JP2017208393A - Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device - Google Patents

Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device Download PDF

Info

Publication number
JP2017208393A
JP2017208393A JP2016098406A JP2016098406A JP2017208393A JP 2017208393 A JP2017208393 A JP 2017208393A JP 2016098406 A JP2016098406 A JP 2016098406A JP 2016098406 A JP2016098406 A JP 2016098406A JP 2017208393 A JP2017208393 A JP 2017208393A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solid
state laser
substrate
holding member
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016098406A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
齋藤 尚
Takashi Saito
尚 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidec Mobility Corp
Original Assignee
Omron Automotive Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Automotive Electronics Co Ltd filed Critical Omron Automotive Electronics Co Ltd
Priority to JP2016098406A priority Critical patent/JP2017208393A/en
Publication of JP2017208393A publication Critical patent/JP2017208393A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To put the output of laser light generated from a solid laser device into an optimum state by making installation intervals of an optical system adjustable.SOLUTION: A solid-state laser device 100 comprises: a semiconductor laser element 1 which emits excitation light; a light collection optical system 2 which collects excitation light; a solid-state laser medium 3 excited by the collected excitation light and generating laser light; a holding member 4 including a holding part 4a for holding the light collection optical system 2 and a placement part 4b for holding the solid-state laser medium 3; a first substrate 11 on which the semiconductor laser element 1 is mounted; and a second substrate 12 on which the holding member 4 is placed and on one surface 12a of which the first substrate 11 is mounted. The holding member 4 is placed on the surface 12a of the second substrate 12 so that the light collection optical system 2 faces the semiconductor laser element 1, and fixed by a fixing material 31. The solid-state laser medium 3 is placed on a placement part 4b so that an incidence plane 3a faces the semiconductor laser element 1 via the light collection optical system 2, and fixed by a second fixing material 32.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体レーザ素子から放射した励起光により固体レーザ媒質を励起して、レーザ光を発生する固体レーザ装置の構造と製造方法とに関する。   The present invention relates to a structure and a manufacturing method of a solid-state laser device that generates a laser beam by exciting a solid-state laser medium with excitation light emitted from a semiconductor laser element.

半導体レーザ素子から放射した励起光を、レンズなどの集光光学系により集光して、固体レーザ媒質に入射させることにより、固体レーザ媒質を励起して、固体レーザ媒質からレーザ光(発振光)を発生させる固体レーザ装置がある。この種の固体レーザ装置では、たとえば特許文献1〜3に開示されているように、半導体レーザ素子、集光光学系、および固体レーザ媒質を励起光の光軸方向に順に配列して、パッケージや基板などに固定している。   The excitation light emitted from the semiconductor laser element is condensed by a condensing optical system such as a lens and incident on the solid-state laser medium to excite the solid-state laser medium and laser light (oscillation light) from the solid-state laser medium. There is a solid-state laser device that generates In this type of solid-state laser device, for example, as disclosed in Patent Documents 1 to 3, a semiconductor laser element, a condensing optical system, and a solid-state laser medium are arranged in order in the optical axis direction of the excitation light, and a package or It is fixed to the substrate.

特許文献1には、小形で簡単な固体レーザ装置の構造が開示されている。詳しくは、YAGロッド(固体レーザ媒質)の両端面に光共振器用の反射鏡を形成している。そして、半導体レーザチップ(半導体レーザ素子)、セルフォック(登録商標)レンズ(集光光学系)、およびYAGロッドをパッケージ内で正確に光軸が合うように配列して、紫外線硬化エポキシ樹脂でパッケージに固定している。   Patent Document 1 discloses a small and simple structure of a solid-state laser device. Specifically, reflecting mirrors for optical resonators are formed on both end faces of a YAG rod (solid laser medium). Then, arrange the semiconductor laser chip (semiconductor laser element), SELFOC (registered trademark) lens (condensing optical system), and YAG rod so that the optical axes are accurately aligned in the package, and use UV curable epoxy resin to make the package It is fixed.

特許文献2および特許文献3には、固体レーザ装置から発生するレーザ光(発振光)の出力(光量)を最適な状態にするために、半導体レーザ素子、集光光学系、および固体レーザ媒質の各光軸が一致するように調整する構造と方法とが開示されている。   In Patent Document 2 and Patent Document 3, in order to optimize the output (light quantity) of laser light (oscillation light) generated from a solid-state laser device, a semiconductor laser element, a condensing optical system, and a solid-state laser medium are provided. A structure and method for adjusting the optical axes to coincide with each other are disclosed.

特許文献2では、固体レーザ装置が、励起ユニットと共振器ユニットから構成されている。励起ユニットは、半導体レーザ、ファイバーレンズ(集光光学系)、集光レンズ(集光光学系)、半導体レーザホルダ、および光学系ホルダから構成されている。半導体レーザホルダは、半導体レーザとファイバーレンズを保持する。光学系ホルダは、半導体レーザホルダと集光レンズを保持する。共振器ユニットは、固体レーザ媒質、非線形光学素子、および共振器ホルダから構成されている。共振器ホルダは、固体レーザ媒質と非線形光学素子とを保持する。各ユニットで組み立てと光軸の調整が行われた後、ユニット同士の組み立てと光軸の調整が行われ、最後に共振器ユニットを保持した励起ユニットがベース板などを介して金属基板に搭載される。   In Patent Document 2, the solid-state laser device is composed of an excitation unit and a resonator unit. The excitation unit includes a semiconductor laser, a fiber lens (condensing optical system), a condensing lens (condensing optical system), a semiconductor laser holder, and an optical system holder. The semiconductor laser holder holds the semiconductor laser and the fiber lens. The optical system holder holds the semiconductor laser holder and the condenser lens. The resonator unit is composed of a solid-state laser medium, a nonlinear optical element, and a resonator holder. The resonator holder holds the solid-state laser medium and the nonlinear optical element. After each unit is assembled and the optical axis is adjusted, the units are assembled and the optical axis is adjusted. Finally, the excitation unit holding the resonator unit is mounted on the metal substrate via the base plate. The

特許文献3では、ボンディング装置のテーブル上に設置された基板上にレーザダイオード(半導体レーザ素子)を実装し、レーザダイオードから放射された励起光を測定装置で測定して、該測定結果に基づいて測定装置を位置決めする。次に、ボンディングツールによりチャックした反射面付きの固体レーザ発振素子(固体レーザ媒質)をレーザダイオードと測定装置の間の基板上に載置する。次に、励起光の光軸に対して垂直なY方向にテーブルを移動させたり、ボンディングツールを昇降機構によりZ方向(上下方向)に移動させたり、ボンディングツールをサーボモータでZ軸回りに回転させたりする。そして、測定装置で測定した励起光の光量が最大になる位置で固体レーザ発振素子を位置決めし、固体レーザ発振素子に塗布された紫外線硬化樹脂を硬化させて、固体レーザ発振素子を基板上に固定する。   In Patent Document 3, a laser diode (semiconductor laser element) is mounted on a substrate placed on a table of a bonding apparatus, and excitation light emitted from the laser diode is measured by a measuring device, and based on the measurement result. Position the measuring device. Next, a solid-state laser oscillation element (solid-state laser medium) with a reflecting surface chucked by a bonding tool is placed on the substrate between the laser diode and the measuring device. Next, move the table in the Y direction perpendicular to the optical axis of the excitation light, move the bonding tool in the Z direction (vertical direction) by the lifting mechanism, or rotate the bonding tool around the Z axis with a servo motor I will let you. Then, the solid-state laser oscillation element is positioned at the position where the amount of excitation light measured by the measuring device is maximized, and the UV curable resin applied to the solid-state laser oscillation element is cured, and the solid-state laser oscillation element is fixed on the substrate. To do.

しなしながら、固体レーザ装置から発生するレーザ光(発振光)の出力を最適な状態にするためには、半導体レーザ素子、集光光学系、および固体レーザ媒質といった光学系の各光軸を一致させるだけでなく、これら光学系の設置間隔も調整する必要がある。   However, in order to optimize the output of the laser light (oscillation light) generated from the solid-state laser device, the optical axes of the optical systems such as the semiconductor laser element, the condensing optical system, and the solid-state laser medium are matched. It is necessary to adjust the installation interval of these optical systems.

特開平3−3378号公報JP-A-3-3378 特開2001−210899号公報JP 2001-210899A 特許第3601645号公報Japanese Patent No. 3601645

本発明の課題は、光学系の設置間隔を調整可能にして、固体レーザ装置から発生するレーザ光の出力を最適な状態にすることである。   An object of the present invention is to make it possible to adjust an installation interval of an optical system so that an output of laser light generated from a solid-state laser device is in an optimum state.

本発明による固体レーザ装置は、励起光を放射する半導体レーザ素子と、励起光を集光する集光光学系と、集光された励起光によって励起されてレーザ光を発生する固体レーザ媒質とを備え、さらに、集光光学系を保持する保持部および固体レーザ媒質が載置される載置部を有する保持部材と、半導体レーザ素子が実装された第1基板と、一方の表面に第1基板が実装されかつ保持部材が載置される第2基板とを備えている。そして、保持部材は、集光光学系が半導体レーザ素子と対向するように、第2基板の一方の表面に載置されて、第1固定材により第2基板の一方の表面に固定され、固体レーザ媒質は、励起光が入射する入射面が集光光学系を介して半導体レーザ素子と対向するように、保持部材の載置部に載置されて、第2固定材により載置部に固定されている。   A solid-state laser device according to the present invention includes a semiconductor laser element that emits excitation light, a condensing optical system that condenses the excitation light, and a solid-state laser medium that generates laser light when excited by the condensed excitation light. A holding member having a holding unit for holding the condensing optical system and a mounting unit on which the solid laser medium is mounted, a first substrate on which the semiconductor laser element is mounted, and a first substrate on one surface And a second substrate on which the holding member is placed. The holding member is placed on one surface of the second substrate so that the condensing optical system faces the semiconductor laser element, and is fixed to the one surface of the second substrate by the first fixing material. The laser medium is mounted on the mounting portion of the holding member and fixed to the mounting portion by the second fixing material so that the incident surface on which the excitation light is incident faces the semiconductor laser element via the condensing optical system. Has been.

