JP2017195135A - Organic electroluminescent element - Google Patents
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Abstract
Description
本開示の実施態様は、放熱機能を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to an organic electroluminescence element having a heat dissipation function.
有機エレクトロルミネッセンス素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が広いこと等の利点が注目されている。なお、以下、有機エレクトロルミネッセンスを有機ELと略す場合がある。 The organic electroluminescence element has high visibility due to self-coloring, is an all-solid-state display unlike a liquid crystal display device, has excellent impact resistance, has a fast response speed, is less affected by temperature changes, and Advantages such as a wide viewing angle are attracting attention. Hereinafter, organic electroluminescence may be abbreviated as organic EL.
一方、有機EL素子は、駆動中の発熱により、有機EL素子内部に熱が滞留してしまうという問題がある。有機EL素子内部に滞留した熱は、有機EL素子を構成する各層を劣化させ、結果として発光効率を低下させてしまう。このような問題に対しては、例えば特許文献1に開示されているように、有機EL素子に放熱部材を設け、有機EL素子内部に滞留した熱を、有機EL素子外部に放散させるという技術が提案されている。 On the other hand, the organic EL element has a problem that heat is retained inside the organic EL element due to heat generation during driving. The heat accumulated inside the organic EL element deteriorates each layer constituting the organic EL element, and as a result, the light emission efficiency is lowered. For such a problem, for example, as disclosed in Patent Document 1, a technique is provided in which a heat dissipation member is provided in an organic EL element, and heat accumulated in the organic EL element is dissipated outside the organic EL element. Proposed.
ところで、有機EL素子に放熱部材を設けた場合、有機EL素子を構成する各機能層の劣化や、それによる発光効率の低下を抑制することができるという効果を奏する。その一方で、有機EL素子に放熱部材を設けた場合には、有機EL素子の構成が複雑になり、有機EL素子を製造する工程が煩雑になってしまうという問題がある。また、有機EL素子の構成が複雑になることにより、有機EL素子の信頼性が低下するという問題がある。 By the way, when a heat radiating member is provided in an organic EL element, there exists an effect that the deterioration of each functional layer which comprises an organic EL element, and the fall of the luminous efficiency by it can be suppressed. On the other hand, when the heat dissipation member is provided in the organic EL element, there is a problem that the configuration of the organic EL element becomes complicated and the process of manufacturing the organic EL element becomes complicated. Further, since the configuration of the organic EL element is complicated, there is a problem that the reliability of the organic EL element is lowered.
本開示は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、有機EL素子が複雑な構成となることを抑制しつつ、放熱機能を備えた有機EL素子を提供することを主目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above problems, and a main object of the present disclosure is to provide an organic EL device having a heat dissipation function while suppressing the organic EL device from having a complicated configuration.
本開示の1実施態様は、透明基材と、上記透明基材の一方の面上の透明な第1電極層と、発光層を含み、上記第1電極層の上記透明基材とは反対側の面上の有機EL層と、上記有機EL層の上記第1電極層とは反対側の面上の第2電極層と、上記第1電極層、上記有機EL層および上記第2電極層を有する積層体上の絶縁部材と、上記絶縁部材の上記積層体とは反対側の面上であり、かつ上記第2電極層と対向している、金属材料を含む放熱部材と、を有する有機EL素子を提供する。 One embodiment of the present disclosure includes a transparent substrate, a transparent first electrode layer on one surface of the transparent substrate, and a light emitting layer, and the first electrode layer is opposite to the transparent substrate. An organic EL layer on the surface, a second electrode layer on the surface of the organic EL layer opposite to the first electrode layer, the first electrode layer, the organic EL layer, and the second electrode layer. An organic EL device comprising: an insulating member on the laminate including the insulating member; and a heat dissipating member including a metal material on the surface of the insulating member opposite to the laminated body and facing the second electrode layer. An element is provided.
本開示の1実施態様においては、上記放熱部材が、上記積層体とは反対側の面上に凹凸形状を有する有機EL素子を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, the heat dissipation member provides an organic EL element having a concavo-convex shape on a surface opposite to the laminate.
本開示の1実施態様においては、上記放熱部材の上記絶縁部材とは反対側の面上の対向基材と、上記絶縁部材上の封止部材と、を有し、上記透明基材、上記封止部材および上記放熱部材により、上記積層体が封止されている有機EL素子を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, the heat dissipating member includes a counter substrate on a surface opposite to the insulating member, and a sealing member on the insulating member. An organic EL element in which the laminate is sealed by a stop member and the heat dissipation member is provided.
本開示の1実施態様においては、上記対向基材は、貫通孔を有する有機EL素子を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, the counter substrate provides an organic EL element having a through hole.
本開示の1実施態様においては、上述した有機EL素子と、複数色の着色部、および複数色の上記着色部の間の遮光部を有するカラーフィルタと、を有する有機EL表示装置を提供する。 In one embodiment of the present disclosure, an organic EL display device including the above-described organic EL element and a color filter having a plurality of colored portions and a light shielding portion between the plurality of colored portions is provided.
本開示の1実施態様においては、有機EL素子が複雑な構成となることを抑制しつつ、放熱機能を備えた有機EL素子とすることができるという効果を奏する。 In one embodiment of the present disclosure, there is an effect that an organic EL element having a heat dissipation function can be obtained while suppressing a complicated configuration of the organic EL element.
本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に(又は下に)」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の構成の直上(又は直下)にある場合のみでなく、他の構成の上方(又は下方)にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方(又は下方)において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。 In this specification, when a certain configuration such as a certain member or a certain region is “above (or below)” another configuration such as another member or another region, unless otherwise limited, This includes not only when directly above (or directly below) another configuration, but also when above (or below) another configuration, i.e., another configuration above (or below) another configuration. This includes cases where elements are included.
以下、本開示の実施の態様を、図面等を参照しながら説明する。但し、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の態様の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. However, the present disclosure can be implemented in many different modes, and should not be construed as being limited to the description of the embodiments described below. Further, in order to clarify the description, the drawings may be schematically represented with respect to the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the embodiment, but are merely examples, and the interpretation of the present disclosure may be interpreted. It is not limited. In addition, in the present specification and each drawing, elements similar to those described above with reference to the previous drawings are denoted by the same reference numerals, and detailed description may be omitted as appropriate. Further, for convenience of explanation, the description may be made using the terms “upper” or “lower”, but the vertical direction may be reversed.
I.有機EL素子
以下、本開示の1実施態様における有機EL素子について、第1実施態様および第2実施態様に分けて説明する。
I. Organic EL Device Hereinafter, the organic EL device according to one embodiment of the present disclosure will be described by being divided into a first embodiment and a second embodiment.
A.第1実施態様
第1実施態様の有機EL素子は、透明基材と、上記透明基材の一方の面上の透明な第1電極層と、発光層を含み、上記第1電極層の上記透明基材とは反対側の面上の有機EL層と、上記有機EL層の上記第1電極層とは反対側の面上の第2電極層と、上記第1電極層、上記有機EL層および上記第2電極層を有する積層体上の絶縁部材と、上記絶縁部材の上記積層体とは反対側の面上であり、かつ上記第2電極層と対向している、金属材料を含む放熱部材と、を有する。
A. 1st embodiment The organic EL element of 1st embodiment contains a transparent base material, the transparent 1st electrode layer on one side of the said transparent base material, and a light emitting layer, The said transparent of the said 1st electrode layer An organic EL layer on a surface opposite to the substrate; a second electrode layer on the surface of the organic EL layer opposite to the first electrode layer; the first electrode layer; the organic EL layer; An insulating member on the laminate having the second electrode layer, and a heat dissipating member including a metal material on the surface of the insulating member opposite to the laminate and facing the second electrode layer And having.
第1実施態様の有機EL素子について図面を参照しながら説明する。
図1は、第1実施態様の有機EL素子の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、第1実施態様の有機EL素子10は、透明基材1と、透明基材1の一方の面上の透明な第1電極層2と、発光層を含み、第1電極層2の透明基材1とは反対側の面上の有機EL層3と、有機EL層3の第1電極層2とは反対側の面上の第2電極層4とを有する。また、第1実施態様の有機EL素子10は、第1電極層2、有機EL層3および第2電極層4を有する積層体11上の絶縁部材5と、絶縁部材5の積層体11とは反対側の面上であり、かつ第2電極層4と対向している放熱部材6とを有する。
The organic EL element of the first embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic EL element of the first embodiment. As illustrated in FIG. 1, the organic EL element 10 of the first embodiment includes a transparent substrate 1, a transparent first electrode layer 2 on one surface of the transparent substrate 1, and a light emitting layer. It has the organic EL layer 3 on the surface on the opposite side to the transparent base material 1 of the 1 electrode layer 2, and the 2nd electrode layer 4 on the surface on the opposite side to the 1st electrode layer 2 of the organic EL layer 3. Moreover, the organic EL element 10 of the first embodiment includes the insulating member 5 on the stacked body 11 having the first electrode layer 2, the organic EL layer 3, and the second electrode layer 4, and the stacked body 11 of the insulating member 5. It has the heat radiating member 6 which is on the opposite surface and faces the second electrode layer 4.
図1に示す第1実施態様の有機EL素子10によれば、透明基材1上に、第1電極層2、有機EL層3および第2電極層4を有する積層体11が配置され、積層体11を覆うように絶縁部材5が配置され、絶縁部材5上に放熱部材6が配置されていることにより、放熱部材を有する従来の有機EL素子に比べて、有機EL素子の構成を複雑にすることなく、優れた放熱機能を備えた有機EL素子とすることができる。
このような効果が得られる具体的な理由としては、以下のことが推測される。
According to the organic EL element 10 of the first embodiment shown in FIG. 1, the laminate 11 having the first electrode layer 2, the organic EL layer 3, and the second electrode layer 4 is disposed on the transparent base material 1. Since the insulating member 5 is disposed so as to cover the body 11 and the heat radiating member 6 is disposed on the insulating member 5, the configuration of the organic EL element is complicated compared to the conventional organic EL element having the heat radiating member. Thus, an organic EL element having an excellent heat dissipation function can be obtained.
The specific reason why such an effect can be obtained is presumed as follows.
放熱部材を有する従来の有機EL素子は、例えば、図10に示すように、透明基材1上に、第1電極層2、有機EL層3および第2電極層4が配置され、それらを介して透明基材1と対向するように、封止部材7により対向基材8が配置され、対向基材8上に放熱部材6が配置された構成を有する。このように、図10に示す従来の有機EL素子10’は、透明基材1および対向基材8の2枚の基材を要し、それら2枚の基材を封止するための封止部材7を要するため、有機EL素子の構成が複雑になってしまうという問題がある。また、2枚の基材を要する場合には、有機EL素子としての厚みが比較的厚くなり、有機EL素子に所望のフレキシブル性を付与することが困難であるという問題がある。
これに対し、第1実施態様の有機EL素子は、図1に示すように、透明基材1のみを有していれば足り、従来のように対向基材や封止部材を要しない。そのため、有機EL素子の構成を、従来に比べて簡略にすることができると考えられる。また、第1実施態様の有機EL素子は、上述した構成を有することにより、有機EL素子としての厚みを、従来に比べて薄くすることができ、有機EL素子に所望のフレキシブル性を付与することができると考えられる。
For example, as shown in FIG. 10, a conventional organic EL element having a heat radiating member has a first electrode layer 2, an organic EL layer 3, and a second electrode layer 4 disposed on a transparent substrate 1, with these interposed therebetween. The opposing base material 8 is arranged by the sealing member 7 so as to face the transparent base material 1, and the heat dissipation member 6 is arranged on the opposing base material 8. As described above, the conventional organic EL element 10 ′ shown in FIG. 10 requires two substrates, the transparent substrate 1 and the counter substrate 8, and sealing for sealing these two substrates. Since the member 7 is required, there is a problem that the configuration of the organic EL element becomes complicated. Moreover, when two base materials are required, there is a problem that the thickness as the organic EL element becomes relatively thick, and it is difficult to impart desired flexibility to the organic EL element.
