JP2017212390A - Light-source device and projector - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-source device having a structure which can suppress a reduction in efficiency for light utilization.SOLUTION: A light-source device comprises: a base substrate 11 having a first face; a semiconductor laser element 110 being disposed on the first face and emitting laser light L in a first direction along the first face; and a prism 113 having an incident face 113a to which the laser light emitted from the semiconductor laser element is incident and a reflection surface 113b reflecting at least a part of the laser light incident from the incident face. When the base of a natural logarithm is denoted by "e", the reflection face is disposed so as to totally reflect the laser light having light intensity equal to or larger than 1/eof center intensity out of the laser light incident to the prism from the incident face.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、光源装置、およびプロジェクターに関する。   The present invention relates to a light source device and a projector.

基板上に配置された半導体レーザー素子から射出されたレーザー光を反射する反射部材を備え、半導体レーザー素子から射出される方向と異なる方向にレーザー光を射出する光源装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1には、誘電体材料による反射膜によってレーザー光を反射する反射部材が記載されている。   A light source device that includes a reflecting member that reflects laser light emitted from a semiconductor laser element disposed on a substrate and emits laser light in a direction different from the direction emitted from the semiconductor laser element has been proposed (for example, Patent Document 1). Patent Document 1 describes a reflecting member that reflects laser light with a reflecting film made of a dielectric material.

特開2015−45843号公報JP 2015-45843 A

しかし、上記のような誘電体材料による反射膜は、所定の入射角で入射する光を反射するように設計することは容易であるものの、入射角が異なる複数の光を反射させるように設計することは困難である。そのため、レーザー光のように所定角度で拡がる光を反射する場合、誘電体材料による反射膜では光を十分に反射できない場合があった。また、誘電体材料による反射膜は、反射する光の波長に応じて設計されるため、入射するレーザー光の波長が所定の波長から変化すると、レーザー光に対する反射率が低下して、反射できないレーザー光が増加する問題があった。   However, the reflection film made of the dielectric material as described above is designed so as to reflect a plurality of lights having different incident angles although it is easy to design to reflect the light incident at a predetermined incident angle. It is difficult. For this reason, when light that spreads at a predetermined angle, such as laser light, is reflected, the reflection film made of a dielectric material may not be able to sufficiently reflect the light. In addition, since the reflective film made of a dielectric material is designed according to the wavelength of the reflected light, if the wavelength of the incident laser light changes from a predetermined wavelength, the reflectance with respect to the laser light decreases, and the laser cannot be reflected. There was a problem that light increased.

このように、誘電体材料による反射膜では、レーザー光の反射が不十分となり、半導体レーザー素子から射出されるレーザー光のうち光源装置から射出されるレーザー光の割合が低下する場合があった。これにより、光源装置の光利用効率が低下する問題があった。   As described above, in the reflective film made of a dielectric material, the reflection of the laser light becomes insufficient, and the ratio of the laser light emitted from the light source device in the laser light emitted from the semiconductor laser element may decrease. As a result, there is a problem that the light use efficiency of the light source device is lowered.

本発明は、上記問題点に鑑みて成されたものであって、光利用効率が低下することを抑制できる構造を有する光源装置、およびそのような光源装置を備えるプロジェクターを提供することを目的の一つとする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a light source device having a structure capable of suppressing a decrease in light use efficiency, and a projector including such a light source device. One.

本発明の光源装置の一つの態様は、第1の面を有するベース基板と、前記第1の面に配置され、前記第1の面に沿った第1方向にレーザー光を射出する半導体レーザー素子と、前記半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する入射面、および前記入射面から入射したレーザー光の少なくとも一部を反射する反射面を有するプリズムと、を備え、前記反射面は、自然対数の底をeとしたとき、前記入射面から前記プリズムに入射したレーザー光のうち、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光を全反射するように配置されていることを特徴とする。 One aspect of the light source device of the present invention includes a base substrate having a first surface and a semiconductor laser element that is disposed on the first surface and emits laser light in a first direction along the first surface. And an incident surface on which laser light emitted from the semiconductor laser element is incident, and a prism having a reflective surface that reflects at least part of the laser light incident from the incident surface, the reflective surface being a natural surface When the base of the logarithm is e, the laser light that is incident on the prism from the incident surface is arranged so as to totally reflect the laser light whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity. Features.

本発明の光源装置の一つの態様によれば、反射面の傾斜角度を設計することのみで、容易に放射角が異なる複数のレーザー光を反射させることができる。また、反射面による全反射条件は、レーザー光の波長によっては、ほぼ変化することなく、レーザー光の波長が所定の波長から変化した場合であっても反射面の反射率が低下することを抑制できる。これにより、半導体レーザー素子から射出されたレーザー光のうち反射されない光を低減でき、光源装置の光利用効率が低下することを抑制できる。   According to one aspect of the light source device of the present invention, it is possible to easily reflect a plurality of laser beams having different emission angles only by designing the inclination angle of the reflecting surface. In addition, the total reflection condition by the reflecting surface does not substantially change depending on the wavelength of the laser beam, and even when the wavelength of the laser beam changes from a predetermined wavelength, the reflectance of the reflecting surface is prevented from decreasing. it can. Thereby, the light which is not reflected among the laser lights inject | emitted from the semiconductor laser element can be reduced, and it can suppress that the light utilization efficiency of a light source device falls.

前記反射面によって全反射された後に前記プリズムから射出されたレーザー光の進行方向を変化させる光学部材をさらに備える構成としてもよい。
この構成によれば、プリズムから射出されるレーザー光の進行方向を所望の方向にできない場合であっても、光学部材によって光源装置から射出されるレーザー光の進行方向を所望の方向にすることができる。
It is good also as a structure further equipped with the optical member which changes the advancing direction of the laser beam inject | emitted from the said prism after being totally reflected by the said reflective surface.
According to this configuration, even when the traveling direction of the laser light emitted from the prism cannot be a desired direction, the traveling direction of the laser light emitted from the light source device by the optical member can be set to a desired direction. it can.

複数の前記半導体レーザー素子と、前記第1の面に接合され、前記半導体レーザー素子を囲む枠状の接合フレームと、前記半導体レーザー素子と対向し、前記接合フレームに固定された透光性部材と、をさらに備える構成としてもよい。
この構成によれば、光源装置の光利用効率が低下することを抑制できる効果をより大きく得られる。
A plurality of the semiconductor laser elements; a frame-shaped bonding frame that is bonded to the first surface and surrounds the semiconductor laser element; and a translucent member that faces the semiconductor laser element and is fixed to the bonding frame. It is good also as a structure further provided.
According to this structure, the effect which can suppress that the light utilization efficiency of a light source device falls can be acquired more largely.

前記半導体レーザー素子は、第1の半導体レーザー素子と、第2の半導体レーザー素子と、を含み、前記プリズムは、前記第1の半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する第1のプリズムと、前記第2の半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する第2のプリズムと、を含み、前記第1のプリズムと前記第2のプリズムとは、前記透光性部材と一体に形成され、前記第1の半導体レーザー素子と前記第2の半導体レーザー素子とは、互いに逆向きにレーザー光を射出し、前記第1のプリズムの前記入射面と前記第2のプリズムの前記入射面とは互いに対向する、または、前記第1のプリズムの前記反射面と前記第2のプリズムの前記反射面とは互いに対向する構成としてもよい。
この構成において、反射面に反射膜を設ける場合、光源装置の製造の手間およびコストが増大する場合がある。これに対して、本発明の光源装置の一つの態様によれば、反射面をレーザー光が全反射されるように配置するため、反射膜を形成する必要がない。これにより、光源装置の製造の手間およびコストが増大することを抑制できる。
The semiconductor laser element includes a first semiconductor laser element and a second semiconductor laser element, and the prism includes a first prism on which laser light emitted from the first semiconductor laser element is incident. A second prism on which laser light emitted from the second semiconductor laser element is incident, and the first prism and the second prism are formed integrally with the light-transmissive member. The first semiconductor laser element and the second semiconductor laser element emit laser beams in opposite directions, and the incident surface of the first prism and the incident surface of the second prism are The reflective surface of the first prism and the reflective surface of the second prism may be opposed to each other.
In this configuration, when a reflective film is provided on the reflective surface, the labor and cost of manufacturing the light source device may increase. On the other hand, according to one aspect of the light source device of the present invention, since the reflecting surface is arranged so that the laser beam is totally reflected, it is not necessary to form a reflecting film. Thereby, it can suppress that the effort and cost of manufacture of a light source device increase.

前記ベース基板と前記接合フレームと前記透光性部材とによって、前記半導体レーザー素子が収納され、封止された収納空間が設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、半導体レーザー素子が劣化することを抑制できる。
The base substrate, the joining frame, and the translucent member may house the semiconductor laser element and provide a sealed housing space.
According to this structure, it can suppress that a semiconductor laser element deteriorates.

本発明のプロジェクターの一つの態様は、上記の光源装置と、前記光源装置から射出された光を変調する光変調装置と、前記光変調装置によって変調された光を投射する投射光学系と、を備えることを特徴とする。   One aspect of the projector of the present invention includes the above light source device, a light modulation device that modulates light emitted from the light source device, and a projection optical system that projects light modulated by the light modulation device. It is characterized by providing.

本発明のプロジェクターの一つの態様によれば、光源装置において光利用効率が低下することを抑制できるため、光学特性に優れたプロジェクターが得られる。   According to one aspect of the projector of the present invention, it is possible to suppress a decrease in light utilization efficiency in the light source device, and thus a projector having excellent optical characteristics can be obtained.

前記光源装置から射出された光によって励起され、蛍光光を射出する波長変換素子をさらに備える構成としてもよい。
この構成によれば、光源装置から射出された光を蛍光光に変換できる。
It is good also as a structure further provided with the wavelength conversion element which is excited by the light inject | emitted from the said light source device, and inject | emits fluorescence light.
According to this configuration, the light emitted from the light source device can be converted into fluorescent light.

第1実施形態のプロジェクターの光学系を示す図である。It is a figure which shows the optical system of the projector of 1st Embodiment. 第1実施形態の光源装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the light source device of 1st Embodiment. 第1実施形態の光源装置を示す図であって、図2のIV−IV断面斜視図である。It is a figure which shows the light source device of 1st Embodiment, Comprising: It is the IV-IV cross-section perspective view of FIG. 第1実施形態の光源装置を示す図であって、図2のIV−IV断面図である。It is a figure which shows the light source device of 1st Embodiment, Comprising: It is IV-IV sectional drawing of FIG. 第1実施形態の光源装置を示す図であって、図4の部分拡大図である。It is a figure which shows the light source device of 1st Embodiment, Comprising: It is the elements on larger scale of FIG. 第1実施形態の半導体レーザー素子から射出されるレーザー光の光強度分布を示すグラフである。It is a graph which shows light intensity distribution of the laser beam inject | emitted from the semiconductor laser element of 1st Embodiment. 反射面に入射するレーザー光が全反射する条件について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conditions where the laser beam which injects into a reflective surface totally reflects. 入射角と屈折角との関係について示すグラフである。It is a graph shown about the relationship between an incident angle and a refraction angle. 第2実施形態の光源装置の部分を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the part of the light source device of 2nd Embodiment. 第3実施形態の光源装置の部分を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the part of the light source device of 3rd Embodiment. 第3実施形態のプリズムに反射膜および反射防止膜を形成する場合について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the case where a reflecting film and an antireflection film are formed in the prism of 3rd Embodiment.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る光源装置、およびプロジェクターについて説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、各構造における縮尺および数等を、実際の構造における縮尺および数等と異ならせる場合がある。   Hereinafter, a light source device and a projector according to an embodiment of the invention will be described with reference to the drawings. The scope of the present invention is not limited to the following embodiments, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. In the following drawings, the scale and number of each structure may be different from the scale and number of the actual structure in order to make each configuration easy to understand.

