JP2017203983A - Semiconductor device, system, and operation method - Google Patents
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- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
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Abstract
Description
本発明の一態様は、半導体装置、システム、及び動作方法に関する。 One embodiment of the present invention relates to a semiconductor device, a system, and an operation method.
なお本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の技術分野は、物、方法、又は、製造方法に関するものである。又は、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、又は、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、発光装置、蓄電装置、撮像装置、記憶装置、プロセッサ、電子機器、それらの駆動方法、それらの製造方法、それらの検査方法、又はそれらのシステムを一例として挙げることができる。 Note that one embodiment of the present invention is not limited to the above technical field. The technical field of the invention disclosed in this specification and the like relates to an object, a method, or a manufacturing method. Alternatively, one embodiment of the present invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter). Therefore, the technical field of one embodiment of the present invention disclosed in this specification more specifically includes a semiconductor device, a display device, a liquid crystal display device, a light-emitting device, a power storage device, an imaging device, a memory device, a processor, an electronic device, These driving methods, their manufacturing methods, their inspection methods, or their systems can be mentioned as examples.
近年、スマートフォンなどの携帯電話、タブレット型情報端末、ノート型PC(パーソナルコンピュータ)等が有する表示装置において、様々な面で改良が進められている。例えば、解像度を大きくする、色再現性(NTSC比)を高くする、駆動回路を小さくする、消費電力を低減する、等の特徴を有する表示装置の開発が行われている。 In recent years, improvements have been made in various aspects of display devices included in mobile phones such as smartphones, tablet information terminals, notebook PCs (personal computers), and the like. For example, display devices having features such as increasing the resolution, increasing the color reproducibility (NTSC ratio), reducing the drive circuit, and reducing power consumption have been developed.
また、改良の1つとして、環境の光に応じて、表示装置に映す画像の明るさを自動的に調節する機能を有する表示装置が挙げられる。該表示装置として、例えば、環境の光を反射して画像を映す機能と、発光素子を光らせて画像を映す機能と、を有する表示装置が挙げられる。この構成にすることにより、環境の光が十分に強い場合には、反射光を利用して表示装置に画像を映す表示モード(以下、反射モードと呼称する。)とし、又は環境の光が弱い場合には、発光素子を光らせて表示装置に画像を映す表示モード(以下、透過モード、又は自発光モードと呼称する。)として、表示装置に映す画像の明るさの調節を行うことができる。つまり、該表示装置は、照度計(照度センサという場合もある。)などを用いて環境の光を検知することによって、該光の強さに応じて表示方法を反射モード、自発光モード、又はそれら両方を用いたモードのいずれかを選択して、画像の表示を行うことができる。 Further, as one of the improvements, there is a display device having a function of automatically adjusting the brightness of an image projected on the display device according to environmental light. Examples of the display device include a display device having a function of reflecting an environment light to project an image and a function of projecting a light emitting element to project an image. With this configuration, when the ambient light is sufficiently strong, the display mode (hereinafter referred to as a reflection mode) is used to display an image on the display device using the reflected light, or the ambient light is weak. In that case, the brightness of the image displayed on the display device can be adjusted as a display mode in which the light-emitting element is illuminated and an image is displayed on the display device (hereinafter referred to as a transmission mode or a self-light-emitting mode). In other words, the display device detects the ambient light using an illuminometer (sometimes referred to as an illuminance sensor) or the like, and changes the display method according to the intensity of the light, such as a reflection mode, a self-luminous mode, or An image can be displayed by selecting one of the modes using both of them.
ところで、発光素子を光らせて画像を映す機能と、環境の光を反射して画像を映す機能と、を有する表示装置として、例えば、1つの画素に、液晶素子を制御する画素回路と、発光素子を制御する画素回路と、を有する表示装置(以下、ハイブリッド(複合型)表示装置と呼称する。)が特許文献1乃至特許文献3に開示されている。 By the way, as a display device having a function of projecting an image by illuminating a light emitting element and a function of projecting an image by reflecting light of the environment, for example, a pixel circuit for controlling a liquid crystal element in one pixel, and a light emitting element Patent Documents 1 to 3 disclose a display device (hereinafter referred to as a hybrid (composite type) display device) having a pixel circuit that controls the above.
発光素子を光らせて画像を映す機能と、環境の光を反射して画像を映す機能と、を有する表示装置を実現する場合、前者の機能を有する表示パネルと、後者の機能を有する表示パネルと、を表示装置に備える必要がある。この場合、前者及び後者の表示パネルの駆動を行うために、それぞれの表示パネルに対して駆動回路を設ける必要があるため、表示パネル上の駆動回路の面積が大きくなる場合がある。また、駆動回路の数が増えると、表示装置の消費電力も高くなる場合がある。 When realizing a display device having a function of projecting an image by illuminating a light emitting element and a function of projecting an image by reflecting light of the environment, a display panel having the former function and a display panel having the latter function Must be provided in the display device. In this case, since it is necessary to provide a driving circuit for each display panel in order to drive the former and the latter display panels, the area of the driving circuit on the display panel may increase. Further, when the number of driver circuits increases, the power consumption of the display device may increase.
本発明の一態様は、新規な半導体装置を提供することを課題の一つとする。又は、本発明の一態様は、新規な半導体装置を有するモジュールを提供することを課題の一とする。又は、本発明の一態様は、新規な半導体装置を有するモジュールを使用した電子機器を提供することを課題の一とする。又は、本発明の一態様は、新規な半導体装置を利用したシステムを提供することを課題の一とする。 An object of one embodiment of the present invention is to provide a novel semiconductor device. Another object of one embodiment of the present invention is to provide a module including a novel semiconductor device. Another object of one embodiment of the present invention is to provide an electronic device using a module including a novel semiconductor device. Another object of one embodiment of the present invention is to provide a system using a novel semiconductor device.
又は、本発明の一態様は、回路面積が小さい半導体装置を提供することを課題の一とする。又は、本発明の一態様は、消費電力が低減された半導体装置を提供することを課題の一とする。 Another object of one embodiment of the present invention is to provide a semiconductor device with a small circuit area. Another object of one embodiment of the present invention is to provide a semiconductor device with reduced power consumption.
なお本発明の一態様の課題は、上記列挙した課題に限定されない。上記列挙した課題は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお他の課題は、以下の記載で述べる、本項目で言及していない課題である。本項目で言及していない課題は、当業者であれば明細書又は図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。なお、本発明の一態様は、上記列挙した記載、及び他の課題のうち、少なくとも一つの課題を解決するものである。なお、本発明の一態様は、上記列挙した記載、及び他の課題について、全ての課題を解決する必要はない。 Note that the problems of one embodiment of the present invention are not limited to the problems listed above. The problems listed above do not disturb the existence of other problems. Other issues are issues not mentioned in this section, which are described in the following description. Problems not mentioned in this item can be derived from descriptions of the specification or drawings by those skilled in the art, and can be appropriately extracted from these descriptions. Note that one embodiment of the present invention solves at least one of the above-described description and other problems. Note that in one embodiment of the present invention, it is not necessary to solve all the problems with respect to the above-described description and other problems.
(1)
本発明の一態様は、第1オペアンプと、第2オペアンプと、第1乃至第3回路と、を有し、第1回路は、第1乃至第nスイッチ(nは2以上の整数)と、第1乃至第(n+1)容量素子と、を有し、第2回路は、第1乃至第nセレクタを有し、第1乃至第nセレクタのそれぞれは、第1入力端子と、第2入力端子と、出力端子と、を有し、第3回路は、第(n+1)乃至第(2n+1)スイッチを有し、第1スイッチの一方の端子は、第1容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、第jスイッチの一方の端子(jは2以上n以下の整数である。)は、第j容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、第jスイッチの一方の端子は、第(j−1)スイッチの他方の端子と電気的に接続され、第nスイッチの他方の端子は、第(n+1)容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、第1オペアンプの非反転入力端子は、第nスイッチの他方の端子と電気的に接続され、第1オペアンプの反転入力端子は、第1オペアンプの出力端子と電気的に接続され、第2オペアンプの非反転入力端子は、第1スイッチの一方の端子と電気的に接続され、第2オペアンプの反転入力端子は、第2オペアンプの出力端子と電気的に接続され、第kセレクタの出力端子(kは1以上n以下の整数である。)は、第(k+1)容量素子の一対の電極の他方と電気的に接続され、第hスイッチ(hは(n+2)以上(2n+1)以下の整数である。)の一方の端子は、第(h−1)スイッチの他方の端子と電気的に接続され、第(n+k)スイッチの他方の端子は、第kセレクタの第2入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置である。
(1)
One embodiment of the present invention includes a first operational amplifier, a second operational amplifier, and first to third circuits, and the first circuit includes first to nth switches (n is an integer of 2 or more); And the second circuit has first to nth selectors, and each of the first to nth selectors includes a first input terminal and a second input terminal. And the output terminal, the third circuit includes (n + 1) to (2n + 1) switches, and one terminal of the first switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the first capacitor. One terminal of the jth switch (j is an integer of 2 or more and n or less) is electrically connected to one of the pair of electrodes of the jth capacitive element, and one terminal of the jth switch The terminal is electrically connected to the other terminal of the (j−1) th switch, and the other terminal of the nth switch is the (nth 1) The first operational amplifier is electrically connected to one of the pair of electrodes, the non-inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the other terminal of the nth switch, and the inverting input terminal of the first operational amplifier is The output terminal of the first operational amplifier is electrically connected, the non-inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to one terminal of the first switch, and the inverting input terminal of the second operational amplifier is connected to the second operational amplifier. The output terminal of the kth selector (k is an integer of 1 to n) is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the (k + 1) th capacitive element, and is electrically connected to the output terminal. One terminal of the h switch (h is an integer not less than (n + 2) and not more than (2n + 1)) is electrically connected to the other terminal of the (h−1) th switch, and the other terminal of the (n + k) th switch. Is the second input of the kth selector. A wherein a is terminal and electrically connected.
(2)
又は、本発明の一態様は、前記(1)において、第1乃至第(2n+1)スイッチのそれぞれは、第1トランジスタを有し、第1トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置である。
(2)
Alternatively, according to one embodiment of the present invention, in the above (1), each of the first to (2n + 1) switches includes a first transistor, and the channel formation region of the first transistor includes indium, an element M (element M Is a semiconductor device including an oxide containing at least one of aluminum, gallium, yttrium, or tin) and zinc.
(3)
又は、本発明の一態様は、前記(1)、又は前記(2)において、第(2n+2)スイッチと、第(2n+3)スイッチと、を有し、第(2n+2)スイッチの一方の端子は、第1オペアンプの非反転入力端子と電気的に接続され、第(2n+3)スイッチの一方の端子は、第2オペアンプの非反転入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置である。
(3)
Alternatively, one embodiment of the present invention includes the (2n + 2) switch and the (2n + 3) switch in (1) or (2), wherein one terminal of the (2n + 2) switch is The semiconductor device is electrically connected to a non-inverting input terminal of the first operational amplifier, and one terminal of the (2n + 3) switch is electrically connected to a non-inverting input terminal of the second operational amplifier. .
(4)
又は、本発明の一態様は、前記(3)において、第(2n+2)スイッチ、及び第(2n+3)スイッチのそれぞれは、第2トランジスタを有し、第2トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置である。
(4)
Alternatively, according to one embodiment of the present invention, in the above (3), each of the (2n + 2) switch and the (2n + 3) switch includes a second transistor, and the channel formation region of the second transistor is indium, element A semiconductor device including an oxide containing at least one of M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin) and zinc.
(5)
又は、本発明の一態様は、前記(1)乃至(4)のいずれか一において、第(2n+4)スイッチと、第(2n+5)スイッチと、を有し、第(2n+4)スイッチの一方の端子は、第1オペアンプの出力端子と電気的に接続され、第(2n+5)スイッチの一方の端子は、第2オペアンプの出力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置である。
(5)
Alternatively, according to one embodiment of the present invention, in any one of the above (1) to (4), the switch includes a (2n + 4) switch and a (2n + 5) switch, and one terminal of the (2n + 4) switch Is a semiconductor device characterized in that it is electrically connected to the output terminal of the first operational amplifier, and one terminal of the (2n + 5) switch is electrically connected to the output terminal of the second operational amplifier.
(6)
又は、本発明の一態様は、前記(5)において、第(2n+4)スイッチ、及び第(2n+5)スイッチのそれぞれは、第3トランジスタを有し、第3トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置である。
(6)
Alternatively, according to one embodiment of the present invention, in the above (5), each of the (2n + 4) switch and the (2n + 5) switch includes a third transistor, and the channel formation region of the third transistor includes indium, element A semiconductor device including an oxide containing at least one of M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin) and zinc.
(7)
又は、本発明の一態様は、第1オペアンプと、第2オペアンプと、第1乃至第3スイッチと、第1容量素子と、第2容量素子と、セレクタと、を有し、セレクタは、第1入力端子と、第2入力端子と、出力端子と、を有し、第1スイッチの一方の端子は、第1容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、第1スイッチの他方の端子は、第2容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、第1オペアンプの非反転入力端子は、第1スイッチの他方の端子と電気的に接続され、第1オペアンプの反転入力端子は、第1オペアンプの出力端子と電気的に接続され、第2オペアンプの非反転入力端子は、第1スイッチの一方の端子と電気的に接続され、第2オペアンプの反転入力端子は、第2オペアンプの出力端子と電気的に接続され、セレクタの出力端子は、第2容量素子の一対の電極の他方と電気的に接続され、第2スイッチの一方の端子は、3スイッチの他方の端子と電気的に接続され、第3スイッチの他方の端子は、セレクタの第2入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置である。
(7)
Alternatively, one embodiment of the present invention includes a first operational amplifier, a second operational amplifier, first to third switches, a first capacitor, a second capacitor, and a selector. A first input terminal; a second input terminal; and an output terminal, wherein one terminal of the first switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the first capacitor, and the other of the first switch Is electrically connected to one of the pair of electrodes of the second capacitive element, and the non-inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the other terminal of the first switch. The input terminal is electrically connected to the output terminal of the first operational amplifier, the non-inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to one terminal of the first switch, and the inverting input terminal of the second operational amplifier is Electrically connected to the output terminal of the second operational amplifier, The output terminal of the Kuta is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the second capacitive element, one terminal of the second switch is electrically connected to the other terminal of the three switches, and the other of the third switch This terminal is a semiconductor device characterized in that it is electrically connected to the second input terminal of the selector.
(8)
又は、本発明の一態様は、前記(1)乃至前記(7)のいずれか一に記載の半導体装置と、照度計と、第4回路と、第5回路と、第1表示パネルと、第2表示パネルと、を有するシステムであり、前記照度計は、前記第4回路と電気的に接続され、前記第4回路は、前記第5回路と電気的に接続され、前記第5回路は、前記半導体装置と電気的に接続され、前記第1表示パネルは、前記半導体装置と電気的に接続され、前記第2表示パネルは、前記半導体装置と電気的に接続されることを特徴とするシステムである。
(8)
Alternatively, according to one embodiment of the present invention, the semiconductor device according to any one of (1) to (7), an illuminance meter, a fourth circuit, a fifth circuit, a first display panel, The illuminometer is electrically connected to the fourth circuit, the fourth circuit is electrically connected to the fifth circuit, and the fifth circuit is The system is electrically connected to the semiconductor device, the first display panel is electrically connected to the semiconductor device, and the second display panel is electrically connected to the semiconductor device. It is.
(9)
又は、本発明の一態様は、前記(8)に記載のシステムの動作方法であり、第1乃至第10ステップを有し、第1ステップは、照度計によって、照度が計測されるステップを有し、第2ステップは、照度計から照度を第4回路に送信するステップを有し、第3ステップは、第4回路によって、照度に基づいて、第1表示パネルの階調、及び第2表示パネルの階調を決定する第1データを生成するステップを有し、第4ステップは、第4回路から第1データを第5回路に送信するステップと、外部から第2データを第5回路に送信するステップと、を有し、第5ステップは、半導体装置を初期化するステップを有し、第6ステップは、第5回路において、第1データと、第2データと、に応じて、第1表示パネルに送信するための第3データを生成するステップと、第5回路から第3データを半導体装置に送信するステップと、半導体装置において、第3データをデジタルアナログ変換して第4データにするステップと、を有し、第7ステップは、半導体装置から第4データを第1表示パネルに送信して、第1表示パネルに画像を表示するステップを有し、第8ステップは、半導体装置を初期化するステップを有し、第9ステップは、第5回路において、第1データと、第2データと、に応じて、第2表示パネルに送信するための第5データを生成するステップと、第5回路から第3データを半導体装置に送信するステップと、半導体装置において、第5データをデジタルアナログ変換して第6データにするステップと、を有し、第10ステップは、前期半導体装置から第6データを第2表示パネルに送信して、第2表示パネルに画像を表示するステップを有し、第2データは、ビデオデータであることを特徴とする動作方法である。
(9)
Alternatively, one embodiment of the present invention is the system operation method according to (8), including first to tenth steps, and the first step includes a step of measuring illuminance by an illuminometer. The second step includes a step of transmitting the illuminance from the illuminometer to the fourth circuit, and the third step is performed by the fourth circuit based on the illuminance and the second display by the fourth circuit. Generating a first data for determining a gray level of the panel; the fourth step includes a step of transmitting the first data from the fourth circuit to the fifth circuit; and a second data from the outside to the fifth circuit. Transmitting, and the fifth step includes a step of initializing the semiconductor device, and the sixth step corresponds to the first data and the second data in the fifth circuit according to the first data and the second data. 3rd data to send to 1 display panel And a step of transmitting third data from the fifth circuit to the semiconductor device, and a step of digital-analog converting the third data into fourth data in the semiconductor device, wherein the seventh step is , Transmitting the fourth data from the semiconductor device to the first display panel, and displaying an image on the first display panel. The eighth step includes a step of initializing the semiconductor device. Generating a fifth data to be transmitted to the second display panel according to the first data and the second data in the fifth circuit; and transferring the third data from the fifth circuit to the semiconductor device. And transmitting the fifth data to the sixth data by converting the fifth data into the sixth data in the semiconductor device, and the tenth step includes the sixth data from the previous semiconductor device. Send to the second display panel, comprising the step of displaying an image on the second display panel, the second data is an operation method, which is a video data.
本発明の一態様によって、新規な半導体装置を提供することができる。又は、本発明の一態様によって、新規な半導体装置を有するモジュールを提供することができる。又は、本発明の一態様によって、新規な半導体装置を有するモジュールを使用した電子機器を提供することができる。又は、本発明の一態様によって、新規な半導体装置を利用したシステムを提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, a novel semiconductor device can be provided. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a module including a novel semiconductor device can be provided. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, an electronic device using a module including a novel semiconductor device can be provided. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a system using a novel semiconductor device can be provided.
又は、本発明の一態様によって、回路面積が小さい半導体装置を提供することができる。又は、本発明の一態様によって、消費電力が低減された半導体装置を提供することができる。 Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a semiconductor device with a small circuit area can be provided. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a semiconductor device with reduced power consumption can be provided.
なお本発明の一態様の効果は、上記列挙した効果に限定されない。上記列挙した効果は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお他の効果は、以下の記載で述べる、本項目で言及していない効果である。本項目で言及していない効果は、当業者であれば明細書又は図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。なお、本発明の一態様は、上記列挙した効果、及び他の効果のうち、少なくとも一つの効果を有するものである。従って本発明の一態様は、場合によっては、上記列挙した効果を有さない場合もある。 Note that the effects of one embodiment of the present invention are not limited to the effects listed above. The effects listed above do not preclude the existence of other effects. The other effects are effects not mentioned in this item described in the following description. Effects not mentioned in this item can be derived from the description of the specification or drawings by those skilled in the art, and can be appropriately extracted from these descriptions. Note that one embodiment of the present invention has at least one of the effects listed above and other effects. Accordingly, one embodiment of the present invention may not have the above-described effects depending on circumstances.
「電子機器」、「電子部品」、「モジュール」、「半導体装置」の記載について説明する。一般的に、「電子機器」とは、例えば、パーソナルコンピュータ、携帯電話、タブレット端末、電子書籍端末、ウェアラブル端末、AV機器(AV;Audio Visual)、電化製品、住宅設備機器、業務用設備機器、デジタルサイネージ、自動車、又は、システムを有する電気製品などをいう場合がある。また、「電子部品」、又は「モジュール」とは、電子機器が有するプロセッサ、記憶装置、センサ、バッテリ、表示装置、発光装置、インターフェース機器、RFタグ(RF;Radio Frequency)、受信装置、送信装置などをいう場合がある。また、「半導体装置」とは、半導体素子を用いた装置、又は、電子部品又はモジュールが有する、半導体素子を適用した駆動回路、制御回路、論理回路、信号生成回路、信号変換回路、電位レベル変換回路、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路、記憶回路、メモリセル、表示回路、表示画素などをいう場合がある。 Descriptions of “electronic device”, “electronic component”, “module”, and “semiconductor device” will be described. In general, an “electronic device” includes, for example, a personal computer, a mobile phone, a tablet terminal, an electronic book terminal, a wearable terminal, an AV device (AV), an electrical appliance, a housing facility device, a business facility device, It may refer to digital signage, an automobile, or an electrical product having a system. The “electronic component” or “module” refers to a processor, a storage device, a sensor, a battery, a display device, a light emitting device, an interface device, an RF tag (RF), a receiving device, and a transmitting device included in the electronic device. And so on. A “semiconductor device” is a device using a semiconductor element, or a drive circuit, a control circuit, a logic circuit, a signal generation circuit, a signal conversion circuit, or a potential level conversion to which a semiconductor element is applied, which an electronic component or module has. A circuit, a voltage source, a current source, a switching circuit, an amplifier circuit, a memory circuit, a memory cell, a display circuit, a display pixel, or the like may be used.
また、本明細書において、酸化物半導体をOS(Oxide Semiconductor)と表記する場合がある。そのため、チャネル形成領域に酸化物半導体を有するトランジスタをOSトランジスタという場合がある。 In this specification, an oxide semiconductor is sometimes referred to as an OS (Oxide Semiconductor). Therefore, a transistor including an oxide semiconductor in a channel formation region may be referred to as an OS transistor.
(実施の形態1)
本実施の形態では、表示装置に備えることができる半導体装置の例について、説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, examples of semiconductor devices that can be included in a display device are described.
<半導体装置の構成例>
図1は、表示装置に備えることができる表示部と、駆動回路部の一例を示している。図1に示す半導体装置100は、液晶素子を有する画素回路と、発光素子を有する画素回路と、のそれぞれを駆動することができるソースドライバの一部である。半導体装置100は、照度計101と、しきい値検出回路102と、タイミングコントローラ103と、回路104と、を有する。半導体装置100は、表示部110と電気的に接続されている。なお、本明細書において、半導体装置100と、表示部110と、をまとめてシステム、又は電子機器と呼ぶ場合がある。
<Configuration example of semiconductor device>
FIG. 1 illustrates an example of a display portion and a drive circuit portion that can be provided in the display device. A semiconductor device 100 illustrated in FIG. 1 is a part of a source driver that can drive a pixel circuit including a liquid crystal element and a pixel circuit including a light-emitting element. The semiconductor device 100 includes an illuminance meter 101, a threshold detection circuit 102, a timing controller 103, and a circuit 104. The semiconductor device 100 is electrically connected to the display unit 110. Note that in this specification, the semiconductor device 100 and the display unit 110 may be collectively referred to as a system or an electronic device.
表示部110は、表示パネルLPと、表示パネルOPと、を有する。表示パネルLPは、例えば、液晶素子を有する反射型液晶パネルを適用することができる。加えて、表示パネルOPは、例えば、自発光素子を有する発光装置を適用することができる。自発光素子としては、OLED(Organic Light Emitting Diode)などが挙げられる。本実施の形態では、表示パネルLPを反射型液晶パネルとし、表示パネルOPを有機ELパネルとして、説明する。 The display unit 110 includes a display panel LP and a display panel OP. As the display panel LP, for example, a reflective liquid crystal panel having a liquid crystal element can be applied. In addition, for example, a light emitting device having a self light emitting element can be applied to the display panel OP. Examples of the self-light-emitting element include OLED (Organic Light Emitting Diode). In the present embodiment, the display panel LP will be described as a reflective liquid crystal panel, and the display panel OP will be described as an organic EL panel.
照度計101は、しきい値検出回路102と電気的に接続され、しきい値検出回路102は、タイミングコントローラ103と電気的に接続されている。タイミングコントローラ103は、回路104と電気的に接続され、回路104は、表示パネルLPと、表示パネルOPと、に電気的に接続されている。 The illuminance meter 101 is electrically connected to the threshold detection circuit 102, and the threshold detection circuit 102 is electrically connected to the timing controller 103. The timing controller 103 is electrically connected to the circuit 104, and the circuit 104 is electrically connected to the display panel LP and the display panel OP.
照度計101は、外光の照度を計測できるデバイスを有する。照度計101には、例えば、フォトダイオードによる光検出器などを有することができる。 The illuminometer 101 has a device that can measure the illuminance of external light. The illuminometer 101 can include, for example, a photodetector using a photodiode.
しきい値検出回路102は、照度計101によって計測した照度を取得して、該照度に応じた表示装置の階調を決定し、その階調の情報をタイミングコントローラ103に送信する機能を有する。 The threshold detection circuit 102 has a function of acquiring the illuminance measured by the illuminance meter 101, determining the gradation of the display device according to the illuminance, and transmitting information on the gradation to the timing controller 103.
タイミングコントローラ103は、外部からシリアル転送されたデジタル映像ソース(ビデオデータ、又はデジタルビデオデータという場合がある。)を各ソースラインに割り振る機能を有する。加えて、タイミングコントローラ103は、割り振られたデジタルビデオデータと、しきい値検出回路102から送られてきた階調の情報と、表示部110で駆動する表示モードと、に基づいて、各ソースラインに有するデジタルアナログ変換回路200への入力信号を生成する機能を有する。表示モードとは、表示部110の駆動方式を示し、反射モード(表示パネルLPに画像を表示する。)、透過モード(表示パネルOPに画像を表示する。)、休止モード(デジタルアナログ変換回路200の動作を停止する。)のいずれかの方式を指す。更に、表示モードには、表示パネルLPと表示パネルOPの両方に画像を表示する方式(反射+透過モード)もあってもよい。また、デジタルアナログ変換回路200については、後述する。 The timing controller 103 has a function of allocating a digital video source (also referred to as video data or digital video data) serially transferred from the outside to each source line. In addition, the timing controller 103 determines each source line based on the allocated digital video data, the gradation information sent from the threshold detection circuit 102, and the display mode driven by the display unit 110. 1 has a function of generating an input signal to the digital-analog conversion circuit 200. The display mode indicates a driving method of the display unit 110, and includes a reflection mode (displays an image on the display panel LP), a transmission mode (displays an image on the display panel OP), and a pause mode (digital / analog conversion circuit 200). Stops the operation of.)). Further, the display mode may include a method (reflection + transmission mode) in which an image is displayed on both the display panel LP and the display panel OP. The digital-analog conversion circuit 200 will be described later.
なお、タイミングコントローラ103で生成されるデジタルアナログ変換回路200への入力信号は、複数の場合がある。そのため、図1では、タイミングコントローラ103と、デジタルアナログ変換回路200と、を電気的に接続する配線を複数本図示している。 Note that there may be a plurality of input signals to the digital-analog conversion circuit 200 generated by the timing controller 103. Therefore, in FIG. 1, a plurality of wirings that electrically connect the timing controller 103 and the digital-analog conversion circuit 200 are illustrated.
回路104は、複数のデジタルアナログ変換回路200(図1ではDACと記載している。)を有する。複数のデジタルアナログ変換回路200のそれぞれは、複数の端子ITと、端子OTと、端子LTと、を有する。 The circuit 104 includes a plurality of digital-analog conversion circuits 200 (denoted as DAC in FIG. 1). Each of the plurality of digital-analog conversion circuits 200 includes a plurality of terminals IT, a terminal OT, and a terminal LT.
複数の端子ITは、タイミングコントローラ103と電気的に接続され、先述したタイミングコントローラ103で生成された信号は、端子ITに送信される。端子OTは、表示部110の表示パネルOPと電気的に接続され、端子LTは、表示パネルLPと電気的に接続される。 The plurality of terminals IT are electrically connected to the timing controller 103, and a signal generated by the timing controller 103 described above is transmitted to the terminal IT. The terminal OT is electrically connected to the display panel OP of the display unit 110, and the terminal LT is electrically connected to the display panel LP.
回路104が有するデジタルアナログ変換回路200の個数は、表示パネルLP内の1本の走査線(ゲート線、または単に配線という場合がある)に接続される画素回路の個数によって決まる。 The number of the digital / analog conversion circuits 200 included in the circuit 104 is determined by the number of pixel circuits connected to one scanning line (also referred to as a gate line or simply a wiring) in the display panel LP.
また、表示パネルOPにおける行方向の画素回路の個数、及び列方向の画素回路の個数は、表示パネルLPにおける行方向の画素回路の個数、及び列方向の画素回路の個数とそれぞれ等しい。つまり、回路104が有するデジタルアナログ変換回路の個数は、表示パネルOP内の1本の選択信号線に選択される画素回路の個数によっても決まる。 Further, the number of pixel circuits in the row direction and the number of pixel circuits in the column direction in the display panel OP are equal to the number of pixel circuits in the row direction and the number of pixel circuits in the column direction in the display panel LP, respectively. That is, the number of digital-analog conversion circuits included in the circuit 104 is also determined by the number of pixel circuits selected for one selection signal line in the display panel OP.
<階調の決定方法>
次に、しきい値検出回路102と、回路104と、によって、外光の照度に応じた表示装置の階調を決定する方法について説明する。
<Determination method of gradation>
Next, a method for determining the gray level of the display device in accordance with the illuminance of external light using the threshold detection circuit 102 and the circuit 104 will be described.
図2は、デジタルビデオデータの値と、しきい値と、表示画像を表現する表示パネルOPの発光強度と、表示画像を表現する表示パネルLPの反射強度と、のそれぞれの関係を説明するための図である。なお、ここでは、例としてデジタルビデオデータを6ビットとして説明する。 FIG. 2 is a diagram for explaining the relationship among the value of digital video data, the threshold value, the emission intensity of the display panel OP that represents the display image, and the reflection intensity of the display panel LP that represents the display image. FIG. Here, digital video data is described as 6 bits as an example.