On the other hand, as shown in FIG. 1, the organic EL element of the first embodiment is sufficient if it has only the transparent substrate 1, and does not require a counter substrate or a sealing member as in the prior art. Therefore, it is considered that the configuration of the organic EL element can be simplified as compared with the conventional one. Moreover, the organic EL element of 1st embodiment can make thickness as an organic EL element thin compared with the past by having the structure mentioned above, and gives desired flexibility to an organic EL element. It is thought that you can.
また、放熱部材を有する従来の有機EL素子は、例えば、図10に示すように、透明基材1および対向基材8が封止部材7により封止された領域Sを有する。このような領域Sは、通常、空隙とする場合や、放熱液体や放熱ゲル等を充填する場合等がある。領域Sが空隙である場合、有機EL素子の駆動中に発生した熱が、領域S、すなわち空隙内に滞留してしまうという問題がある。このような従来の有機EL素子は、放熱部材を有していたとしても、有機EL素子の空隙内に滞留した熱を、有機EL素子の外に十分に放つことができず、有機EL素子を構成する第1電極層や有機EL層、第2電極層等を劣化させてしまうという問題がある。なお、空隙中に滞留した熱は、上方にこもる傾向にあるため、有機EL素子の上方に配置された機能層が、特に劣化してしまう傾向にある。
さらに、領域Sに放熱液体や放熱ゲル等が充填されている場合には、有機EL素子の駆動中に発生し、領域Sに滞留した熱が高温になると、放熱液体や放熱ゲルを劣化させてしまうという問題がある。そのため、領域Sに放熱液体や放熱ゲルを充填した場合であっても、長時間にわたって高輝度で発光し続けた有機EL素子においては、優れた放熱性を維持することは困難である。なお、領域Sに放熱液体や放熱ゲルが充填されている場合には、有機EL素子の構成がより一層複雑になってしまうという問題もある。さらにまた、領域Sに放熱液体や放熱ゲル等が充填されている場合には、有機EL素子がフレキシブル性を有していても、有機EL素子を屈曲させた際に、放熱液体や放熱ゲル等が漏れ出てしまうおそれがある。
これに対し、第1実施態様の有機EL素子は、図1に示すように、第1電極層2、有機EL層3および第2電極層4を覆うように絶縁部材5が形成されており、従来の有機EL素子に比べて、領域Sを減らすことができる。そのため、有機EL素子の駆動中に発生した熱が、有機EL素子内に滞留することを抑制することができ、放熱部材により十分な放熱を行うことが可能となる。したがって、有機EL素子の構成を複雑にすることなく、優れた放熱機能を備えた有機EL素子とすることができる。
Moreover, the conventional organic EL element which has a heat radiating member has the area | region S where the transparent base material 1 and the opposing base material 8 were sealed with the sealing member 7, as shown in FIG. Such a region S is usually a void or filled with a heat-dissipating liquid or a heat-dissipating gel. When the region S is a void, there is a problem that heat generated during driving of the organic EL element stays in the region S, that is, the void. Even if such a conventional organic EL element has a heat radiating member, the heat accumulated in the gap of the organic EL element cannot be released sufficiently to the outside of the organic EL element. There exists a problem that the 1st electrode layer, organic EL layer, 2nd electrode layer, etc. which comprise are deteriorated. In addition, since the heat staying in the voids tends to stay upward, the functional layer disposed above the organic EL element tends to be particularly deteriorated.
Furthermore, when the region S is filled with a heat-dissipating liquid, a heat-dissipating gel, or the like, the heat-dissipating liquid or the heat-dissipating gel deteriorates when the heat generated in the driving of the organic EL element becomes high. There is a problem of end. Therefore, even in the case where the region S is filled with a heat-dissipating liquid or a heat-dissipating gel, it is difficult to maintain excellent heat dissipation in an organic EL element that continues to emit light with high brightness for a long time. In addition, when the area | region S is filled with the thermal radiation liquid or the thermal radiation gel, there also exists a problem that the structure of an organic EL element will become still more complicated. Furthermore, when the region S is filled with a heat-dissipating liquid, a heat-dissipating gel, or the like, even if the organic EL element has flexibility, when the organic EL element is bent, the heat-dissipating liquid, the heat-dissipating gel, etc. May leak out.
On the other hand, as shown in FIG. 1, the organic EL element of the first embodiment has the insulating member 5 formed so as to cover the first electrode layer 2, the organic EL layer 3, and the second electrode layer 4. Compared with the conventional organic EL element, the region S can be reduced. Therefore, heat generated during driving of the organic EL element can be suppressed from staying in the organic EL element, and sufficient heat dissipation can be performed by the heat dissipation member. Therefore, an organic EL element having an excellent heat dissipation function can be obtained without complicating the configuration of the organic EL element.
また、第1実施態様の有機EL素子は、放熱部材が積層体とは反対側の面に凹凸形状を有していても良い。 In the organic EL element of the first embodiment, the heat dissipation member may have an uneven shape on the surface opposite to the laminate.
図2は、第1実施態様の有機EL素子の他の例を示す概略断面図である。図2に例示する第1実施態様の有機EL素子10は、放熱部材6が、積層体11とは反対側の面に凹凸形状を有する。なお、有機EL素子のその他の構成は、上述した図1に例示する有機EL素子と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the organic EL element of the first embodiment. In the organic EL element 10 of the first embodiment illustrated in FIG. 2, the heat dissipating member 6 has a concavo-convex shape on the surface opposite to the laminated body 11. In addition, since the other structure of an organic EL element can be made the same as that of the organic EL element illustrated in FIG. 1 mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
図2に示す有機EL素子10によれば、放熱部材6の積層体11とは反対側の面に凹凸形状を有していることにより、より優れた放熱機能を備えた有機EL素子とすることができる。
このような効果が得られる具体的な理由としては、以下のことが推測される。
According to the organic EL element 10 shown in FIG. 2, the organic EL element having a more excellent heat dissipation function can be obtained by having a concavo-convex shape on the surface opposite to the laminate 11 of the heat dissipation member 6. Can do.
The specific reason why such an effect can be obtained is presumed as follows.
従来の有機EL素子は、例えば図10に示すように、放熱部材6の表面が平坦性を有する。
これに対し、第1実施態様の有機EL素子は、例えば図2に示すように、放熱部材6の積層体11とは反対側の面に凹凸形状を有する。そのため、第1実施態様の有機EL素子は、表面が平坦な放熱部材を有する従来の有機EL素子に比べて、放熱部材と空気との接触面積を増やすことができ、放熱部材により、より多くの熱を空気中へと拡散させ、優れた放熱性を発揮することが可能になると考えられる。
In the conventional organic EL element, for example, as shown in FIG. 10, the surface of the heat dissipation member 6 has flatness.
On the other hand, the organic EL element of the first embodiment has an uneven shape on the surface opposite to the laminated body 11 of the heat radiating member 6 as shown in FIG. Therefore, the organic EL element of the first embodiment can increase the contact area between the heat radiating member and the air as compared to the conventional organic EL element having a heat radiating member having a flat surface. It is considered that heat can be diffused into the air and excellent heat dissipation can be exhibited.
以下、第1実施態様の有機EL素子における各構成について説明する。 Hereinafter, each structure in the organic EL element of the first embodiment will be described.
1.放熱部材
第1実施態様における放熱部材は、絶縁部材の積層体とは反対側の面上であり、かつ第2電極層と対向している、金属材料を含む部材である。
1. Heat Dissipation Member The heat dissipation member in the first embodiment is a member including a metal material on the surface opposite to the laminated body of insulating members and facing the second electrode layer.
第1実施態様における放熱部材は、金属材料を含む部材であれば良く、中でも所望の放熱性を有する部材であることが好ましい。放熱部材に含まれる金属材料としては、例えば、アルミニウム、銅、銅合金、リン青銅、ステンレス鋼(SUS)、金、金合金、ニッケル、ニッケル合金、銀、銀合金、スズ、スズ合金、チタン、鉄、鉄合金、亜鉛、モリブデン等が挙げられる。中でも、第1実施態様における放熱部材には、アルミニウム、銅を用いることが好ましく、特にアルミニウムを用いることが好ましい。上述した金属材料は、優れた放熱性を有し、比較的安価であるからである。また、上述した金属材料として、金属ペーストを用いても良い。 The heat radiating member in the first embodiment may be a member containing a metal material, and among them, a member having a desired heat radiating property is preferable. Examples of the metal material included in the heat dissipation member include aluminum, copper, copper alloy, phosphor bronze, stainless steel (SUS), gold, gold alloy, nickel, nickel alloy, silver, silver alloy, tin, tin alloy, titanium, Iron, iron alloy, zinc, molybdenum, etc. are mentioned. Especially, it is preferable to use aluminum and copper for the heat dissipation member in the first embodiment, and it is particularly preferable to use aluminum. This is because the metal material described above has excellent heat dissipation and is relatively inexpensive. Moreover, you may use a metal paste as a metal material mentioned above.
第1実施態様における放熱部材は、金属材料を含む部材であれば特に限定されないが、例えば、金属基材を用いることが好ましい。金属基材は、高い熱伝導性を有するため、有機EL素子内部に滞留した熱を、有機EL素子外部に効果的に放散させることができるからである。放熱部材が金属基材である場合、放熱部材は、金属基材の単層から構成されていても良いし、あるいは金属基材を含む2層以上の複層から構成されていても良い。 The heat dissipation member in the first embodiment is not particularly limited as long as it is a member containing a metal material, but for example, a metal base material is preferably used. This is because the metal base material has high thermal conductivity, so that the heat accumulated inside the organic EL element can be effectively dissipated outside the organic EL element. When the heat radiating member is a metal substrate, the heat radiating member may be composed of a single layer of the metal substrate or may be composed of two or more layers including the metal substrate.
第1実施態様における放熱部材は、積層体とは反対側の面に凹凸形状を有することが好ましい。表面に凹凸形状を有する放熱部材は、表面が平坦な放熱部材に比べて表面積が増大する。そのため、表面に凹凸形状を有する放熱部材の場合、放熱部材表面と空気との接触面積が増え、より多くの熱を拡散させて優れた放熱性を発揮することが可能となるからである。 The heat radiating member in the first embodiment preferably has a concavo-convex shape on the surface opposite to the laminate. A heat radiating member having a concavo-convex shape on the surface has a larger surface area than a heat radiating member having a flat surface. Therefore, in the case of a heat radiating member having an uneven shape on the surface, the contact area between the heat radiating member surface and air is increased, and more heat can be diffused to exhibit excellent heat dissipation.
放熱部材に形成される凹凸形状は、放熱部材の表面積を増大させ、空気との接触面積を増やすことができる形状であることが好ましい。凹凸形状における凸部の形状としては、例えば、錐体形状や円錐形状が挙げられる。また、放熱部材を厚み方向に切断したときの凸部の上底面は、図3(b)の符号61で示すように平坦であっても良く、図3(c)の符号61で示すように曲面であっても良い。さらに、放熱部材を厚み方向に切断したときの凸部の断面形状は、図3(a)に示すように三角形状であっても良く、図3(b)に示すように台形等の矩形であっても良く、図3(c)に示すように半円形であっても良い。 The uneven shape formed on the heat radiating member is preferably a shape that can increase the surface area of the heat radiating member and increase the contact area with air. Examples of the shape of the convex portion in the concavo-convex shape include a cone shape and a cone shape. Further, the upper and bottom surfaces of the convex portion when the heat radiating member is cut in the thickness direction may be flat as indicated by reference numeral 61 in FIG. 3B, or as indicated by reference numeral 61 in FIG. It may be a curved surface. Furthermore, the cross-sectional shape of the convex portion when the heat radiating member is cut in the thickness direction may be a triangular shape as shown in FIG. 3A, or a rectangular shape such as a trapezoid as shown in FIG. There may be, and a semicircle may be sufficient as shown in FIG.3 (c).