上記構成によると、半導体レーザ素子が実装された第1基板を第2基板の一方の表面に実装し、かつ保持部材の保持部で集光光学系を保持する。それから、集光光学系が半導体レーザ素子と対向するように、保持部材を第2基板の一方の表面に載置して、半導体レーザ素子が放射する励起光の光軸方向に保持部材を動かすことで、半導体レーザ素子と集光光学系との設置間隔を調整することができる。また、固体レーザ媒質の入射面が集光光学系を介して半導体レーザ素子と対向するように、固体レーザ媒質を保持部材の載置部に載置して、励起光の光軸方向に固体レーザ媒質を動かすことで、半導体レーザ素子や集光光学系に対する固体レーザ媒質の設置間隔を調整することができる。そして、半導体レーザ素子、集光光学系、および固体レーザ媒質の設置間隔を調整することにより、固体レーザ装置から発生するレーザ光の出力を最適な状態に向上させることが可能となる。   According to the above configuration, the first substrate on which the semiconductor laser element is mounted is mounted on one surface of the second substrate, and the condensing optical system is held by the holding portion of the holding member. Then, the holding member is placed on one surface of the second substrate so that the condensing optical system faces the semiconductor laser element, and the holding member is moved in the optical axis direction of the excitation light emitted by the semiconductor laser element. Thus, the installation interval between the semiconductor laser element and the condensing optical system can be adjusted. In addition, the solid laser medium is mounted on the mounting portion of the holding member so that the incident surface of the solid laser medium faces the semiconductor laser element via the condensing optical system, and the solid laser is disposed in the optical axis direction of the excitation light. By moving the medium, the installation interval of the solid-state laser medium with respect to the semiconductor laser element and the condensing optical system can be adjusted. Then, by adjusting the installation intervals of the semiconductor laser element, the condensing optical system, and the solid-state laser medium, it is possible to improve the output of laser light generated from the solid-state laser device to an optimum state.

本発明では、上記固体レーザ装置において、保持部材は、第2基板の一方の表面に載置されて、励起光の光軸方向に摺動可能であってもよい。   In the present invention, in the solid-state laser device, the holding member may be placed on one surface of the second substrate and slidable in the optical axis direction of the excitation light.

また、本発明では、上記固体レーザ装置において、固体レーザ媒質は、保持部材の載置部に載置されて、励起光の光軸方向に摺動可能であってもよい。   In the present invention, in the solid-state laser device, the solid-state laser medium may be placed on the placement portion of the holding member and slidable in the optical axis direction of the excitation light.

さらに、本発明では、上記固体レーザ装置において、集光光学系は、半導体レーザ素子から放射された励起光を平行光にするコリメートレンズと、コリメートレンズから出射された平行光を固体レーザ媒質の入射面に集光する集光レンズとから構成されていてもよい。   Further, in the present invention, in the solid-state laser device, the condensing optical system includes a collimator lens that converts the excitation light emitted from the semiconductor laser element into parallel light, and the parallel light emitted from the collimator lens is incident on the solid-state laser medium. You may comprise from the condensing lens which condenses on a surface.

また、本発明による固体レーザ装置の製造方法は、第1基板に半導体レーザ素子を実装する第1工程と、第2基板の一方の表面に第1基板を実装する第2工程と、集光光学系を保持部材の保持部で保持する第3工程と、集光光学系が半導体レーザ素子と対向するように、保持部材を第2基板の一方の表面に載置する第4工程と、励起光が入射する固体レーザ媒質の入射面が、集光光学系を介して半導体レーザ素子と対向するように、固体レーザ媒質を保持部材の載置部に載置する第5工程と、保持部材を第2基板の一方の表面に第1固定材により固定する第6工程と、固体レーザ媒質を保持部材の載置部に第2固定材により固定する第7工程とを含む。   The solid-state laser device manufacturing method according to the present invention includes a first step of mounting a semiconductor laser element on a first substrate, a second step of mounting the first substrate on one surface of the second substrate, and a condensing optical system. A third step of holding the system by the holding portion of the holding member, a fourth step of placing the holding member on one surface of the second substrate so that the condensing optical system faces the semiconductor laser element, and excitation light A fifth step of mounting the solid laser medium on the mounting portion of the holding member so that the incident surface of the solid laser medium on which the laser beam enters is opposed to the semiconductor laser element via the condensing optical system; A sixth step of fixing the solid laser medium to the surface of the two substrates with the first fixing material and a seventh step of fixing the solid laser medium to the mounting portion of the holding member with the second fixing material are included.

上記方法によると、第1〜第3工程を実行した後、第4工程を実行してから、第6工程を実行する前に、半導体レーザ素子からの励起光の光軸方向に保持部材を動かすことで、半導体レーザ素子と集光光学系との設置間隔を調整することができる。また、第5工程を実行してから、第7工程を実行する前に、励起光の光軸方向に固体レーザ媒質を動かすことで、半導体レーザ素子や集光光学系に対する固体レーザ媒質の設置間隔を調整することができる。そして、半導体レーザ素子、集光光学系、および固体レーザ媒質の設置間隔を調整することにより、固体レーザ装置から発生するレーザ光の出力を最適な状態に向上させることが可能となる。   According to the above method, after the first to third steps are executed, the holding member is moved in the optical axis direction of the excitation light from the semiconductor laser element after the fourth step is executed and before the sixth step is executed. Thus, the installation interval between the semiconductor laser element and the condensing optical system can be adjusted. In addition, after the fifth step is performed and before the seventh step is performed, the solid laser medium is moved in the optical axis direction of the excitation light, so that the installation interval of the solid laser medium with respect to the semiconductor laser element and the condensing optical system is increased. Can be adjusted. Then, by adjusting the installation intervals of the semiconductor laser element, the condensing optical system, and the solid-state laser medium, it is possible to improve the output of laser light generated from the solid-state laser device to an optimum state.

本発明では、上記固体レーザ装置の製造方法において、第6工程は、少なくとも第1〜第5工程の後に実行され、第6工程では、半導体レーザ素子から励起光を放射させることにより固体レーザ媒質から発生するレーザ光を測定装置により測定し、当該測定装置の測定結果に基づいて、保持部材を第2基板の一方の表面上で励起光の光軸方向に摺動させて、保持部材を位置決めし、その後、第1固定材により保持部材を第2基板の一方の表面に固定してもよい。   In the present invention, in the method for manufacturing a solid-state laser device, the sixth step is performed after at least the first to fifth steps, and in the sixth step, the pumping light is emitted from the semiconductor laser element to emit from the solid-state laser medium. The generated laser beam is measured by a measuring device, and based on the measurement result of the measuring device, the holding member is slid in the optical axis direction of the excitation light on one surface of the second substrate, and the holding member is positioned. Thereafter, the holding member may be fixed to one surface of the second substrate by the first fixing material.

さらに、本発明では、上記固体レーザ装置の製造方法において、第7工程は、少なくとも第1〜第5工程の後に実行され、第7工程では、半導体レーザ素子から励起光を放射させることにより固体レーザ媒質から発生するレーザ光を測定装置により測定し、当該測定装置の測定結果に基づいて、固体レーザ媒質を保持部材の載置部上で励起光の光軸方向に摺動させて、固体レーザ媒質を位置決めし、その後、第2固定材により固体レーザ媒質を載置部に固定してもよい。   Further, in the present invention, in the method for manufacturing a solid-state laser device, the seventh step is executed after at least the first to fifth steps, and in the seventh step, the solid-state laser is emitted by emitting excitation light from the semiconductor laser element. The laser beam generated from the medium is measured by the measuring device, and the solid laser medium is slid in the optical axis direction of the excitation light on the mounting portion of the holding member based on the measurement result of the measuring device. Then, the solid-state laser medium may be fixed to the mounting portion by the second fixing material.

本発明によれば、光学系の設置間隔を調整可能にして、固体レーザ装置から発生するレーザ光の出力を最適な状態にすることができる。   According to the present invention, the installation interval of the optical system can be adjusted, and the output of the laser beam generated from the solid-state laser device can be brought into an optimum state.

本発明の実施形態による固体レーザ装置の側面図である。It is a side view of the solid-state laser apparatus by embodiment of this invention. 図1の固体レーザ装置の平面図である。It is a top view of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の光学系の模式図である。It is a schematic diagram of the optical system of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の組立手順を示した図である。It is the figure which showed the assembly procedure of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の光学系の位置調整手順を示した図である。It is the figure which showed the position adjustment procedure of the optical system of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の光学系の位置調整機構を示した図である。It is the figure which showed the position adjustment mechanism of the optical system of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の光学系の位置調整機構を示した図である。It is the figure which showed the position adjustment mechanism of the optical system of the solid-state laser apparatus of FIG. 図1の固体レーザ装置の光学系の位置と励起光のスポットとの関係を示した模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the relationship between the position of the optical system of the solid-state laser device of FIG.

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照しながら説明する。各図において、同一の部分または対応する部分には、同一符号を付してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals.

