JP2017191161A - 液晶表示画面保護シート - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる液晶表示画面保護シートを提供する。【解決手段】液晶表示画面保護シート1は、基体3と、基体3の液晶表示画面2と反対側の表面に形成された保護被覆層4と、基体3の液晶表示画面2側の表面に形成された反射被覆層5とを備える。反射被覆層5は、50〜70nmのTi3O5膜6aと、85〜105nmのSiO2膜7と、130〜150nmのZrO2膜6bとからなる。【選択図】 図1
Description
本発明は、液晶表示画面保護シートに関する。
従来、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ等の液晶表示画面を擦過による傷つきや、衝撃による破損等から保護する液晶表示画面保護シートが知られている。
前記液晶表示画面保護シートは、例えば、化学強化ガラスを基体とするものであり、前記液晶表示画面に貼付されて用いられる。このとき、前記基体自体に防汚性、耐擦性、耐傷性等を付与するために、前記液晶表示画面と反対側の表面にダイアモンドライクドカーボン(以下、DLCと略記することがある)層を設けることが考えられる。
一方、スマートフォンの場合、利便性、ファッション性のための付加価値としてバックライトを消灯したときに、前記液晶表示画面に添付された前記液晶表示画面保護シートを鏡面として使用することが望まれている。そこで、前記基体の前記液晶表示画面側の表面に鏡面層を備える液晶表示画面保護シートが知られている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、前記従来の液晶表示画面保護シートでは、鏡面としての性能が十分に得られないという不都合がある。
本発明は、かかる不都合を解消して、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる液晶表示画面保護シートを提供することを目的とする。
かかる目的を達成するために、本発明は、液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備える。
ここで、本発明の第1の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜と、該SiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備えるZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第1の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を15〜25%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、本発明の第2の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され105〜125nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され1〜15nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第2の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を25〜35%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、本発明の第3の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第3の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を35〜45%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、本発明の第4の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜と、該SiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第4の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を15〜25%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、本発明の第5の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され120〜140nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され75〜95nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され55〜75nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜と、該第2のZrO2膜上に形成され75〜95nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され55〜75nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第5の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を25〜35%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、本発明の第6の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜と、該第2のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とからなることを特徴とする。
本発明の第6の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を35〜45%の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。
図1に示すように、本実施形態の第1の形態の液晶表示画面保護シート1は、液晶表示装置としてのスマートフォンの液晶表示画面2に貼付して用いられ、化学強化ガラスからなる基体3の液晶表示画面2と反対側の表面にDLCからなる保護被覆層4を備え、液晶表示画面2側の表面に反射被覆層5を備えている。
基体3は、例えば、厚さ0.2〜0.4mmの範囲の市販の化学強化ガラスを用いることができる。また、保護被覆層4は、アセチレン等の炭化水素ガスを原料とするプラズマCVD法等の公知の方法により、基体3の表面に厚さ10〜30nmの範囲のDLC膜を形成することにより得ることができる。
反射被覆層5は、例えば、基体3の表面に、より屈折率の大きな大屈折率金属酸化物と、該大屈折率金属酸化物より屈折率の小さな小屈折率金属酸化物とを交互に積層することにより形成される。前記大屈折率金属酸化物としてはTi3O5、ZrO2を挙げることができ、前記小屈折率金属酸化物としてはSiO2を挙げることができる。
図1に示す液晶表示画面保護シート1では、反射被覆層5は、例えば、基体3の表面に形成された大屈折率金属酸化物層6aと、大屈折率金属酸化物層6a上に形成された小屈折率金属酸化物層7と、小屈折率金属酸化物層7上に形成された大屈折率金属酸化物層6bとの3層からなるものとすることができる。
ここで、液晶表示画面保護シート1は、反射被覆層5の大屈折率金属酸化物層6aをTi3O5膜又はZrO2膜とし、小屈折率金属酸化物層7をSiO2膜とし、大屈折率金属酸化物層6bをZrO2膜とし、各層の膜厚を調整することにより、液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
また、反射被覆層5は、例えば、図2に液晶表示画面保護シート11として示すように、大屈折率金属酸化物層6a、小屈折率金属酸化物層7a、大屈折率金属酸化物層6b、小屈折率金属酸化物層7b、大屈折率金属酸化物層6cからなる5層構造としてもよい(以下、大屈折率金属酸化物層6a,6b,6cを「大屈折率金属酸化物層6」に代表させて示すことがあり、小屈折率金属酸化物層7a,7bを「小屈折率金属酸化物層7」に代表させて示すことがある)。尚、図2では図1と同一の構成には同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
ここで、液晶表示画面保護シート11は、反射被覆層5の大屈折率金属酸化物層6aをZrO2膜とし、小屈折率金属酸化物層7aをSiO2膜とし、大屈折率金属酸化物層6bをTi3O5膜又はZrO2膜とし、小屈折率金属酸化物層7bをSiO2膜とし、大屈折率金属酸化物層6cをZrO2膜とし、各層の膜厚を調整することにより、液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
