductor chip 70 constitutes the switching element Q1 in FIG. The semiconductor chip 70 is a vertical MOSFET, and a drain electrode 74 is formed on the lower surface, and a source electrode (pad) 73 and a gate electrode (pad) 75 are formed on the upper surface. The semiconductor chip 71 constitutes the switching element Q2 in FIG. The semiconductor chip 71 is a vertical MOSFET, and a drain electrode 77 is formed on the lower surface, and a source electrode (pad) 76 and a gate electrode (pad) 78 are formed on the upper surface. The detection element 72 is a current detection element and constitutes the shunt resistor Ru in FIG. The detection element 72 has an electrode 79 formed at one end on the lower surface and an electrode 80 formed at the other end.

半導体チップ70は、ベースプレート50に、下面のドレイン電極74が配線パターン60に、はんだ付けにより電気的に接続された状態で実装されている。半導体チップ71は、ベースプレート50に、下面のドレイン電極77が配線パターン61に、はんだ付けにより電気的に接続された状態で実装されている。半導体チップ70のソース電極73と配線パターン61とは導電板81により電気的に接続されている。詳しくは、導電板81は金属の帯板を2箇所にわたり屈曲形成することにより構成され、導電板81の一端が半導体チップ70のソース電極73に、はんだ付けされるとともに、他端が配線パターン61に、はんだ付けされている。半導体チップ71のソース電極76と配線パターン63とは導電板82により電気的に接続されている。詳しくは、導電板82は金属の帯板を2箇所にわたり屈曲形成することにより構成され、導電板82の一端が半導体チップ71のソース電極76に、はんだ付けされるとともに、他端が配線パターン63に、はんだ付けされている。導電板81は、図2におけるスイッチング素子Q1とスイッチング素子Q2との間の配線L3を構成している。導電板82は、図2におけるスイッチング素子Q2とシャント抵抗Ruとの間の配線L4を構成している。   The semiconductor chip 70 is mounted on the base plate 50 in a state where the drain electrode 74 on the lower surface is electrically connected to the wiring pattern 60 by soldering. The semiconductor chip 71 is mounted on the base plate 50 in a state where the drain electrode 77 on the lower surface is electrically connected to the wiring pattern 61 by soldering. The source electrode 73 of the semiconductor chip 70 and the wiring pattern 61 are electrically connected by a conductive plate 81. Specifically, the conductive plate 81 is formed by bending a metal strip at two locations. One end of the conductive plate 81 is soldered to the source electrode 73 of the semiconductor chip 70, and the other end is the wiring pattern 61. It is soldered. The source electrode 76 of the semiconductor chip 71 and the wiring pattern 63 are electrically connected by a conductive plate 82. Specifically, the conductive plate 82 is formed by bending a metal strip at two locations. One end of the conductive plate 82 is soldered to the source electrode 76 of the semiconductor chip 71 and the other end is the wiring pattern 63. It is soldered. The conductive plate 81 constitutes a wiring L3 between the switching element Q1 and the switching element Q2 in FIG. The conductive plate 82 constitutes a wiring L4 between the switching element Q2 and the shunt resistor Ru in FIG.

検出素子72がベースプレート50の辺または隅に配置されている。検出素子72は、ベースプレート50に、下面の一方の電極79が配線パターン63に、はんだ付けされるとともに下面の他方の電極80が配線パターン62に、はんだ付けされることにより電気的に接続された状態で実装されている。このようにして、検出素子72はベースプレート50に電極79,80が配線パターン62,63に電気的に接続された状態で実装されている。配線パターン62から配線パターン64が分岐し、配線パターン63と配線パターン64はY方向に互いに平行に延びている。   The detection element 72 is disposed on the side or corner of the base plate 50. The detection element 72 is electrically connected to the base plate 50 by soldering one electrode 79 on the lower surface to the wiring pattern 63 and soldering the other electrode 80 on the lower surface to the wiring pattern 62. Implemented in state. In this way, the detection element 72 is mounted on the base plate 50 in a state where the electrodes 79 and 80 are electrically connected to the wiring patterns 62 and 63. A wiring pattern 64 branches from the wiring pattern 62, and the wiring pattern 63 and the wiring pattern 64 extend in parallel to each other in the Y direction.