まず、本発明の実施形態による固体レーザ装置100の構成を、図1〜図3を参照しながら説明する。   First, the configuration of a solid-state laser device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は、固体レーザ装置100の側面図である。図2は、固体レーザ装置100の平面図である。図3は、固体レーザ装置100の光学系の模式図である。   FIG. 1 is a side view of the solid-state laser device 100. FIG. 2 is a plan view of the solid-state laser device 100. FIG. 3 is a schematic diagram of an optical system of the solid-state laser device 100.

固体レーザ装置100は、いわゆるマイクロチップレーザモジュールである。図1および図2に示すように、固体レーザ装置100には、半導体レーザ素子1、集光光学系2、固体レーザ媒質3、保持部材4、第1基板11、第2基板12、ペルチェ素子5、およびカバー6などが備わっている。このうち、半導体レーザ素子1、集光光学系2、および固体レーザ媒質3が光学系である。   The solid-state laser device 100 is a so-called microchip laser module. As shown in FIGS. 1 and 2, the solid-state laser device 100 includes a semiconductor laser element 1, a condensing optical system 2, a solid-state laser medium 3, a holding member 4, a first substrate 11, a second substrate 12, and a Peltier element 5. , And a cover 6 or the like. Among these, the semiconductor laser element 1, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 are optical systems.

半導体レーザ素子1は、固体レーザ媒質3を励起するための励起光(レーザ光)をY方向に放射する。半導体レーザ素子1から放射された励起光は、FAST軸方向(図1のZ方向)に拡散して行く。本例では、励起光の出力をある程度大きく確保するため、半導体レーザ素子1を複数設けている(図2)。   The semiconductor laser element 1 emits excitation light (laser light) for exciting the solid-state laser medium 3 in the Y direction. The excitation light emitted from the semiconductor laser element 1 diffuses in the FAST axis direction (Z direction in FIG. 1). In this example, a plurality of semiconductor laser elements 1 are provided in order to ensure a large output of pumping light (FIG. 2).

集光光学系2は、コリメートレンズ21と集光レンズ22とから構成されている。図3に示すように、コリメートレンズ21は、半導体レーザ素子1から放射された励起光をFAST軸方向(Z方向)に屈折させて平行光にする。なお、図3では、両端にある半導体レーザ素子1から放射された励起光だけを、破線の矢印で示している。それ以外の半導体レーザ素子1から放射された励起光は、該半導体レーザ素子1の前方近傍だけを破線で示している。後述する図8も同様である。   The condensing optical system 2 includes a collimating lens 21 and a condensing lens 22. As shown in FIG. 3, the collimating lens 21 refracts the excitation light emitted from the semiconductor laser element 1 in the FAST axis direction (Z direction) to make parallel light. In FIG. 3, only the excitation light emitted from the semiconductor laser elements 1 at both ends is indicated by broken-line arrows. In the pumping light emitted from the other semiconductor laser elements 1, only the front vicinity of the semiconductor laser element 1 is indicated by a broken line. The same applies to FIG. 8 described later.

集光レンズ22は、たとえばシリンドリカルレンズから成る。集光レンズ22は、コリメートレンズ21から出射された平行光をX方向に屈折させて固体レーザ媒質3の入射面3aに集光する。他の例として、たとえば凸レンズなどを、集光レンズ22として用いてもよい。   The condensing lens 22 is composed of, for example, a cylindrical lens. The condensing lens 22 refracts the parallel light emitted from the collimating lens 21 in the X direction and condenses it on the incident surface 3 a of the solid-state laser medium 3. As another example, for example, a convex lens may be used as the condenser lens 22.

コリメートレンズ21と集光レンズ22の光軸Qは、半導体レーザ素子1からの励起光の放射方向Yと平行になっている。以下、Y方向を光軸方向Yという。   The optical axes Q of the collimating lens 21 and the condenser lens 22 are parallel to the radiation direction Y of the excitation light from the semiconductor laser element 1. Hereinafter, the Y direction is referred to as the optical axis direction Y.

固体レーザ媒質3は、集光光学系2により集光された励起光が入射面3aから入射することによって励起される。そして、固体レーザ媒質3は、図1および図2に示す出射面3bからレーザ光(発振光)を光軸方向Yに放射する。なお、入射面3aには、励起光の波長の光を透過し、固体レーザ媒質3の基本波長の光を反射する膜が形成されている(図示省略)。また、出射面3bには、固体レーザ媒質3の基本波長の光を、たとえば50%反射する膜が形成されている(図示省略)。これらの膜は、固体レーザ媒質3の両面3a、3bに直接形成する代わりに、2枚のガラスなどの別部材にそれぞれ形成して、該別部材を固体レーザ媒質3の入射側と出射側に配置してもよい。因みに、固体レーザ媒質3としてNd:YAGを用いた場合、固体レーザ媒質3の基本波長は、1064nmである。   The solid laser medium 3 is excited when the excitation light condensed by the condensing optical system 2 enters from the incident surface 3a. The solid-state laser medium 3 radiates laser light (oscillation light) in the optical axis direction Y from the emission surface 3b shown in FIGS. Note that a film that transmits light having the wavelength of the excitation light and reflects light having the fundamental wavelength of the solid-state laser medium 3 is formed on the incident surface 3a (not shown). Further, a film that reflects, for example, 50% of light having the fundamental wavelength of the solid-state laser medium 3 is formed on the emission surface 3b (not shown). These films are formed on separate members such as two pieces of glass instead of being directly formed on both surfaces 3a and 3b of the solid laser medium 3, and the separate members are formed on the incident side and the emission side of the solid laser medium 3, respectively. You may arrange. Incidentally, when Nd: YAG is used as the solid-state laser medium 3, the fundamental wavelength of the solid-state laser medium 3 is 1064 nm.

保持部材4は、集光光学系2の2つのレンズ21、22を保持する保持部4aと、固体レーザ媒質3を載置する載置部4bとを有している。   The holding member 4 includes a holding unit 4 a that holds the two lenses 21 and 22 of the condensing optical system 2 and a mounting unit 4 b that mounts the solid-state laser medium 3.

第1基板11の一方の表面(図1で上面)11aには、半導体レーザ素子1が複数実装されている。複数の半導体レーザ素子1は、第1基板11の表面11aにおいて、幅方向Xに配列されている(図2および図3)。幅方向Xは、光軸方向Yと上下方向Zに対して垂直である。光軸方向Yは、上下方向Zに対しても垂直である。   A plurality of semiconductor laser elements 1 are mounted on one surface (upper surface in FIG. 1) 11a of the first substrate 11. The plurality of semiconductor laser elements 1 are arranged in the width direction X on the surface 11a of the first substrate 11 (FIGS. 2 and 3). The width direction X is perpendicular to the optical axis direction Y and the up-down direction Z. The optical axis direction Y is also perpendicular to the vertical direction Z.

第2基板12は、アルミニウムなどの金属製の基板から成る。第2基板12の一方の表面(図1で上面)12aには、ペルチェ素子5と第1基板11が実装されている。また、第2基板12の表面12aには、保持部材4が載置されている。   The second substrate 12 is made of a metal substrate such as aluminum. The Peltier element 5 and the first substrate 11 are mounted on one surface (upper surface in FIG. 1) 12a of the second substrate 12. The holding member 4 is placed on the surface 12 a of the second substrate 12.

保持部材4は、保持部4aで保持した集光光学系2のコリメートレンズ21が、第1基板11に実装された半導体レーザ素子1と対向するように、第2基板12の表面12aに載置されている。保持部材4と第2基板12とは、第1固定材31により固定されている。第1固定材31は、たとえばUV(紫外線)接着剤から成る。他の例として、たとえば、エポキシ樹脂系の接着剤やはんだなどにより、保持部材4と第2基板12とを固定してもよい。   The holding member 4 is placed on the surface 12a of the second substrate 12 so that the collimating lens 21 of the condensing optical system 2 held by the holding unit 4a faces the semiconductor laser element 1 mounted on the first substrate 11. Has been. The holding member 4 and the second substrate 12 are fixed by a first fixing material 31. The first fixing member 31 is made of, for example, a UV (ultraviolet) adhesive. As another example, the holding member 4 and the second substrate 12 may be fixed by, for example, an epoxy resin adhesive or solder.

保持部材4の載置部4bには、入射面3aが集光レンズ22と対向するように、固体レーザ媒質3が載置されている。固体レーザ媒質3と保持部材4の載置部4bとは、第2固定材32により固定されている。第2固定材32は、たとえばUV接着剤から成る。他の例として、たとえばエポキシ樹脂系の接着剤などにより、固体レーザ媒質3を載置部4bに固定してもよい。   The solid laser medium 3 is placed on the placement portion 4 b of the holding member 4 so that the incident surface 3 a faces the condenser lens 22. The solid laser medium 3 and the mounting portion 4 b of the holding member 4 are fixed by a second fixing material 32. The second fixing member 32 is made of, for example, a UV adhesive. As another example, the solid-state laser medium 3 may be fixed to the mounting portion 4b with, for example, an epoxy resin adhesive.

コリメートレンズ21および集光レンズ22は、保持部材4の保持部4aに対して第3固定材33により固定されている。第3固定材33は、たとえばUV接着剤から成る。他の例として、たとえばエポキシ樹脂系の接着剤などにより、コリメートレンズ21および集光レンズ22を保持部4aに固定してもよい。   The collimating lens 21 and the condensing lens 22 are fixed to the holding portion 4 a of the holding member 4 by the third fixing material 33. The third fixing member 33 is made of, for example, a UV adhesive. As another example, the collimating lens 21 and the condensing lens 22 may be fixed to the holding portion 4a with, for example, an epoxy resin adhesive.

