JP2017195131A - 有機エレクトロルミネッセンス発光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】信頼性と透明性とを向上させることが可能な有機ＥＬ発光装置を提供する。【解決手段】可撓性基材１１と、可撓性基材１１上に設けられた有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０上に設けられた光学調整層３１とを備える。さらに、可撓性基材１１上において、有機ＥＬ素子２０、及び、光学調整層３１を封止する第１封止層１３と、第１封止層１３上に設けられた透明吸湿剤層３２と、透明吸湿剤層３２、及び、第１封止層１３を封止する第２封止層１５とを備える有機エレクトロルミネッセンス発光装置２０を構成する。【選択図】図１

Description

本発明は、透明吸湿剤層を有する有機エレクトロルミネッセンス発光装置に係わる。

有機エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence：ＥＬ）素子を備える有機ＥＬ発光装置は、平面発光を可能とする発光装置として既に実用化されている。さらに、有機ＥＬ発光装置の一形態として、ディスプレイ用途や、建物や自動車の窓等の用途において、透明有機ＥＬ発光装置が求められている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、ボトムエミッションタイプの有機ＥＬと比較し、透明有機ＥＬは、不透明部材が使えないことから、新たに多くの課題が発生する。例えば、ダークスポットが発生しやすくなる。また、可とう性有機ＥＬの場合は長期保存時に封止基板が剥がれやすくなる等の信頼性の問題が発生することがある。

このため、透明有機ＥＬ発光装置において、ダークスポットや膜剥がれ等の有機ＥＬ素子の劣化を抑制し、信頼性を向上することが求められている。例えば、水分による有機ＥＬ素子の劣化を防ぐため、透明吸湿剤層を設けた、トップエミッション型の有機ＥＬ発光装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２００７−１８４２７９号公報 特開２００９−９５８２４号公報

上述のように、透明有機ＥＬ発光装置においては、 信頼性の向上と、透明性の向上とが求められている。

上述した問題の解決のため、本発明においては、信頼性と透明性とを向上させることが可能な有機ＥＬ発光装置を提供する。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス発光装置は、可撓性基材と、可撓性基材上に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、有機エレクトロルミネッセンス素子上に設けられた光学調整層とを備える。さらに、可撓性基材上において、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、光学調整層を封止する第１封止層と、第１封止層上に設けられた透明吸湿剤層と、透明吸湿剤層、及び、第１封止層を封止する第２封止層とを備える。

本発明によれば、信頼性と透明性とを向上させることが可能な有機ＥＬ発光装置を提供することができる。

第１実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第１実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第２実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第２実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第３実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第３実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第４実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。 第４実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を示す図である。

以下、本発明を実施するための形態の例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
なお、説明は以下の順序で行う。
１．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第１実施形態）
２．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第２実施形態）
３．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第３実施形態）
４．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第４実施形態）

〈１．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第１実施形態）〉
以下、本発明の有機エレクトロルミネッセンス発光装置（以下、有機ＥＬ発光装置）の具体的な実施の形態について説明する。図１及び図２に、本実施の形態の有機ＥＬ発光装置の概略構成図を示す。なお、図１及び図２に示す有機ＥＬ発光装置１０は、ＪＩＳ Ｋ ７３７５に規定される全光線透過率が３０％以上の透明な有機ＥＬ発光装置である。図１及び図２は、有機ＥＬ発光装置１０のそれぞれ異なる断面を示す図である。

図１及び図２に示す有機ＥＬ発光装置１０は、ガスバリア層１２が形成された可撓性基材１１上に、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子２０を備える。有機ＥＬ素子２０は、可撓性基材１１上に形成された第１電極（透明電極）２１、第１電極２１上に形成された発光ユニット２２、及び、発光ユニット２２を第１電極２１と挟持する第２電極２３を備える。さらに、有機ＥＬ発光装置１０は、有機ＥＬ素子２０の第２電極２３上に、第２電極２３の上面と側面とを覆う光学調整層３１を備える。さらに、有機ＥＬ発光装置１０は、ガスバリア層１２を有する可撓性基材１１上において、有機ＥＬ素子２０の側面及び光学調整層３１の側面と上面とを覆う第１封止層１３を備える。

また、有機ＥＬ発光装置１０は、第１封止層１３上に、透明吸湿剤層３２を備える。そして、ガスバリア層１２を有する可撓性基材１１上において、第１封止層１３の側面及び透明吸湿剤層３２の側面と上面とが、接着剤層１４によって覆われている。さらに、接着剤層１４を介して第２封止層１５を有する封止基板１６が、可撓性基材１１に貼り合わされている。この構成により、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、第１封止層１３、及び、透明吸湿剤層３２が、ガスバリア層１２を有する可撓性基材１１、接着剤層１４、及び、第２封止層１５を有する封止基板１６によって封止されている。

また、図２に示すように、有機ＥＬ発光装置１０は、有機ＥＬ素子２０の第１電極２１又は第２電極２３を、封止部の外部に引出すための外部接続用の電極を有する。

有機ＥＬ素子２０の第１電極２１には、外部接続用の電極として、発光部分に用いられている部分以外に、接着剤層１４の外部に引出された給電用の取り出し部が、可撓性基材１１上に設けられている。さらに、第１電極２１が引出された方向と反対側に、第２電極２３の外部接続用の電極として、接着剤層１４の外部に引出された取り出し電極２４が可撓性基材１１上に設けられている。第２電極２３は、発光ユニット２２によって第１電極２１と絶縁された状態で、可撓性基材１１上に設けられた取り出し電極２４に接続されている。さらに、図２に示すように、第２電極２３の側面及び上面から、第２電極２３と取り出し電極２４との接合部分までが、光学調整層３１によって覆われている。

有機ＥＬ発光装置１０において、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、透明吸湿剤層３２、及び、第１封止層１３は、可撓性基材１１の一方の面（以下、可撓性基材１１の表面上）に配置されている。具体的には、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、透明吸湿剤層３２、及び、第１封止層１３は、は、可撓性基材１１の表面上に配置され、有機ＥＬ素子２０の周囲において可撓性基材１１の表面の周縁部分が露出するように、可撓性基材１１の縁辺よりも中央側に配置される。

また、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、透明吸湿剤層３２、及び、第１封止層１３は、は、可撓性基材１１のガスバリア層１２が形成されている面上に配置されている。そして、有機ＥＬ素子２０及び光学調整層３１が、可撓性基材１１のガスバリア層１２上において、第１封止層１３によって封止されている。具体的には、有機ＥＬ素子２０及び光学調整層３１は、光学調整層３１の上面、及び、有機ＥＬ素子２０及び光学調整層３１の積層面側（側面）が、第１封止層１３に覆われている。従って、有機ＥＬ素子２０及び光学調整層３１は、可撓性基材１１のガスバリア層１２と第１封止層１３とによって、周囲が覆われている。

また、第１封止層１３は、可撓性基材１１の表面上において、有機ＥＬ素子２０の周囲に露出する周縁部分上にも設けられ、第１封止層１３の周囲においても可撓性基材１１の表面の周縁部分が露出する。すなわち、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、透明吸湿剤層３２、及び、第１封止層１３は、可撓性基材１１の縁辺よりも中央側に配置されている。そして、この露出する周縁部分に、第１電極２１及び第２電極２３の外部接続用の電極として、第１電極２１の取り出し部、及び、第２電極２３の取り出し電極２４が引出されている。

透明吸湿剤層３２は、第１封止層１３の上層に配置され、接着剤層１４で覆われていれば、形状等は特に問わない。例えば、図１及び図２に示すように、透明吸湿剤層３２と第１封止層１３とが同じ形状であり、透明吸湿剤層３２と第１封止層１３との端縁が同じ位置となるように配置されていてもよい。また、透明吸湿剤層３２は、第１封止層１３よりも小さい面積であってもよく、有機ＥＬ素子２０の発光ユニット２２より大きい面積で形成されていてもよい。

また、透明吸湿剤層３２は、第１封止層１３上に直接形成されていてもよく、接着剤層等によって第１封止層１３上に貼り合わされていてもよい。透明吸湿剤層３２と第１封止層１３との間に他の構成が設けられていても、第１封止層１３の上方に透明吸湿剤層３２が配置されていればよい。

有機ＥＬ発光装置１０において、第１封止層１３と透明吸湿剤層３２とは、接着剤層１４によって覆われている。接着剤層１４は、透明吸湿剤層３２の上面と、透明吸湿剤層３２及び第１封止層１３の側面とを覆い、且つ、可撓性基材１１の表面上の第１封止層１３の周囲に露出する周縁部分上に設けられている。接着剤層１４は、撓性基材１１の端部まで設けられ、可撓性基材１１と接着剤層１４とは、ほぼ同じ位置が端縁となっている。

また、有機ＥＬ発光装置１０は、封止基板１６に設けられた第２封止層１５によって、上面側が封止されている。第２封止層１５は、封止基板１６の有機ＥＬ素子２０側に配置され、接着剤層１４によって、有機ＥＬ素子２０等を挟持して可撓性基材１１側に貼り合わされている。

接着剤層１４は、透明吸湿剤層３２の上面から第１封止層１３の側面を覆い、さらに、可撓性基材１１の表面上において、第１封止層１３の周囲に露出するガスバリア層１２の周縁部分上も覆うように設けられている。そして、可撓性基材１１の端部まで接着剤層１４が設けられ、可撓性基材１１と接着剤層１４は、ほぼ同じ位置が端縁となっている。なお、接着剤層１４は、透明吸湿剤層３２と第１封止層１３とを覆っていればよく、可撓性基材１１の周縁部分を全て覆っていなくてもよい。このため接着剤層１４の周囲からガスバリア層１２が露出していてもよい。

