JP2017187653A - Optical waveguide cladding material, optical waveguide cladding layer-forming resin film, and optical waveguide - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光導波路クラッド材、該光導波路クラッド材を用いた光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム、及び該光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを用いた光導波路に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide clad material, an optical waveguide clad layer forming resin film using the optical waveguide clad material, and an optical waveguide using the optical waveguide clad layer forming resin film.
近年、電子素子間及び配線基板間の高速及び高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では信号の相互干渉及び減衰が障壁となり、高速及び高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため、電子素子間及び配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インタコネクションが検討されている。光の伝送路としては、加工が容易であり、低コストであり、さらに配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能であるという観点から、ポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態としては、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂基板上に作製するタイプ、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられる。
In recent years, in high-speed and high-density signal transmission between electronic elements and between wiring boards, signal interference and attenuation become barriers in conventional transmission using electric wiring, and the limits of high-speed and high-density have begun to appear. In order to overcome this problem, a technique for connecting electronic elements and wiring boards with light, so-called optical interconnection, has been studied. As an optical transmission line, polymer optical waveguides are attracting attention from the viewpoints of easy processing, low cost, high degree of freedom in wiring, and high density.
As a form of the polymer optical waveguide, a type produced on a glass epoxy resin substrate assuming application to an opto-electric hybrid board, and a flexible type not including a hard support substrate assuming connection between boards are considered suitable.
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境及び部品実装等の観点から、透明性(低光伝搬損失)と共に高耐熱性も要求される。また、光配線設計の自由度向上、デバイスの高機能化、工程簡略化等の要求に従い、露光及び現像により要求されるパターンを自由に形成可能な材料であることが望まれている。現像方法としては、溶剤現像型とアルカリ現像型が想定されるが、環境負荷及び安全性の観点から、アルカリ現像型が望まれている。
このような要望に対応する光導波路材として、(メタ)アクリル重合体を使用したもの(例えば、特許文献1参照)が知られている。特許文献1に記載の(メタ)アクリル重合体を使用した光導波路用樹脂組成物は、アルカリ現像可能で有り、波長850nmにおいて0.3dB/cmの光伝搬損失を有するが、求められる光による高速及び高密度信号伝送において、この数値は必ずしも充分ではない。
Polymer optical waveguides are required to have high heat resistance as well as transparency (low light propagation loss) from the viewpoint of the environment in which the equipment is used and component mounting. In addition, a material that can freely form a pattern required by exposure and development is desired in accordance with demands such as improvement in the degree of freedom of optical wiring design, enhancement of device functionality, and simplification of processes. As a developing method, a solvent developing type and an alkali developing type are assumed, but an alkali developing type is desired from the viewpoint of environmental load and safety.
As an optical waveguide material corresponding to such a demand, one using a (meth) acrylic polymer (for example, see Patent Document 1) is known. The resin composition for an optical waveguide using the (meth) acrylic polymer described in Patent Document 1 is alkali-developable and has a light propagation loss of 0.3 dB / cm at a wavelength of 850 nm. And in high density signal transmission, this number is not always sufficient.
そこで、本発明者等は、次のクラッド層とコアパターンとを有する光導波路を開発した(特許文献2参照)。
つまり、第1のクラッド層と、
光信号の光路を形成する前記第1のクラッド層に積層されたコアパターンと、を備え、
前記コアパターンは、前記光路の方向に伸びるコア周面と前記コア周面の内側に形成されたコア本体とを有し、
前記コア周面は、前記第1のクラッド層に接触した接触コア周面と前記接触コア周面以外の非接触コア周面とを有し、
前記コア本体には、前記コア本体のうち前記非接触コア周面から所定の範囲の非接触面近傍コア領域と、前記コア本体のうち前記非接触面近傍コア領域以外のコア中央領域とが有り、
前記非接触面近傍コア領域の屈折率は、前記コア中央領域の屈折率より小さい、光導波路である。
該特許文献2の光導波路により、光伝搬損失のさらなる低減が達成された。
Therefore, the present inventors have developed an optical waveguide having the following cladding layer and core pattern (see Patent Document 2).
That is, the first cladding layer,
A core pattern laminated on the first cladding layer that forms an optical path of an optical signal, and
The core pattern has a core peripheral surface extending in the direction of the optical path and a core body formed inside the core peripheral surface,
The core peripheral surface has a contact core peripheral surface in contact with the first cladding layer and a non-contact core peripheral surface other than the contact core peripheral surface,
The core body has a core region near the non-contact surface within a predetermined range from the peripheral surface of the non-contact core in the core body, and a core central region other than the core region near the non-contact surface in the core body. ,
The refractive index of the core region near the non-contact surface is an optical waveguide that is smaller than the refractive index of the core central region.
With the optical waveguide of Patent Document 2, further reduction of light propagation loss was achieved.
しかしながら、コアパターンの構造が与える光伝搬損失への影響は把握しきれないというのが実情であり、光伝搬損失をさらに低減し得るコアパターンを有する光導波路のさらなる開発が切望されている。
そこで、本発明の課題は、工業的な製造が簡便であり、かつ光伝搬損失の小さい光導波路を提供すること、並びに、該光導波路を製造し得る光導波路クラッド材及び該光導波路クラッド材を用いた光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを提供することにある。
However, the actual situation is that the influence of the core pattern structure on the optical propagation loss cannot be grasped, and further development of an optical waveguide having a core pattern that can further reduce the optical propagation loss is desired.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical waveguide that is easy to manufacture industrially and has a small light propagation loss, and an optical waveguide cladding material that can manufacture the optical waveguide, and the optical waveguide cladding material. The object is to provide a resin film for forming an optical waveguide clad layer used.
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、(A)酸性置換基を有するポリマーと、(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と、(C)重合開始剤と、を含有し、該(B)成分が特定の構造単位を有するポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有する光導波路クラッド材、及び該光導波路クラッド材を用いた光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムであれば、前記課題を解決し得ることを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have (A) a polymer having an acidic substituent, (B) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups, (C) a polymerization initiator, And a resin film for forming an optical waveguide clad layer using the optical waveguide clad material, wherein the component (B) contains a polyalkylene glycol di (meth) acrylate having a specific structural unit If it exists, it discovered that the said subject could be solved and came to this invention.
即ち、本発明は、下記[1]〜[17]に関するものである。
[1](A)酸性置換基を有するポリマーと、(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と、(C)重合開始剤と、を含有し、
(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、(B1)ポリエチレングリコールに由来する構造単位を有するポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有する、光導波路クラッド材。
[2]前記(B1)成分が、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリ(エチレンプロピレン)グリコールジ(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1種である、上記[1]に記載の光導波路クラッド材。
[3]前記(B1)成分の重量平均分子量が170〜4,000である、上記[1]又は[2]に記載の光導波路クラッド材。
[4]前記(B)成分が、さらに、(B2)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物(但し、(B1)成分は除く。)を含有する、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の光導波路クラッド材。
[5]前記(B)成分の含有量が、前記(A)成分と前記(B)成分の総量100質量部に対して20〜70質量部である、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の光導波路クラッド材。
[6]前記(B)成分中、前記(B1)成分の含有量が、(B)成分の総量100質量部に対して30〜100質量部である、上記[1]〜[5]のいずれかに記載の光導波路クラッド材。
[7](C)重合開始剤が、光ラジカル重合開始剤である、上記[1]〜[6]のいずれかに記載の光導波路クラッド材。
[8]さらに、(D)熱硬化性樹脂を含有する、上記[1]〜[7]のいずれかに記載の光導波路クラッド材。
[9](D)熱硬化性樹脂が、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物、及び分子内にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記[8]に記載の光導波路クラッド材。
[10]上記[1]〜[9]のいずれかに記載の光導波路クラッド材を含有する、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム。
[11]基材フィルムと、上記[1]〜[9]のいずれかに記載の光導波路クラッド材を含有する樹脂層と、保護フィルムとを有する、上記[10]に記載の光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム。
[12]コア部と、上記[10]又は[11]に記載の光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを用いて形成したクラッド層とを有する、光導波路。
[13]コア部において、コア部を形成するコア材に、クラッド層を形成するクラッド材が混入して形成されてなる部位を有する、上記[12]に記載の光導波路。
[14]コア部において、前記コア材に前記クラッド材が混入して形成されてなる部位が10〜90体積%を占める、上記[13]に記載の光導波路。
[15]コア部において、前記コア材に前記クラッド材が混入して形成されてなる部位が40〜90体積%を占める、上記[13]又は[14]に記載の光導波路。
[16]クラッド層において、クラッド層を形成するクラッド材に、コア部を形成するコア材が混入して形成されてなる部位を有する、上記[12]〜[15]のいずれかに記載の光導波路。
[17]波長850nmにおける光伝搬損失が0.25dB/cm以下である、上記[12]〜[16]のいずれかに記載の光導波路。
That is, the present invention relates to the following [1] to [17].
[1] containing (A) a polymer having an acidic substituent, (B) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups, and (C) a polymerization initiator,
(B) An optical waveguide cladding material in which the polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups contains (B1) polyalkylene glycol di (meth) acrylate having a structural unit derived from polyethylene glycol.
[2] The light beam according to [1], wherein the component (B1) is at least one selected from the group consisting of polyethylene glycol di (meth) acrylate and poly (ethylenepropylene) glycol di (meth) acrylate. Waveguide clad material.
[3] The optical waveguide cladding material according to the above [1] or [2], wherein the component (B1) has a weight average molecular weight of 170 to 4,000.
[4] The above-mentioned [1] to [B], wherein the component (B) further contains (B2) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups (excluding the component (B1)). 3] The optical waveguide cladding material according to any one of [3].
[5] Any of [1] to [4] above, wherein the content of the component (B) is 20 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B). An optical waveguide cladding material according to any one of the above.
[6] Any of [1] to [5] above, wherein the content of the component (B1) in the component (B) is 30 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the component (B). An optical waveguide cladding material according to any one of the above.
[7] The optical waveguide cladding material according to any one of [1] to [6], wherein (C) the polymerization initiator is a photo radical polymerization initiator.
[8] The optical waveguide cladding material according to any one of [1] to [7], further comprising (D) a thermosetting resin.
[9] (D) The thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of a compound having two or more epoxy groups in the molecule and a compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in the molecule. The optical waveguide cladding material according to [8] above.
[10] A resin film for forming an optical waveguide cladding layer, comprising the optical waveguide cladding material according to any one of [1] to [9].
[11] The optical waveguide cladding layer according to [10], including a base film, a resin layer containing the optical waveguide cladding material according to any one of [1] to [9], and a protective film. Forming resin film.
[12] An optical waveguide having a core and a clad layer formed using the optical waveguide clad layer-forming resin film according to [10] or [11].
[13] The optical waveguide according to [12], wherein the core portion has a portion formed by mixing a core material forming the core portion with a cladding material forming the cladding layer.
[14] The optical waveguide according to [13], wherein the core portion includes 10 to 90% by volume of a portion formed by mixing the cladding material with the core material.
[15] The optical waveguide according to [13] or [14], wherein in the core portion, a portion formed by mixing the clad material with the core material occupies 40 to 90% by volume.
[16] The optical device according to any one of [12] to [15], wherein the clad layer has a portion formed by mixing a core material forming a core portion with a clad material forming the clad layer. Waveguide.