カバー6は、第2基板12の表面12aに固定されて、光学系の各部1〜3と保持部材4とペルチェ素子5と第1基板11とを覆っている。固体レーザ媒質3の出射面3bと対向するように、カバー6の一側面には出射窓6aが設けられている。固体レーザ媒質3の出射面3bから出射されたレーザ光は、カバー6の出射窓6aを通って外部へ放射される。   The cover 6 is fixed to the surface 12 a of the second substrate 12 and covers the parts 1 to 3 of the optical system, the holding member 4, the Peltier element 5, and the first substrate 11. An exit window 6 a is provided on one side of the cover 6 so as to face the exit surface 3 b of the solid-state laser medium 3. Laser light emitted from the emission surface 3 b of the solid-state laser medium 3 is emitted to the outside through the emission window 6 a of the cover 6.

半導体レーザ素子1およびペルチェ素子5は、基板11、12に形成された電気配線や外部配線を介して、外部にある制御装置(図示省略)と電気的に接続される(詳細図示省略)。その制御装置は、半導体レーザ素子1およびペルチェ素子5の駆動を制御する。ペルチェ素子5は、半導体レーザ素子1の温度を適切にコントロールするために用いられる。   The semiconductor laser element 1 and the Peltier element 5 are electrically connected to an external control device (not shown) via electrical wiring and external wiring formed on the substrates 11 and 12 (detailed illustration is omitted). The control device controls driving of the semiconductor laser element 1 and the Peltier element 5. The Peltier element 5 is used for appropriately controlling the temperature of the semiconductor laser element 1.

次に、固体レーザ装置100の製造方法を、図4〜図8を参照しながら説明する。   Next, a method for manufacturing the solid-state laser device 100 will be described with reference to FIGS.

図4は、固体レーザ装置100の組立手順を示した図である。まず、図4(a)に示すように、複数の半導体レーザ素子1を第1基板11の表面11aの所定位置にはんだなどにより実装する。このとき、各半導体レーザ素子1が同一の光軸方向Yにレーザ光(励起光)を放射するように、複数の半導体レーザ素子1を第1基板11の表面11aにおいて幅方向Xに所定の間隔で配列する(図2、図3)。   FIG. 4 is a diagram showing an assembly procedure of the solid-state laser apparatus 100. First, as shown in FIG. 4A, a plurality of semiconductor laser elements 1 are mounted on a predetermined position of the surface 11a of the first substrate 11 with solder or the like. At this time, a plurality of semiconductor laser elements 1 are arranged at predetermined intervals in the width direction X on the surface 11a of the first substrate 11 so that each semiconductor laser element 1 emits laser light (excitation light) in the same optical axis direction Y. (FIGS. 2 and 3).

次に、図4(b)に示すように、第2基板12の一方の表面12aの所定位置に、第1基板11とペルチェ素子5とを実装する。このとき、半導体レーザ素子1が実装された第1基板11の表面11aを、第2基板12と反対側に向ける。第1基板11と第2基板12との間には、ペルチェ素子5を介在させる。第1基板11と第2基板12とは、たとえばワイヤボンディング(図示省略)により電気的に接続される。これにより、半導体レーザ素子1が、第1基板11とワイヤボンディングを介して、第2基板12と電気的に接続される。   Next, as shown in FIG. 4B, the first substrate 11 and the Peltier element 5 are mounted at a predetermined position on one surface 12 a of the second substrate 12. At this time, the surface 11 a of the first substrate 11 on which the semiconductor laser element 1 is mounted is directed to the opposite side to the second substrate 12. A Peltier element 5 is interposed between the first substrate 11 and the second substrate 12. The first substrate 11 and the second substrate 12 are electrically connected, for example, by wire bonding (not shown). As a result, the semiconductor laser element 1 is electrically connected to the second substrate 12 via the first substrate 11 and wire bonding.

次に、図4(c)に示すように、保持部材4の保持部4aに集光光学系2のコリメートレンズ21と集光レンズ22とを取り付ける。詳しくは、まず、保持部4aの入射側に形成された第1取り付け部4cの下面と側面とに、第3固定材33であるUV接着剤を塗布する(図2も参照)。また、保持部4aの出射側に形成された第2取り付け部4dの下面と側面に、第3固定材33であるUV接着剤を塗布する(図2も参照)。各取り付け部4c、4dは、レーザ光が各レンズ21、22を透過できるように、逆門形に形成されている。   Next, as shown in FIG. 4C, the collimating lens 21 and the condensing lens 22 of the condensing optical system 2 are attached to the holding portion 4 a of the holding member 4. Specifically, first, a UV adhesive as the third fixing member 33 is applied to the lower surface and the side surface of the first mounting portion 4c formed on the incident side of the holding portion 4a (see also FIG. 2). Further, a UV adhesive as the third fixing member 33 is applied to the lower surface and the side surface of the second attachment portion 4d formed on the emission side of the holding portion 4a (see also FIG. 2). Each attachment portion 4c, 4d is formed in a reverse portal shape so that the laser light can pass through each lens 21, 22.

次に、第1取り付け部4cにコリメートレンズ21を載置し、第2取り付け部4dに集光レンズ22を載置する。このとき、コリメートレンズ21の出射面21bと集光レンズ22の出射面22bとを載置部4b側へ向ける。次に、両レンズ21、22の間にくさび状治具49を差し込んで、コリメートレンズ21の入射面21aの周縁部を第1取り付け部4cの側面に押し付け、集光レンズ22の出射面22bの周縁部を第2取り付け部4dの側面(図2)に押し付ける。また、コリメートレンズ21と集光レンズ22の光軸Qを、たとえば公知の方法で一致させる(詳細説明省略)。そして、紫外線照射装置(図示省略)により紫外線を照射して、第3固定材33を硬化させ、各取り付け部4c、4dに各レンズ21、22を固定する。この後、両レンズ21、22の間からくさび状治具49を除去する。   Next, the collimating lens 21 is placed on the first attachment portion 4c, and the condenser lens 22 is placed on the second attachment portion 4d. At this time, the exit surface 21b of the collimator lens 21 and the exit surface 22b of the condenser lens 22 are directed toward the mounting portion 4b. Next, a wedge-shaped jig 49 is inserted between the lenses 21 and 22, the peripheral portion of the incident surface 21 a of the collimating lens 21 is pressed against the side surface of the first mounting portion 4 c, and the emission surface 22 b of the condenser lens 22 is pressed. The peripheral edge is pressed against the side surface (FIG. 2) of the second attachment portion 4d. Further, the optical axes Q of the collimating lens 21 and the condensing lens 22 are matched by, for example, a known method (detailed explanation is omitted). Then, the third fixing material 33 is cured by irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation device (not shown), and the lenses 21 and 22 are fixed to the attachment portions 4c and 4d. Thereafter, the wedge-shaped jig 49 is removed from between the lenses 21 and 22.

次に、図4(d)に示すように、保持部材4を第2基板12の表面12aの初期位置に載置する。このとき、集光光学系2のコリメートレンズ21の入射面21aを半導体レーザ素子1と対向させる。本例では、第2基板12上の保持部材4の初期位置を、半導体レーザ素子1からコリメートレンズ21の焦点距離だけ離れた位置に設定している。これにより、半導体レーザ素子1から放射された励起光が、コリメートレンズ21によってZ方向に対して垂直でかつY方向に対して平行な平行光となる。保持部材4と第2基板12との間には、図1の第1固定材31であるUV接着剤を予め塗布しておく(図示省略)。   Next, as shown in FIG. 4D, the holding member 4 is placed at the initial position of the surface 12 a of the second substrate 12. At this time, the incident surface 21 a of the collimating lens 21 of the condensing optical system 2 is opposed to the semiconductor laser element 1. In this example, the initial position of the holding member 4 on the second substrate 12 is set to a position separated from the semiconductor laser element 1 by the focal length of the collimating lens 21. As a result, the excitation light emitted from the semiconductor laser element 1 becomes parallel light that is perpendicular to the Z direction and parallel to the Y direction by the collimating lens 21. A UV adhesive that is the first fixing member 31 in FIG. 1 is applied in advance between the holding member 4 and the second substrate 12 (not shown).

次に、図4(e)に示すように、固体レーザ媒質3を保持部材4の載置部4bの初期位置に載置する。このとき、固体レーザ媒質3の入射面3aが、集光光学系2を介して半導体レーザ素子1と対向するように、固体レーザ媒質3を載置部4bに載置する。これにより、半導体レーザ素子1から放射されたレーザ光(励起光)が、入射面3aから固体レーザ媒質3に入射する。また本例では、載置部4b上の固体レーザ媒質3の初期位置を、集光レンズ22から当該レンズの焦点距離だけ離れた位置に設定している。固体レーザ媒質3と載置部4bとの間には、図1の第2固定材32であるUV接着剤を予め塗布しておく(図示省略)。   Next, as shown in FIG. 4 (e), the solid-state laser medium 3 is placed at the initial position of the placement portion 4 b of the holding member 4. At this time, the solid-state laser medium 3 is placed on the placement portion 4 b so that the incident surface 3 a of the solid-state laser medium 3 faces the semiconductor laser element 1 via the condensing optical system 2. Thereby, laser light (excitation light) emitted from the semiconductor laser element 1 enters the solid-state laser medium 3 from the incident surface 3a. In this example, the initial position of the solid-state laser medium 3 on the mounting portion 4b is set to a position away from the condenser lens 22 by the focal length of the lens. A UV adhesive, which is the second fixing member 32 of FIG. 1, is applied in advance between the solid-state laser medium 3 and the mounting portion 4b (not shown).