また、凹凸形状における凹部の形状は、上述した凸部の形状に応じて適宜選択することができるが、例えば、錐体形状や円錐形状が挙げられる。さらに、放熱部材を厚み方向に切断したときの凹部の下底面は、例えば、図4(a)の符号62で示すように平坦であっても良く、図4(b)の符号62で示すように曲面であっても良い。さらにまた、放熱部材を厚み方向に切断したときの凹部の断面形状は、図4(a)に示すように台形等の矩形であっても良く、図4(b)に示すように半円形であっても良い。 Moreover, although the shape of the recessed part in uneven | corrugated shape can be suitably selected according to the shape of the convex part mentioned above, a cone shape and a cone shape are mentioned, for example. Furthermore, the lower bottom surface of the recess when the heat radiating member is cut in the thickness direction may be flat, for example, as indicated by reference numeral 62 in FIG. 4A, or as indicated by reference numeral 62 in FIG. It may be curved. Furthermore, the cross-sectional shape of the recess when the heat radiating member is cut in the thickness direction may be a trapezoidal rectangle as shown in FIG. 4 (a) or a semicircular shape as shown in FIG. 4 (b). There may be.
放熱部材における凹凸形状の形成方法は、放熱部材の表面に所望の凹凸形状を形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、金属基材の表面に直接、エンボス加工、エッチング加工、サンドブラスト加工、フロスト加工、スタンプ加工などの加工を施す方法や、フォトレジスト等を用いて凹凸パターンを形成する方法、メッキ方法等が挙げられる。エンボス加工の場合、例えば金属基材の表面に凹凸を有する圧延ロールを押し当てることにより凹凸形状を形成することができる。また、エッチング加工の場合には、金属基材の種類に応じてエッチング剤を選択することができる。第1実施態様においては、エンボス加工を用いて放熱部材の表面に凹凸形状を形成することが好ましい。 The formation method of the uneven | corrugated shape in a heat radiating member will not be specifically limited if it is a method which can form desired uneven | corrugated shape on the surface of a heat radiating member. For example, a method of directly embossing, etching, sandblasting, frosting, stamping, etc. on the surface of a metal substrate, a method of forming a concavo-convex pattern using a photoresist, a plating method, etc. It is done. In the case of embossing, for example, an uneven shape can be formed by pressing a rolling roll having unevenness on the surface of a metal substrate. Moreover, in the case of an etching process, an etching agent can be selected according to the kind of metal base material. In a 1st embodiment, it is preferable to form an uneven | corrugated shape in the surface of a heat radiating member using embossing.
第1実施態様における放熱部材は、所定の厚みを有することが好ましい。放熱部材の厚みとしては、例えば、1μm以上であることが好ましく、中でも5μm以上であることが好ましく、特に10μm以上であることが好ましい。また、放熱部材の厚みとしては、例えば、3000μm以下であることが好ましく、中でも2000μm以下であることが好ましく、特に1000μm以下であることが好ましい。放熱部材の厚みが上記範囲内であることにより、例えば有機EL素子がフレキシブル性を有する場合であっても、放熱部材を十分に追従させることができる。したがって、有機EL素子を屈曲させた際に、放熱部材が追従せずに剥離や破損されてしまうといった不具合を抑制することができる。また、放熱部材の厚みが上記範囲内であることにより、放熱部材としての機能を十分に発揮することができる。なお、ここでの放熱部材の厚みは、例えば、図1、図2の符号Tで示す距離を指す。 The heat dissipation member in the first embodiment preferably has a predetermined thickness. The thickness of the heat radiating member is, for example, preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and particularly preferably 10 μm or more. Moreover, as thickness of a heat radiating member, it is preferable that it is 3000 micrometers or less, for example, it is preferable that it is 2000 micrometers or less especially, and it is especially preferable that it is 1000 micrometers or less. When the thickness of the heat radiating member is within the above range, for example, even when the organic EL element has flexibility, the heat radiating member can sufficiently follow. Therefore, when the organic EL element is bent, it is possible to suppress a problem that the heat radiating member does not follow and is peeled off or damaged. Moreover, the function as a heat radiating member can fully be exhibited because the thickness of a heat radiating member is in the said range. In addition, the thickness of the heat radiating member here points out the distance shown with the code | symbol T of FIG. 1, FIG. 2, for example.
第1実施態様における放熱部材の形成方法としては、例えば、絶縁部材上に一般的な蒸着法を用いて金属蒸着膜を形成する方法、絶縁部材上に一般的なメッキ法を用いて金属メッキ膜を形成する方法、絶縁部材上にエポキシ樹脂等の接着剤を介して金属箔を貼り合せる方法等が挙げられる。なお、ここで用いられる接着剤は、有機EL素子に一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 As a method for forming the heat radiating member in the first embodiment, for example, a method of forming a metal vapor deposition film on the insulating member using a general vapor deposition method, or a metal plating film using a general plating method on the insulating member And a method of bonding a metal foil on an insulating member via an adhesive such as an epoxy resin. In addition, since the adhesive agent used here can be made to be the same as what is generally used for an organic EL element, description here is abbreviate | omitted.
2.第1電極層
第1実施態様における第1電極層は、後述する透明基材の一方の面上に配置される透明な部材である。第1実施態様の有機EL素子は、第1電極層側から光が取り出される。
2. 1st electrode layer The 1st electrode layer in a 1st embodiment is a transparent member arranged on one side of the transparent substrate mentioned below. In the organic EL element of the first embodiment, light is extracted from the first electrode layer side.
第1実施態様における第1電極層は、所定の透明性を有する。第1電極層の透明性は、有機EL層からの発光を透過させて表示を行うことができる程度の透明性であることが好ましく、例えば、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。 The first electrode layer in the first embodiment has predetermined transparency. The transparency of the first electrode layer is preferably such that the light emitted from the organic EL layer can be transmitted and display can be performed. For example, the transmittance in the visible light region is 80% or more. Is preferable, and 90% or more is more preferable.
第1電極層は、陽極であっても良く、陰極であっても良い。第1電極層の材料としては、一般的な有機EL素子に用いられる材料を用いることができ、例えば、ITOと称される酸化インジウム錫、IZOを称される酸化インジウム亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等が挙げられる。また、銀ナノワイヤ−や銅ナノワイヤ−等の金属ナノワイヤ−といった金属粒子をバインダー樹脂に分散させたものを第1電極層としても良い。 The first electrode layer may be an anode or a cathode. As a material of the first electrode layer, a material used for a general organic EL element can be used. For example, indium tin oxide called ITO, indium zinc oxide called IZO, indium oxide, tin oxide Etc. In addition, a material in which metal particles such as silver nanowires and metal nanowires such as copper nanowires are dispersed in a binder resin may be used as the first electrode layer.
第1電極層の厚みは、有機EL素子の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないため、ここでの記載は省略する。 The thickness of the first electrode layer can be adjusted as appropriate according to the application of the organic EL element and the like, and is not particularly limited.
第1電極層の形成方法は、有機EL素子の構成に応じて適宜選択することができ、透明基材の全面に第1電極層を形成しても良く、第1電極層をパターン状に形成しても良い。第1電極層の具体的な形成方法は、一般的な電極の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The formation method of a 1st electrode layer can be suitably selected according to the structure of an organic EL element, and a 1st electrode layer may be formed in the whole surface of a transparent base material, and a 1st electrode layer is formed in pattern shape You may do it. Since the specific formation method of the first electrode layer can be the same as the general electrode formation method, description thereof is omitted here.
3.有機EL層
第1実施態様における有機EL層は、第1電極層の透明基材とは反対側の面上に配置され、発光層を含む部材である。
3. Organic EL Layer The organic EL layer in the first embodiment is a member that includes a light emitting layer and is disposed on the surface of the first electrode layer opposite to the transparent substrate.
第1実施態様における有機EL層は、発光層を含む1層もしくは複数層の有機層を有する部材である。すなわち、有機EL層とは、少なくとも発光層を含む部材であり、有機層1層以上の層構成を有する部材である。通常、ウェットプロセスで有機EL層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、1層もしくは2層の有機層で構成される場合が多いが、有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。 The organic EL layer in the first embodiment is a member having one or more organic layers including a light emitting layer. That is, the organic EL layer is a member including at least a light emitting layer, and is a member having a layer configuration of one or more organic layers. Usually, when forming an organic EL layer by a wet process, it is often composed of one or two organic layers because it is difficult to stack a large number of layers in relation to the solvent, It is possible to further increase the number of layers by devising organic materials or combining vacuum deposition methods.
発光層以外に有機EL層を構成する層としては、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層、電子輸送層等が挙げられる。正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。また、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。さらに、有機EL層を構成する層としては、キャリアブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等が挙げられる。 Examples of the layer constituting the organic EL layer other than the light emitting layer include a hole injection layer, an electron injection layer, a hole transport layer, and an electron transport layer. The hole transport layer may be integrated with the hole injection layer by imparting a hole transport function to the hole injection layer. In addition, the electron transport layer may be integrated with the electron injection layer by adding an electron transport function to the electron injection layer. Furthermore, as a layer which comprises an organic electroluminescent layer, the layer for preventing the penetration of a hole or an electron like a carrier block layer, and improving a recombination efficiency is mentioned.
以下、第1実施態様における有機EL層の各構成について説明する。 Hereinafter, each structure of the organic EL layer in the first embodiment will be described.
(a)発光層
第1実施態様における発光層に用いられる材料としては、例えば、色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料等の発光材料が挙げられる。
(A) Light-emitting layer Examples of the material used for the light-emitting layer in the first embodiment include light-emitting materials such as dye-based materials, metal complex-based materials, and polymer-based materials.
色素系材料としては、例えば、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。 Examples of dye-based materials include cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine Examples thereof include ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.
また、金属錯体系材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体等、中心金属にAl、Zn、Be等または、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。 Examples of the metal complex-based material include aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethyl zinc complex, porphyrin zinc complex, and eurobium complex. Or a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy and having a oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure, or the like as a ligand.
さらに、高分子系材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール等、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、およびそれらの共重合体等が挙げられる。 Furthermore, examples of the polymer material include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole, polyfluorene derivatives, polyquinoxaline derivatives, and copolymers thereof. Is mentioned.
第1実施態様における発光層は、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング剤を含んでいても良い。ドーピング剤としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体等が挙げられる。 The light emitting layer in the first embodiment may contain a doping agent for the purpose of improving the light emission efficiency and changing the light emission wavelength. Examples of the doping agent include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, quinoxaline derivatives, carbazole derivatives, fluorene derivatives, and the like. It is done.
第1実施態様における発光層の厚みは、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば1nm以上とすることができ、また、500nm以下とすることができる。 The thickness of the light emitting layer in the first embodiment is not particularly limited as long as it can provide a function of emitting light by providing a recombination field between electrons and holes. Moreover, it can be 500 nm or less.
第1実施態様における発光層は、赤、緑、青等の複数色の発光部を有するようにパターン状に形成されていても良い。これにより、カラー表示が可能な有機EL素子を得ることができる。 The light emitting layer in the first embodiment may be formed in a pattern so as to have light emitting portions of a plurality of colors such as red, green, and blue. Thereby, an organic EL element capable of color display can be obtained.
第1実施態様における発光層の形成方法としては、一般的な発光層の形成方法を採用することができ、ウェットプロセスおよびドライプロセスのいずれも用いることができる。例えば、真空蒸着法、印刷法、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、スリットコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、グラビアオフセット印刷法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、自己組織化法等が挙げられる。 As a method for forming a light emitting layer in the first embodiment, a general method for forming a light emitting layer can be adopted, and either a wet process or a dry process can be used. For example, vacuum deposition, printing, inkjet, die coating, spin coating, casting, dipping, bar coating, slit coating, blade coating, roll coating, gravure coating, gravure offset printing, Examples include a flexographic printing method, a spray coating method, and a self-organizing method.
(b)正孔注入層および正孔輸送層
第1実施態様において、正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。すなわち、正孔注入層は、正孔注入機能のみを有していても良く、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有していても良い。
(B) Hole injection layer and hole transport layer In the first embodiment, the hole transport layer is integrated with the hole injection layer by adding a hole transport function to the hole injection layer. There is. That is, the hole injection layer may have only a hole injection function, or may have both a hole injection function and a hole transport function.