[17] The optical waveguide according to any one of [12] to [16], wherein the light propagation loss at a wavelength of 850 nm is 0.25 dB / cm or less.
本発明によれば、工業的な製造が簡便であり、かつ光伝搬損失の小さい光導波路を提供すること、並びに、該光導波路を製造し得る光導波路クラッド材及び該光導波路クラッド材を用いた光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, industrial manufacture is easy and provides an optical waveguide with small optical propagation loss, and the optical waveguide clad material which can manufacture this optical waveguide, and this optical waveguide clad material were used. A resin film for forming an optical waveguide cladding layer can be provided.
本発明者らは、以前、アルカリ現像に用いられる光導波路形成用樹脂組成物において、アルカリ現像のプロセスによってコア部(コアパターンとも称する)を形成したときのコア部の表層にアルカリカチオンが残存し、これに起因して全光線透過率の低下、あるいは黄変を引き起こし、結果として光損失が悪化するという現象を捉えた。そしてその原因を分析し、ポリマーの屈折率に関するLorentz−Lorenzの式の近似式
屈折率n ≒ 定数a×分極(α)×材料密度(V)+b
を想定し、この式において、上記式の材料密度(V)に着目した。そして、アルカリ現像の影響を受ける表層の材料密度(V)が小さくなれば、コア部の表層の屈折率が低下し、屈折率の高いコア内部を光が多く伝搬し、光伝搬損失を向上できるのではないかと想定して、材料全体の特性及び材料の成分面から検討した(特許文献2参照)。
本発明者らは、さらなる検討によって、コアパターンの外周周辺部と中心部との間の屈折率変化を緩やかな分布とすることで光伝搬損失の小さい光導波路を提供できるのではないかと考えた。そこで、光導波路のクラッド層の原料、つまり光導波路クラッド材(以下、単にクラッド材と称することがある)をコア部へ浸透させる方法を検討した。具体的には、コア部を形成する際に架橋反応をさせないか又は架橋反応の程度を抑えておき、且つクラッド層を形成する際に特定のクラッド材(光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム)を用いることによって、クラッド層を形成しながらクラッド材をコア部の内部へ浸透させることができた。これにより、コア部のより内部においても大きな屈折率分布を有するコア部を形成することができ、光伝搬損失のより小さい光導波路の製造に成功した。
以下、本発明の実施態様の一つについて詳述する。
In the resin composition for forming an optical waveguide used for alkali development, the present inventors have previously left an alkali cation remaining on the surface layer of the core part when the core part (also referred to as a core pattern) is formed by an alkali development process. Therefore, the phenomenon in which the total light transmittance decreases or yellows due to this, and the light loss deteriorates as a result is captured. Then, the cause is analyzed, and an approximate expression of the Lorentz-Lorenz equation relating to the refractive index of the polymer. Refractive index n ≈ constant a × polarization (α) × material density (V) + b
In this equation, attention was paid to the material density (V) of the above equation. If the material density (V) of the surface layer affected by alkali development is reduced, the refractive index of the surface layer of the core portion is reduced, and a large amount of light propagates through the core having a high refractive index, thereby improving the light propagation loss. Assuming that it is, it examined from the characteristic of the whole material, and the component side of the material (refer patent document 2).
The inventors of the present invention have considered that an optical waveguide with a small optical propagation loss can be provided by further grading the refractive index change between the outer peripheral portion and the central portion of the core pattern through further examination. . Therefore, a method of infiltrating the raw material of the cladding layer of the optical waveguide, that is, the optical waveguide cladding material (hereinafter sometimes simply referred to as cladding material) into the core portion was examined. Specifically, the cross-linking reaction is not performed when the core portion is formed or the degree of the cross-linking reaction is suppressed, and a specific clad material (optical waveguide clad layer forming resin film) is added when the clad layer is formed. By using it, the clad material could penetrate into the core part while forming the clad layer. As a result, a core portion having a larger refractive index distribution can be formed even inside the core portion, and an optical waveguide having a smaller optical propagation loss has been successfully manufactured.
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail.
本発明では、コアパターンの外周周辺の少なくとも一部の屈折率が、コアパターンの中心の屈折率よりも小さくなっている。より詳細には、コアパターンの中心から外周(後述する上部クラッド層側)へ向けて、屈折率が少しずつ小さくなっている部位を有し、屈折率の高い領域と低い領域との間では、屈折率の変化が連続的になっているため、これは、いわゆるGI型(グレーテッドインデックス型)の屈折率分布に属する。これにより、コアパターンを伝搬する光は、より一層、コアパターン中心寄りで伝搬することとなり、そのためにコアパターンの側壁の荒れの影響を受けにくくなり、さらなる低光伝搬損失化が可能となる。また、コア部の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層及び/又は上部クラッド層を有することで、さらなる低光伝搬損失化が可能となる。 In the present invention, at least a part of the refractive index around the periphery of the core pattern is smaller than the refractive index at the center of the core pattern. More specifically, from the center of the core pattern toward the outer periphery (upper clad layer side to be described later), there is a portion where the refractive index is gradually reduced, between the high refractive index region and the low region, Since the change in refractive index is continuous, this belongs to the so-called GI (graded index type) refractive index distribution. As a result, the light propagating through the core pattern is further propagated closer to the center of the core pattern, so that it is less susceptible to the roughness of the side wall of the core pattern, and a further reduction in light propagation loss is possible. Further, by having a lower cladding layer and / or an upper cladding layer having a lower refractive index on the outside of the core portion, it is possible to further reduce the light propagation loss.
以上の原理に基づいて、本発明のクラッド材を用いて作製した光導波路の例を図1に示す。図1において、(a)は光導波路の断面図を模式的に表した図であり、(b)は光導波路に形成されたコア部断面の一つ(点線で囲んだ部分)を拡大して撮影した写真である。
図1は、コアパターン中心部3とコアパターン外周周辺部4のおおよその位置を示したコアパターン2を有する光導波路1を示す。上部クラッド層5を形成するクラッド材がコアパターン2内へ浸透していること、並びにコアパターン外周周辺部4の外側にさらに屈折率の低い下部クラッド層6及び下部クラッド層6の上に上部クラッド層5が配置されていることにより、コアパターン2を伝搬する光のうち、コアパターン外周周辺部4の外側に漏れ出そうとする光を、非常に効率的にコアパターン2内に留めることができる。このような光導波路であると、例えば直線状のコアパターン2を伝搬する光は、コアパターン中心部3を伝搬しやすく、低光伝搬損失となり、コアパターン2の曲げ等によってコアパターン2の外側に漏れ出そうとする光は、屈折率差のより大きい下部クラッド層6又は上部クラッド層5とコアパターン2との間で全反射されるため、光伝搬損失が発生しにくくなる。
An example of an optical waveguide produced using the clad material of the present invention based on the above principle is shown in FIG. In FIG. 1, (a) is a diagram schematically showing a cross-sectional view of an optical waveguide, and (b) is an enlarged view of one of the cross-sections of the core portion formed in the optical waveguide (portion surrounded by a dotted line). It is a photograph taken.
FIG. 1 shows an optical waveguide 1 having a core pattern 2 showing approximate positions of a core pattern central portion 3 and a core pattern outer peripheral portion 4. The clad material forming the upper clad layer 5 penetrates into the core pattern 2, and the lower clad layer 6 having a lower refractive index and the upper clad on the lower clad layer 6 outside the outer peripheral portion 4 of the core pattern. By arranging the layer 5, light that propagates through the core pattern 2 and leaks to the outside of the core pattern outer peripheral portion 4 can be very efficiently retained in the core pattern 2. it can. With such an optical waveguide, for example, light propagating through the linear core pattern 2 easily propagates through the core pattern central portion 3, resulting in a low optical propagation loss. The light that is about to leak into the core pattern 2 is totally reflected between the lower clad layer 6 or the upper clad layer 5 and the core pattern 2 having a larger refractive index difference, so that light propagation loss is less likely to occur.
[光導波路クラッド材]
前記形態を実現するための本発明のクラッド材は、(A)酸性置換基を有するポリマーと、(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と、(C)重合開始剤と、を含有し、(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、(B1)ポリエチレングリコール構造単位を有するポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有するものである。ここで、光導波路クラッド材又はクラッド材とは、クラッド層の原料の混合物を指す。
このようなクラッド材を用いることにより、クラッド層形成時にクラッド材がコア部へ効率的に浸透するため、コア部が前記の特性を示し、これにより、コアパターンを伝搬する光はコアパターンの比較的中心付近を主に伝搬するようになり、低光伝搬損失化が可能となる。
以下、本発明のクラッド材の各成分について詳述する。
[Optical waveguide cladding material]
The clad material of the present invention for realizing the above-described embodiments includes (A) a polymer having an acidic substituent, (B) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups, and (C) a polymerization initiator. And (B) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups contains (B1) polyalkylene glycol di (meth) acrylate having a polyethylene glycol structural unit. Here, the optical waveguide clad material or clad material refers to a mixture of raw materials for the clad layer.
By using such a clad material, the clad material efficiently penetrates into the core part when the clad layer is formed, so that the core part exhibits the above-described characteristics. Propagation mainly occurs near the target center, and low optical propagation loss can be achieved.
Hereinafter, each component of the clad material of the present invention will be described in detail.
((A)成分:酸性置換基を有するポリマー)
(A)成分の酸性置換基を有するポリマーの酸性置換基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基等が挙げられ、水酸基、カルボキシル基が好ましい。
(A)成分としては、酸性置換基を有する(メタ)アクリルポリマーが好ましく、水酸基及びカルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1つを有する(メタ)アクリルポリマーがより好ましく、水酸基を有する(メタ)アクリルポリマーがさらに好ましい。なお、(メタ)アクリルとは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。
酸性置換基を有する(メタ)アクリルポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、各種(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等]、(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリル系モノマーのホモポリマー又はコポリマー;前記(メタ)アクリル系モノマーと他の重合性不飽和基含有モノマー(例えば、スチレン、α−メチルスチレン、マレイン酸無水物等)等とのコポリマーなどが好ましく挙げられる。
(A)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(A)成分としては、より具体的には、カルボキシル基を有する重合性化合物(A−1)に由来する構造単位を有するポリマーであることが好ましい。(A)成分は、前記(A−1)成分と共に、さらに、水酸基を有する重合性化合物(A−2)に由来する構造単位及び前記(A−1)成分及び(A−2)成分以外の重合性化合物(A−3)に由来する構造単位からなる群から選択される少なくとも1つの構造単位を有するコポリマーであってもよく、前記(A−1)成分に由来する構造単位と前記(A−3)成分に由来する構造単位とを有するコポリマーであることが好ましい。
((A) component: polymer having an acidic substituent)
(A) As an acidic substituent of the polymer which has an acidic substituent of a component, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group etc. are mentioned, for example, A hydroxyl group and a carboxyl group are preferable.
The component (A) is preferably a (meth) acrylic polymer having an acidic substituent, more preferably a (meth) acrylic polymer having at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group and a carboxyl group, and having a hydroxyl group (meta Acrylic polymers are more preferred. In addition, (meth) acryl means acryl and / or methacryl.
Examples of the (meth) acrylic polymer having an acidic substituent include (meth) acrylic acid, various (meth) acrylic acid esters [(meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, etc.], (meta ) Homopolymer or copolymer of (meth) acrylic monomer such as acrylamide; (meth) acrylic monomer and other polymerizable unsaturated group-containing monomer (for example, styrene, α-methylstyrene, maleic anhydride, etc.), etc. And a copolymer thereof.
