JP2017215487A - 走査露光装置および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図8(b)は、走査方向の光強度分布901を示しており、1パルス毎の変位量ΔYとの関係を示している。図8(b)において、横軸は基板115の走査方向Yの座標値、縦軸は露光光のエネルギー量E(露光量)を示している。エネルギー量E(露光量)は、光強度に比例する。基板115には、1パルス毎に、ΔYの区間ごとに、e1〜e9の露光量が積算される。e1からe9の露光量をΔYの区間ごとに積算した結果は、ΔYの区間の相互間の露光量差(露光ムラ)を示す。
Claims (13)
- 走査方向に沿った形状が台形形状を有する光強度分布を基板上に形成する露光光によって該基板を露光する走査露光装置であって、
前記台形形状における傾斜部分を構成する光線の結像位置誤差を検出する検出部を備える、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 前記検出部は、前記傾斜部分を構成する光線が入射する位置から観察される瞳面光強度分布に基づいて結像位置誤差を検出する、
ことを特徴とする請求項1に記載の走査露光装置。 - 前記検出部は、前記瞳面光強度分布を検出する光検出器と、前記光検出器によって検出された前記瞳面光強度分布に基づいて結像位置誤差を求める処理部と、を含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の走査露光装置。 - 前記処理部は、前記瞳面光強度分布に基づいて前記傾斜部分を構成する光線の傾きを求め、前記傾きに基づいて結像位置誤差を求める、
ことを特徴とする請求項3に記載の走査露光装置。 - 前記処理部は、前記瞳面光強度分布の重心の偏りに基づいて前記傾斜部分を構成する光線の傾きを求める、
ことを特徴とする請求項4に記載の走査露光装置。 - 前記走査方向における前記傾斜部分の幅を変更するための変更機構を更に備え、
前記処理部は、前記傾斜部分の複数の幅のそれぞれについて結像位置誤差が検出されるように前記変更機構および前記検出部を制御し、前記傾斜部分の幅と結像位置誤差との関係を取得する、
ことを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の走査露光装置。 - 前記処理部は、照明モードごとに前記関係を取得する、
ことを特徴とする請求項6に記載の走査露光装置。 - 前記処理部は、前記光検出器が前記走査方向における複数の位置に順次に配置されるように前記光検出器の位置を制御し、前記複数の位置のそれぞれにおける前記光検出器の出力に基づいて、前記傾斜部分が形成される範囲を特定し、前記範囲における所定の位置に前記光検出器を配置させることによって、前記光検出器に前記瞳面光強度分布を検出させる、
ことを特徴とする請求項3乃至7のいずれか1項に記載の走査露光装置。 - 許容される結像位置誤差および前記関係に基づいて前記傾斜部分の幅を決定する制御部を更に備えることを特徴とする請求項6又は7に記載の走査露光装置。
- 前記制御部は、決定した前記傾斜部分の幅および許容される露光量誤差に基づいて、基板の走査の単位長当たりの露光光の照射パルス数を決定する、
ことを特徴とする請求項9に記載の走査露光装置。 - 前記制御部は、結像位置誤差の低減および露光量誤差の低減のうちいずれを優先するべきかに応じて前記許容される結像位置誤差を決定する、
ことを特徴とする請求項9又は10に記載の走査露光装置。 - 前記制御部は、結像位置誤差の低減を優先する場合において許容される露光量誤差を、露光量誤差の低減を優先する場合において許容される露光量誤差より大きく設定する、
ことを特徴とする請求項11に記載の走査露光装置。 - 基板の上にフォトレジストを塗布する塗布工程と、
前記塗布工程を経た前記基板の上の前記フォトレジストを請求項1乃至12のいずれか1項に記載の走査露光装置によって露光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記基板の上の前記フォトレジストを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程を経た前記基板を処理する処理工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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