正孔注入層に用いられる材料としては、発光層内への正孔の注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン誘導体等を用いることができる。具体的には、ビス(N−((1−ナフチル)−N−フェニル)ベンジジン(α−NPD)、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホン酸(PEDOT−PSS)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等が挙げられる。 The material used for the hole injection layer is not particularly limited as long as the material can stabilize the injection of holes into the light emitting layer. In addition, phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide, titanium oxide and other oxides, amorphous carbon, polyaniline, polythiophene, polyphenylene vinylene derivatives, etc. can be used. . Specifically, bis (N-((1-naphthyl) -N-phenyl) benzidine (α-NPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m- MTDATA), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonic acid (PEDOT-PSS), polyvinylcarbazole (PVCz) and the like.
また、正孔注入層の厚みとしては、正孔注入機能や正孔輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されないが、具体的には0.5nm以上であることが好ましく、中でも10nm以上であることが好ましい。また、正孔注入層の厚みとしては、500nm以下であることが好ましく、中でも200nm以下であることが好ましい。 Further, the thickness of the hole injection layer is not particularly limited as long as the hole injection function and the hole transport function are sufficiently exhibited, but specifically, it is preferably 0.5 nm or more, It is preferable that it is 10 nm or more. In addition, the thickness of the hole injection layer is preferably 500 nm or less, and more preferably 200 nm or less.
正孔注入層の形成方法は、上述した発光層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Since the method for forming the hole injection layer can be the same as the method for forming the light emitting layer described above, description thereof is omitted here.
(c)電子注入層および電子輸送層
第1実施態様において、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。すなわち、電子注入層は、電子注入機能のみを有していても良く、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有していても良い。
(C) Electron injection layer and electron transport layer In the first embodiment, the electron transport layer may be integrated with the electron injection layer by imparting an electron transport function to the electron injection layer. That is, the electron injection layer may have only an electron injection function, or may have both an electron injection function and an electron transport function.
電子注入層に用いられる材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、アルミリチウム合金、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、リチウム、セシウム、フッ化セシウム等のようにアルカリ金属類、およびアルカリ金属類のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体等が挙げられる。 The material used for the electron injection layer is not particularly limited as long as the material can stabilize the injection of electrons into the light emitting layer. In addition to the compounds exemplified as the light emitting material of the light emitting layer, Aluminum lithium alloy, lithium fluoride, sodium fluoride, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, aluminum oxide, strontium oxide, calcium, polymethyl methacrylate, sodium polystyrene sulfonate, Examples include lithium, cesium, cesium fluoride, alkali metals, alkali metal halides, alkali metal organic complexes, and the like.
また、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属をドープした金属ドープ層を形成し、これを電子注入層とすることもできる。上記電子輸送性の有機材料としては、例えばバソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体等が挙げられ、ドープする金属としては、Li、Cs、Ba、Sr等が挙げられる。また、その他にも、Liqと称される8−ヒドロキシキノリノラト−リチウムも挙げられる。 Alternatively, a metal doped layer in which an alkali metal or alkaline earth metal is doped on an electron transporting organic material may be formed and used as an electron injection layer. Examples of the electron-transporting organic material include bathocuproin, bathophenanthroline, and phenanthroline derivatives. Examples of the metal to be doped include Li, Cs, Ba, and Sr. In addition, other examples include 8-hydroxyquinolinolato-lithium called Liq.
上記電子輸送層の厚みとしては、電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されない。 The thickness of the electron transport layer is not particularly limited as long as the electron transport function is sufficiently exerted.
電子輸送層の形成方法は、上述した発光層の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Since the formation method of an electron carrying layer can be made the same as the formation method of the light emitting layer mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
4.第2電極層
第1実施態様における第2電極層は、有機EL層の第1電極層とは反対側の面上に配置された部材である。
4). Second electrode layer The second electrode layer in the first embodiment is a member disposed on the surface of the organic EL layer opposite to the first electrode layer.
第1実施態様における第2電極層は、陽極であっても良く、陰極であっても良い。第2電極層の材料としては、例えば、Li、Na、Mg、Al、Ca、Ag、In等の金属、またはこれらの金属の1種以上を含む合金、例えばMgAg、AlLi、AlCa、AlMg等の合金が挙げられる。中でも、Al、Agの金属、またはMgAg、AlLi、AlCa、AlMg等のAl、Agを含む合金が好ましく用いられる。 The second electrode layer in the first embodiment may be an anode or a cathode. Examples of the material of the second electrode layer include metals such as Li, Na, Mg, Al, Ca, Ag, and In, or alloys containing one or more of these metals, such as MgAg, AlLi, AlCa, and AlMg. An alloy is mentioned. Among them, Al, Ag metal, or alloys containing Al and Ag such as MgAg, AlLi, AlCa, and AlMg are preferably used.
第2電極層の厚みは、第2電極層としての機能を発揮することができる程度の厚みであれば特に限定されないが、例えば、10nm以上であることが好ましく、中でも50nm以上であることが好ましい。また、第2電極層の厚みとしては、1μm以下であることが好ましく、中でも500nm以下の範囲内であることが好ましい。 The thickness of the second electrode layer is not particularly limited as long as it can function as the second electrode layer. For example, the thickness is preferably 10 nm or more, and more preferably 50 nm or more. . In addition, the thickness of the second electrode layer is preferably 1 μm or less, and more preferably in the range of 500 nm or less.
第2電極層の形成方法は、有機EL素子の構成に応じて適宜選択することができる。第2電極層の具体的な形成方法は、一般的な電極の形成方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The formation method of a 2nd electrode layer can be suitably selected according to the structure of an organic EL element. Since a specific method for forming the second electrode layer can be the same as a general electrode forming method, description thereof is omitted here.
5.絶縁部材
第1実施態様における絶縁部材は、上述した第1電極層、有機EL層および第2電極層を有する積層体上に配置された部材である。
5. Insulating Member The insulating member in the first embodiment is a member disposed on the laminate having the first electrode layer, the organic EL layer, and the second electrode layer described above.
第1実施態様においては、絶縁部材が、第1電極層、有機EL層および第2電極層を有する積層体の全面に配置されていても良く、積層体の全面に配置されていなくても良い。絶縁部材が積層体の全面に配置される場合、絶縁部材はシール性を有することが好ましい。一方、絶縁部材が積層体の全面に配置されていない場合には、絶縁部材は部分的に配置され、通常はシール性を有しない。そのため、例えば、絶縁部材が積層体の全面に配置されていない場合には、少なくとも積層体における第2電極層と、第2電極層上に配置される放熱部材とが接触しないように絶縁部材が配置されており、その他の部材として、シール性を有する封止部材等を有することが好ましい。 In the first embodiment, the insulating member may be disposed on the entire surface of the multilayer body including the first electrode layer, the organic EL layer, and the second electrode layer, or may not be disposed on the entire surface of the multilayer body. . When the insulating member is disposed on the entire surface of the laminate, the insulating member preferably has a sealing property. On the other hand, when the insulating member is not disposed on the entire surface of the laminate, the insulating member is partially disposed and usually does not have a sealing property. Therefore, for example, when the insulating member is not disposed on the entire surface of the multilayer body, the insulating member is disposed so that at least the second electrode layer in the multilayer body and the heat dissipation member disposed on the second electrode layer do not contact each other. It is arrange | positioned and it is preferable to have the sealing member etc. which have sealing performance as other members.
第1実施態様における絶縁部材の材料は、一般的な有機EL素子に用いることができる材料であれば特に限定されず、有機材料および無機材料のいずれも用いることができる。有機材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ナイロン樹脂、エポキシ樹脂、PEEK樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等の、単体または複合材料、またはパリレン、パリレン誘導体等が挙げられる。無機材料としては、例えば、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム等が挙げられる。 The material of the insulating member in the first embodiment is not particularly limited as long as it is a material that can be used for a general organic EL element, and either an organic material or an inorganic material can be used. Examples of the organic material include polyimide resin, fluorine resin, silicone resin, urethane resin, nylon resin, epoxy resin, PEEK resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetal resin, or the like, or parylene, Examples include parylene derivatives. Examples of the inorganic material include silicon oxide, silicon oxynitride, zinc oxide, titanium oxide, and aluminum oxide.
絶縁部材の厚みは、上述した第1電極層、有機EL層および第2電極層を十分に覆うことができ、絶縁部材としての機能を発揮することができる程度の厚みであることが好ましい。絶縁部材の厚みは、例えば、0.005μm以上であることが好ましく、中でも0.01μm以上であることが好ましく、特に0.03μm以上であることが好ましい。また、絶縁部材の厚みは、例えば、500μm以下であることが好ましく、中でも100μm以下であることが好ましく、特に50μm以下であることが好ましい。 The thickness of the insulating member is preferably a thickness that can sufficiently cover the first electrode layer, the organic EL layer, and the second electrode layer described above and can exhibit the function as the insulating member. For example, the thickness of the insulating member is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, and particularly preferably 0.03 μm or more. Further, the thickness of the insulating member is preferably 500 μm or less, for example, preferably 100 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less.
絶縁部材の形成方法は、上述した第1電極層、有機EL層および第2電極層を覆うように形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、一般的な絶縁部材の形成方法と同様とすることができ、具体的には、蒸着法、塗布法等が挙げられる。蒸着法としては、例えば、抵抗加熱法、スパッタ法、CVD法、イオンプレーティング法等が挙げられる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、バーコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等が挙げられる。また、予め形成された絶縁部材を、上述した第1電極層、有機EL層および第2電極層を覆うように貼りつけても良い。 The formation method of an insulating member will not be specifically limited if it can be formed so that the 1st electrode layer, organic electroluminescent layer, and 2nd electrode layer which were mentioned above may be covered. For example, it can be the same as a general method for forming an insulating member, and specifically includes a vapor deposition method, a coating method, and the like. Examples of the vapor deposition method include a resistance heating method, a sputtering method, a CVD method, and an ion plating method. Examples of the coating method include spin coating, die coating, dip coating, bar coating, gravure printing, and screen printing. Moreover, you may affix the insulating member formed previously so that the 1st electrode layer, organic electroluminescent layer, and 2nd electrode layer which were mentioned above may be covered.
6.透明基材
第1実施態様における透明基材は、上述した放熱部材、第1電極層、有機EL層、第2電極層、絶縁部材を支持する部材である。
6). Transparent substrate The transparent substrate in the first embodiment is a member that supports the heat dissipation member, the first electrode layer, the organic EL layer, the second electrode layer, and the insulating member described above.
第1実施態様における透明基材は、所定の透明性を有することが好ましい。透明基材の透明性は、有機EL層からの発光を透過させて表示を行うことができる程度の透明性であることが好ましく、例えば、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、JIS K7361−1に準ずるプラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法により測定することができる。 The transparent substrate in the first embodiment preferably has a predetermined transparency. The transparency of the transparent substrate is preferably such that the light emitted from the organic EL layer can be transmitted and displayed, and for example, the transmittance in the visible light region is 80% or more. Preferably, it is 90% or more. Here, the transmittance of the transparent substrate can be measured by a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent material according to JIS K7361-1.
第1実施態様における透明基材は、可撓性を有していても良く有さなくても良く、有機EL素子の用途に応じて適宜選択することができるが、中でも可撓性を有していることが好ましい。第1実施態様の有機EL素子に、可撓性を付与することができるからである。 The transparent substrate in the first embodiment may or may not have flexibility, and can be appropriately selected according to the use of the organic EL element. It is preferable. This is because flexibility can be imparted to the organic EL element of the first embodiment.
透明基材の材料としては、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板、薄ガラス等の可撓性を有するフレキシブル材等が挙げられる。なお、第1実施態様における透明基材は、樹脂フィルムにバリア層が形成された積層体であっても良い。 Examples of the transparent base material include inflexible rigid materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and synthetic quartz plates, or flexible materials such as resin films, optical resin plates, and thin glass. A flexible material having Note that the transparent substrate in the first embodiment may be a laminate in which a barrier layer is formed on a resin film.