<第1実施形態>
図1は、本実施形態のプロジェクター1000の光学系を示す図である。プロジェクター1000は、図1に示すように、照明装置100と、色分離導光光学系200と、液晶光変調装置(光変調装置)400Rと、液晶光変調装置(光変調装置)400Gと、液晶光変調装置(光変調装置)400Bと、クロスダイクロイックプリズム500と、投射光学系600と、を備える。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram illustrating an optical system of a projector 1000 according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the projector 1000 includes an illumination device 100, a color separation light guide optical system 200, a liquid crystal light modulation device (light modulation device) 400R, a liquid crystal light modulation device (light modulation device) 400G, and a liquid crystal. A light modulation device (light modulation device) 400B, a cross dichroic prism 500, and a projection optical system 600 are provided.

照明装置100は、光源装置10と、集光光学系20と、波長変換素子30と、コリメート光学系60と、第1レンズアレイ120と、第2レンズアレイ130と、偏光変換素子140と、重畳レンズ150と、を備える。   The illumination device 100 includes a light source device 10, a condensing optical system 20, a wavelength conversion element 30, a collimating optical system 60, a first lens array 120, a second lens array 130, and a polarization conversion element 140. A lens 150.

光源装置10は、波長変換素子30の励起光として青色光B(発光強度のピーク:約445nm)を射出する。光源装置10については、後段において詳述する。   The light source device 10 emits blue light B (emission intensity peak: about 445 nm) as excitation light of the wavelength conversion element 30. The light source device 10 will be described in detail later.

集光光学系20は、第1レンズ21および第2レンズ22を備える。集光光学系20は、光源装置10から波長変換素子30までの光路中に配置され、全体として青色光Bを略集光した状態で後述する蛍光体層42に入射させる。第1レンズ21および第2レンズ22は、凸レンズで構成される。   The condensing optical system 20 includes a first lens 21 and a second lens 22. The condensing optical system 20 is disposed in the optical path from the light source device 10 to the wavelength conversion element 30 and causes the blue light B as a whole to be incident on a phosphor layer 42 described later in a substantially condensed state. The first lens 21 and the second lens 22 are constituted by convex lenses.

波長変換素子30は、モーター50と、円板40と、蛍光体層42と、ダイクロイック膜44と、を備える。円板40は、モーター50により回転可能である。円板40は、青色光Bを透過させる材料からなる。円板40の材料としては、例えば、石英ガラス、水晶、サファイア、光学ガラス、透明樹脂等を用いることができる。   The wavelength conversion element 30 includes a motor 50, a disc 40, a phosphor layer 42, and a dichroic film 44. The disc 40 can be rotated by a motor 50. The disc 40 is made of a material that transmits the blue light B. As a material of the disc 40, for example, quartz glass, quartz, sapphire, optical glass, transparent resin, or the like can be used.

蛍光体層42は、円板40上に円板40の周方向に沿って設けられている。蛍光体層42は、波長が約445nmの青色光によって励起され、赤色光と緑色光とからなる蛍光光を射出する。蛍光体層42は、例えば、YAG系蛍光体である(Y,Gd)(Al,Ga)12:Ceを含有する層からなる。 The phosphor layer 42 is provided on the disc 40 along the circumferential direction of the disc 40. The phosphor layer 42 is excited by blue light having a wavelength of about 445 nm, and emits fluorescent light composed of red light and green light. The phosphor layer 42 is composed of, for example, a layer containing (Y, Gd) 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce, which is a YAG phosphor.

ダイクロイック膜44は、蛍光体層42と円板40との間に設けられている。ダイクロイック膜44は、青色光Bを透過させ、蛍光体層42から射出される蛍光光を反射する。   The dichroic film 44 is provided between the phosphor layer 42 and the disc 40. The dichroic film 44 transmits the blue light B and reflects the fluorescent light emitted from the phosphor layer 42.

光源装置10からの青色光Bは、円板40側から蛍光体層42に入射する。本実施形態において蛍光体層42は、光源装置10からの青色光Bの一部を赤色光Rおよび緑色光Gからなる蛍光光に変換し、かつ、青色光Bの残りの一部を変換せずに通過させる。これにより、波長変換素子30は、赤色光Rと緑色光Gと青色光Bとを含む光を、光源装置10から射出された青色光Bが入射する側とは反対の側に向けて射出する。   The blue light B from the light source device 10 enters the phosphor layer 42 from the disk 40 side. In the present embodiment, the phosphor layer 42 converts part of the blue light B from the light source device 10 into fluorescent light composed of red light R and green light G, and converts the remaining part of the blue light B. Pass without. Thereby, the wavelength conversion element 30 emits the light including the red light R, the green light G, and the blue light B toward the side opposite to the side on which the blue light B emitted from the light source device 10 is incident. .

コリメート光学系60は、第1レンズ62と第2レンズ64とを備え、波長変換素子30からの光を略平行化する。第1レンズ62および第2レンズ64は、凸レンズからなる。   The collimating optical system 60 includes a first lens 62 and a second lens 64, and makes the light from the wavelength conversion element 30 substantially parallel. The first lens 62 and the second lens 64 are convex lenses.

第1レンズアレイ120は、コリメート光学系60からの光を複数の部分光束に分割するための複数の第1小レンズ122を有する。複数の第1小レンズ122は、照明光軸100axと直交する面内にマトリクス状に配列されている。   The first lens array 120 has a plurality of first small lenses 122 for dividing the light from the collimating optical system 60 into a plurality of partial light beams. The plurality of first small lenses 122 are arranged in a matrix in a plane orthogonal to the illumination optical axis 100ax.

第2レンズアレイ130は、第1レンズアレイ120の複数の第1小レンズ122に対応する複数の第2小レンズ132を有する。第2レンズアレイ130は、重畳レンズ150とともに、第1レンズアレイ120の各第1小レンズ122の像を各液晶光変調装置400R,400G,400Bの画像形成領域の近傍に結像させる。複数の第2小レンズ132は照明光軸100axに直交する面内にマトリクス状に配列されている。   The second lens array 130 has a plurality of second small lenses 132 corresponding to the plurality of first small lenses 122 of the first lens array 120. The second lens array 130 forms an image of each first small lens 122 of the first lens array 120 together with the superimposing lens 150 in the vicinity of the image forming area of each liquid crystal light modulator 400R, 400G, 400B. The plurality of second small lenses 132 are arranged in a matrix in a plane orthogonal to the illumination optical axis 100ax.

偏光変換素子140は、第1レンズアレイ120により分割された各部分光束を、直線偏光に変換する。偏光変換素子140は、波長変換素子30からの光に含まれる偏光成分のうち一方の直線偏光成分をそのまま透過させるとともに、他方の直線偏光成分を照明光軸100axに垂直な方向に反射する偏光分離層と、偏光分離層で反射された他方の直線偏光成分を照明光軸100axに平行な方向に反射する反射層と、反射層で反射された他方の直線偏光成分を一方の直線偏光成分に変換する位相差板と、を有している。   The polarization conversion element 140 converts each partial light beam divided by the first lens array 120 into linearly polarized light. The polarization conversion element 140 transmits one linear polarization component of the polarization component included in the light from the wavelength conversion element 30 as it is, and reflects the other linear polarization component in a direction perpendicular to the illumination optical axis 100ax. A reflection layer that reflects the other linearly polarized light component reflected by the polarization separation layer in a direction parallel to the illumination optical axis 100ax, and the other linearly polarized light component reflected by the reflective layer is converted into one linearly polarized light component. A phase difference plate.

重畳レンズ150は、偏光変換素子140からの各部分光束を集光して各液晶光変調装置400R,400G,400Bの画像形成領域の近傍に重畳させる。第1レンズアレイ120、第2レンズアレイ130および重畳レンズ150は、画像形成領域において、波長変換素子30からの光の面内光強度分布を均一にするインテグレーター光学系を構成する。   The superimposing lens 150 condenses the partial light beams from the polarization conversion element 140 and superimposes them in the vicinity of the image forming areas of the liquid crystal light modulation devices 400R, 400G, and 400B. The first lens array 120, the second lens array 130, and the superimposing lens 150 constitute an integrator optical system that makes the in-plane light intensity distribution of the light from the wavelength conversion element 30 uniform in the image forming region.

色分離導光光学系200は、ダイクロイックミラー210と、ダイクロイックミラー220と、反射ミラー230と、反射ミラー240と、反射ミラー250と、リレーレンズ260と、リレーレンズ270と、備える。色分離導光光学系200は、照明装置100からの光を赤色光R、緑色光Gおよび青色光Bに分離し、赤色光R、緑色光Gおよび青色光Bをそれぞれが対応する液晶光変調装置400R,400G,400Bに導光する。   The color separation light guide optical system 200 includes a dichroic mirror 210, a dichroic mirror 220, a reflection mirror 230, a reflection mirror 240, a reflection mirror 250, a relay lens 260, and a relay lens 270. The color separation light guide optical system 200 separates the light from the illumination device 100 into red light R, green light G and blue light B, and the liquid crystal light modulation to which the red light R, green light G and blue light B respectively correspond. The light is guided to the devices 400R, 400G, and 400B.

色分離導光光学系200と液晶光変調装置400Rとの間には、集光レンズ300Rが配置されている。色分離導光光学系200と液晶光変調装置400Gとの間には、集光レンズ300Gが配置されている。色分離導光光学系200と液晶光変調装置400Bとの間には、集光レンズ300Bが配置されている。   A condensing lens 300R is disposed between the color separation light guide optical system 200 and the liquid crystal light modulation device 400R. A condensing lens 300G is disposed between the color separation light guide optical system 200 and the liquid crystal light modulation device 400G. A condensing lens 300B is disposed between the color separation light guide optical system 200 and the liquid crystal light modulation device 400B.

ダイクロイックミラー210は、赤色光成分を通過させ、緑色光成分および青色光成分を反射するダイクロイックミラーである。ダイクロイックミラー220は、緑色光成分を反射して、青色光成分を通過させるダイクロイックミラーである。   The dichroic mirror 210 is a dichroic mirror that transmits a red light component and reflects a green light component and a blue light component. The dichroic mirror 220 is a dichroic mirror that reflects a green light component and transmits a blue light component.

ダイクロイックミラー210を通過した赤色光Rは、反射ミラー230で反射され、集光レンズ300Rを通過して赤色光用の液晶光変調装置400Rの画像形成領域に入射する。ダイクロイックミラー210で反射された緑色光Gは、ダイクロイックミラー220でさらに反射され、集光レンズ300Gを通過して緑色光用の液晶光変調装置400Gの画像形成領域に入射する。   The red light R that has passed through the dichroic mirror 210 is reflected by the reflection mirror 230, passes through the condenser lens 300R, and enters the image forming region of the liquid crystal light modulation device 400R for red light. The green light G reflected by the dichroic mirror 210 is further reflected by the dichroic mirror 220, passes through the condenser lens 300G, and enters the image forming area of the liquid crystal light modulation device 400G for green light.