(A) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
More specifically, the component (A) is preferably a polymer having a structural unit derived from the polymerizable compound (A-1) having a carboxyl group. The component (A) is a component other than the structural unit derived from the polymerizable compound (A-2) having a hydroxyl group and the component (A-1) and the component (A-2) together with the component (A-1). It may be a copolymer having at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from the polymerizable compound (A-3). The structural unit derived from the component (A-1) and the (A -3) A copolymer having a structural unit derived from the component is preferable.
(A−1)成分について;
カルボキシル基を有する重合性化合物(A−1)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸;2−サクシノロイルエチル(メタ)アクリレート、2−マレイノロイルエチル(メタ)アクリレート、2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレート等の、カルボキシル基及びエステル結合を有する(メタ)アクリル酸誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレートが好ましく、アクリル酸、メタクリル酸がより好ましく、メタクリル酸がさらに好ましい。
(A−1)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(A-1) component;
Examples of the polymerizable compound (A-1) having a carboxyl group include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; (Meth) acrylic acid derivatives having a carboxyl group and an ester bond, such as 2-succinoloylethyl (meth) acrylate, 2-malenoylethyl (meth) acrylate, 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate, etc. Is mentioned. Among these, acrylic acid, methacrylic acid, and 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate are preferable, acrylic acid and methacrylic acid are more preferable, and methacrylic acid is more preferable.
(A-1) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
(A−2)成分について;
水酸基を有する重合性化合物(A−2)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有脂肪族(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(1−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(2−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の水酸基含有芳香族(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
但し、カルボキシル基と水酸基との両方を有する重合性化合物である場合は、カルボキシル基を有するものであることを優先し、(A−1)成分として分類される。
これらの中でも、低光伝搬損失の観点から、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレートが好ましく、脂肪族(メタ)アクリレートがより好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがさらに好ましい。
(A−2)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(A-2) About component;
Examples of the polymerizable compound (A-2) having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy. Hydroxyl-containing aliphatic (meth) acrylates such as butyl (meth) acrylate; 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Examples include hydroxyl group-containing aromatic (meth) acrylates such as -3- (1-naphthoxy) propyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3- (2-naphthoxy) propyl (meth) acrylate.
However, in the case of a polymerizable compound having both a carboxyl group and a hydroxyl group, the compound having a carboxyl group is preferentially classified as the component (A-1).
Among these, from the viewpoint of low light propagation loss, aliphatic (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; 2-hydroxy Aromatic (meth) acrylates such as -3-phenoxypropyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate are preferred, aliphatic (meth) acrylates are more preferred, and 2- More preferred is hydroxyethyl (meth) acrylate.
(A-2) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
(A−3)成分について;
前記(A−1)成分及び(A−2)成分以外の重合性化合物(A−3)は、主として、(A)成分である酸性置換基を有するポリマーの機械的特性、透明性及び屈折率を制御できる。
このような重合性化合物としては、(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、(メタ)アクリル酸アルキルエステルがより好ましい。該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、低光伝搬損失の観点から、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートが好ましく、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートがより好ましい。
(A−3)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。(A−3)成分としては、2種以上を併用することが好ましく、メチル(メタ)アクリレートとブチル(メタ)アクリレートとを併用することがより好ましい。
(A-3) component;
The polymerizable compound (A-3) other than the component (A-1) and the component (A-2) is mainly composed of mechanical properties, transparency, and refractive index of the polymer having an acidic substituent as the component (A). Can be controlled.
As such a polymerizable compound, (meth) acrylic acid ester is preferable, and (meth) acrylic acid alkyl ester is more preferable. Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, and butoxyethyl (meth). Acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl heptyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) ) Acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, Teariru (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate. Among these, from the viewpoint of low light propagation loss, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate are preferable, and methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate are more preferable.
(A-3) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. (A-3) As a component, it is preferable to use 2 or more types together, and it is more preferable to use methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate together.
(A)成分において、カルボキシル基を有する重合性化合物(A−1)に由来する構造単位の含有率は、3〜60モル%であることが好ましい。3モル%以上であるとフィルムが低タック傾向にあり、フィルムの取り扱い性が向上する。60モル%以下であれば、後述する基材へのクラッド材の積層の際、基材に対し、高密着力となる傾向にある。以上の観点から、5〜50モル%であることがより好ましく、10〜40モル%であることがさらに好ましく、20〜40モル%であることが特に好ましい。 In the component (A), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A-1) having a carboxyl group is preferably 3 to 60 mol%. If it is 3 mol% or more, the film tends to have low tack, and the handleability of the film is improved. If it is 60 mol% or less, when the clad material is laminated on the base material described later, it tends to have a high adhesion to the base material. From the above viewpoint, the content is more preferably 5 to 50 mol%, further preferably 10 to 40 mol%, and particularly preferably 20 to 40 mol%.
(A)成分において、水酸基を有する重合性化合物(A−2)に由来する構造単位の含有率は、0〜50モル%であることが好ましい。50モル%以下であれば、フィルムタックが小さい且つ、基材との密着性が良好となる傾向にある。以上の観点から、0〜35モル%であることがより好ましく、0〜15モル%であることがさらに好ましく、0〜5モル%であることが特に好ましい。 In the component (A), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A-2) having a hydroxyl group is preferably 0 to 50 mol%. If it is 50 mol% or less, the film tack tends to be small and the adhesion to the substrate tends to be good. From the above viewpoint, it is more preferably 0 to 35 mol%, further preferably 0 to 15 mol%, and particularly preferably 0 to 5 mol%.
(A)成分において、前記(A−1)成分及び前記(A−2)成分以外の重合性化合物(A−3)に由来する構造単位の含有率は、(A−1)成分に由来する構造単位、(A−2)成分に由来する構造単位、及び(A−3)成分に由来する構造単位の合計が100モル%となる量である。
(A)成分の機械的特性、透明性及び屈折率を制御する観点からは、(A−3)成分に由来する構造単位の含有率は、30〜97モル%であることが好ましい。30モル%以上であると低光伝搬損失が充分となる傾向にあり、97モル%以下であれば、フィルムが低タック傾向にあり、フィルムの取り扱い性が向上する。以上の観点から、30〜90モル%であることがより好ましく、50〜90モル%であることがさらに好ましく、60〜80モル%であることが特に好ましい。
なお、(A)成分において、前記(A−1)〜(A−3)成分に由来する構造単位の含有率は、上記の各構成単位の含有率から、合計が100質量%となるようにそれぞれ選択される。
特に、(A)成分が前記(A−1)成分に由来する構造単位と前記(A−3)成分に由来する構造単位とを有するコポリマーである場合、前記(A−1)成分に由来する構造単位と前記(A−3)成分に由来する構造単位との含有比率[(A−1):(A−3)]に特に制限はないが、モル比で、好ましくは10:90〜50:50、より好ましくは20:80〜50:50である。
In the component (A), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A-3) other than the component (A-1) and the component (A-2) is derived from the component (A-1). The total of the structural unit, the structural unit derived from the component (A-2), and the structural unit derived from the component (A-3) is 100 mol%.
From the viewpoint of controlling the mechanical properties, transparency and refractive index of the component (A), the content of the structural unit derived from the component (A-3) is preferably 30 to 97 mol%. If it is 30 mol% or more, low light propagation loss tends to be sufficient, and if it is 97 mol% or less, the film tends to have low tack, and the handleability of the film is improved. From the above viewpoint, it is more preferably 30 to 90 mol%, further preferably 50 to 90 mol%, and particularly preferably 60 to 80 mol%.
In addition, in (A) component, the content rate of the structural unit derived from said (A-1)-(A-3) component is set so that a sum total may be 100 mass% from the content rate of each said structural unit. Each is selected.
In particular, when the component (A) is a copolymer having a structural unit derived from the component (A-1) and a structural unit derived from the component (A-3), the component (A-1) is derived from the component (A-1). Although there is no restriction | limiting in particular in content ratio [(A-1) :( A-3)] of a structural unit and the structural unit derived from the said (A-3) component, Preferably it is 10: 90-50 by molar ratio. : 50, more preferably 20:80 to 50:50.
(A)成分の製造方法に特に制限はないが、例えば、前記(A−1)〜(A−3)成分を、適切な重合開始剤(好ましくはラジカル重合開始剤)を用いて重合又は共重合させることにより、(A)成分を得ることができる。このとき、必要に応じて、有機溶剤を用いることもできる。 Although there is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of (A) component, For example, the said (A-1)-(A-3) component is superposed | polymerized or co-polymerized using a suitable polymerization initiator (preferably radical polymerization initiator). (A) component can be obtained by superposing | polymerizing. At this time, an organic solvent can also be used as needed.
重合開始剤としては、特に制限されるものではないが、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール;p−メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド;オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド;ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート;t−ブチルパーオキシピバレート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2’−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物などが挙げられる。 The polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1 , 1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) ) Peroxyketals such as cyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide; α, α′-bis (t -Butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, t-butyl Dialkyl peroxides such as tilcumyl peroxide and di-t-butyl peroxide; diacyl peroxides such as octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearyl peroxide and benzoyl peroxide; bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxide Peroxycarbonates such as oxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl peroxycarbonate; t-butyl peroxypivalate, t- Hexyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t -Hexylperoxy 2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-hexylperoxyisopropylmonocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5- Trimethylhexanoate, t-butyl peroxylaurate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butyl peroxybenzoate, t-hexyl peroxybenzoate, 2, Peroxyesters such as 5-dimethyl-2,5-bis (benzoylperoxy) hexane and t-butylperoxyacetate; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4 -Dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4 Such as methoxy-2'-dimethylvaleronitrile) and the like azo compounds and the like.
有機溶剤としては、重合反応によって得られる(A)成分を溶解し得るものであれば、特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p−シメン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の環状エーテル;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
有機溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the component (A) obtained by the polymerization reaction. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene and p-cymene; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; acetone , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and γ-butyrolactone; ethylene carbonate, propylene Carbonates such as carbonates; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether Polyethylene such as tellurium, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Alcohol alkyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate And polyhydric alcohol alkyl ether acetates such as diethylene glycol monomethyl ether acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.
An organic solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
さらに(A)成分は、必要に応じて、側鎖にエチレン性不飽和基を含んでいてもよい。その組成や合成方法に特に制限はないが、例えば(A)成分としての酸性置換基を有するポリマー、例えば酸性置換基を有する(メタ)アクリルポリマーに、少なくとも1つのエチレン性不飽和基と、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基及びカルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基を有する化合物を付加反応させて側鎖にエチレン性不飽和基を導入することができる。 Furthermore, (A) component may contain the ethylenically unsaturated group in the side chain as needed. The composition and synthesis method are not particularly limited, but for example, a polymer having an acidic substituent as the component (A), for example, a (meth) acrylic polymer having an acidic substituent, at least one ethylenically unsaturated group, An ethylenically unsaturated group can be introduced into the side chain by addition reaction of a compound having at least one functional group selected from the group consisting of a group, an oxetanyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group and a carboxyl group.