上述の構成の有機ＥＬ発光装置１０では、ガスバリア層１２を有する可撓性基材１１と、接着剤層１４と、第２封止層１５を有する封止基板１６とによって、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、及び、透明吸湿剤層３２が封止される。また、有機ＥＬ素子２０と光学調整層３１とは、第１封止層１３によって封止されている。従って、有機ＥＬ発光装置１０は、第１封止層１３による封止と、ガスバリア層１２及び第２封止層１５による封止とで、２重に有機ＥＬ素子２０を封止する構造を有している。

また、有機ＥＬ発光装置１０において、第２電極２３の直上に光学調整層３１が設けられ、第１封止層１３上に透明吸湿剤層３２が設けられている。このため、有機ＥＬ発光装置１０では、第１封止層１３を介して、第２電極２３、光学調整層３１、及び、透明吸湿剤層３２が積層された構成である。すなわち、有機ＥＬ発光装置１０において、発光ユニット２２から放出された光は、第２電極２３を透過した後、光学調整層３１を透過し、さらに、第１封止層１３、透明吸湿剤層３２を透過する構成である。

以下、上述の図１及び図２に示す有機ＥＬ発光装置１０を構成する各構成要素の詳細について説明する。なお、以下の説明は、実施形態の有機ＥＬ発光装置を構成することが可能な構成要素の一例であり、他の構成を適用することも可能である。

［可撓性基材］
可撓性基材１１は、高い光透過性を有していれば、特に制限はない。例えば樹脂基板、樹脂フィルム等が好適に挙げられるが、生産性の観点や軽量性と柔軟性といった性能の観点から透明樹脂フィルムを用いることが好ましい。

可撓性基材１１として使用できる樹脂としては特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、ポリスチレン樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂等が挙げられる。これらの樹脂を単独で使用してもよいし、複数を併用してもよい。また、可撓性基材は、未延伸フィルムでもよいし、延伸フィルムでもよい。

可撓性基材１１は透明性が高いことが好ましい。透明性が高いとは、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１：１９９７（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が５０％以上であることをいい、８０％以上であるとより好ましい。

［ガスバリア層］
可撓性基材１１に設けられるガスバリア層１２は、有機ＥＬ素子２０の劣化をもたらす水分や酸素等素子の浸入を抑制する機能を有すればよい。ガスバリア層１２は、ＪＩＳ Ｋ ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨ）が、０．０１ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下のガスバリア性フィルム（ガスバリア膜等ともいう）であることが好ましい。さらには、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０^−３ｍｌ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、かつ水蒸気透過度が、１×１０^−５ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下であることが好ましい。可撓性基材１１に設けられるガスバリア層１２については特に限定されず、上記のガスバリア性を実現できれば、公知のガスバリア層を適用することができる。

ガスバリア層１２を形成する材料としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の無機材料を用いることができる。また、ガスバリア層１２は、有機物の被膜、又は、無機物と有機物とのハイブリッド被膜から形成されていてもよい。ガスバリア層１２の脆弱性を改良するために、無機材料からなる層と有機材料からなる層との積層構造を持たせる構成も好ましく適用することができる。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。

ガスバリア層１２の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。ガスバリア層の形成には、特開２００４−６８１４３号公報に記載されている大気圧プラズマ重合法を用いることが特に好ましい。

［第１電極・第２電極］
第１電極２１及び第２電極２３は、有機ＥＬ発光装置１０において電気を導通させるための導電性材料を含む層である。第１電極２１及び第２電極２３としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃｒ等の金属薄膜や、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＣｄＯ、ＣｄＩｎ_２Ｏ_４、Ｃｄ_２ＳｎＯ_４、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）、ＩＧＯ、ＩＷＺＯ、ＧＺＯ、ＩＧＺＯ、ＺＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ_ｘ、ＶＯ_ｘ、ＣｕＡｌＯ_２、ＣｕＧａＯ_２、ＳｒＣｕ_２Ｏ_２、ＲｕＯ等の金属酸化物、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＣｕＩ、ＩｎＮ、ＧａＮ、ＬａＢ_６２等の無機化合物が挙げられる。第１電極２１及び第２電極２３には、これらの導電性材料が１種のみ含まれてもよく、２種以上含まれてもよい。

有機ＥＬ発光装置１０においては、透明性と導電性との観点から、第１電極２１に上述の金属酸化物を用い、ＩＺＯ、ＩＧＯ、ＩＷＺＯ、ＧＺＯ、ＩＧＺＯ、ＺｎＯ、及び、ＺＴＯ、から選ばれる１種類以上を含むことが好ましい。

第１電極２１及び第２電極２３として、金属酸化物や無機化合物を用いる場合には、使用する材料の体積抵抗にもよるが、厚さを１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下で形成することが好ましく、さらに１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましい。膜厚が１０ｎｍ未満では金属酸化物や無機化合物が連続膜とならず、所望の導電性が得られない。膜厚が５００ｎｍを超えると、屈曲による割れが発生する場合がある。

また、第２電極２３には、銀を主成分とする金属薄膜を用いることが好ましい。銀を主成分とする金属としては、銀の含有比率が６０ａｔ％（原子％）以上であることをいう。銀の含有比率は、導電性の観点から、好ましくは９０ａｔ％以上であることが好ましく、より好ましくは９５ａｔ％以上、さらに銀単体で構成されていることが好ましい。

銀と組み合わされる金属としては、亜鉛、金、銅、パラジウム、アルミニウム、マンガン、ビスマス、ネオジム、及び、モリブデン等が挙げられる。例えば、銀と亜鉛とが組み合わされると、第１電極２１及び第２電極２３の耐硫化性が高まるため好ましい。また、銀と金とが組み合わされると、耐塩（ＮａＣｌ）性が高まるため好ましい。さらに、銀と銅とが組み合わされると、耐酸化性が高まるため好ましい。

第１電極２１及び第２電極２３として金属薄膜を用いる場合には、厚さが２０ｎｍ以下であることが好ましく、５〜１５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。金属薄膜の厚さを２０ｎｍ以下とすることにより、金属薄膜による反射が生じ難くなる。さらに、金属薄膜の厚さが２０ｎｍ以下であると、光学調整層による光学アドミッタンスが調整しやすく、光の反射の抑制が容易となる。金属薄膜の厚さは、エリプソメーターを用いた測定で求めることができる。
第１電極２１及び第２電極２３は、いずれの方法で作製された層でもよいが、真空蒸着法で形成された層であることが好ましい。真空蒸着法であれば、高温環境に可撓性基材１１をさらすことがなく、平面性の高い第１電極２１及び第２電極２３を、極めて早く形成することができる。第１電極２１及び第２電極２３の作製に適用可能な蒸着法としては、抵抗加熱蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法等が含まれる。また、スパッタ法としては、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＤＣパルススパッタ法、ＲＦ（高周波）スパッタ法、デュアルマグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法、及び対向ターゲットスパッタ法などの、公知のスパッタ法を適宜用いることができる。

[外部接続用の電極]
有機ＥＬ発光装置１０は、第１電極２１及び第２電極２３を封止部材の外部に引き出すために、発光部分に用いる第１電極２１及び第２電極２３とは別に、第１電極２１の取り出し部や、第２電極の取り出し電極２４等の外部接続用の電極を、給電用に有していてもよい。特に、第１電極２１、第２電極２３電極に金属薄膜を用いる場合には、外部接続用の電極を用いることが好ましい。

取り出し部や取り出し電極２４としては、導電性材料を適宜用いることができる。例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃｒ等の金属薄膜や、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＣｄＯ、ＣｄＩｎ_２Ｏ_４、Ｃｄ_２ＳｎＯ_４、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）、ＩＧＯ、ＩＷＺＯ、ＧＺＯ、ＩＧＺＯ、ＺＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯｘ、ＶＯｘ、ＣｕＡｌＯ_２、ＣｕＧａＯ_２、ＳｒＣｕ_２Ｏ_２、ＲｕＯ等の金属酸化物、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＣｕＩ、ＩｎＮ、ＧａＮ、ＬａＢ_６等の無機化合物が挙げられる。さらに、耐湿性を持つという点から、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ等の材料を用いるか、導電性金属酸化物を用いることが好ましい。例えば、金属材料であればＡｌと、Ｍｏの積層体が好ましい。透明性の観点から、導電性金属酸化物を用いることがより好ましい。また、取り出し電極２４においても、第１電極２１及び第２電極２３と同様の透明性を有することが好ましい。

［発光ユニット］
発光ユニット２２は、少なくとも有機化合物を含む発光層を有して構成される発光体である。また、発光ユニット２２は、発光層とともに、正孔輸送層、電子輸送層等の有機機能層を主体として構成される。発光ユニット２２は、第１電極２１と第２電極２３とからなる一対の電極の間に挟持され、各電極から供給される正孔（ホール）と電子とが発光層内で再結合することで発光する。なお、有機ＥＬ素子２０は、所望の発光色に応じて、当該発光ユニットを複数備えていてもよい。

有機ＥＬ素子２０おいて、発光ユニット２２の層構造が限定されることはなく、一般的な層構造であってよい。例えば、第１電極２１がアノード（陽極）として機能し、第２電極２３がカソード（陰極）として機能する場合、発光ユニット２２は、第１電極２１側から順に正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層を積層した構成が例示される。正孔注入層及び正孔輸送層は、正孔輸送注入層として設けられてもよい。電子輸送層及び電子注入層は、電子輸送注入層として設けられてもよい。また、これらの発光ユニット２２のうち、例えば、電子注入層は無機材料で構成されていてもよい。