半導体モジュール20は、図4(a),(b),(c)に示すように、半導体チップ70のソース電極73、ドレイン電極74、ゲート電極75、半導体チップ71のソース電極76、ドレイン電極77、ゲート電極78に電気的に接続された半導体チップ用引出端子90,91,92,93,94を備える。   4A, 4B, and 4C, the semiconductor module 20 includes a source electrode 73, a drain electrode 74, a gate electrode 75 of the semiconductor chip 70, a source electrode 76 of the semiconductor chip 71, and a drain electrode 77. The semiconductor chip lead terminals 90, 91, 92, 93 and 94 are electrically connected to the gate electrode 78.

詳しくは、配線パターン60には半導体チップ用引出端子90が立設され、半導体チップ用引出端子90の下端が配線パターン60に、はんだ付けされている(半導体チップ70のドレイン電極74と電気的に接続されている)。配線パターン62には半導体チップ用引出端子91が立設され、半導体チップ用引出端子91の下端が配線パターン62に、はんだ付けされている(半導体チップ71のソース電極76と検出素子72を介して電気的に接続されている)。配線パターン61には半導体チップ用引出端子92が立設され、半導体チップ用引出端子92の下端が配線パターン61に、はんだ付けされている(半導体チップ70のソース電極73及び半導体チップ71のドレイン電極77と電気的に接続されている)。半導体チップ70のゲート電極75には半導体チップ用引出端子93が立設され、半導体チップ用引出端子93の下端が半導体チップ70のゲート電極75に、はんだ付けされている(半導体チップ70のゲート電極75と電気的に接続されている)。半導体チップ71のゲート電極78には半導体チップ用引出端子94が立設され、半導体チップ用引出端子94の下端が半導体チップ71のゲート電極78に、はんだ付けされている(半導体チップ71のゲート電極78と電気的に接続されている)。   Specifically, a semiconductor chip lead terminal 90 is erected on the wiring pattern 60, and the lower end of the semiconductor chip lead terminal 90 is soldered to the wiring pattern 60 (electrically connected to the drain electrode 74 of the semiconductor chip 70). It is connected). A semiconductor chip lead terminal 91 is erected on the wiring pattern 62, and the lower end of the semiconductor chip lead terminal 91 is soldered to the wiring pattern 62 (via the source electrode 76 of the semiconductor chip 71 and the detection element 72). Electrically connected). A semiconductor chip lead terminal 92 is erected on the wiring pattern 61, and the lower end of the semiconductor chip lead terminal 92 is soldered to the wiring pattern 61 (the source electrode 73 of the semiconductor chip 70 and the drain electrode of the semiconductor chip 71). 77). A semiconductor chip lead terminal 93 is erected on the gate electrode 75 of the semiconductor chip 70, and the lower end of the semiconductor chip lead terminal 93 is soldered to the gate electrode 75 of the semiconductor chip 70 (the gate electrode of the semiconductor chip 70). 75 and electrically connected). A semiconductor chip lead terminal 94 is erected on the gate electrode 78 of the semiconductor chip 71, and the lower end of the semiconductor chip lead terminal 94 is soldered to the gate electrode 78 of the semiconductor chip 71 (the gate electrode of the semiconductor chip 71). 78).

このようにして、半導体チップ用引出端子90,91,92,93,94は、ベースプレート50に対し立設されている。
検出素子72の電極79,80に電気的に接続された配線パターン63,64が、Y方向に延び、ベースプレート50の端部まで検出素子用引出端子として延設されている。
In this way, the semiconductor chip lead terminals 90, 91, 92, 93, 94 are erected with respect to the base plate 50.
Wiring patterns 63 and 64 electrically connected to the electrodes 79 and 80 of the detection element 72 extend in the Y direction and extend as detection element lead terminals to the end of the base plate 50.

半導体モジュール20は、図3(a),(b),(c)に示すように、ハウジングとしての樹脂製枠体53を備える。樹脂製枠体53は四角枠状をなすとともに、上部は平板部53aで覆われている。樹脂製枠体53は、内方に半導体チップ70,71および検出素子72が位置する状態でベースプレート50に配置されている。上下方向に延びる半導体チップ用引出端子90,91,92,93,94は、樹脂製枠体53において水平方向に延在する平板部53aを貫通する状態で樹脂製枠体53に一体形成されている(インサート成形されている)。   As shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C, the semiconductor module 20 includes a resin frame 53 as a housing. The resin frame 53 has a rectangular frame shape, and the upper portion is covered with a flat plate portion 53a. The resin frame 53 is disposed on the base plate 50 with the semiconductor chips 70 and 71 and the detection element 72 positioned inward. The semiconductor chip lead terminals 90, 91, 92, 93, 94 extending in the vertical direction are integrally formed in the resin frame 53 so as to penetrate the flat plate portion 53 a extending in the horizontal direction in the resin frame 53. Yes (insert molded).