少なくとも1つのエチレン性不飽和基と、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基及びカルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1つの官能基とを有する化合物としては、特に制限されるものではないが、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、α−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、α−ブチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、α−エチル−6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の、エチレン性不飽和基とエポキシ基を有する化合物;(2−エチル−2−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、(2−メチル−2−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、2−(2−エチル−2−オキセタニル)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−メチル−2−オキセタニル)エチル(メタ)アクリレート、3−(2−エチル−2−オキセタニル)プロピル(メタ)アクリレート、3−(2−メチル−2−オキセタニル)プロピル(メタ)アクリレート等の、エチレン性不飽和基とオキセタニル基を有する化合物;2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート等の、エチレン性不飽和基とイソシアネート基を有する化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の、エチレン性不飽和基とヒドロキシル基を有する化合物;(メタ)アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、コハク酸(2−(メタ)アクリロイロキシエチル)、2−フタロイルエチル(メタ)アクリレート、2−テトラヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレート、2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、3−ビニル安息香酸、4−ビニル安息香酸等の、エチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する化合物などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び反応性の観点から、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレートが好ましい。これらの化合物は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The compound having at least one ethylenically unsaturated group and at least one functional group selected from the group consisting of epoxy group, oxetanyl group, isocyanate group, hydroxyl group and carboxyl group is not particularly limited. Are, for example, glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl (meth) acrylate, α-propylglycidyl (meth) acrylate, α-butylglycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 2-ethylglycidyl (Meth) acrylate, 2-propylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 3,4-epoxyheptyl (meth) acrylate, α-ethyl-6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate 3, 4 Compounds having an ethylenically unsaturated group and an epoxy group, such as epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether; (2-ethyl-2- Oxetanyl) methyl (meth) acrylate, (2-methyl-2-oxetanyl) methyl (meth) acrylate, 2- (2-ethyl-2-oxetanyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-methyl-2-oxetanyl) ) Ethylenically unsaturated groups and oxetanyl such as ethyl (meth) acrylate, 3- (2-ethyl-2-oxetanyl) propyl (meth) acrylate, 3- (2-methyl-2-oxetanyl) propyl (meth) acrylate Compound having a group; 2- (meth) acryl Compounds having an ethylenically unsaturated group and an isocyanate group, such as royloxyethyl isocyanate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, Compounds having an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group, such as 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, succinic acid (2- (meth) acryloyloxyethyl), 2-phthaloylethyl (meth) acrylate, 2-tetrahydrophthaloylethyl (meth) acrylate, 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate, ω-carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate, 3-vinylbenzoic acid 4-vinylbenzoic acid Of, such compound having an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group.
Among these, from the viewpoint of transparency and reactivity, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, crotonic acid, and 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate are preferred. These compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
(A)成分の重量平均分子量(Mw)は、1,000〜3,000,000であることが好ましい。1,000以上であると分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分となる傾向にあり、3,000,000以下であれば、有機溶剤に対する溶解性及び(B)成分との相溶性が良好となる傾向にある。以上の観点から、3,000〜2,000,000がより好ましく、5,000〜1,000,000がさらに好ましく、5,000〜200,000が特に好ましく、5,000〜100,000が最も好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定し、標準ポリスチレン換算した値であり、詳細な測定方法は実施例に記載したとおりである。 The weight average molecular weight (Mw) of the component (A) is preferably 1,000 to 3,000,000. If the molecular weight is 1,000 or more, the cured product tends to have sufficient strength due to its large molecular weight. If it is 3,000,000 or less, solubility in organic solvents and component (B) There is a tendency that the compatibility with is good. From the above viewpoint, 3,000 to 2,000,000 is more preferable, 5,000 to 1,000,000 is more preferable, 5,000 to 200,000 is particularly preferable, and 5,000 to 100,000 is preferable. Most preferred. The weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted to standard polystyrene, and the detailed measurement method is as described in the examples.
((B)成分:2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物)
本発明の特徴の1つは、(B)成分が、(B1)ポリエチレングリコールに由来する構造単位を有するポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有することである。(B)成分中の該(B1)成分の含有率は、特に制限せれるものではないが、低光伝搬損失の観点から、(B)成分の総量100質量部に対して、好ましくは30〜100質量部、より好ましくは40〜100質量部、さらに好ましくは40〜95質量部、特に好ましくは60〜95質量部、最も好ましくは85〜95質量部である。
(B1)成分であるポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート中の「ポリエチレングリコールに由来する構造単位」の含有率としては、クラッド材のコア部への浸透し易さの観点から、全構造単位に対して、好ましくは5〜100モル%、より好ましくは20〜100モル%、さらに好ましくは40〜100モル%、特に好ましくは50〜100モル%、最も好ましくは80〜100モル%であり、実質的に100モル%であることも好ましい。
(B1)成分としては、低光伝搬損失の観点から、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリ(エチレンプロピレン)グリコールジ(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリ(エチレンプロピレン)グリコールジアクリレートからなる群から選択される少なくとも1種がより好ましく、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートがさらに好ましく、ポリエチレングリコールジアクリレートが特に好ましい。
(B1)成分の重量平均分子量は、光伝搬特性の観点から、好ましくは170〜4,000、より好ましくは300〜4,000、さらに好ましくは300〜3,000、特に好ましくは300〜2,000、最も好ましくは300〜900であり、また、450〜1,300の範囲も好ましい。
((B) component: polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups)
One of the characteristics of the present invention is that the component (B) contains a polyalkylene glycol di (meth) acrylate having a structural unit derived from (B1) polyethylene glycol. The content of the component (B1) in the component (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of low light propagation loss, the content of the component (B) is preferably 30 to 100 parts by mass. 100 mass parts, More preferably, it is 40-100 mass parts, More preferably, it is 40-95 mass parts, Especially preferably, it is 60-95 mass parts, Most preferably, it is 85-95 mass parts.
The content ratio of “structural units derived from polyethylene glycol” in the polyalkylene glycol di (meth) acrylate that is the component (B1) is, from the viewpoint of easy penetration into the core of the clad material, On the other hand, it is preferably 5 to 100 mol%, more preferably 20 to 100 mol%, further preferably 40 to 100 mol%, particularly preferably 50 to 100 mol%, most preferably 80 to 100 mol%, It is also preferable that it is 100 mol%.
The component (B1) is preferably at least one selected from the group consisting of polyethylene glycol di (meth) acrylate and poly (ethylenepropylene) glycol di (meth) acrylate from the viewpoint of low light propagation loss. At least one selected from the group consisting of acrylate and poly (ethylenepropylene) glycol diacrylate is more preferable, polyethylene glycol di (meth) acrylate is more preferable, and polyethylene glycol diacrylate is particularly preferable.
The weight average molecular weight of the component (B1) is preferably 170 to 4,000, more preferably 300 to 4,000, still more preferably 300 to 3,000, particularly preferably 300 to 2, from the viewpoint of light propagation characteristics. 000, most preferably 300 to 900, and a range of 450 to 1,300 is also preferred.
また、(B)成分としては、該(B1)成分以外に、さらに(B2)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物(但し、(B1)成分は除く。)を含有していてもよい。
(B2)成分が有するエチレン性不飽和基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられ、これらの中でも、(メタ)アクリロイル基、ビニル基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
(B2)成分としては、透明性、耐熱性及び低光伝搬損失の観点から、(B2−1)ジ(メタ)アクリレート、(B2−2)3官能以上のポリ(メタ)アクリレートが好ましく、(B2−2)3官能以上のポリ(メタ)アクリレートがより好ましい。
In addition to the component (B1), the component (B) further contains (B2) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups (excluding the component (B1)). May be.
Examples of the ethylenically unsaturated group contained in the component (B2) include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. Among these, a (meth) acryloyl group and a vinyl group are preferable, and (meth) An acryloyl group is more preferred.
As the component (B2), from the viewpoint of transparency, heat resistance and low light propagation loss, (B2-1) di (meth) acrylate and (B2-2) trifunctional or higher poly (meth) acrylate are preferable. B2-2) A tri- or higher functional poly (meth) acrylate is more preferable.
(B2−1)ジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等の脂肪族ジ(メタ)アクリレート;前記脂肪族ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;エチレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,3−プロパンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオール型エポキシジ(メタ)アクリレート等の脂肪族エポキシジ(メタ)アクリレート;シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート等の脂環式ジ(メタ)アクリレート;前記脂環式ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;シクロヘキサンジメタノール型エポキシジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシジ(メタ)アクリレート;ヒドロキノンジ(メタ)アクリレート、レゾルシノールジ(メタ)アクリレート、カテコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、ビフェノールジ(メタ)アクリレート、フルオレンビスフェノールジ(メタ)アクリレート等の芳香族ジ(メタ)アクリレート;前記芳香族ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;ヒドロキノン型エポキシジ(メタ)アクリレート、レゾルシノール型エポキシジ(メタ)アクリレート、カテコール型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAF型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビフェノール型エポキシジ(メタ)アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ(メタ)アクリレート等の芳香族エポキシジ(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート等の複素環式ジ(メタ)アクリレート;前記複素環式ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジ(メタ)アクリレート等の複素環式ジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of (B2-1) di (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (Meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1 , 3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1, 6-hex Di (meth) acrylates such as diol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate; (Meth) acrylate, ethoxylated product, propoxylated product, ethoxylated propoxylated product or caprolactone modified product; ethylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, diethylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, polyethylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, Propylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, dipropylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, polypropylene glycol type epoxy di (meth) acrylate, 1,3-propanediol Epoxy di (meth) acrylate, 2-methyl-1,3-propanediol type epoxy di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol type epoxy di (meth) acrylate, 1,4-butanediol Type epoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol type epoxy di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol type epoxy di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol type epoxy di (meth) acrylate, 1,9 -Nonanediol type epoxy di (meth) acrylate, 1,10-decanediol type epoxy di (meth) acrylate and other aliphatic epoxy di (meth) acrylates; cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) Alicyclic di (meth) acrylates such as acrylate, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F di (meth) acrylate; ethoxylated and propoxylated alicyclic di (meth) acrylates , Ethoxylated propoxylated product or caprolactone modified product; cyclohexanedimethanol type epoxy di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol type epoxy di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F type epoxy di Cycloaliphatic epoxy di (meth) acrylates such as (meth) acrylate; hydroquinone di (meth) acrylate, resorcinol di (meth) acrylate, catechol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate Aromatic di (meth) acrylates such as bisphenol F di (meth) acrylate, bisphenol AF di (meth) acrylate, biphenol di (meth) acrylate, fluorene bisphenol di (meth) acrylate; Ethoxylated, propoxylated, ethoxylated propoxylated or caprolactone modified; hydroquinone type epoxy di (meth) acrylate, resorcinol type epoxy di (meth) acrylate, catechol type epoxy di (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate , Bisphenol F type epoxy di (meth) acrylate, bisphenol AF type epoxy di (meth) acrylate, biphenol type epoxy di (meth) acrylate, fluorene bis Aromatic epoxy di (meth) acrylates such as enol-type epoxy di (meth) acrylates; heterocyclic di (meth) acrylates such as isocyanuric acid di (meth) acrylates; ethoxylated isomers of the heterocyclic di (meth) acrylates; Examples thereof include propoxylated products, ethoxylated propoxylated products, or caprolactone-modified products; heterocyclic di (meth) acrylates such as isocyanuric acid monoallyl type epoxy di (meth) acrylates, and the like.