発光ユニット２２は、これらの層の他にも正孔阻止層や電子阻止層等が必要に応じて必要箇所に積層されていてもよい。さらに、発光層は、各波長領域の発光光を発生させる各色発光層を有し、これらの各色発光層を、非発光性の補助層を介して積層させた構造としてもよい。補助層は、正孔阻止層、電子阻止層として機能してもよい。さらに、カソードである第２電極２３も、必要に応じた積層構造であってもよい。

また、有機ＥＬ素子２０は、少なくとも１層の発光層を含む発光ユニット２２を複数積層した、いわゆるタンデム構造の素子であってもよい。タンデム構造の代表的な素子構成としては、例えば、以下の構成を挙げることができる。
陽極／第１発光ユニット／中間コネクタ層／第２発光ユニット／中間コネクタ層／第３発光ユニット／陰極

ここで、上記第１発光ユニット、第２発光ユニット、及び、第３発光ユニットは全て同じであっても、異なっていてもよい。また、二つの発光ユニットが同じであり、残る一つが異なっていてもよい。複数の発光ユニット２２は、直接積層されていても、中間コネクタ層を介して積層されていてもよい。

中間コネクタ層は、一般的に中間電極、中間導電層、電荷発生層、電子引抜層、接続層、中間絶縁層とも呼ばれ、陽極側の隣接層に電子を、陰極側の隣接層に正孔を供給する機能を持った層であれば、公知の材料構成を用いることができる。

タンデム型有機ＥＬ素子の具体例としては、例えば、米国特許第６３３７４９２号明細書、米国特許第７４２０２０３号明細書、米国特許第７４７３９２３号明細書、米国特許第６８７２４７２号明細書、米国特許第６１０７７３４号明細書、米国特許第６３３７４９２号明細書、国際公開第２００５／００９０８７号、特開２００６−２２８７１２号公報、特開２００６−２４７９１号公報、特開２００６−４９３９３号公報、特開２００６−４９３９４号公報、特開２００６−４９３９６号公報、特開２０１１−９６６７９号公報、特開２００５−３４０１８７号公報、特許第４７１１４２４号公報、特許第３４９６６８１号公報、特許第３８８４５６４号公報、特許第４２１３１６９号公報、特開２０１０−１９２７１９号公報、特開２００９−０７６９２９号公報、特開２００８−０７８４１４号公報、特開２００７−０５９８４８号公報、特開２００３−２７２８６０号公報、特開２００３−０４５６７６号公報、国際公開第２００５／０９４１３０号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられる。

［光学調整層］
光学調整層３１は、第２電極２３の上に設けられている。好ましくは,図１及び図２に示すように、光学調整層３１が第２電極２３に接して設けられる。光学調整層３１は、有機ＥＬ素子２０からの発光を、外部に取出すための層であり、且つ、有機ＥＬ発光装置１０の透明性を高めるための層である。光学調整層３１の成膜範囲としては、有機ＥＬ素子２０の保存性の観点から、第１封止層１３や封止基板１６よりも狭い範囲とすることが好ましい。

光学調整層３１は、第２電極２３の上に配置することにより、上述の金属材料等によって形成された第２電極２３の積層界面での反射や、第２電極２３による吸収、及び、干渉を抑制し、第２電極２３側からの発光光の取り出し効率を向上させることができる。また、第２電極２３の上に配置することにより、有機ＥＬ発光装置１０の透過光への第２電極２３による吸収や干渉による透過率の低下や、透過光の色付きを抑制し、有機ＥＬ発光装置１０の透明性を向上することが可能となる。

第２電極２３の保存性の観点から、第２電極２３の側面及び上面が、光学調整層３１によって完全に覆われていることが好ましい。すなわち、第２電極２３の発光ユニット２２と接していない面が、全て光学調整層３１によって完全に覆われていることが好ましい。このように、第２電極２３の全面が光学調整層３１によって覆われている場合にも、取り出し電極２４と接続することで給電が可能となる。

光学調整層３１は、光透過率を高めるという点から、屈折率が低いほうが好ましい。光学調整層３１の屈折率は、１．７以下であり、１．６以下がより好ましく、１．４以下が最も好ましい。屈折率とは、２５℃の環境下で測定した、波長５５０ｎｍにおける屈折率の値とする。屈折率は、市販のエリプソメーターを用いて測定して求めることができる。

光学調整層３１を構成する材料としては、上記屈折率の関係を満たす適当な屈折率が得られれば特に制限はなく、既存の化合物を利用できる。光学調整層３１を構成する材料 としては、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率１．６）、Ｇａ_２Ｏ_３（屈折率１．５）、ＳｉＯ_２（屈折率１．５）、ＡｌＦ_３（１．４）、ＣａＦ_２（１．２〜１．４）、ＣｅＦ_３（１．６）、ＧｄＦ_３（１．６）、ＬａＦ_３（１．５９）、ＬｉＦ（１．３）、ＭｇＦ_２（１．４）、ＭｇＯ（屈折率１．７）、ＮａＦ（１．３）等を用いることができる。

有機ＥＬ素子２０の第２電極２３上に、ダメージなく成膜できるという点から、真空成膜できる化合物が好ましい。特に、加熱蒸着やＥＢ（電子銃）蒸着できる化合物が好ましい。また、有機ＥＬ素子２０の発光ユニットに適用される材料等の種々の有機化合物やポリマー等を用いることもできる。また、光学調整層３１は、保存後の光透過率が変化しにくいという点から、金属フッ化物であることが好ましい。

光学調整層３１は、所望の光学特性を与えるために１０ｎｍ以上の厚さで形成することが好ましい。また、有機ＥＬ発光装置１０の全体の厚さを抑えることから、光学調整層３１の厚さは、１００ｎｍ以下であることが好ましい。

［第１封止層］
第１封止層１３は、有機ＥＬ素子２０への水蒸気の浸入を防止するために設けられる。なお、第１封止層１３は、透明性が高くで絶縁性の高い無機化合物で構成することが好ましい。

第１封止層１３の材料としては、有機ＥＬ素子の劣化をもたらす例えば水分や酸素等の侵入を抑制することが可能な無機材料を用いる。例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の任意の材料を用いることができる。第１封止層１３は、特性として、水蒸気透過度が約０．０１ｇ／［ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ］以下、好ましくは水蒸気透過度が約０．０００１ｇ／［ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ］以下、抵抗率が１×１０^１２Ω・ｃｍ以上、光線透過率が可視光領域で約８０％以上の、ガスバリア性、絶縁性及び透明性を有することが好ましい。

第１封止層１３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法等の手法を用いることができる。

第１封止層１３の厚さは、条件に応じて適宜設定されるが、１００〜１０００ｎｍが好ましい。１００ｎｍよりも薄すぎると、パーティクルなどによる第１封止層１３のピンホールが発生しやすくなる。一方、第１封止層１３の膜厚が１０００ｎｍよりも厚すぎると、生産効率の低下や、有機ＥＬ発光装置１０の耐屈曲性が低下する。また、第１封止層１３の膜厚が厚すぎると、第１封止層１３の成膜が長期間に及ぶため、成膜時の蓄熱により可撓性基材１１が変形する場合もある。なお、第１封止層１３の厚さは、有機ＥＬ素子２０上面（第２電極２３上）に形成されている部分の層の厚さとする。有機ＥＬ素子２０の側面には、有機ＥＬ素子２０上面と同程度の厚さで第１封止層１３が形成されていることが好ましい。

［透明吸湿剤層］
透明吸湿剤層３２は、吸湿性化合物を含んで構成される。例えば、吸湿性化合物のみによる構成や、粒子状の吸湿性化合物や吸湿性化合物を含む粒子を、バインダー樹脂中に分散させた構成が挙げられる。また、透明吸湿剤層３２としては、シート状の透明吸湿剤層３２を用いることができる。支持体上にバインダー樹脂と吸湿性化合物とを含有する透明吸湿剤層３２が形成されたシート状透明吸湿剤層を用いることもできる。

吸湿性化合物は、水分の吸着機能を有する化合物であれば特に限定することなく用いることができる。吸湿性化合物としは、化学的に水分を吸着することが可能であり、水分を吸着した後でも、固体状態を維持する化合物であることが好ましい。

透明吸湿剤層３２に用いられる吸湿性化合物としては、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケル等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、ヨウ化バリウム、ヨウ化マグネシウム等）、過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられる。また、金属アルコキシドを用いることもできる。例えば、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド、マグネシウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドなどを用いることができる。また、多孔質の吸湿剤を用いることも出来る。たとえばナノポーラスシリカ及びゼオライトが挙げられる。上記ナノポーラスシリカやゼオライトは、構造中に孔を有し、この孔に水分子をトラップすることにより、吸湿作用を示す。また、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。また、吸湿性を有するシリカ粉末、モレキュラーシーブ粉末等も吸湿性化合物として用いることができる。

吸湿性化合物としては、アルカリ土類金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物、アルカリ金属の酸化物、及び、無機多孔質材料から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。さらに、これらから選ばれる１種以上の吸湿性化合物を含む吸湿性粒子や、これらから選ばれる１種以上の吸湿性化合物の粒子を用いることが好ましい。透明吸湿剤層３２に金属化合物や無機多孔質材料を用いる場合には透明性を確保するために、平均粒径が１００ｎｍ以下で用いることが好ましい。

透明吸湿剤層３２に適用されるバインダー樹脂としては、吸湿剤成分が水分吸着作用を阻害しないことが好ましく、気体透過性の高い材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系、ポリアクリル系、ポリアクリロニトリル系、ポリアミド系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリカーボネーオ系、フッ素系等の高分子材料を挙げることできる。透明吸湿剤層３２が吸湿性化合物とバインダー樹脂とからなる場合には、透明吸湿剤層３２が、吸湿性化合物を９５〜６０質量％、バインダー樹脂を５〜４０質量％含むことが好ましい。