Y方向に延びる検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64は、樹脂製枠体53を貫通しており、配線パターン63,64は樹脂製枠体53の外壁面から外部に突出している。   The wiring patterns 63 and 64 extended as detection element lead terminals extending in the Y direction penetrate the resin frame 53, and the wiring patterns 63 and 64 protrude from the outer wall surface of the resin frame 53 to the outside. ing.

このようにして半導体モジュール20は、半導体チップ用引出端子90,91,92,93,94の先端部および配線パターン63,64の先端部が露出する状態で、樹脂製枠体53により半導体チップ70,71、検出素子72、配線材が覆われている。また、インバータ装置などでパワーモジュールを構成するときにボンディングワイヤを用いずに配線パターンや導電板を用いて接続することにより(ダイレクトリードボンディング構造とすることにより)寄生素子を削減することができる。   In this way, the semiconductor module 20 has the semiconductor chip 70 by the resin frame 53 in a state in which the leading ends of the semiconductor chip lead terminals 90, 91, 92, 93, 94 and the leading ends of the wiring patterns 63, 64 are exposed. 71, detection element 72, and wiring material. Further, when configuring a power module with an inverter device or the like, parasitic elements can be reduced by using a wiring pattern or a conductive plate instead of a bonding wire (using a direct lead bonding structure).

図3(a),(b),(c)に示すように、樹脂製枠体53の上面にはドライブ回路の基板31が配置されている。半導体チップ用引出端子93,94に基板31が電気的に接続されている。半導体チップ用引出端子93,94に接続される基板31が重なって配置されている。検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64に接続されるコントローラ40が、検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64の端部に隣接して配置されている。コントローラ40は、配線パターン63,64を介して検出素子72に電気的に接続されている。   As shown in FIGS. 3A, 3 </ b> B, and 3 </ b> C, a drive circuit board 31 is disposed on the upper surface of the resin frame 53. The substrate 31 is electrically connected to the semiconductor chip lead terminals 93 and 94. The substrates 31 connected to the semiconductor chip lead terminals 93 and 94 are arranged to overlap each other. The controller 40 connected to the wiring patterns 63 and 64 extended as the detection element lead-out terminals is disposed adjacent to the ends of the wiring patterns 63 and 64 extended as the detection element lead-out terminals. The controller 40 is electrically connected to the detection element 72 via the wiring patterns 63 and 64.

なお、図3(a),(b),(c)ではU相における半導体チップ用引出端子93,94について示しているが、V相及びW相についても同様な構成をなし、図2のゲート用接続端子G3,G4,G5,G6を構成する半導体チップ用引出端子が半導体モジュール20の上面から突出して基板31と接続されている。また、図3ではU相における検出素子用引出端子としての配線パターン63,64を示しているが、V相及びW相についても同様な構成をなし、検出素子用引出端子としての配線パターンが半導体モジュール20の一側面から突出してコントローラ40と接続されている。   3A, 3B, and 3C show the U-phase semiconductor chip lead terminals 93 and 94, the V-phase and the W-phase have the same configuration, and the gate shown in FIG. The semiconductor chip lead terminals constituting the connection terminals G3, G4, G5, and G6 protrude from the upper surface of the semiconductor module 20 and are connected to the substrate 31. Further, FIG. 3 shows the wiring patterns 63 and 64 as the detection element lead terminals in the U phase, but the V phase and the W phase have the same configuration, and the wiring patterns as the detection element lead terminals are semiconductors. Projecting from one side of the module 20 is connected to the controller 40.

次に、作用について説明する。
インバータ装置10は、スイッチング素子Q1〜Q6がオン・オフ制御されてバッテリから供給される直流電力が交流電力に変換されてモータへ3相交流電力を供給する。このとき、電流がモニタされてフィードバック制御が行われる。
Next, the operation will be described.
In the inverter device 10, the switching elements Q <b> 1 to Q <b> 6 are controlled to be turned on / off, and the DC power supplied from the battery is converted into AC power to supply three-phase AC power to the motor. At this time, the current is monitored and feedback control is performed.