ここで、「エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体」とは、原料となるアルコール又はフェノール類[例えば、モノ(メタ)アクリレート;CH2=C(R1)−COO−R2(R1は水素原子又はメチル基、R2は1価の有機基)の場合は、HO−R2で示されるもの]の代わりに、前記アルコール又はフェノール類に、それぞれ、1以上のエチレンオキシドを付加した構造のアルコール、1以上のプロピレンオキシドを付加した構造のアルコール、又は1以上のエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを付加した構造のアルコールを、原料に用いて得られる(メタ)アクリレートを示し[例えば、エトキシ化体の場合はCH2=C(R1)−COO−(CH2CH2O)q−R2(qは1以上の整数、R1、R2は前記と同様)で示される。]、以下、同様である。例えば、フェノキシエチル(メタ)アクリレートのエトキシ化体とは、フェノキシエチルアルコールにエチレンオキシドを付加したアルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性体とは、(メタ)アクリレートの原料となるアルコールをカプロラクトンで変性した変性アルコールを原料とする(メタ)アクリレートを示し[例えば、モノ(メタ)アクリレートのε−カプロラクトン変性体の場合、CH2=C(R1)−COO−((CH2)5COO)q−R2(q、R1、R2は前記と同様)で示される。]、以下、同様である。 Here, “ethoxylated product, propoxylated product, ethoxylated propoxylated product” means alcohol or phenol as a raw material [for example, mono (meth) acrylate; CH 2 = C (R 1 ) -COO-R 2 In the case of (wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a monovalent organic group), one or more ethylene oxides are respectively added to the alcohol or phenol instead of the one represented by HO—R 2. (Meth) acrylate obtained by using, as a raw material, an alcohol having a structure having an added structure, an alcohol having a structure in which one or more propylene oxides are added, or an alcohol having a structure having one or more ethylene oxide and propylene oxide added [for example, ethoxy In the case of a compound, CH 2 ═C (R 1 ) —COO— (CH 2 CH 2 O) q—R 2 (q is an integer of 1 or more, R 1 and R 2 are the same as described above. The same applies hereinafter. For example, an ethoxylated phenoxyethyl (meth) acrylate means a (meth) acrylate obtained by reacting an alcohol obtained by adding ethylene oxide to phenoxyethyl alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. The caprolactone-modified product refers to a (meth) acrylate using a modified alcohol obtained by modifying an alcohol used as a raw material for (meth) acrylate with caprolactone [for example, in the case of an ε-caprolactone-modified product of mono (meth) acrylate , CH 2 ═C (R 1 ) —COO — ((CH 2 ) 5 COO) q—R 2 (where q, R 1 and R 2 are the same as above). The same applies hereinafter.
これらの中でも、透明性、耐熱性及び低光伝搬損失の観点からは、脂環式ジ(メタ)アクリレート;前記脂環式ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体;脂環式エポキシジ(メタ)アクリレート;ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、ビフェノールジ(メタ)アクリレート、フルオレンビスフェノールジ(メタ)アクリレート等の芳香族ジ(メタ)アクリレート;前記芳香族ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体;ビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAF型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビフェノール型エポキシジ(メタ)アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ(メタ)アクリレート等の芳香族エポキシジ(メタ)アクリレート;複素環式ジ(メタ)アクリレート;前記複素環式ジ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体が好ましい。
(B2−1)成分としては、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Among these, from the viewpoints of transparency, heat resistance and low light propagation loss, alicyclic di (meth) acrylate; ethoxylated, propoxylated, ethoxylated propoxy of the alicyclic di (meth) acrylate. Modified, caprolactone modified; alicyclic epoxy di (meth) acrylate; bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol F di (meth) acrylate, bisphenol AF di (meth) acrylate, biphenol di (meth) acrylate, fluorene bisphenol di Aromatic di (meth) acrylate such as (meth) acrylate; ethoxylated product, propoxylated product, ethoxylated propoxylated product, caprolactone modified product of the above aromatic di (meth) acrylate; bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate Bisphenol F type epoxy Aromatic epoxy di (meth) acrylates such as sidi (meth) acrylate, bisphenol AF type epoxy di (meth) acrylate, biphenol type epoxy di (meth) acrylate, and fluorene bisphenol type epoxy di (meth) acrylate; heterocyclic di (meth) acrylate; The heterocyclic di (meth) acrylate is preferably an ethoxylated product, a propoxylated product, an ethoxylated propoxylated product, or a caprolactone-modified product.
As the component (B2-1), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
(B2−2)3官能以上のポリ(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の脂肪族ポリ(メタ)アクリレート;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレートの、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;フェノールノボラック型エポキシポリ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ(メタ)アクリレート等の芳香族エポキシポリ(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート等の複素環式ポリ(メタ)アクリレート;前記複素環式ポリ(メタ)アクリレートのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体又はカプロラクトン変性体;イソシアヌル酸型エポキシトリ(メタ)アクリレート等の複素環式エポキシポリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
以上において、ポリ(メタ)アクリレートとしては、いずれも、トリ(メタ)アクリレート、テトラ(メタ)アクリレート、ペンタ(メタ)アクリレートが好ましく、トリ(メタ)アクリレートがより好ましく、トリアクリレートがさらに好ましい。
これらの中でも、透明性、耐熱性及び低光伝搬損失の観点から、脂肪族ポリ(メタ)アクリレート;芳香族エポキシポリ(メタ)アクリレート;複素環式ポリ(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸型エポキシポリ(メタ)アクリレートが好ましく、脂肪族ポリ(メタ)アクリレートがより好ましく、脂肪族トリ(メタ)アクリレートがさらに好ましく、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが特に好ましく、ペンタエリスリトールトリアクリレートが最も好ましい。
(B2−2)成分としては、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(B2-2) Trifunctional or higher poly (meth) acrylates include, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) ) Aliphatic poly (meth) acrylates such as acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; ethoxylated, propoxylated, ethoxylated of the above aliphatic poly (meth) acrylate Propoxylated product or caprolactone modified product; aromatic epoxy poly (meth) acrylate such as phenol novolac type epoxy poly (meth) acrylate and cresol novolac type epoxy poly (meth) acrylate; Heterocyclic poly (meth) acrylates such as tricyanuric acid tri (meth) acrylate; ethoxylated, propoxylated, ethoxylated propoxylated or caprolactone modified products of the above-mentioned heterocyclic poly (meth) acrylate; isocyanuric acid type epoxy Examples include heterocyclic epoxy poly (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate.
In the above, as poly (meth) acrylate, all are preferably tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate, and penta (meth) acrylate, more preferably tri (meth) acrylate, and still more preferably triacrylate.
Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance and low light propagation loss, aliphatic poly (meth) acrylate; aromatic epoxy poly (meth) acrylate; heterocyclic poly (meth) acrylate; isocyanuric acid type epoxy poly ( (Meth) acrylates are preferred, aliphatic poly (meth) acrylates are more preferred, aliphatic tri (meth) acrylates are more preferred, pentaerythritol tri (meth) acrylates are particularly preferred, and pentaerythritol triacrylate is most preferred.
As the component (B2-2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
前記(B)成分の含有量は、低光伝搬損失の観点から、(A)成分及び(B)成分の総量100質量部に対して、20〜70質量部であることが好ましい。同様の観点から、(B)成分の配合量の下限値は、25質量部であることがより好ましく、35質量部であることがさらに好ましい。また、上限値は、70質量部であることがより好ましく、65質量部であることがさらに好ましい。 It is preferable that content of the said (B) component is 20-70 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component from a viewpoint of low optical propagation loss. From the same viewpoint, the lower limit value of the amount of component (B) is more preferably 25 parts by mass, and even more preferably 35 parts by mass. Moreover, as for an upper limit, it is more preferable that it is 70 mass parts, and it is further more preferable that it is 65 mass parts.
((C)成分:重合開始剤)
重合開始剤としては、加熱又は紫外線等の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤等が挙げられるが、硬化速度が速く常温硬化が可能なことから、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
((C) component: polymerization initiator)
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it initiates polymerization by heating or irradiation with ultraviolet rays or the like, and examples thereof include a thermal radical polymerization initiator and a photo radical polymerization initiator. Since it can be cured, a radical photopolymerization initiator is preferred.
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾインケタール;1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシケトン;2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1,2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等のα−アミノケトン;1−[(4−フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタジオン−2−(ベンゾイル)オキシム等のオキシムエステル;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;ベンゾフェノン、N,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、N,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物;2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物;9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9’−アクリジニルヘプタン)等のアクリジン化合物:N−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoinketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane Α-hydroxy ketones such as -1-one and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one; 2-benzyl-2-dimethylamino- Α-amino ketones such as 1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one and 1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one; Oxime esters such as [(4-phenylthio) phenyl] -1,2-octadion-2- (benzoyl) oxime; bis (2,4,6-tri Phosphine oxides such as methylbenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; 2- (o-chlorophenyl) ) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer 2,4,5-triaryl such as 2-mer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer Imidazole dimer; benzophenone, N, N′-tetramethyl-4,4′-dia Benzophenone compounds such as nobenzophenone, N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone; 2-ethylanthraquinone, phenanthrenequinone, 2-tert-butylanthraquinone, octamethyl Anthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenant Quinone compounds such as laquinone, 2-methyl-1,4-naphthoquinone and 2,3-dimethylanthraquinone; benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin phenyl ether Ter; benzoin compounds such as benzoin, methylbenzoin and ethylbenzoin; benzyl compounds such as benzyldimethyl ketal; acridine compounds such as 9-phenylacridine and 1,7-bis (9,9′-acridinylheptane): N— Examples include phenylglycine and coumarin.
また、前記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体において、2つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン化合物と第三級アミンとを組み合わせてもよい。 In the 2,4,5-triarylimidazole dimer, the substituents of the aryl groups at the two triarylimidazole sites may give the same and symmetric compounds, but give differently asymmetric compounds. May be. Moreover, you may combine a thioxanthone compound and a tertiary amine like the combination of diethyl thioxanthone and dimethylaminobenzoic acid.
これらの中で、硬化性、透明性及び耐熱性の観点から、α−ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシドが好ましく、ホスフィンオキシドがより好ましい。
光ラジカル重合開始剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
Among these, from the viewpoints of curability, transparency, and heat resistance, α-hydroxyketone and phosphine oxide are preferable, and phosphine oxide is more preferable.
A radical photopolymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Furthermore, it can also be used in combination with an appropriate sensitizer.
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール;p−メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド;オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド;ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート;t−ブチルパーオキシピバレート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2’−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物などが挙げられる。
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、アゾ化合物が好ましい。
熱ラジカル重合開始剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤とを組み合わせて用い、光硬化性と熱硬化性とを有するクラッド材とすることもできる。
Examples of the thermal radical polymerization initiator include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t- Butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1- Peroxyketals such as bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide; α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene , Dicumyl peroxide, t-butylcumylperoxy Dialkyl peroxides such as di-t-butyl peroxide; diacyl peroxides such as octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearyl peroxide, benzoyl peroxide; bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, Peroxycarbonates such as di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl peroxycarbonate; t-butyl peroxypivalate, t-hexyl peroxypi Valate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy 2-ethylhexanoe Tate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate , T-butylperoxylaurate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butylperoxybenzoate, t-hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl- Peroxyesters such as 2,5-bis (benzoylperoxy) hexane and t-butylperoxyacetate; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) ), 2,2′-azobis (4-methoxy-2′-dimethylva And azo compounds such as (relonitrile).