また、透明吸湿剤層３２を用いることで、有機ＥＬ素子１０において、接着剤層１４による封止基板１６の接合力が高められる。これは、第１封止層１３を構成する無機材料等に比べ、透明吸湿剤層３２を構成する材料 は、接着剤層１４との親和性が高く、透明吸湿剤層３２との接合力が向上するためと考えられる。このように、透明吸湿剤層３２と接着剤層１４とが直に接するように有機ＥＬ発光装置１０を構成することにより、接着剤層１４による接合力を高めることができる。このため、可撓性基材１１を用いた有機ＥＬ発光装置１０においても、長期間経過後の接着剤層１４の劣化等による、封止基板１６の剥がれを抑制することができ、有機ＥＬ発光装置１０の信頼性を向上させることができる。

［接着剤層］
接着剤層１４は、第２封止層１５を有する封止基板１６を可撓性基材１１側に固定するとともに、有機ＥＬ素子２０や透明吸湿剤層３２等を封止するためのシール剤として用いられる。有機ＥＬ発光装置１０において、接着剤層１４は可撓性基材１１や封止基板１６と同様に透明であることが好ましい。

接着剤層１４としては、従来公知の有機ＥＬ素子の封止に用いられる樹脂を適用することができる。例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を用いることができる。また、接着剤層１４としては、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を用いることができることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを用いることができることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることができることができる。

接着剤層１４の塗布は、市販のディスペンサーを用いてスクリーン印刷のように封止基板に印刷してもよい。なお、有機ＥＬ素子２０の発光ユニット２２を構成する有機材料は、熱処理により劣化する場合がある。このため、接着剤層１４は、室温（２５℃）から８０℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、接着剤層１４中に乾燥剤を分散させておいてもよい。

［封止基板］
封止基板１６は、有機ＥＬ発光装置１０において有機ＥＬ素子２０を封止する第１封止層１３を上方から覆うフィルム状の部材であって、接着剤層１４によって可撓性基材１１側に固定されている。また、封止基板１６は、フィルム状に限られる板状等の形態であってもよい。

なお、上述の実施形態の有機ＥＬ発光装置１０に用いられている可撓性基材１１と封止基板１６とは、それぞれ同じ構成が適用されていてもよく、それぞれ異なる構成が適用されていてもよい。但し、有機ＥＬ発光装置１０においては、可撓性基材１１と封止基板１６とが共に透明性が高いことが好ましい。

［第２封止層］
封止基板１６上に設けられる第２封止層１５としては、上述の可撓性基材１１に設けられるガスバリア層１２と同様の構成を適用することができる。第２封止層１５としては、上述のガスバリア層１２と同様に、ＪＩＳ Ｋ ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨ）が、０．０１ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下のガスバリア性フィルム（ガスバリア膜等ともいう）であることが好ましい。さらには、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０^−３ｍｌ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、かつ水蒸気透過度が、１×１０^−５ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下であることが好ましい。

［反射防止層］
図示していないが、可撓性基材１１や封止基板１６の外側には、反射防止層が設けられていることが好ましい。有機ＥＬ発光装置１０の可撓性基材１１及び封止基板１６の外側、すなわち、有機ＥＬ発光装置１０の最外層に反射防止層を有することにより、有機ＥＬ発光装置１０の表面における反射を抑制することができ、有機ＥＬ発光装置１０の透明性が向上する。

反射防止層としては、光学干渉を利用して反射光強度を低減させる光学フィルムや、モスアイ構造を有する光学フィルム等の反射防止（Anti-Reflection；ＡＲ）フィルムを用いることができる。なお、ここで言う反射防止フィルムには、ハードコート樹脂中に粒子を入れ、表面に形成した凹凸を利用した反射光の散乱と、ハードコート樹脂と粒子の屈折率の差による内部散乱を利用することで映り込みを防止する、ＡＧ（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ）フィルムは含まれない。ＡＧフィルムは、反射光の散乱によるコントラストの低下と、透過光の散乱による光透過率の低下という欠点を持つことから、本実施形態の透明な有機ＥＬ発光装置１０への適用は好ましくない。

ＡＲフィルムにおける光学干渉層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数及び層順等を考慮して積層されていることが好ましい。光学干渉層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、又は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される光学干渉層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。また、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の光反射防止層も好ましく用いられる。

ＡＲフィルムとしては、モスアイ構造を有する光学フィルムであることが好ましい。モスアイ（蛾の目）構造を有する光学フィルムとしては、例えば特開２０１５−５２７２４等に記載の構成を適用することができる。モスアイ構造を有する光学フィルムは、基材表面に１００〜数百ｎｍ程度の周期で、規則的に配列させた円錐状の微小突起を有する国勢である。モスアイ構造を有する光学フィルムは、連続的に屈折率が変化するような構造となるため、フレネル反射を防止することができる。モスアイ構造を有する光学フィルムは、例えば、アルミニウムの陽極酸化を応用する方法、イオンビーム加工、型押しプレス、ラビング他、様々な方法を用いて作製することができる。基材の材料は、形成するモスアイ構造の材料と屈折率が近いことが好ましく、ＰＥＴやＴＡＣなどが用いられる。

〈２．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第２実施形態）〉
次に、有機ＥＬ発光装置の第２実施形態について説明する。第２実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を図３及び図４に示す。図３及び図４は、有機ＥＬ発光装置１０Ａのそれぞれ異なる断面を示す図である。なお、以下の説明においては、上述の第１実施形態と同様の構成については、同じ符号を付して説明を省略する。

図３及び図４に示す有機ＥＬ発光装置１０Ａは、光学調整層３１が、第１光学調整層３１Ａと第２光学調整層３１Ｂとから構成されている。有機ＥＬ発光装置１０Ａは、光学調整層３１が２層構成であることを除き、上述の図１及び図２に示す有機ＥＬ発光装置１０と同様の構成である。このため、以下の説明では、光学調整層３１以外の構成については説明を省略する。

有機ＥＬ発光装置１０Ａは、図３及び図４に示す第１光学調整層３１Ａと第２光学調整層３１Ｂとのように、光学調整層３１として複数の層を有する構成を適用することができる。光学調整層３１としては、有機ＥＬ発光装置１０Ａの透明性や有機ＥＬ素子２０からの光取り出し効率等の光学的な作用を有していれば、構成する層の数や層の種類等特に限定されない。特に、有機ＥＬ発光装置１０Ａの透明性を高めることができるように、光学調整層３１の積層構成を設計することが好ましい。

図３及び図４に示す有機ＥＬ発光装置１０Ａでは、光学調整層３１として、有機ＥＬ素子２０の第２電極２３上に設けられる第２光学調整層３１Ｂと、光学調整層３１の上面側に配置される第１光学調整層３１Ａとを有している。また、図３に示すように、第２電極２３側に設けられる第２光学調整層３１Ｂが、第２電極２３の全面を覆う。そして、図４に示すように、第２電極２３の側面及び上面から、第２電極２３と取り出し電極２４との接合部分までが、第２光学調整層３１Ｂによって覆われている。

第１光学調整層３１Ａ及び第２光学調整層３１Ｂは、有機ＥＬ発光装置１０Ａの透明性を向上させるため、及び、有機ＥＬ素子２０からの光取り出し効率を向上させるため設けられている。光学調整層３１にこれらの光学的な作用を持たせるためには、第１光学調整層３１Ａの屈折率を低くし、第２光学調整層３１Ｂの屈折率を高くすることが好ましい。

具体的には、第１光学調整層３１Ａの屈折率を、１．７以下とすることが好ましい。さらに、第１光学調整層３１Ａの屈折率は、１．６以下が好ましく、１．４以下がより好ましい。そして、第２光学調整層３１Ｂの屈折率を１．６以上とすることが好ましい。さらに第２光学調整層３１Ｂの屈折率は２．０以上がより好ましく、２．３以上が最も好ましい。特に、光学調整層３１において光取り出し効率を向上が向上させるために、積層された第１光学調整層３１Ａと第２光学調整層３１Ｂとにおいて、第１光学調整層３１Ａよりも第２光学調整層３１Ｂの屈折率が高いことが好ましい。

第１光学調整層３１Ａには、上述の第１実施形態の光学調整層と同様の材料、及び、製法を適用することができる。第２光学調整層３１Ｂには、上述の第１実施形態の光学調整層と同様の製法を適用することもできる。また、第２光学調整層３１Ｂを構成する材料 としては、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３（屈折率１．６）、ＣｅＦ_３（１．６）、ＣｅＯ_３（屈折率２．２）、ＧｄＦ_３（１．６）、ＨｆＯ_２（屈折率２．０）、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物、屈折率２．１）、インジウム亜鉛酸化物（屈折率２．１）、ＭｇＯ（屈折率１．７）、Ｎｂ_２Ｏ_５（屈折率２．３）、Ｔａ_２Ｏ_５（屈折率２．２）、ＴｉＯ_２（屈折率２．３〜２．５）、Ｙ_２Ｏ_３（屈折率１．９）、ＺｎＯ（屈折率２．１）、ＺｒＯ_２（屈折率２．１）等を用いることができる。第２光学調整層３１Ｂには、上述の第１実施形態の光学調整層と同様の材料を適用することもできる。

また、第２光学調整層３１Ｂは、５ｎｍ以下の厚さを有することが好ましい。これは、第２光学調整層３１Ｂの厚さが小さい程、すなわち第１光学調整層３１Ａと第２電極２３との距離が小さい程、有機ＥＬ発光装置１０Ａの光透過率が高くなるためである。また、成膜性の観点から、第２光学調整層３１Ｂは、１ｎｍ以上の厚さを有することが好ましい。