図2(A)は、デジタルビデオデータの信号を模式的に示した図である。MSBは最上位ビットを示し、LSBは最下位ビットを示し、thはしきい値を示している。しきい値は、照度計101で計測した照度に応じた値であり、該しきい値はしきい値検出回路102によって定められて、階調の情報としてタイミングコントローラ103に転送される。 FIG. 2A schematically shows a digital video data signal. MSB indicates the most significant bit, LSB indicates the least significant bit, and th indicates a threshold value. The threshold value is a value corresponding to the illuminance measured by the illuminometer 101. The threshold value is determined by the threshold value detection circuit 102 and transferred to the timing controller 103 as gradation information.
タイミングコントローラ103は、しきい値検出回路102からしきい値を取得することで、外部からタイミングコントローラ103に転送されたデジタルビデオデータにしきい値を設ける。そして、しきい値を境界として、該デジタルビデオデータは、上位ビット長と、下位ビット長と、に分けられる。該上位ビット長は、表示パネルOPの発光強度に寄与することとし、該下位ビット長は、表示パネルLPの反射強度に寄与することして、表示画像の階調を決定する。 The timing controller 103 obtains a threshold value from the threshold value detection circuit 102, thereby providing a threshold value for the digital video data transferred from the outside to the timing controller 103. The digital video data is divided into an upper bit length and a lower bit length with a threshold as a boundary. The upper bit length contributes to the light emission intensity of the display panel OP, and the lower bit length contributes to the reflection intensity of the display panel LP, thereby determining the gradation of the display image.
始めに、表示装置を使用する環境下が暗い場合を考える。外光が暗い場合、表示パネルLPの反射強度が弱くなるため、表示パネルOPの発光強度を強くする必要がある。ここでは、暗い環境下において、照度計101と、しきい値検出回路102と、によって、しきい値として2ビット得られたものとする(図2(B−1))。つまり、上述したとおり、上位ビット長の4ビットが表示パネルOPの発光強度に寄与し、下位ビット長の2ビットが表示パネルLPの反射強度に寄与する。 First, consider the case where the environment where the display device is used is dark. When the outside light is dark, the reflection intensity of the display panel LP becomes weak, so that the emission intensity of the display panel OP needs to be increased. Here, it is assumed that 2 bits are obtained as a threshold value by the illuminometer 101 and the threshold value detection circuit 102 in a dark environment (FIG. 2 (B-1)). That is, as described above, the upper bit length of 4 bits contributes to the emission intensity of the display panel OP, and the lower bit length of 2 bits contributes to the reflection intensity of the display panel LP.
なお、本発明の一態様では、表示パネルOPで画像を表示させるとき、上位4ビットの値を参照するため、使用しない下位2ビットについては「00」としている。つまり、表示パネルOPに画像を表示するとき、しきい値を反映させたデジタルデータは、上位4ビットが「0000」乃至「1111」のいずれかであり、かつ下位2ビットが「00」のデータとなる。また、表示パネルLPで画像を表示させるとき、下位2ビットを参照するため、使用しない上位4ビットについては無視してもよい。また、状況に応じて、場合によって、又は必要に応じて、上位4ビットの値を「0000」乃至「1111」のいずれかの値として適当に定めてもよい。 In one aspect of the present invention, when an image is displayed on the display panel OP, the value of the upper 4 bits is referred to, so the lower 2 bits that are not used are set to “00”. That is, when an image is displayed on the display panel OP, the digital data reflecting the threshold value is data in which the upper 4 bits are “0000” to “1111” and the lower 2 bits are “00”. It becomes. Further, when displaying an image on the display panel LP, since the lower 2 bits are referred to, the upper 4 bits that are not used may be ignored. Further, the value of the upper 4 bits may be appropriately determined as any value of “0000” to “1111” depending on the situation, depending on the case or as necessary.
図2(B−2)は、表示装置の輝度と、デジタルビデオデータの値の関係を表すグラフである。ハッチングパターンのない領域は、表示パネルOPの発光強度を示し、ハッチングパターンのある領域は、表示パネルLPの反射強度を示している。 FIG. 2B-2 is a graph showing the relationship between the luminance of the display device and the value of the digital video data. The area without the hatching pattern indicates the light emission intensity of the display panel OP, and the area with the hatching pattern indicates the reflection intensity of the display panel LP.
上位ビット長が4ビットである場合、上位ビットは「0000」から「1111」までの値を持つことになる。つまり、表示パネルOPの発光強度は、上位ビット「0000」から上位ビット「1111」までの16段階で表現される。また、図2(B−2)より、表示パネルOPの発光強度は、上位ビット「0000」から順に高くなるものとする。なお、上位ビット「0000」は、表示パネルOPの発光強度が0のため、図2(B−2)に図示していない。 When the upper bit length is 4 bits, the upper bits have values from “0000” to “1111”. That is, the light emission intensity of the display panel OP is expressed in 16 levels from the upper bit “0000” to the upper bit “1111”. Further, from FIG. 2B-2, it is assumed that the light emission intensity of the display panel OP increases in order from the upper bit “0000”. The upper bit “0000” is not shown in FIG. 2B-2 because the emission intensity of the display panel OP is 0.
また、下位ビット長は「00」から「11」までの値を持つことになる。つまり、表示パネルLPの反射強度は、下位ビット「00」から下位ビット「11」までの4段階で表現される。また、図2(B−2)に示す輝度は、表示パネルLPの4段階の反射強度を、表示パネルOPの16段階の発光強度のそれぞれに足し合わせて、図示している。 The lower bit length has a value from “00” to “11”. That is, the reflection intensity of the display panel LP is expressed in four levels from the lower bit “00” to the lower bit “11”. The luminance shown in FIG. 2B-2 is shown by adding the four levels of reflection intensity of the display panel LP to each of the sixteen levels of emission intensity of the display panel OP.
ところで、表示パネルLPの階調は、表示パネルLPが有する液晶素子に印加される電位によって決まり、表示パネルOPの階調は、表示パネルOPが有する駆動トランジスタのゲートに印加される電位によって決まる。つまり、表示パネルLP及び表示パネルOPの階調は、共に電位によって決めることができる。但し、階調調整に用いる電位は、表示パネルLP、又は表示パネルOPによって異なる場合が多い。そのため、本発明の一態様では、半導体装置100に供給する階調調整用の電位を2種用意することとする。 Incidentally, the gradation of the display panel LP is determined by the potential applied to the liquid crystal element included in the display panel LP, and the gradation of the display panel OP is determined by the potential applied to the gate of the driving transistor included in the display panel OP. That is, the gray levels of the display panel LP and the display panel OP can be determined by the potential. However, the potential used for gradation adjustment often differs depending on the display panel LP or the display panel OP. Therefore, in one embodiment of the present invention, two kinds of gradation adjustment potentials to be supplied to the semiconductor device 100 are prepared.
表示パネルOPの階調調整用の電源電位をVoelとし、表示パネルLPの階調調整用の電源電位をVrlcdとする。表示パネルOPでは、前述のとおり、16段階の発光強度によって階調が定まるので、表示パネルOPの表示素子に印加される電位は、階調調整用の電源電位Voelが16段階に分割された電位のいずれかとなる(図2(B−3))。また、表示パネルLPでは、4段階の発光強度によって階調が定まるので、表示パネルLPの表示素子に印加される電位は、階調調整用の電源電位Vrlcdが4段階に分割された電位のいずれかとなる。なお、図2(B−3)において、上位4ビットが「0000」のときの電位を0電位、下位2ビットが「00」のときの電位を0電位と記載しているが、本明細書では、それらの0電位をGND電位として記載する場合がある。 The power supply potential for gradation adjustment of the display panel OP is Voel, and the power supply potential for gradation adjustment of the display panel LP is Vrlcd. In the display panel OP, as described above, the gradation is determined by the light emission intensity in 16 steps. Therefore, the potential applied to the display element of the display panel OP is a potential obtained by dividing the power supply potential Voel for gradation adjustment into 16 steps. (Fig. 2 (B-3)). In the display panel LP, the gradation is determined by the light emission intensity in four stages. Therefore, the potential applied to the display element of the display panel LP is any of the potentials obtained by dividing the power supply potential Vrlcd for gradation adjustment into four stages. It becomes. 2B-3, the potential when the upper 4 bits are “0000” is described as 0 potential, and the potential when the lower 2 bits are “00” is described as 0 potential. Then, those 0 potentials may be described as GND potentials.
次に、表示装置を使用する環境下が明るい場合を考える。外光が明るい場合、表示パネルLPの反射強度を強くなるため、表示パネルOPの発光強度を弱くする必要がある。ここでは、外光が明るい環境下において、照度計101と、しきい値検出回路102によって、しきい値として4ビット得られたものとする(図2(C−1))。つまり、上位ビット長の2ビットが表示パネルOPの発光強度に寄与し、下位ビット長の4ビットが表示パネルLPの反射強度に寄与する。 Next, consider a case where the environment in which the display device is used is bright. When the outside light is bright, the reflection intensity of the display panel LP is increased, so that the emission intensity of the display panel OP needs to be decreased. Here, it is assumed that 4 bits are obtained as a threshold value by the illuminometer 101 and the threshold value detection circuit 102 in an environment where the outside light is bright (FIG. 2 (C-1)). That is, 2 bits of the upper bit length contribute to the light emission intensity of the display panel OP, and 4 bits of the lower bit length contribute to the reflection intensity of the display panel LP.
なお、本発明の一態様では、表示パネルOPで画像を表示させるとき、上位2ビットの値を参照するため、使用しない下位4ビットについては「0000」としている。つまり、表示パネルOPに画像を表示するとき、しきい値を反映させたデジタルデータは、「000000」、「010000」、「100000」、「110000」のいずれかとなる。また、表示パネルLPで画像を表示させるとき、下位4ビットを参照するため、使用しない上位2ビットについては「00」としている。つまり、表示パネルLPに画像を表示するとき、しきい値を反映させたデジタルデータは、「000000」乃至「001111」のいずれかとなる。 Note that in one aspect of the present invention, when an image is displayed on the display panel OP, the value of the upper 2 bits is referred to, so the lower 4 bits that are not used are set to “0000”. That is, when an image is displayed on the display panel OP, the digital data reflecting the threshold value is any one of “000000”, “010000”, “100000”, and “110000”. Further, when displaying an image on the display panel LP, the lower 4 bits are referred to, so the upper 2 bits that are not used are set to “00”. That is, when an image is displayed on the display panel LP, the digital data reflecting the threshold value is any one of “000000” to “001111”.
図2(C−2)は、図2(B−2)と同様に、表示装置の輝度と、デジタルビデオデータの値の関係を表すグラフである。 FIG. 2C-2 is a graph showing the relationship between the luminance of the display device and the value of the digital video data, as in FIG. 2B-2.
上位ビット長が2ビットである場合、上位ビットは「00」から「11」までの値を持つことになる。つまり、表示パネルOPの発光強度は、上位ビット「00」から上位ビット「11」までの4段階で表現される。また、図2(C−2)より、表示パネルOPの発光強度は、上位ビット「00」から順に高くなるものとする。なお、上位ビット「00」は、表示パネルOPの発光強度が0のため、図2(C−2)に図示していない。 When the upper bit length is 2 bits, the upper bits have values from “00” to “11”. That is, the light emission intensity of the display panel OP is expressed in four stages from the upper bit “00” to the upper bit “11”. Further, from FIG. 2C-2, it is assumed that the light emission intensity of the display panel OP increases in order from the upper bit “00”. The upper bit “00” is not shown in FIG. 2C-2 because the emission intensity of the display panel OP is 0.
また、下位ビット長は「0000」から「1111」までの値を持つことになる。つまり、表示パネルLPの反射強度は、下位ビット「0000」から下位ビット「1111」までの16段階で表現される。また、図2(C−2)は、表示パネルLPの16段階の反射強度を、表示パネルOPの4段階の発光強度のそれぞれに足し合わせて、図示している。 The lower bit length has a value from “0000” to “1111”. That is, the reflection intensity of the display panel LP is expressed in 16 levels from the lower bit “0000” to the lower bit “1111”. FIG. 2C-2 shows the 16-stage reflection intensity of the display panel LP added to each of the 4-stage emission intensities of the display panel OP.
つまり、表示パネルOPの表示素子に印加される電位は、階調調整用の電源電位Voelが4段階に分割された電位のいずれかとなる(図2(C−3))。また、表示パネルLPでは、表示パネルLPの表示素子に印加される電位は、階調調整用の電源電位Vrlcdが16段階に分割された電位のいずれかとなる。なお、図2(C−3)において、上位2ビットが「00」のときの電位を0電位、下位4ビットが「0000」のときの電位を0電位と記載しているが、本明細書では、それらの0電位をGND電位として記載する場合がある。 That is, the potential applied to the display element of the display panel OP is one of potentials obtained by dividing the power supply potential Voel for gradation adjustment into four stages (FIG. 2 (C-3)). In the display panel LP, the potential applied to the display element of the display panel LP is any one of the potentials obtained by dividing the power supply potential Vrlcd for gradation adjustment into 16 stages. Note that in FIG. 2C-3, the potential when the upper 2 bits are “00” is described as 0 potential, and the potential when the lower 4 bits are “0000” is described as 0 potential. Then, those 0 potentials may be described as GND potentials.
<デジタルアナログ変換回路200の構成例>
次に、デジタルアナログ変換回路200の構成例について説明する。デジタルアナログ変換回路200は、前述したとおり、表示パネルOP専用の階調信号と、表示パネルLP専用の階調信号と、を生成できるようなデジタルアナログ変換回路とする必要がある。
<Configuration Example of Digital / Analog Conversion Circuit 200>
Next, a configuration example of the digital-analog conversion circuit 200 will be described. As described above, the digital-analog conversion circuit 200 needs to be a digital-analog conversion circuit that can generate a gradation signal dedicated to the display panel OP and a gradation signal dedicated to the display panel LP.
図3に、デジタルアナログ変換回路200の構成例として、デジタルアナログ変換回路200Aを示す。デジタルアナログ変換回路200Aは、容量アレイ型のデジタルアナログ変換回路の一例であり、nビット(nは2以上の整数である。)のデジタル信号をアナログ信号に変換する機能を有する。デジタルアナログ変換回路200Aは、オペアンプOP1と、オペアンプOP2と、スイッチOSWと、スイッチLSWと、スイッチOSWGと、スイッチLSWGと、回路201と、回路202と、回路203と、を有する。スイッチOSWと、スイッチLSWと、スイッチOSWGと、スイッチLSWGと、は、それぞれ2端子間で電気的に開閉を行うスイッチである。 FIG. 3 shows a digital / analog conversion circuit 200 </ b> A as a configuration example of the digital / analog conversion circuit 200. The digital-analog conversion circuit 200A is an example of a capacitance array type digital-analog conversion circuit, and has a function of converting an n-bit (n is an integer of 2 or more) digital signal into an analog signal. The digital-analog conversion circuit 200A includes an operational amplifier OP1, an operational amplifier OP2, a switch OSW, a switch LSW, a switch OSWG, a switch LSWG, a circuit 201, a circuit 202, and a circuit 203. The switch OSW, the switch LSW, the switch OSWG, and the switch LSWG are switches that electrically open and close between two terminals, respectively.
回路201は、スイッチSWa[1]乃至スイッチSWa[n]と、容量素子C[0]乃至容量素子C[n]と、を有する。なお、スイッチSWa[1]乃至スイッチSWa[n]は、スイッチOSW、スイッチLSW、スイッチOSWG、及びスイッチLSWGと同様に、いずれも2端子間で電気的に開閉を行うスイッチである。なお、容量素子C[0]、容量素子C[1]、容量素子C[j](jは2以上n以下の整数である。)のそれぞれの静電容量値の比は、下式を満たす。 The circuit 201 includes switches SWa [1] to SWa [n] and capacitors C [0] to C [n]. Note that each of the switches SWa [1] to SWa [n] is a switch that electrically opens and closes between two terminals, like the switch OSW, the switch LSW, the switch OSWG, and the switch LSWG. Note that the ratio of the capacitance values of the capacitive element C [0], the capacitive element C [1], and the capacitive element C [j] (j is an integer of 2 to n) satisfies the following expression. .
容量素子C[0]の一対の電極の一方は、スイッチSWa[1]の一方の端子と電気的に接続され、容量素子C[0]の一対の電極の他方は、配線GNDLと電気的に接続されている。 One of the pair of electrodes of the capacitor C [0] is electrically connected to one terminal of the switch SWa [1], and the other of the pair of electrodes of the capacitor C [0] is electrically connected to the wiring GNDL. It is connected.
スイッチSWa[1]の他方の端子は、容量素子C[1]の一対の電極の一方と電気的に接続されている。 The other terminal of the switch SWa [1] is electrically connected to one of the pair of electrodes of the capacitor C [1].
スイッチSWa[j](jは2以上n以下の整数である。)の一方の端子は、スイッチSWa[j−1]の他方の端子と電気的に接続され、スイッチSWa[j]の他方の端子は、容量素子C[j]の一対の電極の一方と電気的に接続されている。 One terminal of the switch SWa [j] (j is an integer of 2 to n) is electrically connected to the other terminal of the switch SWa [j−1], and the other terminal of the switch SWa [j]. The terminal is electrically connected to one of the pair of electrodes of the capacitor C [j].
オペアンプOP1の非反転入力端子は、スイッチOSWGの一方の端子と、スイッチSWa[n]の他方の端子と、容量素子C[n]の一対の電極の一方と電気的に接続されている。オペアンプOP1の出力端子は、スイッチOSWの一方の端子と電気的に接続され、スイッチOSWの他方の端子は、端子OTと電気的に接続されている。スイッチOSWGの他方の端子は、配線GNDLと電気的に接続されている。 The non-inverting input terminal of the operational amplifier OP1 is electrically connected to one terminal of the switch OSWG, the other terminal of the switch SWa [n], and one of the pair of electrodes of the capacitor C [n]. The output terminal of the operational amplifier OP1 is electrically connected to one terminal of the switch OSW, and the other terminal of the switch OSW is electrically connected to the terminal OT. The other terminal of the switch OSWG is electrically connected to the wiring GNDL.
オペアンプOP1の反転入力端子は、オペアンプOP1の出力端子と電気的に接続されている。つまり、オペアンプOP1の接続構成は、ボルテージフォロワ回路の構成となっている。 The inverting input terminal of the operational amplifier OP1 is electrically connected to the output terminal of the operational amplifier OP1. That is, the connection configuration of the operational amplifier OP1 is a configuration of a voltage follower circuit.
オペアンプOP2の非反転入力端子は、スイッチLSWGの一方の端子と、スイッチSWa[1]の一方の端子と、容量素子C[0]の一対の電極の一方と電気的に接続されている。オペアンプOP2の出力端子は、スイッチLSWの一方の端子と電気的に接続され、スイッチLSWの他方の端子は、端子LTと電気的に接続されている。スイッチLSWGの他方の端子は、配線GNDLと電気的に接続されている。 The non-inverting input terminal of the operational amplifier OP2 is electrically connected to one terminal of the switch LSWG, one terminal of the switch SWa [1], and one of the pair of electrodes of the capacitor C [0]. The output terminal of the operational amplifier OP2 is electrically connected to one terminal of the switch LSW, and the other terminal of the switch LSW is electrically connected to the terminal LT. The other terminal of the switch LSWG is electrically connected to the wiring GNDL.
オペアンプOP2の反転入力端子は、オペアンプOP2の出力端子と電気的に接続されている。つまり、オペアンプOP2の接続構成は、ボルテージフォロワ回路の構成となっている。 The inverting input terminal of the operational amplifier OP2 is electrically connected to the output terminal of the operational amplifier OP2. That is, the connection configuration of the operational amplifier OP2 is a configuration of a voltage follower circuit.
回路202は、スイッチSE[1]乃至スイッチSE[n]を有する。スイッチSE[1]乃至スイッチSE[n]は、いずれも第1乃至第3端子を有し、第1端子を、第2端子又は第3端子のどちらか一方に、電気的に接続する機能を有する。つまり、スイッチSE[1]乃至スイッチSE[n]は、いずれもセレクタの機能を有する。 The circuit 202 includes switches SE [1] to SE [n]. Each of the switches SE [1] to SE [n] has first to third terminals, and has a function of electrically connecting the first terminal to either the second terminal or the third terminal. Have. That is, each of the switches SE [1] to SE [n] has a selector function.
スイッチSE[1]の第1端子は、容量素子[1]の一対の電極の他方と電気的に接続され、スイッチSE[1]の第2端子は、配線GNDLと電気的に接続されている。スイッチSE[j]の第1端子は、容量素子[j]の一対の電極の他方と電気的に接続され、スイッチSE[j]の第2端子は、配線GNDLと電気的に接続されている。 The first terminal of the switch SE [1] is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the capacitor [1], and the second terminal of the switch SE [1] is electrically connected to the wiring GNDL. . The first terminal of the switch SE [j] is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the capacitor [j], and the second terminal of the switch SE [j] is electrically connected to the wiring GNDL. .
回路203は、スイッチSWb[1]乃至スイッチSWb[n+1]を有する。スイッチSWb[1]乃至スイッチSWb[n+1]は、スイッチSWa[1]乃至スイッチSWa[n]、スイッチOSW、スイッチLSW、スイッチOSWG、及びスイッチLSWGと同様に、いずれも2端子間で電気的開閉を行うスイッチである。 The circuit 203 includes switches SWb [1] to SWb [n + 1]. The switches SWb [1] to SWb [n + 1] are electrically opened and closed between the two terminals, like the switches SWa [1] to SWa [n], the switch OSW, the switch LSW, the switch OSWG, and the switch LSWG. It is a switch that performs.
スイッチSWb[1]の一方の端子は、配線VLLと電気的に接続され、スイッチSWb[1]の他方の端子は、スイッチSE[1]の第3端子と電気的に接続されている。スイッチSWb[j]の一方の端子は、スイッチSWb[j−1]の他方の端子と電気的に接続され、スイッチSWb[j]の他方の端子は、スイッチSE[j]の第3端子と電気的に接続されている。スイッチSWb[n+1]の一方の端子は、スイッチSWb[n]の他方の端子と電気的に接続され、スイッチSWb[n+1]の他方の端子は、配線VOLと電気的に接続されている。 One terminal of the switch SWb [1] is electrically connected to the wiring VLL, and the other terminal of the switch SWb [1] is electrically connected to the third terminal of the switch SE [1]. One terminal of the switch SWb [j] is electrically connected to the other terminal of the switch SWb [j-1], and the other terminal of the switch SWb [j] is connected to the third terminal of the switch SE [j]. Electrically connected. One terminal of the switch SWb [n + 1] is electrically connected to the other terminal of the switch SWb [n], and the other terminal of the switch SWb [n + 1] is electrically connected to the wiring VOL.
配線VOLは、表示パネルOP用の電位を与えるための配線であり、配線VLLは、表示パネルLP用の電位を与えるための配線である。また、配線GNDLは、接地電位(GND電位という場合がある。)を与えるための配線である。 The wiring VOL is a wiring for applying a potential for the display panel OP, and the wiring VLL is a wiring for applying a potential for the display panel LP. The wiring GNDL is a wiring for applying a ground potential (sometimes referred to as a GND potential).
なお、図3には、オペアンプOP1、オペアンプOP2、端子OT、端子LT、スイッチOSW、スイッチLSW、スイッチOSWG、スイッチLSWG、配線GNDL、配線VOL、配線VLL、回路201、回路202、回路203、容量素子C[0]、容量素子C[1]、容量素子C[j]、容量素子C[n]、スイッチSWa[1]、スイッチSWa[j]、スイッチSWa[n]、スイッチSE[1]、スイッチSE[j]、スイッチSE[n]、スイッチSWb[1]、スイッチSWb[j]、スイッチSWb[n]、スイッチSWb[n+1]のみ図示しており、それ以外の素子、回路、配線、及びそれらの符号については省略している。 3 shows an operational amplifier OP1, an operational amplifier OP2, a terminal OT, a terminal LT, a switch OSW, a switch LSW, a switch OSWG, a switch LSWG, a wiring GNDL, a wiring VOL, a wiring VLL, a circuit 201, a circuit 202, a circuit 203, and a capacitor. Element C [0], Capacitor C [1], Capacitor C [j], Capacitor C [n], Switch SWa [1], Switch SWa [j], Switch SWa [n], Switch SE [1] , The switch SE [j], the switch SE [n], the switch SWb [1], the switch SWb [j], the switch SWb [n], and the switch SWb [n + 1] are only illustrated, and other elements, circuits, and wirings are shown. , And their reference numerals are omitted.
なお、本発明の一態様に係るデジタルアナログ変換回路は、図3に示すデジタルアナログ変換回路に限定されない。状況に応じて、場合によって、又は、必要に応じて、デジタルアナログ変換回路200Aの構成を変更することができる。例えば、スイッチSWa[1]の一方の端子とオペアンプOP2の非反転入力端子との間の寄生容量が、容量素子C[0]に相当する場合、容量素子C[0]は回路201に設けなくてもよい。また、例えば、オペアンプOP1、及びオペアンプOP2の非反転入力端子側にかかる寄生容量の大きさによっては、式(E1)を満たす必要は無く、容量素子C[0]乃至容量素子C[n]の静電容量を適当な値として設計すればよい。 Note that the digital-to-analog converter circuit according to one embodiment of the present invention is not limited to the digital-to-analog converter circuit illustrated in FIG. Depending on the situation, the configuration of the digital-analog conversion circuit 200A can be changed depending on circumstances or necessity. For example, when the parasitic capacitance between one terminal of the switch SWa [1] and the non-inverting input terminal of the operational amplifier OP2 corresponds to the capacitive element C [0], the capacitive element C [0] is not provided in the circuit 201. May be. Further, for example, depending on the size of the parasitic capacitance on the non-inverting input terminal side of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2, it is not necessary to satisfy the formula (E1), and the capacitance elements C [0] to C [n] What is necessary is just to design an electrostatic capacitance as an appropriate value.
なお、スイッチOSWG、スイッチLSWG、スイッチSWa[1]乃至スイッチSWa[n]、スイッチSWb[1]乃至スイッチSWb[n+1]などのスイッチとして、電気的スイッチ、機械的スイッチ、又はMEMS素子(Micro Electro Mechanical Systems)などを用いてもよい。例えば、電気的スイッチとしては、トランジスタを用いることが好ましい。特に、nチャネル型のトランジスタを用いる場合、該トランジスタは、チャネル形成領域にインジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することが望ましい。つまり、OSトランジスタであることが望ましい。OSトランジスタを用いることで、該トランジスタのオフ電流を非常に小さくできるため、容量素子C[0]乃至容量素子C[n]に保持した電荷のリークを防ぐことができる。 Note that as a switch such as the switch OSWG, the switch LSWG, the switch SWa [1] to the switch SWa [n], the switch SWb [1] to the switch SWb [n + 1], an electrical switch, a mechanical switch, or a MEMS element (Micro Electro (Mechanical Systems) may be used. For example, a transistor is preferably used as the electrical switch. In particular, when an n-channel transistor is used, the transistor includes an oxide containing at least one of indium, an element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin) and zinc in a channel formation region. desirable. That is, an OS transistor is desirable. By using the OS transistor, the off-state current of the transistor can be extremely small; thus, leakage of charges held in the capacitor C [0] to the capacitor C [n] can be prevented.
<デジタルアナログ変換回路200の動作例>
次に、デジタルアナログ変換回路200の動作例について説明する。
<Operation Example of Digital / Analog Conversion Circuit 200>
Next, an operation example of the digital-analog conversion circuit 200 will be described.
なお、本動作例では、説明の煩雑さを避けるため、デジタルアナログ変換回路200Aでなく、図4(A)に示すデジタルアナログ変換回路の動作について説明する。 In this operation example, the operation of the digital-analog conversion circuit shown in FIG. 4A, not the digital-analog conversion circuit 200A, will be described in order to avoid complicated explanation.
デジタルアナログ変換回路200Bは、6ビットのデジタル信号をアナログ信号に変換する回路の一例である。つまり、デジタルアナログ変換回路200Bは、デジタルアナログ変換回路200Aにおいて、nを6としている。そのため、回路201は、容量素子C[0]乃至容量素子C[6]を有することになる。 The digital-analog conversion circuit 200B is an example of a circuit that converts a 6-bit digital signal into an analog signal. That is, the digital-analog conversion circuit 200B sets n to 6 in the digital-analog conversion circuit 200A. Therefore, the circuit 201 includes the capacitor C [0] to the capacitor C [6].
また、デジタルアナログ変換回路200Bは、デジタルアナログ変換回路200Aにおいて、スイッチOSWを、トランジスタOTrとし、スイッチLSWを、トランジスタLTrとし、スイッチSWa[1]乃至スイッチSWa[n]をトランジスタTra[1]乃至トランジスタTra[6]とし、スイッチOSWGをトランジスタOTrGとし、スイッチLSWGをトランジスタLTrGとし、スイッチSWb[1]乃至スイッチSWb[n+1]をトランジスタTrb[1]乃至トランジスタTrb[7]としている。 Further, the digital-analog conversion circuit 200B in the digital-analog conversion circuit 200A includes the switch OSW as the transistor OTr, the switch LSW as the transistor LTr, and the switches SWa [1] to SWa [n] as the transistors Tra [1] to The transistor Tra [6], the switch OSWG is the transistor OTrG, the switch LSWG is the transistor LTrG, and the switches SWb [1] to SWb [n + 1] are the transistors Trb [1] to Trb [7].
なお、上述のトランジスタの導通、非導通の制御を行うため、各トランジスタのゲートには、配線が接続されている。具体的には、トランジスタOTrのゲートは配線OSLと電気的に接続され、トランジスタLTrのゲートは配線LSLと電気的に接続されている。加えて、トランジスタTra[1]乃至トランジスタTra[6]のそれぞれのゲートは、配線a[1]乃至配線a[6]の各々と電気的に接続されている。トランジスタOTrGのゲートは配線OGLと電気的に接続され、トランジスタLTrGのゲートは配線LGLと電気的に接続されている。トランジスタTrb[1]乃至トランジスタTrb[7]のそれぞれのゲートは、配線b[1]乃至配線b[7]の各々と電気的に接続されている。 Note that a wiring is connected to the gate of each transistor in order to control the conduction and non-conduction of the above-described transistors. Specifically, the gate of the transistor OTr is electrically connected to the wiring OSL, and the gate of the transistor LTr is electrically connected to the wiring LSL. In addition, the gates of the transistors Tra [1] to Tra [6] are electrically connected to the wirings a [1] to a [6], respectively. The gate of the transistor OTrG is electrically connected to the wiring OGL, and the gate of the transistor LTrG is electrically connected to the wiring LGL. The gates of the transistors Trb [1] to Trb [7] are electrically connected to the wirings b [1] to b [7], respectively.