ダイクロイックミラー220を通過した青色光Bは、リレーレンズ260、反射ミラー240、リレーレンズ270、反射ミラー250、集光レンズ300Bを経て青色光用の液晶光変調装置400Bの画像形成領域に入射する。   The blue light B that has passed through the dichroic mirror 220 enters the image forming area of the liquid crystal light modulation device 400B for blue light through the relay lens 260, the reflection mirror 240, the relay lens 270, the reflection mirror 250, and the condenser lens 300B.

液晶光変調装置400R、液晶光変調装置400Gおよび液晶光変調装置400Bは、入射された色光を画像情報に応じて変調してカラー画像を形成する。なお、図示を省略したが、各集光レンズ300R,300G,300Bと、各液晶光変調装置400R,400G,400Bとの間には、それぞれ入射側偏光板が配置されている。また、各液晶光変調装置400R,400G,400Bとクロスダイクロイックプリズム500との間には、それぞれ射出側偏光板が配置されている。   The liquid crystal light modulation device 400R, the liquid crystal light modulation device 400G, and the liquid crystal light modulation device 400B modulate the incident color light according to image information to form a color image. Although not shown, incident-side polarizing plates are disposed between the condenser lenses 300R, 300G, and 300B and the liquid crystal light modulators 400R, 400G, and 400B, respectively. In addition, an exit-side polarizing plate is disposed between each of the liquid crystal light modulation devices 400R, 400G, and 400B and the cross dichroic prism 500.

クロスダイクロイックプリズム500は、液晶光変調装置400R、液晶光変調装置400Gおよび液晶光変調装置400Bの各々から射出された画像光を合成してカラー画像を形成する。クロスダイクロイックプリズム500は、4つの直角プリズムを貼り合わせた平面視略正方形状をなし、直角プリズム同士を貼り合わせた略X字状の界面には、誘電体多層膜が形成されている。   Cross dichroic prism 500 combines the image light emitted from each of liquid crystal light modulation device 400R, liquid crystal light modulation device 400G, and liquid crystal light modulation device 400B to form a color image. The cross dichroic prism 500 has a substantially square shape in plan view in which four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film is formed on a substantially X-shaped interface in which the right-angle prisms are bonded together.

クロスダイクロイックプリズム500から射出されたカラー画像は、投射光学系600によって拡大投射され、スクリーンSCR上で画像を形成する。   The color image emitted from the cross dichroic prism 500 is enlarged and projected by the projection optical system 600 to form an image on the screen SCR.

次に、本実施形態の光源装置10について詳しく説明する。図2は、光源装置10を示す斜視図である。図3は、光源装置10を示す図であって、図2のIV−IV断面斜視図である。図4は、光源装置10を示す図であって、図2のIV−IV断面図である。図5は、光源装置10を示す図であって、図4の部分拡大図である。図5においては、透光性部材112の図示を省略している。   Next, the light source device 10 of this embodiment will be described in detail. FIG. 2 is a perspective view showing the light source device 10. FIG. 3 is a diagram showing the light source device 10, and is a cross-sectional perspective view taken along the line IV-IV in FIG. 4 is a view showing the light source device 10 and is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. FIG. 5 is a view showing the light source device 10 and is a partially enlarged view of FIG. In FIG. 5, illustration of the translucent member 112 is omitted.

光源装置10は、図1から図4に示すように、ベース基板11と、冷却器70と、複数の半導体レーザー素子110と、接合フレーム107と、複数の電極部109Aと、複数の電極部109Bと、接合部80と、透光性部材112と、複数のプリズム113と、を備える。   As shown in FIGS. 1 to 4, the light source device 10 includes a base substrate 11, a cooler 70, a plurality of semiconductor laser elements 110, a bonding frame 107, a plurality of electrode portions 109A, and a plurality of electrode portions 109B. A joining portion 80, a translucent member 112, and a plurality of prisms 113.

ベース基板11は、第1の面11a、および第1の面11aと逆側の第2の面11bを有する板状である。第1の面11aは、図2から図4において上側に示されるベース基板11の面である。第2の面11bは、図2から図4において下側に示される面である。図2から図4に示す、ベース基板11が接合フレーム107と接合部80によって接合された状態において、第1の面11aおよび第2の面11bは、平面状である。ベース基板11は、例えば、長方形板状である。   The base substrate 11 has a plate shape having a first surface 11a and a second surface 11b opposite to the first surface 11a. The first surface 11a is the surface of the base substrate 11 shown on the upper side in FIGS. The second surface 11b is a surface shown on the lower side in FIGS. In the state where the base substrate 11 is bonded to the bonding frame 107 and the bonding portion 80 as shown in FIGS. 2 to 4, the first surface 11a and the second surface 11b are planar. The base substrate 11 has, for example, a rectangular plate shape.

なお、適宜各図に示したXYZ直交座標系のうち、Z軸方向は、ベース基板11の厚み方向と平行な方向である。X軸方向およびY軸方向は、Z軸方向と直交し、かつ、互いに直交する方向である。X軸方向は、ベース基板11の長手方向と平行な方向である。Y軸方向は、ベース基板11の短手方向と平行な方向である。   In the XYZ orthogonal coordinate system shown in each drawing as appropriate, the Z-axis direction is a direction parallel to the thickness direction of the base substrate 11. The X-axis direction and the Y-axis direction are directions orthogonal to the Z-axis direction and orthogonal to each other. The X-axis direction is a direction parallel to the longitudinal direction of the base substrate 11. The Y-axis direction is a direction parallel to the short direction of the base substrate 11.

以下の説明においては、特に断りのない限り、ベース基板11の厚み方向(Z軸方向)と平行な方向を単に「厚み方向」と呼ぶ場合があり、ベース基板11の長手方向(X軸方向)と平行な方向を単に「長手方向」と呼ぶ場合があり、ベース基板11の短手方向(Y軸方向)と平行な方向を単に「短手方向」と呼ぶ場合がある。   In the following description, unless otherwise specified, the direction parallel to the thickness direction (Z-axis direction) of the base substrate 11 may be simply referred to as “thickness direction”, and the longitudinal direction (X-axis direction) of the base substrate 11 may be referred to. A direction parallel to the base plate 11 may be simply referred to as a “longitudinal direction”, and a direction parallel to the short side direction (Y-axis direction) of the base substrate 11 may be simply referred to as a “short side direction”.

ベース基板11には、ベース基板11を厚み方向(Z軸方向)に貫通する貫通孔11cが形成されている。貫通孔11cは、図2に示すように、ベース基板11の四隅にそれぞれ形成されている。貫通孔11cは、平面視で円形状である。貫通孔11cには、例えば、ベース基板11をプロジェクター1000の筐体等に固定するネジが通される。ベース基板11としては、半導体レーザー素子110の熱を効率的に排出するために、銅等の熱伝導性が高い金属を用いることが好ましい。   The base substrate 11 is formed with a through hole 11c that penetrates the base substrate 11 in the thickness direction (Z-axis direction). As shown in FIG. 2, the through holes 11 c are formed at the four corners of the base substrate 11. The through hole 11c has a circular shape in plan view. For example, a screw for fixing the base substrate 11 to the housing of the projector 1000 is passed through the through hole 11c. As the base substrate 11, it is preferable to use a metal having high thermal conductivity such as copper in order to efficiently discharge the heat of the semiconductor laser element 110.

冷却器70は、図1に示すように、ベース基板11の第2の面11bに固定され、ベース基板11を冷却する。本実施形態において冷却器70は、複数のフィンを有するヒートシンクである。なお、図2から図5においては、冷却器70の図示を省略している。   As shown in FIG. 1, the cooler 70 is fixed to the second surface 11 b of the base substrate 11 and cools the base substrate 11. In the present embodiment, the cooler 70 is a heat sink having a plurality of fins. Note that the cooler 70 is not shown in FIGS. 2 to 5.

複数の半導体レーザー素子110は、図2に示すように、第1の面11aに配置されている。複数の半導体レーザー素子110は、アレイ状に配置されている。本実施形態において半導体レーザー素子110は、短手方向(Y軸方向)に沿って5つの半導体レーザー素子110が配置された列が、長手方向(X軸方向)に沿って5列並ぶように配列されている。以下の説明においては、5つの半導体レーザー素子110が短手方向に沿って配置された各列を、発光素子列M1〜M5(図3参照)と呼ぶ。また、各発光素子列M1〜M5を区別しないときは、発光素子列M1〜M5を総称して、単に発光素子列Mと呼ぶ。   The plurality of semiconductor laser elements 110 are arranged on the first surface 11a as shown in FIG. The plurality of semiconductor laser elements 110 are arranged in an array. In the present embodiment, the semiconductor laser elements 110 are arranged so that five columns in which the five semiconductor laser elements 110 are arranged along the short direction (Y-axis direction) are arranged along the long direction (X-axis direction). Has been. In the following description, each column in which five semiconductor laser elements 110 are arranged along the short direction is referred to as light emitting element columns M1 to M5 (see FIG. 3). Moreover, when not distinguishing each light emitting element row | line | column M1-M5, the light emitting element row | line | columns M1-M5 are named generically and are only called the light emitting element row | line | column M.

本実施形態において半導体レーザー素子110の数は、合計25個である。複数の半導体レーザー素子110は、長手方向(X軸方向)および短手方向(Y軸方向)に沿って互いに所定の間隔をおいて配置されている。   In the present embodiment, the total number of semiconductor laser elements 110 is 25. The plurality of semiconductor laser elements 110 are arranged at predetermined intervals along the longitudinal direction (X-axis direction) and the short direction (Y-axis direction).

半導体レーザー素子110は、図5に示すように、第1の面11aに沿った第1方向にレーザー光Lを射出する。本実施形態において第1方向は、長手方向(X軸方向)である。半導体レーザー素子110は、サブマウント103と、レーザー光源102と、を備える。サブマウント103は、第1の面11a上に形成されている。サブマウント103は、例えば、平面視で矩形状である。サブマウント103の材質は、主に窒化アルミおよびアルミナ等のセラミックスである。   As shown in FIG. 5, the semiconductor laser element 110 emits laser light L in a first direction along the first surface 11a. In the present embodiment, the first direction is the longitudinal direction (X-axis direction). The semiconductor laser element 110 includes a submount 103 and a laser light source 102. The submount 103 is formed on the first surface 11a. The submount 103 has, for example, a rectangular shape in plan view. The material of the submount 103 is mainly ceramic such as aluminum nitride and alumina.

レーザー光源102は、サブマウント103上に実装されている。レーザー光源102が射出するレーザー光Lは、例えば、445nmの波長の青色光である。なお、レーザー光源102は、445nm以外の波長(例えば、460nm)の青色光を射出するレーザー光源であってもよい。   The laser light source 102 is mounted on the submount 103. The laser light L emitted from the laser light source 102 is, for example, blue light having a wavelength of 445 nm. The laser light source 102 may be a laser light source that emits blue light having a wavelength other than 445 nm (for example, 460 nm).

本実施形態においてレーザー光源102は、長手方向(X軸方向)の一方側(−X側)に向けてレーザー光Lを射出する。レーザー光源102におけるレーザー光Lが射出される光射出面102aは、例えば、サブマウント103における長手方向の一方側の側面103aと略一致している。   In the present embodiment, the laser light source 102 emits the laser light L toward one side (−X side) in the longitudinal direction (X-axis direction). For example, the light emission surface 102 a from which the laser light L is emitted from the laser light source 102 substantially coincides with the side surface 103 a on one side in the longitudinal direction of the submount 103.