第２電極２３が金属薄膜である場合には、第２光学調整層３１Ｂとして、第２電極２３による反射や、表面プラズモン共鳴等を抑制することが可能な材料を用いることが好ましい。このような材料としては、保存後の光透過率が変化しにくいという点から、硫黄原子を有する有機化合物（硫黄含有化合物）、及び、窒素原子を有する有機化合物（窒素含有化合物）が挙げられる。

第２光学調整層３１Ｂに適用可能な窒素含有化合物の具体例としては、例えば、特開２０１５−０６０７２８号公報等に記載の窒素含有化合物を挙げることができる。

第２光学調整層３１Ｂに適用可能な硫黄含有化合物の具体例としては、例えば、特開２０１５−０６０７２８号公報等に記載の硫黄含有化合物を挙げることができる。

〈３．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（第３実施形態）〉
次に、有機ＥＬ発光装置の第３実施形態について説明する。第３実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を図５及び図６に示す。図５及び図６は、有機ＥＬ発光装置１０Ｂのそれぞれ異なる断面を示す図である。なお、以下の説明においては、上述の第１実施形態及び第２実施形態と同様の構成については、同じ符号を付して説明を省略する。

図５及び図６に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｂは、第１封止層１３と透明吸湿剤層３２との間に、封止部材が設けられていることを除き、上述の図３及び図４に示す第２実施形態の有機ＥＬ発光装置１０Ａと同様の構成である。このため、以下の説明では、第１封止層１３と透明吸湿剤層３２、及び、この間に設けられる封止部材以外の構成については説明を省略する。

有機ＥＬ発光装置１０Ｂは、第１封止層１３上に、第２接着剤層３４を介して、第３封止層３５を有する第２封止基板３６が設けられ、さらに、第２封止基板３６上に透明吸湿剤層３２が配置されている。第２封止基板３６は、第３封止層３５が形成されている面を第１封止層１３側に向けて、第２接着剤層３４によって第１封止層１３上に貼り合わされている。

第２封止基板３６は、上述の封止基板１６（以下、第１封止基板１６）と同様の構成を適用できる。第３封止層３５は、第２封止層１５と同様の構成を適用することができる。第２接着剤層３４は、接着剤層１４（以下、第１接着剤層１４）と同様の構成を適用できる。

有機ＥＬ発光装置１０Ｂにおいては、第３封止層３５を有する第２封止基板３６を配置することにより、有機ＥＬ素子２０に対する封止性が高まる。特に、第１封止層１３と透明吸湿剤層３２との間に第３封止層３５を配置することにより、透明吸湿剤層３２から第１封止層１３への水分の侵入を、第３封止層３５で抑制することができる。このため、有機ＥＬ素子２０に対する水分の影響が抑制され、有機ＥＬ発光装置１０Ｂの信頼性が向上する。

上述の有機ＥＬ発光装置１０Ｂのように、第１封止層１３と透明吸湿剤層３２との間に、他の層を設ける構成も可能である。第１封止層１３と透明吸湿剤層３２との間には、上述の第３封止層３５や第２封止基板３６等の封止部材だけでなく、この封止部材とともに他の層が設けられていてもよい。また、上述の封止部材を設けられずに、他の層のみが設けられていてもよい。第１封止層１３と透明吸湿剤層３２との間には、第２封止基板３６や第２接着剤層３４を設けずに、第３封止層３５のみが設けられる構成であってもよい。

〈４．透明有機エレクトロルミネッセンス発光装置の実施形態（４実施形態）〉
次に、有機ＥＬ発光装置の第４実施形態について説明する。第４実施形態の有機ＥＬ発光装置の構成を図７及び図８に示す。図７及び図８は、有機ＥＬ発光装置１０Ｃのそれぞれ異なる断面を示す図である。なお、以下の説明においては、上述の第１実施形態、第２実施形態、及び、第３実施形態と同様の構成については、同じ符号を付して説明を省略する。

図７及び図８に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｃは、上述の図５及び図６に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｂの構成とともに、第４封止層３８を有する第２可撓性基材３７を有する。有機ＥＬ発光装置１０Ｃにおいて、第１可撓性基材１１から透明吸湿剤層３２までの積層構造は、上述の図５及び図６に示す第３実施形態の有機ＥＬ発光装置１０Ｂと同様の構成である。図７及び図８に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｃは、第１接着剤層１４Ｃ、第２封止層１５及び第１封止基板１６の構成が、図５及び図６に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｂにおける第１接着剤層１４、第２封止層１５及び第１封止基板１６の構成と異なる。

図７に示す有機ＥＬ発光装置１０Ｃは、可撓性基材１１（以下、第１可撓性基材１１）から、有機ＥＬ素子２０、光学調整層３１、第１封止層１３、第２接着剤層３４、第２封止基板３６、透明吸湿剤層３２までの構成が、第１接着剤層１４Ｃ内に配置されている。さらに、第２可撓性基材３７の第４封止層３８と、第１可撓性基材１１との間にも第１接着剤層１４Ｃが設けられている。このため、第１可撓性基材１１から透明吸湿剤層３２までの積層構造は、全面が第１接着剤層１４Ｃによって覆われている。

また、図８に示すように、有機ＥＬ素子２０の第１電極２１には、導電性接着剤２５を介して、第１導電性部材２６が接続されている。さらに、第２電極２３の取り出し電極２４には、導電性接着剤２７を介して、第２導電性部材２８が接続されている。有機ＥＬ発光装置１０Ｃが、第１電極２１又は第２電極２３と電気的に接続する第１導電性部材２６及び第２導電性部材２８を有することにより、有機ＥＬ素子２０の第１電極２１及び第２電極２３を、第１接着剤層１４Ｃの外部に導出することができる。このように、可撓性基材１１に引出された第１電極２１及び取り出し電極２４が、第１接着剤層１４Ｃによって覆われている場合にも、第１導電性部材２６及び第２導電性部材２８を接続することで、有機ＥＬ素子２０に給電が可能となる。

また、第２可撓性基材３７は、第４封止層３８を内側（第１可撓性基材１１側）に向けて配置されている。そして、第２可撓性基材３７と第１封止基板１６とが、それぞれ第４封止層３８と第２封止層１５とを向き合わせて第１接着剤層１４Ｃによって貼り合わされている。

第２可撓性基材３７は、上述の第１可撓性基材１１と同様の構成を適用できる。第４封止層３８は、ガスバリア層１２や第２封止層１５と同様の構成を適用することができる。第１接着剤層１４Ｃは、上述の図１及び図２に示す第１実施形態の第１接着剤層１４と同様の構成を適用できる。

有機ＥＬ発光装置１０Ｃにおいては、第４封止層３８を有する第２可撓性基材３７を配置することにより、有機ＥＬ素子２０に対する封止性が高まる。特に、有機ＥＬ素子２０の下面側（第１可撓性基材１１側）においてガスバリア層１２と第４封止層３８とが積層されるため、有機ＥＬ素子２０の下面側からの水分の侵入をさらに抑制することができる。従って、有機ＥＬ素子２０に対する水分の影響が抑制されるため、有機ＥＬ発光装置１０Ｃの信頼性が向上する。

また、有機ＥＬ発光装置１０Ｃでは、第１可撓性基材１１と、第４封止層３８を有する第２可撓性基材３７との間に、接着剤層１４Ｃが設けられている。この構成は、例えば、第４封止層３８上に接着剤層１４Ｃを形成し、接着剤層１４Ｃ及び第４封止層３８を有する第２可撓性基材３７を、第１可撓性基材１１に貼り合せることで形成することができる。このように、第２可撓性基材３７を接着剤層１４Ｃで貼り合わせる工程によって有機ＥＬ発光装置１０Ｃを作製することができるため、製造工程の複雑化を抑制することができる。

［導電性部材］
第１導電性部材２６及び第２導電性部材２８は、抵抗値が低く薄膜の部材であれば特に制限はなく、例えば、アルミニウム箔、圧延銅箔、銀箔、金箔等の金属箔を加工したビニル被服導線等が挙げられる。金属箔を加工したビニル被服導線としては、ポリエチレンテレフタラート樹脂をラミネートしたアルミ箔、銅箔にポリイミド樹脂を貼り付けた銅張ポリイミドフィルム等が挙げられる。さらに、銅張ポリイミドフィルムにパターニングや切り抜き加工等をして駆動回路を実装したフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）等を用いることができる。

［導電性接着剤］
導電性接着剤２５としては、異方性導電性フィルム、及び、バインダー中に金属微粒子や、金属コートされた微粒子を含む導電性ペースト等の流動性材料を用いることができる。

金属微粒子としては、金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、亜鉛、スズ、鉄等を有する微粒子が挙げられる。これらの金属は単体で用いられてもよいし、合金として用いてもよいし、化合物として用いてもよい。また、金属粒子をさらに金属メッキして用いてもよい。金属コートされた微粒子としては、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、スチレン−シリカ複合樹脂、シリカ、ガラス、セラミック等が、金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、亜鉛等の金属で被覆された微粒子が挙げられる。金属微粒子や金属コートされた微粒子の粒径は、５ｎｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上３０μｍ以下がさらに好ましく、１００ｎｍ以上１０μｍ以下が最も好ましい。

異方性導電フィルムとしては、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス社製のＡＣＦや、日立化成製のＡＮＩＳＯＬＭ等が挙げられる。また、金属ペーストとして、藤倉化成製のドータイト、株式会社ニラコ社製の銀導電性接着剤、ヘンケルジャパン社製導電性Ｈｙｓｏｌダイアタッチ等が挙げられる。