また、デジタルアナログ変換回路200Bは、デジタルアナログ変換回路200Aにおいて、スイッチSE[1]乃至スイッチSE[6]をセレクタSC[1]乃至セレクタSC[6]としている。更に、スイッチSE[J](Jは1以上6以下の整数である。)の第1乃至第3端子をそれぞれ端子SCT1、端子SCT2、端子SCT3としている。 In the digital-analog conversion circuit 200B, in the digital-analog conversion circuit 200A, the switches SE [1] to SE [6] are changed to selectors SC [1] to SC [6]. Further, the first to third terminals of the switch SE [J] (J is an integer of 1 to 6) are referred to as a terminal SCT1, a terminal SCT2, and a terminal SCT3, respectively.
セレクタSC[J]について、図4(B)を用いて、説明する。セレクタSC[J]は、アナログスイッチSWc1と、アナログスイッチSWc2と、インバータ回路INVと、を有する。 The selector SC [J] will be described with reference to FIG. The selector SC [J] includes an analog switch SWc1, an analog switch SWc2, and an inverter circuit INV.
端子SCT1は、アナログスイッチSWc1の第1入出力端子と、アナログスイッチSWc2の第1入出力端子と、に電気的に接続され、端子SCT2は、アナログスイッチSWc2の第2入出力端子に電気的に接続され、端子SCT3は、アナログスイッチSWc1の第2入出力端子に電気的に接続されている。配線c[J]は、アナログスイッチSWc1の第1制御端子と、アナログスイッチSWc2の第1制御端子と、インバータ回路INVの入力端子と、に電気的に接続されている。インバータ回路INVの出力端子は、アナログスイッチSWc1の第2制御端子と、アナログスイッチSWc2の第2制御端子と、に電気的に接続されている。 The terminal SCT1 is electrically connected to the first input / output terminal of the analog switch SWc1 and the first input / output terminal of the analog switch SWc2. The terminal SCT2 is electrically connected to the second input / output terminal of the analog switch SWc2. The terminal SCT3 is electrically connected to the second input / output terminal of the analog switch SWc1. The wiring c [J] is electrically connected to the first control terminal of the analog switch SWc1, the first control terminal of the analog switch SWc2, and the input terminal of the inverter circuit INV. The output terminal of the inverter circuit INV is electrically connected to the second control terminal of the analog switch SWc1 and the second control terminal of the analog switch SWc2.
つまり、図4(B)に示すセレクタSC[J]の回路図より、配線c[J]に高レベル電位を印加することで、アナログスイッチSWc1が導通状態、加えてアナログスイッチSWc2が非導通状態となる。また、配線c[J]に低レベル電位を印加することで、アナログスイッチSWc1が非導通状態、加えてアナログスイッチSWc2が導通状態となる。 That is, from the circuit diagram of the selector SC [J] shown in FIG. 4B, by applying a high-level potential to the wiring c [J], the analog switch SWc1 is in a conductive state, and in addition, the analog switch SWc2 is in a nonconductive state. It becomes. Further, by applying a low-level potential to the wiring c [J], the analog switch SWc1 is turned off, and the analog switch SWc2 is turned on.
なお、セレクタSC[J]の構成は、図4(B)に示す回路図に限定せず、アナログスイッチSWc1及び/又はアナログスイッチSWc2を有さない構成としてもよい。 Note that the configuration of the selector SC [J] is not limited to the circuit diagram shown in FIG. 4B, and the analog switch SWc1 and / or the analog switch SWc2 may be omitted.
なお、図4(A)、及び(B)のデジタルアナログ変換回路200B、及びセレクタSC[J]の一連の動作が行われるときには、配線OSL、配線LSL、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに入力される信号は、タイミングコントローラ103から送信される。すなわち、タイミングコントローラ103で、デジタルビデオデータと、しきい値検出回路102から送られたしきい値と、表示部110で駆動する表示モードと、に基づいて生成される入力信号は、上述した各配線に送られる。そのため、配線OSL、配線LSL、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれは、複数の端子ITと電気的に接続されている。 Note that when the series of operations of the digital-analog conversion circuit 200B and the selector SC [J] in FIGS. 4A and 4B are performed, the wiring OSL, the wiring LSL, the wiring OGL, the wiring LGL, and the wiring a [1] To wiring a [6], wiring b [1] to wiring b [7], and wiring c [1] to wiring c [6] are transmitted from the timing controller 103. That is, the input signal generated by the timing controller 103 based on the digital video data, the threshold value sent from the threshold value detection circuit 102, and the display mode driven by the display unit 110 is Sent to the wiring. Therefore, the wiring OSL, the wiring LSL, the wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to the wiring c [6]. Each is electrically connected to a plurality of terminals IT.
次に、図5に示すタイミングチャートを用いて、デジタルアナログ変換回路200Bの動作例について説明する。 Next, an operation example of the digital-analog conversion circuit 200B will be described using the timing chart shown in FIG.
図5に示すタイミングチャートは、配線OSL、配線LSL、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]、端子OT、及び端子LTの電位の変動を示している。配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]には、それぞれ高レベル電位(図5では、Highと表記している。)、又は、低レベル電位(図5では、Lowと表記している。)の一方が印加される。なお、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]に印加される電位は、高レベル電位、及び低レベル電位に限定せず、アナログ電位であってもよい。 The timing chart illustrated in FIG. 5 includes the wiring OSL, the wiring LSL, the wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to A change in potential of the wiring c [6], the terminal OT, and the terminal LT is shown. The wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to the wiring c [6] have high-level potentials (see FIG. 5, one of a high level potential and a low level potential (designated as Low in FIG. 5) is applied. Note that the potential applied to the wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to the wiring c [6] is It is not limited to the high level potential and the low level potential, and may be an analog potential.
また、配線OSL、配線LSL、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、及び配線c[1]乃至配線c[6]は、複数の端子ITを介して、タイミングコントローラ103と電気的に接続されている。つまり、配線OSL、配線LSL、配線OGL、配線LGL、配線a[1]乃至配線a[6]、配線b[1]乃至配線b[7]、及び配線c[1]乃至配線c[6]には、デジタルアナログ変換回路200Bに入力されるデジタルビデオデータ、外光の照度に応じたデジタルビデオデータのしきい値、及び表示部110で駆動する表示モードを選択する信号、デジタルアナログ変換回路200Bを初期化するための信号が送られる。 In addition, the wiring OSL, the wiring LSL, the wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to the wiring c [6]. Are electrically connected to the timing controller 103 via a plurality of terminals IT. That is, the wiring OSL, the wiring LSL, the wiring OGL, the wiring LGL, the wiring a [1] to the wiring a [6], the wiring b [1] to the wiring b [7], and the wiring c [1] to the wiring c [6]. Includes a digital video data input to the digital-analog conversion circuit 200B, a threshold value of the digital video data corresponding to the illuminance of external light, a signal for selecting a display mode driven by the display unit 110, and a digital-analog conversion circuit 200B. A signal is sent to initialize.
<<初期化>>
初めに、初期化の動作について説明する。この動作によって、デジタルアナログ変換回路200Bの有する容量素子C[0]乃至容量素子C[6]に保持されたそれぞれの電位をゼロ電位にする。なお、図5のタイミングチャートではその期間をInitと記載しており、時刻T0から時刻T1までの期間において初期化の動作を行っている。
<< Initialization >>
First, the initialization operation will be described. By this operation, each potential held in the capacitor C [0] to the capacitor C [6] included in the digital-analog converter circuit 200B is set to zero potential. In the timing chart of FIG. 5, the period is described as Init, and the initialization operation is performed in the period from time T0 to time T1.
時刻T0から時刻T1までにおいて、配線OSL及び配線LSLのそれぞれに低レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTr、及びトランジスタLTrのそれぞれが非導通状態となり、端子OT、及び端子LTからの信号の出力は行われない。 From time T0 to time T1, a low-level potential is applied to each of the wiring OSL and the wiring LSL. As a result, each of the transistor OTr and the transistor LTr is turned off, and signals are not output from the terminal OT and the terminal LT.
時刻T0から時刻T1までにおいて、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTrG、及びトランジスタLTrGのそれぞれが導通状態となり、オペアンプOP1の非反転入力端子、及びオペアンプOP2の非反転入力端子のそれぞれにGND電位が印加される。 From time T0 to time T1, a high-level potential is applied to each of the wiring OGL and the wiring LGL. As a result, each of the transistor OTrG and the transistor LTrG becomes conductive, and the GND potential is applied to each of the non-inverting input terminal of the operational amplifier OP1 and the non-inverting input terminal of the operational amplifier OP2.
オペアンプOP1、及びオペアンプOP2のそれぞれの接続構成は、ボルテージフォロワ回路の構成となっているので、出力端子に出力される電位は、非反転入力端子に入力された電位となる。 Since the connection configuration of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2 is a voltage follower circuit configuration, the potential output to the output terminal is the potential input to the non-inverting input terminal.
また、トランジスタOTrG、及びトランジスタLTrGのそれぞれが導通状態となることにより、容量素子C[0]の一対の電極の一方にもGND電位が印加される。容量素子C[0]の一対の電極の他方は、配線GNDLが接続されているため、容量素子C[0]の保持する電位は、ゼロ電位となる。 In addition, when each of the transistor OTrG and the transistor LTrG is turned on, the GND potential is also applied to one of the pair of electrodes of the capacitor C [0]. Since the other side of the pair of electrodes of the capacitor C [0] is connected to the wiring GNDL, the potential held by the capacitor C [0] is zero.
また、時刻T0から時刻T1までにおいて、配線a[1]乃至配線a[6]のそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTra[1]乃至トランジスタTra[6]のそれぞれが導通状態となり、容量素子C[1]乃至容量素子C[6]のそれぞれの一対の電極の一方にGND電位が印加される。 In addition, from time T0 to time T1, a high-level potential is applied to each of the wirings a [1] to a [6]. Accordingly, the transistors Tra [1] to Tra [6] are turned on, and the GND potential is applied to one of the pair of electrodes of the capacitors C [1] to C [6].
更に、時刻T0から時刻T1までにおいて、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに低レベル電位が印加される。これにより、セレクタSC[1]乃至セレクタSC[6]のそれぞれの、端子SCT1と端子SCT2が電気的に接続された状態となる。したがって、容量素子C[1]乃至容量素子C[6]のそれぞれの一対の電極の他方には、配線GNDLからGND電位が印加される。 Further, a low-level potential is applied to each of the wirings c [1] to c [6] from time T0 to time T1. Thus, the terminals SCT1 and SCT2 of the selectors SC [1] to SC [6] are electrically connected. Accordingly, the GND potential is applied from the wiring GNDL to the other of the pair of electrodes of the capacitor C [1] to the capacitor C [6].
このため、容量素子C[1]乃至容量素子C[6]のそれぞれが保持する電位は、ゼロ電位となる。 Therefore, the potential held by each of the capacitor C [1] to the capacitor C [6] is zero potential.
加えて、時刻T0から時刻T1までにおいて、配線b[1]乃至配線b[7]のそれぞれに低レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTrb[1]乃至トランジスタTrb[7]のそれぞれが非導通状態となるので、配線VOL及び配線VLLから、デジタルアナログ変換回路200Bへの電位の印加が行われない。 In addition, from time T0 to time T1, a low-level potential is applied to each of the wirings b [1] to b [7]. Accordingly, each of the transistors Trb [1] to Trb [7] is turned off, so that no potential is applied from the wiring VOL and the wiring VLL to the digital-analog conversion circuit 200B.
なお、時刻T0から時刻T1まででは、セレクタSC[1]乃至セレクタSC[6]の端子SCT1−端子SCT3間が電気的に接続されていない状態なので、セレクタSC[1]乃至セレクタSC[6]のそれぞれの端子SCT3に、配線VOL又は配線VLLからの電位が印加されていてもよい。ただし、トランジスタTrb[1]乃至トランジスタTrb[7]の全てを導通状態にする場合、配線VOL−配線VLL間において、電流が流れるため、消費電力が増加することがある。これを防ぐため、時刻T0から時刻T1までにおいて、トランジスタTrb[1]乃至トランジスタTrb[7]のうち、少なくとも一が非導通状態にする必要がある。 Note that since the terminals SCT1 to SCT3 of the selectors SC [1] to SC [6] are not electrically connected from the time T0 to the time T1, the selectors SC [1] to SC [6] A potential from the wiring VOL or the wiring VLL may be applied to each of the terminals SCT3. However, when all of the transistors Trb [1] to Trb [7] are turned on, current may flow between the wiring VOL and the wiring VLL, which may increase power consumption. In order to prevent this, at least one of the transistors Trb [1] to Trb [7] needs to be in a non-conductive state from time T0 to time T1.
<<OELモード>>
次に、初期化の動作を行った後に、表示パネルOPに画像を表示するときのデジタルアナログ変換回路200Bの動作例について説明する。時刻T1から時刻T2までの期間において、タイミングコントローラ103で各ソースラインに割り振られたデジタルビデオデータに対して、外光に応じたしきい値が定められる。これにより、デジタルビデオデータの階調が定められる。そして、該しきい値と、デジタルビデオデータと、表示モード(自発光モード、又はOELモード)と、に基づくデジタル信号がデジタルアナログ変換回路200Bに送られる。デジタルアナログ変換回路200Bに送られた該デジタル信号をアナログ信号に変換して、表示パネルOPに送ることによって、階調が調整された画像を表示パネルOPに表示することができる。
<< OEL mode >>
Next, an operation example of the digital-analog conversion circuit 200B when displaying an image on the display panel OP after performing the initialization operation will be described. In the period from time T1 to time T2, a threshold corresponding to the external light is determined for the digital video data allocated to each source line by the timing controller 103. Thereby, the gradation of the digital video data is determined. Then, a digital signal based on the threshold value, digital video data, and display mode (self-emission mode or OEL mode) is sent to the digital-analog conversion circuit 200B. By converting the digital signal sent to the digital-analog conversion circuit 200B into an analog signal and sending it to the display panel OP, an image whose gradation has been adjusted can be displayed on the display panel OP.
例えば、時刻T1において、着目するソースラインに割り振られたデジタルビデオデータを、「110101」とする。また、外光強度によって定められるしきい値を、下位2ビットとする。つまり、表示パネルOPの発光強度は、デジタルビデオデータの上位4ビットが寄与するので、該ソースラインに電気的に接続されているデジタルアナログ変換回路200Bの端子OTから出力されるアナログ値は、デジタルビデオデータ「110100」がアナログ変換されたものとなる。 For example, the digital video data allocated to the target source line at time T1 is “110101”. Further, the threshold value determined by the external light intensity is set to the lower 2 bits. That is, since the upper 4 bits of the digital video data contribute to the emission intensity of the display panel OP, the analog value output from the terminal OT of the digital-analog conversion circuit 200B electrically connected to the source line is digital. The video data “110100” is analog-converted.
時刻T1から時刻T2までにおいて、配線OSLに高レベル電位が印加され、配線LSLに低レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTrは導通状態となり、トランジスタLTrは非導通状態となる。 From time T1 to time T2, a high level potential is applied to the wiring OSL and a low level potential is applied to the wiring LSL. As a result, the transistor OTr is turned on and the transistor LTr is turned off.
時刻T1から時刻T2までにおいて、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに低レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTrG、及びトランジスタLTrGのそれぞれは非導通状態となる。 From time T1 to time T2, a low level potential is applied to each of the wiring OGL and the wiring LGL. As a result, each of the transistor OTrG and the transistor LTrG is turned off.
また、時刻T1から時刻T2までにおいて、配線a[1]乃至配線a[6]のそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTra[1]乃至トランジスタTra[6]のそれぞれは導通状態となる。 In addition, from time T1 to time T2, a high-level potential is applied to each of the wirings a [1] to a [6]. Accordingly, the transistors Tra [1] to Tra [6] are turned on.
加えて、時刻T1から時刻T2までにおいて、配線b[1]に低レベル電位が印加され、配線b[2]乃至配線b[7]のそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTrb[1]は非導通状態となり、トランジスタTrb[2]乃至トランジスタTra[7]のそれぞれは導通状態となる。したがって、セレクタSC[1]乃至セレクタSC[7]のそれぞれの端子SCT3には、配線VOLから電位Voelが印加される。 In addition, from time T1 to time T2, a low-level potential is applied to the wiring b [1], and a high-level potential is applied to each of the wirings b [2] to b [7]. Accordingly, the transistor Trb [1] is turned off, and the transistors Trb [2] to Tra [7] are turned on. Therefore, the potential Voel is applied from the wiring VOL to the terminals SCT3 of the selectors SC [1] to SC [7].
更に、時刻T1から時刻T2までにおいて、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに、デジタルビデオデータ「110100」の各ビットに相当する電位が印加される。具体的には、Jビット目が「1」であるとき、配線c[J]には高レベル電位が印加され、また、Jビット目が「0」であるとき、配線c[J]には低レベル電位が印加される。つまり、配線c[3]、配線c[5]、及び配線c[6]には高レベル電位が印加され、配線c[1]、配線c[2]、及び配線c[4]には低レベル電位が印加されることになる。 Further, from time T1 to time T2, a potential corresponding to each bit of the digital video data “110100” is applied to each of the wirings c [1] to c [6]. Specifically, when the J-th bit is “1”, a high-level potential is applied to the wiring c [J], and when the J-th bit is “0”, the wiring c [J] is applied to the wiring c [J]. A low level potential is applied. That is, a high level potential is applied to the wiring c [3], the wiring c [5], and the wiring c [6], and a low level is applied to the wiring c [1], the wiring c [2], and the wiring c [4]. A level potential will be applied.
これにより、セレクタSC[3]、セレクタSC[5]、セレクタSC[6]はそれぞれ、端子SCT1−端子SCT3間が電気的に接続状態、かつ端子SCT1−端子SCT2間が電気的に非接続状態となり、セレクタSC[1]、セレクタSC[2]、セレクタSC[4]はそれぞれ、端子SCT1−端子SCT3間が電気的に非接続状態、かつ端子SCT1−端子SCT2間が電気的に接続状態となる。したがって、容量素子C[3]、容量素子C[5]、及び容量素子C[6]のそれぞれの一対の電極の他方には、セレクタSC[3]、セレクタSC[5]、セレクタSC[6]のそれぞれの端子SCT3に入力された電位Voelが印加される。同時に、容量素子C[1]、容量素子C[2]、及び容量素子C[4]のそれぞれの一対の電極の他方には、配線GNDLから、セレクタSC[1]、セレクタSC[2]、セレクタSC[4]のそれぞれの端子SCT1−端子SCT3間を介して、GND電位が印加される。 Accordingly, the selector SC [3], the selector SC [5], and the selector SC [6] are electrically connected between the terminal SCT1 and the terminal SCT3 and are not electrically connected between the terminal SCT1 and the terminal SCT2. Thus, the selector SC [1], the selector SC [2], and the selector SC [4] are electrically disconnected between the terminal SCT1 and the terminal SCT3 and electrically connected between the terminal SCT1 and the terminal SCT2, respectively. Become. Accordingly, the other of the pair of electrodes of the capacitive element C [3], the capacitive element C [5], and the capacitive element C [6] includes a selector SC [3], a selector SC [5], and a selector SC [6]. The potential Voel input to each terminal SCT3 is applied. At the same time, the other of the pair of electrodes of the capacitor C [1], the capacitor C [2], and the capacitor C [4] is connected to the selector SC [1], the selector SC [2], The GND potential is applied via the terminals SCT1 to SCT3 of the selector SC [4].
ところで、容量素子C[0]乃至容量素子C[6]のそれぞれの容量値の比は、式(E1)より、C[0]:C[1]:C[2]:C[3]:C[4]:C[5]:C[6]=1:1:2:4:8:16:32となる。 By the way, the ratio of the capacitance values of the capacitive elements C [0] to C [6] is C [0]: C [1]: C [2]: C [3]: C [4]: C [5]: C [6] = 1: 1: 2: 4: 8: 16: 32.
また、時刻T1から時刻T2までにおける、デジタルアナログ変換回路200Bの接続構成は図6(A)に示す回路と等価となる。つまり、オペアンプOP1及びオペアンプOP2の非反転入力端子に印加される電位は、上述の容量比、及び図6(A)の接続構成から求めることができる。容量素子C[3]、容量素子C[5]、及び容量素子C[6]の和と、容量素子C[0]、容量素子C[1]、容量素子C[2]、及び容量素子C[4]の和と、の比は、52:12となるので、容量素子C[1]、容量素子C[2]、及び容量素子C[4]のそれぞれの一対の電極の一方の電位は、52Voel/(52+12)=13Voel/16となる。したがって、オペアンプOP1及びオペアンプOP2の非反転入力端子に印加される電位は、13Voel/16となる。ただし、この計算では、オペアンプOP1、及びオペアンプOP2のそれぞれの非反転入力端子における寄生抵抗の影響を限りなく小さいものとしている。 Further, the connection configuration of the digital-analog conversion circuit 200B from time T1 to time T2 is equivalent to the circuit shown in FIG. That is, the potential applied to the non-inverting input terminals of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2 can be obtained from the above-described capacitance ratio and the connection configuration in FIG. The sum of the capacitive element C [3], the capacitive element C [5], and the capacitive element C [6], and the capacitive element C [0], capacitive element C [1], capacitive element C [2], and capacitive element C Since the ratio of the sum of [4] is 52:12, the potential of one of the pair of electrodes of the capacitive element C [1], the capacitive element C [2], and the capacitive element C [4] is 52 Voel / (52 + 12) = 13 Voel / 16. Therefore, the potential applied to the non-inverting input terminals of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2 is 13 Voel / 16. However, in this calculation, the influence of the parasitic resistance at each non-inverting input terminal of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2 is made extremely small.
したがって、端子OTから電位13Voel/16が出力されることになる。また、このとき、トランジスタLTrが非導通状態となっているため、端子LTからの信号の出力は行われない。 Therefore, the potential 13Voel / 16 is output from the terminal OT. At this time, since the transistor LTr is in a non-conductive state, no signal is output from the terminal LT.
ところで、上記では、デジタルビデオデータの値が「110101」で、かつしきい値が2ビットの場合について説明をした。ここでは、デジタルビデオデータを任意の値とし、かつしきい値が2ビットの場合において、端子OTから出力される電位について説明する。この場合も、デジタルビデオデータの、しきい値以下のビットはすべて「0」となるので、下位2ビットに相当する配線c[1]及び配線c[2]のそれぞれには低レベル電位が印加される。上位4ビット(3ビット乃至6ビットの値)は、「0000」乃至「1111」の16値のいずれかを取ることになるので、配線c[3]乃至配線c[6]のそれぞれには、各ビットの値に応じた電位が入力される(具体的には、上述したとおり、Jビット目が「1」であるとき、配線c[J]には高レベル電位が印加され、また、Jビット目が「0」であるとき、配線c[J]には低レベル電位が印加される。)。つまり、しきい値を2ビットと定めることにより、電源電位Voelを16段階に等しく分割することができ、上位4ビットの値によって、端子OTから出力される電位は該16段階の高さのいずれか一に定まる。具体的には、上位4ビットの「0000」乃至「1111」の値によって、それぞれ、GND電位、Voel/16、Voel/8、Voel・3/16、Voel/4、Voel・5/16、Voel・3/8、Voel・7/16、Voel/2、Voel・9/16、Voel・5/8、Voel・11/16、Voel・3/4、Voel・13/16、Voel・7/8、Voel・15/16が端子OTから出力される。 In the above description, the case where the value of the digital video data is “110101” and the threshold value is 2 bits has been described. Here, the potential output from the terminal OT when the digital video data is an arbitrary value and the threshold value is 2 bits will be described. Also in this case, all the bits below the threshold value of the digital video data are “0”, so that a low level potential is applied to each of the wiring c [1] and the wiring c [2] corresponding to the lower 2 bits. Is done. Since the upper 4 bits (values of 3 bits to 6 bits) take any one of 16 values “0000” to “1111”, each of the wirings c [3] to c [6] A potential corresponding to the value of each bit is input (specifically, as described above, when the J-th bit is “1”, a high-level potential is applied to the wiring c [J]. When the bit is “0”, a low-level potential is applied to the wiring c [J].) In other words, by setting the threshold value to 2 bits, the power supply potential Voel can be divided equally into 16 levels, and the potential output from the terminal OT can be any of the 16 levels depending on the value of the upper 4 bits. It is decided to one. Specifically, according to the values of “0000” to “1111” of the upper 4 bits, the GND potential, Voel / 16, Voel / 8, Voel 3/16, Voel / 4, Voel · 5/16, Voel, respectively. 3/8, Voel 7/16, Voel / 2, Voel 9/16, Voel 5/8, Voel 11/16, Voel 3/4, Voel 13/16, Voel 7/8 , Voel · 15/16 is output from the terminal OT.
上述のように、時刻T1から時刻T2までの動作を行うことで、外光環境に応じた階調信号を表示パネルOPに送信することができる。 As described above, by performing the operation from the time T1 to the time T2, it is possible to transmit a gradation signal corresponding to the external light environment to the display panel OP.
なお、時刻T2から時刻T3までにおいて、配線a[1]乃至配線a[6]、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに高レベル電位が印加される。加えて、配線OSL、配線LSL、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに低レベル電位が印加される。つまり、上述した各配線の電位をそれぞれ、時刻T0から時刻T1までの間に印加した電位と同じにすることで、再び初期化することができる。 Note that a high-level potential is applied to each of the wirings a [1] to a [6], the wiring OGL, and the wiring LGL from the time T2 to the time T3. In addition, a low-level potential is applied to each of the wiring OSL, the wiring LSL, the wirings b [1] to b [7], and the wirings c [1] to c [6]. That is, initialization can be performed again by setting the potential of each wiring described above to the same potential applied from time T0 to time T1.
また、上述の階調信号を表示パネルOPが有する画素に供給するとき、該画素の選択トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することが好ましい。つまり、OSトランジスタであることが望ましい。OSトランジスタを用いることで、選択トランジスタのオフ電流を非常に小さくできるため、該画素に書き込んだ階調信号を長時間保持することができる。つまり、OELモードにおいて、デジタルアナログ変換回路200Bによる、表示パネルOPの画素に階調信号の書き換え回数を少なくすることができる。 Further, when the above-described gradation signal is supplied to the pixel included in the display panel OP, the channel formation region of the selection transistor of the pixel is indium, element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin), or zinc. It is preferable to have an oxide containing at least one. That is, an OS transistor is desirable. By using the OS transistor, the off-state current of the selection transistor can be extremely reduced, so that the grayscale signal written to the pixel can be held for a long time. That is, in the OEL mode, the number of rewrites of the gradation signal to the pixels of the display panel OP by the digital-analog conversion circuit 200B can be reduced.
また、該画素に書き込んだ階調信号を長時間保持することができるため、次回の表示パネルOPへの階調信号の書き換えを行う前に、表示パネルLPの画素に、表示パネルOPとは別の階調信号を送ることができる。これによって、表示パネルOPと表示パネルLPと、の両方から、同時に、外光環境に応じた階調の画像を表示することができる。 In addition, since the gradation signal written to the pixel can be held for a long time, the pixel of the display panel LP is separated from the display panel OP before the gradation signal is rewritten to the next display panel OP. Can be sent. As a result, it is possible to simultaneously display an image having a gradation corresponding to the ambient light environment from both the display panel OP and the display panel LP.
<<RLCDモード>>
続いて、表示パネルLPに画像を表示するときのデジタルアナログ変換回路200Bの動作例について、説明する。時刻T3から時刻T4までの期間において、タイミングコントローラ103で各ソースラインに割り振られたデジタルビデオデータに対して、外光に応じたしきい値が定められる。これにより、デジタルビデオデータの階調が定められる。そして、該しきい値と、デジタルビデオデータと、表示モード(反射モード、又はRLCDモード)と、に基づくデジタル信号がデジタルアナログ変換回路200Bに送られる。デジタルアナログ変換回路200Bに送られた該デジタル信号をアナログ信号に変換して、表示パネルLPに送ることによって、階調が調整された画像を表示パネルLPに表示することができる。
<< RLCD mode >>
Next, an operation example of the digital-analog conversion circuit 200B when displaying an image on the display panel LP will be described. In the period from time T3 to time T4, a threshold corresponding to the external light is determined for the digital video data allocated to each source line by the timing controller 103. Thereby, the gradation of the digital video data is determined. Then, a digital signal based on the threshold value, the digital video data, and the display mode (reflection mode or RLCD mode) is sent to the digital-analog conversion circuit 200B. By converting the digital signal sent to the digital-analog conversion circuit 200B into an analog signal and sending it to the display panel LP, an image whose gradation has been adjusted can be displayed on the display panel LP.
例えば、時刻T3において、着目するソースラインに送られてきたデジタルビデオデータを、時刻T1と同様の「110101」とする。また、外光強度によって定められるしきい値も、時刻T1と同様の下位2ビットとする。つまり、表示パネルLPの反射強度は、デジタルビデオデータの下位2ビットが寄与するので、該ソースラインに電気的に接続されているデジタルアナログ変換回路200Bの端子LTから出力されるアナログ値は、「01」がアナログ変換されたものとなる。 For example, the digital video data sent to the source line of interest at time T3 is “110101”, which is the same as at time T1. Further, the threshold value determined by the external light intensity is also set to the lower 2 bits similar to the time T1. That is, since the lower 2 bits of the digital video data contribute to the reflection intensity of the display panel LP, the analog value output from the terminal LT of the digital-analog conversion circuit 200B electrically connected to the source line is “ “01” is converted into an analog signal.
時刻T3において、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに低レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTrG、及びトランジスタLTrGのそれぞれは非導通状態となる。 At time T3, a low-level potential is applied to each of the wiring OGL and the wiring LGL. As a result, each of the transistor OTrG and the transistor LTrG is turned off.
時刻T4において、配線a[3]に低レベル電位が印加され、配線a[1]、配線a[2]のそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTra[3]は、非導通状態となり、トランジスタTra[1]、トランジスタTra[2]のそれぞれは導通状態となる。なお、トランジスタTra[4]、トランジスタTra[5]、トランジスタTra[6]のそれぞれは、導通状態、又は非導通状態のどちらもでもよい。つまり、配線a[4]乃至配線a[6]に印加される電位は、高レベル電位、又は低レベル電位のどちらでもよい(図5のタイミングチャートでは、配線a[4]乃至配線a[6]の電位を低レベル電位としている。)。 At time T4, a low-level potential is applied to the wiring a [3], and a high-level potential is applied to each of the wiring a [1] and the wiring a [2]. Accordingly, the transistor Tra [3] is turned off, and the transistors Tra [1] and Tra [2] are turned on. Note that each of the transistor Tra [4], the transistor Tra [5], and the transistor Tra [6] may be in a conductive state or a non-conductive state. That is, the potential applied to the wiring a [4] to the wiring a [6] may be either a high-level potential or a low-level potential (in the timing chart of FIG. 5, the wiring a [4] to the wiring a [6). ] Is a low level potential.)