半導体モジュール20にはスイッチング素子Q1〜Q6を構成する半導体チップ(パワーMOSFET)が配置され、樹脂製枠体53の内方において配線パターン60,61,63で接続されている。電流検出用の素子72から延びる端子を上部に引き出さずに、配線パターン63,64を樹脂製枠体53の外方まで引き出して電流の測定が行われる。このように電流検出用の素子72から延びる端子を取り出すことで、電流検出用の素子72から延びる端子以外の他の取り出し配線と並走せずに端子を外部に取り出せる。   The semiconductor module 20 is provided with semiconductor chips (power MOSFETs) constituting the switching elements Q1 to Q6, and is connected to the inside of the resin frame 53 by wiring patterns 60, 61, 63. The current is measured by drawing the wiring patterns 63 and 64 to the outside of the resin frame 53 without drawing the terminal extending from the current detection element 72 upward. By taking out the terminal extending from the current detection element 72 in this way, the terminal can be taken out without running in parallel with other extraction wirings other than the terminal extending from the current detection element 72.

その結果、電流検出用の素子72から延びる配線においては他の配線でのノイズの影響を受けにくい。
また、電流検出用の素子72から延びる端子を半導体モジュール20の上部に引き出さないため、半導体モジュール20の上部に基板31を配置する際に、基板31の面積も有効活用できる。
As a result, the wiring extending from the current detection element 72 is not easily affected by noise in other wiring.
In addition, since the terminal extending from the current detection element 72 is not pulled out to the upper portion of the semiconductor module 20, the area of the substrate 31 can be effectively utilized when the substrate 31 is disposed on the upper portion of the semiconductor module 20.

また、電流検出用の素子72がベースプレート50(樹脂製枠体53)の辺の近く又は隅の近くに配置されており、電流検出用の素子72から延びる配線の取り回しを最短にすることができる。   Further, the current detection element 72 is arranged near the side or near the corner of the base plate 50 (resin frame 53), so that the wiring extending from the current detection element 72 can be minimized. .

よって、電流フィードバック時や検査時にノイズなどの影響を軽減して半導体モジュール20の内部の電流を測定する。具体的にはシャント抵抗Ru,Rv,Rwの両端での信号が半導体モジュール20の側面(横)から出力され、正極端子、負極端子、ゲート端子は半導体モジュール20の上部に取り出される。   Therefore, the current inside the semiconductor module 20 is measured while reducing the influence of noise or the like during current feedback or inspection. Specifically, signals at both ends of the shunt resistors Ru, Rv, and Rw are output from the side surface (lateral) of the semiconductor module 20, and the positive terminal, the negative terminal, and the gate terminal are taken out to the top of the semiconductor module 20.

このようにして、半導体モジュール20は素子や配線が樹脂製枠体53内に配置されるためモジュールの全体での動作や電流Itotal(図2参照)の確認は可能であるが、U相、V相、W相の3つの個別の回路での各電流Iu,Iv,Iw(図2参照)の測定が難しくなる。このため、個別回路ごとに電流の測定を実施する場合は、あらかじめ電流検出素子を内蔵し、電圧を外部に引き出して、測定を実施する必要がある。このように電流モニタを行うとモニタ数が増加すると、配線数も増加し、半導体モジュール20内に配線が増加するため、取り出しの電極が増加してしまう。また、モニタ用の取り出し電極はパワーラインの端子(電極)からノイズを受けないように配置する必要もあるので小型化の妨げとなる。   In this way, since the elements and wirings are arranged in the resin frame 53 in the semiconductor module 20, it is possible to confirm the operation of the entire module and the current Itotal (see FIG. 2). It becomes difficult to measure the currents Iu, Iv, and Iw (see FIG. 2) in the three individual circuits of the phase and the W phase. For this reason, when the current measurement is performed for each individual circuit, it is necessary to incorporate a current detection element in advance and extract the voltage to the outside to perform the measurement. When the current monitoring is performed in this way, when the number of monitors increases, the number of wirings also increases, and the number of wirings in the semiconductor module 20 increases. Therefore, the number of extraction electrodes increases. In addition, since it is necessary to dispose the monitor extraction electrode so as not to receive noise from the terminal (electrode) of the power line, miniaturization is hindered.