レーザー光源102から射出されるレーザー光Lは、所定の拡がりを持って射出される。すなわち、レーザー光源102から射出されるレーザー光Lは、レーザー光源102の光軸LXに対して傾く複数のレーザー光を含む。レーザー光Lの光軸LXと直交する断面(YZ断面)形状は、例えば、光軸LXを中心とする円形状である。   The laser light L emitted from the laser light source 102 is emitted with a predetermined spread. In other words, the laser light L emitted from the laser light source 102 includes a plurality of laser lights inclined with respect to the optical axis LX of the laser light source 102. The cross section (YZ cross section) shape orthogonal to the optical axis LX of the laser light L is, for example, a circular shape centered on the optical axis LX.

なお、本明細書において、半導体レーザー素子が第1方向にレーザー光を射出するとは、所定の拡がりを持って半導体レーザー素子から射出されるレーザー光の光軸が第1方向と平行なことを含む。本実施形態では、半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lの光軸LXは、第1方向(X軸方向)と平行である。   In this specification, that the semiconductor laser element emits laser light in the first direction includes that the optical axis of the laser light emitted from the semiconductor laser element with a predetermined spread is parallel to the first direction. . In the present embodiment, the optical axis LX of the laser light L emitted from the semiconductor laser element 110 is parallel to the first direction (X-axis direction).

また、本明細書において、第1の面に沿った第1方向とは、第1の面と平行な方向に加えて、第1の面に対して所定角度範囲内で傾いた方向も含む。一例として、第1の面に沿った第1方向とは、第1の面に対して±15°範囲内程度で傾いた方向を含む。   In the present specification, the first direction along the first surface includes a direction inclined within a predetermined angle range with respect to the first surface in addition to a direction parallel to the first surface. As an example, the first direction along the first surface includes a direction tilted within a range of ± 15 ° with respect to the first surface.

接合フレーム107は、図4に示すように、第1の面11aに接合されている。より詳細には、接合フレーム107は、接合部80を介して、第1の面11aに接合されている。図2に示すように、接合フレーム107は、複数の半導体レーザー素子110を囲む枠状である。本実施形態において接合フレーム107は、ベース基板11の長手方向(X軸方向)に長い長方形枠状である。   As shown in FIG. 4, the joining frame 107 is joined to the first surface 11a. More specifically, the joining frame 107 is joined to the first surface 11 a via the joining portion 80. As shown in FIG. 2, the bonding frame 107 has a frame shape surrounding the plurality of semiconductor laser elements 110. In the present embodiment, the joining frame 107 has a rectangular frame shape that is long in the longitudinal direction (X-axis direction) of the base substrate 11.

接合フレーム107は、長手方向(X軸方向)に延在する一対の側壁107aと、短手方向(Y軸方向)に延在する一対の側壁107bと、を備える。一方側(+Y側)の側壁107aには、電極部109Aが設けられており、他方側(−Y側)の側壁107aには、電極部109Bが設けられている。電極部109Aと電極部109Bとは、それぞれ発光素子列M1〜M5ごとに、対となって設けられている。図示は省略するが、電極部109Aは、レーザー光源102の陽極に電気的に接続されており、電極部109Bは、レーザー光源102の陰極に電気的に接続されている。接合フレーム107の材質は、例えば、セラミックス、コバール等である。   The joining frame 107 includes a pair of side walls 107a extending in the longitudinal direction (X axis direction) and a pair of side walls 107b extending in the short direction (Y axis direction). An electrode portion 109A is provided on the side wall 107a on one side (+ Y side), and an electrode portion 109B is provided on the side wall 107a on the other side (−Y side). The electrode portion 109A and the electrode portion 109B are provided in pairs for each of the light emitting element arrays M1 to M5. Although illustration is omitted, the electrode portion 109A is electrically connected to the anode of the laser light source 102, and the electrode portion 109B is electrically connected to the cathode of the laser light source 102. The material of the joining frame 107 is, for example, ceramics or kovar.

接合部80は、図4に示すように、ベース基板11と接合フレーム107とを接合している。本実施形態において接合部80は、ベース基板11と接合フレーム107との間に介在している。接合部80は、例えば、ベース基板11と接合フレーム107とをロウ付けによって接合する際に形成される部分である。接合部80を構成するロウ材は、金属材料等の無機材料であることが好ましい。これは、接合時にアウトガスが発生しにくく、アウトガスが付着して半導体レーザー素子110が劣化することを抑制できるためである。本実施形態において接合部80を構成するロウ材は、例えば、銀ロウである。なお、ベース基板11と接合フレーム107との接合方法は、特に限定されず、ロウ付け以外のいかなる接合方法であってもよい。   As shown in FIG. 4, the bonding portion 80 bonds the base substrate 11 and the bonding frame 107. In the present embodiment, the bonding portion 80 is interposed between the base substrate 11 and the bonding frame 107. The joining portion 80 is a portion formed when joining the base substrate 11 and the joining frame 107 by brazing, for example. The brazing material constituting the joint 80 is preferably an inorganic material such as a metal material. This is because outgas is unlikely to occur during bonding, and it is possible to suppress the deterioration of the semiconductor laser element 110 due to the adhesion of outgas. In the present embodiment, the brazing material constituting the joint 80 is, for example, silver brazing. In addition, the joining method of the base substrate 11 and the joining frame 107 is not particularly limited, and any joining method other than brazing may be used.

透光性部材112は、複数の半導体レーザー素子110と対向し、接合フレーム107に固定されている。透光性部材112は、接合フレーム107におけるベース基板11と逆側(+Z側)の上面107cに固定されている。接合フレーム107とベース基板11とを固定する材料は、接合部80と同様に、金属材料等の無機材料であることが好ましい。これは、接合時にアウトガスが発生しにくく、アウトガスが付着して半導体レーザー素子110が劣化することを抑制できるためである。本実施形態において透光性部材112は、例えば、低融点ガラスを用いて接合フレーム107と接合されている。   The translucent member 112 faces the plurality of semiconductor laser elements 110 and is fixed to the bonding frame 107. The translucent member 112 is fixed to the upper surface 107 c of the joining frame 107 on the side opposite to the base substrate 11 (+ Z side). The material for fixing the bonding frame 107 and the base substrate 11 is preferably an inorganic material such as a metal material, like the bonding portion 80. This is because outgas is unlikely to occur during bonding, and it is possible to suppress the deterioration of the semiconductor laser element 110 due to the adhesion of outgas. In the present embodiment, the translucent member 112 is bonded to the bonding frame 107 using, for example, low melting point glass.

透光性部材112は、接合フレーム107の一方側(+Z側)の開口を閉塞している。これにより、ベース基板11と接合フレーム107と透光性部材112とによって、複数の半導体レーザー素子110が収納され、封止された収納空間Kが設けられている。収納空間Kには、例えば、不活性ガスまたは乾燥空気が充填されている。なお、収納空間Kは、減圧状態であってもよい。なお、減圧状態とは、通常の大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間の状態をいう。この定義において、その気体は不活性ガスまたは乾燥空気であってもよい。このように収納空間Kを封止することで、収納空間K内に水分または外気が入り込むことを抑制でき、半導体レーザー素子110が劣化することを抑制できる。   The translucent member 112 closes an opening on one side (+ Z side) of the joining frame 107. As a result, the base substrate 11, the bonding frame 107, and the translucent member 112 accommodate a plurality of semiconductor laser elements 110 and provide a sealed accommodation space K. The storage space K is filled with, for example, an inert gas or dry air. The storage space K may be in a reduced pressure state. The reduced pressure state refers to a state of a space filled with a gas having a pressure lower than the normal atmospheric pressure. In this definition, the gas may be an inert gas or dry air. By sealing the storage space K in this way, it is possible to suppress moisture or outside air from entering the storage space K, and it is possible to suppress deterioration of the semiconductor laser element 110.

透光性部材112は、図2に示すように、接合フレーム107の外形に沿った長方形状である。透光性部材112は、半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lを透過させる透光性基板からなる。透光性部材112の材質は、ガラス、石英、樹脂等である。   As shown in FIG. 2, the translucent member 112 has a rectangular shape along the outer shape of the joining frame 107. The translucent member 112 is made of a translucent substrate that transmits the laser light L emitted from the semiconductor laser element 110. The material of the translucent member 112 is glass, quartz, resin, or the like.

透光性部材112と接合フレーム107との間に別の部材(中間部材)が介在していてもよい。中間部材を用いる場合は、透光性部材112と中間部材とが例えば、低融点ガラスにより接合され、接合フレーム107と中間部材とが例えば、低融点ガラスにより接合される。   Another member (intermediate member) may be interposed between the translucent member 112 and the joining frame 107. When the intermediate member is used, the translucent member 112 and the intermediate member are bonded by, for example, low melting glass, and the bonding frame 107 and the intermediate member are bonded by, for example, low melting glass.

複数のプリズム113は、図4に示すように、透光性部材112のベース基板11側(−Z側)の下面112aに一体に形成されている。プリズム113は、図2に示すように、ベース基板11上に設けられた発光素子列M1〜M5ごとに設けられ、対応する発光素子列Mを構成する複数の半導体レーザー素子110から射出されたレーザー光Lの光路上に位置する。プリズム113は、発光素子列Mに沿って短手方向(Y軸方向)に延在する。図5に示すように、プリズム113における延在方向に直交する断面(ZX断面)形状は、例えば、三角形状である。   As shown in FIG. 4, the plurality of prisms 113 are integrally formed on the lower surface 112 a of the translucent member 112 on the base substrate 11 side (−Z side). As shown in FIG. 2, the prism 113 is provided for each of the light emitting element arrays M1 to M5 provided on the base substrate 11, and is emitted from a plurality of semiconductor laser elements 110 constituting the corresponding light emitting element array M. Located on the optical path of the light L. The prism 113 extends in the lateral direction (Y-axis direction) along the light emitting element array M. As shown in FIG. 5, the cross section (ZX cross section) shape orthogonal to the extending direction of the prism 113 is, for example, a triangular shape.

プリズム113は、レーザー光源102、すなわち半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lの光路上に配置されている。プリズム113は、半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lが入射する入射面113aと、入射面113aから入射したレーザー光Lの少なくとも一部を反射する反射面113bと、反射面113bで反射されたレーザー光Lがプリズム113から射出される射出面113cと、を有する。   The prism 113 is disposed on the optical path of the laser light L emitted from the laser light source 102, that is, the semiconductor laser element 110. The prism 113 is reflected by the incident surface 113a on which the laser beam L emitted from the semiconductor laser element 110 is incident, the reflecting surface 113b that reflects at least part of the laser beam L incident from the incident surface 113a, and the reflecting surface 113b. The laser beam L has an exit surface 113c from which the prism 113 exits.

入射面113aは、プリズム113における半導体レーザー素子110側(+X側)の面である。入射面113aは、レーザー光源102の光射出面102aと対向する。本実施形態において入射面113aは、第1の面11aに対して垂直で、かつ、長手方向(X軸方向)と直交する。図4に示すように、入射面113aの第1の面11aと逆側(+Z側)の端部は、透光性部材112の下面112aと接続されている。図示は省略するが、入射面113aには、反射防止膜が形成されている。   The incident surface 113a is a surface of the prism 113 on the semiconductor laser element 110 side (+ X side). The incident surface 113a faces the light emitting surface 102a of the laser light source 102. In the present embodiment, the incident surface 113a is perpendicular to the first surface 11a and orthogonal to the longitudinal direction (X-axis direction). As shown in FIG. 4, the end of the incident surface 113 a on the opposite side (+ Z side) to the first surface 11 a is connected to the lower surface 112 a of the translucent member 112. Although illustration is omitted, an antireflection film is formed on the incident surface 113a.