透明基材の厚みとしては、透明基材に用いられる材料の種類や有機EL素子の用途等に応じて適宜選択することができるが、例えば、0.005mm以上とすることができ、また、5mm以下とすることができる。 The thickness of the transparent base material can be appropriately selected according to the type of material used for the transparent base material, the use of the organic EL element, and the like, for example, 0.005 mm or more, and 5 mm It can be as follows.
7.その他の部材
第1実施態様の有機EL素子は、上述した各部材を有していれば良く、必要に応じてその他の部材を有していても良い。その他の部材については、一般的な有機EL素子に用いられる部材を採用することができるため、ここでの記載は省略する。
7). Other Members The organic EL element of the first embodiment only needs to have the above-described members, and may have other members as necessary. About other members, since the member used for a general organic EL element can be employ | adopted, description here is abbreviate | omitted.
第1実施態様の有機EL素子は、第1電極層および第2電極層の間に1つの発光ユニットを有していても良く、あるいは2つ以上の複数の発光ユニットを有する、例えばマルチフォトン発光構造を有していても良い。具体的に、電子輸送層および発光層が積層された発光ユニットを2段や3段というスタック構造とすることにより、低電流密度でも優れた輝度を有する有機EL素子とすることができる。 The organic EL element of the first embodiment may have one light emitting unit between the first electrode layer and the second electrode layer, or has two or more light emitting units, for example, multiphoton light emission. It may have a structure. Specifically, an organic EL element having excellent luminance even at a low current density can be obtained by forming a light-emitting unit in which an electron transport layer and a light-emitting layer are stacked into a stack structure of two or three stages.
B.第2実施態様
第2実施態様の有機EL素子は、透明基材と、上記透明基材の一方の面上の透明な第1電極層と、発光層を含み、上記第1電極層の上記透明基材とは反対側の面上の有機EL層と、上記有機EL層の上記第1電極層とは反対側の面上の第2電極層と、上記第1電極層、上記有機EL層および上記第2電極層を有する積層体上の絶縁部材と、上記絶縁部材の上記透明基材とは反対側の面上であり、かつ第2電極層と対向している、金属材料を含む放熱部材とを有する。また、上記放熱部材の上記絶縁部材とは反対側の面上の対向基材と、上記絶縁部材上の封止部材と、を有し、上記透明基材、上記封止部材および上記放熱部材により、上記積層体が封止されている。
B. Second Embodiment The organic EL device of the second embodiment includes a transparent base material, a transparent first electrode layer on one surface of the transparent base material, and a light emitting layer, and the transparent electrode of the first electrode layer. An organic EL layer on a surface opposite to the substrate; a second electrode layer on the surface of the organic EL layer opposite to the first electrode layer; the first electrode layer; the organic EL layer; An insulating member on the laminate having the second electrode layer, and a heat dissipating member including a metal material on the surface of the insulating member opposite to the transparent base and facing the second electrode layer And have. Moreover, it has the opposing base material on the surface on the opposite side to the said insulating member of the said heat radiating member, and the sealing member on the said insulating member, The said transparent base material, the said sealing member, and the said heat radiating member The laminate is sealed.
第2実施態様の有機EL素子について図面を参照しながら説明する。
図5は、第2実施態様の有機EL素子の一例を示す概略断面図である。図5に例示するように、第2実施態様の有機EL素子10は、放熱部材6の絶縁部材5とは反対側の面上の対向基材8と、絶縁部材5上の封止部材7とを有し、透明基材1、封止部材7および放熱部材6により、積層体11が封止されている。なお、透明基材1、第1電極層2、有機EL層3、第2電極層4、絶縁部材5および放熱部材6の構成については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
The organic EL element of the second embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic EL element of the second embodiment. As illustrated in FIG. 5, the organic EL element 10 according to the second embodiment includes a counter substrate 8 on the surface of the heat radiating member 6 opposite to the insulating member 5, and a sealing member 7 on the insulating member 5. The laminate 11 is sealed by the transparent base material 1, the sealing member 7 and the heat dissipation member 6. In addition, about the structure of the transparent base material 1, the 1st electrode layer 2, the organic EL layer 3, the 2nd electrode layer 4, the insulating member 5, and the heat radiating member 6, since it can be made the same as that of FIG. 1 mentioned above, here The description in is omitted.
図5に示す第2実施態様の有機EL素子10によれば、放熱部材を有する従来の有機EL素子は、例えば、図10に示すように、透明基材1および対向基材8が封止部材7により封止された領域Sを有する。このような領域Sは、通常、空隙とする場合や、放熱液体や放熱ゲル等を充填する場合等がある。
これに対し、第2実施態様の有機EL素子は、図5に示すように、第1電極層2、有機EL層3および第2電極層4を有する積層体11を覆うように絶縁部材5が形成されており、積層体11が、透明基材1、封止部材7および放熱部材6により封止された構成を有する。すなわち、第2実施態様の有機EL素子は、従来の有機EL素子のように、領域Sを有しない。したがって、第2実施態様では、有機EL素子の構成を複雑にすることなく、優れた放熱機能を備えた有機EL素子とすることができる。なお、具体的な理由については、上述した「A.第1実施態様」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
According to the organic EL element 10 of the second embodiment shown in FIG. 5, the conventional organic EL element having a heat dissipating member is, for example, as shown in FIG. 7 has a region S sealed by 7. Such a region S is usually a void or filled with a heat-dissipating liquid or a heat-dissipating gel.
On the other hand, in the organic EL element of the second embodiment, as shown in FIG. 5, the insulating member 5 is provided so as to cover the laminate 11 having the first electrode layer 2, the organic EL layer 3, and the second electrode layer 4. It is formed and the laminated body 11 has the structure sealed with the transparent base material 1, the sealing member 7, and the heat radiating member 6. FIG. That is, the organic EL element of the second embodiment does not have the region S unlike the conventional organic EL element. Therefore, in the second embodiment, an organic EL element having an excellent heat dissipation function can be obtained without complicating the configuration of the organic EL element. The specific reason can be the same as the content described in the section “A. First Embodiment” described above, and therefore the description is omitted here.
また、第2実施態様の有機EL素子は、上記対向基材は、貫通孔を有していても良い。 Moreover, as for the organic EL element of a 2nd embodiment, the said opposing base material may have a through-hole.
図6(a)、(b)は、第2実施態様の有機EL素子の他の例を示す概略断面図である。図6(a)に例示するように、第2実施態様の有機EL素子10は、対向基材8が、貫通孔を有していても良い。また、この場合、放熱部材6は、図6(b)に例示するように、上記貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有していても良い。なお、有機EL素子のその他の構成は、上述した図5に例示する有機EL素子と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 FIGS. 6A and 6B are schematic cross-sectional views showing other examples of the organic EL element of the second embodiment. As illustrated in FIG. 6A, in the organic EL element 10 of the second embodiment, the opposing base material 8 may have a through hole. Further, in this case, as illustrated in FIG. 6B, the heat dissipation member 6 may have an external contact portion that is continuously arranged up to a position in contact with the outside through the through hole. In addition, since the other structure of an organic EL element can be made the same as that of the organic EL element illustrated in FIG. 5 mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
図6(a)、(b)に示す有機EL素子10によれば、放熱部材6が、対向基材8の貫通孔を介して外部と接するため、放熱部材6の表面を、例えば空気と接触させることが可能となり、放熱部材が空気と接触していない場合に比べて、放熱性を向上させることができ、より優れた放熱機能を有する有機EL素子とすることができる。また、図6(b)に示す有機EL素子10によれば、放熱部材6が、対向基材8の貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有する場合には、上記効果は顕著となる。 According to the organic EL element 10 shown in FIGS. 6A and 6B, since the heat radiating member 6 is in contact with the outside through the through hole of the counter substrate 8, the surface of the heat radiating member 6 is in contact with, for example, air. Compared with the case where the heat dissipation member is not in contact with air, the heat dissipation can be improved, and an organic EL element having a more excellent heat dissipation function can be obtained. Further, according to the organic EL element 10 shown in FIG. 6B, when the heat dissipation member 6 has an external contact portion that is continuously arranged to a position in contact with the outside through the through hole of the counter substrate 8. The above effect becomes remarkable.
ここで、「放熱部材は、貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有する」とは、例えば、放熱部材における外部接触部が、図6(b)に示すように、放熱部材6の積層体11とは反対側の面であって、対向基材8の貫通孔と平面視上重なる領域の表面6’が、対向基材8の放熱部材6とは反対側の面と同一平面となるように形成されていても良く、図示はしないが、対向基材の放熱部材とは反対側の面から突出するように形成されていても良い。さらに、図示はしないが、対向基材の積層体とは反対側の面に層状に形成されていても良い。また、上述した「外部」とは、有機EL素子の外側の領域を意味し、通常は、空気等の外気を意味する。さらに、上述した「外部接触部」とは、放熱部材において、有機EL素子の厚み方向への断面を観察したとき、放熱部材と対向基材との境界面から、放熱部材の積層体とは反対側の面であって、対向基材の貫通孔と平面視上重なる領域の表面までの部分を指す。 Here, “the heat dissipating member has an external contact portion continuously arranged to a position in contact with the outside through the through hole” means that, for example, the external contact portion in the heat dissipating member is shown in FIG. As described above, the surface 6 ′ of the region opposite to the laminated body 11 of the heat radiating member 6 and overlapping the through hole of the counter base material 8 in plan view is opposite to the heat radiating member 6 of the counter base material 8. Although it may be formed so that it may become the same plane as the surface of the side, although not illustrated, it may be formed so that it may protrude from the surface on the opposite side to the heat radiating member of an opposing base material. Furthermore, although not illustrated, it may be formed in a layer on the surface opposite to the laminate of the opposing base material. Further, the above-mentioned “outside” means a region outside the organic EL element, and usually means outside air such as air. Furthermore, the above-mentioned “external contact portion” is opposite to the laminated body of the heat radiating member from the boundary surface between the heat radiating member and the opposing base material when the cross section in the thickness direction of the organic EL element is observed in the heat radiating member. It is a surface on the side, and refers to a portion up to the surface of a region overlapping with the through hole of the opposing base material in plan view.
以下、第2実施態様の有機EL素子における各構成について説明する。 Hereinafter, each structure in the organic EL element of the second embodiment will be described.
1.放熱部材
第2実施態様における放熱部材は、積層体とは反対側の面であり、かつ第2電極層と対向する位置に配置され、金属材料を含む部材である。
1. Heat Dissipation Member The heat dissipation member in the second embodiment is a member that includes a metal material and is disposed on a surface opposite to the laminated body and facing the second electrode layer.
第2実施態様における放熱部材は、後述する対向基材に形成された貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有することにより、放熱部材が空気と接することになり、より優れた放熱性を発揮することが可能となる。 The heat radiating member in the second embodiment has an external contact portion that is continuously arranged to a position in contact with the outside through a through-hole formed in a counter substrate described later, whereby the heat radiating member comes into contact with air. Thus, it becomes possible to exhibit better heat dissipation.
図7は、放熱部材における外部接触部が、対向基材に形成された貫通孔から露出した一例を示す、概略平面図である。図7に示すように、放熱部材6における外部接触部が、対向基材8に形成された貫通孔から露出している場合、対向基材8に形成された貫通孔から露出する外部接触部の形状は、特に限定されない。図7において、対向基材8から露出する外部接触部の平面視形状は四角形であるが、例えば、台形や長方形等の矩形であっても良く、図示はしないが三角形や五角形、円形等であっても良く、特に限定されない。 FIG. 7 is a schematic plan view showing an example in which the external contact portion of the heat dissipation member is exposed from a through hole formed in the counter substrate. As shown in FIG. 7, when the external contact portion in the heat radiating member 6 is exposed from the through hole formed in the counter substrate 8, the external contact portion exposed from the through hole formed in the counter substrate 8 The shape is not particularly limited. In FIG. 7, the shape of the external contact portion exposed from the counter substrate 8 in a plan view is a quadrangle, but may be a rectangle such as a trapezoid or a rectangle, for example, a triangle, a pentagon, or a circle although not shown. There is no particular limitation.
