JP2017214614A - Method for producing electrolytically polished metal compact - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide, in a method for producing electrolytically polished metal compact, a method for producing metal compact in which, while shortening the polishing time, a uniform polishing surface with less polishing unevenness is obtained by a simple method and a simple apparatus.SOLUTION: Provided are: a method for producing a metal compact including 1 or more times of a first electrolytic polishing step of electrolytic polishing under the following condition of (a) in an electrolytic polishing liquid, and 1 or more times of a second voltage electrolytic polishing step of electrolytic polishing under the following condition of (b), and in which the final electrolytic polishing is carried out under the following condition of (b). (a) a condition of applying a voltage for a fixed time. (b) a condition of applying a voltage higher than the condition (a) for a fixed time; and a method for producing a metal compact in which the voltage under the condition of (a) is 10 to 30 V and the voltage of the condition of (b) is 20 to 45 V.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、金属成形体を、電解研磨液中で、電気化学的に研磨する電解研磨された金属成形体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an electrolytically polished metal molded body in which a metal molded body is electrochemically polished in an electrolytic polishing liquid.

電解研磨は、種々の金属成形体の表面を鏡面に仕上げる加工方法で、一般的に、産業界において広く普及している。これまでに種々の金属成形体の電解研磨方法が開発されているが、例えば、表面が酸化されやすい卑金属である、鉄、クロム、マグネシウム、アルミニウム、チタン等を含有する金属成形体は、表面に形成された酸化皮膜のために、電解研磨が困難な傾向があった。特に、チタンまたはチタン合金からなる金属成形体の電解研磨は、表面の酸化皮膜が除去(溶解)しにくいことから、その傾向が顕著であった。   Electropolishing is a processing method for finishing the surface of various metal molded bodies into a mirror surface, and is generally widely used in industry. Various methods of electrolytic polishing of metal molded bodies have been developed so far. For example, metal molded bodies containing iron, chromium, magnesium, aluminum, titanium, etc., which are base metals whose surfaces are easily oxidized, are formed on the surface. Due to the formed oxide film, electropolishing tended to be difficult. In particular, the electropolishing of a metal molded body made of titanium or a titanium alloy has a remarkable tendency because the oxide film on the surface is difficult to remove (dissolve).

チタンまたはチタン合金は、軽量、高強度、耐腐食性に優れる等、他の金属よりも優れた特性を有する。そのため、チタンまたはチタン合金は、半導体デバイス等の電子機器、光学機器、化学機器、医療材料など広い分野で使用されている。特に、形状記憶特性・超弾性特性を有するニッケルとチタンの原子比がおよそ1:1であるニッケルチタン合金は、医療材料としての使用が進んでおり、歯列矯正ワイヤ、ガイドワイヤ、ステント等の医療用具に広く用いられている。   Titanium or titanium alloy has characteristics superior to other metals such as light weight, high strength, and excellent corrosion resistance. Therefore, titanium or titanium alloys are used in a wide range of fields such as electronic devices such as semiconductor devices, optical devices, chemical devices, and medical materials. In particular, nickel titanium alloys having an atomic ratio of nickel to titanium having shape memory characteristics and superelastic characteristics of approximately 1: 1 are being used as medical materials, such as orthodontic wires, guide wires, and stents. Widely used in medical devices.

このようなステントに代表される医療用具の表面は、非常に平滑であることが求められる。表面が粗いと人体内への移植中、もしくは移植後において体内の組織を傷つけたり、あるいは過度に刺激することによって、炎症の原因となりうるため、一般的には、医療用具の製造の後工程において、表面を平滑に仕上げる加工が施される。このような医療用具の表面を加工する方法としては、電解研磨方法が好適に用いられている。   The surface of a medical device represented by such a stent is required to be very smooth. The rough surface can cause inflammation by damaging or excessively irritating tissues in the body during or after transplantation into the human body. The surface is finished with a smooth finish. As a method for processing the surface of such a medical device, an electropolishing method is suitably used.

しかしながら、金属成形体の電解研磨において、使用する電解研磨液の劣化や、あるいは、長時間にわたる電解研磨によって、電解研磨液中に発生する気泡、研磨液の温度変化や液中イオン濃度勾配等の影響により、研磨面の一部あるいは全面に、不均一に形成された凹凸状の酸化金属皮膜層が形成され、白く曇った研磨表面となってしまうという課題があった。   However, in the electrolytic polishing of the metal molded body, deterioration of the electrolytic polishing liquid to be used, or bubbles generated in the electrolytic polishing liquid due to electrolytic polishing over a long period of time, temperature change of the polishing liquid, ion concentration gradient in the liquid, etc. Due to the influence, the uneven metal oxide film layer formed unevenly is formed on a part or the whole of the polished surface, resulting in a white and cloudy polished surface.

電解研磨は、被研磨物をアノードとして電解研磨液に浸漬し、アノード溶解とアノード酸化をバランスよく拮抗させて行うが、電解研磨能力が低下した、すなわち、アノード溶解能力が低下した電解研磨液を使用した場合に、アノード酸化が優勢となって、白色の曇り面の発生はより顕著となる傾向があった。   Electropolishing is performed by immersing an object to be polished in an electropolishing liquid and anodic dissolution and anodic oxidation in a well-balanced manner. When used, anodic oxidation predominated and the occurrence of white cloudy surfaces tended to be more pronounced.

尚、電解研磨液の使用による劣化とは、電解研磨能力に寄与するイオンの消費、あるいは、被研磨物金属成分の溶解により粘性抵抗が大きくなっている状態を指す。   Incidentally, the deterioration due to the use of the electrolytic polishing liquid refers to a state in which the viscous resistance is increased due to consumption of ions contributing to the electrolytic polishing ability or dissolution of the metal component to be polished.

特に、チタンを含む金属材料においては、形成される酸化チタン皮膜層は、強固に付着するため、剥離が困難であり、電解研磨後に白色の曇り面を生じやすい。強固に付着した酸化チタン皮膜層を溶解して除去するために、従来はフッ化物を含む電解研磨液が多く利用されてきたが、健康面ならびに環境面への負荷を伴うため、フッ化物を含まない電解研磨液が利用される様になってきている。しかし、フッ化物を含まない電解研磨液は、酸化チタン皮膜を除去しにくく、電解研磨後に白色の曇り面を生じやすい傾向があった。   In particular, in a metal material containing titanium, the formed titanium oxide film layer adheres firmly, and thus is difficult to peel off and tends to produce a white cloudy surface after electropolishing. Conventionally, many electrolytic polishing liquids containing fluoride have been used to dissolve and remove the strongly adhered titanium oxide film layer. However, since this involves a load on health and the environment, it contains fluoride. No electropolishing liquid is being used. However, the electropolishing liquid containing no fluoride has a tendency to easily remove a titanium oxide film, and tends to produce a white cloudy surface after electropolishing.

特許文献1では、金属成形体に対して、酸化皮膜の成長を抑えることを目的に、電解液を振動攪拌する操作を含む電解研磨方法が提案されている(電流密度:3〜500A/dm=30〜5000mA/cm)。 Patent Document 1 proposes an electrolytic polishing method including an operation of vibrating and agitating an electrolytic solution for the purpose of suppressing the growth of an oxide film on a metal molded body (current density: 3 to 500 A / dm 2). = 30-5000 mA / cm < 2 >).

特許文献2では、金属成形体に対して、比較的低い電圧(電流密度:1〜40mA/cm)を印加して電解研磨する工程と、表面から皮膜を除去することを目的に、電解液中で超音波処理に付す工程とを含む電解研磨方法が提案されている。
特許文献3では、金属成形体に対して、比較的高い電圧(電流密度:40〜200mA/cm)で電解研磨を実施した後、比較的低い電圧(電流密度:5〜40mA/cm)で電解研磨を実施することで、白色の曇り面のない研磨面を得る電解研磨方法が提案されている。
In Patent Document 2, an electrolytic solution is applied for the purpose of applying a relatively low voltage (current density: 1 to 40 mA / cm 2 ) to the metal molded body and performing electropolishing, and removing the film from the surface. Among them, an electropolishing method including a step of subjecting to ultrasonic treatment has been proposed.
In Patent Document 3, after electrolytic polishing is performed on a metal molded body at a relatively high voltage (current density: 40 to 200 mA / cm 2 ), a relatively low voltage (current density: 5 to 40 mA / cm 2 ). An electropolishing method has been proposed in which an electropolishing is performed to obtain a polished surface having no white cloudy surface.

また、特許文献1〜3においては、金属成形体の電解研磨に対して、アルコールと金属塩化物とを含有するフッ化物を含まない電解研磨液が例示されている。   Moreover, in patent documents 1-3, the electropolishing liquid which does not contain the fluoride which contains alcohol and a metal chloride with respect to the electropolishing of a metal molded object is illustrated.

特開2004−060004号公報JP 2004-060004 A 特開2004−018954号公報JP 2004-018954 A 特開2005−240144号公報JP-A-2005-240144

特許文献1ならびに特許文献2の金属成形体の電解研磨方法は、電解研磨中に生成する酸化金属皮膜除去のために振動撹拌操作もしくは超音波処理を行うことが必須であるため、操作が煩雑となり、またそのための装置が必要であった。また、特許文献2の電解研磨方法は、比較的低い電圧(電流密度)を印加して電解研磨するため、通常の電解研磨方法と比較して研磨時間が長くかかるという課題があった。   In the method of electropolishing a metal molded body of Patent Document 1 and Patent Document 2, it is essential to perform a vibration stirring operation or ultrasonic treatment for removing a metal oxide film generated during electropolishing, which makes the operation complicated. In addition, a device for this purpose was necessary. In addition, the electrolytic polishing method of Patent Document 2 has a problem that it takes a longer polishing time compared to a normal electrolytic polishing method because a relatively low voltage (current density) is applied to perform the electrolytic polishing.

特許文献3の金属成形体の電解研磨方法は、特許文献1および特許文献2のような付加的な設備を要する振動撹拌操作や超音波処理を必要としないが、最終的に比較的低い電圧(電流密度)を印加して電解研磨するため、通常の電解研磨方法と比較して研磨時間が長くかかるという課題があった。   The method of electropolishing a metal molded body of Patent Document 3 does not require a vibration stirring operation or ultrasonic treatment that requires additional equipment as in Patent Document 1 and Patent Document 2, but finally has a relatively low voltage ( Therefore, there is a problem that the polishing time is longer than that of a normal electrolytic polishing method.

本発明は、上記の課題を解決するために、金属成形体の電解研磨において、簡便な方法及び簡便な装置を用いて、研磨時間を短縮しつつ、研磨ムラの少ない均一な研磨面を得られる電解研磨方法を提供することにある。   In order to solve the above problems, the present invention can provide a uniform polished surface with less unevenness of polishing while reducing the polishing time by using a simple method and a simple apparatus in electrolytic polishing of a metal molded body. An object is to provide an electrolytic polishing method.