本実施形態では、電流センサ信号を他の信号と並走せずに取り出せるため、クロストークといったノイズの影響を受けにくくなる。また、半導体モジュール20の上部へ基板31を配置する際の基板の有効活用が可能となる。   In the present embodiment, since the current sensor signal can be extracted without running in parallel with other signals, it is less susceptible to noise such as crosstalk. In addition, the substrate can be effectively used when the substrate 31 is disposed on the semiconductor module 20.

なお、U相、V相、W相の3相出力ラインはノイズ源になるとともにゲート信号ラインも周波数の高いパルス信号が送られるのでノイズ源になる。よって、電流検出信号ラインにおいて、3相出力ラインおよびゲート信号ラインに起因するクロストーク(カップリング)によりノイズを受けやすいが、これを回避することができ、精度よく電流を測定することができる。   Note that the U-phase, V-phase, and W-phase three-phase output lines serve as noise sources, and the gate signal lines also serve as noise sources because high-frequency pulse signals are sent. Therefore, the current detection signal line is susceptible to noise due to crosstalk (coupling) caused by the three-phase output line and the gate signal line, but this can be avoided and the current can be measured with high accuracy.

上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)半導体モジュール20の構成として、ベースプレート50と、配線パターン60〜64と、半導体チップ70,71と、検出素子72と、半導体チップ用引出端子90〜94とを備える。半導体チップ用引出端子90〜94は、ベースプレート50に対し立設され、検出素子72の電極に電気的に接続された配線パターン63,64がベースプレート50の端部まで検出素子用引出端子として延設されている。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The configuration of the semiconductor module 20 includes a base plate 50, wiring patterns 60 to 64, semiconductor chips 70 and 71, a detection element 72, and semiconductor chip lead terminals 90 to 94. The semiconductor chip lead terminals 90 to 94 are erected with respect to the base plate 50, and the wiring patterns 63 and 64 electrically connected to the electrodes of the detection elements 72 extend as detection element lead terminals to the end of the base plate 50. Has been.

よって、検出素子72の信号を他の信号と並走せずに取り出せるため、ノイズの影響を受けにくくなる。これにより精度よく電流測定を行うことができる。
(2)検出素子72がベースプレート50の辺または隅に配置されているので、検出素子72の配線を短くできる。
Therefore, since the signal of the detection element 72 can be taken out without running in parallel with other signals, it is less susceptible to noise. Thereby, current measurement can be performed with high accuracy.
(2) Since the detection element 72 is disposed on the side or corner of the base plate 50, the wiring of the detection element 72 can be shortened.

(3)内方に半導体チップ70,71および検出素子72が位置する状態でベースプレート50に配置された樹脂製枠体53を備え、検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64は、樹脂製枠体53を貫通しているので、実用的である。   (3) A wiring pattern 63, 64 provided with a resin frame 53 arranged on the base plate 50 in a state where the semiconductor chips 70, 71 and the detection element 72 are located on the inside, and extended as a detection element lead-out terminal, Since it penetrates the resin frame 53, it is practical.

(4)検出素子72は、電流検出素子であるので、容易に電流を検出することができる。
(5)半導体モジュール20には、半導体チップ用引出端子に接続される基板31が重なって配置され、検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64に接続されるコントローラ40が、検出素子用引出端子として延設された配線パターン63,64の端部に隣接して配置されているので、小型化を図ることができる。
(4) Since the detection element 72 is a current detection element, the current can be easily detected.
(5) On the semiconductor module 20, the substrate 31 connected to the lead terminal for semiconductor chip is disposed so as to overlap, and the controller 40 connected to the wiring patterns 63 and 64 extended as the lead terminal for detection element detects the semiconductor module 20. Since it is arranged adjacent to the end portions of the wiring patterns 63 and 64 extending as the element lead-out terminals, it is possible to reduce the size.