放熱部材における外部接触部が、対向基材に形成された貫通孔から露出している場合、対向基材に形成された貫通孔から露出するパターン状の放熱部材の数は、有機EL素子の大きさや用途等に応じて適宜調整され、特に限定されない。中でも、所望の放熱性が得られる程度であることが好ましく、対向基材に形成された貫通孔から、複数個の外部接触部が露出していることが好ましい。 When the external contact part in the heat radiating member is exposed from the through hole formed in the counter substrate, the number of pattern-shaped heat radiating members exposed from the through hole formed in the counter substrate is the size of the organic EL element. It adjusts suitably according to sheath and a use etc., and is not specifically limited. Especially, it is preferable that it is a grade from which desired heat dissipation is obtained, and it is preferable that the some external contact part is exposed from the through-hole formed in the opposing base material.
放熱部材における外部接触部が、対向基材に形成された貫通孔から露出している場合、対向基材の平面視上観察される複数の外部接触部は、図7に示すように、X方向およびY方向に規則的に配列されていても良く、図示はしないが、不規則に配列されていても良い。 When the external contact portions in the heat dissipation member are exposed from the through holes formed in the counter substrate, the plurality of external contact portions observed in a plan view of the counter substrate are in the X direction as shown in FIG. And may be regularly arranged in the Y direction, and although not shown, they may be arranged irregularly.
放熱部材における外部接触部が、対向基材に形成された貫通孔から露出している場合、対向基材に形成された貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の1つ当たりの面積は、有機EL素子の大きさや用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、有機EL素子がフレキシブル性を有する場合には、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の1つ当たりの面積が、有機EL素子のフレキシブル性に影響を与えない程度に小さいことが好ましい。放熱基材は金属材料を含む部材であるため、対向基材が配置された側の有機EL素子の表面積における外部接触部の1つ当たりの面積が大きすぎると、有機EL素子に所望のフレキシブル性を付与することが困難となる場合がある。具体的には、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の1つ当たりの面積が、5μm2以上であることが好ましく、中でも10μm2以上であることが好ましい。また、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の1つ当たりの面積が、1000000μm2以下であることが好ましく、中でも100000μm2以下であることが好ましい。 When the external contact portion in the heat radiating member is exposed from the through hole formed in the counter substrate, the area per one plan view of the external contact portion exposed from the through hole formed in the counter substrate is The organic EL element can be appropriately adjusted according to the size and use of the organic EL element, and is not particularly limited. For example, when the organic EL element has flexibility, the area per one plan view of the external contact portion exposed from the through hole of the counter substrate does not affect the flexibility of the organic EL element Is preferably small. Since the heat dissipating base material is a member containing a metal material, if the area per one of the external contact portions in the surface area of the organic EL element on the side where the opposing base material is disposed is too large, the organic EL element has a desired flexibility. May be difficult to provide. Specifically, the area per one plan view of the external contact portion exposed from the through hole of the counter substrate is preferably 5 μm 2 or more, and more preferably 10 μm 2 or more. Moreover, it is preferable that the area per plane of the external contact part exposed from the through-hole of the opposing base material is 1 million μm 2 or less, and more preferably 100000 μm 2 or less.
放熱部材における外部接触部が、対向基材に形成された貫通孔から露出している場合、対向基材に形成された貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の総面積は、有機EL素子の大きさや用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。例えば、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の総面積が、放熱部材の平面視上の表面積に対して、10%以上であることが好ましく、中でも20%以上であることが好ましく、特に30%以上であることが好ましい。また、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の総面積が、放熱部材の平面視上の表面積に対して、95%以下であることが好ましく、中でも90%以下であることが好ましく、特に85%以下であることが好ましい。対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の総面積が、上記範囲内であることにより、放熱部材と空気との接触面積を十分に確保することができ、放熱部材による優れた放熱性を十分に発揮することが可能となる。また、放熱基材は金属材料を含む部材であるため、放熱部材の平面視上の表面積における外部接触部の平面視上の総面積が大きすぎると、有機EL素子に所望のフレキシブル性を付与することが困難となる場合がある。したがって、対向基材の貫通孔から露出する外部接触部の平面視上の総面積が、上記範囲内であることにより、有機EL素子に所望のフレキシブル性を付与することが可能となる。 When the external contact portion in the heat radiating member is exposed from the through hole formed in the counter substrate, the total area in plan view of the external contact portion exposed from the through hole formed in the counter substrate is organic EL. It can adjust suitably according to the magnitude | size, use, etc. of an element, and is not specifically limited. For example, the total area in plan view of the external contact portion exposed from the through hole of the counter substrate is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, with respect to the surface area in plan view of the heat dissipation member. It is preferable that it is 30% or more especially. Further, the total area of the external contact portion exposed from the through hole of the opposing base material in plan view is preferably 95% or less, more preferably 90% or less, with respect to the surface area of the heat radiating member in plan view. In particular, it is preferably 85% or less. The total area in plan view of the external contact portion exposed from the through hole of the opposing substrate is within the above range, so that a sufficient contact area between the heat radiating member and air can be secured. It is possible to sufficiently exhibit the heat dissipation. Further, since the heat dissipation base is a member containing a metal material, if the total area of the external contact portion in plan view in the surface area of the heat dissipation member in plan view is too large, desired flexibility is imparted to the organic EL element. May be difficult. Therefore, when the total area in a plan view of the external contact portion exposed from the through hole of the opposing base material is within the above range, desired flexibility can be imparted to the organic EL element.
第2実施態様における放熱部材は、後述する対向基材の貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有していても良い。この場合、当該放熱部材の形成方法としては、例えば次のような方法が挙げられる。例えば、図8(a)に示すように、放熱部材6を所定の位置に配置した後、図8(b)に示すように、貫通孔を有する対向基材8を放熱部材6上に配置し、その後、対向基材8の貫通孔と平面視上重なる位置に開口部を有するマスクを介して、対向基材8の貫通孔に放熱部材6を構成する放熱部材形成材料を蒸着させることにより、図8(c)に示すような外部接触部を有する放熱部材6を形成する方法が挙げられる。 The heat dissipation member in the second embodiment may have an external contact portion that is continuously arranged up to a position in contact with the outside through a through-hole of an opposing base material to be described later. In this case, examples of a method for forming the heat radiating member include the following methods. For example, as shown in FIG. 8A, after disposing the heat dissipating member 6 at a predetermined position, as shown in FIG. 8B, the opposing base material 8 having a through hole is disposed on the heat dissipating member 6. Then, by evaporating the heat radiating member forming material constituting the heat radiating member 6 in the through hole of the counter substrate 8 through a mask having an opening at a position overlapping the through hole of the counter substrate 8 in plan view, The method of forming the heat radiating member 6 which has an external contact part as shown in FIG.8 (c) is mentioned.
第2実施態様における放熱部材の材料や厚み等の説明については、上述した「A.第1実施態様 1.放熱部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 About description of the material of a heat radiating member in 2nd embodiment, thickness, etc., since it can be made to be the same as that of the content described in the term of "A. 1st embodiment 1. Heat radiating member" mentioned above, description here Is omitted.
2.第1電極層
第2実施態様における第1電極層は、後述する透明基材上に配置される部材である。なお、第2実施態様における第1電極層については、上述した「A.第1実施態様 2.第1電極層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
2. 1st electrode layer The 1st electrode layer in a 2nd embodiment is a member arrange | positioned on the transparent base material mentioned later. In addition, about the 1st electrode layer in 2nd embodiment, since it can be the same as that of the content described in the term of "A. 1st embodiment 2. 1st electrode layer" mentioned above, description here Omitted.
3.有機EL層
第2実施態様における有機EL層は、第1電極層の透明基材とは反対側の面に配置され、発光層を含む部材である。なお、第2実施態様における有機EL層については、上述した「A.第1実施態様 3.有機EL層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
3. Organic EL Layer The organic EL layer in the second embodiment is a member that is disposed on the surface of the first electrode layer opposite to the transparent substrate and includes a light emitting layer. Note that the organic EL layer in the second embodiment can be the same as the contents described in the section “A. First embodiment 3. Organic EL layer” described above, so description thereof is omitted here. .
4.第2電極層
第2実施態様における第2電極層は、有機EL層の第1電極層とは反対側の面に配置される部材である。なお、第2実施態様における第2電極層については、上述した「A.第1実施態様 4.第2電極層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
4). Second Electrode Layer The second electrode layer in the second embodiment is a member disposed on the surface of the organic EL layer opposite to the first electrode layer. In addition, about the 2nd electrode layer in 2nd embodiment, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of "A. 1st embodiment 4. 2nd electrode layer" mentioned above, description here Omitted.
5.絶縁部材
第2実施態様における絶縁部材は、上述した第1電極層、有機EL層および第2電極層を有する積層体を覆うように配置される部材である。なお、第2実施態様における絶縁部材については、上述した「A.第1実施態様 5.絶縁部材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
5. Insulating Member The insulating member in the second embodiment is a member arranged so as to cover the laminate having the first electrode layer, the organic EL layer, and the second electrode layer described above. In addition, about the insulating member in 2nd embodiment, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of the "A. 1st embodiment 5. Insulating member" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
6.透明基材
第2実施態様における透明基材は、上述した放熱部材、第1電極層、有機EL層、第2電極層、絶縁部材、後述する封止部材および対向基材を支持する部材である。なお、第2実施態様における透明基材については、上述した「A.第1実施態様 6.透明基材」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
6). Transparent base material The transparent base material in the second embodiment is a member that supports the heat dissipation member, the first electrode layer, the organic EL layer, the second electrode layer, the insulating member, the sealing member described later, and the opposing base material. . In addition, about the transparent base material in 2nd embodiment, since it can be made to be the same as that of the content described in the term of "A. 1st embodiment 6. Transparent base material" mentioned above, description here is abbreviate | omitted. .
7.封止部材
第2実施態様における封止部材は、放熱部材の絶縁部材とは反対側の面に配置された対向基材と、絶縁部材を覆うように配置された部材である。
7). Sealing member The sealing member in the second embodiment is a member disposed so as to cover the opposing base material disposed on the surface of the heat dissipation member opposite to the insulating member and the insulating member.
第2実施態様における封止部材は、放熱部材の絶縁部材とは反対側の面に配置された対向基材と、絶縁部材を覆うように配置することができれば特に限定されない。具体的には、図5に示すように、封止部材7と対向基材8とにより、絶縁部材5の全面が覆われていることが好ましい。また、図6に示すように、封止部材7と、放熱部材6とにより、絶縁部材5が覆われていることが好ましい。 The sealing member in a 2nd embodiment will not be specifically limited if it can arrange | position so that the opposing base material arrange | positioned on the surface on the opposite side to the insulating member of a thermal radiation member, and an insulating member may be covered. Specifically, as shown in FIG. 5, the entire surface of the insulating member 5 is preferably covered with the sealing member 7 and the counter base material 8. As shown in FIG. 6, it is preferable that the insulating member 5 is covered with the sealing member 7 and the heat radiating member 6.
第2実施態様における封止部材の材料としては、例えば、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、アクリル樹脂アクリレート等の各種アクリレート、ウレタンポリエステル等の樹脂を用いたラジカル系シール材や、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン系シール材、チオール−エン付加型樹脂系シール材等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂等が挙げられる。 As a material of the sealing member in the second embodiment, for example, a radical seal material using various acrylates such as ester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, acrylic resin acrylate, and resins such as urethane polyester, epoxy, etc. And a photo-curing resin such as a cationic sealant using a resin such as vinyl ether, a thiol-ene addition resin-based sealant, or a thermosetting resin.
封止部材の厚みについては、第2実施態様の有機EL素子の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、絶縁部材を十分に覆うことができる程度の厚みであることが好ましい。 About the thickness of a sealing member, it can adjust suitably according to the use etc. of the organic EL element of a 2nd embodiment, Although it does not specifically limit, It is the thickness of the grade which can fully cover an insulating member. preferable.