本発明者は、上記の課題解決のために鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、下記(1)〜(15)の金属成形体の製造方法を提供する。
(1).
電解研磨液中で、下記(a)条件で電解研磨する第1電解研磨工程を1回以上と、下記(b)条件で電解研磨する第2電解研磨工程を1回以上含み、下記(b)条件で最終の電解研磨を行うことを特徴とする、金属成形体の製造方法。
(a)電圧を一定時間印加する条件
(b)前記(a)条件より高い電圧を一定時間印加する条件
(2).
前記(a)条件の電圧値が、10V以上、30V以下の範囲から選択されることを特徴とする(1)に記載の金属成形体の製造方法。
(3).
前記(b)条件の電圧値が、20V以上、45V以下の範囲から選択されることを特徴とする、(1)または(2)に記載の金属成形体の製造方法。
(4).
前記(a)工程および前記(b)工程における電流値が、40mA/cm以上の範囲から選択されることを特徴とする、(1)〜(3)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(5).
前記(b)工程における電圧の印加時間が、前記(a)工程における電圧の印加時間と同じ、または、短いことを特徴とする、(1)〜(4)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(6).
前記(a)工程における電圧の印加時間が10秒以上、60秒以下の範囲、および前記(b)工程における電圧の印加時間が1秒以上、10秒以下の範囲で選択されることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(7).
前記電解研磨液がフッ化物を含んでいない、もしくはフッ化物の含有量が5重量%以下であることを特徴とする、(1)〜(6)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(8).
前記電解研磨液がアルキルスルホン酸を含んでいることを特徴とする、(1)〜(7)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(9).
前記電解研磨液が、アミノカルボン酸型キレート剤を含んでいることを特徴とする、(1)〜(8)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(10).
前記金属成形体が卑金属からなることを特徴とする、(1)〜(9)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(11).
前記金属成形体が鉄、クロム、マグネシウム、アルミニウム、チタンから選ばれる1種以上を含有することを特徴とする、(10)に記載の金属成形体の製造方法。
(12).
前記金属成形体がチタンまたはチタン合金からなることを特徴とする、(11)に記載の金属成形体の製造方法。
(13).
前記金属成形体がニッケルチタン合金からなることを特徴とする、(12)に記載の金属成形体の製造方法。
(14).
前記金属成形体が医療用管状体であることを特徴とする、(1)〜(13)のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。
(15).
前記医療用管状体が、ステントであることを特徴とする(14)に記載の金属成形体の製造方法。
As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventor has completed the present invention. That is, this invention provides the manufacturing method of the metal molded object of following (1)-(15).
(1).
In the electropolishing liquid, the process includes one or more first electropolishing processes for electropolishing under the following conditions (a) and one or more second electropolishing processes for electropolishing under the following conditions (b). A method for producing a metal molded body, comprising performing final electrolytic polishing under conditions.
(A) Conditions for applying a voltage for a certain period of time (b) Conditions for applying a voltage higher than the condition (a) for a certain period of time (2).
The method for producing a metal molded body according to (1), wherein the voltage value of the condition (a) is selected from a range of 10 V or more and 30 V or less.
(3).
The method for producing a metal molded body according to (1) or (2), wherein the voltage value of the condition (b) is selected from a range of 20 V or more and 45 V or less.
(4).
The current value in the step (a) and the step (b) is selected from the range of 40 mA / cm 2 or more, The metal molded body according to any one of (1) to (3), Production method.
(5).
The metal molded body according to any one of (1) to (4), wherein the voltage application time in step (b) is the same as or shorter than the voltage application time in step (a). Manufacturing method.
(6).
The voltage application time in the step (a) is selected in the range of 10 seconds to 60 seconds and the voltage application time in the step (b) is selected in the range of 1 second to 10 seconds. The manufacturing method of the metal molded object in any one of (1)-(5) to do.
(7).
The method for producing a metal molded body according to any one of (1) to (6), wherein the electropolishing liquid does not contain fluoride or the content of fluoride is 5% by weight or less. .
(8).
The method for producing a metal molded body according to any one of (1) to (7), wherein the electropolishing liquid contains an alkylsulfonic acid.
(9).
The method for producing a metal molded body according to any one of (1) to (8), wherein the electrolytic polishing liquid contains an aminocarboxylic acid type chelating agent.
(10).
The method for producing a metal molded body according to any one of (1) to (9), wherein the metal molded body is made of a base metal.
(11).
The method for producing a metal molded body according to (10), wherein the metal molded body contains one or more selected from iron, chromium, magnesium, aluminum, and titanium.
(12).
The method for producing a metal molded body according to (11), wherein the metal molded body is made of titanium or a titanium alloy.
(13).
The method for producing a metal molded body according to (12), wherein the metal molded body is made of a nickel titanium alloy.
(14).
The method for producing a metal molded body according to any one of (1) to (13), wherein the metal molded body is a medical tubular body.
(15).
The method for producing a metal molded body according to (14), wherein the medical tubular body is a stent.

本発明によれば、簡便な方法および簡便な装置を用いて、研磨時間を短縮しつつ、ムラの少ない均一な研磨面を有する金属成形体を製造することができる。また、長期間使用した電解研磨液であっても、白色の曇り面のない研磨面を得られる電解研磨方法を提供することで、電解研磨液の高寿命化に貢献する。   According to the present invention, it is possible to produce a metal molded body having a uniform polished surface with little unevenness while shortening the polishing time by using a simple method and a simple apparatus. Moreover, even if it is an electropolishing liquid used for a long period of time, it contributes to the lifetime improvement of an electropolishing liquid by providing the electropolishing method which can obtain the polishing surface without a white cloudy surface.

本発明の実施の一形態である電解研磨方法を示す概略図である。It is the schematic which shows the electrolytic polishing method which is one Embodiment of this invention. 本発明の実施の一形態である電解研磨方法の第1電解研磨工程における(i)電流密度値、(ii)電圧値を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows (i) current density value and (ii) voltage value in the 1st electropolishing process of the electropolishing method which is one Embodiment of this invention. 本発明の実施の一形態である電解研磨方法の第2電解研磨工程における(iii)電流密度値、(iv)電圧値を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the (iii) electric current density value and the (iv) voltage value in the 2nd electropolishing process of the electropolishing method which is one Embodiment of this invention. 本発明の実施の一形態である電解研磨方法を示す概略図である。It is the schematic which shows the electrolytic polishing method which is one Embodiment of this invention. 本発明の実施例1に係るステントの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the stent which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の比較例1に係るステントの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the stent which concerns on the comparative example 1 of this invention. 本発明の実施例4に係るステントの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the stent which concerns on Example 4 of this invention. 本発明の比較例4に係るステントの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the stent which concerns on the comparative example 4 of this invention. 本発明の実施例5に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on Example 5 of this invention. 本発明の比較例5に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on the comparative example 5 of this invention. 本発明の実施例6に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on Example 6 of this invention. 本発明の比較例6に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on the comparative example 6 of this invention. 本発明の実施例7に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on Example 7 of this invention. 本発明の比較例7に係るワイヤの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the wire which concerns on the comparative example 7 of this invention. 本発明の比較例8に係るステントの実体顕微鏡画像である。It is a stereoscopic microscope image of the stent which concerns on the comparative example 8 of this invention. 本発明の実施例1に係るステントのSEM画像である。It is a SEM image of the stent which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の比較例1に係るステントのSEM写真である。It is a SEM photograph of the stent which concerns on the comparative example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る断面のステントのSTEM断面画像である。It is a STEM cross-sectional image of the stent of the cross section which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の比較例1に係る断面のステントのSTEM断面画像である。It is a STEM cross-sectional image of the stent of the cross section which concerns on the comparative example 1 of this invention.

本発明の金属成形体の電解研磨方法は、電解研磨液中で、下記(a)条件で電解研磨する第1電解研磨工程を1回以上と、下記(b)条件で電解研磨する第2電解研磨工程を1回以上含み、下記(b)条件で最終の電解研磨を行うことを特徴としている。
(a)電圧を一定時間印加する条件
(b)前記(a)条件より高い電圧を一定時間印加する条件
比較的高い電圧を印加して電解研磨した後に、その電圧よりも高い電圧を印加して電解研磨を実施することで、従来よりも短い研磨時間で、白色の曇り面が少なく、平滑性の優れた金属成形体を製造することができる。
以下に、本発明に係る金属成形体の電解研磨方法について、実施の一形態について図を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The method for electropolishing a metal molded body of the present invention includes at least one first electropolishing step in which electropolishing is performed in an electropolishing liquid under the following condition (a) and second electrolysis in which electropolishing is performed under the following condition (b). It is characterized in that the final electrolytic polishing is performed under the following condition (b) including at least one polishing step.
(A) Conditions for applying a voltage for a certain period of time (b) Conditions for applying a voltage higher than the condition (a) for a certain period of time After applying a relatively high voltage and electrolytic polishing, a voltage higher than that voltage is applied. By carrying out the electrolytic polishing, a metal molded body having a smoothness with less white cloudy surface and excellent smoothness can be produced in a shorter polishing time than before.
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of an electropolishing method for a metal molded body according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.

<金属成形体>
本発明における被研磨体の金属成形体は、本発明の電解研磨方法で電解研磨できる金属であれば特に限定されないが、表面が酸化されやすい卑金属からなる金属成形体が好適に用いられる。卑金属からなる金属成形体としては、例えば、鉄、クロム、マグネシウム、アルミニウム、チタンから選ばれる1種以上を含有する金属成形体が好適に用いられる。ここで言う卑金属とは、化学的に、イオン化傾向が水素より大きい金属のことを言う。とりわけ、表面に強固な酸化皮膜を形成するチタンまたはチタン合金を含む金属成形体(以下、チタン系金属成形体と称することがある。)を特に好適に用いることが出来る。
<Metal molded body>
The metal molded body of the object to be polished in the present invention is not particularly limited as long as it is a metal that can be electropolished by the electrolytic polishing method of the present invention, but a metal molded body made of a base metal whose surface is easily oxidized is preferably used. As the metal molded body made of a base metal, for example, a metal molded body containing one or more selected from iron, chromium, magnesium, aluminum, and titanium is preferably used. The term “base metal” as used herein refers to a metal that has a higher ionization tendency than hydrogen. In particular, a metal molded body containing titanium or a titanium alloy that forms a strong oxide film on the surface (hereinafter sometimes referred to as a titanium-based metal molded body) can be particularly preferably used.

本発明の電解研磨方法の被研磨体の、チタン系金属成形体は、純チタンからなる成形体のほか、チタンとその他の少なくとも1種の金属からなる成形体を含む。
チタン系金属は、純チタン、チタン合金及びチタン系形状記憶合金から選ばれる1種であることが好ましい。
The titanium-based metal molded body of the object to be polished by the electrolytic polishing method of the present invention includes a molded body made of titanium and at least one other metal in addition to a molded body made of pure titanium.
The titanium-based metal is preferably one selected from pure titanium, a titanium alloy, and a titanium-based shape memory alloy.

チタンまたはチタン合金の具体例としては、純チタン;Ti−15Mo、Ti−5Al−2.5Sn、Ti−6Al−4V、ELI、Ti−6Al−4V、Ti−6Al−7Nb、Ti−15Mo−5Zr、Ti−5Al−3Mo−4Zr、Ti−13Nb−13Ta、Ti−12Mo−6Zr−2Fe、Ti−15Zr−4Nb−2Ta−0.2Pd、Ti−35.3Nb−5.1Ta−4.6Zr、Ti−29Nb−13Ta−4.6Zr、Ti−15Sn−4Nb−2Ta−0.2Pd、その他Tiを多量に含む合金等;Ni−Ti系、Ni−Ti−Co系、Ni−Ti−Fe系、Ni−Ti−Cr系、Ni−Ti−Cu系、Ni−Ti−Cu−Cr系形状記憶合金、その他、Ni、Tiを主成分とする各種の形状記憶合金などが挙げられ、特に、チタンとニッケルの原子比がおよそ1:1であるニッケルチタン合金であることが好ましい。特に約50%〜約60%のニッケルを含む、ニッケルチタン合金であることが好ましい。   Specific examples of titanium or titanium alloy include pure titanium; Ti-15Mo, Ti-5Al-2.5Sn, Ti-6Al-4V, ELI, Ti-6Al-4V, Ti-6Al-7Nb, Ti-15Mo-5Zr. Ti-5Al-3Mo-4Zr, Ti-13Nb-13Ta, Ti-12Mo-6Zr-2Fe, Ti-15Zr-4Nb-2Ta-0.2Pd, Ti-35.3Nb-5.1Ta-4.6Zr, Ti -29Nb-13Ta-4.6Zr, Ti-15Sn-4Nb-2Ta-0.2Pd, and other alloys containing a large amount of Ti; Ni-Ti, Ni-Ti-Co, Ni-Ti-Fe, Ni -Ti-Cr-based, Ni-Ti-Cu-based, Ni-Ti-Cu-Cr-based shape memory alloys, and various shape memory alloys mainly composed of Ni and Ti Are, in particular, the atomic ratio of titanium and nickel of approximately 1: is preferably a nickel-titanium alloy is 1. Particularly preferred is a nickel titanium alloy containing about 50% to about 60% nickel.