さらに、液晶表示画面保護シート1,11は、液晶表示画面2側の最外層に光学透明(OCA)両面シート8を備えており、OCA両面シート8を介して液晶表示画面2に、貼付される。OCA両面シート8としては、市販のものを用いることができる。
大屈折率金属酸化物層6と小屈折率金属酸化物層7とは、それぞれ図3に示す真空蒸着装置21を用いて形成することができる。
真空蒸着装置21は、イオンアシスト真空蒸着を行う装置であり、内部を排気可能とした真空チャンバ22の底部に、電子銃23a,23b、イオン銃24を備えている。電子銃23a,23b、イオン銃24は、その上方にシャッタ25a,25b,25cを備えており、シャッタ25a,25b,25cは水平方向にスライドすることにより電子銃23a,23b、イオン銃24の上方を選択的に遮蔽することができる。
真空チャンバ22の上部には、基板ドーム26と、上下に90°の角度で揺動自在とされた補正板27とが備えられており、基板ドーム26は真空チャンバ22の外部に設けられたモータ28により回転駆動される。さらに、真空チャンバ22はその天面に図示しないヒータを備えている。
真空蒸着装置21によれば、例えば、真空チャンバ22内部を3.0×10−3Pa程度の真空とし、図示しないヒータにより例えば300℃程度の高温に加熱した状態で電子銃23a,23bから金属酸化物分子を放射する。また、真空蒸着装置21によれば、真空チャンバ22内部を前記真空とし、前記ヒータにより例えば70℃程度に加熱した状態で電子銃23a,23bから金属酸化物分子を放射することもできる。
このとき、例えば、電子銃23aからはSiO2、電子銃23bからはTi3O5又は、ZrO2を放射する。一方、イオン銃24からは、酸素又はアルゴンのイオンが放射される。
前記金属酸化物分子は、イオン銃24から放射されるイオンに補助されて、上方に向かい、補正板27に案内されて、基板ドーム26の内面に配設された基体3(図示せず)の表面に堆積され、大屈折率金属酸化物層6又は小屈折率金属酸化物層7を形成する。このとき、電子銃23a,23bに配設されたシャッタ25a,25bにより、電子銃23a又は電子銃23bの上方を選択的に遮蔽することにより、基体3の表面に大屈折率金属酸化物層6又は小屈折率金属酸化物層7のいずれか一方を堆積させることができる。また、堆積させる時間を調整することにより、大屈折率金属酸化物層6又は小屈折率金属酸化物層7を所望の膜厚とすることができる。
そこで、反射被覆層5は、大屈折率金属酸化物層6と小屈折率金属酸化物層7との材料、膜厚を変えることにより、その反射率を15〜45%の範囲で調整することができ、液晶表示画面保護シート1,11が液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を付与することができる。
次に、本実施形態の液晶表示画面保護シート1,11における反射被覆層5の具体的な構成について説明する。
まず、図1に示す液晶表示画面保護シート1において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、50〜70nmの範囲、好ましくは55〜65nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7を、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜とし、該SiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、130〜150nmの範囲、好ましくは135〜145nmの範囲の厚さを備えるZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを60nmの厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7を94nmの厚さを備えるSiO2膜とし、該SiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを141nmの厚さを備えるZrO2膜とする。
また、図1に示す液晶表示画面保護シート1において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、60〜80nmの範囲、好ましくは65〜75nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7を、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜とし、該SiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、130〜150nmの範囲、好ましくは135〜145nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを71nmの厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7を95nmの厚さを備えるSiO2膜とし、該SiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを142nmの厚さを備える第2のZrO2膜とする。
図1に示す液晶表示画面保護シート1は、前記いずれかの構成により、反射被覆層5の反射率を15〜25%の範囲とすることができ、液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
次に、図2に示す液晶表示画面保護シート11において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、130〜150nmの範囲、好ましくは135〜145nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、50〜70nmの範囲、好ましくは55〜65nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを、105〜125nmの範囲、好ましくは110〜120nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを、1〜15nmの範囲、好ましくは5〜10nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを141nmの厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを95nmの厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを60nmの厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを114nmの厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを7nmの厚さを備える第2のZrO2膜とする。
また、図2に示す液晶表示画面保護シート11において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、120〜140nmの範囲、好ましくは125〜135nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを、75〜95nmの範囲、好ましくは80〜90nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、55〜75nmの範囲、好ましくは60〜70nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とし、該第2のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを、75〜95nmの範囲、好ましくは80〜90nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを、55〜75nmの範囲、好ましくは60〜70nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを128nmの厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを86nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを64nmの厚さを備える第2のZrO2膜とし、該第2のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを86nmの厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを64nmの厚さを備える第3のZrO2膜とする。