実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
・半導体チップ用引出端子は、半導体チップの電極(パッド)から直接延設されていても(直接立設されていても)、半導体チップの電極(パッド)から導電板等を介して配線パターンに接続され、配線パターンから延設されていても(立設されていても)よい。要は、半導体チップ用引出端子は、半導体チップの電極に電気的に接続されていればよい。
The embodiment is not limited to the above, and may be embodied as follows, for example.
-Even if the lead terminal for the semiconductor chip is directly extended from the electrode (pad) of the semiconductor chip (even if it is erected directly), it is connected to the wiring pattern from the electrode (pad) of the semiconductor chip through a conductive plate or the like. It may be connected and extended from the wiring pattern (may be erected). In short, it is only necessary that the lead terminal for the semiconductor chip is electrically connected to the electrode of the semiconductor chip.

・電流検出素子は、シャント抵抗で構成したが、他の素子、例えばホール素子で構成してもよい。
・検出素子は電流検出素子であったが、これに限らない。例えば、検出素子は、電圧検出素子であってもよい。
The current detection element is composed of a shunt resistor, but may be composed of another element, for example, a Hall element.
-Although the detection element was a current detection element, it is not restricted to this. For example, the detection element may be a voltage detection element.

・インバータ装置に適用したが、これに限らない。例えば、DC/DCコンバータ、PFC(力率改善回路)等に適用してもよい。   -Although applied to an inverter device, it is not limited to this. For example, you may apply to a DC / DC converter, PFC (power factor improvement circuit), etc.

20…半導体モジュール、31…基板、40…コントローラ、50…ベースプレート、51…金属板、52…絶縁層、53…樹脂製枠体、60〜64…配線パターン、70,71…半導体チップ、72…検出素子、74,76…電極、90〜94…半導体チップ用引出端子。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Semiconductor module, 31 ... Board | substrate, 40 ... Controller, 50 ... Base plate, 51 ... Metal plate, 52 ... Insulating layer, 53 ... Resin frame, 60-64 ... Wiring pattern, 70, 71 ... Semiconductor chip, 72 ... Detection elements, 74, 76... Electrodes, 90 to 94.

Claims (5)

金属板の上面に絶縁層を形成してなるベースプレートと、
前記ベースプレートの絶縁層上に形成された配線パターンと、
前記ベースプレートに、電極が前記配線パターンに電気的に接続された状態で実装された半導体チップと、
前記ベースプレートに、電極が前記配線パターンに電気的に接続された状態で実装された検出素子と、
前記半導体チップの電極に電気的に接続された半導体チップ用引出端子と、
を備え、
前記半導体チップ用引出端子は、前記ベースプレートに対し立設され、
前記検出素子の電極に電気的に接続された前記配線パターンが前記ベースプレートの端部まで検出素子用引出端子として延設されてなることを特徴とする半導体モジュール。
A base plate formed by forming an insulating layer on the upper surface of the metal plate;
A wiring pattern formed on the insulating layer of the base plate;
A semiconductor chip mounted on the base plate in a state where electrodes are electrically connected to the wiring pattern;
A detection element mounted on the base plate in a state where electrodes are electrically connected to the wiring pattern;
A semiconductor chip lead terminal electrically connected to the electrode of the semiconductor chip;
With
The semiconductor chip lead terminal is erected with respect to the base plate,
The semiconductor module, wherein the wiring pattern electrically connected to the electrode of the detection element extends as an extraction terminal for the detection element to an end of the base plate.
前記検出素子が前記ベースプレートの辺または隅に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュール。   The semiconductor module according to claim 1, wherein the detection element is arranged on a side or a corner of the base plate. 内方に前記半導体チップおよび前記検出素子が位置する状態で前記ベースプレートに配置された樹脂製枠体を備え、
前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンは、前記樹脂製枠体を貫通していることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体モジュール。
A resin frame disposed on the base plate in a state where the semiconductor chip and the detection element are located inward,
3. The semiconductor module according to claim 1, wherein the wiring pattern extended as the detection element lead-out terminal penetrates the resin frame. 4.
前記検出素子は電流検出素子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体モジュール。   The semiconductor module according to claim 1, wherein the detection element is a current detection element. 前記半導体チップ用引出端子に接続される基板が重なって配置され、
前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンに接続されるコントローラが、前記検出素子用引出端子として延設された前記配線パターンの端部に隣接して配置されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
The substrates connected to the semiconductor chip lead terminals are arranged to overlap,
A controller connected to the wiring pattern extended as the detection element lead-out terminal is disposed adjacent to an end of the wiring pattern extended as the detection element lead-out terminal. The semiconductor module of any one of Claims 1-4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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