上述のニッケルチタン合金を含む金属成形体は、特に医療材料としての使用が進んでおり、その具体例としては、ステント、心房中隔欠損症治療用の塞栓デバイス、動脈瘤塞栓コイル、血栓フィルター、ガイドワイヤ、歯列矯正アーチワイヤ、脳動脈瘤ワイヤ等が挙げられる。   The metal molded body containing the above-described nickel titanium alloy is particularly used as a medical material. Specific examples thereof include a stent, an embolic device for treating an atrial septal defect, an aneurysm embolic coil, a thrombus filter, Examples include guide wires, orthodontic arch wires, and cerebral aneurysm wires.

<ステント>
医療用のステントとは、血管などの狭窄部拡張後の再狭窄を防ぐ為に、体内に留置されるメッシュ状の医療用管状体の1種である。医療用のステントには、例えば、(イ)1本の線状の金属もしくは高分子材料からなるコイル状のタイプ、(ロ)金属チューブをレーザーなどによって切り抜き加工したタイプ、(ハ)線状の部材をレーザーなどで溶接して組み立てたタイプ、(ニ)複数の線状金属を織って作ったタイプ等がある。
<Stent>
A medical stent is one type of mesh-like medical tubular body that is placed in the body in order to prevent restenosis after expansion of a stenosis part such as a blood vessel. Examples of medical stents include: (a) a coiled type made of a single linear metal or polymer material, (b) a type in which a metal tube is cut out by a laser, etc. There are types that are assembled by welding the members with a laser or the like, and (d) types that are made by weaving multiple linear metals.

本発明に係るステントとしては、例えば、体内管腔構造に挿入される大きさである第1の径から、管状体の外表面の少なくとも一部が血管壁に接触する第2の径まで拡径する管状体が挙げられる。   As the stent according to the present invention, for example, the diameter is expanded from a first diameter which is a size to be inserted into the body lumen structure to a second diameter where at least a part of the outer surface of the tubular body contacts the blood vessel wall. And a tubular body.

特に、血管、尿管、胆管等の体内管腔構造の形成術に用いられる医療用管状体として、ステントを好ましく用いることが出来る。   In particular, a stent can be preferably used as a medical tubular body used for the formation of a body lumen structure such as a blood vessel, a ureter, and a bile duct.

ステントに用いられる材料としては、形状記憶特性・超弾性特性を有し、加工性にも優れる点でニッケルチタン合金を好ましく用いることができる。また、ニッケルチタン合金の中でも、特に約50%〜約60%のニッケルを含む、ニッケルチタン合金を好ましく用いることができる。   As a material used for the stent, a nickel titanium alloy can be preferably used because it has shape memory characteristics and superelastic characteristics and is excellent in workability. Of the nickel titanium alloys, a nickel titanium alloy containing about 50% to about 60% nickel can be preferably used.

金属製のステントを製造する方法としては、チューブ状材料をレーザーで網目状に切り抜き加工した後、電解研磨を行う方法を好ましく用いることができる。   As a method for producing a metal stent, a method of performing electropolishing after cutting a tube-shaped material into a mesh shape with a laser can be preferably used.

電解研磨は、ステントの屈曲した線状部分であるストラット部分のレーザー加工、あるいはレーザー加工後の熱処理等により生成した表面酸化皮膜の除去や、ストラットの断面の鋭利なエッジの丸め(ラウンド形状)加工等を目的として行われる。電解研磨は、金属溶出の低減、疲労特性の向上、清潔性の向上等の様々な目的のために特に最終の仕上げの工程として施されることが好ましい。   Electropolishing is the removal of the surface oxide film generated by laser processing of the strut portion, which is the bent linear portion of the stent, or heat treatment after laser processing, and the rounding of the sharp edges of the cross section of the strut. Etc. for the purpose. The electropolishing is preferably performed as a final finishing step for various purposes such as reduction of metal elution, improvement of fatigue characteristics, and improvement of cleanliness.

<電解研磨液>
本発明の電解研磨方法に用いられる電解研磨液は、電解研磨に用いられる一般的な電解研磨液を使用することが出来るが、フッ化物を含まない電解研磨液を好ましく用いることが出来る。フッ化物としては、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化アンモニウム、フッ化水素等が挙げられる。フッ化物を含有した電解研磨液の使用は、健康面ならびに環境面への負荷を伴うため、フッ化物を含まない電解研磨液を使用することが好ましく、含有量が5重量%以下であることが好ましい。
<Electrolytic polishing liquid>
As the electropolishing liquid used in the electropolishing method of the present invention, a general electropolishing liquid used for electropolishing can be used, but an electropolishing liquid containing no fluoride can be preferably used. Examples of the fluoride include sodium fluoride, potassium fluoride, lithium fluoride, ammonium fluoride, hydrogen fluoride, and the like. Since the use of the electrolytic polishing liquid containing fluoride involves a load on health and the environment, it is preferable to use an electrolytic polishing liquid not containing fluoride, and the content should be 5% by weight or less. preferable.

本発明で用いられる電解研磨液は、アルキルスルホン酸を含有していることが好ましい。本発明に用いることの出来るアルキルスルホン酸は、電解研磨効果を有していれば特に限定されず、市販のアルキルスルホン酸を好適に用いることが出来る。市販のアルキルスルホン酸としては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、ヘプタンスルホン酸、オクタンスルホン酸などを挙げることができる。それらの中では、メタンスルホン酸が研磨効率が高いため好ましい。アルキルスルホン酸の含有量としては、電解研磨液全量に対して20重量%以上、99.9重量%以下含有していることが好ましい。   The electropolishing liquid used in the present invention preferably contains an alkyl sulfonic acid. The alkylsulfonic acid that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has an electropolishing effect, and a commercially available alkylsulfonic acid can be suitably used. Examples of commercially available alkyl sulfonic acids include methane sulfonic acid, ethane sulfonic acid, propane sulfonic acid, butane sulfonic acid, pentane sulfonic acid, hexane sulfonic acid, heptane sulfonic acid, and octane sulfonic acid. Among them, methanesulfonic acid is preferable because of its high polishing efficiency. The alkylsulfonic acid content is preferably 20% by weight or more and 99.9% by weight or less based on the total amount of the electrolytic polishing liquid.

また、本発明に用いられる電解研磨液は、更にアミノカルボン酸型キレート剤を含有していることが好ましい。本発明におけるアミノカルボン酸型系キレート剤は、アミノ基とカルボキシル基とを有した化合物である。通常、カルボキシル基を複数備えた多価分子で、カルボキシル基がヒドロキシル基に置換されたものや、カルボキシル基の水素がナトリウムやカルシウム等で置換された誘導体の構造も含まれる。   The electropolishing liquid used in the present invention preferably further contains an aminocarboxylic acid type chelating agent. The aminocarboxylic acid type chelating agent in the present invention is a compound having an amino group and a carboxyl group. Usually, it includes a polyvalent molecule having a plurality of carboxyl groups in which the carboxyl group is substituted with a hydroxyl group, and a derivative structure in which hydrogen of the carboxyl group is substituted with sodium or calcium.

アミノカルボン酸型キレート剤の具体例としては、例えば、イミノ二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチレンジアミン四酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸、ヘキサメチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、trans−1,2−ジアミノシクロヘキサン四酢酸、ビス(2−ヒドロキシエチル)グリシン、ジアミノプロパノール四酢酸、エチレンジアミン−2−プロピオン酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ビス(2−ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン二酢酸、またはそれらの塩などが挙げられる。特に、コストの観点からも優れている、エチレンジアミン四酢酸またはその塩が好適に用いられる。   Specific examples of the aminocarboxylic acid type chelating agent include, for example, iminodiacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, hydroxyethylenediaminetriacetic acid, hexamethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriamine-5 Acetic acid, triethylenetetramine hexaacetic acid, trans-1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, bis (2-hydroxyethyl) glycine, diaminopropanoltetraacetic acid, ethylenediamine-2-propionic acid, glycol etherdiaminetetraacetic acid, bis (2- Hydroxybenzyl) ethylenediaminediacetic acid, or a salt thereof. In particular, ethylenediaminetetraacetic acid or a salt thereof, which is excellent from the viewpoint of cost, is preferably used.

アミノカルボン酸型キレート剤の含有量は、電解研磨液全量に対して0.1重量%以上、5重量%以下含有していることが好ましい。アミノカルボン酸型キレート剤は、1種あるいは2種以上を混合して用いることができる。   The content of the aminocarboxylic acid type chelating agent is preferably 0.1% by weight or more and 5% by weight or less based on the total amount of the electrolytic polishing liquid. The aminocarboxylic acid type chelating agent can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる電解研磨液は、ノニオン界面活性剤を含有していることが好ましい。ノニオン界面活性剤は、液中に溶解したときにイオン性を示さないが、界面活性を呈する界面活性剤である。   The electropolishing liquid used in the present invention preferably contains a nonionic surfactant. A nonionic surfactant is a surfactant that does not exhibit ionicity when dissolved in a liquid but exhibits surface activity.

ノニオン界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、更にはパーフルオロアルキル基含有エチレンオキシド付加物などが挙げられる。特に、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、または、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルを好ましく用いることができ、これらのエチレンオキシドの付加モル数は1〜30が好ましく、2〜15が特に好ましい。   Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene alkyls such as polyoxyethylene nonyl phenyl ether and polyoxyethylene octyl phenyl ether. Examples include phenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid amide, and perfluoroalkyl group-containing ethylene oxide adduct. In particular, polyoxyethylene alkyl ether or polyoxyethylene alkyl phenyl ether can be preferably used, and the number of added moles of these ethylene oxides is preferably 1 to 30, particularly preferably 2 to 15.

ノニオン界面活性剤の含有量は、電解研磨液全量に対して0.001重量%以上、0.1重量%以下含有していることが好ましい。ノニオン界面活性剤は、1種あるいは2種以上を混合して用いることができる。   The content of the nonionic surfactant is preferably 0.001% by weight or more and 0.1% by weight or less based on the total amount of the electrolytic polishing liquid. A nonionic surfactant can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

本発明に用いられる電解研磨液は、更にグリコール類を含んでいてもよい。グリコール類は、鎖式脂肪族炭化水素または環式脂肪族炭化水素の2つの炭素原子に1つずつヒドロキシ基が置換している構造を持つ化合物であり、ジオール化合物とも呼ばれる。   The electropolishing liquid used in the present invention may further contain glycols. Glycols are compounds having a structure in which one hydroxy group is substituted for two carbon atoms of a chain aliphatic hydrocarbon or a cyclic aliphatic hydrocarbon, and are also called diol compounds.

グリコール類の具体例としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール等が挙げられ、特に、エチレングリコールを好適に用いることができる。   Specific examples of glycols include, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1, Examples include 2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, and the like. In particular, ethylene glycol can be preferably used.

グリコール類の含有量は、電解研磨液中に1重量%以上、80重量%以下含有していることが好ましい。グリコール類は、1種あるいは2種以上を混合して用いることができる。   The content of glycols is preferably 1 wt% or more and 80 wt% or less in the electrolytic polishing liquid. Glycols can be used alone or in combination of two or more.

なお、電解研磨液の各成分の含有量は、電解研磨するチタン系金属成形体の種類、形状、電解研磨面積の大きさ等に応じて適宜決定できる。   The content of each component of the electropolishing liquid can be appropriately determined according to the type and shape of the titanium-based metal formed body to be electropolished, the size of the electropolishing area, and the like.