図2に示す液晶表示画面保護シート11は、前記いずれかの構成により、反射被覆層5の反射率を25〜35%の範囲とすることができ、液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
次に、図2に示す液晶表示画面保護シート11において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、60〜80nmの範囲、好ましくは65〜75nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、50〜70nmの範囲、好ましくは55〜65nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを、130〜150nmの範囲、好ましくは135〜145nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを70nmの厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを94nmの厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを60nmの厚さを備えるTi3O5膜とし、該Ti3O5膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを94nmの厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを141nmの厚さを備える第2のZrO2膜とする。
また、図2に示す液晶表示画面保護シート11において、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを、60〜80nmの範囲、好ましくは65〜75nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを、60〜80nmの範囲、好ましくは65〜75nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とし、該第2のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを、85〜105nmの範囲、好ましくは90〜100nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを、130〜150nmの範囲、好ましくは135〜145nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とすることができる。
このとき、さらに具体的には、反射被覆層5は、基体3上に形成される大屈折率金属酸化物層6aを70nmの厚さを備える第1のZrO2膜とし、該第1のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7aを94nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜とし、該第1のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6bを70nmの厚さを備える第2のZrO2膜とし、該第2のZrO2膜上に形成される小屈折率金属酸化物層7bを94nmの厚さを備える第2のSiO2膜とし、該第2のSiO2膜上に形成される大屈折率金属酸化物層6cを140nmの厚さを備える第3のZrO2膜とする。
図2に示す液晶表示画面保護シート11は、前記いずれかの構成により、反射被覆層5の反射率を35〜45%の範囲とすることができ、液晶表示画面2に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
1,11…液晶表示画面保護シート、 2…液晶表示画面、 3…基体、 4…保護被覆層、 5…反射被覆層、 6…大屈折率金属酸化物層、 7…小屈折率金属酸化物層。
Claims (6)
- 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜と、該SiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備えるZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。 - 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され105〜125nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され1〜15nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。 - 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され50〜70nmの範囲の厚さを備えるTi3O5膜と、該Ti3O5膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。 - 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備えるSiO2膜と、該SiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。 - 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され120〜140nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され75〜95nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され55〜75nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜と、該第2のZrO2膜上に形成され75〜95nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され55〜75nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。 - 液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第1のZrO2膜と、該第1のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第1のSiO2膜と、該第1のSiO2膜上に形成され60〜80nmの範囲の厚さを備える第2のZrO2膜と、該第2のZrO2膜上に形成され85〜105nmの範囲の厚さを備える第2のSiO2膜と、該第2のSiO2膜上に形成され130〜150nmの範囲の厚さを備える第3のZrO2膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016079409A JP2017191161A (ja) | 2016-04-12 | 2016-04-12 | 液晶表示画面保護シート |
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JP2016079409A JP2017191161A (ja) | 2016-04-12 | 2016-04-12 | 液晶表示画面保護シート |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE112018004267T5 (de) | 2017-09-29 | 2020-05-07 | Isuzu Motors Limited | Kühlsystem |
TWI723840B (zh) * | 2020-04-09 | 2021-04-01 | 郡宏光電股份有限公司 | 單向透視抗強光隔熱膜及單向透視抗強光隔熱玻璃 |
-
2016
- 2016-04-12 JP JP2016079409A patent/JP2017191161A/ja active Pending
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TWI723840B (zh) * | 2020-04-09 | 2021-04-01 | 郡宏光電股份有限公司 | 單向透視抗強光隔熱膜及單向透視抗強光隔熱玻璃 |
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