時刻T5において、配線b[3]に低レベル電位が印加され、配線b[1]、配線b[2]のそれぞれに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタTrb[3]は、非導通状態となり、トランジスタTrb[1]、トランジスタTrb[2]のそれぞれは導通状態となる。なお、トランジスタTrb[4]、トランジスタTrb[5]、トランジスタTrb[6]、トランジスタTrb[7]のそれぞれは、導通状態、又は非導通状態のどちらもでもよい。つまり、配線b[4]乃至配線b[7]に印加される電位は、高レベル電位、又は低レベル電位のどちらでもよい(図5のタイミングチャートでは、配線b[4]乃至配線b[7]の電位を低レベル電位としている。)。 At time T5, a low-level potential is applied to the wiring b [3], and a high-level potential is applied to each of the wiring b [1] and the wiring b [2]. Accordingly, the transistor Trb [3] is turned off and the transistors Trb [1] and Trb [2] are turned on. Note that each of the transistor Trb [4], the transistor Trb [5], the transistor Trb [6], and the transistor Trb [7] may be either in a conductive state or a non-conductive state. That is, the potential applied to the wirings b [4] to b [7] may be either a high-level potential or a low-level potential (in the timing chart of FIG. 5, the wirings b [4] to b [7] ] Is a low level potential.)
加えて、時刻T5において、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに、デジタルビデオデータ「01」の各ビットに相当する電位が印加される。具体的には、Jビット目が「1」であるとき、配線c[J]には高レベル電位が印加され、また、Jビット目が「0」であるとき、配線c[J]には低レベル電位が印加される。つまり、配線c[1]には高レベル電位が印加され、配線c[2]には低レベル電位が印加されることになる。なお、上位4ビットに対応する配線c[3]乃至配線c[6]に印加される電位は、高レベル電位、又は低レベル電位のどちらでもよい(図5のタイミングチャートでは、配線c[3]乃至配線c[6]の電位を低レベル電位としている。)。 In addition, at time T5, a potential corresponding to each bit of the digital video data “01” is applied to each of the wirings c [1] to c [6]. Specifically, when the J-th bit is “1”, a high-level potential is applied to the wiring c [J], and when the J-th bit is “0”, the wiring c [J] is applied to the wiring c [J]. A low level potential is applied. That is, a high level potential is applied to the wiring c [1], and a low level potential is applied to the wiring c [2]. Note that the potential applied to the wirings c [3] to c [6] corresponding to the upper 4 bits may be either a high-level potential or a low-level potential (in the timing chart of FIG. 5, the wiring c [3 ] To the wiring c [6] are set to a low level potential).
これにより、セレクタSC[1]は、端子SCT1−端子SCT3間が電気的に接続状態、かつ端子SCT1−端子SCT2間が電気的に非接続状態となり、セレクタSC[2]乃至セレクタSC[6]は、端子SCT1−端子SCT3間が電気的に非接続状態、かつ端子SCT1−端子SCT2間が電気的に接続状態となる。したがって、容量素子C[1]の一対の電極の他方には、セレクタSC[1]の端子SCT3に入力された電位Vrlcdが印加される。同時に、容量素子C[2]乃至容量素子C[6]のそれぞれの一対の電極の他方には、セレクタSC[2]乃至セレクタSC[6]のそれぞれの端子SCT2に入力された電位GNDが印加される。 As a result, the selector SC [1] is electrically connected between the terminals SCT1 and SCT3 and is not electrically connected between the terminals SCT1 and SCT2, and the selector SC [2] to the selector SC [6]. The terminal SCT1 and the terminal SCT3 are electrically disconnected, and the terminal SCT1 and the terminal SCT2 are electrically connected. Therefore, the potential Vrlcd input to the terminal SCT3 of the selector SC [1] is applied to the other of the pair of electrodes of the capacitor C [1]. At the same time, the potential GND input to the terminals SCT2 of the selectors SC [2] to SC [6] is applied to the other of the pair of electrodes of the capacitors C [2] to C [6]. Is done.
更に、時刻T5において、配線OSLに低レベル電位が印加され、配線LSLに高レベル電位が印加される。これにより、トランジスタOTrは非導通状態となり、トランジスタLTrは導通状態となる。 Further, at time T5, a low level potential is applied to the wiring OSL, and a high level potential is applied to the wiring LSL. Accordingly, the transistor OTr is turned off and the transistor LTr is turned on.
また、時刻T5から時刻T6までの間における、デジタルアナログ変換回路200Bの接続構成は図6(B)に示す回路と等価となる。つまり、オペアンプOP1及びオペアンプOP2の非反転入力端子に印加される電位は、上述の容量比、及び図6(B)の接続構成から求めることができる。容量素子C[1]と、容量素子C[0]及び容量素子C[2]の和と、の比は、1:3となるので、容量素子C[0]及び容量素子C[2]のそれぞれの一対の電極の一方の電位は、Vrlcd/(1+3)=Vrlcd/4となる。したがって、オペアンプOP2の非反転入力端子に印加される電位は、Vrlcd/4となる。ただし、この計算では、オペアンプOP2のそれぞれの非反転入力端子における寄生抵抗の影響を限りなく小さいものとしている。 Further, the connection configuration of the digital-analog conversion circuit 200B from time T5 to time T6 is equivalent to the circuit shown in FIG. That is, the potential applied to the non-inverting input terminals of the operational amplifier OP1 and the operational amplifier OP2 can be obtained from the above-described capacitance ratio and the connection configuration in FIG. Since the ratio of the capacitive element C [1] to the sum of the capacitive element C [0] and the capacitive element C [2] is 1: 3, the capacitive element C [0] and the capacitive element C [2] One potential of each pair of electrodes is Vrlcd / (1 + 3) = Vrlcd / 4. Therefore, the potential applied to the non-inverting input terminal of the operational amplifier OP2 is Vrlcd / 4. However, in this calculation, the influence of the parasitic resistance at each non-inverting input terminal of the operational amplifier OP2 is made extremely small.
したがって、端子LTから電位Vrlcd/4が出力されることになる。また、このとき、トランジスタOTrが非導通状態となっているため、端子OTからの信号の出力は行われない。 Therefore, the potential Vrlcd / 4 is output from the terminal LT. At this time, since the transistor OTr is in a non-conductive state, no signal is output from the terminal OT.
ところで上記では、デジタルビデオデータの値が「110101」で、かつしきい値が2ビットの場合について説明をした。ここでは、デジタルビデオデータを任意の値とし、かつしきい値が2ビットの場合において、端子LTから出力される電位について説明する。この場合も、デジタルビデオデータの、しきい値より高いビットの値は参照しなくてもよい。しきい値以下の下位2ビットは、「00」乃至「11」の4値のいずれかを取ることになるので、配線c[1]及び配線c[2]のそれぞれには、各ビットの値に応じた電位が入力される(具体的には、上述したとおり、Jビット目が「1」であるとき、配線c[J]には高レベル電位が印加され、また、Jビット目が「0」であるとき、配線c[J]には低レベル電位が印加される。)。つまり、しきい値を2ビットと定めることにより、電源電位Vrlcdを4段階に等しく分割することができ、下位2ビットの値によって、端子LTから出力される電位は該4段階の高さのいずれか一に定まる。具体的には、下位2ビットの「00」乃至「11」の値によって、それぞれ、GND電位、Vrlcd/4、Vrlcd/2、Voel・3/4が端子LTから出力される。 In the above description, the case where the value of the digital video data is “110101” and the threshold value is 2 bits has been described. Here, the potential output from the terminal LT when the digital video data is an arbitrary value and the threshold value is 2 bits will be described. In this case as well, the bit value higher than the threshold value of the digital video data may not be referred to. The lower 2 bits below the threshold value take one of the four values “00” to “11”. (Specifically, as described above, when the J-th bit is “1”, a high-level potential is applied to the wiring c [J], and the J-th bit is “ When “0”, the low-level potential is applied to the wiring c [J].) That is, by setting the threshold value to 2 bits, the power supply potential Vrlcd can be equally divided into 4 stages, and the potential output from the terminal LT can be set to any of the 4 stages of height depending on the value of the lower 2 bits. It is decided to one. Specifically, the GND potential, Vrlcd / 4, Vrlcd / 2, and Voel · 3/4 are output from the terminal LT according to the values of “00” to “11” in the lower 2 bits, respectively.
上述のように、時刻T3から時刻T6までの動作を行うことで、外光環境に応じた階調信号を表示パネルLPに送信することができる。 As described above, by performing the operation from the time T3 to the time T6, it is possible to transmit the gradation signal corresponding to the external light environment to the display panel LP.
なお、時刻T6から時刻T7までにおいて、配線a[1]乃至配線a[6]、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに高レベル電位が印加される。加えて、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれに低レベル電位が印加される。つまり、上述した各配線の電位をそれぞれ、時刻T0から時刻T1までの間に印加した電位と同じにすることで、再び初期化することができる。また、時刻T4では、時刻T1と同様に、配線a[1]乃至配線a[6]、配線OGL及び配線LGLのそれぞれに低レベル電位が印加され、配線b[1]乃至配線b[7]、配線c[1]乃至配線c[6]のそれぞれには引き続き低レベル電位が印加される。 Note that from time T6 to time T7, a high-level potential is applied to each of the wirings a [1] to a [6], the wiring OGL, and the wiring LGL. In addition, a low-level potential is applied to each of the wirings b [1] to b [7] and the wirings c [1] to c [6]. That is, initialization can be performed again by setting the potential of each wiring described above to the same potential applied from time T0 to time T1. At time T4, similarly to time T1, a low-level potential is applied to each of the wirings a [1] to a [6], the wiring OGL, and the wiring LGL, and the wirings b [1] to b [7]. The low level potential is continuously applied to each of the wirings c [1] to c [6].
また、上述の階調信号を表示パネルLPが有する画素に供給するとき、該画素の選択トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することが好ましい。つまり、OSトランジスタであることが望ましい。OSトランジスタを用いることで、選択トランジスタのオフ電流を非常に小さくできるため、該画素に書き込んだ階調信号を長時間保持することができる。つまり、RLCDモードにおいて、デジタルアナログ変換回路200Bによる、表示パネルLPの画素に階調信号の書き換え回数を少なくすることができる。 In addition, when the grayscale signal described above is supplied to a pixel included in the display panel LP, the channel formation region of the selection transistor of the pixel is indium, element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin), or zinc. It is preferable to have an oxide containing at least one. That is, an OS transistor is desirable. By using the OS transistor, the off-state current of the selection transistor can be extremely reduced, so that the grayscale signal written to the pixel can be held for a long time. That is, in the RLCD mode, the number of rewrites of the gradation signal to the pixels of the display panel LP by the digital-analog conversion circuit 200B can be reduced.
また、OELモードで説明した内容と同様に、該画素に書き込んだ階調信号を長時間保持することができるため、次回の表示パネルLPの階調情報の書き換えを行う前に、有機ELパネルの階調情報の書き換えを行うことができる。これによって、表示パネルOPと表示パネルLPと、の両方から、同時に、外光環境に応じた階調の画像を表示することができる。 Further, similar to the contents described in the OEL mode, the gradation signal written to the pixel can be held for a long time. Therefore, before rewriting the gradation information of the next display panel LP, the organic EL panel The gradation information can be rewritten. As a result, it is possible to simultaneously display an image having a gradation corresponding to the ambient light environment from both the display panel OP and the display panel LP.
<動作方法>
次に、図1に示す半導体装置100と表示部110における、外光の照度を計測して、表示装置の階調を調節する動作方法の例について、説明する。
<Operation method>
Next, an example of an operation method of adjusting the gray level of the display device by measuring the illuminance of external light in the semiconductor device 100 and the display portion 110 illustrated in FIG. 1 will be described.
図7に、該動作方法のフローチャートを示す。該動作方法は、ステップST1乃至ステップST10を有し、ステップST1乃至ステップST10の動作を行うことで、表示装置の階調を調節する。 FIG. 7 shows a flowchart of the operation method. The operation method includes steps ST1 to ST10, and the gradation of the display device is adjusted by performing the operations of steps ST1 to ST10.
<<ステップST1>>
ステップST1では、照度計101による外光の照度の計測が行われる。照度計101として、例えば、フォトダイオードによる光検出器を用いた場合、生じる電流の量を計測することによって、照度を見積もることができる。
<< Step ST1 >>
In step ST1, the illuminance meter 101 measures the illuminance of external light. For example, when a photo detector using a photodiode is used as the illuminometer 101, the illuminance can be estimated by measuring the amount of current generated.
<<ステップST2>>
ステップST2では、ステップST1によって計測した照度をしきい値検出回路102に転送する処理が行われる。このとき、該照度は、アナログデータ、又はデジタルデータとして、転送される。
<< Step ST2 >>
In step ST2, processing for transferring the illuminance measured in step ST1 to the threshold detection circuit 102 is performed. At this time, the illuminance is transferred as analog data or digital data.
<<ステップST3>>
ステップST3では、表示部110が画像を表示するときの表示輝度のダイナミックレンジを取得する動作が行われる。該ダイナミックレンジは、ステップST2で送られてきた該照度のデータに基づいて、しきい値検出回路102によって決定される。加えて、ステップST3では、該ダイナミックレンジを元に、デジタルビデオデータのしきい値を取得する。これにより、表示パネルOPの発光強度に寄与する上位ビット長と、表示パネルLPの反射強度に寄与する下位ビット長と、が決定される。
<< Step ST3 >>
In step ST3, an operation for acquiring a dynamic range of display luminance when the display unit 110 displays an image is performed. The dynamic range is determined by the threshold detection circuit 102 based on the illuminance data sent in step ST2. In addition, in step ST3, a threshold value of digital video data is acquired based on the dynamic range. Thereby, the upper bit length contributing to the light emission intensity of the display panel OP and the lower bit length contributing to the reflection intensity of the display panel LP are determined.
<<ステップST4>>
ステップST4では、外部からタイミングコントローラ103に、デジタルビデオデータが入力される。加えて、ステップST3で取得したしきい値の情報が、タイミングコントローラ103に送られる。
<< Step ST4 >>
In step ST4, digital video data is input to the timing controller 103 from the outside. In addition, the threshold information acquired in step ST3 is sent to the timing controller 103.
<<ステップST5>>
ステップST5では、回路104の初期化が行われる。具体的には、回路104が有する複数のデジタルアナログ変換回路200で、図5のタイミングチャートに示した時刻T0から時刻T1までの動作が行われる。
<< Step ST5 >>
In step ST5, the circuit 104 is initialized. Specifically, operations from time T0 to time T1 shown in the timing chart of FIG. 5 are performed by the plurality of digital-analog conversion circuits 200 included in the circuit 104.
<<ステップST6>>
ステップST6及びステップST7では、表示パネルOPに階調信号を送信するための処理が行われる。ステップST6では、タイミングコントローラ103において、ステップST4で転送されたしきい値と、デジタルビデオデータと、に基づいて、回路104に入力するための表示パネルOP用の信号を生成する。そして、該信号は、回路104によって表示パネルOPに入力するためのアナログ値に変換される。変換されたアナログ値は、階調信号として、端子OTに出力される。具体的には、図5のタイミングチャートに示した時刻T1から時刻T2までの動作が行われる。
<< Step ST6 >>
In step ST6 and step ST7, processing for transmitting a gradation signal to the display panel OP is performed. In step ST6, the timing controller 103 generates a signal for the display panel OP to be input to the circuit 104 based on the threshold value transferred in step ST4 and the digital video data. The signal is converted into an analog value to be input to the display panel OP by the circuit 104. The converted analog value is output to the terminal OT as a gradation signal. Specifically, the operation from time T1 to time T2 shown in the timing chart of FIG. 5 is performed.
<<ステップST7>>
ステップST7では、ステップST6で生成した階調信号を表示パネルOPに送信して、表示パネルOPが有する画素に階調信号を保持する。そして、表示パネルOPは、各画素に保持された階調信号に基づいて、画像を表示する。
<< Step ST7 >>
In step ST7, the gradation signal generated in step ST6 is transmitted to the display panel OP, and the gradation signal is held in the pixels included in the display panel OP. The display panel OP displays an image based on the gradation signal held in each pixel.
<<ステップST8>>
ステップST8では、ステップST5と同様に、回路104の初期化が行われる。具体的には、回路104が有する複数のデジタルアナログ変換回路200で、図5のタイミングチャートに示した時刻T2から時刻T3までの動作が行われる。
<< Step ST8 >>
In step ST8, the circuit 104 is initialized as in step ST5. Specifically, operations from time T2 to time T3 shown in the timing chart of FIG. 5 are performed by the plurality of digital-analog conversion circuits 200 included in the circuit 104.
<<ステップST9>>
ステップST9、及びステップST10では、表示パネルLPに階調信号を送信するための処理が行われる。ステップST9では、タイミングコントローラ103において、ステップST4で転送されたしきい値と、デジタルビデオデータと、に基づいて、回路104に入力するための表示パネルLP用の信号を生成する。そして、該信号は、回路104によって表示パネルLPに入力するためのアナログ値に変換される。変換されたアナログ値は、階調信号として、端子LTに出力される。具体的には、図5のタイミングチャートに示した時刻T3から時刻T6までの動作が行われる。
<< Step ST9 >>
In step ST9 and step ST10, processing for transmitting a gradation signal to the display panel LP is performed. In step ST9, the timing controller 103 generates a signal for the display panel LP to be input to the circuit 104 based on the threshold value transferred in step ST4 and the digital video data. The signal is converted into an analog value to be input to the display panel LP by the circuit 104. The converted analog value is output to the terminal LT as a gradation signal. Specifically, the operation from time T3 to time T6 shown in the timing chart of FIG. 5 is performed.
<<ステップST10>>
ステップST10では、ステップST9で生成した階調信号を表示パネルLPに送信して、表示パネルLPが有する画素に階調信号を保持する。そして、表示パネルLPは、各画素に保持された階調信号に基づいて、画像を表示する。
<< Step ST10 >>
In step ST10, the gradation signal generated in step ST9 is transmitted to the display panel LP, and the gradation signal is held in the pixels included in the display panel LP. The display panel LP displays an image based on the gradation signal held in each pixel.
ステップST10より先の動作は、ステップST1に戻り、再度照度計により照度を計測して、表示パネルOP及び表示パネルLPの表示する画像、及び階調の更新を行う。 The operation prior to step ST10 returns to step ST1, measures the illuminance again with the illuminometer, and updates the images and gradations displayed on the display panel OP and the display panel LP.
また、本発明の一態様の動作方法は、上述のステップST1乃至ステップST10に限定されない。本明細書等において、フローチャートに示す処理は、機能毎に分類し、互いに独立したステップとして示している。しかしながら実際の処理等においては、フローチャートに示す処理を機能毎に切り分けることが難しく、一つのステップに複数のステップが係わる場合や、複数のステップにわたって一つのステップが関わる場合があり得る。そのため、フローチャートに示す処理は、明細書で説明したステップ毎に限定されず、状況に応じて適切に入れ換えることができる。具体的には、状況に応じて、場合によって、又は、必要に応じて、ステップの順序の入れ替え、ステップの追加、及び削除などを行うことができる。 The operation method of one embodiment of the present invention is not limited to the above-described steps ST1 to ST10. In this specification and the like, the processes shown in the flowchart are classified by function and shown as steps independent of each other. However, in actual processing or the like, it is difficult to separate the processing shown in the flowchart for each function, and a single step may involve a plurality of steps, or a single step may involve a plurality of steps. Therefore, the process shown in the flowchart is not limited to each step described in the specification, and can be appropriately replaced depending on the situation. Specifically, the order of steps, the addition of steps, the deletion, and the like can be performed according to circumstances, depending on circumstances, or as necessary.
例えば、表示パネルOP及び表示パネルLPに階調信号を送る順序は、図7のフローチャートに限定されないので、ステップST6及びステップST7と、ステップST9及びステップST10と、を入れ替えてもよい。 For example, the order in which the grayscale signals are sent to the display panel OP and the display panel LP is not limited to the flowchart of FIG. 7, and step ST6 and step ST7 may be interchanged with step ST9 and step ST10.
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 Note that this embodiment can be combined with any of the other embodiments described in this specification as appropriate.
(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1で説明した半導体装置をソースドライバ回路に適用した例を示す。
(Embodiment 2)
In this embodiment, an example in which the semiconductor device described in Embodiment 1 is applied to a source driver circuit is described.
<ソースドライバ回路>
図8に本発明の一態様に係るソースドライバ回路の一例を示す。ソースドライバ回路300は、LVDSレシーバ310(Low Voltage Differential Signaling)と、シリアルパラレル変換回路320と、シフトレジスタ回路330と、ラッチ回路340と、レベルシフタ350と、回路360と、容量アレイ回路370と、外部補正回路380と、BGR回路390(Band Gap Reference)と、バイアスジェネレータ400と、バッファアンプ500と、を有している。なお、図8では、ソースドライバ回路300は、バイアスジェネレータ400を2つ有している。なお、ソースドライバ回路300は、例として8ビットの映像データを扱うドライバ回路とする。
<Source driver circuit>
FIG. 8 illustrates an example of a source driver circuit according to one embodiment of the present invention. The source driver circuit 300 includes an LVDS receiver 310 (Low Voltage Differential Signaling), a serial / parallel conversion circuit 320, a shift register circuit 330, a latch circuit 340, a level shifter 350, a circuit 360, a capacitance array circuit 370, an external A correction circuit 380, a BGR circuit 390 (Band Gap Reference), a bias generator 400, and a buffer amplifier 500 are included. In FIG. 8, the source driver circuit 300 has two bias generators 400. Note that the source driver circuit 300 is a driver circuit that handles 8-bit video data as an example.
LVDSレシーバ310は、外部のホストプロセッサと電気的に接続されている。LVDSレシーバ310は、該ホストプロセッサからのビデオ信号を受信する機能を有し、LVDSレシーバ310は、差動信号をシングルエンドの信号に変換して、シリアルパラレル変換回路320に該信号を送信する。図8では、ビデオ信号として、アナログ電圧信号DA,DB0、アナログ電圧信号DA,DB1、アナログ電圧信号DA,DB2、アナログ電圧信号DA,DB3、アナログ電圧信号DA,DB4、アナログ電圧信号DA,DB5、アナログ電圧信号DA,DB6、及びアナログ電圧信号DA,DB7がLVDSレシーバに入力されている。なお、LVDSレシーバ310は、クロック信号CLOCK及びクロック信号CLOCKBの入力により、逐次動作が行われ、また、LVDSレシーバ310は、スタンバイ信号STBYにより、スタンバイ状態にする(一時停止する)ことができる。なお、クロック信号CLOCKBは、クロック信号CLOCKの反転信号である。 The LVDS receiver 310 is electrically connected to an external host processor. The LVDS receiver 310 has a function of receiving a video signal from the host processor, and the LVDS receiver 310 converts the differential signal into a single-ended signal and transmits the signal to the serial / parallel conversion circuit 320. In FIG. 8, analog voltage signals DA and DB0, analog voltage signals DA and DB1, analog voltage signals DA and DB2, analog voltage signals DA and DB3, analog voltage signals DA and DB4, analog voltage signals DA and DB5, Analog voltage signals DA and DB6 and analog voltage signals DA and DB7 are input to the LVDS receiver. Note that the LVDS receiver 310 is sequentially operated by the input of the clock signal CLOCK and the clock signal CLOCKB, and the LVDS receiver 310 can be set in a standby state (paused) by the standby signal STBY. The clock signal CLOCKB is an inverted signal of the clock signal CLOCK.
シリアルパラレル変換回路320は、LVDSレシーバ310と電気的に接続されている。シリアルパラレル変換回路320は、LVDSレシーバ310からのシングルエンドの信号を受信する機能を有し、シリアルパラレル変換回路320は、シングルエンドの信号をパラレル変換して、BUS[127:0]の信号として内部バスに送信する。 The serial / parallel conversion circuit 320 is electrically connected to the LVDS receiver 310. The serial / parallel conversion circuit 320 has a function of receiving a single-ended signal from the LVDS receiver 310, and the serial / parallel conversion circuit 320 converts the single-ended signal into a parallel signal to obtain a BUS [127: 0] signal. Send to internal bus.
シフトレジスタ回路330は、シリアルパラレル回路と電気的に接続され、ラッチ回路340はシフトレジスタ回路330と電気的に接続されている。シフトレジスタ回路330は、シリアルパラレル変換回路320と同期して、内部バス上のデータを各ラインのラッチ回路340に格納するタイミングを指定する機能を有する。 The shift register circuit 330 is electrically connected to the serial parallel circuit, and the latch circuit 340 is electrically connected to the shift register circuit 330. The shift register circuit 330 has a function of designating timing for storing data on the internal bus in the latch circuit 340 of each line in synchronization with the serial-parallel conversion circuit 320.
レベルシフタ350は、ラッチ回路340と電気的に接続されている。レベルシフタ350は、ラッチ回路340に全てのラインのデータが格納されたときに、それぞれのデータをレベルシフトする機能を有する。 The level shifter 350 is electrically connected to the latch circuit 340. The level shifter 350 has a function of level-shifting each data when data of all lines is stored in the latch circuit 340.
回路360は、レベルシフタ350と電気的に接続されている。回路360は、実施の形態1で説明した照度計及びしきい値検出回路によって算出したしきい値の情報(図8ではTHRESHOLDと記載している。)を受信し、該しきい値の情報と、ビデオデータと、に基づいて、後述する容量アレイ回路370に入力する信号を生成する。 The circuit 360 is electrically connected to the level shifter 350. The circuit 360 receives threshold information (denoted as THRESHOLD in FIG. 8) calculated by the illuminometer and the threshold detection circuit described in Embodiment 1, and receives the threshold information and Based on the video data, a signal to be input to a capacitor array circuit 370 to be described later is generated.
また、LVDSレシーバ310と、シリアルパラレル変換回路320と、シフトレジスタ回路330と、ラッチ回路340と、回路360によって、実施の形態1で説明したタイミングコントローラ103が構成される。なお、回路360を設ける箇所は、図8のソースドライバ回路300に限定されない。例えば、シリアルパラレル変換回路320に回路360の機能を有して、該しきい値の情報と、ビデオデータと、に基づく信号を出力する構成としてもよい。 The timing controller 103 described in Embodiment 1 is configured by the LVDS receiver 310, the serial / parallel conversion circuit 320, the shift register circuit 330, the latch circuit 340, and the circuit 360. Note that the portion where the circuit 360 is provided is not limited to the source driver circuit 300 in FIG. For example, the serial / parallel conversion circuit 320 may have the function of the circuit 360 to output a signal based on the threshold information and video data.
容量アレイ回路370は、回路360と電気的に接続されている。なお、容量アレイ回路370と、後述するバッファアンプ500と、によって実施の形態1で説明したデジタルアナログ変換回路200が構成される。容量アレイ回路370には、表示パネルOPへの電源電位であるVoel、表示パネルLPへの電源電位であるVrlcd、接地電位GNDが入力され、該信号に応じた電位をバッファアンプ500に出力する。つまり、容量アレイ回路370は、該電位の供給によって、レベルシフトされた各データをデジタルアナログ変換する機能を有する。 The capacitor array circuit 370 is electrically connected to the circuit 360. The capacitor array circuit 370 and the buffer amplifier 500 described later constitute the digital-analog conversion circuit 200 described in the first embodiment. The capacitor array circuit 370 is supplied with Voel that is a power supply potential to the display panel OP, Vrlcd that is a power supply potential to the display panel LP, and a ground potential GND, and outputs a potential corresponding to the signal to the buffer amplifier 500. That is, the capacitor array circuit 370 has a function of performing digital-analog conversion on each level-shifted data by supplying the potential.
バッファアンプ500は、容量アレイ回路370と電気的に接続されている。バッファアンプ500は、デジタルアナログ変換されたデータを増幅して、データ信号として増幅されたデータ(図8ではS[2159:0]と記載)を画素アレイに送信する機能を有する。 The buffer amplifier 500 is electrically connected to the capacitor array circuit 370. The buffer amplifier 500 has a function of amplifying the digital / analog-converted data and transmitting the amplified data (described as S [2159: 0] in FIG. 8) to the pixel array.
BGR回路390は、ソースドライバ回路300を駆動するための基準となる電圧を生成する機能を有する。BGR回路390は、バイアスジェネレータの一方及び他方のそれぞれと電気的に接続されている。 The BGR circuit 390 has a function of generating a voltage that serves as a reference for driving the source driver circuit 300. The BGR circuit 390 is electrically connected to one and the other of the bias generator.
バイアスジェネレータ400の一方は、BGR回路390と、バッファアンプ500と、に電気的に接続されている。バイアスジェネレータ400の一方は、BGR回路390で生成した基準となる電圧から、バッファアンプ500を動作させるためのバイアス電圧を生成する機能を有する。なお、バイアスジェネレータ400の一方には、LVDSレシーバ310と同じタイミングでスタンバイ信号STBYが入力され、この信号によって、バイアスジェネレータ400の一方をスタンバイ状態にする(一時停止する)ことができる。 One side of the bias generator 400 is electrically connected to the BGR circuit 390 and the buffer amplifier 500. One of the bias generators 400 has a function of generating a bias voltage for operating the buffer amplifier 500 from a reference voltage generated by the BGR circuit 390. Note that a standby signal STBY is input to one of the bias generators 400 at the same timing as the LVDS receiver 310, and one of the bias generators 400 can be put into a standby state (temporarily stopped) by this signal.
バイアスジェネレータ400の他方は、外部補正回路380に電気的に接続されている。バイアスジェネレータ400の他方は、BGR回路390で生成した基準となる電圧から、外部補正回路380を動作させるためのバイアス電圧を生成する機能を有する。なお、外部補正回路380を動作させる必要が無いとき、バイアスジェネレータ400の他方には、スタンバイ信号CMSTBYが送信され、この信号によって、バイアスジェネレータ400の他方をスタンバイ状態にする(一時停止する)ことができる。 The other of the bias generator 400 is electrically connected to the external correction circuit 380. The other of the bias generator 400 has a function of generating a bias voltage for operating the external correction circuit 380 from a reference voltage generated by the BGR circuit 390. When there is no need to operate the external correction circuit 380, a standby signal CMSTBY is transmitted to the other of the bias generator 400, and the other of the bias generator 400 is put into a standby state (pauses) by this signal. it can.