Among these, diacyl peroxide, peroxy ester, and azo compound are preferable from the viewpoints of curability, transparency, and heat resistance.
A thermal radical polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Moreover, it can also be set as the clad material which has photocurability and thermosetting by using combining a radical photopolymerization initiator and a thermal radical polymerization initiator.
(C)成分の重合開始剤の含有量は、(A)成分及び(B)成分の総量100質量部に対して、0.3〜10質量部であることが好ましい。0.3質量部以上であると、硬化が十分であり、硬化不足による未反応物の析出を抑制し易い傾向にあり、10質量部以下であると、十分な光透過性が得られる傾向にある。以上の観点から、0.35〜7質量部であることがより好ましく、0.40〜5質量部であることがさらに好ましく、0.45〜3質量部であることが特に好ましい。 It is preferable that content of the polymerization initiator of (C) component is 0.3-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component. When it is 0.3 parts by mass or more, curing is sufficient, and it is easy to suppress precipitation of unreacted materials due to insufficient curing, and when it is 10 parts by mass or less, sufficient light transmittance tends to be obtained. is there. From the above viewpoint, it is more preferably 0.35 to 7 parts by mass, further preferably 0.40 to 5 parts by mass, and particularly preferably 0.45 to 3 parts by mass.
((D)成分:熱硬化性樹脂)
本発明のクラッド材は、(D)成分として熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
熱硬化性樹脂としては、例えば、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物、及び分子内にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の2官能フェノールグリシジルエーテル;水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添2,2’−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添2官能フェノールグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の多官能フェノールグリシジルエーテル;ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、1,6−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の2官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル;シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の2官能脂環式アルコールグリシジルエーテル;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル;フタル酸ジグリシジルエステル等の2官能芳香族グリシジルエステル;テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の2官能脂環式グリシジルエステル;N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の2官能芳香族グリシジルアミン;N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4−ジアミノジフェニルメタン、1,3−ビス(N,N−グリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,O−トリグリシジル−p−アミノフェノール等の多官能芳香族グリシジルアミン;アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の2官能脂環式エポキシ樹脂;2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加体等の多官能脂環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート等の多官能複素環式エポキシ樹脂;オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等の2官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。該エポキシ樹脂のエポキシ当量は、それぞれ、好ましくは50〜3,000g/eq、より好ましくは80〜2,000g/eq、さらに好ましくは100〜1,000g/eqである。ここで、エポキシ当量は、1当量のエポキシ基あたりの樹脂の質量(g/eq)であり、JIS K 7236に規定された方法に従って測定することができる。
分子内にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、α−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、α−ブチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、α−エチル−6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、4-ヒドロキシブチル アクリレート グリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられる。
クラッド材が(D)成分を含有する場合、その含有量は、(A)〜(C)成分の総量100質量部に対して、1〜40質量部であることが好ましい。1質量部以上であると、(A)成分と十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好となる傾向にあり、40質量部以下であると、光伝搬特性が良好となる傾向にある。同様の観点から、(D)成分の含有量は、3〜30質量部であることがより好ましく、5〜20質量部であることがさらに好ましい。
((D) component: thermosetting resin)
The clad material of the present invention may contain a thermosetting resin as the component (D).
As the thermosetting resin, for example, at least one selected from the group consisting of a compound having two or more epoxy groups in the molecule and a compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in the molecule is preferable.
Examples of the compound having two or more epoxy groups in the molecule include bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and biphenyl. Type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, etc. bifunctional phenol glycidyl ether; hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated 2,2′-biphenol type epoxy resin, water Hydrogenated bifunctional phenol glycidyl ether such as 4,4′-biphenol type epoxy resin; phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol type epoxy resin Polyfunctional phenol glycidyl ethers such as tetraphenylolethane type epoxy resins; bifunctional aliphatic alcohols such as polyethylene glycol type epoxy resins, polypropylene glycol type epoxy resins, neopentyl glycol type epoxy resins, 1,6-hexanediol type epoxy resins Glycidyl ether; bifunctional alicyclic alcohol glycidyl ether such as cyclohexanedimethanol type epoxy resin, tricyclodecane dimethanol type epoxy resin; polyfunctional fat such as trimethylolpropane type epoxy resin, sorbitol type epoxy resin, glycerin type epoxy resin Alcohol glycidyl ether; bifunctional aromatic glycidyl ester such as diglycidyl phthalate; tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, hexahydrophthal Bifunctional alicyclic glycidyl esters such as diglycidyl oxalate; bifunctional aromatic glycidyl amines such as N, N-diglycidyl aniline and N, N-diglycidyl trifluoromethylaniline; N, N, N ′, N Polyfunctional aromatic glycidylamines such as' -tetraglycidyl-4,4-diaminodiphenylmethane, 1,3-bis (N, N-glycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, O-triglycidyl-p-aminophenol; Bifunctional alicyclic epoxy resins such as alicyclic diepoxy acetal, alicyclic diepoxy adipate, alicyclic diepoxycarboxylate, vinylcyclohexene dioxide; 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohex Polyfunctional heterocyclic epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate; polyfunctional cycloaliphatic epoxy resins emissions adduct such bifunctional or polyfunctional silicon-containing epoxy resins such as organopolysiloxane type epoxy resins. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 50 to 3,000 g / eq, more preferably 80 to 2,000 g / eq, and still more preferably 100 to 1,000 g / eq. Here, the epoxy equivalent is the mass (g / eq) of the resin per equivalent of epoxy groups, and can be measured according to the method defined in JIS K 7236.
Examples of the compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in the molecule include glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl (meth) acrylate, α-propylglycidyl (meth) acrylate, and α-butylglycidyl (meth). Acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 2-ethylglycidyl (meth) acrylate, 2-propylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 3,4-epoxyheptyl (meth) acrylate , Α-ethyl-6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, m-vinyl benzil Glycidyl ethers, such as p- vinylbenzyl glycidyl ether.
When a clad material contains (D) component, it is preferable that the content is 1-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A)-(C) component. When the amount is 1 part by mass or more, a sufficient cross-linked structure is formed with the component (A), so the heat resistance tends to be good. When the amount is 40 parts by mass or less, the light propagation characteristics tend to be good. . From the same viewpoint, the content of the component (D) is more preferably 3 to 30 parts by mass, and further preferably 5 to 20 parts by mass.
((E)モノ(メタ)アクリレート)
本発明のクラッド材は、(E)成分としてモノ(メタ)アクリレートを含有していてもよい。モノ(メタ)アクリレートとしては、特に制限は無く、例えば特開2015−215467号公報の段落[0033]に記載の(メタ)アクリレートが挙げられる。
クラッド材に(E)成分を含有させる場合、その含有量は、(A)〜(C)成分の総量100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましい。
((E) Mono (meth) acrylate)
The clad material of the present invention may contain mono (meth) acrylate as the component (E). There is no restriction | limiting in particular as mono (meth) acrylate, For example, the (meth) acrylate as described in Paragraph [0033] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-215467 is mentioned.
When the clad material contains the component (E), the content is preferably 10 parts by mass or less, and preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) to (C). It is more preferable.
(添加剤)
また、この他に、本発明のクラッド材は、必要に応じて、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等の添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で含有していてもよい。
クラッド材に添加剤を含有させる場合、その含有量は、(A)〜(C)成分の総量100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることがより好ましく、5質量部以下であることがさらに好ましい。
(Additive)
In addition, the clad material of the present invention can be added with an antioxidant, an anti-yellowing agent, an ultraviolet absorber, a visible light absorber, a colorant, a plasticizer, a stabilizer, a filler, etc., if necessary. You may contain the agent in the ratio which does not have a bad influence on the effect of this invention.
When the clad material contains an additive, the content thereof is preferably 20 parts by mass or less, and preferably 10 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) to (C). More preferably, it is 5 parts by mass or less.
[光導波路コア材]
光導波路のコア部の原料、つまり光導波路コア材(以下、単にコア材と称することがある)は、(A’)酸性置換基を有するポリマーと、(B’)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と、(C’)重合開始剤と、を含有するものである。ここで、光導波路コア材又はコア材とは、コア部の原料の混合物を指す。
このようなコア材を用いることにより、コア部(コアパターン)形成時に前記クラッド材がコア部へ効率的に浸透するため、前述の通り、コアパターンを伝搬する光はコアパターンの比較的中心付近を主に伝搬するようになり、低光伝搬損失化が可能となる傾向にある。
以下、コア材の各成分について詳述する。
[Optical waveguide core material]
The raw material of the core portion of the optical waveguide, that is, the optical waveguide core material (hereinafter sometimes simply referred to as the core material) is composed of (A ′) a polymer having an acidic substituent and (B ′) two or more ethylenic non-polymers. It contains a polymerizable compound having a saturated group and (C ′) a polymerization initiator. Here, the optical waveguide core material or the core material refers to a mixture of raw materials for the core portion.
By using such a core material, the clad material efficiently penetrates into the core portion when forming the core portion (core pattern). As described above, the light propagating through the core pattern is relatively near the center of the core pattern. The light tends to be propagated, and the light propagation loss tends to be reduced.
Hereinafter, each component of the core material will be described in detail.
((A’)成分:酸性置換基を有するポリマー)
(A’)成分の酸性置換基を有するポリマーとしては、アルカリ水溶液に対して溶解し得るポリマーであればよい。該酸性置換基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基等が挙げられ、水酸基、カルボキシル基が好ましい。
(A’)成分としては、酸性置換基を有する(メタ)アクリルポリマーが好ましく、水酸基及びカルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1つを有する(メタ)アクリルポリマーがより好ましく、水酸基を有する(メタ)アクリルポリマーがさらに好ましい。なお、(メタ)アクリルとは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。
酸性置換基を有する(メタ)アクリルポリマーとしては、アルカリ性水溶液からなる現像液に溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有するものであれば特に制限はない。例えば、(メタ)アクリル酸、各種(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等]、(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリル系モノマーのホモポリマー又はコポリマー;前記(メタ)アクリル系モノマーと他の重合性不飽和基含有モノマー(例えば、スチレン、α−メチルスチレン、マレイン酸無水物等)等とのコポリマーなどが好ましく挙げられる。
(A’)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(A’)成分としては、より具体的には、カルボキシル基を有する重合性化合物(A’−1)に由来する構造単位を有するポリマーであることが好ましい。(A’)成分は、前記(A’−1)成分と共に、さらに、水酸基を有する重合性化合物(A’−2)に由来する構造単位、(A’−3)脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物に由来する構造単位、及び前記(A’−1)〜(A’−3)成分以外の重合性化合物(A’−4)に由来する構造単位からなる群から選択される少なくとも1つの構造単位を有するコポリマーであってもよく、前記(A’−1)成分に由来する構造単位と前記(A’−2)成分に由来する構造単位と前記(A’−3)成分に由来する構造単位と前記(A’−4)成分に由来する構造単位とを全て有するコポリマーであることが好ましい。
((A ′) component: polymer having an acidic substituent)
(A ') As a polymer which has an acidic substituent of a component, what is necessary is just a polymer which can melt | dissolve with respect to aqueous alkali solution. Examples of the acidic substituent include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, and an amino group, and a hydroxyl group and a carboxyl group are preferable.