封止部材の形成方法としては、従来から行われている方法が挙げられる。例えば、インクジェット法、ディスペンサー法、スピンコート法、ダイコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、およびスクリーン印刷法等が挙げられる。 As a method for forming the sealing member, a conventional method can be used. For example, inkjet method, dispenser method, spin coating method, die coating method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, flexographic printing method, offset printing method, and Screen printing method etc. are mentioned.
8.対向基材
第2実施態様における対向基材は、放熱部材の絶縁部材とは反対側の面に配置された部材である。
8). Opposing base material The opposing base material in the second embodiment is a member disposed on the surface of the heat dissipation member opposite to the insulating member.
第2実施態様における対向基材は、有機EL素子の発光面とは反対側の面に配置される部材であるため、透明性を有していても良く、透明性を有さなくても良い。 Since the opposing base material in a 2nd embodiment is a member arrange | positioned on the surface on the opposite side to the light emission surface of an organic EL element, it may have transparency and does not need to have transparency. .
第2実施態様における対向基材の材料としては、例えば、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板、薄ガラス等の可撓性を有するフレキシブル材等が挙げられる。なお、第2実施態様における対向基材は、樹脂フィルムにバリア層が形成された積層体であっても良い。 Examples of the material for the counter substrate in the second embodiment include inflexible rigid materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and synthetic quartz plate, or resin films, optical resin plates, and thin glass. Examples thereof include a flexible material having flexibility. In addition, the opposing base material in a 2nd embodiment may be the laminated body in which the barrier layer was formed in the resin film.
第2実施態様における対向基材は、必要に応じて貫通孔を有していても良い。その場合、放熱部材は、貫通孔を介して外部と接する位置まで連続的に配置された外部接触部を有することが好ましい。 The opposing base material in the second embodiment may have a through hole as necessary. In that case, it is preferable that a heat radiating member has an external contact part arrange | positioned continuously to the position which contacts the exterior via a through-hole.
対向基材が貫通孔を有する場合、対向基材に形成される貫通孔の数や形状については、上述した放熱部材における外部接触部の数や形状に応じて、適宜決定される。そのため、対向基材に形成される貫通孔数や形状についての説明は、上述した「B.第2実施態様 1.放熱部材」の項に記載した説明と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 When the opposing base material has a through hole, the number and shape of the through holes formed in the opposing base material are appropriately determined according to the number and shape of the external contact portions in the heat dissipation member described above. Therefore, the description of the number and shape of the through holes formed in the opposing base material can be the same as the description described in the above-mentioned section “B. Second embodiment 1. Heat radiation member”. Is omitted.
対向基材に貫通孔を形成する方法としては、例えば、打ち抜き加工、レーザー光線による焼き抜き加工、エッチング加工等が挙げられる。打ち抜き加工としては、例えば、パンチング機による方法が挙げられる。レーザー光線による焼き抜き加工としては、例えば、レーザー光線穿孔機による方法が挙げられる。エッチング加工としては、エッチング液を用いた一般的な方法が挙げられる。なお、貫通孔が形成された対向基材として、市販品を使用しても良い。 Examples of the method for forming the through hole in the counter substrate include a punching process, a burning process using a laser beam, and an etching process. Examples of the punching process include a method using a punching machine. Examples of the tempering process using a laser beam include a method using a laser beam punch. As the etching process, a general method using an etching solution can be used. In addition, you may use a commercial item as an opposing base material in which the through-hole was formed.
II.有機EL表示装置
本発明の有機EL表示装置は、上述した有機EL素子と、複数色の着色部、および複数色の上記着色部の間の遮光部を有するカラーフィルタと、を有する装置である。
以下、本開示の1実施態様における有機EL表示装置について、各構成に分けて説明する。
II. Organic EL Display Device The organic EL display device of the present invention is a device having the above-described organic EL element, and a color filter having a plurality of colored portions and a light shielding portion between the plurality of colored portions.
Hereinafter, the organic EL display device according to one embodiment of the present disclosure will be described separately for each configuration.
A.有機EL素子
本開示の1実施態様における有機EL素子については、上述した「I.有機EL素子」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
A. Organic EL Element The organic EL element in one embodiment of the present disclosure can be the same as the contents described in the above-mentioned section of “I. Organic EL element”, and thus description thereof is omitted here.
B.カラーフィルタ
本開示の1実施態様におけるカラーフィルタは、複数色の着色部、および複数色の着色部の間の遮光部を有する部材である。
以下、カラーフィルタを構成する着色部および遮光部について説明する。
B. Color filter The color filter in one embodiment of this indication is a member which has a colored part of a plurality of colors, and a shade part between colored parts of a plurality of colors.
Hereinafter, the coloring portion and the light shielding portion constituting the color filter will be described.
1.着色部
本開示の1実施態様において用いられる着色部は、複数色有する。例えば、赤、緑、青の3色の着色層を有する。着色部の色は、通常、赤、緑、青の3色を少なくとも含むが、例えば、赤、緑、青、黄や赤、緑、青、白の4色、または、赤、緑、青、黄、シアンの5色等とすることもできる。赤、緑、青、白の4色の場合は、赤、緑、青の3色の着色層部、後述する白色層が用いられる。
1. Colored portion The colored portion used in one embodiment of the present disclosure has a plurality of colors. For example, it has three colored layers of red, green, and blue. The color of the colored portion usually includes at least three colors of red, green, and blue. For example, four colors of red, green, blue, yellow and red, green, blue, and white, or red, green, blue, It is also possible to use five colors such as yellow and cyan. In the case of four colors of red, green, blue and white, a colored layer portion of three colors of red, green and blue and a white layer which will be described later are used.
着色部は、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させることで得られる。色材としては、例えば、各色の顔料や染料等を挙げることができる。赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
着色部には、必要に応じて、光重合開始剤や、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させても良い。
The colored portion can be obtained, for example, by dispersing a color material in a binder resin. Examples of the color material include pigments and dyes of each color. Examples of the color material used for the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the color material used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. And pigments. Examples of the color material used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more.
As the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.
If necessary, the colored portion may contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coating improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like.
着色部の配列は必要に応じて適宜選択することができ、例えば、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列が挙げられる。 The arrangement of the colored portions can be appropriately selected as necessary, and examples thereof include known arrangements such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type.
着色部の厚みは、一般的なカラーフィルタに用いられる着色部の厚みと同様とすることができる。例えば、着色部の厚みは、1μm以上とすることができ、また5μm以下とすることができる。 The thickness of the colored portion can be the same as the thickness of the colored portion used in a general color filter. For example, the thickness of the colored portion can be 1 μm or more, and can be 5 μm or less.
着色部の形成方法は、複数色の着色部を同一平面上に配列することができる方法であれば良く、例えば、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。 The coloring part may be formed by any method as long as a plurality of colored parts can be arranged on the same plane, and examples thereof include a photolithography method, an ink jet method, and a printing method.
2.遮光部
本開示の1実施態様において用いられる遮光部は、複数色の着色部の間に配置される。すなわち、本開示の1実施態様において用いられるカラーフィルタは、遮光部が複数の開口部を有し、当該開口部に各着色部が配置された構成を有する。
2. Light Shielding Part The light shielding part used in one embodiment of the present disclosure is disposed between the colored parts of a plurality of colors. That is, the color filter used in one embodiment of the present disclosure has a configuration in which the light-shielding portion has a plurality of openings, and the colored portions are arranged in the openings.
遮光部は、例えば黒色色材をバインダ樹脂中に分散させることで得られる。黒色色材には、例えば、顔料および染料のいずれも用いることができる。具体的には、カーボンブラックやチタンブラック等が挙げられる。
バインダ樹脂は、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する場合、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂を用いることができる。また、バインダ樹脂は、例えば、インクジェット法や印刷法を用いて形成する場合、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を用いることができる。
遮光部には、必要に応じて、光重合開始剤や、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させても良い。
The light shielding part is obtained, for example, by dispersing a black color material in a binder resin. For the black color material, for example, any of a pigment and a dye can be used. Specific examples include carbon black and titanium black.
For example, when the binder resin is formed using a photolithography method, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as an acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate-based, or cyclized rubber-based resin can be used. In addition, when the binder resin is formed using, for example, an inkjet method or a printing method, a polymethyl methacrylate resin, a polyacrylate resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl pyrrolidone resin, a hydroxyethyl cellulose resin, a carboxymethyl cellulose resin, a polychlorinated resin. Vinyl resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin, and the like can be used.
The light-shielding portion may contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coating property improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like as necessary.
遮光部の開口部の形状は特に限定されないが、例えば、ストライプ形状、くの字形状等が挙げられる。 Although the shape of the opening part of a light-shielding part is not specifically limited, For example, a stripe shape, a dogleg shape, etc. are mentioned.
遮光部の厚みは、一般的なカラーフィルタに用いられる遮光部の厚みと同様とすることができる。例えば、遮光部の厚みは、0.5μm以上とすることができ、また2μm以下とすることができる。 The thickness of the light shielding part can be the same as the thickness of the light shielding part used in a general color filter. For example, the thickness of the light-shielding part can be 0.5 μm or more, and can be 2 μm or less.
遮光部の形成方法は、複数の開口部を有する遮光部を得ることができる方法であれば良く、例えば、フォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。 The light shielding part may be formed by any method as long as a light shielding part having a plurality of openings can be obtained. Examples thereof include a photolithography method, an ink jet method, and a printing method.
3.その他
本開示の1実施態様におけるカラーフィルタは、上述した複数色の着色部および遮光部の他にも、必要にその他の部材を有していても良い。その他の部材は、一般的なカラーフィルタに用いられる部材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
3. Others The color filter according to an embodiment of the present disclosure may include other members as necessary in addition to the above-described colored portions and light-shielding portions. Since other members can be the same as those used in general color filters, description thereof is omitted here.
特段の断りがない限り、下記に示す作業は、窒素雰囲気下のグローブボックス中(酸素濃度1ppm以下、水分濃度1ppm以下)で行った。 Unless otherwise specified, the following operations were performed in a glove box (oxygen concentration 1 ppm or less, moisture concentration 1 ppm or less) under a nitrogen atmosphere.
[実施例1]
図9(a)〜(e)は、実施例1における有機EL素子の製造方法を示す概略工程図である。
[Example 1]
9A to 9E are schematic process diagrams illustrating a method for manufacturing an organic EL element in Example 1. FIG.
(第1電極層の形成)
図9(a)に示すように、透明基材1上に、透明な第1電極層2(材料:酸化インジウム錫、厚み:300nm)をパターン状に形成した。その後、パターン状の第1電極層が形成された透明基材を、中性洗剤、超純水の順で超音波洗浄し、UVオゾン処理を施した。
(Formation of first electrode layer)
As shown in FIG. 9A, a transparent first electrode layer 2 (material: indium tin oxide, thickness: 300 nm) was formed on the transparent substrate 1 in a pattern. Thereafter, the transparent substrate on which the patterned first electrode layer was formed was ultrasonically cleaned in the order of neutral detergent and ultrapure water, and then subjected to UV ozone treatment.