外部補正回路380は、画素回路が有するトランジスタと電気的に接続されている。画素アレイにおいて、それぞれの画素トランジスタに電圧電流特性のバラツキが存在する場合、その表示装置に映す画像に対して影響を与えるため、表示装置の表示品位の低下を引き起こす要因となる。外部補正回路380は、該画素トランジスタに流れる電流量を計測して、該電流量に応じて該画素トランジスタに流れる電流量を適切にする機能を有する。なお、外部補正回路380には、セット信号CMSETが入力され、この信号によって、外部補正回路380の初期化が行われる。また、外部補正回路380には、クロック信号CMCLKが入力され、この信号によって外部補正回路380が動作する。また、外部補正回路380には、画素回路が有するトランジスタからの信号(図8ではS[719:0]と記載)が入力され、外部補正回路380に別に印加されている参照電位VREF1、及び参照電位VREF2を基準として、画像補正に関する判定が行われる。その補正に関する判定結果を、出力信号としてCMOUT[11:0]がソースドライバ回路300の外部にあるイメージプロセッサに送信される。該イメージプロセッサはCMOUT[11:0]の内容に基づいて、映像データの補正を行う。 The external correction circuit 380 is electrically connected to a transistor included in the pixel circuit. In the pixel array, when there is a variation in voltage-current characteristics in each pixel transistor, it affects the image projected on the display device, which causes a reduction in display quality of the display device. The external correction circuit 380 has a function of measuring the amount of current flowing through the pixel transistor and making the amount of current flowing through the pixel transistor appropriate according to the amount of current. The external correction circuit 380 receives the set signal CMSET, and the external correction circuit 380 is initialized by this signal. Further, the external correction circuit 380 receives the clock signal CMCLK, and the external correction circuit 380 operates by this signal. In addition, a signal (described as S [719: 0] in FIG. 8) from a transistor included in the pixel circuit is input to the external correction circuit 380, and a reference potential VREF1 that is separately applied to the external correction circuit 380, and a reference A determination relating to image correction is made with reference to the potential VREF2. The result of determination regarding the correction is transmitted as an output signal CMOUT [11: 0] to the image processor outside the source driver circuit 300. The image processor corrects the video data based on the contents of CMOUT [11: 0].
なお、本発明の一態様は、図8に示すソースドライバ回路300に限定せず、外部補正回路380を有する構成でなくてもよい。例えば、外部補正回路380の代わりに、画素アレイが有するそれぞれの画素に補正回路を設ける構成であってもよい。 Note that one embodiment of the present invention is not limited to the source driver circuit 300 illustrated in FIG. 8 and may not have the external correction circuit 380. For example, instead of the external correction circuit 380, a configuration in which a correction circuit is provided for each pixel included in the pixel array may be used.
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 Note that this embodiment can be combined with any of the other embodiments described in this specification as appropriate.
(実施の形態3)
本実施の形態では、上述の実施の形態で説明した半導体装置を電子部品に適用する例について、図9を用いて説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, an example in which the semiconductor device described in any of the above embodiments is applied to an electronic component will be described with reference to FIGS.
<電子部品>
図9(A)では上述の実施の形態で説明し半導体装置を記憶装置として電子部品に適用する例について説明する。なお電子部品は、半導体パッケージ、又はIC用パッケージともいう。この電子部品は、端子取り出し方向や、端子の形状に応じて、複数の規格や名称が存在する。そこで、本実施の形態では、その一例について説明することにする。
<Electronic parts>
FIG. 9A illustrates an example in which the semiconductor device described in the above embodiment is applied to an electronic component as a memory device. Note that the electronic component is also referred to as a semiconductor package or an IC package. This electronic component has a plurality of standards and names depending on the terminal take-out direction and the shape of the terminal. Therefore, in this embodiment, an example will be described.
上記実施の形態1に示すような、トランジスタ、容量素子などによって構成される半導体装置は、組み立て工程(後工程)を経て、プリント基板に脱着可能な部品が複数合わさることで完成する。 A semiconductor device including a transistor, a capacitor, and the like as shown in Embodiment Mode 1 is completed by combining a plurality of detachable components with a printed board through an assembly process (post-process).
後工程については、図9(A)に示す各工程を経ることで完成させることができる。具体的には、前工程で得られる素子基板が完成(ステップSTP1)した後、基板の裏面を研削する(ステップSTP2)。この段階で基板を薄膜化することで、前工程での基板の反り等を低減し、部品としての小型化を図るためである。 The post-process can be completed through each process shown in FIG. Specifically, after the element substrate obtained in the previous process is completed (step STP1), the back surface of the substrate is ground (step STP2). This is because by reducing the thickness of the substrate at this stage, it is possible to reduce the warpage of the substrate in the previous process and to reduce the size of the component.
基板の裏面を研削して、基板を複数のチップに分離するダイシング工程を行う(ステップSTP3)。そして、分離したチップを個々にピックアップしてリードフレーム上に搭載し接合する、ダイボンディング工程を行う(ステップSTP4)。このダイボンディング工程におけるチップとリードフレームとの接着は、樹脂による接着や、テープによる接着等、適宜製品に応じて適した方法を選択する。なお、ダイボンディング工程は、インターポーザ上に搭載し接合してもよい。 A dicing process is performed in which the back surface of the substrate is ground to separate the substrate into a plurality of chips (step STP3). Then, a die bonding process is performed in which the separated chips are individually picked up and mounted on the lead frame for bonding (step STP4). For the bonding between the chip and the lead frame in this die bonding process, a suitable method is appropriately selected according to the product, such as bonding with a resin or bonding with a tape. The die bonding step may be mounted on the interposer and bonded.
なお、本実施の形態において、基板の一方の面に素子が形成されていたとき、基板の一方の面を表面とし、該基板の他方の面(該基板の素子が形成されていない側の面)を裏面とする。 In this embodiment, when an element is formed on one surface of the substrate, one surface of the substrate is used as the surface, and the other surface of the substrate (the surface on the side where the elements of the substrate are not formed). ) Is the back side.
次いでリードフレームのリードとチップ上の電極とを、金属の細線(ワイヤー)で電気的に接続する、ワイヤーボンディングを行う(ステップSTP5)。金属の細線には、銀線や金線を用いることができる。また、ワイヤーボンディングは、ボールボンディングや、ウェッジボンディングを用いることができる。 Next, wire bonding is performed in which the lead of the lead frame and the electrode on the chip are electrically connected by a fine metal wire (wire) (step STP5). A silver wire or a gold wire can be used as the metal thin wire. For wire bonding, ball bonding or wedge bonding can be used.
ワイヤーボンディングされたチップは、エポキシ樹脂等で封止される、モールド工程が施される(ステップSTP6)。モールド工程を行うことで電子部品の内部が樹脂で充填され、機械的な外力による内蔵される回路部やワイヤーに対するダメージを低減することができ、また水分や埃による特性の劣化を低減することができる。 The wire-bonded chip is sealed with an epoxy resin or the like and subjected to a molding process (step STP6). By performing the molding process, the inside of the electronic component is filled with resin, which can reduce damage to the built-in circuit part and wires due to mechanical external force, and can reduce deterioration of characteristics due to moisture and dust. it can.
次いでリードフレームのリードをメッキ処理する。そしてリードを切断及び成形加工する(ステップSTP7)。このめっき処理によりリードの錆を防止し、後にプリント基板に実装する際のはんだ付けをより確実に行うことができる。 Next, the lead of the lead frame is plated. Then, the lead is cut and molded (step STP7). By this plating treatment, rusting of the lead can be prevented, and soldering when mounting on a printed circuit board can be performed more reliably.
次いでパッケージの表面に印字処理(マーキング)を施す(ステップSTP8)。そして最終的な検査工程(ステップSTP9)を経て電子部品が完成する(ステップSTP10)。 Next, a printing process (marking) is performed on the surface of the package (step STP8). An electronic component is completed through a final inspection process (step STP9) (step STP10).
以上説明した電子部品は、上述の実施の形態で説明した半導体装置を含む構成とすることができる。そのため、信頼性に優れた電子部品を実現することができる。 The electronic component described above can include the semiconductor device described in the above embodiment. Therefore, it is possible to realize an electronic component with excellent reliability.
また、完成した電子部品の斜視模式図を図9(B)に示す。図9(B)では、電子部品の一例として、QFP(Quad Flat Package)の斜視模式図を示している。図9(B)に示す電子部品4700は、リード4701及び回路部4703を示している。図9(B)に示す電子部品4700は、例えばプリント基板4702に実装される。このような電子部品4700が複数組み合わされて、それぞれがプリント基板4702上で電気的に接続されることで電子機器の内部に搭載することができる。完成した回路基板4704は、電子機器等の内部に設けられる。 FIG. 9B shows a schematic perspective view of the completed electronic component. FIG. 9B illustrates a schematic perspective view of a QFP (Quad Flat Package) as an example of an electronic component. An electronic component 4700 illustrated in FIG. 9B illustrates a lead 4701 and a circuit portion 4703. An electronic component 4700 illustrated in FIG. 9B is mounted on a printed board 4702, for example. A plurality of such electronic components 4700 are combined and each is electrically connected on the printed circuit board 4702 so that the electronic component 4700 can be mounted inside the electronic device. The completed circuit board 4704 is provided inside an electronic device or the like.
なお、本発明の一態様は、上記の電子部品4700の形状に限定せず、ステップSTP1において作製された素子基板も含まれる。また、本発明の一態様である素子基板は、ステップSTP2の基板の裏面の研削作業まで行った素子基板も含まれる。また、本発明の一態様である素子基板は、ステップSTP3のダイシング工程まで行った素子基板も含まれる。例えば、図9(C)に示す半導体ウェハ4800などが該素子基板に相当する。半導体ウェハ4800には、そのウェハ4801の上面に複数の回路部4802が形成されている。なお、ウェハ4801の上面において、回路部4802の無い部分は、スペーシング4803であり、ダイシング用の領域である。 Note that one embodiment of the present invention is not limited to the shape of the electronic component 4700 described above, and includes an element substrate manufactured in Step STP1. Further, the element substrate which is one embodiment of the present invention includes an element substrate which has been subjected to the grinding operation of the back surface of the substrate in step STP2. Further, the element substrate which is one embodiment of the present invention includes an element substrate which has been subjected to the dicing process in step STP3. For example, a semiconductor wafer 4800 shown in FIG. 9C corresponds to the element substrate. The semiconductor wafer 4800 has a plurality of circuit portions 4802 formed on the upper surface of the wafer 4801. Note that a portion without the circuit portion 4802 on the upper surface of the wafer 4801 is a spacing 4803, which is a region for dicing.
ダイシングは、一点鎖線で示したスクライブラインSCL1及びスクライブラインSCL2(ダイシングライン、又は切断ラインと呼ぶ場合がある)に沿って行われる。なお、スペーシング4803は、ダイシング工程を容易に行うために、複数のスクライブラインSCL1が平行になるように設け、複数のスクライブラインSCL2が平行になるように設け、スクライブラインSCL1とスクライブラインSCL2が垂直になるように設けるのが好ましい。 Dicing is performed along the scribe line SCL1 and the scribe line SCL2 (sometimes referred to as a dicing line or a cutting line) indicated by a one-dot chain line. In order to facilitate the dicing process, the spacing 4803 is provided so that the plurality of scribe lines SCL1 are parallel, the plurality of scribe lines SCL2 are provided in parallel, and the scribe line SCL1 and the scribe line SCL2 are provided. It is preferable to provide it vertically.
ダイシング工程を行うことにより、図9(D)に示すようなチップ4800aを、半導体ウェハ4800から切り出すことができる。チップ4800aは、ウェハ4801aと、回路部4802と、スペーシング4803aと、を有する。なお、スペーシング4803aは、極力小さくなるようにするのが好ましい。この場合、隣り合う回路部4802の間のスペーシング4803の幅が、スクライブラインSCL1の切りしろと、又はスクライブラインSCL2の切りしろとほぼ同等の長さであればよい。 By performing the dicing process, a chip 4800a as shown in FIG. 9D can be cut out from the semiconductor wafer 4800. The chip 4800a includes a wafer 4801a, a circuit portion 4802, and a spacing 4803a. Note that the spacing 4803a is preferably as small as possible. In this case, the width of the spacing 4803 between the adjacent circuit portions 4802 may be approximately the same as the margin of the scribe line SCL1 or the margin of the scribe line SCL2.
なお、本発明の一態様の素子基板の形状は、図9(C)に図示した半導体ウェハ4800の形状に限定されない。例えば、図9(E)に示す矩形形の半導体ウェハ4810あってもよい。素子基板の形状は、素子の作製工程、及び素子を作製するための装置に応じて、適宜変更することができる。 Note that the shape of the element substrate of one embodiment of the present invention is not limited to the shape of the semiconductor wafer 4800 illustrated in FIG. For example, a rectangular semiconductor wafer 4810 shown in FIG. The shape of the element substrate can be changed as appropriate in accordance with an element manufacturing process and an apparatus for manufacturing the element.
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 Note that this embodiment can be combined with any of the other embodiments described in this specification as appropriate.
(実施の形態4)
本実施の形態では、実施の形態1で説明した半導体装置を有する電子機器について説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, electronic devices including the semiconductor device described in Embodiment 1 are described.
図10は、タブレット型の情報端末5200であり、筐体5221、表示部5222、操作ボタン5223、スピーカ5224を有する。また、表示部5222に、位置入力装置としての機能が付加された表示装置を用いるようにしてもよい。また、位置入力装置としての機能は、表示装置にタッチパネルを設けることで付加することができる。あるいは、位置入力装置としての機能は、フォトセンサとも呼ばれる光電変換素子を表示装置の画素部に設けることでも、付加することができる。また、操作ボタン5223に情報端末5200を起動する電源スイッチ、情報端末5200のアプリケーションを操作するボタン、音量調整ボタン、又は表示部5222を点灯、あるいは消灯するスイッチなどのいずれかを備えることができる。また、図10に示した情報端末5200では、操作ボタン5223の数を4個示しているが、情報端末5200の有する操作ボタンの数及び配置は、これに限定されない。 FIG. 10 illustrates a tablet information terminal 5200 which includes a housing 5221, a display portion 5222, operation buttons 5223, and a speaker 5224. Further, a display device to which a function as a position input device is added may be used for the display portion 5222. The function as a position input device can be added by providing a touch panel on the display device. Alternatively, the function as a position input device can be added by providing a photoelectric conversion element called a photosensor in a pixel portion of a display device. Further, the operation button 5223 can include any one of a power switch for starting the information terminal 5200, a button for operating an application of the information terminal 5200, a volume adjustment button, a switch for turning on / off the display unit 5222, and the like. In the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10, the number of operation buttons 5223 is four, but the number and arrangement of the operation buttons included in the information terminal 5200 are not limited thereto.
また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、マイクを有する構成であってもよい。この構成により、例えば、情報端末5200に携帯電話のような通話機能を付することができる。 Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 may have a microphone. With this configuration, for example, a call function such as a mobile phone can be added to the information terminal 5200.
また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、カメラを有する構成であってもよい。また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、フラッシュライト、又は照明の用途として発光装置を有する構成であってもよい。 Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 may have a configuration including a camera. Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 may have a light-emitting device for use in flashlight or lighting.
また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、筐体5221の内部にセンサ(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線などを測定する機能を含むもの)を有する構成であってもよい。特に、ジャイロ、加速度センサなどの傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、図10に示す情報端末5200の向き(鉛直方向に対して情報端末がどの向きに向いているか)を判断して、表示部5222の画面表示を、情報端末5200の向きに応じて自動的に切り替えるようにすることができる。 Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 includes a sensor (force, displacement, position, velocity, acceleration, angular velocity, rotation speed, distance, light, liquid, magnetism, temperature inside the housing 5221. It may be configured to have a function of measuring chemical substances, sound, time, hardness, electric field, current, voltage, power, radiation, flow rate, humidity, gradient, vibration, smell, infrared rays, and the like. In particular, the orientation of the information terminal 5200 shown in FIG. 10 (which direction the information terminal is oriented with respect to the vertical direction) is determined by providing a detection device having a sensor that detects the inclination, such as a gyroscope or an acceleration sensor. Thus, the screen display of the display unit 5222 can be automatically switched according to the orientation of the information terminal 5200.
また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、指紋、静脈、虹彩、又は声紋など生体情報を取得する装置を有する構成であってもよい。この構成を適用することによって、生体認証機能を有する情報端末5200を実現することができる。 Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 may include a device that acquires biological information such as a fingerprint, a vein, an iris, or a voiceprint. By applying this configuration, an information terminal 5200 having a biometric authentication function can be realized.
また、図示していないが、図10に示した情報端末5200は、マイクを有する構成であってもよい。この構成を適用することによって、情報端末5200に通話機能を付することができる。また、情報端末5200に音声解読機能を付することができる場合がある。情報端末5200に音声解読機能を設けることで、音声認識によって情報端末5200を操作する機能、更には、音声や会話を判読して会話録を作成する機能、などを情報端末5200に有することができる。これにより、例えば、会議などの議事録作成として活用することができる。 Although not illustrated, the information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 may have a microphone. By applying this configuration, the information terminal 5200 can be provided with a call function. In some cases, the information terminal 5200 can be provided with a voice decoding function. By providing the information terminal 5200 with a voice decoding function, the information terminal 5200 can have a function of operating the information terminal 5200 by voice recognition, a function of reading a voice and a conversation and creating a conversation record, and the like. . Thereby, it can utilize, for example as minutes preparations, such as a meeting.
また、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 Further, this embodiment can be combined with any of the other embodiments described in this specification as appropriate.
(実施の形態5)
本実施の形態では、実施の形態4で説明した図10のタブレット型端末などに備えることのできる入出力装置について、説明する。
(Embodiment 5)
In this embodiment, an input / output device that can be provided in the tablet terminal in FIG. 10 described in Embodiment 4 is described.
図11は、入出力装置に用いることができるタッチパネル2000TP1の構成を説明する図である。図11(A)はタッチパネルの上面図であり、図11(B−1)はタッチパネルの入力部の一部を説明する模式図であり、図11(B−2)は図11(B−1)に示す構成の一部を説明する模式図である。図11(C)は、タッチパネルが備える表示部の一部を説明する模式図である。 FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration of a touch panel 2000TP1 that can be used for an input / output device. FIG. 11A is a top view of the touch panel, FIG. 11B-1 is a schematic diagram for explaining a part of the input portion of the touch panel, and FIG. 11B-2 is a schematic view of FIG. It is a schematic diagram explaining a part of structure shown to (). FIG. 11C is a schematic diagram illustrating part of the display portion included in the touch panel.
図12(A)は図11(C)に示すタッチパネルの画素の構成の一部を説明する下面図であり、図12(B)は図12(A)に示す構成の一部を省略して説明する下面図である。 12A is a bottom view illustrating part of the structure of the pixel of the touch panel illustrated in FIG. 11C, and FIG. 12B omits part of the structure illustrated in FIG. It is a bottom view to explain.
図13及び図14はタッチパネルの構成を説明する断面図である。図13(A)は図11(A)の太線Z1−Z2、太線Z3−Z4、太線Z5−Z6における断面図であり、図13(B)は図13(A)の一部を説明する図である。 13 and 14 are cross-sectional views illustrating the configuration of the touch panel. 13A is a cross-sectional view taken along the thick lines Z1-Z2, thick lines Z3-Z4, and thick lines Z5-Z6 in FIG. 11A, and FIG. 13B illustrates a part of FIG. It is.
図14(A)は図11(A)の太線Z7−Z8、太線Z9−Z10、太線Z11−Z12における断面図であり、図14(B)は図14(A)の一部を説明する図である。 14A is a cross-sectional view taken along thick lines Z7-Z8, thick lines Z9-Z10, and thick lines Z11-Z12 in FIG. 11A, and FIG. 14B is a diagram for explaining a part of FIG. It is.
図15はタッチパネルの画素に用いることができる反射膜の形状を説明する模式図である。 FIG. 15 is a schematic diagram illustrating the shape of a reflective film that can be used for a pixel of a touch panel.
図16はタッチパネルの入力部の構成を説明するブロック図である。 FIG. 16 is a block diagram illustrating the configuration of the input unit of the touch panel.
図17は、入出力装置が備える画素回路の構成を説明する回路図である。 FIG. 17 is a circuit diagram illustrating a configuration of a pixel circuit included in the input / output device.
<入出力装置の構成例>
本実施の形態で説明する入出力装置はタッチパネル2000TP1を有する(図11(A)参照)。なお、タッチパネルは表示部及び入力部を備える。
<Configuration example of input / output device>
The input / output device described in this embodiment includes a touch panel 2000TP1 (see FIG. 11A). The touch panel includes a display unit and an input unit.
<<表示部の構成例>>
表示部は表示パネルを備え、表示パネルは列方向にm個、行方向にn個、合計m×n個の画素を有する。特に、本実施の形態では、表示パネルのi行目(iは1以上m以下の整数である。)、j列目(jは1以上n以下の整数である。)に位置する画素を画素2100(i,j)と表記する。
<< Configuration Example of Display Unit >>
The display unit includes a display panel, and the display panel includes m pixels in the column direction and n pixels in the row direction, for a total of m × n pixels. In particular, in this embodiment, the pixel located in the i-th row (i is an integer of 1 to m) and j-th column (j is an integer of 1 to n) of the display panel is a pixel. 2100 (i, j).
画素2100(i,j)は、第2の導電膜と、第1の導電膜と、第2の絶縁膜2506Bと、第1の表示素子2110(i,j)と、を備える(図14(A)参照)。 The pixel 2100 (i, j) includes a second conductive film, a first conductive film, a second insulating film 2506B, and a first display element 2110 (i, j) (FIG. 14 ( A)).
第2の導電膜は画素回路2200(i,j)と電気的に接続される。例えば、画素回路2200(i,j)のスイッチSWT1に用いるトランジスタのソース電極又はドレイン電極として機能する導電膜2522Bを、第2の導電膜に用いることができる(図14(A)及び図17参照)。 The second conductive film is electrically connected to the pixel circuit 2200 (i, j). For example, a conductive film 2522B that functions as a source electrode or a drain electrode of a transistor used for the switch SWT1 in the pixel circuit 2200 (i, j) can be used for the second conductive film (see FIGS. 14A and 17). ).
第1の導電膜は、第2の導電膜と重なる領域を備える。例えば、第1の導電膜を、第1の表示素子2110(i,j)の第1の電極2111(i,j)に用いることができる。 The first conductive film includes a region overlapping with the second conductive film. For example, the first conductive film can be used for the first electrode 2111 (i, j) of the first display element 2110 (i, j).
第2の絶縁膜2506Bは第2の導電膜と第1の導電膜の間に挟まれる領域を備え、第1の導電膜と第2の導電膜の間に挟まれる領域に開口部2602Aを備える。また、第2の絶縁膜2506Bは、第1の絶縁膜2506A及び導電膜2524Aに挟まれる領域を備える。また、第2の絶縁膜2506Bは、開口部2602Bを備える。第2の絶縁膜2506Bは、開口部2602Cを備える(図13(A)及び図14(A)参照)。 The second insulating film 2506B includes a region sandwiched between the second conductive film and the first conductive film, and includes an opening 2602A in a region sandwiched between the first conductive film and the second conductive film. . The second insulating film 2506B includes a region sandwiched between the first insulating film 2506A and the conductive film 2524A. In addition, the second insulating film 2506B includes an opening 2602B. The second insulating film 2506B includes an opening 2602C (see FIGS. 13A and 14A).
第1の導電膜は、開口部2602Aにおいて第2の導電膜と電気的に接続される。例えば、第1の電極2111(i,j)は、導電膜2522Bと電気的に接続される。ところで、第2の絶縁膜2506Bに設けられた開口部2602Aにおいて第2の導電膜と電気的に接続される第1の導電膜を、貫通電極ということができる。 The first conductive film is electrically connected to the second conductive film in the opening 2602A. For example, the first electrode 2111 (i, j) is electrically connected to the conductive film 2522B. By the way, the first conductive film electrically connected to the second conductive film in the opening 2602A provided in the second insulating film 2506B can be referred to as a through electrode.
第1の表示素子2110(i,j)は、第1の導電膜と電気的に接続される。 The first display element 2110 (i, j) is electrically connected to the first conductive film.
第1の表示素子2110(i,j)は、反射膜及び反射膜が反射する光の強さを制御する機能を備える。例えば、第1の表示素子2110(i,j)の反射膜に、第1の導電膜又は第1の電極2111(i,j)等を用いることができる。同様に、第1の表示素子2110(i,j+1)の反射膜に、第1の導電膜又は第1の電極2111(i,j+1)等を用いることができ、第1の表示素子2110(i,j+2)の反射膜に、第1の導電膜又は第1の電極2111(i,j+2)等を用いることができる(図15(A)参照)。なお、後述する図15(B)についても、反射膜として、第1の電極2111(i,j)、第1の電極2111(i+1,j)、第1の電極2111(i+2,j)を図示している。 The first display element 2110 (i, j) has a function of controlling the reflection film and the intensity of light reflected by the reflection film. For example, the first conductive film, the first electrode 2111 (i, j), or the like can be used for the reflective film of the first display element 2110 (i, j). Similarly, the first conductive film, the first electrode 2111 (i, j + 1), or the like can be used for the reflective film of the first display element 2110 (i, j + 1), and the first display element 2110 (i, j + 1) can be used. , J + 2) can be formed using the first conductive film, the first electrode 2111 (i, j + 2), or the like (see FIG. 15A). Note that also in FIG. 15B described later, the first electrode 2111 (i, j), the first electrode 2111 (i + 1, j), and the first electrode 2111 (i + 2, j) are illustrated as reflective films. Show.
第2の表示素子2120(i,j)は、第2の絶縁膜2506Bに向けて光を射出する機能を備える(図13(A)参照)。 The second display element 2120 (i, j) has a function of emitting light toward the second insulating film 2506B (see FIG. 13A).
反射膜は、第2の表示素子2120(i,j)が射出する光を遮らない領域が形成される形状を備える。 The reflective film has a shape in which a region that does not block the light emitted from the second display element 2120 (i, j) is formed.
また、本実施の形態で説明する表示パネルの画素2100(i,j)が備える反射膜は、単数又は複数の開口部2111Hを備える(図15参照)。 Further, the reflective film included in the pixel 2100 (i, j) of the display panel described in this embodiment includes one or a plurality of openings 2111H (see FIG. 15).
第2の表示素子2120(i,j)は、開口部2111Hに向けて光を射出する機能を備える。なお、開口部2111Hは第2の表示素子2120(i,j)が射出する光を透過する。 The second display element 2120 (i, j) has a function of emitting light toward the opening 2111H. Note that the opening 2111H transmits light emitted from the second display element 2120 (i, j).
例えば、画素2100(i,j)に隣接する画素2100(i,j+1)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111Hを通る行方向(図中に矢印Ro1で示す方向)に延びる直線上に配設されない(図15(A)参照)。又は、例えば、画素2100(i,j)に隣接する画素2100(i+1,j)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111Hを通る、列方向(図中に矢印Co1で示す方向)に延びる直線上に配設されない(図15(B)参照)。 For example, the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j + 1) adjacent to the pixel 2100 (i, j) is in the row direction passing through the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) (the direction indicated by the arrow Ro1 in the drawing). (See FIG. 15A). Alternatively, for example, the opening 2111H of the pixel 2100 (i + 1, j) adjacent to the pixel 2100 (i, j) passes through the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) in the column direction (in the figure, with an arrow Co1). They are not arranged on a straight line extending in the direction shown (see FIG. 15B).
例えば、画素2100(i,j+2)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111Hを通る、行方向に延びる直線上に配設される(図15(A)参照)。また、画素2100(i,j+1)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111H及び画素2100(i,j+2)の開口部2111Hの間において当該直線と直交する直線上に配設される。 For example, the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j + 2) is disposed on a straight line extending in the row direction passing through the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) (see FIG. 15A). In addition, the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j + 1) is arranged on a straight line orthogonal to the straight line between the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) and the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j + 2). Established.
又は、例えば、画素2100(i+2,j)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111Hを通る、列方向に延びる直線上に配設される(図15(B)参照)。また、例えば、画素2100(i+1,j)の開口部2111Hは、画素2100(i,j)の開口部2111H及び画素2100(i+2,j)の開口部2111Hの間において当該直線と直交する直線上に配設される。 Alternatively, for example, the opening 2111H of the pixel 2100 (i + 2, j) is disposed on a straight line extending in the column direction passing through the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) (see FIG. 15B). . For example, the opening 2111H of the pixel 2100 (i + 1, j) is on a straight line orthogonal to the straight line between the opening 2111H of the pixel 2100 (i, j) and the opening 2111H of the pixel 2100 (i + 2, j). It is arranged.
これにより、第2の表示素子に近接する位置に第2の表示素子とは異なる色を表示する第3の表示素子を、容易に配設することができる。その結果、利便性又は信頼性に優れた表示パネルを提供することができる。 Accordingly, the third display element that displays a color different from that of the second display element can be easily disposed at a position close to the second display element. As a result, a display panel that is highly convenient or reliable can be provided.
なお、例えば、第2の表示素子2120(i,j)が射出する光を遮らない領域2111Eが形成されるように、端部が切除されたような形状を備える材料を、反射膜に用いることができる(図15(C)参照)。具体的には、列方向(図中に矢印Co1で示す方向)が短くなるように端部が切除された第1の電極2111(i,j)を反射膜に用いることができる。なお、図15(C)では、第1の電極2111(i,j)と同様に、第1の電極2111(i,j+1)も図示している。 Note that, for example, a material having a shape in which an end portion is cut out so that a region 2111E that does not block light emitted from the second display element 2120 (i, j) is formed is used for the reflective film. (See FIG. 15C). Specifically, the first electrode 2111 (i, j) whose end is cut so that the column direction (the direction indicated by the arrow Co1 in the drawing) is shortened can be used for the reflective film. Note that in FIG. 15C, the first electrode 2111 (i, j + 1) is illustrated as well as the first electrode 2111 (i, j).
これにより、例えば同一の工程を用いて形成することができる画素回路を用いて、第1の表示素子と、第1の表示素子とは異なる方法を用いて表示をする第2の表示素子と、を駆動することができる。具体的には、反射型の表示素子を第1の表示素子に用いて、消費電力を低減することができる。又は、外光が明るい環境下において高いコントラストで画像を良好に表示することができる。又は、光を射出する第2の表示素子を用いて、暗い環境下で画像を良好に表示することができる。また、第2の絶縁膜を用いて、第1の表示素子及び第2の表示素子の間又は第1の表示素子及び画素回路の間における不純物の拡散を抑制することができる。また、制御情報に基づいて制御された電圧を供給される第2の表示素子が射出する光の一部は、第1の表示素子が備える反射膜に遮られない。その結果、利便性又は信頼性に優れた表示装置を提供することができる。 Thereby, for example, using a pixel circuit that can be formed using the same process, the first display element and the second display element that displays using a method different from the first display element, Can be driven. Specifically, power consumption can be reduced by using a reflective display element as the first display element. Alternatively, an image can be favorably displayed with high contrast in an environment with bright external light. Alternatively, an image can be favorably displayed in a dark environment by using the second display element that emits light. Further, diffusion of impurities between the first display element and the second display element or between the first display element and the pixel circuit can be suppressed by using the second insulating film. In addition, part of the light emitted from the second display element supplied with the voltage controlled based on the control information is not blocked by the reflective film included in the first display element. As a result, a display device that is highly convenient or reliable can be provided.