電解研磨液は、使用環境により、空気中の水分を吸水したり、金属成形体の残存水分の影響などにより、研磨液中の水分含有量が高くなる事がある。2重量%を超える水分を含有すると、金属成形体の電解研磨後の研磨面に白色の曇り面が発生しやすくなったり、更には表面の平滑性が十分に得られない傾向がある。そのため研磨面に金属酸化膜を発生させにくい、又は、研磨面の平滑性に優れる点で、研磨液に含有される水分量は、研磨液全量に対して2重量%以下であることが好ましい。しかしながら本発明の電解研磨方法によれば、白色の曇り面が発生しくいため、電解研磨液を長く使用できるという利点がある。電解研磨液の水分量の測定は、公知の方法によって行うことが可能であり、例えばカールフィッシャー法が例示される。   Depending on the usage environment, the electrolytic polishing liquid may absorb moisture in the air, or the moisture content in the polishing liquid may increase due to the influence of residual moisture in the metal molded body. If the water content exceeds 2% by weight, a white cloudy surface tends to be generated on the polished surface after the electrolytic polishing of the metal molded body, and further, the surface smoothness tends not to be sufficiently obtained. For this reason, the amount of water contained in the polishing liquid is preferably 2% by weight or less with respect to the total amount of the polishing liquid from the viewpoint that a metal oxide film is hardly generated on the polishing surface or the smoothness of the polishing surface is excellent. However, according to the electropolishing method of the present invention, a white cloudy surface is unlikely to occur, so that there is an advantage that the electropolishing liquid can be used for a long time. The water content of the electrolytic polishing liquid can be measured by a known method, for example, the Karl Fischer method.

従来の電解研磨方法では、金属成形体の電解研磨量(金属の溶解量)が多くなると、電解研磨後の研磨面に白色の曇り面が発生しやすくなる傾向がある。特に、電解研磨液において、金属成形体が4g/L以上(電解研磨液1Lあたり金属が4g以上)電解研磨によって溶解されている場合に、電解研磨後の研磨面に白色の曇り面が発生しやすくなり、金属成形体が8g/L以上(電解研磨液1Lあたり金属が8g以上)電解研磨によって溶解されている場合に、更に発生しやすくなる傾向がある。このような状態の電解研磨液の使用は控えられるべきであり、通常は新しい電解研磨液への交換が必要となる。しかしながら、本発明の電解研磨方法によれば、白色の曇り面が発生しくいため、電解研磨液を長く使用できるという利点がある。   In the conventional electrolytic polishing method, when the amount of electrolytic polishing (metal dissolution amount) of the metal molded body increases, a white cloudy surface tends to occur on the polished surface after electrolytic polishing. In particular, in an electrolytic polishing liquid, when a metal compact is dissolved by electrolytic polishing at 4 g / L or more (4 g or more of metal per 1 L of electrolytic polishing liquid), a white cloudy surface is generated on the polished surface after electrolytic polishing. This tends to occur more easily when the metal molded body is dissolved by electrolytic polishing at 8 g / L or more (8 g or more of metal per liter of electrolytic polishing liquid). The use of the electropolishing liquid in such a state should be refrained, and it is usually necessary to replace it with a new electropolishing liquid. However, according to the electropolishing method of the present invention, a white cloudy surface is unlikely to occur, so that there is an advantage that the electropolishing liquid can be used for a long time.

なお、電解研磨液の各成分の含有量は、電解研磨する金属成形体の種類、形状、電解研磨面積の大きさ等に応じて適宜決定でき、これらに限定されるものではない。   The content of each component of the electropolishing liquid can be appropriately determined according to the type and shape of the metal molded body to be electropolished, the size of the electropolishing area, etc., and is not limited thereto.

<電解研磨方法>
本発明における電解研磨方法では、カソードと、アノードとして作用する金属成形体を、電解研磨液に浸漬し、カソードとアノードとの間に電圧を一定時間印加する条件(a)で電解研磨する第1電解研磨工程を1回以上含み、(a)条件の電圧より高い電圧を一定時間印加して条件(b)で電解研磨する第2電解研磨工程を1回以上含んでおり、更に、前記(b)条件で最終の電解研磨を行うことを特徴としている。
<Electropolishing method>
In the electropolishing method according to the present invention, a cathode and a metal molded body acting as an anode are immersed in an electropolishing liquid, and electropolishing is performed under a condition (a) in which a voltage is applied between the cathode and the anode for a predetermined time. Including at least one electropolishing step, including at least one second electropolishing step in which a voltage higher than the voltage of the condition (a) is applied for a certain period of time and electropolishing at the condition (b), and ) The final electrolytic polishing is performed under conditions.

また、研磨される金属成形体の形状や研磨面積に応じて、金属成形体を固定するために、電極と成形体を電気的に導通できるアノード導電性部材を使用することができる。   Moreover, in order to fix a metal molded object according to the shape and grinding | polishing area of the metal molded object to be grind | polished, the anode electroconductive member which can electrically conduct an electrode and a molded object can be used.

図1には、金属成形体である金属成形体14に電極を接触させて電解研磨する電解研磨方法を示している。   FIG. 1 shows an electrolytic polishing method in which an electrode is brought into contact with a metal molded body 14 which is a metal molded body and electropolished.

電解研磨は、電解液槽15に貯留された電解研磨液17中において、導電性ワイヤ12aで電源11のプラス極と接続されたアノード導電性部材13が金属成形体14に接している。また、導電性ワイヤ12bで電源11のマイナス極と接続されたカソード16が金属成形体14から乖離して設置される。このような配置状態において、アノード導電性部材13とカソード16との間に電圧が印加されると、アノードとして作用する金属成形体14において表面の金属元素が電解研磨液17中に溶解する。これにより、金属成形体14は、電解研磨され、表面が平滑になり光沢を生じさせることができる。   In the electrolytic polishing, in the electrolytic polishing liquid 17 stored in the electrolytic solution tank 15, the anode conductive member 13 connected to the positive electrode of the power source 11 with the conductive wire 12 a is in contact with the metal formed body 14. Further, the cathode 16 connected to the negative electrode of the power source 11 by the conductive wire 12b is set apart from the metal molded body 14. In such an arrangement state, when a voltage is applied between the anode conductive member 13 and the cathode 16, the metal element on the surface dissolves in the electrolytic polishing liquid 17 in the metal formed body 14 acting as the anode. Thereby, the metal molded body 14 is electrolytically polished, and the surface becomes smooth and gloss can be generated.

アノード導電性部材13の材料としては、使用される電解研磨液の種類に応じて適宜選択でき、十分な導電性を有していれば特に限定されないが、例えば、ステンレス鋼、チタン、銅、アルミニウム、白金、金等の金属あるいはそれらの合金を挙げることができる。   The material of the anode conductive member 13 can be appropriately selected according to the type of electrolytic polishing liquid used, and is not particularly limited as long as it has sufficient conductivity. For example, stainless steel, titanium, copper, aluminum And metals such as platinum and gold, or alloys thereof.

アノード導電性部材13の形状は、使用される金属成形体の種類に応じて適宜選択でき、金属成形体14を導通して固定可能であれば特に限定されないが、例えば、板状、ワイヤ状、ロッド状、芯状であっても良いし、図1に示したような、クリップ形状であってもよい。   The shape of the anode conductive member 13 can be appropriately selected according to the type of the metal molded body to be used, and is not particularly limited as long as the metal molded body 14 can be electrically connected and fixed. For example, a plate shape, a wire shape, It may be rod-shaped or core-shaped, or may be clip-shaped as shown in FIG.

カソード16の材料としては、使用される電解研磨液の種類に応じて適宜選択でき、十分な導電性を有していれば特に限定されないが、例えば、ステンレス鋼、チタン、銅、アルミニウム、白金、金等の金属あるいはそれらの合金を挙げることができる。   The material of the cathode 16 can be appropriately selected depending on the type of electropolishing liquid used, and is not particularly limited as long as it has sufficient conductivity. For example, stainless steel, titanium, copper, aluminum, platinum, Mention may be made of metals such as gold or their alloys.

カソード16の形状としては、使用される金属成形体の種類に応じて適宜選択でき、金属成形体14が電解研磨可能であれば特に限定されないが、例えば、板状、芯状、棒状、ワイヤ状等を挙げる事ができ、カソード16の表面積を大きくとるために、また電解研磨時に発生した気泡、温度変化や液中イオンの濃度勾配を避ける目的で、カソード16にメッシュ形状やパンチング形状を形成させてもよい。また、研磨する製品の形状に応じて、電流が均一に流れるような形状にすることが好ましく、例えば、金属成形体を囲むような円筒状とすることができる。   The shape of the cathode 16 can be appropriately selected according to the type of the metal molded body to be used, and is not particularly limited as long as the metal molded body 14 can be electropolished. For example, a plate shape, a core shape, a rod shape, a wire shape In order to increase the surface area of the cathode 16 and to avoid bubbles, temperature changes and concentration gradients of ions in the liquid generated during electropolishing, the cathode 16 is formed with a mesh shape or a punching shape. May be. Moreover, it is preferable to make it a shape which an electric current flows uniformly according to the shape of the product to grind | polish, for example, it can be set as the cylindrical shape surrounding a metal molded object.

図2は、本発明の電解研磨方法の第1電解研磨工程における(i)研磨時間に対する電流密度値、(ii)研磨時間に対する電圧値の一例を示している。   FIG. 2 shows an example of (i) the current density value with respect to the polishing time and (ii) the voltage value with respect to the polishing time in the first electropolishing step of the electropolishing method of the present invention.

図3は、本発明の電解研磨方法の第2電解研磨工程における(iii)研磨時間に対する電流密度、(iv)研磨時間に対する電圧値の一例を示している。   FIG. 3 shows an example of (iii) current density with respect to polishing time and (iv) voltage value with respect to polishing time in the second electropolishing step of the electropolishing method of the present invention.

本発明の方法によれば、電圧21(電流密度22)を印加して電解研磨する第1電解研磨工程と、第1電解研磨工程よりも高い電圧31(電流密度32)を印加して電解研磨する第2電解研磨工程とを組み合わせ、更に第2工程の(b)条件で最終の電解研磨を行うことにより、白色の曇り面のない表面が平滑な金属成形体を、短時間で得ることができる。   According to the method of the present invention, a first electropolishing process in which voltage 21 (current density 22) is applied and electropolishing is applied, and a voltage 31 (current density 32) higher than that in the first electropolishing process is applied. In combination with the second electropolishing step, and further performing the final electropolishing under the condition (b) of the second step, it is possible to obtain in a short time a metal molded body having a smooth surface without a white cloudy surface. it can.

第1電解研磨工程または第2電解研磨工程において電圧21、31は、一定の電圧21、31を一定時間印加することが好ましい。一定の電圧21、31を印加すると、電圧印加直後に電流密度22、32が急激に増大し、その後漸減しながら安定化していく。本発明における電流密度22、32とは、所望の電圧21、31に到達して示される極大値から、電解研磨終了時までに測定された値の範囲を示す。またその間の電圧21、31が印加されている時間を電解研磨時間23、33と称する。なお、第1電解研磨工程または第2電解研磨工程において電圧21、31が一定ではなく、徐々に大きくしたり、徐々に小さくしたりすると、研磨ムラを引き起こし易い傾向がある。特に、第2電解研磨工程の電圧31を徐々に大きくすると、第1電解研磨工程の電圧21との乖離が大きくなり、研磨ムラを引き起こす要因となり得る。   In the first electropolishing process or the second electropolishing process, the voltages 21 and 31 are preferably applied for a certain period of time. When the constant voltages 21 and 31 are applied, the current densities 22 and 32 increase rapidly immediately after the voltage application, and then stabilize while gradually decreasing. The current densities 22 and 32 in the present invention indicate a range of values measured from the maximum value shown by reaching the desired voltages 21 and 31 to the end of electropolishing. The time during which the voltages 21 and 31 are applied is referred to as electropolishing time 23 and 33. In addition, if the voltages 21 and 31 are not constant in the first electropolishing process or the second electropolishing process and are gradually increased or decreased, there is a tendency to cause uneven polishing. In particular, when the voltage 31 in the second electropolishing process is gradually increased, the deviation from the voltage 21 in the first electropolishing process is increased, which may cause uneven polishing.