反射面113bは、図5に示すように、プリズム113における半導体レーザー素子110と逆側(−X側)の面である。反射面113bは、第1の面11aおよび入射面113aに対して傾く傾斜面である。反射面113bは、厚み方向(Z軸方向)における第1の面11aから離れる側(+Z側)に向かうに従って、長手方向(X軸方向)における半導体レーザー素子110から離れる側(−X側)に位置する。反射面113bの第1の面11a側(−Z側)の端部は、入射面113aの第1の面11a側の端部と接続されている。図4に示すように、反射面113bの第1の面11aと逆側(+Z側)の端部は、透光性部材112の下面112aと接続されている。   As shown in FIG. 5, the reflecting surface 113 b is a surface on the opposite side (−X side) of the semiconductor laser element 110 in the prism 113. The reflecting surface 113b is an inclined surface that is inclined with respect to the first surface 11a and the incident surface 113a. The reflective surface 113b is on the side (−X side) away from the semiconductor laser element 110 in the longitudinal direction (X-axis direction) as it goes to the side (+ Z side) away from the first surface 11a in the thickness direction (Z-axis direction). To position. An end of the reflecting surface 113b on the first surface 11a side (−Z side) is connected to an end of the incident surface 113a on the first surface 11a side. As shown in FIG. 4, the end of the reflecting surface 113 b opposite to the first surface 11 a (+ Z side) is connected to the lower surface 112 a of the translucent member 112.

反射面113bは、自然対数の底をeとしたとき、入射面113aからプリズム113に入射したレーザー光Lのうち、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lを全反射するように配置されている。中心強度とは、レーザー光Lの光強度の最大値である。レーザー光Lのビーム径を定義する場合、レーザー光Lのうち中心強度の1/e以上となる範囲のレーザー光Lの直径をビーム径とする方法がよく用いられる。すなわち、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lとは、半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lのうち、光源装置10から射出される光として有効に利用できるレーザー光Lである。 The reflection surface 113b totally reflects the laser light L whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity among the laser light L incident on the prism 113 from the incident surface 113a, where e is the base of the natural logarithm. Are arranged as follows. The center intensity is the maximum value of the light intensity of the laser light L. When defining the beam diameter of the laser beam L, a method is often used in which the diameter of the laser beam L in the range of 1 / e 2 or more of the center intensity of the laser beam L is used as the beam diameter. That is, the laser light L whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity is a laser light that can be effectively used as light emitted from the light source device 10 among the laser light L emitted from the semiconductor laser element 110. L.

図6は、半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lの光強度分布を示すグラフである。図6においては、縦軸はレーザー光Lの光強度を示しており、横軸は照射領域IA1の中心位置Cを中心とした径方向位置を示している。図6において縦軸に示すレーザー光Lの光強度は、レーザー光Lの最大光強度を1としたときの規格化強度である。   FIG. 6 is a graph showing the light intensity distribution of the laser light L emitted from the semiconductor laser element 110. In FIG. 6, the vertical axis indicates the light intensity of the laser light L, and the horizontal axis indicates the radial position about the center position C of the irradiation area IA1. The light intensity of the laser light L shown on the vertical axis in FIG. 6 is a normalized intensity when the maximum light intensity of the laser light L is 1.

レーザー光Lの光強度の分布は、図6に示すようにガウス分布となっている。レーザー光Lのうち光強度が最大光強度の1/eとなる部分が照射されている領域を、レーザー光Lの照射領域IA1とする。照射領域IA1は、図5に示すように、入射面113aにおけるレーザー光Lの照射領域である。本実施形態において照射領域IA1の中心位置Cでは光強度が最大である。すなわち、照射領域IA1の中心位置Cにおける光強度が、レーザー光Lの中心強度である。 The light intensity distribution of the laser light L is a Gaussian distribution as shown in FIG. An area irradiated with a portion of the laser light L where the light intensity is 1 / e 2 of the maximum light intensity is referred to as an irradiation area IA1 of the laser light L. The irradiation area IA1 is an irradiation area of the laser beam L on the incident surface 113a as shown in FIG. In the present embodiment, the light intensity is maximum at the center position C of the irradiation area IA1. That is, the light intensity at the center position C of the irradiation area IA1 is the center intensity of the laser light L.

図5においては、照射領域IA1を通るレーザー光Lのうち、照射領域IA1の第1の面11a側(−Z側)の端部を通るレーザー光Ldと、照射領域IA1の第1の面11aと逆側(+Z側)の端部を通るレーザー光Luと、照射領域IA1の中心位置Cを通るレーザー光Lcと、を示している。レーザー光Ld,Luは、光強度が中心強度の1/eとなるレーザー光である。レーザー光Lcは、光軸LXと重なり、光強度が中心強度、すなわち最大となるレーザー光である。 In FIG. 5, among the laser light L passing through the irradiation area IA1, the laser light Ld passing through the end of the irradiation area IA1 on the first surface 11a side (−Z side) and the first surface 11a of the irradiation area IA1. And a laser beam Lu passing through the end on the opposite side (+ Z side) and a laser beam Lc passing through the center position C of the irradiation area IA1. The laser beams Ld and Lu are laser beams whose light intensity is 1 / e 2 of the center intensity. The laser beam Lc is a laser beam that overlaps with the optical axis LX and has a maximum light intensity, that is, a maximum.

レーザー光Ldは、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lうち、反射面113bに対する入射角θ3が最も小さくなるレーザー光である。すなわち、レーザー光Ldが、反射面113bで全反射されるように、反射面113bを配置すれば、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lを反射面113bで全反射させることができる。 The laser beam Ld is a laser beam having the smallest incident angle θ3 with respect to the reflecting surface 113b among the laser beams L whose light intensity is 1 / e 2 or more of the center intensity. That is, if the reflecting surface 113b is arranged so that the laser beam Ld is totally reflected by the reflecting surface 113b, the laser beam L whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity is totally reflected by the reflecting surface 113b. be able to.

図7は、反射面113bに入射するレーザー光Lが全反射する条件について説明するための図である。図7において一点鎖線の矢印で示すように、反射面113bに対する入射角θ3が所定値よりも小さいと、レーザー光Lは、反射面113bで全反射せずに、屈折角θ4で反射面113bからプリズム113の外部に射出される。一方、図7において実線の矢印で示すように、入射角θ3が所定値以上の場合、レーザー光Lは、反射面113bで全反射する。   FIG. 7 is a diagram for explaining conditions under which the laser beam L incident on the reflecting surface 113b is totally reflected. As indicated by a dashed line arrow in FIG. 7, when the incident angle θ3 with respect to the reflecting surface 113b is smaller than a predetermined value, the laser light L is not totally reflected by the reflecting surface 113b but from the reflecting surface 113b at a refraction angle θ4. The light is emitted outside the prism 113. On the other hand, as indicated by a solid arrow in FIG. 7, when the incident angle θ3 is equal to or greater than a predetermined value, the laser light L is totally reflected by the reflecting surface 113b.

図8は、入射角θ3と屈折角θ4との関係について示すグラフである。図8において、横軸は入射角θ3を示しており、縦軸は屈折角θ4を示している。図8は、プリズム113の外部の雰囲気を空気とした場合の入射角θ3と屈折角θ4との関係を示している。図8において、空気の屈折率を1.0とし、プリズム113の屈折率を1.7とした。なお、プリズム113の外部の雰囲気とは、収納空間K内の雰囲気である。   FIG. 8 is a graph showing the relationship between the incident angle θ3 and the refraction angle θ4. In FIG. 8, the horizontal axis indicates the incident angle θ3, and the vertical axis indicates the refraction angle θ4. FIG. 8 shows the relationship between the incident angle θ3 and the refraction angle θ4 when the atmosphere outside the prism 113 is air. In FIG. 8, the refractive index of air is 1.0, and the refractive index of the prism 113 is 1.7. The atmosphere outside the prism 113 is the atmosphere in the storage space K.

図8に示すように、入射角θ3が約36°となった場合に、屈折角θ4が90°となることが分かった。これにより、図8の条件の場合、レーザー光Ldの反射面113bに対する入射角θ3が約36°以上となるように反射面113bを配置することで、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lを反射面113bで全反射させることができることが分かった。このように、プリズム113の屈折率、およびプリズム113の外部の雰囲気、すなわち収納空間K内の雰囲気の屈折率等に応じて、レーザー光Ldの入射角θ3の条件が得られる。 As shown in FIG. 8, when the incident angle θ3 is about 36 °, the refraction angle θ4 is 90 °. Thus, in the case of the condition of FIG. 8, the light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity by arranging the reflecting surface 113b so that the incident angle θ3 of the laser light Ld with respect to the reflecting surface 113b is about 36 ° or more. It was found that the laser beam L can be totally reflected by the reflecting surface 113b. As described above, the condition of the incident angle θ3 of the laser beam Ld is obtained according to the refractive index of the prism 113 and the atmosphere outside the prism 113, that is, the refractive index of the atmosphere in the storage space K.

図8の条件に基づいて反射面113bの配置をする場合、一例として、入射面113aに対する反射面113bの傾斜角度θR(図5参照)を45°とする。このとき、レーザー光Ldの放射角θ1は、8.5°とする。入射面113aからプリズム113に入射するレーザー光Ldは、入射面113aにおいて屈折角θ2で屈折する。放射角θ1が8.5°の場合、屈折角θ2は、例えば、5°である。このように屈折したレーザー光Ldは、40°の入射角θ3で反射面113bに入射する。そのため、図8を用いて示した全反射条件を満たすこととなり、レーザー光Ldは、反射面113bで全反射される。   When the reflective surface 113b is arranged based on the conditions of FIG. 8, as an example, the inclination angle θR (see FIG. 5) of the reflective surface 113b with respect to the incident surface 113a is set to 45 °. At this time, the radiation angle θ1 of the laser beam Ld is set to 8.5 °. The laser beam Ld incident on the prism 113 from the incident surface 113a is refracted at the refraction angle θ2 on the incident surface 113a. When the radiation angle θ1 is 8.5 °, the refraction angle θ2 is, for example, 5 °. The laser light Ld refracted in this way enters the reflecting surface 113b at an incident angle θ3 of 40 °. For this reason, the total reflection condition shown in FIG. 8 is satisfied, and the laser beam Ld is totally reflected by the reflection surface 113b.

図5に示すように、レーザー光Lc,Luは、レーザー光Ldよりも大きい入射角θ3で反射面113bに入射することとなるため、レーザー光Ldが反射面113bで全反射する場合、レーザー光Lc,Luも、反射面113bで全反射する。本実施形態においては、光軸LXと重なるレーザー光Lcが、45°の入射角θ3で反射面113bに入射するように設計されている。そのため、レーザー光Lcは、反射面113bで90°折り曲げられて反射される。これにより、光源装置10において、半導体レーザー素子110から射出されたレーザー光Lを、第1の面11aと垂直な方向(Z軸方向)に射出することができる。反射面113bで反射されたレーザー光Lは、射出面113cを介してプリズム113から射出される。   As shown in FIG. 5, since the laser beams Lc and Lu enter the reflecting surface 113b at an incident angle θ3 larger than the laser beam Ld, when the laser beam Ld is totally reflected by the reflecting surface 113b, the laser beam Lc and Lu are also totally reflected by the reflecting surface 113b. In the present embodiment, the laser beam Lc overlapping the optical axis LX is designed to enter the reflecting surface 113b at an incident angle θ3 of 45 °. Therefore, the laser beam Lc is reflected by being bent by 90 ° on the reflecting surface 113b. Thereby, in the light source device 10, the laser light L emitted from the semiconductor laser element 110 can be emitted in a direction (Z-axis direction) perpendicular to the first surface 11a. The laser beam L reflected by the reflecting surface 113b is emitted from the prism 113 through the emitting surface 113c.