そして、半導体レーザ素子1と集光光学系2と固体レーザ媒質3の各光軸Qを、たとえば公知の方法で一致させる(詳細説明省略)。この後、下記のように、光学系である半導体レーザ素子1と集光光学系2と固体レーザ媒質3の光軸方向Qの位置を調整してから、これらを固定する。   Then, the optical axes Q of the semiconductor laser element 1, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 are matched by, for example, a known method (detailed explanation is omitted). Thereafter, as described below, the positions of the semiconductor laser element 1, which is an optical system, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Q are adjusted and then fixed.

図5は、固定レーザ装置100の光学系の位置調整手順を示した図である。図6および図7は、固定レーザ装置100の光学系の位置調整機構を示した平面図である。図8は、固体レーザ装置100の光学系の位置と励起光のスポットSとの関係を示した模式図である。   FIG. 5 is a diagram showing a procedure for adjusting the position of the optical system of the fixed laser apparatus 100. 6 and 7 are plan views showing the position adjustment mechanism of the optical system of the fixed laser apparatus 100. FIG. FIG. 8 is a schematic diagram showing the relationship between the position of the optical system of the solid-state laser apparatus 100 and the spot S of the excitation light.

まず、図6に示すように、第1治具41で保持部材4を把持する。詳しくは、第1治具41は、幅方向Xに保持部材4を挟持する。第1治具41は、保持部材4を把持しながら、図6に示す第1アクチュエータ43により励起光の光軸方向Yへ移動可能になっている。   First, as shown in FIG. 6, the holding member 4 is gripped by the first jig 41. Specifically, the first jig 41 sandwiches the holding member 4 in the width direction X. The first jig 41 is movable in the optical axis direction Y of the excitation light by the first actuator 43 shown in FIG. 6 while holding the holding member 4.

また、図7に示すように、第2治具42で固体レーザ媒質3を把持する。詳しくは、第2治具42は、光軸方向Yに固体レーザ媒質3を挟持し、かつ上方から固体レーザ媒質3を吸着する。第2治具42は、固体レーザ媒質3を把持しながら、第2アクチュエータ44により励起光の光軸方向Yへ移動可能になっている。   Further, as shown in FIG. 7, the solid laser medium 3 is held by the second jig 42. Specifically, the second jig 42 sandwiches the solid laser medium 3 in the optical axis direction Y and adsorbs the solid laser medium 3 from above. The second jig 42 is movable in the optical axis direction Y of the excitation light by the second actuator 44 while gripping the solid laser medium 3.

また、基板11、12の電気配線とコネクタと外部配線により、半導体レーザ素子1と調整用制御装置45とを電気的に接続する。さらに、調整用制御装置45と測定装置46とを電気的に接続する。この後、係員の操作に基づいて、調整用制御装置45は、以下で述べるように半導体レーザ素子1、アクチュエータ43、44、および測定装置46の駆動を制御する。他の例として、以下で述べる制御を、係員の操作によらずに、予め組み込まれたソフトウェアプログラムに基づいて、調整用制御装置45が自動で実行してもよい。   In addition, the semiconductor laser element 1 and the adjustment control device 45 are electrically connected by electrical wiring, connectors, and external wiring of the substrates 11 and 12. Further, the adjustment control device 45 and the measurement device 46 are electrically connected. Thereafter, based on the operation of the staff, the adjustment control device 45 controls the driving of the semiconductor laser element 1, the actuators 43 and 44, and the measurement device 46 as described below. As another example, the control described below may be automatically executed by the adjustment control device 45 based on a preinstalled software program without depending on the operation of the staff.

調整用制御装置45は、まず各半導体レーザ素子1を駆動して、図8に示すように、半導体レーザ素子1から励起光を放射させる。この励起光はコリメートレンズ21により平行光にされ、該平行光が集光レンズ22により固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される。これにより、固体レーザ媒質3が励起されて、図6および図7に示すように、出射面3bからレーザ光(発振光)LBが発生する。   The adjustment control device 45 first drives each semiconductor laser element 1 to emit excitation light from the semiconductor laser element 1 as shown in FIG. This excitation light is collimated by the collimator lens 21, and the collimated light is condensed on the incident surface 3 a of the solid-state laser medium 3 by the condenser lens 22. As a result, the solid-state laser medium 3 is excited, and laser light (oscillation light) LB is generated from the emission surface 3b as shown in FIGS.

このように固体レーザ媒質3から発生したレーザ光LBを測定装置46により測定し、該測定結果を測定装置46から調整用制御装置45に出力する。調整用制御装置45は、測定装置46の測定結果に基づいて、アクチュエータ41、42を駆動して、保持部材4と固体レーザ媒質3を光軸方向Yへそれぞれ移動させて、光学系の位置を調整する。   Thus, the laser beam LB generated from the solid-state laser medium 3 is measured by the measuring device 46, and the measurement result is output from the measuring device 46 to the adjustment control device 45. The adjustment control device 45 drives the actuators 41 and 42 based on the measurement result of the measurement device 46 to move the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Y, respectively, and thereby adjust the position of the optical system. adjust.

具体的には、まず、調整用制御装置45は、半導体レーザ素子1が励起光を放射してから、固体レーザ媒質3の出射面3bよりレーザ光が発生するまでの遅延時間を、測定装置46により測定する。このとき、その遅延時間が所定範囲(たとえば、蛍光寿命)内であれば、調整用制御装置45は、固体レーザ媒質3の出射面3bから発生するレーザ光LBのエネルギー値(強度など)を測定装置46により測定する。そして、そのレーザ光LBのエネルギー値が所定範囲内であれば、保持部材4と固体レーザ媒質3の光軸方向Yへの位置調整が完了する。   Specifically, first, the adjustment control device 45 measures the delay time from when the semiconductor laser element 1 emits the excitation light to when the laser light is generated from the emission surface 3 b of the solid-state laser medium 3. Measure with At this time, if the delay time is within a predetermined range (for example, fluorescence lifetime), the adjustment control device 45 measures the energy value (intensity, etc.) of the laser beam LB generated from the emission surface 3b of the solid-state laser medium 3. Measured by device 46. If the energy value of the laser beam LB is within a predetermined range, the position adjustment in the optical axis direction Y of the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 is completed.

因みに、上記の遅延時間は、固体レーザ媒質3に入射する励起光のエネルギー総量やエネルギー密度などによって変化する。エネルギー密度が高いほど、遅延時間は短くなる。そして、遅延時間が短くなるほど、レーザ光LBのエネルギー値は小さくなる。   Incidentally, the above-described delay time varies depending on the total energy amount and energy density of the excitation light incident on the solid-state laser medium 3. The higher the energy density, the shorter the delay time. And the energy value of laser beam LB becomes small, so that delay time becomes short.

一方、レーザ光LBのエネルギー値が所定範囲外であれば、調整用制御装置45は、第1アクチュエータ43を駆動して、第1治具41により保持部材4を第2基板12上で光軸方向Yへ1分解能だけ摺動させる(図5(f))。本例では、第1治具41により保持部材4を半導体レーザ素子1に対して遠ざかる方向(図5(f)の太線矢印の方向)へ移動させる。   On the other hand, if the energy value of the laser beam LB is out of the predetermined range, the adjustment control device 45 drives the first actuator 43 to move the holding member 4 on the second substrate 12 by the first jig 41 on the optical axis. Slide in the direction Y by one resolution (FIG. 5 (f)). In this example, the holding member 4 is moved away from the semiconductor laser element 1 by the first jig 41 (in the direction of the thick arrow in FIG. 5F).

このように、図5(f)の太線矢印の方向へ保持部材4を光軸方向Yへ移動させることで、図8(a)および図8(b)に示すように、半導体レーザ素子1に対する集光光学系2の設置間隔が調整される。そして、集光光学系2から固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径が変化する。   In this way, by moving the holding member 4 in the direction of the optical axis Y in the direction of the thick arrow in FIG. 5 (f), the semiconductor laser device 1 is moved as shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b). The installation interval of the condensing optical system 2 is adjusted. Then, the diameter of the spot S of the excitation light condensed from the condensing optical system 2 onto the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3 changes.

詳しくは、半導体レーザ素子1に対する集光光学系2の間隔が、図8(a)から図8(b)のように広くなって、コリメートレンズ21の焦点距離より大きくなる。このため、半導体レーザ素子1から放射された励起光が、Z方向により拡がって、コリメートレンズ21によって平行光にされずにZ方向に屈折し、さらに集光レンズ22によってX方向とZ方向とに集光される。その結果、固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径が、Z方向に小さくなる。   Specifically, the distance of the condensing optical system 2 with respect to the semiconductor laser element 1 becomes wider as shown in FIG. 8A to FIG. 8B and becomes larger than the focal length of the collimating lens 21. For this reason, the excitation light radiated from the semiconductor laser element 1 spreads in the Z direction and is refracted in the Z direction by the collimating lens 21 without being collimated, and further in the X direction and the Z direction by the condenser lens 22. Focused. As a result, the diameter of the spot S of the excitation light condensed on the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3 is reduced in the Z direction.