本発明における第1電解研磨工程において、表面形状の粗い酸化金属皮膜発生の抑制や平滑な研磨面が得られやすい、短時間で処理出来るという効率面に優れる点で、10V以上、30V以下の範囲で電圧21を供給して電解研磨することが好ましく、15V以上、25V以下で電圧21を供給して電解研磨することがより好ましい。   In the first electropolishing step in the present invention, in the range of 10 V or more and 30 V or less in terms of suppressing the generation of a metal oxide film having a rough surface shape and obtaining a smooth polished surface, which is excellent in terms of efficiency in that it can be processed in a short time. It is preferable to supply the voltage 21 and electrolytic polishing, and it is more preferable to supply the voltage 21 at 15 V or more and 25 V or less to perform electrolytic polishing.

本発明の第1電解研磨工程の電解研磨時間23は、図2に示したように、電圧21を印加した後に電流密度22が極大値を示し、その後漸減して電流密度22が安定化するまで続けることが好ましい。電流密度22が安定化するまで電解研磨を続けることで、殆どの部分は良好な研磨面が得られるが、一部に表面形状の粗い酸化金属皮膜による白色の曇り面が発生する場合がある。しかし、第2電解研磨工程で白色の曇り面を除去することができる。第1電解研磨工程の1回の電解研磨時間23としては、具体的には、下限が10秒以上であることが好ましく、20秒以上であることが特に好ましい、また上限は60秒以内が好ましく、40秒以内が特に好ましい。   As shown in FIG. 2, the electropolishing time 23 of the first electropolishing process of the present invention is such that the current density 22 exhibits a maximum value after the voltage 21 is applied, and then gradually decreases until the current density 22 is stabilized. It is preferable to continue. By continuing the electropolishing until the current density 22 is stabilized, a good polished surface can be obtained in most portions, but a white cloudy surface due to a metal oxide film having a rough surface shape may be generated in some portions. However, the white cloudy surface can be removed in the second electropolishing process. Specifically, as the one-time electropolishing time 23 in the first electropolishing step, the lower limit is preferably 10 seconds or more, particularly preferably 20 seconds or more, and the upper limit is preferably 60 seconds or less. Within 40 seconds is particularly preferable.

次に、本発明の第2電解研磨工程において、第1電解研磨工程と比べて高い電圧31(電流密度32)を印加して電解研磨を行うことで、第1電解研磨工程で表面形状の粗い酸化金属皮膜が発生した場合に、酸化金属膜を除去することができる。具体的には、第1電解研磨工程よりも0.1V〜30V高い電圧を印加することが好ましく、3V〜15V高い電圧を印加することがより好ましい。第2電解研磨工程では20V以上、45V以下の範囲で電圧31を印加して電解研磨することが好ましく、25V以上、35V以下の範囲で電圧31を印加して電解研磨することがより好ましい。なお、第2電解研磨工程において研磨ムラを引き起こさないために、第2電解研磨工程の電圧31が第1電解研磨工程よりも少なくとも50%未満大きい範囲にあることが好ましく、40%未満大きい範囲にあることがより好ましく、30%未満大きい範囲にあることが特に好ましい。   Next, in the second electropolishing process of the present invention, the surface is rough in the first electropolishing process by applying a voltage 31 (current density 32) higher than that in the first electropolishing process to perform electropolishing. When a metal oxide film is generated, the metal oxide film can be removed. Specifically, it is preferable to apply a voltage 0.1V to 30V higher than the first electropolishing step, and it is more preferable to apply a voltage 3V to 15V higher. In the second electropolishing step, it is preferable to apply the voltage 31 in the range of 20 V or more and 45 V or less, and it is more preferable to apply the voltage 31 in the range of 25 V or more and 35 V or less to perform the electropolishing. In order not to cause polishing unevenness in the second electropolishing process, it is preferable that the voltage 31 of the second electropolishing process is at least less than 50% larger than the first electropolishing process, and less than 40% larger. More preferably, it is particularly preferably in the range of less than 30%.

本発明の第2電解研磨工程の電解研磨時間33は、表面形状の粗い酸化金属皮膜を除去しやすく、新たに表面形状の粗い酸化金属皮膜の発生を抑制しやすい点で、第1電解研磨工程と同じ、または、短いことが好ましい。図3に示したように、電圧31を印加して、電流密度32が極大値を示して漸減していく途中の段階までに、電解研磨を停止することが好ましい。   The electropolishing time 33 of the second electropolishing process of the present invention is that the metal oxide film having a rough surface shape can be easily removed and the generation of a metal oxide film having a rough surface shape can be easily suppressed. Is preferably the same as or short. As shown in FIG. 3, it is preferable to stop the electropolishing until the voltage 31 is applied and the current density 32 shows a maximum value and gradually decreases.

本発明の第2電解研磨工程の1回の電解研磨時間33としては、良好な研磨面が得られやすい点で、下限が1秒以上であることが好ましく、3秒以上であることが特に好ましい。また上限は10秒以下が好ましく、5秒以下が特に好ましい。   As the one electropolishing time 33 in the second electropolishing step of the present invention, the lower limit is preferably 1 second or more and particularly preferably 3 seconds or more in that a good polished surface is easily obtained. . The upper limit is preferably 10 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or less.

なお、第1電解研磨工程および第2電解研磨工程の両方において、電流密度22、32は40mA/cm以上であることが好ましく、50〜5000mA/cmの範囲であることがより好ましい。 Note that in both the first electrolytic polishing process and the second electrolytic polishing process, it is preferred that the current density 22 and 32 is 40 mA / cm 2 or more, and more preferably in the range of 50~5000mA / cm 2.

本発明の電解研磨方法における第1電解研磨工程ならびに第2電解研磨工程はともに、電解研磨液が撹拌されていることが好ましい。特に、良好な研磨面を安定的に得るため、第1電解研磨工程及び第2電解研磨工程が同様の流速で撹拌されていることが好ましい。例えば、第2電解研磨工程が第1電解研磨工程よりも撹拌力の大きな流速で撹拌されていると、研磨ムラを引き起こす要因となり得る。第1電解研磨工程の流速としては、10cm/sec以上、1000cm/sec以下であることが好ましく、20cm/sec以上、500cm/sec以下がより好ましく、40cm/sec以上、200cm/sec以下が特に好ましい。第2電解研磨工程の流速としては、10cm/sec以上、1000cm/sec以下が好ましく、20cm/sec以上、500cm/sec以下より好ましく、40cm/sec以上、200cm/sec以下が特に好ましい。電解研磨液の撹拌方法としては、電解研磨液の液流を生み出せればどのような方法でもよく、ポンプ、撹拌棒、撹拌板、撹拌翼、マグネチックスターラー等を使用することができる。   In both the first electropolishing step and the second electropolishing step in the electropolishing method of the present invention, the electropolishing liquid is preferably agitated. In particular, in order to stably obtain a good polished surface, it is preferable that the first electropolishing step and the second electropolishing step are stirred at the same flow rate. For example, if the second electropolishing process is agitated at a flow rate with a larger agitating force than the first electropolishing process, it may be a factor that causes polishing unevenness. The flow rate in the first electropolishing step is preferably 10 cm / sec or more and 1000 cm / sec or less, more preferably 20 cm / sec or more and 500 cm / sec or less, particularly preferably 40 cm / sec or more and 200 cm / sec or less. . The flow rate in the second electropolishing step is preferably 10 cm / sec or more and 1000 cm / sec or less, more preferably 20 cm / sec or more and 500 cm / sec or less, and particularly preferably 40 cm / sec or more and 200 cm / sec or less. As a method for stirring the electrolytic polishing liquid, any method can be used as long as a liquid flow of the electrolytic polishing liquid can be generated, and a pump, a stirring rod, a stirring plate, a stirring blade, a magnetic stirrer, or the like can be used.

本発明の電解研磨方法は、第1電解研磨工程ならびに第2電解研磨工程は各々1回以上含まれていればよいが、第1電解研磨工程ならびに第2電解研磨工程ともに複数回実施することが好ましい。第1電解研磨工程は、2回以上実施することが好ましく、3回以上がより好ましく、4回以上が特に好ましい。回数が多過ぎると工程の時間がかかり過ぎるため、30回以下が好ましく、20回以下がより好ましく、15回以下が特に好ましい。第2電解研磨工程は、2回以上実施することが好ましく、3回以上がより好ましく、4回以上が特に好ましい。回数が多過ぎると工程の時間がかかり過ぎるため、30回以下が好ましく、20回以下がより好ましく、15回以下が特に好ましい。   In the electropolishing method of the present invention, the first electropolishing step and the second electropolishing step only need to be included once or more, but both the first electropolishing step and the second electropolishing step may be performed a plurality of times. preferable. The first electropolishing step is preferably performed twice or more, more preferably 3 times or more, and particularly preferably 4 times or more. If the number of times is too large, the process takes too much time, so 30 times or less is preferable, 20 times or less is more preferable, and 15 times or less is particularly preferable. The second electropolishing step is preferably performed twice or more, more preferably 3 times or more, and particularly preferably 4 times or more. If the number of times is too large, the process takes too much time, so 30 times or less is preferable, 20 times or less is more preferable, and 15 times or less is particularly preferable.

また、最終工程が第2電解研磨工程であれば特に限定されず、第1電解研磨工程を複数回連続的に行った後に、第2電解研磨工程を複数回連続的行っても良いし、第1電解研磨工程と第2電解研磨工程を交互に行うこともできる。   In addition, there is no particular limitation as long as the final process is the second electropolishing process, and after the first electropolishing process is continuously performed a plurality of times, the second electropolishing process may be performed a plurality of times, The first electropolishing step and the second electropolishing step can be performed alternately.

特に、第2電解研磨工程は、第1電解研磨工程以上の高い電圧31を印加して、第1電解研磨工程以下の短い電解研磨時間33で電解研磨されるため、複数回に分けて電解研磨を実施したほうが、効率的に表面形状が粗い酸化金属皮膜による白色の曇り面の除去や新たな発生を抑制でき、全体的に平滑な研磨面を得られやすい。   In particular, since the second electropolishing step is applied with a higher voltage 31 than the first electropolishing step and is electropolished in a short electropolishing time 33 below the first electropolishing step, the electropolishing is divided into a plurality of times. When the step is carried out, it is possible to more efficiently suppress the removal of a white cloudy surface and new generation by a metal oxide film having a rough surface shape, and it is easy to obtain a smooth polished surface as a whole.

第1電解研磨工程あるいは第2電解研磨工程の工程ごとに金属成形体14を電解研磨液17から取り出し、アルコール、水、硝酸、または、それらを組み合わせた溶液で金属成形体14を洗浄することもできる。   The metal molded body 14 may be taken out of the electrolytic polishing liquid 17 for each step of the first electropolishing process or the second electropolishing process, and the metal molded body 14 may be washed with a solution of alcohol, water, nitric acid, or a combination thereof. it can.

また、洗浄は、最終的には、超音波浴中に室温で1〜30分間浸漬して行うのが好ましい。   In addition, the cleaning is preferably performed by immersing in an ultrasonic bath at room temperature for 1 to 30 minutes.