なお、反射面113bは、光強度が中心強度の1/eよりも小さいレーザー光を全反射してもよいし、全反射しなくてもよい。 The reflection surface 113b may totally reflect the laser light whose light intensity is smaller than 1 / e 2 of the center intensity, or may not be totally reflected.

射出面113cは、プリズム113の第1の面11aと逆側(+Z側)の面である。射出面113cは、第1の面11aと平行で、入射面113aと直交する。射出面113cは、入射面113aの第1の面11aと逆側(+Z側)の端部と、反射面113bの第1の面11aと逆側(+Z側)の端部と、を接続する。図4に示すように、射出面113cは、透光性部材112の下面112aと接触する。本実施形態では、プリズム113は透光性部材112と一体に形成されているため、射出面113cは、透光性部材112とプリズム113との仮想的な境界面である。   The exit surface 113c is a surface on the side opposite to the first surface 11a of the prism 113 (+ Z side). The exit surface 113c is parallel to the first surface 11a and orthogonal to the entrance surface 113a. The exit surface 113c connects the end of the entrance surface 113a opposite to the first surface 11a (+ Z side) and the end of the reflection surface 113b opposite to the first surface 11a (+ Z side). . As shown in FIG. 4, the emission surface 113 c is in contact with the lower surface 112 a of the translucent member 112. In the present embodiment, since the prism 113 is formed integrally with the translucent member 112, the exit surface 113 c is a virtual boundary surface between the translucent member 112 and the prism 113.

図5においては、透光性部材112の図示を省略しており、射出面113cにおいてレーザー光Ld,Luが屈折されて外部に射出されるように示しているが、本実施形態の場合、実際には、レーザー光Lは、射出面113cから透光性部材112に入射され、レーザー光Ld,Luは、透光性部材112のプリズム113と逆側(+Z側)の上面112bにおいて屈折されて、光源装置10の外部に射出される。   In FIG. 5, the illustration of the translucent member 112 is omitted, and the laser light Ld and Lu are shown to be refracted and emitted to the outside on the emission surface 113 c. The laser beam L is incident on the light transmissive member 112 from the exit surface 113c, and the laser beams Ld and Lu are refracted on the upper surface 112b opposite to the prism 113 of the light transmissive member 112 (+ Z side). And emitted outside the light source device 10.

本実施形態によれば、プリズム113がレーザー光Lのうち光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lを全反射するように配置された反射面113bを有している。そのため、反射面113bの傾斜角度θRを設計することのみで、容易に放射角θ1が異なる複数のレーザー光を反射させることができる。また、反射面113bによる全反射条件は、レーザー光Lの波長によっては、ほぼ変化することなく、レーザー光Lの波長が所定の波長から変化した場合であっても反射面113bの反射率が低下することを抑制できる。これにより、半導体レーザー素子110から射出されたレーザー光Lのうち反射されない光を低減でき、光源装置10の光利用効率が低下することを抑制できる。 According to the present embodiment, the prism 113 has the reflecting surface 113b arranged so as to totally reflect the laser light L of which the light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity. Therefore, it is possible to easily reflect a plurality of laser beams having different radiation angles θ1 only by designing the inclination angle θR of the reflecting surface 113b. Further, the total reflection condition by the reflection surface 113b does not substantially change depending on the wavelength of the laser light L, and the reflectance of the reflection surface 113b is lowered even when the wavelength of the laser light L is changed from a predetermined wavelength. Can be suppressed. Thereby, the light which is not reflected among the laser beams L emitted from the semiconductor laser element 110 can be reduced, and the light use efficiency of the light source device 10 can be suppressed from decreasing.

また、本実施形態のように、半導体レーザー素子110が複数配置されている場合、各半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lの波長のバラツキが大きくなりやすく、各半導体レーザー素子110から射出されるレーザー光Lの波長のバラツキに対応して誘電体多層膜を形成することは、より困難である。これに対して、本実施形態によれば、レーザー光Lの波長によることなく、レーザー光Lを全反射することができる。すなわち、本実施形態による効果は、本実施形態の光源装置10のように、半導体レーザー素子110が複数配置される光源装置において特に大きく得られる。   In addition, when a plurality of semiconductor laser elements 110 are arranged as in the present embodiment, the wavelength variation of the laser light L emitted from each semiconductor laser element 110 tends to be large, and the laser light emitted from each semiconductor laser element 110 is emitted. It is more difficult to form a dielectric multilayer film corresponding to variations in the wavelength of the laser beam L. On the other hand, according to the present embodiment, the laser light L can be totally reflected without depending on the wavelength of the laser light L. That is, the effect of the present embodiment is particularly significant in a light source device in which a plurality of semiconductor laser elements 110 are arranged like the light source device 10 of the present embodiment.

なお、本実施形態の光源装置10は、半導体レーザー素子110を1つのみ備える構成であってもよい。   Note that the light source device 10 of the present embodiment may be configured to include only one semiconductor laser element 110.

<第2実施形態>
第2実施形態は、第1実施形態に対して、光学部材713が設けられている点において異なる。なお、上記実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。
Second Embodiment
The second embodiment differs from the first embodiment in that an optical member 713 is provided. In addition, about the structure similar to the said embodiment, description may be abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol suitably.

図9は、本実施形態の光源装置1010の部分を示す断面図である。図9においては、透光性部材112の図示を省略している。図9に示すように、光源装置1010は、光学部材713を備える。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing a portion of the light source device 1010 of the present embodiment. In FIG. 9, the illustration of the translucent member 112 is omitted. As shown in FIG. 9, the light source device 1010 includes an optical member 713.

光学部材713は、プリズム113のベース基板11と逆側(+Z側)に配置されている。図示は省略するが、光学部材713は、例えば、短手方向(Y軸方向)に延びる角柱状の部材である。光学部材713の延在方向と直交する断面(ZX断面)形状は、例えば、三角形状である。本実施形態において光学部材713は、例えば、プリズムである。   The optical member 713 is disposed on the opposite side (+ Z side) of the base substrate 11 of the prism 113. Although not shown, the optical member 713 is, for example, a prismatic member extending in the short direction (Y-axis direction). The cross section (ZX cross section) shape orthogonal to the extending direction of the optical member 713 is, for example, a triangular shape. In the present embodiment, the optical member 713 is, for example, a prism.

光学部材713は、収納空間K内に配置されていてもよいし、収納空間Kの外側に配置されていてもよい。光学部材713が収納空間K内に配置される場合、光学部材713は、例えば、透光性部材112の収納空間K側(−Z側)の下面112aに固定される。この場合、プリズム113は、透光性部材112と離れて形成されていてもよい。また、光学部材713が収納空間Kの外側に配置される場合、光学部材713は、例えば、透光性部材112の上面112bに固定される。光学部材713は、透光性部材112と一体に形成されていてもよいし、別体に形成されていてもよい。   The optical member 713 may be disposed in the storage space K or may be disposed outside the storage space K. When the optical member 713 is disposed in the storage space K, the optical member 713 is fixed to, for example, the lower surface 112a of the translucent member 112 on the storage space K side (−Z side). In this case, the prism 113 may be formed apart from the translucent member 112. When the optical member 713 is disposed outside the storage space K, the optical member 713 is fixed to the upper surface 112b of the translucent member 112, for example. The optical member 713 may be formed integrally with the translucent member 112 or may be formed separately.

光学部材713は、第2の入射面713aと、第2の射出面713bと、を有する。第2の入射面713aは、光学部材713のプリズム113側(−Z側)の面である。第2の入射面713aは、例えば、第1の面11aと平行な面であり、プリズム113の射出面113cと対向している。   The optical member 713 has a second incident surface 713a and a second exit surface 713b. The second incident surface 713a is a surface of the optical member 713 on the prism 113 side (−Z side). The second incident surface 713a is, for example, a surface parallel to the first surface 11a and faces the exit surface 113c of the prism 113.

第2の射出面713bは、光学部材713のプリズム113と逆側(+Z側)の面である。第2の射出面713bは、第2の入射面713aに対して傾く傾斜面である。第2の射出面713bは、長手方向(X軸方向)における半導体レーザー素子110に近づく側(+X側)に向かうに従って、厚み方向(Z軸方向)における第1の面11aから離れる側(+Z側)に位置する。第2の射出面713bにおける長手方向の半導体レーザー素子110と逆側(−X側)の端部は、第2の入射面713aにおける長手方向の半導体レーザー素子110と逆側の端部と接続されている。   The second exit surface 713b is a surface on the opposite side (+ Z side) of the prism 113 of the optical member 713. The second exit surface 713b is an inclined surface that is inclined with respect to the second entrance surface 713a. The second emission surface 713b is a side (+ Z side) that is further away from the first surface 11a in the thickness direction (Z-axis direction) toward the side (+ X side) closer to the semiconductor laser element 110 in the longitudinal direction (X-axis direction). ). The end of the second emission surface 713b opposite to the semiconductor laser element 110 in the longitudinal direction (−X side) is connected to the end of the second incident surface 713a opposite to the semiconductor laser element 110 in the longitudinal direction. ing.

光学部材713は、プリズム113の反射面113bによって全反射された後にプリズム113から射出されたレーザー光Lの進行方向を変化させる。より具体的には、プリズム113の射出面113cから射出されたレーザー光Lは、第2の入射面713aから光学部材713に入射する。光学部材713に入射したレーザー光Lは、第2の入射面713aおよび第2の射出面713bで屈折され、進行方向が変化させられる。本実施形態においては、プリズム113の射出面113cから射出されるレーザー光Lの進行方向は、第1の面11aに垂直な方向(Z軸方向)に対して傾いた方向である。プリズム113の射出面113cから射出されたレーザー光Lは、光学部材713によって、第1の面11aに垂直な方向に変化させられる。   The optical member 713 changes the traveling direction of the laser light L emitted from the prism 113 after being totally reflected by the reflecting surface 113b of the prism 113. More specifically, the laser light L emitted from the exit surface 113c of the prism 113 enters the optical member 713 from the second entrance surface 713a. The laser light L incident on the optical member 713 is refracted by the second incident surface 713a and the second exit surface 713b, and the traveling direction is changed. In the present embodiment, the traveling direction of the laser light L emitted from the emission surface 113c of the prism 113 is a direction inclined with respect to a direction (Z-axis direction) perpendicular to the first surface 11a. The laser light L emitted from the emission surface 113c of the prism 113 is changed in a direction perpendicular to the first surface 11a by the optical member 713.

光源装置1010のその他の構成は、第1実施形態の光源装置10の構成と同様である。   Other configurations of the light source device 1010 are the same as the configurations of the light source device 10 of the first embodiment.

例えば、プリズム113の反射面113bを、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光Lを全反射するように配置すると、プリズム113の屈折率およびレーザー光Lの放射角θ1等によっては、射出面113cから射出されるレーザー光Lの進行方向を所望の方向にできない場合がある。この場合、光源装置から射出されるレーザー光Lの進行方向を所望の方向にできず、光源装置の光学特性が低下する場合がある。なお、本実施形態の場合、所望の方向とは、例えば、第1の面11aと垂直な方向である。 For example, when the reflecting surface 113b of the prism 113 is arranged so as to totally reflect the laser light L whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity, the refractive index of the prism 113 and the radiation angle θ1 of the laser light L are In some cases, the traveling direction of the laser light L emitted from the emission surface 113c cannot be set to a desired direction. In this case, the traveling direction of the laser light L emitted from the light source device cannot be set to a desired direction, and the optical characteristics of the light source device may deteriorate. In the present embodiment, the desired direction is, for example, a direction perpendicular to the first surface 11a.