The component (A ′) is preferably a (meth) acrylic polymer having an acidic substituent, more preferably a (meth) acrylic polymer having at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group and a carboxyl group, and having a hydroxyl group ( More preferred are (meth) acrylic polymers. In addition, (meth) acryl means acryl and / or methacryl.
The (meth) acrylic polymer having an acidic substituent is not particularly limited as long as it dissolves in a developing solution composed of an alkaline aqueous solution and has a solubility to the extent that the intended development processing is performed. For example, (meth) acrylic acid, various (meth) acrylic acid esters [(meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, etc.], homopolymers of (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylamide Or a copolymer; a copolymer of the (meth) acrylic monomer and another polymerizable unsaturated group-containing monomer (for example, styrene, α-methylstyrene, maleic anhydride, etc.) is preferably exemplified.
As the component (A ′), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
More specifically, the component (A ′) is preferably a polymer having a structural unit derived from the polymerizable compound (A′-1) having a carboxyl group. The component (A ′) is a structural unit derived from the polymerizable compound (A′-2) having a hydroxyl group, together with the component (A′-1), (A′-3) an aliphatic ring or an aromatic ring. Selected from the group consisting of a structural unit derived from a polymerizable compound having a structure and a structural unit derived from a polymerizable compound (A′-4) other than the components (A′-1) to (A′-3). It may be a copolymer having at least one structural unit, the structural unit derived from the component (A′-1), the structural unit derived from the component (A′-2), and the component (A′-3). It is preferable that the copolymer has all the structural units derived from the above and the structural units derived from the component (A′-4).
(A’−1)成分について;
カルボキシル基を有する重合性化合物(A’−1)としては、前記(A−1)成分と同じものが挙げられる。それらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレートが好ましく、アクリル酸、メタクリル酸がより好ましく、メタクリル酸がさらに好ましい。
(A’−1)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
About the component (A′-1);
Examples of the polymerizable compound (A′-1) having a carboxyl group include the same compounds as the component (A-1). Among these, acrylic acid, methacrylic acid, and 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate are preferable, acrylic acid and methacrylic acid are more preferable, and methacrylic acid is more preferable.
As the component (A′-1), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
(A’−2)成分について;
水酸基を有する重合性化合物(A’−2)としては、前記(A−2)成分と同じものが挙げられる。それらの中でも、透明性の観点から、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレートが好ましく、脂肪族(メタ)アクリレートがより好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがさらに好ましい。
(A’−2)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
About the component (A′-2);
Examples of the polymerizable compound (A′-2) having a hydroxyl group include the same compounds as the component (A-2). Among them, from the viewpoint of transparency, aliphatic (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; 2-hydroxy-3 Aromatic (meth) acrylates such as phenoxypropyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate are preferred, aliphatic (meth) acrylates are more preferred, and 2-hydroxyethyl More preferred is (meth) acrylate.
As the component (A′-2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
(A’−3)成分について;
脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物(A’−3)としては、例えば、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、モノ(2−(メタ)アクリロイロキシエチル)テトラヒドロフタレート、モノ(2−(メタ)アクリロイロキシエチル)ヘキサヒドロフタレート等の脂環式(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、o−ビフェニル(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレート、2−ナフチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、1−ナフトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ナフトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(1−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(2−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート;2−テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−N−カルバゾール等の複素環式(メタ)アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び屈折率の観点から、脂環式(メタ)アクリレート、芳香族(メタ)アクリレートが好ましく、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、o−ビフェニル(メタ)アクリレートがより好ましく、芳香族(メタ)アクリレートがさらに好ましく、フェニル(メタ)アクリレートが特に好ましい。
(A’−3)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
なお、(A’−2)成分に含まれる2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートのように、水酸基と、脂肪族環又は芳香族環との両方を有する重合性化合物の場合には、この重合性化合物は水酸基を有するものであることを優先し、(A’−2)成分の水酸基を有する重合性化合物として分類される。同様に、(A’−1)成分に含まれる2−ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレートのように、カルボキシル基と脂肪族環との両方を有する重合性化合物の場合、あるいは、カルボキシル基と、水酸基と、脂肪族環又は芳香族環とを有する重合性化合物である場合は、カルボキシル基を有するものであることを優先し、(A’−1)成分として分類される。
(A'-3) component;
Examples of the polymerizable compound (A′-3) having an aliphatic ring or an aromatic ring include cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth). Alicyclic (meth) acrylates such as acrylate, isobornyl (meth) acrylate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) tetrahydrophthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydrophthalate; benzyl ( (Meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, o-biphenyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, p-cumylphenoxyethyl (meth) Acrylate, o-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 1-naphthoxyethyl (meth) acrylate, 2-naphthoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (1-naphthoxy) propyl (meth) acrylate, 2 Aromatic (meth) acrylates such as hydroxy-3- (2-naphthoxy) propyl (meth) acrylate; 2-tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N- (meth) Methacryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, 2- (meth) acryloyloxy heterocyclic such as carboxyethyl -N- carbazole (meth) acrylate, etc. These caprolactone modified products thereof.
Among these, from the viewpoint of transparency and refractive index, alicyclic (meth) acrylates and aromatic (meth) acrylates are preferred, and cyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate. , Dicyclopentenyl (meth) acrylate benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, and o-biphenyl (meth) acrylate are more preferable, aromatic (meth) acrylate is more preferable, and phenyl (meth) acrylate is particularly preferable.
(A'-3) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
In the case of a polymerizable compound having both a hydroxyl group and an aliphatic ring or an aromatic ring, such as 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate contained in the component (A′-2). The polymerizable compound is classified as a polymerizable compound having a hydroxyl group as the component (A′-2), giving priority to the one having a hydroxyl group. Similarly, in the case of a polymerizable compound having both a carboxyl group and an aliphatic ring, such as 2-hexahydrophthaloylethyl (meth) acrylate contained in the component (A′-1), or In the case of a polymerizable compound having a hydroxyl group and an aliphatic ring or an aromatic ring, the compound having a carboxyl group is preferentially classified as the component (A′-1).
(A’−4)成分について;
前記(A’−1)〜(A’−3)成分以外の重合性化合物(A’−4)は、主として、(A’)成分である酸性置換基を有するポリマーの機械的特性、透明性及び屈折率を制御できる。
このような重合性化合物としては、(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、(メタ)アクリル酸アルキルエステルがより好ましい。該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、前記(A−3)成分における例示と同じものが挙げられる。それらの中でも、透明性の観点から、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートが好ましく、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートがより好ましく、メチル(メタ)アクリレートがさらに好ましい。
(A’−4)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Regarding the component (A′-4);
The polymerizable compound (A′-4) other than the components (A′-1) to (A′-3) mainly has mechanical properties and transparency of the polymer having an acidic substituent as the component (A ′). And the refractive index can be controlled.
As such a polymerizable compound, (meth) acrylic acid ester is preferable, and (meth) acrylic acid alkyl ester is more preferable. As this (meth) acrylic-acid alkylester, the same thing as the illustration in the said (A-3) component is mentioned. Among them, from the viewpoint of transparency, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate are preferable, methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate are more preferable, and methyl (meth) acrylate Is more preferable.
(A'-4) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
(A’)成分において、カルボキシル基を有する重合性化合物(A’−1)に由来する構造単位の含有率は、5〜60モル%であることが好ましい。5モル%以上であるとアルカリ性水溶液等からなる現像液に溶解し易い傾向にあり、60モル%以下であれば、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する現像工程において、耐現像液性(現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質)が良好となる傾向にある。以上の観点から、8〜50モル%であることがより好ましく、10〜45モル%であることがさらに好ましく、15〜40モル%であることが特に好ましい。 In the component (A ′), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A′-1) having a carboxyl group is preferably 5 to 60 mol%. If it is 5 mol% or more, it tends to dissolve in a developer composed of an alkaline aqueous solution or the like. If it is 60 mol% or less, the pattern of the photosensitive resin composition layer is selectively removed by development described later. In the developing step to be formed, the developer resistance (property that the portion that becomes a pattern without being removed by development is not attacked by the developer) tends to be good. From the above viewpoint, the content is more preferably 8 to 50 mol%, further preferably 10 to 45 mol%, and particularly preferably 15 to 40 mol%.
(A’)成分において、水酸基を有する重合性化合物(A’−2)に由来する構造単位の含有率は、5〜50モル%であることが好ましい。50モル%以下であれば、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する現像工程において、耐現像液性が良好となる傾向にある。以上の観点から、5〜35モル%であることがより好ましく、5〜20モル%であることがさらに好ましい。 In the component (A ′), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A′-2) having a hydroxyl group is preferably 5 to 50 mol%. If it is 50 mol% or less, the developer resistance tends to be improved in the development step of selectively removing the layer of the photosensitive resin composition by development described later to form a pattern. From the above viewpoint, it is more preferably 5 to 35 mol%, and further preferably 5 to 20 mol%.
(A’)成分において、脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物(A’−3)に由来する構造単位の含有率は、5〜70モル%であることが好ましい。5モル%以上であると屈折率を上昇させるのに充分であり、70モル%以下であれば、より高屈折率となり、現像液への溶解性が低下せずに現像によるパターン形成が容易となる。以上の観点から、10〜60モル%であることがさらに好ましく、15〜40モル%であることが特に好ましい。 In the component (A ′), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A′-3) having an aliphatic ring or an aromatic ring is preferably 5 to 70 mol%. If it is 5 mol% or more, it is sufficient to increase the refractive index, and if it is 70 mol% or less, the refractive index becomes higher, and the pattern formation by development is easy without lowering the solubility in the developer. Become. From the above viewpoint, it is more preferable that it is 10-60 mol%, and it is especially preferable that it is 15-40 mol%.
(A’)成分において、前記(A’−1)〜(A’−3)成分以外の重合性化合物(A’−4)に由来する構造単位の含有率は、(A’−1)成分に由来する構造単位、(A’−2)成分に由来する構造単位、(A’−3)成分に由来する構造単位及び(A’−4)成分に由来する構造単位の合計が100モル%となる量である。
(A’)成分の機械的特性、透明性及び屈折率を制御する観点からは、(A’−4)成分に由来する構造単位の含有率は、10〜80モル%であることが好ましい。10モル%以上であると透明性が充分となる傾向にあり、80モル%以下であれば、より高透明となり、現像液への溶解性が低下せずに現像によるパターン形成が容易となる傾向にある。以上の観点から、20〜70モル%であることがより好ましく、30〜60モル%であることがさらに好ましく、35〜50モル%であることが特に好ましい。
なお、(A’)成分において、前記(A’−1)〜(A’−4)成分に由来する構造単位の含有率は、上記の各構成単位の含有率から、合計が100質量%となるようにそれぞれ選択される。
In the component (A ′), the content of the structural unit derived from the polymerizable compound (A′-4) other than the components (A′-1) to (A′-3) is the component (A′-1). The total of the structural unit derived from (A′-2), the structural unit derived from the component (A′-2), the structural unit derived from the component (A′-3) and the structural unit derived from the component (A′-4) is 100 mol%. This is the amount.
From the viewpoint of controlling the mechanical properties, transparency and refractive index of the component (A ′), the content of the structural unit derived from the component (A′-4) is preferably 10 to 80 mol%. If it is 10 mol% or more, the transparency tends to be sufficient, and if it is 80 mol% or less, it becomes more transparent and tends to facilitate pattern formation by development without lowering the solubility in a developer. It is in. From the above viewpoint, the content is more preferably 20 to 70 mol%, further preferably 30 to 60 mol%, and particularly preferably 35 to 50 mol%.