本発明に係る電解研磨方法において、電解研磨は10℃以上、80℃以下の範囲の温度において実施されることが好ましい。特に、20℃以上、40℃以下の範囲の温度が好ましく、25℃以上、30℃以下の範囲の温度が更に好ましい。   In the electrolytic polishing method according to the present invention, the electrolytic polishing is preferably performed at a temperature in the range of 10 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. In particular, a temperature in the range of 20 ° C. or higher and 40 ° C. or lower is preferable, and a temperature in the range of 25 ° C. or higher and 30 ° C. or lower is more preferable.

本発明の電解研磨方法は、簡便に平滑な表面が得られやすいため、医療用の管状体、例えばステント、に好ましく用いることができる。   The electrolytic polishing method of the present invention can be preferably used for a medical tubular body such as a stent because a smooth surface can be easily obtained.

以下に、本発明の電解研磨方法について、金属成形体としてステントを例に図4を参照しながらより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。   Hereinafter, the electropolishing method of the present invention will be described more specifically with reference to FIG. 4 by taking a stent as an example of a metal molded body, but the present invention is not limited to this.

図4に示した電解研磨装置は、ステント414などを電解研磨するための電解研磨装置である。主に、電源411、電解研磨液417、アノード導電性部材413、カソード416、電解研磨液槽415で構成され、ステント414を、実質的に円形になるようにほぼ均等に拡径した状態で、ステント414の内面を支持するアノード導電性部材413を有している。   The electropolishing apparatus shown in FIG. 4 is an electropolishing apparatus for electropolishing the stent 414 and the like. It is mainly composed of a power source 411, an electrolytic polishing liquid 417, an anode conductive member 413, a cathode 416, and an electrolytic polishing liquid tank 415. With the stent 414 expanded in a substantially uniform diameter so as to be substantially circular, An anode conductive member 413 that supports the inner surface of the stent 414 is provided.

アノード導電性部材413は、ステント414と4点の電気接点418で接するように4本の細長部材41を有している。各細長部材41がステント414の長手方向全長に亘って延在しており、その横断面において電気接点418を4点形成している。また、細長部材41同士が接合した頂点から外側へ延在する延長部42が接合されている。アノード導電性部材413は、電解研磨装置本体のアノード導電性部材413を固定するためのアノード接続部43に電気的に導通して接続されている。   The anode conductive member 413 has four elongated members 41 so as to contact the stent 414 with four electrical contacts 418. Each elongated member 41 extends over the entire length of the stent 414 in the longitudinal direction, and four electrical contacts 418 are formed in the cross section thereof. Moreover, the extension part 42 extended outside from the vertex which the elongate member 41 joined is joined. The anode conductive member 413 is electrically connected to and connected to an anode connecting portion 43 for fixing the anode conductive member 413 of the electrolytic polishing apparatus main body.

本発明の電解研磨方法における電解研磨工程は、図4の状態において電源411を作動させて、ステント414とカソード416との間に電圧を印加し電解研磨することができる。   In the electrolytic polishing step of the electrolytic polishing method of the present invention, the power source 411 is operated in the state shown in FIG. 4, and a voltage is applied between the stent 414 and the cathode 416 to perform electrolytic polishing.

尚、アノード接続部のネジを緩めることによって延長部42を取り外しできるようになっており、電解研磨工程間にアノード導電性部材413をアノード接続部43から取り外し、アノード導電性部材413にステント414を取り付けたまま洗浄することができる。また、各電解研磨工程ごとに円周方向にステント414を移動させてステント414とアノード導電性部材413の細長部材41との電気接点418を変えることが好ましい。   The extension 42 can be removed by loosening the screw of the anode connecting portion, and the anode conductive member 413 is removed from the anode connecting portion 43 during the electropolishing process, and the stent 414 is attached to the anode conductive member 413. It can be cleaned while attached. Further, it is preferable to change the electrical contact 418 between the stent 414 and the elongated member 41 of the anode conductive member 413 by moving the stent 414 in the circumferential direction for each electrolytic polishing step.

アノード接続部43上にアノード回転部44を有し、更に、アノード支持部45の上にアノード全体回転部46を有しているため、電解研磨工程においてステント414やアノード支持部45全体を回転させることができる。電解研磨液に417に濃度勾配や温度差を生じにくいため、平滑な研磨表面を得られやすい。   Since the anode rotation part 44 is provided on the anode connection part 43 and the anode whole rotation part 46 is provided on the anode support part 45, the stent 414 and the anode support part 45 are rotated in the electropolishing process. be able to. Since a concentration gradient and a temperature difference are hardly generated in the electrolytic polishing liquid 417, a smooth polished surface can be easily obtained.

なお、回転と電力の供給のため、アノード全体回転部46ならびにアノード回転部44にはロータリーコネクタを用いていることができる。   A rotary connector can be used for the whole anode rotating unit 46 and the anode rotating unit 44 for rotation and power supply.

また、カソード416は、ステント414との電極間距離が実質的に等距離となるように、各ステント414の外周の周囲を囲むような円筒形状を有している。
電解研磨液417の温度を一定に保持するために、電解液槽415は、循環水入口47および循環水出口48を有している。
Further, the cathode 416 has a cylindrical shape surrounding the periphery of each stent 414 so that the distance between the electrodes and the stent 414 is substantially equal.
In order to keep the temperature of the electrolytic polishing liquid 417 constant, the electrolytic solution tank 415 has a circulating water inlet 47 and a circulating water outlet 48.

マグネチックスターラー400でスターラーバー49を回転させることにより、電解研磨液417を撹拌し液の均一な状態を保つことが出来る。以上のように、本発明の実施の形態にかかる金属成形体の電解研磨方法について具体例を用いて説明したが、本発明は上記実施の形態によって制限を受けるものでなく、前・後記の主旨に適合し得る範囲で変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。   By rotating the stirrer bar 49 with the magnetic stirrer 400, the electropolishing liquid 417 can be stirred and the liquid can be kept in a uniform state. As described above, the method for electropolishing a metal molded body according to the embodiment of the present invention has been described using a specific example, but the present invention is not limited by the above embodiment, and the gist of the preceding and following descriptions. It is also possible to carry out the present invention while making modifications within a range that can be adapted to the above, and they are all included in the technical scope of the present invention.

以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明する。なお、以下の実施例および比較例はすべて、図4に示した電解研磨装置を用いて、電解研磨を実施した。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples. In all of the following examples and comparative examples, electrolytic polishing was performed using the electrolytic polishing apparatus shown in FIG.

下記に本発明の実施形態について、本発明に係る電解研磨液の製造例1〜3、ならびに、本発明に係る実施例1〜7および比較例1〜8を具体的に示す。なお、製造例1〜3の電解研磨液の成分組成を表1に示す。   About the embodiment of the present invention, Production Examples 1 to 3 of the electropolishing liquid according to the present invention, and Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 8 according to the present invention are specifically shown below. In addition, Table 1 shows component compositions of the electrolytic polishing liquids of Production Examples 1 to 3.

(製造例1)
990gのメタンスルホン酸に10gのエチレンジアミン四酢酸を溶解し、混合溶液1を作製した。得られた混合溶液1でニッケルチタン合金(ASTM F2063−05に適合)を4g/L電解研磨にて溶解させた後、溶液に水を30g添加した電解研磨液1を調整した。
(Production Example 1)
10 g of ethylenediaminetetraacetic acid was dissolved in 990 g of methanesulfonic acid to prepare a mixed solution 1. After the nickel-titanium alloy (compatible with ASTM F2063-05) was dissolved by 4 g / L electropolishing with the obtained mixed solution 1, electropolishing liquid 1 in which 30 g of water was added to the solution was prepared.

(製造例2)
332gのエチルアルコール、142gのイソプロピルアルコール、36gの塩化アルミニウム、150gの塩化亜鉛を混合して電解研磨液2を調整した。
(Production Example 2)
Electrolytic polishing liquid 2 was prepared by mixing 332 g of ethyl alcohol, 142 g of isopropyl alcohol, 36 g of aluminum chloride, and 150 g of zinc chloride.

(製造例3)
558gのエチレングリコール、50gの塩化リチウムを混合して電解研磨液3を調整した。
(Production Example 3)
Electrolytic polishing liquid 3 was prepared by mixing 558 g of ethylene glycol and 50 g of lithium chloride.

(実施例1)
金属成形体として、内径が8.0mmのニッケルチタン合金(ASTM F2063−05に適合)製のステントを用意した。
Example 1
A stent made of a nickel titanium alloy (compatible with ASTM F2063-05) having an inner diameter of 8.0 mm was prepared as a metal molded body.

金属成形体を外径が8.5mmのSUS304製のアノード導電性部材に対して、金属成形体が均等に拡径するように挿通して、金属成形体の全長の断面においてステントの内面がアノード導電性部材の細長部材と4点で電気接点を形成するように固定した。アノード導電性部材の細長部材として外径が1.2mmの円柱状の部材を用いた。   The metal molded body was inserted into an anode conductive member made of SUS304 having an outer diameter of 8.5 mm so that the diameter of the metal molded body was evenly expanded. It was fixed so as to form an electrical contact with the elongated member of the conductive member at four points. A cylindrical member having an outer diameter of 1.2 mm was used as the elongated member of the anode conductive member.

電解研磨液槽内に製造例1で調整した電解研磨液1を投入後25℃にて貯留しマグネチックスターラーで撹拌速度が平均100cm/secになるように攪拌し、金属成形体との電極間距離が45mm〜55mmに実質的に等距離になるように湾曲形状のSUS304製のカソードを設置した。   The electrolytic polishing liquid 1 prepared in Production Example 1 was put into the electrolytic polishing liquid tank, and then stored at 25 ° C. and stirred with a magnetic stirrer so that the stirring speed became 100 cm / sec on average, and between the electrodes with the metal molded body A curved cathode made of SUS304 was installed so that the distance was substantially equidistant from 45 mm to 55 mm.

<第1電解研磨工程(1)>
金属成形体を電解研磨液中に浸漬し、電圧20Vで30秒間、電解研磨液に対して電力供給し、金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させ、金属成形体を円周方向に45°移動させて金属成形体とアノード導電性部材の電気接点を変更した。
<First Electropolishing Step (1)>
The metal molded body was immersed in the electrolytic polishing liquid, and power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 20 V for 30 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After the power supply is completed, the metal molded body is taken out from the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried, and the metal molded body is moved 45 ° in the circumferential direction so that the electrical contact between the metal molded body and the anode conductive member is made. changed.

<第2電解研磨工程(1)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧25Vで3秒間、電解研磨液に対して電力供給し、金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させ、金属成形体を円周方向に45°移動させて金属成形体とアノード導電性部材の電気接点を変更した。
<Second Electropolishing Step (1)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 25 V for 3 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After the power supply is completed, the metal molded body is taken out from the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried, and the metal molded body is moved 45 ° in the circumferential direction so that the electrical contact between the metal molded body and the anode conductive member is made. changed.

第1電解研磨工程(1)を連続して10回繰り返し実施した後に、第2電解研磨工程(2)を5回連続して繰り返し実施した。すべての電解研磨時の電流密度は100〜2000mA/cmの範囲内であった。表2に記す。 After the first electropolishing step (1) was continuously repeated 10 times, the second electropolishing step (2) was repeated 5 times continuously. The current density during all electropolishing was in the range of 100 to 2000 mA / cm 2 . It is described in Table 2.

(実施例2)
金属成形体として、外径が1.0mmの純チタン製のワイヤを用意した。
アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、実施例1における電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は100〜2000mA/cmの範囲内であった。
(Example 2)
A pure titanium wire having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.
Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that the extension of the anode conductive member was removed and a wire was directly attached to the anode connection. In addition, the electrical contact in Example 1 was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 100 to 2000 mA / cm 2 .

(実施例3)
金属成形体として、外径が1.0mmのチタン合金Ti−6Al−4V製のワイヤを用意した。
(Example 3)
A wire made of a titanium alloy Ti-6Al-4V having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、実施例1における電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は100〜2000mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that the extension of the anode conductive member was removed and a wire was directly attached to the anode connection. In addition, the electrical contact in Example 1 was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 100 to 2000 mA / cm 2 .