実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。

〈試料１０１の有機ＥＬ発光装置の作製〉
［ガスバリア層付き可撓性基材の準備］
可撓性基材として、両面を表面活性化処理した、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製のルミラー（登録商標）Ｕ４８）を準備した。そして、この可撓性基材の一方の面に、下記の方法で有機帯電防止剤を含む帯電防止層を形成した。

（帯電防止層（有機帯電防止剤）の作製）
下記の方法に従って調整したコロイダルシリカ含有単量体を用いて、有機帯電防止剤（帯電防止ハードコート剤）を調整した。そして、この有機帯電防止剤を用いて帯電防止層を形成した。

（コロイダルシリカ含有単量体の調整）
溶媒として酢酸エチルを用いて分散したコロイダルシリカ（ＳｉＯ_２成分３０質量％、平均粒子径２０ｎｍ、日産化学（株）製）１３０質量部に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）（分子量１５５、昭和電工（株）製）３０質量部と、触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫（ＤＢＴＤＬ）０．１質量部を加えて、室温（２５℃）で２４時間撹拌した。撹拌後、赤外分光法によりイソシアネート基の反応の確認を行い、エバボレーターで溶媒である酢酸エチルを除去して、コロイダルシリカ含有単量体を得た。

（帯電防止ハードコート剤の調整）
上記で製造したコロイダルシリカ含有単量体（不揮発分：３６質量％）の１００質量部に、Ｌｉ＋／ＣＦ３ＳＯ３−のメチルエチルケトン溶液（不揮発分：５０質量％、三光化学工業（株）製）の５質量部を混合して撹拌した。開始剤としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦジャパン社製）を１質量部加え、有機帯電防止剤である帯電防止ハードコート剤を調製した。

（帯電防止層の形成）
次に、可撓性基材上に、調製した有機帯電防止剤を硬化後の厚さが１０μｍとなる条件で、塗布及び乾燥した。この後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯を用い、３００ｍＪの条件で紫外線照射処理を行い、帯電防止層を形成した。

（下地層の作製）
次に、可撓性基材のもう一方の面に厚さ２μｍの下地層を形成した。具体的には、ＵＶ硬化型樹脂オプスター（登録商標）Ｚ７５２７（ＪＳＲ社製）を、乾燥後の厚さが２μｍとなるように塗布した。塗膜を８０℃で乾燥した後、大気下で高圧水銀ランプを用いて照射エネルギー量が０．５Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射する硬化処理を施した。

（ガスバリア層の作製）
下地層を形成した可撓性基材を１２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさで切り出し、下地層上に、ケイ素含有ポリマー改質層を、以下のようにして形成した。

無触媒のパーヒドロポリシラザンの２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカＮＮ１２０−２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）と、アミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン）を固形分の５質量％含有するパーヒドロポリシラザン２０質量％ジブチルエーテル溶液（アクアミカＮＡＸ１２０−２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）とを、４：１の割合で混合し、更に厚さの調整のためにジブチルエーテルで適宜希釈して、塗布液を調製した。

下地層上に調整した塗布液をダイコーターで乾燥後の厚さが１００ｎｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥した。次に、乾燥した塗膜に対して、波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプ（エキシマランプ光強度：１３０ｍＷ／ｃｍ^２）を有する真空紫外線照射装置（試料の塗布層表面とエキシマランプ管面との最短距離が３ｍｍ）を用い、真空紫外線の照射エネルギー量（照射量）２．５Ｊ／ｃｍ^２で真空紫外線照射処理を行った。この際、照射雰囲気は窒素で置換し、酸素濃度は０．１体積％とした。また、試料を設置するステージ温度を８０℃とした。

続いて、厚さ３００ｎｍのケイ素化合物層をプラズマＣＶＤ法によりそれぞれ形成した。ケイ素化合物層の成膜条件は、以下のとおりである。

原料ガス（ヘキサメチルジシロキサン：ＨＭＤＳＯ）の供給量：５０ｓｃｃｍ（Standard Cubic Centimeter per Minute）
酸素ガス（Ｏ_２）の供給量：５００ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の真空度：３Ｐａ
プラズマ発生用電源からの印加電力：１．２ｋＷ
プラズマ発生用電源の周波数：８０ｋＨｚ
フィルムの搬送速度：０．５ｍ／ｍｉｎ

さらに、プラズマＣＶＤ法によって作製したケイ素化合物層上に、ケイ素含有ポリマー改質層を上記と同様にして３００ｎｍの膜厚で作製した。
以上の方法により、ガスバリア層付き可撓性基材を作製した。

［第１電極（陽極）及び外部接続用の電極の作製］
市販のスパッタ装置に、Ｉｎ_２Ｏ_３：ＺｎＯ（９０質量％：１０質量％）のターゲットを取り付け、以下の条件にて、厚さ２５０ｎｍのＩＺＯからなる第１電極（陽極）と、第１電極の外部接続用の電極と、第２電極の外部接続用の電極を形成した。なお、第１電極の取り出し部としては、第１電極から延長した形状に取出し部を作製した。また、第１電極と離れた位置で第２電極と接続可能な位置に、第２電極用の取り出し電極を作製した。
全圧：０．４ＭＰａ
アルゴン流量：９９ｓｃｃｍ
酸素流量：１ｓｃｃｍ
出力：５Ｗ／ｃｍ^２

［発光ユニットの作製］
作製した第１電極上に、以下のようにして、発光ユニットを作製した。
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を、それぞれ素子作製に最適の量を充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。

真空度１×１０^−４Ｐａまで減圧した後、下記化合物Ｍ−２の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で第１電極上に蒸着し、厚さ４０ｎｍの正孔注入輸送層を形成した。

次に、下記化合物ＢＤ−１及び下記化合物Ｈ−１を、化合物ＢＤ−１が５％の濃度になるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの青色発光を呈する蛍光発光層を形成した。

次に、下記化合物ＧＤ−１、下記化合物ＲＤ−１及び下記化合物Ｈ−２を、化合物ＧＤ−１が１７％、化合物ＲＤ−１が０．８％の濃度になるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの黄色を呈するリン光発光層を形成した。

その後、下記化合物ＥＴ−１を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で蒸着し、厚さ３０ｎｍの電子輸送層を形成した。

さらに、ＬｉＦを厚さ１．５ｎｍにて電子注入層を形成した後に、アルミニウム０．６ｎｍを蒸着した。

［第２電極（陰極）の作製］
続いて、発光ユニット上に、銀を蒸着速度０．３ｎｍ／秒で８ｎｍ蒸着し、第２電極（陰極）とした。

［光学調整層の作製］
第２電極上に、電子銃蒸着用のるつぼにセットしておいたフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）を、電子銃を用いて蒸着し、厚さ４５ｎｍの第１光学調整層を形成した。蒸着速度は、約１ｎｍ／ｓｅｃとした。

［第１封止層の作製］
以下の条件で、窒化ケイ素膜をデポアップ方式のプラズマＣＶＤ成膜装置によって成膜し、第１封止層を形成した。窒化ケイ素膜の膜厚は、３００ｎｍとした。

窒化ケイ素膜は、基材に対面するように設けられた電極と、この電極にプラズマ励起電力を供給する高周波電源と、基材を保持する保持部材に対してバイアス電力を供給するバイアス電源と、電極に向けてキャリアガスや原料ガスを供給するガス供給手段と、を備えたプラズマＣＶＤ成膜装置で成膜した。
成膜ガスは、シランガス（ＳｉＨ_４）、アンモニアガス（ＮＨ_３）、窒素ガス（Ｎ_２）及び水素ガス（Ｈ_２）を用いた。これらのガスの供給量は、シランガスが１００ｓｃｃｍ、アンモニアガスが２００ｓｃｃｍ、窒素ガスが５００ｓｃｃｍ、水素ガスが５００ｓｃｃｍとした。
また、成膜圧力は、５０Ｐａとした。
電極には、高周波電源から周波数１３．５ＭＨｚで３０００Ｗのプラズマ励起電力を供給した。さらに、保持部材には、バイアス電源から５００Ｗのバイアス電力を供給した。

［第２封止層付き封止基板の貼り合せ］
（接着剤組成物の調製）
ポリイソブチレン系樹脂として「オパノールＢ５０（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：３４万）」１００質量部、ポリブテン樹脂として「日石ポリブテン グレードＨＶ−１９００（新日本石油社製、Ｍｗ：１９００）」３０質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ７６５（ＢＡＳＦ・ジャパン製、３級のヒンダードアミン基を有する）」０．５質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤として「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＡＳＦ・ジャパン製、ヒンダードフェノール基のβ位が二つともターシャリーブチル基を有する）」０．５質量部、及び、環状オレフィン系重合体として「Ｅａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１００Ｌ Ｒｅｓｉｎ（イーストマンケミカル．Ｃｏ．製）」５０質量部を、トルエンに溶解し、固形分濃度約２５質量％の接着剤組成物を調製した。

（封止基板の作製）
上述の方法で作製したガスバリア層付き可撓性基材と同じものを用意し、このガスバリア層付き可撓性基材を第２封止層付き封止基板とした。次に、調製した上記接着剤組成物の溶液を乾燥後に形成される接着剤層の厚さが２０μｍとなるように封止基板の第２封止層（ガスバリア層）側となる表面に塗工し、１２０℃で２分間乾燥させて接着剤層を形成した。次に、形成した接着剤層に対して、剥離シートとして、厚さ３８μｍの剥離処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面を貼付して、封止基板を作製した。

上述の方法で作製した封止基板を、窒素雰囲気下２４時間以上放置した。
放置後、剥離シートを除去し、８０℃に加熱した真空ラミネーターで有機発光素子の第２電極を覆う形でラミネートした。更に、１２０℃で３０分加熱し封止し、有機ＥＬ発光装置１０１を作製した。