次に、調整用制御装置45は、測定装置46により遅延時間を測定し、該遅延時間が所定範囲内におさまるように、第2アクチュエータ44を駆動して、第2治具42により固体レーザ媒質3を保持部材4の載置部4b上で光軸方向Yへ摺動させる(図5(g))。このとき、遅延時間が所定範囲を下回っていれば、第2治具42により固体レーザ媒質3を半導体レーザ素子1に対して近づく方向(図5(g)の太線矢印の方向)へ移動させる。逆に、遅延時間が所定範囲を上回っていれば、第2治具42により固体レーザ媒質3を半導体レーザ素子1に対して遠ざかる方向(図5(g)の太線矢印の反対方向)へ移動させる。   Next, the control device 45 for adjustment measures the delay time by the measuring device 46, drives the second actuator 44 so that the delay time falls within a predetermined range, and the solid laser medium by the second jig 42. 3 is slid in the optical axis direction Y on the mounting portion 4b of the holding member 4 (FIG. 5G). At this time, if the delay time is below the predetermined range, the solid laser medium 3 is moved in the direction approaching the semiconductor laser element 1 by the second jig 42 (in the direction of the thick arrow in FIG. 5G). On the other hand, if the delay time exceeds the predetermined range, the solid laser medium 3 is moved away from the semiconductor laser element 1 by the second jig 42 (the direction opposite to the thick line arrow in FIG. 5G). .

このように固体レーザ媒質3を光軸方向Yへ移動させることで、図8(b)および図8(c)に示すように、半導体レーザ素子1や集光光学系2に対する固体レーザ媒質3の設置間隔が調整される。そして、集光光学系2から固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径が変化する。   By moving the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Y in this way, the solid-state laser medium 3 with respect to the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2 is moved as shown in FIGS. 8B and 8C. The installation interval is adjusted. Then, the diameter of the spot S of the excitation light condensed from the condensing optical system 2 onto the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3 changes.

本例では、固体レーザ媒質3を半導体レーザ素子1に対して近づく方向(図5(g)の太線矢印の方向)へ移動させる。これにより、半導体レーザ素子1や集光光学系2に対する固体レーザ媒質3の間隔が、図8(b)から図8(c)のように狭くなり、固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径がX方向とZ方向に大きくなる。   In this example, the solid-state laser medium 3 is moved in the direction approaching the semiconductor laser element 1 (the direction of the thick arrow in FIG. 5G). As a result, the distance between the solid-state laser medium 3 and the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2 is reduced as shown in FIG. 8B to FIG. 8C, and the light is condensed on the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3. The diameter of the excitation light spot S increases in the X and Z directions.

このように、固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径が大きくなると、励起光により照射される固体レーザ媒質3の面積が大きくなり、励起光のエネルギー密度が小さくなる。その結果、遅延時間が長くなって、固体レーザ媒質3から発生するレーザ光(発振光)のエネルギーが増大する。   As described above, when the diameter of the spot S of the excitation light focused on the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3 is increased, the area of the solid-state laser medium 3 irradiated with the excitation light is increased, and the energy density of the excitation light is reduced. Get smaller. As a result, the delay time becomes longer, and the energy of laser light (oscillation light) generated from the solid-state laser medium 3 increases.

なお、逆に、固体レーザ媒質3を半導体レーザ素子1に対して離れる方向(図5(g)の太線矢印と反対方向)へ移動させた場合、半導体レーザ素子1や集光光学系2に対する固体レーザ媒質3の間隔が広くなり、固体レーザ媒質3の入射面3aに集光される励起光のスポットSの径がX方向とZ方向に小さくなる。その結果、励起光により照射される固体レーザ媒質3の面積が小さくなり、励起光のエネルギー密度が大きくなって、遅延時間が短くなり、固体レーザ媒質3から発生するレーザ光のエネルギーが減少する。   Conversely, when the solid-state laser medium 3 is moved away from the semiconductor laser element 1 (in the direction opposite to the thick arrow in FIG. 5G), the solid-state laser medium 3 is solid with respect to the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2. The distance between the laser media 3 is increased, and the diameter of the spot S of the excitation light condensed on the incident surface 3a of the solid-state laser medium 3 is reduced in the X direction and the Z direction. As a result, the area of the solid-state laser medium 3 irradiated with the excitation light is reduced, the energy density of the excitation light is increased, the delay time is shortened, and the energy of the laser light generated from the solid-state laser medium 3 is reduced.

上述の手順で、遅延時間が所定範囲内になり、かつレーザ光のエネルギー値が所定範囲内になると、保持部材4と固体レーザ媒質3の光軸方向Yへの位置調整が完了する。すなわち、保持部材4と固体レーザ媒質3が光軸方向Yに位置決めされて、半導体レーザ素子1と集光光学系2と固体レーザ媒質3の設置間隔が確定する。   When the delay time is within the predetermined range and the energy value of the laser light is within the predetermined range by the above procedure, the position adjustment of the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Y is completed. That is, the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 are positioned in the optical axis direction Y, and the installation intervals of the semiconductor laser element 1, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 are determined.

その後、紫外線照射装置により紫外線を照射して、第1固定材31と第2固定材32を硬化させる。これにより、保持部材4を第2基板12に固定し、固体レーザ媒質3を保持部材4の載置部4bに固定する(図5の(h))。   Thereafter, the first fixing material 31 and the second fixing material 32 are cured by irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation device. Thereby, the holding member 4 is fixed to the second substrate 12, and the solid-state laser medium 3 is fixed to the mounting portion 4b of the holding member 4 ((h) in FIG. 5).

そして、光学系の各部1〜3と保持部材4とペルチェ素子5と第1基板11とを覆うように、第2基板12の表面12aにカバー6を固定する(図1、図2)。このとき、カバー6の出射窓6aを固体レーザ媒質3の出射面3bと対向させる。   And the cover 6 is fixed to the surface 12a of the 2nd board | substrate 12 so that each parts 1-3 of the optical system, the holding member 4, the Peltier element 5, and the 1st board | substrate 11 may be covered (FIG. 1, FIG. 2). At this time, the emission window 6 a of the cover 6 is opposed to the emission surface 3 b of the solid-state laser medium 3.

上記実施形態によると、半導体レーザ素子1が実装された第1基板11を第2基板12の一方の表面12aに実装し、かつ保持部材4の保持部4aで集光光学系2のコリメートレンズ21と集光レンズ22とを保持する。それから、コリメートレンズ21が半導体レーザ素子1と対向するように、保持部材4を第2基板12の表面12aに載置して、半導体レーザ素子1が放射する励起光の光軸方向Yに保持部材4を動かすことで、半導体レーザ素子1と集光光学系2との設置間隔を調整することができる。また、固体レーザ媒質3の入射面3aが集光光学系2を介して半導体レーザ素子1と対向するように、固体レーザ媒質3を保持部材4の載置部4bに載置して、励起光の光軸方向Yに固体レーザ媒質3を動かすことで、半導体レーザ素子1や集光光学系2に対する固体レーザ媒質3の設置間隔を調整することができる。そして、このように半導体レーザ素子1、集光光学系2、および固体レーザ媒質3から成る光学系の設置間隔を調整することによって、固体レーザ装置100から発生するレーザ光LBの出力を最適な状態に向上させることが可能となる。   According to the above embodiment, the first substrate 11 on which the semiconductor laser element 1 is mounted is mounted on the one surface 12a of the second substrate 12, and the collimating lens 21 of the condensing optical system 2 is held by the holding portion 4a of the holding member 4. And the condenser lens 22 are held. Then, the holding member 4 is placed on the surface 12 a of the second substrate 12 so that the collimating lens 21 faces the semiconductor laser element 1, and the holding member in the optical axis direction Y of the excitation light emitted by the semiconductor laser element 1. By moving 4, the installation interval between the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2 can be adjusted. Further, the solid laser medium 3 is placed on the placement portion 4b of the holding member 4 so that the incident surface 3a of the solid laser medium 3 faces the semiconductor laser element 1 through the condensing optical system 2, and the excitation light By moving the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Y, the installation interval of the solid-state laser medium 3 with respect to the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2 can be adjusted. Then, the output of the laser beam LB generated from the solid-state laser device 100 is in an optimum state by adjusting the installation interval of the optical system composed of the semiconductor laser element 1, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 in this way. Can be improved.

また、上記実施形態では、アクチュエータ43、44により治具41、42を介して、保持部材4と固体レーザ媒質3をそれぞれ光軸方向Yへ摺動させるので、半導体レーザ素子1と集光光学系2と固体レーザ媒質3の設置間隔を容易に調整することができる。   In the above embodiment, since the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 are slid in the optical axis direction Y by the actuators 43 and 44 via the jigs 41 and 42, respectively, the semiconductor laser element 1 and the condensing optical system 2 and the solid laser medium 3 can be easily adjusted.

然もその際、半導体レーザ素子1から励起光を放射させて、固体レーザ媒質3から発生するレーザ光LBを測定装置46により測定し、当該測定装置46の測定結果に基づいて、調整用制御装置45がアクチュエータ43、44により治具41、42を介して、保持部材4と固体レーザ媒質3を光軸方向Yへ摺動させる。このため、固体レーザ媒質3から発生するレーザ光LBの出力が最適な状態になるように、半導体レーザ素子1と集光光学系2と固体レーザ媒質3の設置間隔を適切に調整することができる。   However, at that time, the pumping light is emitted from the semiconductor laser element 1, the laser beam LB generated from the solid-state laser medium 3 is measured by the measuring device 46, and the adjustment control device is based on the measurement result of the measuring device 46. 45 slides the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 in the optical axis direction Y through the jigs 41 and 42 by the actuators 43 and 44. For this reason, the installation intervals of the semiconductor laser element 1, the condensing optical system 2, and the solid-state laser medium 3 can be appropriately adjusted so that the output of the laser beam LB generated from the solid-state laser medium 3 is in an optimum state. .