また、本実施の形態で説明する入出力装置の画素が備える第2の表示素子2120(i,j)は、第1の表示素子2110(i,j)を用いた表示を視認できる範囲の一部において視認できるように配設される。例えば、外光を反射する強度を制御して表示する第1の表示素子2110(i,j)に外光が入射し反射する方向を、破線の矢印で図中に示す(図14(A)参照)。また、第1の表示素子2110(i,j)を用いた表示を視認できる範囲の一部に第2の表示素子2120(i,j)が光を射出する方向を、実線の矢印で図中に示す(図13(A)参照)。 In addition, the second display element 2120 (i, j) included in the pixel of the input / output device described in this embodiment is in a range in which display using the first display element 2110 (i, j) is visible. It arrange | positions so that it can visually recognize in a part. For example, the direction in which external light is incident on and reflected by the first display element 2110 (i, j) that displays by controlling the intensity of reflecting external light is indicated by a dashed arrow in the drawing (FIG. 14A). reference). The direction in which the second display element 2120 (i, j) emits light in a part of the range where the display using the first display element 2110 (i, j) can be visually recognized is indicated by a solid arrow in the drawing. (See FIG. 13A).
これにより、第1の表示素子を用いた表示を視認することができる領域の一部において、第2の表示素子を用いた表示を視認することができる。又は、表示パネルの姿勢等を変えることなく使用者は表示を視認することができる。その結果、利便性又は信頼性に優れた表示パネルを提供することができる。 Thereby, the display using the 2nd display element can be visually recognized in a part of field which can visually recognize the display using the 1st display element. Alternatively, the user can visually recognize the display without changing the posture of the display panel. As a result, a display panel that is highly convenient or reliable can be provided.
また、画素回路2200(i,j)は、信号線Sig1(j)と電気的に接続される。なお、導電膜2522Aは、信号線Sig1(j)と電気的に接続される(図14(A)及び図17参照)。また、例えば、第2の導電膜をソース電極又はドレイン電極として機能する導電膜2522Bに用いたトランジスタを、画素回路2200(i,j)のスイッチSWT1に用いることができる。 The pixel circuit 2200 (i, j) is electrically connected to the signal line Sig1 (j). Note that the conductive film 2522A is electrically connected to the signal line Sig1 (j) (see FIGS. 14A and 17). For example, a transistor using the second conductive film as the conductive film 2522B functioning as a source electrode or a drain electrode can be used for the switch SWT1 of the pixel circuit 2200 (i, j).
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、第1の絶縁膜2506Aを有する(図13(A)参照)。 In addition, the display panel described in this embodiment includes the first insulating film 2506A (see FIG. 13A).
第1の絶縁膜2506Aは、第1の開口部2603A、第2の開口部2603B及び開口部2603Cを備える(図13(A)又は図14(A)参照)。 The first insulating film 2506A includes a first opening 2603A, a second opening 2603B, and an opening 2603C (see FIG. 13A or FIG. 14A).
第1の開口部2603Aは、第1の中間膜2540A及び第1の電極2111(i,j)と重なる領域又は第1の中間膜2540A及び第2の絶縁膜2506Bと重なる領域を備える。 The first opening 2603A includes a region overlapping with the first intermediate film 2540A and the first electrode 2111 (i, j) or a region overlapping with the first intermediate film 2540A and the second insulating film 2506B.
第2の開口部2603Bは、第2の中間膜2540B及び導電膜2524Aと重なる領域を備える。また、開口部2603Cは、中間膜2540C及び導電膜2524Bと重なる領域を備える。 The second opening 2603B includes a region overlapping with the second intermediate film 2540B and the conductive film 2524A. The opening 2603C includes a region overlapping with the intermediate film 2540C and the conductive film 2524B.
第1の絶縁膜2506Aは、第1の開口部2603Aの周縁に沿って、第1の中間膜2540A及び第2の絶縁膜2506Bの間に挟まれる領域を備え、第1の絶縁膜2506Aは、第2の開口部2603Bの周縁に沿って、第2の中間膜2540B及び導電膜2524Aの間に挟まれる領域を備える。 The first insulating film 2506A includes a region sandwiched between the first intermediate film 2540A and the second insulating film 2506B along the peripheral edge of the first opening 2603A. The first insulating film 2506A includes: A region sandwiched between the second intermediate film 2540B and the conductive film 2524A is provided along the periphery of the second opening 2603B.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、走査線G2(i)と、配線CSCOMと、第3の導電膜ANOと、信号線Sig2(j)と、を有する(図17参照)。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a scan line G2 (i), a wiring CSCOM, a third conductive film ANO, and a signal line Sig2 (j) (see FIG. 17).
また、本実施の形態で説明する表示パネルの第2の表示素子2120(i,j)は、第3の電極2121(i,j)と、第4の電極2122と、発光性の材料を含む層2123(j)と、を備える(図13(A)参照)。なお、第3の電極2121(i,j)は、第3の導電膜ANOと電気的に接続され、第4の電極2122は、第4の導電膜VCOM2と電気的に接続される(図17参照)。 In addition, the second display element 2120 (i, j) of the display panel described in this embodiment includes a third electrode 2121 (i, j), a fourth electrode 2122, and a light-emitting material. A layer 2123 (j) (see FIG. 13A). Note that the third electrode 2121 (i, j) is electrically connected to the third conductive film ANO, and the fourth electrode 2122 is electrically connected to the fourth conductive film VCOM2 (FIG. 17). reference).
第4の電極2122は、第3の電極2121(i,j)と重なる領域を備える。 The fourth electrode 2122 includes a region overlapping with the third electrode 2121 (i, j).
発光性の材料を含む層2123(j)は、第3の電極2121(i,j)及び第4の電極2122の間に挟まれる領域を備える。 The layer 2123 (j) containing a light-emitting material includes a region sandwiched between the third electrode 2121 (i, j) and the fourth electrode 2122.
第3の電極2121(i,j)は、接続部2601において、画素回路2200(i,j)と電気的に接続される。 The third electrode 2121 (i, j) is electrically connected to the pixel circuit 2200 (i, j) at the connection portion 2601.
また、本実施の形態で説明する表示パネルの第1の表示素子2110(i,j)は、液晶材料を含む層2113と、第1の電極2111(i,j)及び第2の電極2112と、を備える。第2の電極2112は、第1の電極2111(i,j)との間に液晶材料の配向を制御する電界が形成されるように配置される(図13(A)及び図14(A)参照)。 In addition, the first display element 2110 (i, j) of the display panel described in this embodiment includes a layer 2113 containing a liquid crystal material, a first electrode 2111 (i, j), and a second electrode 2112. . The second electrode 2112 is disposed so that an electric field for controlling the alignment of the liquid crystal material is formed between the second electrode 2112 and the first electrode 2111 (i, j) (FIGS. 13A and 14A). reference).
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、配向膜AF1及び配向膜AF2を備える。配向膜AF2は、配向膜AF1との間に液晶材料を含む層2113を挟むように配設される。 In addition, the display panel described in this embodiment includes an alignment film AF1 and an alignment film AF2. The alignment film AF2 is disposed so as to sandwich the layer 2113 containing a liquid crystal material between the alignment film AF1.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、第1の中間膜2540Aと、第2の中間膜2540Bと、を有する。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a first intermediate film 2540A and a second intermediate film 2540B.
第1の中間膜2540Aは、第2の絶縁膜2506Bとの間に第1の導電膜を挟む領域を備え、第1の中間膜2540Aは、第1の電極2111(i,j)と接する領域を備える。第2の中間膜2540Bは導電膜2524Aと接する領域を備える。 The first intermediate film 2540A includes a region in which the first conductive film is sandwiched between the second insulating film 2506B, and the first intermediate film 2540A is a region in contact with the first electrode 2111 (i, j). Is provided. The second intermediate film 2540B includes a region in contact with the conductive film 2524A.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、遮光膜BMと、絶縁膜2507と、機能膜2802Pと、機能膜2802Dと、を有する。また、着色膜CF1及び着色膜CF2を有する。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a light-blocking film BM, an insulating film 2507, a functional film 2802P, and a functional film 2802D. In addition, the color film CF1 and the color film CF2 are provided.
遮光膜BMは、第1の表示素子2110(i,j)と重なる領域に開口部を備える。着色膜CF2は、第2の絶縁膜2506B及び第2の表示素子2120(i,j)の間に配設され、開口部2111Hと重なる領域を備える(図13(A)参照)。 The light shielding film BM includes an opening in a region overlapping with the first display element 2110 (i, j). The coloring film CF2 is provided between the second insulating film 2506B and the second display element 2120 (i, j) and includes a region overlapping with the opening 2111H (see FIG. 13A).
絶縁膜2507は、着色膜CF1と液晶材料を含む層2113の間又は遮光膜BMと液晶材料を含む層2113の間に挟まれる領域を備える。これにより、着色膜CF1の厚さに基づく凹凸を平坦にすることができる。又は、遮光膜BM又は着色膜CF1等から液晶材料を含む層2113への不純物の拡散を、抑制することができる。 The insulating film 2507 includes a region sandwiched between the coloring film CF1 and the layer 2113 containing a liquid crystal material or between the light shielding film BM and the layer 2113 containing a liquid crystal material. Thereby, the unevenness | corrugation based on the thickness of colored film CF1 can be made flat. Alternatively, impurity diffusion from the light-blocking film BM, the coloring film CF1, or the like to the layer 2113 containing a liquid crystal material can be suppressed.
機能膜2802Pは、第1の表示素子2110(i,j)と重なる領域を備える。 The functional film 2802P includes a region overlapping with the first display element 2110 (i, j).
機能膜2802Dは、第1の表示素子2110(i,j)と重なる領域を備える。機能膜2802Dは、第1の表示素子2110(i,j)との間に基板2802を挟むように配設される。これにより、例えば、第1の表示素子2110(i,j)が反射する光を拡散することができる。 The functional film 2802D includes a region overlapping with the first display element 2110 (i, j). The functional film 2802D is disposed so that the substrate 2802 is sandwiched between the functional film 2802D and the first display element 2110 (i, j). Thereby, for example, light reflected by the first display element 2110 (i, j) can be diffused.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、基板2801と、基板2802と、機能層2581と、を有する。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a substrate 2801, a substrate 2802, and a functional layer 2581.
基板2802は、基板2801と重なる領域を備える。 The substrate 2802 includes a region overlapping with the substrate 2801.
機能層2581は、基板2801及び基板2802の間に挟まれる領域を備える。機能層2581は、画素回路2200(i,j)と、第2の表示素子2120(i,j)と、絶縁膜2502と、絶縁膜2501と、を含む。また、機能層2581は、絶縁膜2503及び絶縁膜2504を含む(図13(A)及び図13(B)参照)。 The functional layer 2581 includes a region sandwiched between the substrate 2801 and the substrate 2802. The functional layer 2581 includes a pixel circuit 2200 (i, j), a second display element 2120 (i, j), an insulating film 2502, and an insulating film 2501. The functional layer 2581 includes an insulating film 2503 and an insulating film 2504 (see FIGS. 13A and 13B).
絶縁膜2502は、画素回路2200(i,j)及び第2の表示素子2120(i,j)の間に挟まれる領域を備える。 The insulating film 2502 includes a region sandwiched between the pixel circuit 2200 (i, j) and the second display element 2120 (i, j).
絶縁膜2501は、絶縁膜2502及び基板2801の間に配設され、第2の表示素子2120(i,j)と重なる領域と、に開口部を備える。 The insulating film 2501 is provided between the insulating film 2502 and the substrate 2801 and includes an opening in a region overlapping with the second display element 2120 (i, j).
第3の電極2121(i,j)の周縁に沿って形成される絶縁膜2501は、第3の電極2121(i,j)及び第4の電極の短絡を防止する。 An insulating film 2501 formed along the periphery of the third electrode 2121 (i, j) prevents a short circuit between the third electrode 2121 (i, j) and the fourth electrode.
絶縁膜2503は、絶縁膜2502及び画素回路2200(i,j)の間に挟まれる領域を備える。絶縁膜2504は、絶縁膜2503及び画素回路2200(i,j)の間に挟まれる領域を備える。 The insulating film 2503 includes a region sandwiched between the insulating film 2502 and the pixel circuit 2200 (i, j). The insulating film 2504 includes a region sandwiched between the insulating film 2503 and the pixel circuit 2200 (i, j).
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、接合層2811と、封止材2820と、構造体KB1と、を有する。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a bonding layer 2811, a sealing material 2820, and a structure body KB1.
接合層2811は、機能層2581及び基板2801の間に挟まれる領域を備え、機能層2581及び基板2801を貼り合せる機能を備える。 The bonding layer 2811 includes a region sandwiched between the functional layer 2581 and the substrate 2801 and has a function of bonding the functional layer 2581 and the substrate 2801 together.
封止材2820は、機能層2581及び基板2802の間に挟まれる領域を備え、機能層2581及び基板2802を貼り合わせる機能を備える。 The sealing material 2820 includes a region sandwiched between the functional layer 2581 and the substrate 2802 and has a function of bonding the functional layer 2581 and the substrate 2802 together.
構造体KB1は、機能層2581及び基板2802の間に所定の間隙を設ける機能を備える。 The structure KB1 has a function of providing a predetermined gap between the functional layer 2581 and the substrate 2802.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、端子2900A及び端子2900Bを有する。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a terminal 2900A and a terminal 2900B.
端子2900Aは、導電膜2524Aと、中間膜2540Bと、を備え、中間膜2540Bは、導電膜2524Aと接する領域を備える。端子2900Aは、例えば信号線Sig1(j)と電気的に接続される。 The terminal 2900A includes a conductive film 2524A and an intermediate film 2540B, and the intermediate film 2540B includes a region in contact with the conductive film 2524A. The terminal 2900A is electrically connected to the signal line Sig1 (j), for example.
端子2900Aは、導電材料ACF1を用いて、フレキシブルプリント基板FPC1と電気的に接続することができる。 Terminal 2900A can be electrically connected to flexible printed circuit board FPC1 using conductive material ACF1.
端子2900Bは、導電膜2524Bと、中間膜2540Cと、を備え、中間膜2540Cは、導電膜2524Bと接する領域を備える。導電膜2524Bは、例えば配線VCOM1と電気的に接続される。 The terminal 2900B includes a conductive film 2524B and an intermediate film 2540C. The intermediate film 2540C includes a region in contact with the conductive film 2524B. The conductive film 2524B is electrically connected to, for example, the wiring VCOM1.
導電材料CPは、端子2900Bと第2の電極2112の間に挟まれ、端子2900Bと第2の電極2112を電気的に接続する機能を備える。例えば、導電性の粒子を導電材料CPに用いることができる。 The conductive material CP is sandwiched between the terminal 2900B and the second electrode 2112 and has a function of electrically connecting the terminal 2900B and the second electrode 2112. For example, conductive particles can be used for the conductive material CP.
また、本実施の形態で説明する表示パネルは、駆動回路GDと、駆動回路SDと、を有する(図11参照)。 In addition, the display panel described in this embodiment includes a driver circuit GD and a driver circuit SD (see FIG. 11).
駆動回路GDは、走査線G1(i)と電気的に接続される。駆動回路GDは、例えばトランジスタMDを備える(図13(A)参照)。具体的には、画素回路2200(i,j)に含まれるトランジスタと同じ工程で形成することができる半導体膜を含むトランジスタを、トランジスタMDに用いることができる。 The drive circuit GD is electrically connected to the scanning line G1 (i). The driver circuit GD includes, for example, a transistor MD (see FIG. 13A). Specifically, a transistor including a semiconductor film that can be formed in the same process as the transistor included in the pixel circuit 2200 (i, j) can be used for the transistor MD.
駆動回路SDは、信号線Sig1(j)と電気的に接続される。駆動回路SDは、例えば端子2900Aと電気的に接続される。 The drive circuit SD is electrically connected to the signal line Sig1 (j). The drive circuit SD is electrically connected to the terminal 2900A, for example.
<<入力部の構成例>>
入力部は、表示パネルと重なる領域を備える(図11、図13(A)又は図14(A)参照)。
<< Configuration example of input unit >>
The input portion includes a region overlapping with the display panel (see FIG. 11, FIG. 13A, or FIG. 14A).
入力部は、基板2803と、機能層2582と、接合層2812と、端子2901と、を有する(図13(A)及び図14(A)参照)。 The input portion includes a substrate 2803, a functional layer 2582, a bonding layer 2812, and a terminal 2901 (see FIGS. 13A and 14A).
また、入力部は、制御線CL(g)と、検知信号線ML(h)と、検知素子2150(g,h)と、を備える(図11(B−2)参照)。 The input unit includes a control line CL (g), a detection signal line ML (h), and a detection element 2150 (g, h) (see FIG. 11B-2).
機能層2582は、基板2802及び基板2803の間に挟まれる領域を備える。機能層2582は、検知素子2150(g,h)と、絶縁膜2508と、を備える。 The functional layer 2582 includes a region sandwiched between the substrate 2802 and the substrate 2803. The functional layer 2582 includes a sensing element 2150 (g, h) and an insulating film 2508.
接合層2812は、機能層2582及び基板2802の間に配設され、機能層2582及び基板2802を貼り合せる機能を備える。 The bonding layer 2812 is provided between the functional layer 2582 and the substrate 2802 and has a function of bonding the functional layer 2582 and the substrate 2802 together.
検知素子2150(g,h)は、制御線CL(g)及び検知信号線ML(h)と電気的に接続される。 The detection element 2150 (g, h) is electrically connected to the control line CL (g) and the detection signal line ML (h).
制御線CL(g)は、制御信号を供給する機能を備える。 The control line CL (g) has a function of supplying a control signal.
検知素子2150(g,h)は制御信号を供給され、検知素子2150(g,h)は制御信号及び表示パネルと重なる領域に近接するものとの距離に基づいて変化する検知信号を供給する機能を備える。 The detection element 2150 (g, h) is supplied with a control signal, and the detection element 2150 (g, h) supplies a detection signal that changes based on the control signal and a distance from an area close to the area overlapping the display panel. Is provided.
検知信号線ML(h)は検知信号を供給される機能を備える。 The detection signal line ML (h) has a function of being supplied with a detection signal.
検知素子2150(g,h)は、透光性を備える。 The sensing element 2150 (g, h) has translucency.
検知素子2150(g,h)は、電極C(g)と、電極M(h)と、を備える。 The sensing element 2150 (g, h) includes an electrode C (g) and an electrode M (h).
電極C(g)は、制御線CL(g)と電気的に接続される。 The electrode C (g) is electrically connected to the control line CL (g).
電極M(h)は、検知信号線ML(h)と電気的に接続され、電極M(h)は、表示パネルと重なる領域に近接するものによって一部が遮られる電界を、電極C(g)との間に形成するように配置される。 The electrode M (h) is electrically connected to the detection signal line ML (h), and the electrode M (h) has an electric field partially blocked by an electrode adjacent to the region overlapping the display panel. ) To form between.
これにより、表示パネルを用いて画像情報を表示しながら、表示パネルと重なる領域に近接するものを検知することができる。 Accordingly, it is possible to detect an object that is close to a region overlapping the display panel while displaying image information using the display panel.
また、本実施の形態で説明する入力部は、基板2803と、接合層2812と、を備える(図13(A)又は図14(A)参照)。 The input portion described in this embodiment includes a substrate 2803 and a bonding layer 2812 (see FIG. 13A or FIG. 14A).
基板2803は、基板2802との間に検知素子2150(g,h)を挟むように配設される。 The substrate 2803 is disposed so that the sensing element 2150 (g, h) is sandwiched between the substrate 2802 and the substrate 2802.
接合層2812は、基板2802及び検知素子2150(g,h)の間に配設され、基板2802及び検知素子2150(g,h)を貼り合わせる機能を備える。 The bonding layer 2812 is provided between the substrate 2802 and the detection element 2150 (g, h), and has a function of bonding the substrate 2802 and the detection element 2150 (g, h).
機能膜2802Pは、第1の表示素子2110(i,j)との間に検知素子2150(g,h)を挟むように配設される。これにより、例えば、検知素子2150(g,h)が反射する光の強度を低減することができる。 The functional film 2802P is disposed so that the detection element 2150 (g, h) is sandwiched between the functional film 2802P and the first display element 2110 (i, j). Thereby, for example, the intensity of light reflected by the sensing element 2150 (g, h) can be reduced.
また、本実施の形態で説明する入力部は、一群の検知素子2150(g,1)乃至検知素子2150(g,q)と、他の一群の検知素子2150(1,h)乃至検知素子2150(p,h)と、を有する(図16参照)。なお、ここでのgは1以上p以下の整数であり、hは1以上q以下の整数であり、p及びqは1以上の整数である。 The input portion described in this embodiment includes a group of detection elements 2150 (g, 1) to 2150 (g, q) and another group of detection elements 2150 (1, h) to 2150. (P, h) (see FIG. 16). Here, g is an integer of 1 or more and p or less, h is an integer of 1 or more and q or less, and p and q are integers of 1 or more.
一群の検知素子2150(g,1)乃至検知素子2150(g,q)は、検知素子2150(g,h)を含み、行方向(図中に矢印Ro2で示す方向)に配設される。 A group of the sensing elements 2150 (g, 1) to 2150 (g, q) includes the sensing elements 2150 (g, h) and are arranged in the row direction (direction indicated by an arrow Ro2 in the drawing).
また、他の一群の検知素子2150(1,h)乃至検知素子2150(p,h)は、検知素子2150(g,h)を含み、行方向と交差する列方向(図中に矢印Co2で示す方向)に配設される。 The other group of the sensing elements 2150 (1, h) to 2150 (p, h) includes the sensing elements 2150 (g, h), and the column direction (in the figure, indicated by an arrow Co2) intersecting the row direction. (Direction shown).
行方向に配設される一群の検知素子2150(g,1)乃至検知素子2150(g,q)は、制御線CL(g)と電気的に接続される電極C(g)を含む。 The group of sensing elements 2150 (g, 1) to 2150 (g, q) arranged in the row direction includes an electrode C (g) electrically connected to the control line CL (g).
列方向に配設される他の一群の検知素子2150(1,h)乃至検知素子2150(p,h)は、検知信号線ML(h)と電気的に接続される電極M(h)を含む。 Another group of sensing elements 2150 (1, h) to 2150 (p, h) arranged in the column direction has electrodes M (h) electrically connected to the sensing signal lines ML (h). Including.
また、本実施の形態で説明するタッチパネルの制御線CL(g)は、導電膜BR(g,h)を含む(図13(A)参照)。導電膜BR(g,h)は、検知信号線ML(h)と重なる領域を備える。 Further, the control line CL (g) of the touch panel described in this embodiment includes a conductive film BR (g, h) (see FIG. 13A). The conductive film BR (g, h) includes a region overlapping with the detection signal line ML (h).
絶縁膜2508は、検知信号線ML(h)及び導電膜BR(g,h)の間に挟まれる領域を備える。これにより、検知信号線ML(h)及び導電膜BR(g,h)の短絡を防止することができる。 The insulating film 2508 includes a region sandwiched between the detection signal line ML (h) and the conductive film BR (g, h). Thereby, a short circuit of the detection signal line ML (h) and the conductive film BR (g, h) can be prevented.
また、本実施の形態で説明するタッチパネルは、発振回路OSC及び検知回路DCを備える(図16参照)。 The touch panel described in this embodiment includes an oscillation circuit OSC and a detection circuit DC (see FIG. 16).
発振回路OSCは、制御線CL(g)と電気的に接続され、制御信号を供給する機能を備える。例えば、矩形波、のこぎり波また三角波等を制御信号に用いることができる。 The oscillation circuit OSC is electrically connected to the control line CL (g) and has a function of supplying a control signal. For example, a rectangular wave, a sawtooth wave, a triangular wave, or the like can be used as the control signal.
検知回路DCは、検知信号線ML(h)と電気的に接続され、検知信号線ML(h)の電位の変化に基づいて検知信号を供給する機能を備える。 The detection circuit DC is electrically connected to the detection signal line ML (h) and has a function of supplying a detection signal based on a change in potential of the detection signal line ML (h).
以下に、タッチパネルを構成する個々の要素について説明する。なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成の一部を含む場合がある。 Below, each element which comprises a touch panel is demonstrated. Note that these configurations cannot be clearly separated, and one configuration may serve as another configuration or may include a part of another configuration.
例えば第1の導電膜を第1の電極2111(i,j)に用いることができる。また、第1の導電膜を反射膜に用いることができる。 For example, the first conductive film can be used for the first electrode 2111 (i, j). In addition, the first conductive film can be used as a reflective film.
また、第2の導電膜をトランジスタのソース電極又はドレイン電極の機能を備える導電膜2522Bに用いることができる。 The second conductive film can be used for the conductive film 2522B having the function of the source electrode or the drain electrode of the transistor.
端子2901は、導電材料ACF2を用いて、フレキシブルプリント基板FPC2と電気的に接続することができる。また、端子2901は、検知素子2150(g,h)と電気的に接続される。 The terminal 2901 can be electrically connected to the flexible printed circuit board FPC2 using the conductive material ACF2. The terminal 2901 is electrically connected to the detection element 2150 (g, h).
<<画素回路の構成例>>
画素回路の構成例について、図17を用いて説明する。画素回路2200(i,j)は、信号線Sig1(j)、信号線Sig2(j)、走査線G1(i)、走査線G2(i)、配線CSCOM及び第3の導電膜ANOと電気的に接続される。同様に、画素回路2200(i,j+1)は、信号線Sig1(j+1)、信号線Sig2(j+1)、走査線G1(i)、走査線G2(i)、配線CSCOM及び第3の導電膜ANOと電気的に接続される。
<< Configuration Example of Pixel Circuit >>
A structural example of the pixel circuit will be described with reference to FIG. The pixel circuit 2200 (i, j) is electrically connected to the signal line Sig1 (j), the signal line Sig2 (j), the scanning line G1 (i), the scanning line G2 (i), the wiring CSCOM, and the third conductive film ANO. Connected to. Similarly, the pixel circuit 2200 (i, j + 1) includes the signal line Sig1 (j + 1), the signal line Sig2 (j + 1), the scanning line G1 (i), the scanning line G2 (i), the wiring CSCOM, and the third conductive film ANO. And electrically connected.
画素回路2200(i,j)及び画素回路2200(i,j+1)は、それぞれスイッチSWT1、容量素子C11を含む。 The pixel circuit 2200 (i, j) and the pixel circuit 2200 (i, j + 1) each include a switch SWT1 and a capacitor C11.
画素回路2200(i,j)及び画素回路2200(i,j+1)は、それぞれスイッチSWT2、トランジスタM及び容量素子C12を含む。 The pixel circuit 2200 (i, j) and the pixel circuit 2200 (i, j + 1) each include a switch SWT2, a transistor M, and a capacitor C12.
例えば、走査線G1(i)と電気的に接続されるゲート電極と、信号線Sig1(j)と電気的に接続される第1の電極と、を有するトランジスタを、スイッチSWT1に用いることができる。 For example, a transistor including a gate electrode electrically connected to the scan line G1 (i) and a first electrode electrically connected to the signal line Sig1 (j) can be used for the switch SWT1. .
容量素子C11は、スイッチSWT1に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続される第1の電極と、配線CSCOMと電気的に接続される第2の電極と、を有する。 The capacitor C11 includes a first electrode electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SWT1, and a second electrode electrically connected to the wiring CSCOM.
例えば、走査線G2(i)と電気的に接続されるゲート電極と、信号線Sig2(j)と電気的に接続される第1の電極と、を有するトランジスタを、スイッチSWT2に用いることができる。 For example, a transistor including a gate electrode electrically connected to the scan line G2 (i) and a first electrode electrically connected to the signal line Sig2 (j) can be used for the switch SWT2. .
トランジスタMは、スイッチSWT2に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続されるゲート電極と、第3の導電膜ANOと電気的に接続される第1の電極と、を有する。 The transistor M includes a gate electrode that is electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SWT2, and a first electrode that is electrically connected to the third conductive film ANO.
なお、半導体膜をゲート電極との間に挟むように設けられた導電膜を備えるトランジスタを、トランジスタMに用いることができる。例えば、トランジスタMのゲート電極と同じ電位を供給することができる配線と電気的に接続される導電膜を当該導電膜に用いることができる。 Note that a transistor including a conductive film provided so that a semiconductor film is interposed between a gate electrode and the gate electrode can be used for the transistor M. For example, a conductive film that is electrically connected to a wiring that can supply the same potential as the gate electrode of the transistor M can be used for the conductive film.
容量素子C12は、スイッチSWT2に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続される第1の電極と、トランジスタMの第1の電極と電気的に接続される第2の電極と、を有する。 The capacitor C12 includes a first electrode that is electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SWT2, and a second electrode that is electrically connected to the first electrode of the transistor M. .
なお、画素回路2200(i,j)において、第1の表示素子2110(i,j)の第1の電極をスイッチSWT1に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続し、第1の表示素子2110(i,j)の第2の電極を配線VCOM1と電気的に接続する。これにより、第1の表示素子2110を駆動することができる。同様に、画素回路2200(i,j+1)において、第1の表示素子2110(i,j+1)の第1の電極をスイッチSWT1に用いるトランジスタの第2の電極と電気的に接続し、第1の表示素子2110(i,j+1)の第2の電極を配線VCOM1と電気的に接続する。これにより、第1の表示素子2110を駆動することができる。 Note that in the pixel circuit 2200 (i, j), the first electrode of the first display element 2110 (i, j) is electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SWT1, so that the first display The second electrode of the element 2110 (i, j) is electrically connected to the wiring VCOM1. Accordingly, the first display element 2110 can be driven. Similarly, in the pixel circuit 2200 (i, j + 1), the first electrode of the first display element 2110 (i, j + 1) is electrically connected to the second electrode of the transistor used for the switch SWT1, and the first electrode The second electrode of the display element 2110 (i, j + 1) is electrically connected to the wiring VCOM1. Accordingly, the first display element 2110 can be driven.