(有機EL層の形成)
次に、第1正孔注入輸送層を構成する第1正孔注入輸送層形成用組成物として、PEDOT/PSS水分散液(ヘレウス社製 CLEVIOUS P AI4083)を、得られた第1電極層上に大気下でスピンコート法を用いて塗布した。その後、ホットプレートを用いて大気中で200℃、30分の条件下で加熱し、第1正孔注入輸送層を得た。加熱後の第1正孔注入輸送層の厚みは20nmであった。
次いで、第2正孔注入輸送層を構成する第2正孔注入輸送層形成用組成物として、共役系の高分子材料であるポリ[(9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(4,4’−(N−(4−sec−ブチルフェニル))ジフェニルアミン)](TFB)をキシレン中に0.4wt%の濃度で溶解した。得られた第2正孔注入輸送層形成用組成物を、得られた第1正孔注入輸送層上にスピンコート法により塗布した。その後、ホットプレートを用いて200℃、30分の条件下で加熱して溶剤を除去し、第2正孔注入輸送層を得た。加熱後の第2正孔注入輸送層の厚みは20nmであった。
次いで、得られた第2正孔注入輸送層上に、発光層として、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(III)(Ir(ppy)3)を発光性ドーパントとして含有し、4,4’−ビス(2,2−カルバゾール−9−イル)ビフェニル(CBP)をホストとして含有する混合薄膜を蒸着形成した。混合薄膜は、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱法によりホストとドーパントの体積比20:1、合計膜厚が30nmになるように共蒸着で形成した。
続いて、得られた発光層上に、正孔ブロック層として、ビス(2−メチル−8−キノリラト)(p−フェニルフェノラート)アルミニウム錯体(BAlq)薄膜を蒸着形成した。BAlq薄膜は、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱法により膜厚が10nmになるように形成した。
次に、得られた正孔ブロック層上に、電子輸送層として、トリス(8−キノリラト)アルミニウム錯体(Alq3)薄膜を蒸着形成した。Alq3薄膜は、圧力が1×10−4Paの真空中で、抵抗加熱蒸着法により成膜した。
最後に、得られた電子輸送層上に、電子注入層として、厚み0.5nmのフッ化リチウム(LiF)を、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱蒸着法により成膜した。
このようにして、図9(b)に示すように、透明基材1上にパターン状に形成された第1電極層2上に、有機EL層3を形成した。
(Formation of organic EL layer)
Next, a PEDOT / PSS aqueous dispersion (CLEVIUS P AI4083 manufactured by Heraeus Co., Ltd.) is used as the first hole injection / transport layer forming composition constituting the first hole injection / transport layer on the obtained first electrode layer. The coating was applied in the air using a spin coating method. Then, it heated at 200 degreeC and the conditions for 30 minutes in air | atmosphere using the hotplate, and obtained the 1st positive hole injection transport layer. The thickness of the first hole injection transport layer after heating was 20 nm.
Next, as a composition for forming a second hole injecting and transporting layer constituting the second hole injecting and transporting layer, poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) which is a conjugated polymer material is used. ) -Co- (4,4 ′-(N- (4-sec-butylphenyl)) diphenylamine)] (TFB) was dissolved in xylene at a concentration of 0.4 wt%. The obtained composition for forming a second hole injecting and transporting layer was applied onto the obtained first hole injecting and transporting layer by a spin coating method. Then, it heated on 200 degreeC and the conditions for 30 minutes using the hotplate, the solvent was removed, and the 2nd positive hole injection transport layer was obtained. The thickness of the second hole injecting and transporting layer after heating was 20 nm.
Next, on the obtained second hole injecting and transporting layer, tris (2-phenylpyridine) iridium (III) (Ir (ppy) 3) is contained as a luminescent dopant as a luminescent layer, and 4,4′- A mixed thin film containing bis (2,2-carbazol-9-yl) biphenyl (CBP) as a host was formed by vapor deposition. The mixed thin film was formed by co-evaporation in a vacuum of 1 × 10 −4 Pa by a resistance heating method so that the volume ratio of host to dopant was 20: 1 and the total film thickness was 30 nm.
Subsequently, a bis (2-methyl-8-quinolinato) (p-phenylphenolate) aluminum complex (BAlq) thin film was formed as a hole blocking layer on the obtained light emitting layer by vapor deposition. The BAlq thin film was formed in a vacuum of 1 × 10 −4 Pa so as to have a film thickness of 10 nm by a resistance heating method.
Next, a tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq3) thin film was formed as an electron transport layer on the obtained hole blocking layer by vapor deposition. The Alq3 thin film was formed by resistance heating vapor deposition in a vacuum at a pressure of 1 × 10 −4 Pa.
Finally, on the obtained electron transport layer, as an electron injection layer, 0.5 nm-thick lithium fluoride (LiF) was formed by resistance heating vapor deposition in a vacuum with a pressure of 1 × 10 −4 Pa. .
In this way, as shown in FIG. 9B, the organic EL layer 3 was formed on the first electrode layer 2 formed in a pattern on the transparent substrate 1.
(第2電極層の形成)
次に、得られた有機EL層上に、第2電極層を構成する材料としてAlを用い、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱蒸着法により成膜した。これにより、図9(c)に示すように、有機EL層3上に厚み100nmの第2電極層4を形成した。
(Formation of second electrode layer)
Next, Al was used as a material constituting the second electrode layer on the obtained organic EL layer, and a film was formed by resistance heating vapor deposition in a vacuum of 1 × 10 −4 Pa. Thereby, as shown in FIG. 9C, the second electrode layer 4 having a thickness of 100 nm was formed on the organic EL layer 3.
(絶縁部材の形成)
次に、得られた第2電極層上に、絶縁部材構成する材料としてパリレンを用い、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱蒸着法により成膜した。これにより、図9(d)に示すように、第2電極層4を覆うようにして厚み500nmの絶縁部材5を形成した。
(Formation of insulation members)
Next, a film was formed on the obtained second electrode layer by resistance heating vapor deposition in a vacuum of 1 × 10 −4 Pa using parylene as a material constituting the insulating member. Thereby, as shown in FIG. 9D, the insulating member 5 having a thickness of 500 nm was formed so as to cover the second electrode layer 4.
(放熱部材)
最後に、得られた絶縁部材上に、放熱部材を構成する材料としてAlを用い、圧力が1×10−4Paの真空中で抵抗加熱蒸着法により成膜した。これにより、図9(e)に示すように、絶縁部材5上に厚み3μmの放熱部材6を形成した。
(Heat dissipation member)
Finally, on the obtained insulating member, Al was used as a material constituting the heat radiating member, and a film was formed by resistance heating vapor deposition in a vacuum with a pressure of 1 × 10 −4 Pa. Thereby, as shown in FIG.9 (e), the thermal radiation member 6 with a thickness of 3 micrometers was formed on the insulating member 5. FIG.
(有機EL素子)
上述の工程を有することにより、実施例1では、図9(e)に示すような有機EL素子10を得ることができた。なお、図9(e)に示す有機EL素子10の、有機EL素子の表面に対する縦断面の構成は、例えば、図1と同様であった。
(Organic EL device)
By having the above-mentioned process, in Example 1, the organic EL element 10 as shown in FIG.9 (e) was able to be obtained. In addition, the structure of the vertical cross section with respect to the surface of the organic EL element of the organic EL element 10 shown in FIG.9 (e) was the same as that of FIG. 1, for example.
[実施例2]
放熱部材の第2電極層とは反対側の面上に、紫外線硬化型接着剤を用いて、対向基材を配置したこと以外は、実施例1と同様にして有機EL層を形成した。なお、対向基材には、2mm□の貫通孔が25個形成され、厚みは0.2mmであった。実施例2で形成された有機EL素子の縦断面の構成は、例えば、図6(a)と同様であった。
[Example 2]
An organic EL layer was formed in the same manner as in Example 1 except that a counter substrate was disposed on the surface of the heat radiating member opposite to the second electrode layer using an ultraviolet curable adhesive. In addition, 25 through-holes of 2 mm □ were formed in the opposing base material, and the thickness was 0.2 mm. The configuration of the vertical cross section of the organic EL element formed in Example 2 was the same as that shown in FIG.
[実施例3]
対向基材に形成された貫通孔が露出するようにマスクを配置し、スクリーン印刷法を用いてAlペーストを塗布することにより、貫通孔を介して外部と接する位置まで放熱部材が連続的に配置された外部接触部を形成したこと以外は、実施例2と同様にして有機EL素子を形成した。実施例3で形成された有機EL素子の縦断面の構成は、例えば、図6(b)と同様であった。
[Example 3]
By disposing a mask so that the through-holes formed in the opposing base material are exposed and applying Al paste using the screen printing method, the heat dissipating member is continuously arranged until it contacts the outside through the through-holes An organic EL element was formed in the same manner as in Example 2 except that the formed external contact portion was formed. The configuration of the longitudinal section of the organic EL element formed in Example 3 was the same as that shown in FIG. 6B, for example.
[比較例1]
放熱部材を形成しないこと以外は実施例1と同様にして有機EL素子を形成した。
[Comparative Example 1]
An organic EL element was formed in the same manner as in Example 1 except that the heat radiating member was not formed.
[比較例2]
放熱部材を形成しないこと以外は実施例2と同様にして有機EL素子を形成した。
[Comparative Example 2]
An organic EL element was formed in the same manner as in Example 2 except that the heat radiating member was not formed.
[評価]
実施例1〜3および比較例1、2により得られた有機EL素子を用いて、放熱性を評価した。具体的には、赤外線サーモグラフィー(G−120 NEC Avio社製)を用いて、発光輝度が2,000cd/m2時の温度を測定することにより、実施例1および比較例1を比較評価し、実施例2、3および比較例2を比較評価した。結果は、表1に示す。
[Evaluation]
Heat dissipation was evaluated using the organic EL elements obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. Specifically, Example 1 and Comparative Example 1 were compared and evaluated by measuring the temperature at an emission luminance of 2,000 cd / m 2 using infrared thermography (G-120 NEC Avio). Examples 2 and 3 and Comparative Example 2 were comparatively evaluated. The results are shown in Table 1.
表1に示す評価結果から、放熱部材を有さない従来の有機EL素子に比べて、放熱部材を有する本開示の有機EL素子の場合に、優れた放熱効果が得られることが分かった。また、実施例2、3において優れた放熱効果が得られるのは、対向基材の貫通孔を介して、外部と接する位置まで放熱部材が連続的に配置された外部接触部を有することにより、放熱効果が促進されるためと考えられる。 From the evaluation results shown in Table 1, it was found that an excellent heat dissipation effect was obtained in the case of the organic EL element of the present disclosure having a heat dissipation member as compared to a conventional organic EL element having no heat dissipation member. In addition, the excellent heat dissipation effect in Examples 2 and 3 is obtained by having the external contact portion in which the heat dissipation member is continuously arranged to the position in contact with the outside through the through hole of the opposing base material. This is probably because the heat dissipation effect is promoted.
1 … 透明基材
2 … 第1電極層
3 … 有機EL層
4 … 第2電極層
5 … 絶縁部材
6 … 放熱部材
7 … 封止部材
8 … 対向基材
10 … 有機EL素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent base material 2 ... 1st electrode layer 3 ... Organic EL layer 4 ... 2nd electrode layer 5 ... Insulating member 6 ... Heat radiation member 7 ... Sealing member 8 ... Opposite base material 10 ... Organic EL element
Claims (5)
前記透明基材の一方の面上の透明な第1電極層と、
発光層を含み、前記第1電極層の前記透明基材とは反対側の面上の有機エレクトロルミネッセンス層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス層の前記第1電極層とは反対側の面上の第2電極層と、
前記第1電極層、前記有機エレクトロルミネッセンス層および前記第2電極層を有する積層体上の絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記積層体とは反対側の面上であり、かつ前記第2電極層と対向している、金属材料を含む放熱部材と、
を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。 A transparent substrate;
A transparent first electrode layer on one side of the transparent substrate;
An organic electroluminescence layer on the surface of the first electrode layer opposite to the transparent substrate, comprising a light emitting layer;
A second electrode layer on a surface opposite to the first electrode layer of the organic electroluminescence layer;
An insulating member on the laminate having the first electrode layer, the organic electroluminescence layer, and the second electrode layer;
A heat dissipating member including a metal material on the surface of the insulating member opposite to the laminated body and facing the second electrode layer;
An organic electroluminescence device having:
前記絶縁部材上の封止部材と、を有し、
前記透明基材、前記封止部材および前記放熱部材により、前記積層体が封止されている請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 A counter substrate on a surface opposite to the insulating member of the heat dissipation member;
A sealing member on the insulating member,
The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the laminate is sealed by the transparent substrate, the sealing member, and the heat dissipation member.
複数色の着色部、および複数色の前記着色部の間の遮光部を有するカラーフィルタと、
を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 An organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 4, and
A color filter having a plurality of colored portions, and a light shielding portion between the colored portions of a plurality of colors;
An organic electroluminescence display device.
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