〈試料１０２の有機ＥＬ発光装置の作製〉
ＭｇＦ_２の替わりに下記の方法で有機化合物Ａを用いて厚さ４５ｎｍの光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０１と同様の方法で試料１０２の有機ＥＬ発光装置を作製した。
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼに、下記の有機化合物Ａを充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。真空度１×１０^−４Ｐａまで減圧した後、有機化合物Ａの入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で第２電極上に蒸着し、厚さ４５ｎｍの光学調整層を作製した。

〈試料１０３の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第１封止層上に下記の方法で透明吸湿剤層を作製し、この透明吸湿剤層上から第２封止層付き封止基板を貼り付けた以外は、上述の試料１０１と同様の方法で試料１０３の有機ＥＬ発光装置を作製した。すなわち、試料１０３の有機ＥＬ発光装置は、発光ユニット上において「第２電極／第１光学調整層／第１封止層／透明吸湿剤層」の順に積層され、有機ＥＬ素子とともに、第１光学調整層が第１封止層によって覆われ、第１封止層上に透明吸湿剤層を備える構成である。

［透明吸湿剤層（金属アルコキシド）の作製］
アルコキシアルミニウムを含む乾燥剤として、ＯｌｅＤｒｙ−Ｌ３（双葉電子社製）を厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製のルミラー（登録商標）Ｕ４８）上に膜厚１０μｍで塗布及び乾燥し、透明吸湿剤層付きの基板を作製した。そして、この透明吸湿剤層付きの基板を、透明吸湿剤層が第１封止層側となるように張り合わせた。

〈試料１０４の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第１光学調整層上に、上述の試料１０３と同様の方法で透明吸湿剤層を形成した後、上述の試料１０１と同様の方法で第１封止層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１０４の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１０５の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第２電極上に、上述の試料１０３と同様の方法で透明吸湿剤層を形成した後、上述の試料１０１と同様の方法で第１光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１０５の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１０６の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第１光学調整層の作製にＣａＦ_２を用いた以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１０６の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１０７の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上記有機化合物Ａを用いて上述の試料１０２と同様の方法で第１光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１０７の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１０８の有機ＥＬ発光装置の作製〉
透明吸湿剤層を、下記の方法で形成した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１０８の有機ＥＬ発光装置を作製した。

［透明吸湿剤層（ＢａＯ）の作製］
酸化バリウムＢａＯ（平均粒径は、５０〜８０ｎｍ）１００質量と、エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン９質量と、無水エタノール４００質量部とを混合し、分散させた。ここに、エポキシアクリレート（ＥＸＳ７４−１６、東亜合成株式会社製）２７００質量部を加え、塗布液とした。さらに、この塗布液を厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製のルミラー（登録商標）Ｕ４８）上に膜厚１０μｍで塗布及び乾燥し、透明吸湿剤層付基板を作製した。そして、この透明吸湿剤層付基板を、透明吸湿剤層側が有機ＥＬ層側となるように、第１封止層上に貼り合せた。

〈試料１０９の有機ＥＬ発光装置の作製〉
透明吸湿剤層を、上述の試料１０８と同様の方法で形成した以外は、上述の試料１０７と同様の方法で試料１０９の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１１０の有機ＥＬ発光装置の作製〉
下記の方法で、第２電極上に第２光学調整層を作製し、この第２光学調整層上に第１光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１１０の有機ＥＬ発光装置を作製した。

［第２光学調整層（ＴＰＤ）の作製］
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼに、下記のＴＰＤ（トリフェニルジアミン）を充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。真空度１×１０^−４Ｐａまで減圧した後、ＴＰＤの入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で第２電極上に蒸着し、厚さ４５ｎｍの第２光学調整層を作製した。

〈試料１１１の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第２光学調整層を上述の試料１１０と同様の方法で形成した以外は、上述の試料１０８と同様の方法で試料１１１の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１１２の有機ＥＬ発光装置の作製〉
下記の方法で、第２電極上に第２光学調整層を作製し、この第２光学調整層上に第１光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１１２の有機ＥＬ発光装置を作製した。

［第２光学調整層（窒素化合物）の作製］
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼに、下記の窒素化合物を充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。真空度１×１０^−４Ｐａまで減圧した後、窒素化合物の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で第２電極上に蒸着し、厚さ４５ｎｍの第２光学調整層を作製した。

〈試料１１３の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第２光学調整層を上述の試料１１２と同様の方法で形成した以外は、上述の試料１０８と同様の方法で試料１１３の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料１１４の有機ＥＬ発光装置の作製〉
下記の方法で、第２電極上に第２光学調整層を作製し、この第２光学調整層上に第１光学調整層を作製した以外は、上述の試料１０３と同様の方法で試料１１４の有機ＥＬ発光装置を作製した。

［第２光学調整層（酸化ニオブ）の作製］
第２電極上に、電子銃蒸着用のるつぼにセットしておいた酸化ニオブ（ＮｂＯ）を、電子銃を用いて蒸着し、厚さ４５ｎｍの第２光学調整層を形成した。蒸着速度は、約１ｎｍ／ｓｅｃとした。

〈試料１１５の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第２光学調整層を上述の試料１１４と同様の方法で形成した以外は、上述の試料１０８と同様の方法で試料１１５の有機ＥＬ発光装置を作製した。

下記表１に、上述の試料１０１〜１１５の有機ＥＬ発光装置における、発光ユニット上から接着剤層までの積層構成を示す。

〈評価方法〉
作製した試料１０１〜１１５の有機ＥＬ発光装置に対し、下記の評価を行なった。

作製した各有機ＥＬ発光装置の全光線透過率（％）を、日本電色工業株式会社製ＮＤＨ７０００を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７３６１準拠して測定した。各有機ＥＬ発光装置の評価は、試料１０１の有機ＥＬ発光装置の透過率を１００とする相対値によって評価した。

［保存後の発光面積の残存率・透過率変化・発光均一性］
作製した各有機ＥＬ発光装置について、市販のデジタルマイクロスコープを用いて発光画像を記録し、発光面積を測定した。次に、各有機ＥＬ発光装置を、６０℃９０％の環境で２００時間保管した後に、同様に全光線透過率と、発光画像、発光面積を測定した。そして、保管前後での有機ＥＬ発光装置の全光線透過率の変化、及び、発光面積の残存率を求めた。
また、記録した発光画像を目視で比較し、保存後の有機ＥＬ発光装置の発光均一性を以下の基準で評価した。
Ａ：発光の均一性に変化が見られない
Ｂ：わずかにムラの発生などが見られるが実用上影響ない
Ｃ：ややムラの発生があるが、実用上影響がない
Ｄ：ムラの発生が大きく、実用上大きく影響がある。

［保存後の密着性］
各有機ＥＬ発光装置を、６０℃９０％の環境で２００時間保管した後に、直径１００ｍｍの円筒に、可撓性基材を内側にして巻きつけ、元に戻し、可撓性基材を外側にして巻きつけた。巻きつけの動作を、内側１０回、外側１０回繰り返したのち、可撓性基材と、封止基板の剥がれを確認した。
Ａ：剥がれは見られない
Ｂ：発光にかからない周囲部に剥がれが見られた
Ｃ：発光部にも剥がれが見られた
Ｄ：完全に剥離した

上記試料１０１〜１１５の有機ＥＬ発光装置の主要な構成、透過率、及び、保存後の透過率変化、発光面積の残存率、発光均一性、密着性の評価結果を表２に示す。

表２に示すように、透明吸湿剤層を有していない試料１０１、試料１０２は、保存後の発光面積の残存率、透過率の変化、及び、発光均一性が、透明吸湿剤層を有する他の試料よりも低い。
さらに、透明吸湿剤層が第１封止層内に配置されている試料１０４、試料１０５は、第１封止層上に透明吸湿剤層が配置されている試料１０３、試料１０６〜１１５よりも、保存後の発光面積の残存率、透過率の変化、及び、発光均一性が、低下している。この結果から、有機ＥＬ発光装置において、第１封止層の外部に透明吸湿剤層を設けることにより、有機ＥＬ発光装置の信頼性が向上することがわかる。

第２電極の直上に光学調整層が配置されていない試料１０５は、第２電極の直上に光学調整層が配置されている試料１０３、試料１０４に比べて透過率が僅かに低い。これは、第２電極の直上に光学調整層が配置されることにより、金属薄膜によって形成された第２電極の吸収や干渉による透過率の低下を抑制できたためと考えられる。従って、第２電極の直上に光学調整層を配置することにより、有機ＥＬ発光装置の透明性を向上させることができる。

さらに、透明吸湿剤層を有していない試料１０１、試料１０２や、吸湿剤層と接着剤層とが接していない試料１０４、試料１０５は、吸湿剤層と接着剤層とが直に接している他の試料に比べて、密着性の評価が低い。この結果から、接着剤層を、第１封止層を構成する無機材料よりも、吸湿剤層に貼り合わせた方が、接着剤層の接合力が向上し、封止基板の剥離が抑制されることがわかる。従って、吸湿剤層と接着剤層とが直に接している構成とすることにより、有機ＥＬ発光装置の信頼性が向上する。

同じ層構成を有し、光学調整層及び透明吸湿剤層を構成する材料が異なる試料１０３、試料１０６〜１０９では、いずれも同等の結果が得られている。このため、光学調整層及び透明吸湿剤層には、種々の材料を適用することができる。

また、第２光学調整層を有する試料１１０〜１１５は、第２光学調整層を有していない試料１０１〜１０９に比べて、透過率が良好である。従って、第２電極の直上に金属薄膜を安定化させる窒素化合物や屈折率の高い酸化ニオブ等を設けることにより、有機ＥＬ発光装置の透明性が向上する。