本発明では、以上述べた以外にも種々の実施形態を採用することができる。たとえば、以上の実施形態では、半導体レーザ素子1より励起光を放射させてから、固体レーザ媒質3よりレーザ光LBが発生するまでの遅延時間と、該レーザ光LBのエネルギーとを測定装置46により測定し、該測定値に基づいて保持部材4と固体レーザ媒質3の位置を調整した例を示したが、本発明はそれのみに限定するものではない。たとえば、固体レーザ媒質3から発生したレーザ光LBの光量を測定装置46により測定し、該光量と閾値とに基づいて保持部材4または固体レーザ媒質3の位置を調整してもよい。また、測定装置46により測定したレーザ光LBの遅延時間やエネルギーや光量などのような、測定値の1つまたは複数と所定の閾値とに基づいて、保持部材4や固体レーザ媒質3の位置を調整してもよい。   In the present invention, various embodiments other than those described above can be adopted. For example, in the above embodiment, the delay time from when the pumping light is emitted from the semiconductor laser element 1 until the laser light LB is generated from the solid-state laser medium 3 and the energy of the laser light LB are measured by the measuring device 46. Although the example which measured and adjusted the position of the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 based on this measured value was shown, this invention is not limited only to it. For example, the light quantity of the laser beam LB generated from the solid-state laser medium 3 may be measured by the measuring device 46, and the position of the holding member 4 or the solid-state laser medium 3 may be adjusted based on the light quantity and the threshold value. Further, the positions of the holding member 4 and the solid-state laser medium 3 are determined based on one or a plurality of measured values such as the delay time, energy, and light quantity of the laser beam LB measured by the measuring device 46 and a predetermined threshold value. You may adjust.

また、以上の実施形態では、初期状態で半導体レーザ素子1とコリメートレンズ21との間隔をコリメートレンズ21の焦点距離と同じ値にし、半導体レーザ素子1に対して光軸方向Yに遠ざかるように保持部材4および集光光学系2の位置を調整した例を示したが、本発明はこれのみに限定するものではない。これ以外に、たとえば、初期状態で半導体レーザ素子1とコリメートレンズ21との間隔をコリメートレンズ21の焦点距離と異なる値にし、半導体レーザ素子1に対して光軸方向Yに遠ざかるまたは近づくように、保持部材4および集光光学系2の位置を調整してもよい。   In the above-described embodiment, the distance between the semiconductor laser element 1 and the collimating lens 21 is set to the same value as the focal length of the collimating lens 21 in the initial state, and is held away from the semiconductor laser element 1 in the optical axis direction Y. Although the example which adjusted the position of the member 4 and the condensing optical system 2 was shown, this invention is not limited only to this. In addition to this, for example, in the initial state, the interval between the semiconductor laser element 1 and the collimating lens 21 is set to a value different from the focal length of the collimating lens 21, and the semiconductor laser element 1 is moved away from or closer to the optical axis direction Y. The positions of the holding member 4 and the condensing optical system 2 may be adjusted.

また、以上の実施形態では、初期状態で集光レンズ22と固体レーザ媒質3との間隔を集光レンズ22の焦点距離と同じ値にし、半導体レーザ素子1に対して光軸方向Yに近づくように固体レーザ媒質3の位置を調整した例を示したが、本発明はこれのみに限定するものではない。これ以外に、たとえば、初期状態で集光レンズ22と固体レーザ媒質3との間隔を集光レンズ22の焦点距離と異なる値にし、半導体レーザ素子1に対して光軸方向Yに近づくまたは遠ざかるように、固体レーザ媒質3の位置を調整してもよい。   In the above embodiment, the distance between the condensing lens 22 and the solid-state laser medium 3 is set to the same value as the focal length of the condensing lens 22 in the initial state so that it approaches the optical axis direction Y with respect to the semiconductor laser element 1. Although the example which adjusted the position of the solid-state laser medium 3 was shown in this, this invention is not limited only to this. In addition to this, for example, in the initial state, the distance between the condenser lens 22 and the solid-state laser medium 3 is set to a value different from the focal length of the condenser lens 22 so as to approach or move away from the semiconductor laser element 1 in the optical axis direction Y. In addition, the position of the solid-state laser medium 3 may be adjusted.

また、以上の実施形態では、集光光学系2をコリメートレンズ21と集光レンズ22とから構成した例を示したが、本発明はそれのみに限定するものではない。集光光学系は、少なくとも1枚の集光機能を有するレンズなどの光学部品で構成すればよい。   In the above embodiment, the example in which the condensing optical system 2 is configured by the collimating lens 21 and the condensing lens 22 has been shown, but the present invention is not limited thereto. The condensing optical system may be composed of at least one optical component such as a lens having a condensing function.

また、以上の実施形態では、保持部材4の載置部4b上に直接、固体レーザ媒質3を載置した例を示したが、本発明はそれのみに限定するものではない。たとえば、シート状または板状の、段熱部材、ヒータ、または熱伝導部材を載置し、これらの上部に固体レーザ媒質3を載置して、固定材により固定してもよい。   Moreover, although the above embodiment showed the example which mounted the solid-state laser medium 3 directly on the mounting part 4b of the holding member 4, this invention is not limited only to it. For example, a sheet-like or plate-like stepped heat member, a heater, or a heat conducting member may be placed, and the solid laser medium 3 may be placed thereon and fixed by a fixing material.

本発明は、たとえばレーザ応用計測装置や光情報処理装置などのような、各種装置のレーザ光源として用いられる固体レーザ装置に適用することが可能である。   The present invention can be applied to a solid-state laser device used as a laser light source of various devices such as a laser applied measurement device and an optical information processing device.

1 半導体レーザ素子
2 集光光学系
21 コリメートレンズ
22 集光レンズ
3 固体レーザ媒質
3a 固体レーザ媒質の入射面
4 保持部材
4a 保持部
4b 載置部
11 第1基板
12 第2基板
12a 第2基板の一方の表面
46 測定装置
100 固体レーザ装置
LB レーザ光
Y 光軸方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser element 2 Condensing optical system 21 Collimating lens 22 Condensing lens 3 Solid laser medium 3a Incident surface of a solid laser medium 4 Holding member 4a Holding part 4b Mounting part 11 1st board | substrate 12 2nd board | substrate 12a 2nd board | substrate One surface 46 Measuring device 100 Solid-state laser device LB Laser beam Y Optical axis direction

Claims (7)