これに対して、本実施形態によれば、光学部材713によって、プリズム113から射出されたレーザー光Lの進行方向を変化させることができるため、射出面113cから射出されるレーザー光Lの進行方向を所望の方向にできない場合であっても、光源装置1010から射出されるレーザー光Lの進行方向を所望の方向にすることができる。したがって、本実施形態によれば、光学特性に優れた光源装置1010が得られる。   On the other hand, according to this embodiment, the traveling direction of the laser light L emitted from the prism 113 can be changed by the optical member 713, and therefore the traveling direction of the laser light L emitted from the emission surface 113c. Even when the desired direction cannot be set, the traveling direction of the laser light L emitted from the light source device 1010 can be set to the desired direction. Therefore, according to the present embodiment, the light source device 1010 having excellent optical characteristics can be obtained.

なお、本実施形態において、光学部材713は、プリズム113から射出されたレーザー光Lの進行方向を変化させられるならば、特に限定されない。光学部材713は、例えば、反射板であってもよいし、レンズであってもよい。   In the present embodiment, the optical member 713 is not particularly limited as long as the traveling direction of the laser light L emitted from the prism 113 can be changed. The optical member 713 may be a reflecting plate or a lens, for example.

<第3実施形態>
第3実施形態は、少なくとも一対のプリズムおよび半導体レーザー素子が互いに対向する点において、第1実施形態と異なる。なお、上記実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。
<Third Embodiment>
The third embodiment differs from the first embodiment in that at least a pair of prisms and a semiconductor laser element face each other. In addition, about the structure similar to the said embodiment, description may be abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol suitably.

図10は、本実施形態の光源装置2010の部分を示す断面図である。図10に示すように、光源装置2010において、半導体レーザー素子は、第1の半導体レーザー素子810と、第2の半導体レーザー素子910と、を含む。   FIG. 10 is a cross-sectional view showing a portion of the light source device 2010 of the present embodiment. As shown in FIG. 10, in the light source device 2010, the semiconductor laser element includes a first semiconductor laser element 810 and a second semiconductor laser element 910.

第1の半導体レーザー素子810は、第1実施形態において説明した半導体レーザー素子110と同様である。第2の半導体レーザー素子910は、長手方向(X軸方向)に反転して配置されている点を除いて、第1実施形態において説明した半導体レーザー素子110と同様である。   The first semiconductor laser element 810 is the same as the semiconductor laser element 110 described in the first embodiment. The second semiconductor laser element 910 is the same as the semiconductor laser element 110 described in the first embodiment, except that the second semiconductor laser element 910 is disposed so as to be reversed in the longitudinal direction (X-axis direction).

第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とは、互いに逆向きにレーザー光Lを射出する。本実施形態において第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とは、互いに対向する向きにレーザー光Lを射出する。第1の半導体レーザー素子810は、第1実施形態の半導体レーザー素子110と同様に、長手方向(X軸方向)の一方側(−X側)に向けてレーザー光Lを射出する。第2の半導体レーザー素子910は、長手方向(X軸方向)の他方側(+X側)に向けてレーザー光Lを射出する。   The first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 emit laser light L in opposite directions. In the present embodiment, the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 emit laser light L in a direction facing each other. The first semiconductor laser element 810 emits laser light L toward one side (−X side) in the longitudinal direction (X-axis direction), similarly to the semiconductor laser element 110 of the first embodiment. The second semiconductor laser element 910 emits laser light L toward the other side (+ X side) in the longitudinal direction (X-axis direction).

光源装置2010において、プリズムは、第1のプリズム813と、第2のプリズム913と、を含む。第1のプリズム813は、第1実施形態において説明したプリズム113と同様である。第2のプリズム913は、長手方向(X軸方向)に反転して配置されている点を除いて、第1実施形態において説明したプリズム113と同様である。第1のプリズム813と第2のプリズム913とは、透光性部材112と一体に形成されている。   In the light source device 2010, the prism includes a first prism 813 and a second prism 913. The first prism 813 is the same as the prism 113 described in the first embodiment. The second prism 913 is the same as the prism 113 described in the first embodiment, except that the second prism 913 is arranged so as to be reversed in the longitudinal direction (X-axis direction). The first prism 813 and the second prism 913 are formed integrally with the translucent member 112.

第1のプリズム813には、入射面813aから、第1の半導体レーザー素子810から射出されるレーザー光Lが入射する。第2のプリズム913には、入射面913aから、第2の半導体レーザー素子910から射出されるレーザー光Lが入射する。第1のプリズム813の入射面813aと第2のプリズム913の入射面913aとは、互いに逆側に臨む。本実施形態において、入射面813aは、第2のプリズム913と逆側(+X側)に臨み、入射面913aは、第1のプリズム813と逆側(−X側)に臨んでいる。すなわち、本実施形態において、入射面813aと入射面913aとは、互いに対向しないように配置されている。   The laser light L emitted from the first semiconductor laser element 810 is incident on the first prism 813 from the incident surface 813a. Laser light L emitted from the second semiconductor laser element 910 is incident on the second prism 913 from the incident surface 913a. The incident surface 813a of the first prism 813 and the incident surface 913a of the second prism 913 are opposite to each other. In the present embodiment, the incident surface 813a faces the opposite side (+ X side) of the second prism 913, and the incident surface 913a faces the opposite side (−X side) of the first prism 813. That is, in the present embodiment, the incident surface 813a and the incident surface 913a are arranged so as not to face each other.

第1のプリズム813に入射したレーザー光Lは、第1実施形態と同様に、反射面813bによって全反射される。第2のプリズム913に入射したレーザー光Lは、第1実施形態と同様に、反射面913bによって全反射される。本実施形態において、第1のプリズム813の反射面813bと第2のプリズム913の反射面913bとは、互いに対向している。   The laser beam L incident on the first prism 813 is totally reflected by the reflecting surface 813b as in the first embodiment. The laser beam L incident on the second prism 913 is totally reflected by the reflecting surface 913b, as in the first embodiment. In the present embodiment, the reflecting surface 813b of the first prism 813 and the reflecting surface 913b of the second prism 913 are opposed to each other.

図11は、本実施形態のプリズムに反射膜および反射防止膜を形成する場合について説明する説明図である。図11に示すように、本実施形態においては、第2のプリズム913の反射面913bの法線方向(図の矢印の方向)に沿って第2のプリズム913の反射面913bを視たときに、第1のプリズム813の入射面813aの少なくとも一部を視認可能である。本実施形態では、第1のプリズム813の入射面813aの全体が視認可能である。   FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining a case where a reflection film and an antireflection film are formed on the prism of this embodiment. As shown in FIG. 11, in the present embodiment, when the reflecting surface 913b of the second prism 913 is viewed along the normal direction (the direction of the arrow in the drawing) of the reflecting surface 913b of the second prism 913. At least part of the incident surface 813a of the first prism 813 can be visually recognized. In the present embodiment, the entire incident surface 813a of the first prism 813 is visible.

なお、本明細書において第1のプリズムの入射面の少なくとも一部を視認可能であるとは、直接的に入射面を視認可能な場合と、入射面に反射防止膜等が形成されて、間接的に入射面を視認可能な場合、すなわち直接的には反射防止膜等が視認可能である場合と、を含む。   Note that in this specification, the fact that at least a part of the incident surface of the first prism can be visually recognized means that the incident surface can be visually recognized directly, and that an antireflection film or the like is formed on the incident surface. The case where the incident surface can be visually recognized, that is, the case where the antireflection film or the like is directly visible is included.

光源装置2010のその他の構成は、第1実施形態の光源装置10の構成と同様である。   Other configurations of the light source device 2010 are the same as the configurations of the light source device 10 of the first embodiment.

例えば、図11に示すように、各反射面に反射膜881を形成する場合、例えば、各反射面の法線方向に沿って、各反射面に反射膜881を構成する物質を蒸着させる。図11の矢印は、第2のプリズム913の反射面913bの法線方向を示しており、反射面913bに反射膜881を形成する場合の蒸着方向を示している。各反射面の法線方向に沿って、各反射面に反射膜881を構成する物質を蒸着させることで、均一な反射膜を形成しやすい。   For example, as shown in FIG. 11, when the reflective film 881 is formed on each reflective surface, for example, a substance constituting the reflective film 881 is deposited on each reflective surface along the normal direction of each reflective surface. The arrow in FIG. 11 indicates the normal direction of the reflective surface 913b of the second prism 913, and indicates the vapor deposition direction when the reflective film 881 is formed on the reflective surface 913b. A uniform reflective film can be easily formed by depositing a material constituting the reflective film 881 on each reflective surface along the normal direction of each reflective surface.

ここで、本実施形態のように、あるプリズムの反射面を法線方向に沿って視たときに、他のプリズムの入射面が視認可能である場合、あるプリズムの反射面に反射膜881を蒸着させる際に、他のプリズムの入射面にマスキングを施す必要がある。具体的には、図11に示すように、第2のプリズム913の反射面913bに反射膜881を形成する場合、反射面913bを法線方向に沿って視たときに視認可能な第1のプリズム813の入射面813aにはマスキングを施す必要がある。   Here, as in this embodiment, when the reflecting surface of a certain prism is viewed along the normal direction, the incident surface of another prism is visible, and the reflecting film 881 is formed on the reflecting surface of a certain prism. When vapor deposition is performed, it is necessary to mask the incident surface of another prism. Specifically, as shown in FIG. 11, when the reflective film 881 is formed on the reflective surface 913b of the second prism 913, the first visible when the reflective surface 913b is viewed along the normal direction. It is necessary to mask the incident surface 813a of the prism 813.

以上のように、あるプリズムの反射面を法線方向に沿って視たときに、他のプリズムの入射面が視認可能である場合に、反射膜881によってレーザー光Lを反射させようとすると、反射膜881の形成において、それぞれマスキングを施す手間が掛かり、光源装置の製造の手間およびコストが増大する問題があった。   As described above, when the incident surface of another prism is visible when the reflecting surface of a certain prism is viewed along the normal direction, when the laser beam L is reflected by the reflecting film 881, In the formation of the reflective film 881, there is a problem in that it takes time and effort to perform masking, which increases the labor and cost of manufacturing the light source device.

これに対して、本実施形態によれば、反射面813b,913bを、各プリズムに入射したレーザー光Lを全反射するように配置することで、反射膜881を形成することなく、レーザー光Lを反射できる。そのため、反射膜881を形成する手間を削減でき、光源装置2010の製造の手間およびコストが増大することを抑制できる。   On the other hand, according to this embodiment, the reflecting surfaces 813b and 913b are arranged so as to totally reflect the laser light L incident on each prism, so that the laser light L can be formed without forming the reflective film 881. Can be reflected. Therefore, it is possible to reduce the time and labor for forming the reflective film 881, and to suppress the labor and cost for manufacturing the light source device 2010.