(実施例4)
金属成形体として、外径が1.0mmの純チタン製のワイヤを用意した。
アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。
Example 4
A pure titanium wire having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.
The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

電解研磨液槽内に製造例2で調整した電解研磨液2を投入後、電解研磨液を25℃にて貯留しマグネチックスターラーで撹拌速度が平均100cm/secになるように攪拌し、金属成形体との電極間距離が45mm〜55mmに実質的に等距離になるように湾曲形状のSUS304製のカソードを設置した。   After the electrolytic polishing liquid 2 prepared in Production Example 2 was put into the electrolytic polishing liquid tank, the electrolytic polishing liquid was stored at 25 ° C., and stirred with a magnetic stirrer so that the stirring speed became an average of 100 cm / sec. A curved cathode made of SUS304 was installed so that the distance between the electrodes and the body was substantially equal to 45 mm to 55 mm.

<第1電解研磨工程(2)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧25Vで60秒間、電解研磨液に対して電力供給し、金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、被研磨物を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<First Electropolishing Step (2)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and electric power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 25 V for 60 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After the power supply was completed, the object to be polished was taken out from the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

<第2電解研磨工程(2)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧30Vで10秒間、電解研磨液に対して電力供給し金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<Second Electropolishing Step (2)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 30 V for 10 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After completion of power supply, the metal molded body was taken out of the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

第1電解研磨工程(2)を連続して10回繰り返し実施した後に、第2電解研磨工程(2)工程を10回連続して繰り返し実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。すべての電解研磨時の電流密度は50〜300mA/cmの範囲内であった。 After the first electropolishing step (2) was continuously repeated 10 times, the second electropolishing step (2) step was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 300 mA / cm 2 .

(実施例5)
金属成形体として、外径が1.2mmのステンレス鋼SUS304製のワイヤを用意した。
(Example 5)
As a metal molded body, a wire made of stainless steel SUS304 having an outer diameter of 1.2 mm was prepared.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

電解研磨液槽内に製造例3で調整した電解研磨液3を投入後、電解研磨液を25℃にて貯留しマグネチックスターラーで撹拌速度が平均100cm/secになるように攪拌し、金属成形体との電極間距離が45mm〜55mmに実質的に等距離になるように湾曲形状のSUS304製のカソードを設置した。   After the electrolytic polishing liquid 3 prepared in Production Example 3 was put into the electrolytic polishing liquid tank, the electrolytic polishing liquid was stored at 25 ° C. and stirred with a magnetic stirrer so that the stirring speed became an average of 100 cm / sec. A curved cathode made of SUS304 was installed so that the distance between the electrodes and the body was substantially equal to 45 mm to 55 mm.

<第1電解研磨工程(3)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧20Vで60秒間、電解研磨液に対して電力供給し、金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<First Electropolishing Step (3)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and electric power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 20 V for 60 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After completion of power supply, the metal molded body was taken out of the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

<第2電解研磨工程(3)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧25Vで10秒間、電解研磨液に対して電力供給し金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<Second Electropolishing Step (3)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 25 V for 10 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After completion of power supply, the metal molded body was taken out of the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

第1電解研磨工程(3)を連続して10回繰り返し実施した後に、第2電解研磨工程(3)工程を10回連続して繰り返し実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。すべての電解研磨時の電流密度は50〜300mA/cmの範囲内であった。 After the first electropolishing step (3) was repeated 10 times continuously, the second electropolishing step (3) step was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 300 mA / cm 2 .

(実施例6)
金属成形体として、外径が1.6mmのマグネシウム合金AZ61製のワイヤを用意した。
(Example 6)
A wire made of magnesium alloy AZ61 having an outer diameter of 1.6 mm was prepared as a metal molded body.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

それ以外は、実施例5と同様の方法で電解研磨を実施した。すべての電解研磨時の電流密度は50〜300mA/cmの範囲内であった。 Otherwise, electropolishing was performed in the same manner as in Example 5. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 300 mA / cm 2 .

(実施例7)
金属成形体として、外径が1.5mmの純アルミニウムA1070製のワイヤを用意した。
(Example 7)
As a metal molded body, a wire made of pure aluminum A1070 having an outer diameter of 1.5 mm was prepared.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

電解研磨液槽内に製造例2で調整した電解研磨液2を投入後、電解研磨液を25℃にて貯留しマグネチックスターラーで撹拌速度が平均100cm/secになるように攪拌し、金属成形体との電極間距離が45mm〜55mmに実質的に等距離になるように湾曲形状のSUS304製のカソードを設置した。   After the electrolytic polishing liquid 2 prepared in Production Example 2 was put into the electrolytic polishing liquid tank, the electrolytic polishing liquid was stored at 25 ° C., and stirred with a magnetic stirrer so that the stirring speed became an average of 100 cm / sec. A curved cathode made of SUS304 was installed so that the distance between the electrodes and the body was substantially equal to 45 mm to 55 mm.

<第1電解研磨工程(4)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧20Vで60秒間、電解研磨液に対して電力供給し、金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<First Electropolishing Step (4)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and electric power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 20 V for 60 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After completion of power supply, the metal molded body was taken out of the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

<第2電解研磨工程(4)>
金属成形体を電解研磨液に浸漬し、電圧25Vで10秒間、電解研磨液に対して電力供給し金属成形体の表面の電解研磨を行った。電力供給完了後、金属成形体を電解研磨液から取り出した後、水で洗浄して乾燥させた。
<Second Electropolishing Step (4)>
The metal molded body was immersed in an electrolytic polishing liquid, and power was supplied to the electrolytic polishing liquid at a voltage of 25 V for 10 seconds to perform electrolytic polishing of the surface of the metal molded body. After completion of power supply, the metal molded body was taken out of the electrolytic polishing liquid, washed with water and dried.

第1電解研磨工程(4)を連続して10回繰り返し実施した後に、第2電解研磨工程(4)工程を10回連続して繰り返し実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。すべての電解研磨時の電流密度は50〜300mA/cmの範囲内であった。 After the first electropolishing step (4) was continuously repeated 10 times, the second electropolishing step (4) step was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 300 mA / cm 2 .

(比較例1)
金属成形体として、内径が8.0mmのニッケルチタン合金(ASTM F2063−05に適合)製のステントを用意した。
(Comparative Example 1)
A stent made of a nickel titanium alloy (compatible with ASTM F2063-05) having an inner diameter of 8.0 mm was prepared as a metal molded body.

実施例1の第1電解研磨工程(1)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。すべての電解研磨時の電流密度は100〜1600mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that only the first electropolishing step (1) of Example 1 was repeated 10 times continuously. The current density during all electropolishing was in the range of 100-1600 mA / cm 2 .

(比較例2)
金属成形体として、外径が1.0mmの純チタン製のワイヤを用意した。
アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。
(Comparative Example 2)
A pure titanium wire having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.
The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例1の第1電解研磨工程(1)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、実施例1における電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は100〜1600mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that only the first electropolishing step (1) of Example 1 was repeated 10 times continuously. In addition, the electrical contact in Example 1 was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 100-1600 mA / cm < 2 >.

(比較例3)
金属成形体として、外径が1.0mmのチタン合金Ti−6Al−4V製のワイヤを用意した。
(Comparative Example 3)
A wire made of a titanium alloy Ti-6Al-4V having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例1の第1電解研磨工程(1)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、実施例1における電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は100〜1600mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that only the first electropolishing step (1) of Example 1 was repeated 10 times continuously. In addition, the electrical contact in Example 1 was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 100-1600 mA / cm < 2 >.

(比較例4)
金属成形体として、外径が1.0mmの純チタン製のワイヤを用意した。
アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。
(Comparative Example 4)
A pure titanium wire having an outer diameter of 1.0 mm was prepared as a metal molded body.
The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例4の第1電解研磨工程(2)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例4と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は50〜250mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 4 except that only the first electropolishing step (2) of Example 4 was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 50 to 250 mA / cm 2 .

(比較例5)
金属成形体として、外径が1.2mmのステンレス鋼SUS304製のワイヤを用意した。
(Comparative Example 5)
As a metal molded body, a wire made of stainless steel SUS304 having an outer diameter of 1.2 mm was prepared.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例5の第1電解研磨工程(3)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例5と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。また、すべての電解研磨時の電流密度は50〜250mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 5 except that only the first electropolishing step (3) of Example 5 was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. Moreover, the current density at the time of all the electropolishing was in the range of 50 to 250 mA / cm 2 .

(比較例6)
金属成形体として、外径が1.6mmのマグネシウム合金AZ61製のワイヤを用意した。
(Comparative Example 6)
A wire made of magnesium alloy AZ61 having an outer diameter of 1.6 mm was prepared as a metal molded body.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例5の第1電解研磨工程(3)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例5と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。すべての電解研磨時の電流密度は50〜250mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 5 except that only the first electropolishing step (3) of Example 5 was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 250 mA / cm 2 .

(比較例7)
金属成形体として、外径が1.5mmの純アルミニウムA1070製のワイヤを用意した。
(Comparative Example 7)
As a metal molded body, a wire made of pure aluminum A1070 having an outer diameter of 1.5 mm was prepared.

アノード導電性部材の延長部を取り外し、アノード接続部にワイヤを直接取り付けた。   The extension of the anode conductive member was removed and the wire was attached directly to the anode connection.

実施例7の第1電解研磨工程(4)のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例7と同様の方法で電解研磨を実施した。尚、電気接点の変更は行わなかった。すべての電解研磨時の電流密度は50〜250mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 7 except that only the first electropolishing step (4) of Example 7 was repeated 10 times continuously. The electrical contact was not changed. The current density during all electropolishing was in the range of 50 to 250 mA / cm 2 .

(比較例8)
金属成形体として、内径が8.0mmのニッケルチタン合金(ASTM F2063−05に適合)製のステントを用意した。
(Comparative Example 8)
A stent made of a nickel titanium alloy (compatible with ASTM F2063-05) having an inner diameter of 8.0 mm was prepared as a metal molded body.

実施例1の第1電解研磨工程(1)の電圧を25Vに変更した工程のみを10回連続して繰り返し実施した以外は、実施例1と同様の方法で電解研磨を実施した。すべての電解研磨時の電流密度は100〜2000mA/cmの範囲内であった。 Electropolishing was carried out in the same manner as in Example 1 except that only the step of changing the voltage in the first electropolishing step (1) of Example 1 to 25 V was repeated 10 times continuously. The current density during all electropolishing was in the range of 100 to 2000 mA / cm 2 .

(実体顕微鏡による外観評価)
各実施例および各比較例で作製した金属成形体について、実体顕微鏡(Nikon製 MM−400)を用いて、50倍の倍率で表面外観を観察することにより外観評価を行った。
(Appearance evaluation by stereo microscope)
About the metal molded object produced in each Example and each comparative example, the external appearance evaluation was performed by observing a surface external appearance by 50 time magnification using a stereomicroscope (MM-400 made from Nikon).

その結果、各実施例ではすべて、平滑な表面外観を確認したが、各比較例ではすべて、白色の曇り面が表面にあることを確認した。尚、実施例1、比較例1、実施例4、比較例4、実施例5、比較例5、実施例6、比較例6、実施例7、比較例7、比較例8について、実体顕微鏡にデジタル一眼レフカメラ(Canon製 EOS Kiss X5)を接続して拡大写真を撮影した表面観察結果を図5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15に示した。   As a result, in each Example, a smooth surface appearance was confirmed, but in each Comparative Example, it was confirmed that a white cloudy surface was present on the surface. In addition, Example 1, Comparative Example 1, Example 4, Comparative Example 4, Example 5, Example 5, Comparative Example 5, Example 6, Comparative Example 6, Example 7, Comparative Example 7, and Comparative Example 8 were applied to a stereomicroscope. Surface observation results obtained by connecting a digital single-lens reflex camera (EOS Kiss X5 manufactured by Canon) and taking magnified photographs are shown in FIGS. 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, and 15.