励起光を放射する半導体レーザ素子と、
前記励起光を集光する集光光学系と、
集光された前記励起光によって励起されてレーザ光を発生する固体レーザ媒質と、を備えた固体レーザ装置において、
前記集光光学系を保持する保持部および前記固体レーザ媒質が載置される載置部を有する保持部材と、
前記半導体レーザ素子が実装された第1基板と、
一方の表面に前記第1基板が実装されかつ前記保持部材が載置される第2基板と、をさらに備え、
前記保持部材は、前記集光光学系が前記半導体レーザ素子と対向するように、前記第2基板の前記一方の表面に載置されて、第1固定材により前記一方の表面に固定され、
前記固体レーザ媒質は、前記励起光が入射する入射面が前記集光光学系を介して前記半導体レーザ素子と対向するように、前記載置部に載置されて、第2固定材により前記載置部に固定されている、ことを特徴とする固体レーザ装置。
A semiconductor laser element that emits excitation light; and
A condensing optical system for condensing the excitation light;
In a solid-state laser device comprising: a solid-state laser medium that generates laser light by being excited by the condensed excitation light;
A holding member having a holding unit for holding the condensing optical system and a mounting unit on which the solid-state laser medium is mounted;
A first substrate on which the semiconductor laser element is mounted;
A second substrate on which the first substrate is mounted and the holding member is placed;
The holding member is placed on the one surface of the second substrate such that the condensing optical system faces the semiconductor laser element, and is fixed to the one surface by a first fixing material,
The solid-state laser medium is placed on the placement unit such that an incident surface on which the excitation light is incident faces the semiconductor laser element via the condensing optical system, and the solid-state laser medium is placed on the placement part by the second fixing material. A solid-state laser device, which is fixed to a mounting portion.
請求項1に記載の固体レーザ装置において、
前記保持部材は、前記第2基板の前記一方の表面に載置されて、前記励起光の光軸方向に摺動可能である、ことを特徴とする固体レーザ装置。
The solid-state laser device according to claim 1,
The solid-state laser device, wherein the holding member is placed on the one surface of the second substrate and is slidable in an optical axis direction of the excitation light.
請求項1または請求項2に記載の固体レーザ装置において、
前記固体レーザ媒質は、前記保持部材の前記載置部に載置されて、前記励起光の光軸方向に摺動可能である、ことを特徴とする固体レーザ装置。
The solid-state laser device according to claim 1 or 2,
The solid-state laser device, wherein the solid-state laser medium is placed on the mounting portion of the holding member and is slidable in the optical axis direction of the excitation light.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の固体レーザ装置において、
前記集光光学系は、
前記半導体レーザ素子から放射された前記励起光を平行光にするコリメートレンズと、
前記コリメートレンズから出射された平行光を前記固体レーザ媒質の入射面に集光する集光レンズと、から構成されている、ことを特徴とする固体レーザ装置。
The solid-state laser device according to any one of claims 1 to 3,
The condensing optical system is
A collimating lens that collimates the excitation light emitted from the semiconductor laser element;
A solid-state laser device comprising: a condensing lens that condenses parallel light emitted from the collimator lens on an incident surface of the solid-state laser medium.
励起光を放射する半導体レーザ素子と、
前記励起光を集光する集光光学系と、
集光された前記励起光によって励起されてレーザ光を発生する固体レーザ媒質と、
前記集光光学系を保持する保持部および前記固体レーザ媒質が載置される載置部を有する保持部材と、
前記半導体レーザ素子が実装された第1基板と、
一方の表面に前記第1基板が実装されかつ前記保持部材が載置される第2基板と、を備えた固体レーザ装置の製造方法であって、
前記第1基板に前記半導体レーザ素子を実装する第1工程と、
前記第2基板の一方の表面に前記第1基板を実装する第2工程と、
前記集光光学系を前記保持部材の前記保持部で保持する第3工程と、
前記集光光学系が前記半導体レーザ素子と対向するように、前記保持部材を前記第2基板の前記一方の表面に載置する第4工程と、
前記励起光が入射する前記固体レーザ媒質の入射面が、前記集光光学系を介して前記半導体レーザ素子と対向するように、前記固体レーザ媒質を前記保持部材の前記載置部に載置する第5工程と、
前記保持部材を前記第2基板の前記一方の表面に第1固定材により固定する第6工程と、
前記固体レーザ媒質を前記保持部材の前記載置部に第2固定材により固定する第7工程と、を含む、ことを特徴とする固体レーザ装置の製造方法。
A semiconductor laser element that emits excitation light; and
A condensing optical system for condensing the excitation light;
A solid-state laser medium that generates laser light by being excited by the condensed excitation light;
A holding member having a holding unit for holding the condensing optical system and a mounting unit on which the solid-state laser medium is mounted;
A first substrate on which the semiconductor laser element is mounted;
A first substrate mounted on one surface and a second substrate on which the holding member is placed, and a manufacturing method of a solid-state laser device comprising:
A first step of mounting the semiconductor laser element on the first substrate;
A second step of mounting the first substrate on one surface of the second substrate;
A third step of holding the condensing optical system by the holding portion of the holding member;
A fourth step of placing the holding member on the one surface of the second substrate such that the condensing optical system faces the semiconductor laser element;
The solid-state laser medium is placed on the mounting portion of the holding member so that an incident surface of the solid-state laser medium on which the excitation light is incident faces the semiconductor laser element via the condensing optical system. A fifth step;
A sixth step of fixing the holding member to the one surface of the second substrate with a first fixing member;
A solid-state laser device manufacturing method, comprising: a seventh step of fixing the solid-state laser medium to the mounting portion of the holding member with a second fixing member.
請求項5に記載の固体レーザ装置の製造方法において、
前記第6工程は、少なくとも前記第1〜第5工程の後に実行され、
前記第6工程では、
前記半導体レーザ素子から前記励起光を放射させることにより前記固体レーザ媒質から発生するレーザ光を測定装置により測定し、
前記測定装置の測定結果に基づいて、前記保持部材を前記第2基板の前記一方の表面上で前記励起光の光軸方向に摺動させて、前記保持部材を位置決めし、
その後、前記第1固定材により前記保持部材を前記第2基板の前記一方の表面に固定する、ことを特徴とする固体レーザ装置の製造方法。
In the manufacturing method of the solid-state laser device according to claim 5,
The sixth step is performed after at least the first to fifth steps,
In the sixth step,
Measuring laser light generated from the solid-state laser medium by emitting the excitation light from the semiconductor laser element,
Based on the measurement result of the measuring device, the holding member is slid in the optical axis direction of the excitation light on the one surface of the second substrate to position the holding member,
Thereafter, the holding member is fixed to the one surface of the second substrate by the first fixing material.
請求項5または請求項6に記載の固体レーザ装置の製造方法において、
前記第7工程は、少なくとも前記第1〜第5工程の後に実行され、
前記第7工程では、
前記半導体レーザ素子から前記励起光を放射させることにより前記固体レーザ媒質から発生するレーザ光を測定装置により測定し、
前記測定装置の測定結果に基づいて、前記固体レーザ媒質を前記保持部材の前記載置部上で前記励起光の光軸方向に摺動させて、前記固体レーザ媒質を位置決めし、
その後、前記第2固定材により前記固体レーザ媒質を前記載置部に固定する、ことを特徴とする固体レーザ装置の製造方法。
In the manufacturing method of the solid-state laser device according to claim 5 or 6,
The seventh step is performed after at least the first to fifth steps,
In the seventh step,
Measuring laser light generated from the solid-state laser medium by emitting the excitation light from the semiconductor laser element,
Based on the measurement result of the measuring device, the solid laser medium is slid in the optical axis direction of the excitation light on the mounting portion of the holding member to position the solid laser medium,
Thereafter, the solid-state laser medium is fixed to the mounting portion by the second fixing material, and the method for manufacturing a solid-state laser device is characterized in that:
JP2016098406A 2016-05-17 2016-05-17 Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device Pending JP2017208393A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016098406A JP2017208393A (en) 2016-05-17 2016-05-17 Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016098406A JP2017208393A (en) 2016-05-17 2016-05-17 Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017208393A true JP2017208393A (en) 2017-11-24

Family

ID=60417352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016098406A Pending JP2017208393A (en) 2016-05-17 2016-05-17 Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017208393A (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0414279A (en) * 1990-05-07 1992-01-20 Fuji Electric Co Ltd Semiconductor excitation solid-state laser
JPH1074997A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Shimadzu Corp Solid-state laser equipment
JP2001210899A (en) * 2000-01-28 2001-08-03 Mitsui Chemicals Inc Semiconductor laser exciting solid-state laser device
JP2001518235A (en) * 1996-11-19 2001-10-09 コントラベス・スペイス・アクチエンゲゼルシヤフト Laser and amplifier device for generating single frequency laser beam
JP2001349636A (en) * 2000-06-06 2001-12-21 Shimadzu Corp Temperature adjuster
JP2002151778A (en) * 2000-11-08 2002-05-24 Keyence Corp Laser oscillator
JP2003124553A (en) * 2001-10-12 2003-04-25 Topcon Corp Laser oscillating device
JP3601645B2 (en) * 1997-04-24 2004-12-15 澁谷工業株式会社 Bonding method for solid-state laser oscillator
US20110023807A1 (en) * 2007-08-31 2011-02-03 Martin Weinrotter Laser device and method for operating same
JP2012058578A (en) * 2010-09-10 2012-03-22 Panasonic Corp Laser light source device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0414279A (en) * 1990-05-07 1992-01-20 Fuji Electric Co Ltd Semiconductor excitation solid-state laser
JPH1074997A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Shimadzu Corp Solid-state laser equipment
JP2001518235A (en) * 1996-11-19 2001-10-09 コントラベス・スペイス・アクチエンゲゼルシヤフト Laser and amplifier device for generating single frequency laser beam
JP3601645B2 (en) * 1997-04-24 2004-12-15 澁谷工業株式会社 Bonding method for solid-state laser oscillator
JP2001210899A (en) * 2000-01-28 2001-08-03 Mitsui Chemicals Inc Semiconductor laser exciting solid-state laser device
JP2001349636A (en) * 2000-06-06 2001-12-21 Shimadzu Corp Temperature adjuster
JP2002151778A (en) * 2000-11-08 2002-05-24 Keyence Corp Laser oscillator
JP2003124553A (en) * 2001-10-12 2003-04-25 Topcon Corp Laser oscillating device
US20110023807A1 (en) * 2007-08-31 2011-02-03 Martin Weinrotter Laser device and method for operating same
JP2012058578A (en) * 2010-09-10 2012-03-22 Panasonic Corp Laser light source device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101416820B1 (en) Laser Optic Device for Bonding Flip Chip of Laser Thermo Compression Type
KR101950725B1 (en) Optical homogenization device and laser bonding apparatus containing the same
US7651264B2 (en) Laser processing device, laser processing temperature measuring device, laser processing method and laser processing temperature measuring method
JP2017167533A (en) Method of manufacturing passive optical components, and devices having the same
US20080296275A1 (en) Laser beam machining apparatus
JPH0618750A (en) Assembly for focusing and coupling emitted light generated by semiconductor laser to optical fiber
JP2010158686A (en) Optical device for laser processing, laser processing device and laser processing method
JPWO2016117472A1 (en) Optical axis alignment method and apparatus for optical device, and optical device manufacturing method
JP2014138021A (en) Alignment device and alignment method using the same
CN109454324A (en) Laser beam analyzer unit and laser processing device
KR20120075470A (en) Methods for passively aligning opto-electronic component assemblies on substrates
JP2015109356A (en) Laser device, method for manufacturing laser device, laser processing device, and display device
JP5126712B2 (en) Bonding equipment
JP2017208393A (en) Solid-state laser device and method for manufacturing solid-state laser device
WO2018051430A1 (en) Semiconductor laser module and additive manufacturing device
JP2016102864A (en) Optical module and method for manufacturing the same
KR100660111B1 (en) LASER machining apparatus including optical sensor unit and beam controller
CN114450160B (en) Method for producing an adhesive bond and support plate for producing an adhesive bond
CN107068591B (en) Tool and method for loosening electronic element on rigid substrate by means of radiation source
JP2001144364A (en) Semiconductor module, and attaching method for semiconductor laser element of the semiconductor module
JP6809928B2 (en) Light irradiation device
JP2002232064A (en) Semiconductor laser device and method of fixing lens position thereof
JP2004126533A (en) Method for adjusting optical axis direction of lens
JP2002232056A (en) Semiconductor laser device, and fastening method of lens position thereof
JP2010180404A (en) Adhesive bonding method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190625

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190807

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191029

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20200512