〈試料２０１の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１０３の有機ＥＬ発光装置において、透明吸湿剤層上に、下記の方法で第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２０１の有機ＥＬ発光装置を作製した。

［第３封止層付き第２封止基板の貼り合せ］
上述の試料１０１において作製したガスバリア層付き可撓性基材を準備し、これを第３封止層付き第２封止基板とした。そして、試料１０１において調整した接着剤組成物を用いて、乾燥後の厚さが２０μｍとなるように第３封止層側に塗工し、１２０℃で２分間乾燥させて第２接着剤層を形成した。以下、上述の試料１０１における第２封止層付き封止基板の貼り合せと同様の方法で、透明吸湿剤層上に第３封止層付き第２封止基板を貼り合せた。さらに、上述の試料１０１と同様に、第２封止基板上から接着剤層を用いて第２封止層付き封止基板を貼り合せて有機ＥＬ発光装置を封止した。

〈試料２０２の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１０８の有機ＥＬ発光装置において、上述の試料２０１と同様の方法で、第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２０２の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２０３の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第４封止層を有する第２可撓性基材を準備し、上述の試料２０１の有機ＥＬ発光装置の可撓性基材側に、接着剤層を用いて第４封止層側を貼り合せて、試料２０３の有機ＥＬ発光装置を作製した。なお、第４封止層を有する第２可撓性基材及び接着剤層は、上述の試料１０１のガスバリア層付き可撓性基材及び接着剤層と同じものを用いた。

〈試料２０４の有機ＥＬ発光装置の作製〉
第４封止層を有する第２可撓性基材を準備し、上述の試料２０２の有機ＥＬ発光装置の可撓性基材側に、接着剤層を用いて第４封止層側を貼り合せて、試料２０４の有機ＥＬ発光装置を作製した。なお、第４封止層を有する第２可撓性基材及び接着剤層は、上述の試料１０１のガスバリア層付き可撓性基材及び接着剤層と同じものを用いた。

〈試料２０５の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１０の有機ＥＬ発光装置において、透明吸湿剤層上に、上述の試料２０１と同様の方法で第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２０５の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２０６の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１１の有機ＥＬ発光装置において、透明吸湿剤層上に、上述の試料２０２と同様の方法で第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２０６の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２０７の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１０の有機ＥＬ発光装置に、上述の試料２０３と同様の方法で第４封止層を有する第２可撓性基材を貼り合せ、試料２０７の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２０８の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１１の有機ＥＬ発光装置に、上述の試料２０４と同様の方法で第４封止層を有する第２可撓性基材を貼り合せ、試料２０８の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２０９の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１２の有機ＥＬ発光装置において、透明吸湿剤層上に、上述の試料２０１と同様の方法で第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２０９の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２１０の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１３の有機ＥＬ発光装置において、透明吸湿剤層上に、上述の試料２０２と同様の方法で第２接着剤層、第３封止層、及び、第２封止基板を形成し、試料２１０の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２１１の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１２の有機ＥＬ発光装置に、上述の試料２０３と同様の方法で第４封止層を有する第２可撓性基材を貼り合せ、試料２１１の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料２１２の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料１１３の有機ＥＬ発光装置に、上述の試料２０４と同様の方法で第４封止層を有する第２可撓性基材を貼り合せ、試料２１２の有機ＥＬ発光装置を作製した。

下記表３に、上述の試料２０１〜２１２の有機ＥＬ発光装置における主要な積層構成を示す。また、下記表４に、作製した試料２０１〜２１２の有機ＥＬ発光装置の主要な構成、及び、各有機ＥＬ発光装置に対して行なった、上述の実施例１と同様の評価の結果を示す。

表４に示すように、第３封止層を有する第２封止基板を備える試料２０１〜２１２の有機ＥＬ発光装置では、上述の実施例１の各試料比べて、保存後の評価が良好である。なかでも、第４封止層を有する第２可撓性基材を備える試料２０３，２０４，２０７，２０８，２１１，２１２は、第２可撓性基材を備えない試料２０１，２０２，２０５，２０６，２０９，２１０に比べて、保存後の発光面積の残存率が良好である。また、第２光学調整層を有する試料２０５〜２１２は、第２光学調整層を有していない試料２０１〜１０４に比べて、透過率が良好である。従って、第３封止層や第４封止層を有する構成においても、第２光学調整層を設けることにより、有機ＥＬ発光装置の透明性が向上する。
保存後の発光均一性は、第２可撓性基材を備えない試料２０１，２０２，２０５，２０６，２０９，２１０の方が、第２可撓性基材を備える試料２０３，２０４，２０７，２０８，２１１，２１２よりも、良好である。この結果から、有機ＥＬ素子を封止する封止層や基板の数が増える程、発光面積の残存率が高くなるものの、有機ＥＬ発光装置の積層数が増えるため、透過率が低下しやすくなると考えられる。

〈試料３０１の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料２１１の有機ＥＬ発光装置において、第２可撓性基材の裏面側（第４封止層と反対側）に、感圧接着層の両面粘着テープ（日東電工（株）製、商品名ＨＪ−９１５０Ｗ）を用い、反射防止フィルムとして積層塗布型ＡＲフィルム（東レ（株）製、商品名ルミクリア）を張り合わせて、試料３０１の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料３０２の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料２１２の有機ＥＬ発光装置において、第２可撓性基材の裏面側（第４封止層と反対側）に、感圧接着層の両面粘着テープ（日東電工（株）製、商品名ＨＪ−９１５０Ｗ）を用い、反射防止フィルムとして積層塗布型ＡＲフィルム（東レ（株）製、商品名ルミクリア）を張り合わせて、試料３０２の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料３０３の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料２１１の有機ＥＬ発光装置において、第２可撓性基材の裏面側（第４封止層と反対側）に、感圧接着層の両面粘着テープ（日東電工（株）製、商品名ＨＪ−９１５０Ｗ）を用い、反射防止フィルムとしてモスアイ構造のＡＲフィルム（三菱レイヨン（株）製 商品名モスマイトＴＭ）を張り合わせて、試料３０３の有機ＥＬ発光装置を作製した。

〈試料３０４の有機ＥＬ発光装置の作製〉
上述の試料２１２の有機ＥＬ発光装置において、第２可撓性基材の裏面側（第４封止層と反対側）に、感圧接着層の両面粘着テープ（日東電工（株）製、商品名ＨＪ−９１５０Ｗ）を用い、反射防止フィルムとしてモスアイ構造のＡＲフィルム（三菱レイヨン（株）製 商品名モスマイトＴＭ）を張り合わせて、試料３０４の有機ＥＬ発光装置を作製した

下記表５に、上述の試料３０１〜３０４の有機ＥＬ発光装置における主要な積層構成を示す。また、下記表６に、作製した試料３０１〜３０４の有機ＥＬ発光装置の主要な構成、及び、各有機ＥＬ発光装置に対して行なった、上述の実施例１と同様の評価の結果を示す。

表６に示すように、有機ＥＬ発光装置には、反射防止フィルム等の光学部材を適用することも可能である。反射防止フィルム等の光学部材を適用することにより、有機ＥＬ発光装置の透過率が向上する。このような光学部材の適用は、有機ＥＬ発光装置のいずれの面であっても効果を有すると考えられ、有機ＥＬ発光装置の一方の面、又は、両面に光学部材を適用することにより、有機ＥＬ発光装置の透過率や光取り出し効率を高めることができると考えられる。

なお、本発明は上述の実施形態例において説明した構成に限定されるものではなく、その他本発明構成を逸脱しない範囲において種々の変形、変更が可能である。

１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ 有機ＥＬ発光装置、１１ 可撓性基材（第１可撓性基材）、１２ ガスバリア層、１３ 第１封止層、１４，１４Ｃ 接着剤層（第１接着剤層）、１５ 第２封止層、１６ 封止基板（第１封止基板）、２０ 有機ＥＬ素子、２１ 第１電極、２２ 発光ユニット、２３ 第２電極、３０ 透明導電部材、３１ 光学調整層、３１Ａ 第１光学調整層、３１Ｂ 第２光学調整層、３２ 透明吸湿剤層、３４ 第２接着剤層、３５ 第３封止層、３６ 第２封止基板、３７ 第２可撓性基材、３８ 第４封止層

Claims (9)

1. 可撓性基材と、
   前記可撓性基材上に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、
   前記有機エレクトロルミネッセンス素子上に設けられた光学調整層と、
   前記可撓性基材上において、前記有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、前記光学調整層を封止する第１封止層と、
   前記第１封止層上に設けられた透明吸湿剤層と、
   前記透明吸湿剤層、及び、前記第１封止層を封止する第２封止層と、を備える
   有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
2. 前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、可撓性基材上に設けられた第１電極と、前記第１電極上に設けられた発光ユニットと、前記発光ユニット上に設けられた第２電極とからなり、前記光学調整層が、前記第２電極に接して形成されている請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
3. 前記第２電極が金属薄膜である請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
4. 前記光学調整層として、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７以下の層を含む請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
5. 前記光学調整層として、前記第２電極と接する層に、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６以上の層を有する請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
6. 前記第１封止層と前記透明吸湿剤層との間に、第３封止層を備える請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
7. 第４封止層を備え、前記可撓性基材が前記第４封止層上に設けられ、前記第２封止層と前記第４封止層とによって、前記可撓性基材、前記第１封止層、及び、前記透明吸湿剤層が封止される請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
8. 前記第２電極の側面及び上面が、前記光学調整層によって完全に覆われている請求項２ に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。
9. 前記第２封止層が、接着剤層によって前記吸湿剤層上に貼り合わされている請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光装置。

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