また、画素回路2200(i,j)において、第2の表示素子2120(i,j)の第1の電極をトランジスタMの第2の電極と電気的に接続し、第2の表示素子2120(i,j)の第2の電極を第4の導電膜VCOM2と電気的に接続する。これにより、第2の表示素子2120(i,j)を駆動することができる。同様に、画素回路2200(i,j+1)において、第2の表示素子2120(i,j+1)の第1の電極をトランジスタMの第2の電極と電気的に接続し、第2の表示素子2120(i,j+1)の第2の電極を第4の導電膜VCOM2と電気的に接続する。これにより、第2の表示素子2120(i,j+1)を駆動することができる。 In the pixel circuit 2200 (i, j), the first electrode of the second display element 2120 (i, j) is electrically connected to the second electrode of the transistor M, and the second display element 2120 ( The second electrode i, j) is electrically connected to the fourth conductive film VCOM2. Accordingly, the second display element 2120 (i, j) can be driven. Similarly, in the pixel circuit 2200 (i, j + 1), the first electrode of the second display element 2120 (i, j + 1) is electrically connected to the second electrode of the transistor M, and the second display element 2120 is connected. The second electrode (i, j + 1) is electrically connected to the fourth conductive film VCOM2. Accordingly, the second display element 2120 (i, j + 1) can be driven.
<<トランジスタの構成例>>
スイッチSWT1、トランジスタM、トランジスタMDは、ボトムゲート型又はトップゲート型などのトランジスタを用いることができる。
<< Example of transistor structure >>
As the switch SWT1, the transistor M, and the transistor MD, bottom-gate or top-gate transistors can be used.
例えば、14族の元素を含む半導体を半導体膜に用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、シリコンを含む半導体を半導体膜に用いることができる。例えば、単結晶シリコン、ポリシリコン、微結晶シリコン又はアモルファスシリコンなどを半導体膜に用いるトランジスタを利用することができる。 For example, a transistor in which a semiconductor containing a Group 14 element is used for a semiconductor film can be used. Specifically, a semiconductor containing silicon can be used for the semiconductor film. For example, a transistor using single crystal silicon, polysilicon, microcrystalline silicon, amorphous silicon, or the like for a semiconductor film can be used.
例えば、酸化物半導体を半導体膜に用いるトランジスタを利用することができる。具体的には、インジウムを含む酸化物半導体又はインジウムと亜鉛と元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム又はスズ)とを含む酸化物半導体を半導体膜に用いることができる。 For example, a transistor in which an oxide semiconductor is used for a semiconductor film can be used. Specifically, an oxide semiconductor containing indium or an oxide semiconductor containing indium, zinc, and an element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin) can be used for the semiconductor film.
一例を挙げれば、オフ状態におけるリーク電流が、アモルファスシリコンを半導体膜に用いたトランジスタと比較して小さいトランジスタをスイッチSWT1、トランジスタM又はトランジスタMD等に用いることができる。具体的には、酸化物半導体を半導体膜2560に用いたトランジスタをスイッチSWT1、トランジスタM又はトランジスタMD等に用いることができる。 For example, a transistor whose leakage current in an off state is smaller than that of a transistor using amorphous silicon as a semiconductor film can be used for the switch SWT1, the transistor M, the transistor MD, or the like. Specifically, a transistor in which an oxide semiconductor is used for the semiconductor film 2560 can be used for the switch SWT1, the transistor M, the transistor MD, or the like.
これにより、アモルファスシリコンを半導体膜に用いたトランジスタを利用する画素回路と比較して、画素回路が画像信号を保持することができる時間を長くすることができる。具体的には、フリッカーの発生を抑制しながら、選択信号を30Hz未満、好ましくは1Hz未満より好ましくは一分に一回未満の頻度で供給することができる。その結果、情報処理装置の使用者に蓄積する疲労を低減することができる。また、駆動に伴う消費電力を低減することができる。 Accordingly, as compared with a pixel circuit using a transistor using amorphous silicon as a semiconductor film, the time during which the pixel circuit can hold an image signal can be lengthened. Specifically, the selection signal can be supplied at a frequency of less than 30 Hz, preferably less than 1 Hz, more preferably less than once per minute while suppressing the occurrence of flicker. As a result, fatigue accumulated in the user of the information processing apparatus can be reduced. In addition, power consumption associated with driving can be reduced.
スイッチSWT1に用いることができるトランジスタは、半導体膜2560及び半導体膜2560と重なる領域を備える導電膜2523を備える(図14(B)参照)。また、スイッチSWT1に用いることができるトランジスタは、半導体膜2560と電気的に接続される導電膜2522A及び導電膜2522Bを備える。 A transistor that can be used for the switch SWT1 includes a semiconductor film 2560 and a conductive film 2523 including a region overlapping with the semiconductor film 2560 (see FIG. 14B). A transistor that can be used for the switch SWT1 includes a conductive film 2522A and a conductive film 2522B that are electrically connected to the semiconductor film 2560.
なお、導電膜2523はゲート電極の機能を備え、絶縁膜2505はゲート絶縁膜の機能を備える。また、導電膜2522Aはソース電極の機能又はドレイン電極の機能の一方を備え、導電膜2522Bはソース電極の機能又はドレイン電極の機能の他方を備える。 Note that the conductive film 2523 has a function of a gate electrode, and the insulating film 2505 has a function of a gate insulating film. In addition, the conductive film 2522A has one of a source electrode function and a drain electrode function, and the conductive film 2522B has the other function of the source electrode and the drain electrode.
また、導電膜2523との間に半導体膜2560を挟むように設けられた導電膜2521を備えるトランジスタを、トランジスタMに用いることができる(図13(B)参照)。 A transistor including the conductive film 2521 provided so that the semiconductor film 2560 is interposed between the conductive film 2523 and the conductive film 2523 can be used for the transistor M (see FIG. 13B).
上記に示した入出力装置を、実施の形態4で説明した図10のタブレット型の情報端末5200に適用することによって、視認性、利便性、又は信頼性に優れた電子機器を実現することができる。 By applying the input / output device described above to the tablet-type information terminal 5200 illustrated in FIG. 10 described in Embodiment 4, an electronic device with excellent visibility, convenience, or reliability can be realized. it can.
<表示モジュールの応用例>
次いで、図11(A)の表示パネルを用いた表示モジュールの応用例について、図18を用いて説明を行う。
<Application examples of display modules>
Next, application examples of the display module using the display panel in FIG. 11A will be described with reference to FIGS.
図18に示す表示モジュール4000は、上部カバー4001と下部カバー4002との間に、FPC4003に接続されたタッチパネル4004、FPC4005に接続された表示パネル4006、フレーム4009、プリント基板4010、バッテリ4011を有する。なお、バッテリ4011、タッチパネル4004などは、設けられない場合もある。 A display module 4000 illustrated in FIG. 18 includes a touch panel 4004 connected to the FPC 4003, a display panel 4006 connected to the FPC 4005, a frame 4009, a printed board 4010, and a battery 4011 between an upper cover 4001 and a lower cover 4002. Note that the battery 4011, the touch panel 4004, and the like may not be provided.
上記図11(A)で説明した表示パネルは、図18における表示パネル4006に用いることができる。 The display panel described in FIG. 11A can be used for the display panel 4006 in FIG.
上部カバー4001及び下部カバー4002は、タッチパネル4004及び表示パネル4006のサイズに合わせて、形状および/または寸法を適宜変更することができる。 The shapes and / or dimensions of the upper cover 4001 and the lower cover 4002 can be changed as appropriate in accordance with the sizes of the touch panel 4004 and the display panel 4006.
タッチパネル4004は、図11(A)に示したタッチパネル2000TP1のように、抵抗膜方式または静電容量方式のタッチパネルを表示パネル4006に重畳して用いることができる。表示パネル4006の対向基板(封止基板)に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。または、表示パネル4006の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチパネルとすることも可能である。表示パネル4006の各画素内にタッチセンサ用電極を設け、静電容量方式のタッチパネルとすることも可能である。この場合、タッチパネル4004を省略することも可能である。 As the touch panel 4004, a resistive touch panel or a capacitive touch panel can be used by being overlapped with the display panel 4006 like the touch panel 2000TP1 illustrated in FIG. The counter substrate (sealing substrate) of the display panel 4006 can have a touch panel function. Alternatively, an optical sensor can be provided in each pixel of the display panel 4006 to provide an optical touch panel. A touch sensor electrode may be provided in each pixel of the display panel 4006 to form a capacitive touch panel. In this case, the touch panel 4004 can be omitted.
フレーム4009は、表示パネル4006の保護機能の他、プリント基板4010の動作により発生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。フレーム4009は、放熱板としての機能を有していてもよい。 The frame 4009 has a function as an electromagnetic shield for blocking electromagnetic waves generated by the operation of the printed board 4010 in addition to a protective function of the display panel 4006. The frame 4009 may have a function as a heat sink.
プリント基板4010は、電源回路、ビデオ信号及びクロック信号を出力するための信号処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であっても良いし、別途設けたバッテリ4011による電源であってもよい。バッテリ4011は、商用電源を用いる場合には、省略可能である。 The printed board 4010 includes a power supply circuit, a signal processing circuit for outputting a video signal and a clock signal. As a power supply for supplying power to the power supply circuit, an external commercial power supply may be used, or a power supply using a battery 4011 provided separately may be used. The battery 4011 can be omitted when a commercial power source is used.
表示モジュール4000には、偏光板、位相差板、プリズムシートなどの部材を追加して設けてもよい。 The display module 4000 may be additionally provided with a member such as a polarizing plate, a retardation plate, and a prism sheet.
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。 Note that this embodiment can be combined with any of the other embodiments described in this specification as appropriate.
(本明細書等の記載に関する付記)
以上の実施の形態における各構成の説明について、以下に付記する。
(Additional notes regarding the description of this specification etc.)
The description of each component in the above embodiment will be added below.
<実施の形態で述べた本発明の一態様に関する付記>
各実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて、本発明の一態様とすることができる。また、1つの実施の形態の中に、複数の構成例が示される場合は、互いに構成例を適宜組み合わせることが可能である。
<Supplementary Note on One Aspect of the Invention described in Embodiment>
The structure described in each embodiment can be combined with the structure described in any of the other embodiments as appropriate, for one embodiment of the present invention. In the case where a plurality of structure examples are given in one embodiment, any of the structure examples can be combined with each other as appropriate.
なお、ある一つの実施の形態の中で述べる内容(一部の内容でもよい)は、その実施の形態で述べる別の内容(一部の内容でもよい)と、一つ若しくは複数の別の実施の形態で述べる内容(一部の内容でもよい)との少なくとも一つの内容に対して、適用、組み合わせ、又は置き換えなどを行うことができる。 Note that the content described in one embodiment (may be a part of content) is different from the other content described in the embodiment (may be a part of content) and one or more other implementations. Application, combination, replacement, or the like can be performed on at least one of the contents described in the form (may be part of the contents).
なお、実施の形態の中で述べる内容とは、各々の実施の形態において、様々な図を用いて述べる内容、又は明細書に記載される文章を用いて述べる内容のことである。 Note that the contents described in the embodiments are the contents described using various drawings or the contents described in the specification in each embodiment.
なお、ある一つの実施の形態において述べる図(一部でもよい)は、その図の別の部分、その実施の形態において述べる別の図(一部でもよい)と、一つ若しくは複数の別の実施の形態において述べる図(一部でもよい)との少なくとも一つの図に対して、組み合わせることにより、さらに多くの図を構成させることができる。 Note that a drawing (or a part thereof) described in one embodiment may be different from another part of the drawing, another drawing (may be a part) described in the embodiment, or one or more different drawings. By combining at least one of the drawings (or a part thereof) described in the embodiment, more drawings can be formed.
<序数詞に関する付記>
本明細書等において、「第1」、「第2」、「第3」という序数詞は、構成要素の混同を避けるために付したものである。従って、構成要素の数を限定するものではない。また、構成要素の順序を限定するものではない。また例えば、本明細書等の実施の形態の一において「第1」に言及された構成要素が、他の実施の形態、あるいは特許請求の範囲において「第2」に言及された構成要素とすることもありうる。また例えば、本明細書等の実施の形態の一において「第1」に言及された構成要素を、他の実施の形態、あるいは特許請求の範囲において省略することもありうる。
<Notes on ordinal numbers>
In this specification and the like, the ordinal numbers “first”, “second”, and “third” are given to avoid confusion between components. Therefore, the number of components is not limited. Further, the order of the components is not limited. Further, for example, a component referred to as “first” in one embodiment of the present specification or the like is a component referred to as “second” in another embodiment or in the claims. It is also possible. In addition, for example, the constituent elements referred to as “first” in one embodiment of the present specification and the like may be omitted in other embodiments or in the claims.
<図面を説明する記載に関する付記>
実施の形態について図面を参照しながら説明している。但し、実施の形態は多くの異なる態様で実施することが可能であり、趣旨及びその範囲から逸脱することなく、その形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は、実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施の形態の発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。
<Additional notes regarding the description explaining the drawings>
Embodiments are described with reference to the drawings. However, it will be readily understood by those skilled in the art that the embodiments can be implemented in many different forms, and that the forms and details can be variously changed without departing from the spirit and scope thereof. The Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments. Note that in the structures of the embodiments of the present invention, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals in different drawings, and description thereof is not repeated.
また、本明細書等において、「上に」、「下に」などの配置を示す語句は、構成同士の位置関係を、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。構成同士の位置関係は、各構成を描写する方向に応じて適宜変化する。そのため、配置を示す語句は、明細書で説明した記載に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。 In addition, in this specification and the like, terms indicating arrangement such as “above” and “below” are used for convenience in describing the positional relationship between components with reference to the drawings. The positional relationship between the components appropriately changes depending on the direction in which each component is drawn. Therefore, the phrase indicating the arrangement is not limited to the description described in the specification, and can be appropriately rephrased depending on the situation.
また、「上」や「下」の用語は、構成要素の位置関係が直上又は直下で、かつ、直接接していることを限定するものではない。例えば、「絶縁層A上の電極B」の表現であれば、絶縁層Aの上に電極Bが直接接して形成されている必要はなく、絶縁層Aと電極Bとの間に他の構成要素を含むものを除外しない。 Further, the terms “upper” and “lower” do not limit that the positional relationship between the components is directly above or directly below, and is in direct contact with each other. For example, the expression “electrode B on the insulating layer A” does not require the electrode B to be formed in direct contact with the insulating layer A, and another configuration between the insulating layer A and the electrode B. Do not exclude things that contain elements.
また本明細書等において、ブロック図では、構成要素を機能毎に分類し、互いに独立したブロックとして示している。しかしながら実際の回路等においては、構成要素を機能毎に切り分けることが難しく、一つの回路に複数の機能が係わる場合や、複数の回路にわたって一つの機能が関わる場合があり得る。そのため、ブロック図のブロックは、明細書で説明した構成要素に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。 Further, in the present specification and the like, in the block diagram, the constituent elements are classified by function and shown as independent blocks. However, in an actual circuit or the like, it is difficult to separate the components for each function, and there may be a case where a plurality of functions are involved in one circuit or a case where one function is involved over a plurality of circuits. Therefore, the blocks in the block diagram are not limited to the components described in the specification, and can be appropriately rephrased depending on the situation.
また、図面において、大きさ、層の厚さ、又は領域は、説明の便宜上任意の大きさに示したものである。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は明確性を期すために模式的に示したものであり、図面に示す形状又は値などに限定されない。例えば、ノイズによる信号、電圧、若しくは電流のばらつき、又は、タイミングのずれによる信号、電圧、若しくは電流のばらつきなどを含むことが可能である。 In the drawings, the size, the layer thickness, or the region is shown in an arbitrary size for convenience of explanation. Therefore, it is not necessarily limited to the scale. Note that the drawings are schematically shown for the sake of clarity, and are not limited to the shapes or values shown in the drawings. For example, variation in signal, voltage, or current due to noise, variation in signal, voltage, or current due to timing shift can be included.
また、図面において、斜視図などにおいて、図面の明確性を期すために、一部の構成要素の記載を省略している場合がある。 In the drawings, some components may be omitted from the perspective views and the like for the sake of clarity.
また、図面において、同一の要素又は同様な機能を有する要素、同一の材質の要素、あるいは同時に形成される要素等には同一の符号を付す場合があり、その繰り返しの説明は省略する場合がある。 In the drawings, the same element, an element having a similar function, an element of the same material, or an element formed at the same time may be denoted by the same reference numeral, and repeated description thereof may be omitted. .
<言い換え可能な記載に関する付記>
本明細書等において、トランジスタの接続関係を説明する際、ソースとドレインとの一方を、「ソース又はドレインの一方」(又は第1電極、又は第1端子)と表記し、ソースとドレインとの他方を「ソース又はドレインの他方」(又は第2電極、又は第2端子)と表記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又は動作条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称については、ソース(ドレイン)端子や、ソース(ドレイン)電極等、状況に応じて適切に言い換えることができる。また、本明細書等では、ゲート以外の2つの端子を第1端子、第2端子と呼ぶ場合や、第3端子、第4端子と呼ぶ場合がある。また、本明細書等に記載するトランジスタが2つ以上のゲートを有するとき(この構成をデュアルゲート構造という場合がある)、それらのゲートを第1ゲート、第2ゲートと呼ぶ場合や、フロントゲート、バックゲートと呼ぶ場合がある。特に、「フロントゲート」という語句は、単に「ゲート」という語句に互いに言い換えることができる。また、「バックゲート」という語句は、単に「ゲート」という語句に互いに言い換えることができる。なお、ボトムゲートとは、トランジスタの作製時において、チャネル形成領域よりも先に形成される端子のことをいい、「トップゲート」とは、トランジスタの作製時において、チャネル形成領域よりも後に形成される端子のことをいう。
<Additional notes on paraphrased descriptions>
In this specification and the like, when describing a connection relation of a transistor, one of a source and a drain is referred to as “one of a source and a drain” (or a first electrode or a first terminal), and the source and the drain The other is referred to as “the other of the source and the drain” (or the second electrode or the second terminal). This is because the source and drain of a transistor vary depending on the structure or operating conditions of the transistor. Note that the names of the source and the drain of the transistor can be appropriately rephrased depending on the situation, such as a source (drain) terminal or a source (drain) electrode. In this specification and the like, two terminals other than the gate may be referred to as a first terminal and a second terminal, or may be referred to as a third terminal and a fourth terminal. In addition, when a transistor described in this specification and the like has two or more gates (this structure is sometimes referred to as a dual gate structure), these gates may be referred to as a first gate and a second gate, , Sometimes called back gate. In particular, the phrase “front gate” can be rephrased as simply the phrase “gate”. Also, the phrase “back gate” can be rephrased simply as the phrase “gate”. Note that a bottom gate refers to a terminal formed before a channel formation region when a transistor is manufactured, and a “top gate” is formed after a channel formation region when a transistor is manufactured. Terminal.
トランジスタは、ゲート、ソース、及びドレインと呼ばれる3つの端子を有する。ゲートは、トランジスタの導通状態を制御する制御端子として機能する端子である。ソース又はドレインとして機能する2つの入出力端子は、トランジスタの型及び各端子に与えられる電位の高低によって、一方がソースとなり他方がドレインとなる。このため、本明細書等においては、ソースやドレインの用語は、入れ替えて用いることができるものとする。 The transistor has three terminals called a gate, a source, and a drain. The gate is a terminal that functions as a control terminal for controlling the conduction state of the transistor. One of the two input / output terminals functioning as a source or drain serves as a source and the other serves as a drain depending on the type of the transistor and the potential applied to each terminal. Therefore, in this specification and the like, the terms source and drain can be used interchangeably.
また、本明細書等において「電極」や「配線」の用語は、これらの構成要素を機能的に限定するものではない。例えば、「電極」は「配線」の一部として用いられることがあり、その逆もまた同様である。さらに、「電極」や「配線」の用語は、複数の「電極」や「配線」が一体となって形成されている場合なども含む。 Further, in this specification and the like, the terms “electrode” and “wiring” do not functionally limit these components. For example, an “electrode” may be used as part of a “wiring” and vice versa. Furthermore, the terms “electrode” and “wiring” include a case where a plurality of “electrodes” and “wirings” are integrally formed.
また、本明細書等において、電圧と電位は、適宜言い換えることができる。電圧は、基準となる電位からの電位差のことであり、例えば基準となる電位をグラウンド電位(接地電位)とすると、電圧を電位に言い換えることができる。グラウンド電位は必ずしも0Vを意味するとは限らない。なお電位は相対的なものであり、基準となる電位によっては、配線等に与える電位を変化させる場合がある。 In this specification and the like, voltage and potential can be described as appropriate. The voltage is a potential difference from a reference potential. For example, when the reference potential is a ground potential (ground potential), the voltage can be rephrased as a potential. The ground potential does not necessarily mean 0V. Note that the potential is relative, and the potential applied to the wiring or the like may be changed depending on the reference potential.
なお本明細書等において、「膜」、「層」などの語句は、場合によっては、又は、状況に応じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」という用語に変更することが可能な場合がある。又は、例えば、「絶縁膜」という用語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。又は、場合によっては、又は、状況に応じて、「膜」、「層」などの語句を使わずに、別の用語に入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」又は「導電膜」という用語を、「導電体」という用語に変更することが可能な場合がある。又は、例えば、「絶縁層」「絶縁膜」という用語を、「絶縁体」という用語に変更することが可能な場合がある。 Note that in this specification and the like, terms such as “film” and “layer” can be interchanged with each other depending on the case or circumstances. For example, the term “conductive layer” may be changed to the term “conductive film”. Alternatively, for example, the term “insulating film” may be changed to the term “insulating layer”. Alternatively, in some cases or depending on circumstances, it is possible to replace with another term without using a phrase such as “film” or “layer”. For example, the term “conductive layer” or “conductive film” may be changed to the term “conductor” in some cases. Alternatively, for example, the terms “insulating layer” and “insulating film” may be changed to the term “insulator”.
なお本明細書等において、「配線」、「信号線」、「電源線」などの用語は、場合によっては、又は、状況に応じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「配線」という用語を、「信号線」という用語に変更することが可能な場合がある。また、例えば、「配線」という用語を、「電源線」などの用語に変更することが可能な場合がある。また、その逆も同様で、「信号線」「電源線」などの用語を、「配線」という用語に変更することが可能な場合がある。「電源線」などの用語は、「信号線」などの用語に変更することが可能な場合がある。また、その逆も同様で「信号線」などの用語は、「電源線」などの用語に変更することが可能な場合がある。また、配線に印加されている「電位」という用語を、場合によっては、又は、状況に応じて、「信号」などという用語に変更することが可能な場合がある。また、その逆も同様で、「信号」などの用語は、「電位」という用語に変更することが可能な場合がある。 Note that in this specification and the like, terms such as “wiring”, “signal line”, and “power supply line” can be interchanged with each other depending on the case or circumstances. For example, it may be possible to change the term “wiring” to the term “signal line”. In addition, for example, the term “wiring” may be changed to a term such as “power supply line”. The reverse is also true, and there are cases where terms such as “signal line” and “power supply line” can be changed to the term “wiring”. A term such as “power line” may be changed to a term such as “signal line”. The reverse is also true, and a term such as “signal line” may be changed to a term such as “power line”. In addition, the term “potential” applied to the wiring may be changed to a term “signal” or the like depending on circumstances or circumstances. The reverse is also true, and a term such as “signal” may be changed to a term “potential”.
<語句の定義に関する付記>
以下では、上記実施の形態中で言及した語句の定義について説明する。
<Notes on the definition of words>
Below, the definition of the phrase referred in the said embodiment is demonstrated.
<<半導体について>>
本明細書において、「半導体」と表記した場合でも、例えば、導電性が十分低い場合は「絶縁体」としての特性を有する場合がある。また、「半導体」と「絶縁体」は境界が曖昧であり、厳密に区別できない場合がある。したがって、本明細書に記載の「半導体」は、「絶縁体」と言い換えることができる場合がある。同様に、本明細書に記載の「絶縁体」は、「半導体」と言い換えることができる場合がある。
<< About Semiconductor >>
In this specification, even when expressed as “semiconductor”, for example, when the conductivity is sufficiently low, the semiconductor device may have characteristics as an “insulator”. In addition, the boundary between “semiconductor” and “insulator” is ambiguous and may not be strictly discriminated. Therefore, a “semiconductor” in this specification can be called an “insulator” in some cases. Similarly, an “insulator” in this specification can be called a “semiconductor” in some cases.
また、「半導体」と表記した場合でも、例えば、導電性が十分高い場合は「導電体」としての特性を有する場合がある。また、「半導体」と「導電体」は境界が曖昧であり、厳密に区別できない場合がある。したがって、本明細書に記載の「半導体」は、「導電体」と言い換えることができる場合がある。同様に、本明細書に記載の「導電体」は、「半導体」と言い換えることができる場合がある。 In addition, even when “semiconductor” is described, for example, when the conductivity is sufficiently high, the semiconductor device may have characteristics as a “conductor”. In addition, the boundary between “semiconductor” and “conductor” is ambiguous, and there are cases where it cannot be strictly distinguished. Therefore, a “semiconductor” in this specification can be called a “conductor” in some cases. Similarly, a “conductor” in this specification can be called a “semiconductor” in some cases.
なお、半導体の不純物とは、例えば、半導体層を構成する主成分以外をいう。例えば、濃度が0.1原子%未満の元素は不純物である。不純物が含まれることにより、例えば、半導体にDOS(Density of States)が形成されることや、キャリア移動度が低下することや、結晶性が低下することなどが起こる場合がある。半導体が酸化物半導体である場合、半導体の特性を変化させる不純物としては、例えば、第1族元素、第2族元素、第13族元素、第14族元素、第15族元素、主成分以外の遷移金属などがあり、特に、例えば、水素(水にも含まれる)、リチウム、ナトリウム、シリコン、ホウ素、リン、炭素、窒素などがある。酸化物半導体の場合、例えば水素などの不純物の混入によって酸素欠損を形成する場合がある。また、半導体がシリコン層である場合、半導体の特性を変化させる不純物としては、例えば、酸素、水素を除く第1族元素、第2族元素、第13族元素、第15族元素などがある。 Note that the semiconductor impurities refer to components other than the main components constituting the semiconductor layer, for example. For example, an element having a concentration of less than 0.1 atomic% is an impurity. When the impurities are included, for example, DOS (Density of States) may be formed in the semiconductor, carrier mobility may be reduced, or crystallinity may be reduced. In the case where the semiconductor is an oxide semiconductor, examples of impurities that change the characteristics of the semiconductor include Group 1 elements, Group 2 elements, Group 13 elements, Group 14 elements, Group 15 elements, and components other than main components Examples include transition metals, and in particular, hydrogen (also included in water), lithium, sodium, silicon, boron, phosphorus, carbon, nitrogen, and the like. In the case of an oxide semiconductor, oxygen vacancies may be formed by mixing impurities such as hydrogen, for example. In the case where the semiconductor is a silicon layer, examples of impurities that change the characteristics of the semiconductor include group 1 elements, group 2 elements, group 13 elements, and group 15 elements excluding oxygen and hydrogen.
<<トランジスタについて>>
本明細書において、トランジスタとは、ゲートと、ドレインと、ソースとを含む少なくとも三つの端子を有する素子である。そして、ドレイン(ドレイン端子、ドレイン領域又はドレイン電極)とソース(ソース端子、ソース領域又はソース電極)の間にチャネル形成領域を有する。ゲート‐ソース間に電圧が印加することで、チャネル形成領域にチャネルが形成されて、ソース‐ドレイン間に電流が流れる。
<< About Transistors >>
In this specification, a transistor is an element having at least three terminals including a gate, a drain, and a source. A channel formation region is provided between the drain (drain terminal, drain region or drain electrode) and the source (source terminal, source region or source electrode). When a voltage is applied between the gate and the source, a channel is formed in the channel formation region, and a current flows between the source and the drain.
また、ソースやドレインの機能は、異なる極性のトランジスタを採用する場合や、回路動作において電流の方向が変化する場合などには入れ替わることがある。このため、本明細書等においては、ソースやドレインの用語は、入れ替えて用いることができるものとする。 In addition, the functions of the source and drain may be switched when transistors having different polarities are employed or when the direction of current changes during circuit operation. Therefore, in this specification and the like, the terms source and drain can be used interchangeably.
<<スイッチについて>>
本明細書等において、スイッチとは、導通状態(オン状態)、又は、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有するものをいう。又は、スイッチとは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有するものをいう。
<< About the switch >>
In this specification and the like, a switch refers to a switch that is in a conductive state (on state) or a non-conductive state (off state) and has a function of controlling whether or not to pass current. Alternatively, the switch refers to a switch having a function of selecting and switching a current flow path.
一例としては、電気的スイッチ又は機械的なスイッチなどを用いることができる。つまり、スイッチは、電流を制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。 As an example, an electrical switch or a mechanical switch can be used. That is, the switch is not limited to a specific one as long as it can control the current.
電気的なスイッチの一例としては、トランジスタ(例えば、バイポーラトランジスタ、MOSトランジスタなど)、ダイオード(例えば、PNダイオード、PINダイオード、ショットキーダイオード、MIM(Metal Insulator Metal)ダイオード、MIS(Metal Insulator Semiconductor)ダイオード、ダイオード接続のトランジスタなど)、又はこれらを組み合わせた論理回路などがある。 Examples of electrical switches include transistors (for example, bipolar transistors, MOS transistors, etc.), diodes (for example, PN diodes, PIN diodes, Schottky diodes, MIM (Metal Insulator Metal) diodes, MIS (Metal Insulator Semiconductor) diodes. , Diode-connected transistors, etc.), or a logic circuit combining these.
なお、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、トランジスタの「導通状態」とは、トランジスタのソース電極とドレイン電極が電気的に短絡されているとみなせる状態をいう。また、トランジスタの「非導通状態」とは、トランジスタのソース電極とドレイン電極が電気的に遮断されているとみなせる状態をいう。なおトランジスタを単なるスイッチとして動作させる場合には、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。 Note that in the case where a transistor is used as the switch, the “conducting state” of the transistor means a state in which the source electrode and the drain electrode of the transistor can be regarded as being electrically short-circuited. In addition, the “non-conducting state” of a transistor refers to a state where the source electrode and the drain electrode of the transistor can be regarded as being electrically disconnected. Note that when a transistor is operated as a simple switch, the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited.
機械的なスイッチの一例としては、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)のように、MEMS(マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システムズ)技術を用いたスイッチがある。そのスイッチは、機械的に動かすことが可能な電極を有し、その電極が動くことによって、導通と非導通とを制御して動作する。 An example of a mechanical switch is a switch using MEMS (micro electro mechanical systems) technology, such as a digital micromirror device (DMD). The switch has an electrode that can be moved mechanically, and operates by controlling conduction and non-conduction by moving the electrode.