(SEMによる外観評価)
実施例1および比較例1で作製した金属成形体について、SEM(走査型電子顕微鏡; Carl Zeiss製 UltraPlus)を用いて、加速電圧2.0kV、2000倍の倍率で、表面外観を観察することにより外観評価を行った。
(Appearance evaluation by SEM)
By observing the surface appearance of the metal molded body produced in Example 1 and Comparative Example 1 using an SEM (scanning electron microscope; Ultra Plus manufactured by Carl Zeiss) at an acceleration voltage of 2.0 kV and a magnification of 2000 times. Appearance evaluation was performed.

その結果、実施例1では、非常に優れた平滑な表面外観を有していることがわかった。また比較例1では、実体顕微鏡観察で白色の曇り面に見えた表面部分に約2μm程度の凹凸状の表面が形成されていることがわかった。尚、実施例1、比較例1の観察結果を図16、図17に示した。   As a result, it was found that Example 1 has a very excellent smooth surface appearance. Further, in Comparative Example 1, it was found that an uneven surface of about 2 μm was formed on the surface portion that appeared as a white cloudy surface by observation with a stereoscopic microscope. The observation results of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in FIGS.

(STEMならびにEDXによる断面分析)
実施例1および比較例1で作製した金属成形体について、FIB(集束イオンビーム; 日立製 FB−2100)により加速電圧40kV(仕上げ10kV)で断面を作製し、STEM(走査透過電子顕微鏡; 日立製 HD−2700)を用いて、加速電圧200kV、30000倍と700000倍の倍率で観察した。
(Section analysis by STEM and EDX)
About the metal molded object produced in Example 1 and Comparative Example 1, a cross section was produced with an acceleration voltage of 40 kV (finishing 10 kV) by FIB (focused ion beam; FB-2100 made by Hitachi), and STEM (scanning transmission electron microscope; made by Hitachi). HD-2700) was observed at an acceleration voltage of 200 kV and magnifications of 30000 and 700000 times.

その結果、SEMで確認された凹凸の有無の実施例1と比較例1との差が、断面STEM観察でも同様に確認することができ、各試料表面におよそ5nm程度の厚みの層が確認された。   As a result, the difference between Example 1 and Comparative Example 1 in the presence or absence of irregularities confirmed by SEM can also be confirmed by cross-sectional STEM observation, and a layer having a thickness of about 5 nm is confirmed on the surface of each sample. It was.

その後、EDX(エネルギー分散型X線分析装置; EDAX製 TEAM)を用いて、加速電圧200kVで、700000倍の倍率の断面の元素分析を実施した。測定による汚染残渣等を考慮して、検出元素のうち、O、Ti、Niの3元素で元素濃度比を計算した。その結果、実施例1ならびに比較例1の試料のどちらについても、試料表面(point1、point3)では、断面の内部(point2、point4)と比較して、Niの強度の低下とOの強度の上昇が顕著に見られた。一方で、Tiの強度は大きく変化していなかった。これらの結果から、試料表面の層は酸化チタンからなる酸化皮膜であることがわかった。したがって、試料表面の凹凸の有無が白色曇り面の原因と示唆された。   Thereafter, elemental analysis of the cross section at a magnification of 700,000 was performed at an acceleration voltage of 200 kV using an EDX (energy dispersive X-ray analyzer; TEAM manufactured by EDAX). Considering the contamination residue and the like by measurement, the element concentration ratio was calculated for three elements of O, Ti, and Ni among the detected elements. As a result, in both the samples of Example 1 and Comparative Example 1, the strength of Ni and the strength of O increased on the sample surface (point1, point3) compared to the inside of the cross section (point2, point4). Was noticeable. On the other hand, the strength of Ti did not change greatly. From these results, it was found that the layer on the sample surface was an oxide film made of titanium oxide. Therefore, the presence or absence of irregularities on the sample surface was suggested to be the cause of the white cloudy surface.

尚、実施例1、比較例1の断面観察結果を図18、図19に示した。また、実施例1、比較例1の元素分析の結果を表3に示した。   The cross-sectional observation results of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in FIGS. The results of elemental analysis of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Table 3.

(表面粗さ測定)
実施例1および比較例1で作製した金属成形体について、レーザー顕微鏡(KEYENCE社、VK−9510)を用いて、JIS B0601−1994に基づき、算術平均粗さRaと最大高さRyを測定した。実施例1および比較例1の表面粗さ測定結果を表4に示した。実施例1のほうが比較例1よりも算術平均粗さRaと最大高さRyがともに小さく、実施例1は比較例1よりも平滑性に優れていることがわかった。
(Surface roughness measurement)
About the metal molded object produced in Example 1 and Comparative Example 1, arithmetic mean roughness Ra and maximum height Ry were measured based on JIS B0601-1994 using the laser microscope (KEYENCE company, VK-9510). The surface roughness measurement results of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Table 4. The arithmetic average roughness Ra and the maximum height Ry were both smaller in Example 1 than in Comparative Example 1, and it was found that Example 1 was superior in smoothness to Comparative Example 1.

(結果)
実施例1〜7では、本発明の効果により、研磨面に白色の曇り面を発生させることなく、一様に平滑で光沢のある研磨面が得られた。
(result)
In Examples 1 to 7, due to the effect of the present invention, a uniformly smooth and glossy polished surface was obtained without generating a white cloudy surface on the polished surface.

比較例1〜8では、研磨面に白色の曇り面を発生させてしまい、凹凸を有する光沢があまりない研磨面が得られた。特に、比較例8では白色の曇り面以外に研磨ムラも確認された。   In Comparative Examples 1 to 8, a white cloudy surface was generated on the polished surface, and a polished surface having unevenness and not much gloss was obtained. In particular, in Comparative Example 8, polishing unevenness was confirmed in addition to the white cloudy surface.

このことから、本発明は、簡便な方法及び簡便な装置により、研磨時間を短縮しつつ、研磨ムラが少なく均一な研磨面が得られる金属成形体の電解研磨方法であることがわかる。また、本来であれば、電解研磨液を交換しなくてはならないような状態であっても、本発明の電解研磨方法の効果により、白色の曇り面が発生しくいため、電解研磨液を長く使用できるという利点があることがわかる。   From this, it can be seen that the present invention is an electropolishing method of a metal molded body that can obtain a uniform polished surface with less polishing unevenness while shortening the polishing time by a simple method and a simple apparatus. In addition, even if the electrolytic polishing liquid must be replaced, it is difficult to generate a white cloudy surface due to the effect of the electrolytic polishing method of the present invention. It turns out that there is an advantage that it can be used.

11 電源
12a、12b 導電性ワイヤ
13 アノード導電性部材
14 金属成形体
15 電解研磨液槽
16 カソード
17 電解研磨液
18 電気接点
21 電圧
22 電流密度
23 電解研磨時間
41 細長部材
42 延長部
43 アノード接続部
44 アノード回転部
45 アノード支持部
46 アノード全体回転部
47 循環水入口
48 循環水出口
49 スターラーバー
400 マグネチックスターラー
411 電源
412a、412b 導電性ワイヤ
413 アノード導電性部材
414 ステント
415 電解研磨液槽
416 カソード
417 電解研磨液
418 電気接点
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Power supply 12a, 12b Conductive wire 13 Anode conductive member 14 Metal molding 15 Electropolishing liquid tank 16 Cathode 17 Electrolytic polishing liquid 18 Electrical contact 21 Voltage 22 Current density 23 Electropolishing time 41 Elongated member 42 Extension part 43 Anode connection part 44 Anode rotating part 45 Anode support part 46 Anode whole rotating part 47 Circulating water inlet 48 Circulating water outlet
49 Stirrer bar 400 Magnetic stirrer 411 Power supply 412a, 412b Conductive wire 413 Anode conductive member 414 Stent 415 Electropolishing liquid tank 416 Cathode 417 Electropolishing liquid 418 Electrical contact

Claims (15)

電解研磨液中で、下記(a)条件で電解研磨する第1電解研磨工程を1回以上と、下記(b)条件で電解研磨する第2電解研磨工程を1回以上含み、下記(b)条件で最終の電解研磨を行うことを特徴とする金属成形体の製造方法。
(a)電圧を一定時間印加する条件
(b)前記(a)条件より高い電圧を一定時間印加する条件
In the electropolishing liquid, the process includes one or more first electropolishing processes for electropolishing under the following conditions (a) and one or more second electropolishing processes for electropolishing under the following conditions (b). A method for producing a metal molded body, comprising performing final electrolytic polishing under conditions.
(A) Conditions for applying a voltage for a certain period of time (b) Conditions for applying a voltage higher than the condition (a) for a certain period of time
前記(a)条件の電圧値が、10V以上、30V以下の範囲から選択されることを特徴とする請求項1に記載の金属成形体の製造方法。 2. The method for producing a metal molded body according to claim 1, wherein the voltage value of the condition (a) is selected from a range of 10 V or more and 30 V or less. 前記(b)条件の電圧値が、20V以上、45V以下の範囲から選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to claim 1 or 2, wherein the voltage value of the condition (b) is selected from a range of 20 V or more and 45 V or less. 前記(a)工程および前記(b)工程における電流値が、40mA/cm以上の範囲から選択されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 3, wherein a current value in the step (a) and the step (b) is selected from a range of 40 mA / cm 2 or more. . 前記(b)工程における電圧の印加時間が、前記(a)工程における電圧の印加時間と同じ、または、短いことを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 5. The metal molded body according to claim 1, wherein the voltage application time in the step (b) is the same as or shorter than the voltage application time in the step (a). Method. 前記(a)工程における電圧の印加時間が10秒以上、60秒以下の範囲、および前記(b)工程における電圧の印加時間が1秒以上、10秒以下の範囲で選択されることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The voltage application time in the step (a) is selected in the range of 10 seconds to 60 seconds and the voltage application time in the step (b) is selected in the range of 1 second to 10 seconds. The manufacturing method of the metal forming body in any one of Claims 1-5. 前記電解研磨液がフッ化物を含んでいない、もしくはフッ化物の含有量が5重量%以下であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 6, wherein the electropolishing liquid does not contain fluoride or the content of fluoride is 5% by weight or less. 前記電解研磨液がアルキルスルホン酸を含んでいることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 7, wherein the electropolishing liquid contains an alkylsulfonic acid. 前記電解研磨液が、アミノカルボン酸型キレート剤を含んでいることを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 8, wherein the electrolytic polishing liquid contains an aminocarboxylic acid type chelating agent. 前記金属成形体が卑金属からなることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 9, wherein the metal molded body is made of a base metal. 前記金属成形体が鉄、クロム、マグネシウム、アルミニウム、チタンから選ばれる1種以上を含有することを特徴とする、請求項10に記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to claim 10, wherein the metal molded body contains one or more selected from iron, chromium, magnesium, aluminum, and titanium. 前記金属成形体がチタンまたはチタン合金からなることを特徴とする、請求項11に記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to claim 11, wherein the metal molded body is made of titanium or a titanium alloy. 前記金属成形体がニッケルチタン合金からなることを特徴とする、請求項12に記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to claim 12, wherein the metal molded body is made of a nickel titanium alloy. 前記金属成形体が医療用管状体であることを特徴とする、請求項1〜13のいずれかに記載の金属成形体の製造方法。 The method for producing a metal molded body according to any one of claims 1 to 13, wherein the metal molded body is a medical tubular body. 前記医療用管状体が、ステントであることを特徴とする請求項14に記載の金属成形体の製造方法。

The method for manufacturing a metal molded body according to claim 14, wherein the medical tubular body is a stent.

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