また、本実施形態のように、第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とが互いに逆向きにレーザー光Lを射出し、各プリズムの各反射面813b,913bが互いに対向する場合、蒸着方向に沿って視て反射面と入射面とが同時に視認されやすい。そのため、上述した反射膜881を形成する手間を削減できる効果は、第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とが互いに逆向きにレーザー光Lを射出し、各プリズムの各反射面813b,913bが互いに対向する場合に、特に大きい。   Further, as in this embodiment, the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 emit laser light L in opposite directions, and the reflecting surfaces 813b and 913b of each prism face each other. In this case, the reflecting surface and the incident surface are easily visible at the same time when viewed along the vapor deposition direction. Therefore, the effect of reducing the labor for forming the reflection film 881 described above is that the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 emit laser light L in opposite directions, and each reflection of each prism is reflected. This is particularly large when the surfaces 813b and 913b face each other.

なお、本実施形態の光源装置2010は、複数の半導体レーザー素子として、第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とをそれぞれ1つずつのみ備える構成であってもよい。また、複数の半導体レーザー素子は、一対の第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とを少なくとも一対含んでいればよい。   Note that the light source device 2010 of the present embodiment may be configured to include only one each of the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 as the plurality of semiconductor laser elements. The plurality of semiconductor laser elements may include at least a pair of the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910.

また、第2のプリズム913の反射面913bの法線方向に沿って第2のプリズム913の反射面913bを視たときに、第1のプリズム813の入射面813aの少なくとも一部を視認可能であれば、第1のプリズム813と第2のプリズム913とが、各入射面および各反射面が同じ向きを向くように配置されてもよい。この場合、第1の半導体レーザー素子810と第2の半導体レーザー素子910とは、互いに同じに向きにレーザー光Lを射出してもよい。また、この場合、例えば、各プリズムの反射面および入射面の第1の面11aに対する角度は、互いに異なっていてもよい。   Further, when the reflecting surface 913b of the second prism 913 is viewed along the normal direction of the reflecting surface 913b of the second prism 913, at least a part of the incident surface 813a of the first prism 813 can be visually recognized. If present, the first prism 813 and the second prism 913 may be arranged such that each incident surface and each reflection surface face the same direction. In this case, the first semiconductor laser element 810 and the second semiconductor laser element 910 may emit laser light L in the same direction. In this case, for example, the angles of the reflecting surface and the incident surface of each prism with respect to the first surface 11a may be different from each other.

さらに、第1の半導体レーザー素子810は、長手方向(X軸方向)の他方側(+X側)に向けてレーザー光Lを射出し、第2の半導体レーザー素子910は、長手方向(X軸方向)の一方側(−X側)に向けてレーザー光Lを射出してもよい。このとき、第1のプリズム813の反射面813bと第2のプリズム913の反射面913bとは、互いに逆側に臨む。すなわち、反射面813bは、第2のプリズム913と逆側(+X側)に臨み、反射面913bは、第1のプリズム813と逆側(−X側)に臨んでいる。したがって、反射面813bと反射面913bとは、互いに対向しないように配置されている。一方でこのとき、第1のプリズム813の入射面813aと第2のプリズム913の入射面913aとは、互いに対向している。この場合においても、蒸着方向に沿って視て反射面と入射面とが同時に視認されやすく、上述した反射膜881を形成する手間を削減できる効果が特に大きい。   Further, the first semiconductor laser element 810 emits a laser beam L toward the other side (+ X side) of the longitudinal direction (X-axis direction), and the second semiconductor laser element 910 has a longitudinal direction (X-axis direction). ) May be emitted toward one side (−X side). At this time, the reflecting surface 813b of the first prism 813 and the reflecting surface 913b of the second prism 913 face each other on the opposite side. That is, the reflecting surface 813b faces the opposite side (+ X side) of the second prism 913, and the reflecting surface 913b faces the opposite side (−X side) of the first prism 813. Therefore, the reflecting surface 813b and the reflecting surface 913b are disposed so as not to face each other. On the other hand, at this time, the incident surface 813a of the first prism 813 and the incident surface 913a of the second prism 913 are opposed to each other. Even in this case, the reflective surface and the incident surface are easily visible at the same time when viewed along the vapor deposition direction, and the effect of reducing the labor for forming the reflective film 881 described above is particularly great.

なお、上記の各実施形態において、各入射面には、反射防止膜が設けられていなくてもよいし、各反射面には、反射膜が形成されていてもよい。   In each of the above embodiments, each incident surface may not be provided with an antireflection film, and each reflection surface may be provided with a reflection film.

また、上記の各実施形態において、プリズムは、透光性部材と別体として形成されてもよい。   In each of the above embodiments, the prism may be formed as a separate body from the translucent member.

また、上記の各実施形態において、接合フレーム107および透光性部材112は、設けられていなくてもよい。   Further, in each of the above embodiments, the joining frame 107 and the translucent member 112 may not be provided.

また、上記の各実施形態において、透過型のプロジェクターに本発明を適用した場合の例について説明したが、本発明は、反射型のプロジェクターにも適用することも可能である。ここで、「透過型」とは、液晶光変調装置が光を透過するタイプであることを意味する。「反射型」とは、液晶光変調装置が光を反射するタイプであることを意味する。   In each of the above-described embodiments, an example in which the present invention is applied to a transmissive projector has been described. However, the present invention can also be applied to a reflective projector. Here, “transmission type” means that the liquid crystal light modulation device is a type that transmits light. The “reflection type” means that the liquid crystal light modulation device is a type that reflects light.

また、上記の各実施形態では、3つの液晶光変調装置400R,400G,400Bを備えるプロジェクター1000を例示したが、1つの液晶光変調装置でカラー映像を表示するプロジェクター、および4つ以上の液晶光変調装置でカラー映像を表示するプロジェクターに適用することも可能である。また、光変調装置として、デジタルミラーデバイス(DMD)を用いてもよい。   In each of the above embodiments, the projector 1000 including the three liquid crystal light modulation devices 400R, 400G, and 400B is illustrated. However, a projector that displays a color image with one liquid crystal light modulation device, and four or more liquid crystal lights. The present invention can also be applied to a projector that displays a color image with a modulation device. Further, a digital mirror device (DMD) may be used as the light modulation device.

また、本発明の光源装置は、プロジェクターの光源装置に限られず、自動車のヘッドランプ、照明機器等に適用することもできる。   In addition, the light source device of the present invention is not limited to the light source device of the projector, but can be applied to automobile headlamps, lighting equipment, and the like.

また、上記説明した各構成は、相互に矛盾しない範囲内において、適宜組み合わせることができる。   Moreover, each structure demonstrated above can be suitably combined in the range which is not mutually contradictory.

10,1010,2010…光源装置、11…ベース基板、11a…第1の面、30…波長変換素子、107…接合フレーム、112…透光性部材、110…半導体レーザー素子、113…プリズム、113a,813a,913a…入射面、113b,813b,913b…反射面、400B,400G,400R…液晶光変調装置(光変調装置)、600…投射光学系、713…光学部材、810…第1の半導体レーザー素子、813…第1のプリズム、910…第2の半導体レーザー素子、913…第2のプリズム、1000…プロジェクター、K…収納空間、L,Lc,Ld,Lu…レーザー光   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,1010,2010 ... Light source device, 11 ... Base substrate, 11a ... 1st surface, 30 ... Wavelength conversion element, 107 ... Joining frame, 112 ... Translucent member, 110 ... Semiconductor laser element, 113 ... Prism, 113a , 813a, 913a ... incidence surface, 113b, 813b, 913b ... reflection surface, 400B, 400G, 400R ... liquid crystal light modulation device (light modulation device), 600 ... projection optical system, 713 ... optical member, 810 ... first semiconductor Laser element, 813 ... first prism, 910 ... second semiconductor laser element, 913 ... second prism, 1000 ... projector, K ... storage space, L, Lc, Ld, Lu ... laser light

Claims (7)

第1の面を有するベース基板と、
前記第1の面に配置され、前記第1の面に沿った第1方向にレーザー光を射出する半導体レーザー素子と、
前記半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する入射面、および前記入射面から入射したレーザー光の少なくとも一部を反射する反射面を有するプリズムと、
を備え、
前記反射面は、自然対数の底をeとしたとき、前記入射面から前記プリズムに入射したレーザー光のうち、光強度が中心強度の1/e以上となるレーザー光を全反射するように配置されていることを特徴とする光源装置。
A base substrate having a first surface;
A semiconductor laser element disposed on the first surface and emitting laser light in a first direction along the first surface;
A prism having an incident surface on which laser light emitted from the semiconductor laser element is incident, and a reflecting surface that reflects at least part of the laser light incident from the incident surface;
With
The reflection surface totally reflects a laser beam whose light intensity is 1 / e 2 or more of the central intensity among the laser beams incident on the prism from the incident surface, where e is the base of the natural logarithm. A light source device characterized by being arranged.
前記反射面によって全反射された後に前記プリズムから射出されたレーザー光の進行方向を変化させる光学部材をさらに備える、請求項1に記載の光源装置。   The light source device according to claim 1, further comprising an optical member that changes a traveling direction of laser light emitted from the prism after being totally reflected by the reflection surface. 複数の前記半導体レーザー素子と、
前記第1の面に接合され、前記半導体レーザー素子を囲む枠状の接合フレームと、
前記半導体レーザー素子と対向し、前記接合フレームに固定された透光性部材と、
をさらに備える、請求項1または2に記載の光源装置。
A plurality of the semiconductor laser elements;
A frame-shaped bonding frame bonded to the first surface and surrounding the semiconductor laser element;
A translucent member facing the semiconductor laser element and fixed to the joining frame;
The light source device according to claim 1, further comprising:
前記半導体レーザー素子は、第1の半導体レーザー素子と、第2の半導体レーザー素子と、を含み、
前記プリズムは、前記第1の半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する第1のプリズムと、前記第2の半導体レーザー素子から射出されるレーザー光が入射する第2のプリズムと、
を含み、
前記第1のプリズムと前記第2のプリズムとは、前記透光性部材と一体に形成され、
前記第1の半導体レーザー素子と前記第2の半導体レーザー素子とは、互いに逆向きにレーザー光を射出し、
前記第1のプリズムの前記入射面と前記第2のプリズムの前記入射面とは互いに対向する、または、前記第1のプリズムの前記反射面と前記第2のプリズムの前記反射面とは互いに対向する、請求項3に記載の光源装置。
The semiconductor laser element includes a first semiconductor laser element and a second semiconductor laser element,
The prism includes a first prism on which a laser beam emitted from the first semiconductor laser element is incident, a second prism on which a laser beam emitted from the second semiconductor laser element is incident,
Including
The first prism and the second prism are formed integrally with the translucent member,
The first semiconductor laser element and the second semiconductor laser element emit laser beams in opposite directions,
The entrance surface of the first prism and the entrance surface of the second prism face each other, or the reflection surface of the first prism and the reflection surface of the second prism face each other. The light source device according to claim 3.
前記ベース基板と前記接合フレームと前記透光性部材とによって、前記半導体レーザー素子が収納され、封止された収納空間が設けられている、請求項3または4に記載の光源装置。   The light source device according to claim 3 or 4, wherein the semiconductor laser element is accommodated and a sealed accommodation space is provided by the base substrate, the bonding frame, and the translucent member. 請求項1から5のいずれか一項に記載の光源装置と、
前記光源装置から射出された光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって変調された光を投射する投射光学系と、
を備えることを特徴とするプロジェクター。
A light source device according to any one of claims 1 to 5,
A light modulation device that modulates light emitted from the light source device;
A projection optical system for projecting light modulated by the light modulation device;
A projector comprising:
前記光源装置から射出された光によって励起され、蛍光光を射出する波長変換素子をさらに備える、請求項6に記載のプロジェクター。   The projector according to claim 6, further comprising a wavelength conversion element that is excited by light emitted from the light source device and emits fluorescent light.
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