<<接続について>>
本明細書等において、XとYとが接続されている、と記載する場合は、XとYとが電気的に接続されている場合と、XとYとが機能的に接続されている場合と、XとYとが直接接続されている場合とを含むものとする。したがって、所定の接続関係、例えば、図又は文章に示された接続関係に限定されず、図又は文章に示された接続関係以外のものも含むものとする。
<< About connection >>
In this specification and the like, when X and Y are described as being connected, when X and Y are electrically connected, and when X and Y are functionally connected And the case where X and Y are directly connected. Therefore, it is not limited to a predetermined connection relation, for example, the connection relation shown in the figure or text, and includes things other than the connection relation shown in the figure or text.
ここで使用するX、Yなどは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。 X, Y, and the like used here are objects (for example, devices, elements, circuits, wirings, electrodes, terminals, conductive films, layers, etc.).
XとYとが電気的に接続されている場合の一例としては、XとYとの電気的な接続を可能とする素子(例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイッチは、導通状態(オン状態)、又は、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有している。 As an example of the case where X and Y are electrically connected, an element (for example, a switch, a transistor, a capacitive element, an inductor, a resistance element, a diode, a display, etc.) that enables electrical connection between X and Y is shown. More than one element, light emitting element, load, etc.) can be connected between X and Y. Note that the switch has a function of controlling on / off. That is, the switch is in a conductive state (on state) or a non-conductive state (off state), and has a function of controlling whether or not to pass a current.
XとYとが機能的に接続されている場合の一例としては、XとYとの機能的な接続を可能とする回路(例えば、論理回路(インバータ、NAND回路、NOR回路など)、信号変換回路(DA変換回路、AD変換回路、ガンマ補正回路など)、電位レベル変換回路(電源回路(昇圧回路、降圧回路など)、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など)、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路(信号振幅又は電流量などを大きく出来る回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など)、信号生成回路、記憶回路、制御回路など)が、XとYとの間に1個以上接続されることが可能である。なお、一例として、XとYとの間に別の回路を挟んでいても、Xから出力された信号がYへ伝達される場合は、XとYとは機能的に接続されているものとする。 As an example of the case where X and Y are functionally connected, a circuit (for example, a logic circuit (an inverter, a NAND circuit, a NOR circuit, etc.) that enables a functional connection between X and Y, signal conversion, etc. Circuit (DA conversion circuit, AD conversion circuit, gamma correction circuit, etc.), potential level conversion circuit (power supply circuit (boost circuit, step-down circuit, etc.), level shifter circuit that changes signal potential level, etc.), voltage source, current source, switching Circuit, amplifier circuit (circuit that can increase signal amplitude or current amount, operational amplifier, differential amplifier circuit, source follower circuit, buffer circuit, etc.), signal generation circuit, memory circuit, control circuit, etc.) One or more can be connected between them. As an example, even if another circuit is interposed between X and Y, if the signal output from X is transmitted to Y, X and Y are functionally connected. To do.
なお、XとYとが電気的に接続されている、と明示的に記載する場合は、XとYとが電気的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟んで接続されている場合)と、XとYとが機能的に接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合)と、XとYとが直接接続されている場合(つまり、XとYとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合)とを含むものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示的に記載する場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合と同じであるとする。 Note that when X and Y are explicitly described as being electrically connected, when X and Y are electrically connected (that is, another element between X and Y). Or when X and Y are functionally connected (that is, they are functionally connected with another circuit between X and Y). And a case where X and Y are directly connected (that is, a case where another element or another circuit is not connected between X and Y). That is, when it is explicitly described that it is electrically connected, it is the same as when it is explicitly only described that it is connected.
なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。 Note that for example, the source (or the first terminal) of the transistor is electrically connected to X through (or not through) Z1, and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor is connected to Z2. Through (or without), Y is electrically connected, or the source (or the first terminal, etc.) of the transistor is directly connected to a part of Z1, and another part of Z1 Is directly connected to X, and the drain (or second terminal, etc.) of the transistor is directly connected to a part of Z2, and another part of Z2 is directly connected to Y. Then, it can be expressed as follows.
例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。又は、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。又は、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。 For example, “X and Y, and the source (or the first terminal or the like) and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor are electrically connected to each other. The drain of the transistor (or the second terminal, etc.) and the Y are electrically connected in this order. ” Or “the source (or the first terminal, etc.) of the transistor is electrically connected to X, the drain (or the second terminal, etc.) of the transistor is electrically connected to Y, and X, the source of the transistor ( Or the first terminal or the like, the drain of the transistor (or the second terminal, or the like) and Y are electrically connected in this order. Or “X is electrically connected to Y through the source (or the first terminal) and the drain (or the second terminal) of the transistor, and X is the source of the transistor (or the first terminal). Terminal, etc.), the drain of the transistor (or the second terminal, etc.), and Y are provided in this connection order. By using the same expression method as in these examples and defining the order of connection in the circuit configuration, the source (or the first terminal, etc.) and the drain (or the second terminal, etc.) of the transistor are separated. Apart from that, the technical scope can be determined. In addition, these expression methods are examples, and are not limited to these expression methods. Here, it is assumed that X, Y, Z1, and Z2 are objects (for example, devices, elements, circuits, wirings, electrodes, terminals, conductive films, layers, and the like).
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されている場合であっても、1つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。 In addition, even when the components shown in the circuit diagram are electrically connected to each other, even when one component has the functions of a plurality of components. There is also. For example, in the case where a part of the wiring also functions as an electrode, one conductive film has both the functions of the constituent elements of the wiring function and the electrode function. Therefore, the term “electrically connected” in this specification includes in its category such a case where one conductive film has functions of a plurality of components.
<<平行、垂直について>>
本明細書において、「平行」とは、二つの直線が−10°以上10°以下の角度で配置されている状態をいう。したがって、−5°以上5°以下の場合も含まれる。また、「略平行」とは、二つの直線が−30°以上30°以下の角度で配置されている状態をいう。また、「垂直」とは、二つの直線が80°以上100°以下の角度で配置されている状態をいう。したがって、85°以上95°以下の場合も含まれる。また、「略垂直」とは、二つの直線が60°以上120°以下の角度で配置されている状態をいう。
<< About parallel and vertical >>
In this specification, “parallel” refers to a state in which two straight lines are arranged at an angle of −10 ° to 10 °. Therefore, the case of −5 ° to 5 ° is also included. Further, “substantially parallel” means a state in which two straight lines are arranged at an angle of −30 ° to 30 °. “Vertical” refers to a state in which two straight lines are arranged at an angle of 80 ° to 100 °. Therefore, the case of 85 ° to 95 ° is also included. Further, “substantially vertical” means a state in which two straight lines are arranged at an angle of 60 ° to 120 °.
<<三方晶、菱面体晶について>>
本明細書において、結晶が三方晶又は菱面体晶である場合、六方晶系として表す。
<< About trigonal and rhombohedral crystals >>
In this specification, when a crystal is trigonal or rhombohedral, it is represented as a hexagonal system.
LP 表示パネル
OP 表示パネル
IT 端子
OT 端子
LT 端子
OP1 オペアンプ
OP2 オペアンプ
OSW スイッチ
LSW スイッチ
OSWG スイッチ
LSWG スイッチ
SWa[1] スイッチ
SWa[j] スイッチ
SWa[n] スイッチ
SE[1] スイッチ
SE[j] スイッチ
SE[n] スイッチ
SWb[1] スイッチ
SWb[j] スイッチ
SWb[n] スイッチ
SWb[n+1] スイッチ
C[1] 容量素子
C[2] 容量素子
C[3] 容量素子
C[4] 容量素子
C[5] 容量素子
C[6] 容量素子
C[j] 容量素子
C[n] 容量素子
OTr トランジスタ
OTrG トランジスタ
LTr トランジスタ
LTrG トランジスタ
Tra[1] トランジスタ
Tra[2] トランジスタ
Tra[3] トランジスタ
Tra[4] トランジスタ
Tra[5] トランジスタ
Tra[6] トランジスタ
a[1] 配線
a[2] 配線
a[3] 配線
a[4] 配線
a[5] 配線
a[6] 配線
SC[1] セレクタ
SC[2] セレクタ
SC[3] セレクタ
SC[4] セレクタ
SC[5] セレクタ
SC[6] セレクタ
SC[J] セレクタ
SCT1 端子
SCT2 端子
SCT3 端子
Trb[1] トランジスタ
Trb[2] トランジスタ
Trb[3] トランジスタ
Trb[4] トランジスタ
Trb[5] トランジスタ
Trb[6] トランジスタ
Trb[7] トランジスタ
b[1] 配線
b[2] 配線
b[3] 配線
b[4] 配線
b[5] 配線
b[6] 配線
b[7] 配線
c[J] 配線
SWc1 アナログスイッチ
SWc2 アナログスイッチ
INV インバータ回路
OSL 配線
OGL 配線
LSL 配線
LGL 配線
VOL 配線
VLL 配線
GNDL 配線
ST1 ステップ
ST2 ステップ
ST3 ステップ
ST4 ステップ
ST5 ステップ
ST6 ステップ
ST7 ステップ
ST8 ステップ
ST9 ステップ
ST10 ステップ
STP1 ステップ
STP2 ステップ
STP3 ステップ
STP4 ステップ
STP5 ステップ
STP6 ステップ
STP7 ステップ
STP8 ステップ
STP9 ステップ
STP10 ステップ
Co1 矢印
Co2 矢印
Ro1 矢印
Ro2 矢印
SWT1 スイッチ
SWT2 スイッチ
M トランジスタ
MD トランジスタ
C11 容量素子
C12 容量素子
Sig1(j) 信号線
Sig2(j) 信号線
Sig1(j+1) 信号線
Sig2(j+1) 信号線
G1(i) 走査線
G2(i) 走査線
CL(g) 制御線
ML(h) 検知信号線
C(g) 電極
M(h) 電極
BR(g,h) 導電膜
CSCOM 配線
VCOM1 配線
VCOM2 第4の導電膜
ANO 第3の導電膜
FPC1 フレキシブルプリント基板
FPC2 フレキシブルプリント基板
ACF1 導電材料
ACF2 導電材料
AF1 配向膜
AF2 配向膜
BM 遮光膜
CF1 着色膜
CF2 着色膜
KB1 構造体
CP 導電材料
GD 駆動回路
SD 駆動回路
OSC 発振回路
DC 検知回路
100 半導体装置
101 照度計
102 しきい値検出回路
103 タイミングコントローラ
104 回路
110 表示部
200 デジタルアナログ変換回路
200A デジタルアナログ変換回路
200B デジタルアナログ変換回路
201 回路
202 回路
203 回路
300 ソースドライバ回路
310 LVDSレシーバ
320 シリアルパラレル変換回路
330 シフトレジスタ回路
340 ラッチ回路
350 レベルシフタ
360 回路
370 容量アレイ回路
380 外部補正回路
390 BGR回路
400 バイアスジェネレータ
500 バッファアンプ
2000TP1 タッチパネル
2100(i,j) 画素
2100(i,j+1) 画素
2100(i+1,j) 画素
2100(i+2,j) 画素
2110(i,j) 第1の表示素子
2110(i,j+1) 第1の表示素子
2111(i,j) 第1の電極
2111(i,j+1) 第1の電極
2111(i,j+2) 第1の電極
2111(i+1,j) 第1の電極
2111(i+2,j) 第1の電極
2111E 領域
2111H 開口部
2112 第2の電極
2113 層
2120(i,j) 第2の表示素子
2120(i,j+1) 第2の表示素子
2121(i,j) 第3の電極
2122 第4の電極
2123(j) 層
2150(g,h) 検知素子
2150(g,1) 検知素子
2150(g,q) 検知素子
2150(1,h) 検知素子
2150(p,h) 検知素子
2200(i,j) 画素回路
2200(i,j+1) 画素回路
2501 絶縁膜
2502 絶縁膜
2503 絶縁膜
2504 絶縁膜
2505 絶縁膜
2506A 第1の絶縁膜
2506B 第2の絶縁膜
2507 絶縁膜
2508 絶縁膜
2521 導電膜
2522A 導電膜
2522B 導電膜
2523 導電膜
2524A 導電膜
2524B 導電膜
2540A 第1の中間膜
2540B 第2の中間膜
2540C 中間膜
2560 半導体膜
2581 機能層
2582 機能層
2601 接続部
2602A 開口部
2602B 開口部
2602C 開口部
2603A 第1の開口部
2603B 第2の開口部
2603C 開口部
2801 基板
2802 基板
2802P 機能膜
2802D 機能膜
2803 基板
2811 接合層
2812 接合層
2820 封止材
2900A 端子
2900B 端子
2901 端子
4000 表示モジュール
4001 上部カバー
4002 下部カバー
4003 FPC
4004 タッチパネル
4005 FPC
4006 表示パネル
4009 フレーム
4010 プリント基板
4011 バッテリ
4700 電子部品
4701 リード
4702 プリント基板
4703 回路部
4704 回路基板
4800 半導体ウェハ
4800a チップ
4801 ウェハ
4801a ウェハ
4802 回路部
4803 スペーシング
4803a スペーシング
4810 半導体ウェハ
5200 情報端末
5221 筐体
5222 表示部
5223 操作ボタン
5224 スピーカ
LP display panel OP display panel IT terminal OT terminal LT terminal OP1 operational amplifier OP2 operational amplifier OSW switch LSW switch OSWG switch LSWG switch SWa [1] switch SWa [j] switch SWa [n] switch SE [1] switch SE [j] switch SE [N] Switch SWb [1] Switch SWb [j] Switch SWb [n] Switch SWb [n + 1] Switch C [1] Capacitor C [2] Capacitor C [3] Capacitor C [4] Capacitor C [ 5] Capacitor C [6] Capacitor C [j] Capacitor C [n] Capacitor OTr Transistor OTrG Transistor LTr Transistor LTrG Transistor Tra [1] Transistor Tra [2] Transistor Tra [3] Transistor Tra [4] Transistor Tra [5] Transistor Tra [6] Transistor a [1] Wiring a [2] Wiring a [3] Wiring a [4] Wiring a [5] Wiring a [6] Wiring SC [1] Selector SC [2] Selector SC [3] Selector SC [4] Selector SC [5] Selector SC [6] Selector SC [J] Selector SCT1 Terminal SCT2 Terminal SCT3 Terminal Trb [1] Transistor Trb [2] Transistor Trb [3] Transistor Trb [4] Transistor Trb [5] Transistor Trb [6] Transistor Trb [7] Transistor b [1] Wiring b [2] Wiring b [3] Wiring b [4] Wiring b [5] Wiring b [6] Wiring b [7] Wiring c [J] Wiring SWc1 Analog switch SWc2 Analog switch INV Inverter circuit OSL Wiring OGL Wiring LSL Line LGL wiring VOL wiring VLL wiring GNDL wiring ST1 step ST2 step ST3 step ST4 step ST5 step ST6 step ST7 step ST8 step ST9 step ST10 step STP1 step STP2 step STP3 step STP4 step STP5 step STP6 step STP7 step STP8 step STP9 step STP10 step Co1 Arrow Co2 Arrow Ro1 Arrow Ro2 Arrow SWT1 Switch SWT2 Switch M Transistor MD Transistor C11 Capacitor C12 Capacitor Sig1 (j) Signal line Sig2 (j) Signal line Sig1 (j + 1) Signal line Sig2 (j + 1) Signal line G1 (i) Scan Line G2 (i) Scan line CL (g) Control line ML (h) Detection signal line C g) Electrode M (h) Electrode BR (g, h) Conductive film CSCOM Wiring VCOM1 Wiring VCOM2 Fourth conductive film ANO Third conductive film FPC1 Flexible printed circuit board FPC2 Flexible printed circuit board ACF1 Conductive material ACF2 Conductive material AF1 Alignment film AF2 Alignment film BM Light shielding film CF1 Colored film CF2 Colored film KB1 Structure CP Conductive material GD Drive circuit SD Drive circuit OSC Oscillation circuit DC detection circuit 100 Semiconductor device 101 Illuminance meter 102 Threshold detection circuit 103 Timing controller 104 Circuit 110 Display unit 200 Digital / analog conversion circuit 200A Digital / analog conversion circuit 200B Digital / analog conversion circuit 201 circuit 202 circuit 203 circuit 300 source driver circuit 310 LVDS receiver 320 serial / parallel conversion circuit 33 Shift register circuit 340 Latch circuit 350 Level shifter 360 Circuit 370 Capacitance array circuit 380 External correction circuit 390 BGR circuit 400 Bias generator 500 Buffer amplifier 2000TP1 Touch panel 2100 (i, j) Pixel 2100 (i, j + 1) Pixel 2100 (i + 1, j) Pixel 2100 (i + 2, j) Pixel 2110 (i, j) First display element 2110 (i, j + 1) First display element 2111 (i, j) First electrode 2111 (i, j + 1) First electrode 2111 (I, j + 2) first electrode 2111 (i + 1, j) first electrode 2111 (i + 2, j) first electrode 2111E region 2111H opening 2112 second electrode 2113 layer 2120 (i, j) second Display element 2120 (i, j + 1) Second display element 2121 ( i, j) Third electrode 2122 Fourth electrode 2123 (j) Layer 2150 (g, h) Sensing element 2150 (g, 1) Sensing element 2150 (g, q) Sensing element 2150 (1, h) Sensing element 2150 (p, h) detection element 2200 (i, j) pixel circuit 2200 (i, j + 1) pixel circuit 2501 insulating film 2502 insulating film 2503 insulating film 2504 insulating film 2505 insulating film 2506A first insulating film 2506B second insulating Film 2507 insulating film 2508 insulating film 2521 conductive film 2522A conductive film 2522B conductive film 2523 conductive film 2524A conductive film 2524B conductive film 2540A first intermediate film 2540B second intermediate film 2540C intermediate film 2560 semiconductor film 2581 functional layer 2582 functional layer 2601 Connection 2602A Opening 2602B Opening 2602C Opening 26 3A First opening 2603B Second opening 2603C Opening 2801 Substrate 2802 Substrate 2802P Functional film 2802D Functional film 2803 Substrate 2811 Bonding layer 2812 Bonding layer 2820 Sealing material 2900A Terminal 2900B Terminal 2901 Terminal 4000 Display module 4001 Upper cover 4002 Lower cover 4003 FPC
4004 Touch panel 4005 FPC
4006 Display panel 4009 Frame 4010 Printed circuit board 4011 Battery 4700 Electronic component 4701 Lead 4702 Printed circuit board 4703 Circuit part 4704 Circuit board 4800 Semiconductor wafer 4800a Chip 4801 Wafer 4801a Wafer 4802 Circuit part 4803 Spacing 4803a Spacing 4810 Semiconductor wafer 5200 Information terminal 5221 Housing Body 5222 Display unit 5223 Operation button 5224 Speaker
Claims (9)
前記第1回路は、第1乃至第nスイッチ(nは2以上の整数)と、第1乃至第(n+1)容量素子と、を有し、
前記第2回路は、第1乃至第nセレクタを有し、
前記第1乃至第nセレクタのそれぞれは、第1入力端子と、第2入力端子と、出力端子と、を有し、
前記第3回路は、第(n+1)乃至第(2n+1)スイッチを有し、
前記第1スイッチの一方の端子は、前記第1容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、
前記第jスイッチの一方の端子(jは2以上n以下の整数である。)は、前記第j容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、
前記第jスイッチの一方の端子は、前記第(j−1)スイッチの他方の端子と電気的に接続され、
前記第nスイッチの他方の端子は、前記第(n+1)容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、
前記第1オペアンプの非反転入力端子は、前記第nスイッチの他方の端子と電気的に接続され、
前記第1オペアンプの反転入力端子は、前記第1オペアンプの出力端子と電気的に接続され、
前記第2オペアンプの非反転入力端子は、前記第1スイッチの一方の端子と電気的に接続され、
前記第2オペアンプの反転入力端子は、前記第2オペアンプの出力端子と電気的に接続され、
前記第kセレクタの前記出力端子(kは1以上n以下の整数である。)は、前記第(k+1)容量素子の一対の電極の他方と電気的に接続され、
前記第hスイッチ(hは(n+2)以上(2n+1)以下の整数である。)の一方の端子は、前記第(h−1)スイッチの他方の端子と電気的に接続され、
前記第(n+k)スイッチの他方の端子は、前記第kセレクタの前記第2入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 A first operational amplifier, a second operational amplifier, and first to third circuits;
The first circuit includes first to nth switches (n is an integer of 2 or more) and first to (n + 1) th capacitive elements,
The second circuit includes first to nth selectors,
Each of the first to n-th selectors has a first input terminal, a second input terminal, and an output terminal,
The third circuit includes (n + 1) th to (2n + 1) th switches,
One terminal of the first switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the first capacitive element,
One terminal (j is an integer of 2 or more and n or less) of the j-th switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the j-th capacitance element,
One terminal of the j-th switch is electrically connected to the other terminal of the (j-1) switch,
The other terminal of the nth switch is electrically connected to one of a pair of electrodes of the (n + 1) th capacitive element,
A non-inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the other terminal of the nth switch;
The inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the output terminal of the first operational amplifier,
A non-inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to one terminal of the first switch;
The inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to the output terminal of the second operational amplifier,
The output terminal of the kth selector (k is an integer of 1 to n) is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the (k + 1) th capacitive element,
One terminal of the h-th switch (h is an integer from (n + 2) to (2n + 1)) is electrically connected to the other terminal of the (h-1) switch,
The other terminal of the (n + k) switch is electrically connected to the second input terminal of the kth selector.
前記第1乃至第(2n+1)スイッチのそれぞれは、第1トランジスタを有し、
前記第1トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置。 In claim 1,
Each of the first to (2n + 1) switches includes a first transistor,
The channel formation region of the first transistor includes an oxide containing at least one of indium, an element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin), and zinc.
第(2n+2)スイッチと、第(2n+3)スイッチと、を有し、
前記第(2n+2)スイッチの一方の端子は、前記第1オペアンプの前記非反転入力端子と電気的に接続され、
前記第(2n+3)スイッチの一方の端子は、前記第2オペアンプの前記非反転入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 In claim 1 or claim 2,
A (2n + 2) switch and a (2n + 3) switch,
One terminal of the (2n + 2) switch is electrically connected to the non-inverting input terminal of the first operational amplifier,
One terminal of the (2n + 3) switch is electrically connected to the non-inverting input terminal of the second operational amplifier.
前記第(2n+2)スイッチ、及び前記第(2n+3)スイッチのそれぞれは、第2トランジスタを有し、
前記第2トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置。 In claim 3,
Each of the (2n + 2) switch and the (2n + 3) switch includes a second transistor,
The channel formation region of the second transistor includes an oxide containing at least one of indium, an element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin), and zinc.
第(2n+4)スイッチと、第(2n+5)スイッチと、を有し、
前記第(2n+4)スイッチの一方の端子は、前記第1オペアンプの前記出力端子と電気的に接続され、
前記第(2n+5)スイッチの一方の端子は、前記第2オペアンプの前記出力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 1 thru | or 4,
A (2n + 4) switch and a (2n + 5) switch,
One terminal of the (2n + 4) switch is electrically connected to the output terminal of the first operational amplifier,
One terminal of the (2n + 5) switch is electrically connected to the output terminal of the second operational amplifier.
前記第(2n+4)スイッチ、及び前記第(2n+5)スイッチのそれぞれは、第3トランジスタを有し、
前記第3トランジスタのチャネル形成領域は、インジウム、元素M(元素Mは、アルミニウム、ガリウム、イットリウム、又はスズ)、亜鉛の少なくとも一を含む酸化物を有することを特徴とする半導体装置。 In claim 5,
Each of the (2n + 4) switch and the (2n + 5) switch includes a third transistor,
The channel formation region of the third transistor includes an oxide containing at least one of indium, element M (the element M is aluminum, gallium, yttrium, or tin), and zinc.
前記セレクタは、第1入力端子と、第2入力端子と、出力端子と、を有し、
前記第1スイッチの一方の端子は、前記第1容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、
前記第1スイッチの他方の端子は、前記第2容量素子の一対の電極の一方と電気的に接続され、
前記第1オペアンプの非反転入力端子は、前記第1スイッチの他方の端子と電気的に接続され、
前記第1オペアンプの反転入力端子は、前記第1オペアンプの出力端子と電気的に接続され、
前記第2オペアンプの非反転入力端子は、前記第1スイッチの一方の端子と電気的に接続され、
前記第2オペアンプの反転入力端子は、前記第2オペアンプの出力端子と電気的に接続され、
前記セレクタの前記出力端子は、前記第2容量素子の一対の電極の他方と電気的に接続され、
前記第2スイッチの一方の端子は、前記3スイッチの他方の端子と電気的に接続され、
前記第3スイッチの他方の端子は、前記セレクタの前記第2入力端子と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。 A first operational amplifier, a second operational amplifier, first to third switches, a first capacitive element, a second capacitive element, and a selector;
The selector has a first input terminal, a second input terminal, and an output terminal;
One terminal of the first switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the first capacitive element,
The other terminal of the first switch is electrically connected to one of the pair of electrodes of the second capacitive element;
A non-inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the other terminal of the first switch;
The inverting input terminal of the first operational amplifier is electrically connected to the output terminal of the first operational amplifier,
A non-inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to one terminal of the first switch;
The inverting input terminal of the second operational amplifier is electrically connected to the output terminal of the second operational amplifier,
The output terminal of the selector is electrically connected to the other of the pair of electrodes of the second capacitive element;
One terminal of the second switch is electrically connected to the other terminal of the three switches,
The other terminal of the third switch is electrically connected to the second input terminal of the selector.
前記照度計は、前記第4回路と電気的に接続され、
前記第4回路は、前記第5回路と電気的に接続され、
前記第5回路は、前記半導体装置と電気的に接続され、
前記第1表示パネルは、前記半導体装置と電気的に接続され、
前記第2表示パネルは、前記半導体装置と電気的に接続されることを特徴とするシステム。 A system comprising the semiconductor device according to any one of claims 1 to 7, an illuminance meter, a fourth circuit, a fifth circuit, a first display panel, and a second display panel.
The illuminance meter is electrically connected to the fourth circuit,
The fourth circuit is electrically connected to the fifth circuit;
The fifth circuit is electrically connected to the semiconductor device;
The first display panel is electrically connected to the semiconductor device;
The system, wherein the second display panel is electrically connected to the semiconductor device.
第1乃至第10ステップを有し、
前記第1ステップは、前記照度計によって、前記照度が計測されるステップを有し、
前記第2ステップは、前記照度計から前記照度を前記第4回路に送信するステップを有し、
前記第3ステップは、前記第4回路によって、前記照度に基づいて、前記第1表示パネルの階調、及び前記第2表示パネルの階調を決定する第1データを生成するステップを有し、
前記第4ステップは、前記第4回路から前記第1データを前記第5回路に送信するステップと、外部から第2データを前記第5回路に送信するステップと、を有し、
前記第5ステップは、前記半導体装置を初期化するステップを有し、
前記第6ステップは、前記第5回路において、前記第1データと、前記第2データと、に応じて、前記第1表示パネルに送信するための第3データを生成するステップと、前記第5回路から前記第3データを前記半導体装置に送信するステップと、前記半導体装置において、前記第3データをデジタルアナログ変換して第4データにするステップと、を有し、
前記第7ステップは、前記半導体装置から前記第4データを前記第1表示パネルに送信して、前記第1表示パネルに画像を表示するステップを有し、
前記第8ステップは、前記半導体装置を初期化するステップを有し、
前記第9ステップは、前記第5回路において、前記第1データと、前記第2データと、に応じて、前記第2表示パネルに送信するための第5データを生成するステップと、前記第5回路から前記第3データを前記半導体装置に送信するステップと、前記半導体装置において、前記第5データをデジタルアナログ変換して第6データにするステップと、を有し、
前記第10ステップは、前期半導体装置から前記第6データを前記第2表示パネルに送信して、前記第2表示パネルに画像を表示するステップを有し、
前記第2データは、ビデオデータであることを特徴とする動作方法。 A method of operating the system according to claim 8,
Having first to tenth steps;
The first step includes the step of measuring the illuminance by the illuminometer.
The second step includes a step of transmitting the illuminance from the illuminance meter to the fourth circuit,
The third step includes a step of generating, by the fourth circuit, first data for determining a gray level of the first display panel and a gray level of the second display panel based on the illuminance.
The fourth step includes a step of transmitting the first data from the fourth circuit to the fifth circuit, and a step of transmitting second data from the outside to the fifth circuit,
The fifth step includes a step of initializing the semiconductor device,
The sixth step includes a step of generating third data to be transmitted to the first display panel according to the first data and the second data in the fifth circuit; and Transmitting the third data from a circuit to the semiconductor device; and in the semiconductor device, converting the third data into digital data by converting the third data into fourth data,
The seventh step includes a step of transmitting the fourth data from the semiconductor device to the first display panel and displaying an image on the first display panel;
The eighth step includes a step of initializing the semiconductor device,
The ninth step includes generating fifth data to be transmitted to the second display panel according to the first data and the second data in the fifth circuit; and Transmitting the third data from a circuit to the semiconductor device; and in the semiconductor device, converting the fifth data from digital to analog into sixth data,
The tenth step includes a step of transmitting the sixth data from the previous semiconductor device to the second display panel and displaying an image on the second display panel;
The operation method according to claim 1, wherein the second data is video data.
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0588197A (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Fuji Electric Co Ltd | Composite liquid crystal display panel device |
JPH0865164A (en) * | 1994-08-19 | 1996-03-08 | Fujitsu Ltd | D/a converter |
US20020121997A1 (en) * | 2000-12-04 | 2002-09-05 | Catena Networks, Inc. | Differential bipolar stray-insensitive pipelined digital-to-analog converter |
JP2007123861A (en) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
JP2008225381A (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | Display device |
JP2009541781A (en) * | 2006-08-11 | 2009-11-26 | シャープ株式会社 | display |
-
2017
- 2017-05-02 JP JP2017091737A patent/JP2017203983A/en not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0588197A (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-09 | Fuji Electric Co Ltd | Composite liquid crystal display panel device |
JPH0865164A (en) * | 1994-08-19 | 1996-03-08 | Fujitsu Ltd | D/a converter |
US20020121997A1 (en) * | 2000-12-04 | 2002-09-05 | Catena Networks, Inc. | Differential bipolar stray-insensitive pipelined digital-to-analog converter |
JP2007123861A (en) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
JP2009541781A (en) * | 2006-08-11 | 2009-11-26 | シャープ株式会社 | display |
JP2008225381A (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | Display device |
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