In addition, in (A ') component, the content rate of the structural unit derived from said (A'-1)-(A'-4) component is 100 mass% in total from the content rate of said each structural unit. Each is selected to be.
(A’)成分の製造方法に特に制限はないが、例えば、前記(A’−1)〜(A’−4)成分を、適切な重合開始剤(好ましくはラジカル重合開始剤)を用いて重合又は共重合させることにより、(A’)成分を得ることができる。このとき、必要に応じて、有機溶剤を用いることもできる。 Although there is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of (A ') component, For example, the said (A'-1)-(A'-4) component is used using an appropriate polymerization initiator (preferably radical polymerization initiator). (A ') component can be obtained by making it superpose | polymerize or copolymerize. At this time, an organic solvent can also be used as needed.
重合開始剤及び有機溶剤について、前記(A)成分における説明と同じように説明される。
さらに(A’)成分は、必要に応じて、側鎖にエチレン性不飽和基を含んでいてもよい。これも、前記(A)成分における説明と同じように説明される。
About a polymerization initiator and an organic solvent, it demonstrates similarly to the description in the said (A) component.
Furthermore, (A ') component may contain the ethylenically unsaturated group in the side chain as needed. This is also explained in the same manner as the explanation for the component (A).
(A’)成分の重量平均分子量(Mw)は、1,000〜3,000,000であることが好ましい。1,000以上であると分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分となる傾向にあり、3,000,000以下であれば、アルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性及び(B’)成分との相溶性が良好となる傾向にある。以上の観点から、3,000〜2,000,000がより好ましく、5,000〜1,000,000がさらに好ましく、5,000〜200,000が特に好ましく、5,000〜100,000が最も好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the component (A ′) is preferably 1,000 to 3,000,000. If the molecular weight is 1,000 or more, the cured product tends to have sufficient strength due to a large molecular weight. If it is 3,000,000 or less, the solubility in a developer composed of an alkaline aqueous solution and The compatibility with the component (B ′) tends to be good. From the above viewpoint, 3,000 to 2,000,000 is more preferable, 5,000 to 1,000,000 is more preferable, 5,000 to 200,000 is particularly preferable, and 5,000 to 100,000 is preferable. Most preferred.
(A’)成分は、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、(A’)成分の酸価は20〜300mgKOH/gであることが好ましい。20mgKOH/g以上であると現像が容易となる傾向にあり、300mgKOH/g以下であると耐現像液性が低下しない傾向にある。以上の観点から、上記アルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、(A’)成分の酸価は30〜250mgKOH/gであることがより好ましく、40〜200mgKOH/gであることがさらに好ましい。
また、水又はアルカリ性水溶液と、1種以上の界面活性剤とからなるアルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、(A’)成分の酸価は10〜260mgKOH/gであることが好ましい。酸価が10mgKOH/g以上であると現像が容易となる傾向にあり、260mgKOH/g以下であると耐現像液性が低下しない傾向にある。以上の観点から、1種以上の界面活性剤を含有するアルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、(A’)成分の酸価は20〜250mgKOH/gであることがより好ましく、30〜200mgKOH/gであることがさらに好ましい。
The component (A ′) has an acid value so that it can be developed with various known developing solutions in the step of selectively removing a layer of the photosensitive resin composition by development described later to form a pattern. Can do. For example, when developing using an alkaline aqueous solution such as sodium carbonate, potassium carbonate, tetramethylammonium hydroxide, triethanolamine, etc., the acid value of the component (A ′) is preferably 20 to 300 mgKOH / g. When it is 20 mgKOH / g or more, development tends to be easy, and when it is 300 mgKOH / g or less, developer resistance tends not to be lowered. From the above viewpoint, when developing using the alkaline aqueous solution, the acid value of the component (A ′) is more preferably 30 to 250 mgKOH / g, and further preferably 40 to 200 mgKOH / g.
Moreover, when developing using the alkaline aqueous solution which consists of water or alkaline aqueous solution and 1 or more types of surfactant, it is preferable that the acid value of (A ') component is 10-260 mgKOH / g. When the acid value is 10 mgKOH / g or more, development tends to be easy, and when it is 260 mgKOH / g or less, the developer resistance tends not to decrease. From the above viewpoint, when developing using an alkaline aqueous solution containing one or more surfactants, the acid value of the component (A ′) is more preferably 20 to 250 mgKOH / g, and 30 to 200 mgKOH. More preferably, it is / g.
((B’)成分:2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物)
(B’)成分が有するエチレン性不飽和基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられ、これらの中でも、(メタ)アクリロイル基、ビニル基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
(B’)成分としては、透明性、耐熱性及び低光伝搬損失の観点から、(B’−1)ジ(メタ)アクリレート、(B’−2)3官能以上のポリ(メタ)アクリレートが好ましく、(B’−1)ジ(メタ)アクリレートがより好ましい。
((B ′) component: polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups)
Examples of the ethylenically unsaturated group contained in the component (B ′) include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. Among these, a (meth) acryloyl group and a vinyl group are preferable, ) An acryloyl group is more preferred.
As the component (B ′), from the viewpoint of transparency, heat resistance and low light propagation loss, (B′-1) di (meth) acrylate and (B′-2) trifunctional or higher poly (meth) acrylate are included. Preferably, (B′-1) di (meth) acrylate is more preferable.
(B’−1)ジ(メタ)アクリレートは、クラッド材における前記(B2−1)成分のジ(メタ)アクリレートと同じように説明される。特に、下記一般式(1)で表される芳香族ジ(メタ)アクリレート、下記一般式(2)で表される芳香族ジ(メタ)アクリレートがより好ましく、下記一般式(1)で表される芳香族ジ(メタ)アクリレートがさらに好ましい。 (B′-1) di (meth) acrylate is described in the same manner as the di (meth) acrylate of the component (B2-1) in the clad material. In particular, the aromatic di (meth) acrylate represented by the following general formula (1) and the aromatic di (meth) acrylate represented by the following general formula (2) are more preferable, and represented by the following general formula (1). More preferred is an aromatic di (meth) acrylate.
式(1)中、R10は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、R11は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜20の1価の有機基を示し、同一でも異なっていてもよい。
なお、炭素数1〜20の1価の有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、エステル基(−CO−O−R又は−O−CO−Rを意味する。ただしRは炭化水素基である)、カルバモイル基等の1価の有機基が挙げられ、それらは、さらに水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基等で置換されていてもよい。これらの中でも、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基が好ましい。
式(1)中、Z2は単結合、酸素原子、硫黄原子、−CH2−、−C(CH3)2−、−CF2−、−C(CF3)2−、−SO2−、及び下記式で示されるいずれかの2価の基を示す。
In formula (1), R < 10 > shows a hydrogen atom or a methyl group each independently, and may be same or different. R 11 independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and may be the same or different.
Examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, an ester group (—CO—O—R or —O—CO—R). Where R is a hydrocarbon group), and monovalent organic groups such as a carbamoyl group, and further include a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a carbonyl group. Group, formyl group, ester group, amide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, amino group, silyl group, silyloxy group and the like. Among these, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group are preferable from the viewpoint of transparency and heat resistance.
In formula (1), Z 2 represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CF 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —SO 2 —. And any divalent group represented by the following formula:
R12は水素原子、フッ素原子、及び炭素数1〜20の1価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。また、fは2〜10の整数を示す。なお、炭素数1〜20の1価の有機基としては、前述のR11で炭素数1〜20の1価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができ、好ましいものも同じである。 R 12 represents any one of a hydrogen atom, a fluorine atom, and a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and may be the same or different. F represents an integer of 2 to 10. As the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, mention may be made of suitably the same as what was described as the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms in R 11 described above, preferred The same is true.
一般式(1)において、Y2は酸素原子、硫黄原子、−OCH2−、−SCH2−、−O(CH2CH2O)g−、−O[CH(CH3)CH2O]h−、−O[CH2CH(CH3)O]i−、及び−O[(CH2)5CO2]j−のいずれかの2価の基を含み、同一でも異なっていてもよい。また、g〜jは各々独立に1〜10の整数を示す。 In the general formula (1), Y 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom, -OCH 2 -, - SCH 2 -, - O (CH 2 CH 2 O) g -, - O [CH (CH 3) CH 2 O] h −, —O [CH 2 CH (CH 3 ) O] i —, and —O [(CH 2 ) 5 CO 2 ] j — are included and may be the same or different. . G to j each independently represent an integer of 1 to 10.
式(2)中、kは、1〜10の整数を示す。
式(2)中、R13は水素原子又はメチル基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、R14は水素原子、フッ素原子、及び炭素数1〜20の1価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。
炭素数1〜20の1価の有機基としては、前述のR11で炭素数1〜20の1価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができ、好ましいものも同じである。
式(2)中、Z3は単結合、酸素原子、硫黄原子、−CH2−、−C(CH3)2−、−CF2−、−C(CF3)2−、−SO2−、及び下記式で示されるいずれかの2価の基を示す。
In formula (2), k represents an integer of 1 to 10.
In the formula (2), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. R 14 represents any one of a hydrogen atom, a fluorine atom, and a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and may be the same or different.
As the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, the same as those described as the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms in R 11 described above can be suitably exemplified, and preferred ones are also included. The same.
In formula (2), Z 3 represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CF 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —SO 2 —. And any divalent group represented by the following formula:
R15は水素原子、フッ素原子、及び炭素数1〜20の1価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。また、lは2〜10の整数を示す。
炭素数1〜20の1価の有機基としては、前記R14と同じものが挙げられる。これらの中でも、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。
R 15 represents any one of a hydrogen atom, a fluorine atom, and a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and may be the same or different. L represents an integer of 2 to 10.
The monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms include the same said R 14. Among these, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group are preferable from the viewpoints of transparency and heat resistance.
一般式(2)において、Y3は酸素原子、硫黄原子、−O(CH2CH2O)m−、−O[CH(CH3)CH2O]n−、−O[CH2CH(CH3)O]o−、及び−O[(CH2)5CO2]p−のいずれかの2価の基を含み、同一でも異なっていてもよい。また、m〜pは各々独立に1〜10の整数を示す。 In General Formula (2), Y 3 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —O (CH 2 CH 2 O) m —, —O [CH (CH 3 ) CH 2 O] n —, —O [CH 2 CH ( The divalent group includes any of CH 3 ) O] o — and —O [(CH 2 ) 5 CO 2 ] p —, which may be the same or different. M to p each independently represents an integer of 1 to 10.
(B’−2)3官能以上のポリ(メタ)アクリレートとしては、前記クラッド材の(B2−2)成分と同じように説明される。 (B′-2) The tri- or higher functional poly (meth) acrylate is described in the same manner as the (B2-2) component of the clad material.
前記(B’)成分の含有量は、(A’)成分及び(B’)成分の総量100質量部に対して、20〜70質量部であることが好ましい。20質量部以上であると、低光伝搬損失が向上し、且つ、光硬化時に(A’)成分を十分に絡め込んで硬化するために耐現像液性が良好となる傾向にあり、70質量部以下であると、アルカリ現像液への溶解性が良好となる傾向にある。以上の観点から、(B’)成分の配合量の下限値は、25質量部であることがより好ましく、35質量部であることがさらに好ましい。また、上限値は、70質量部であることがより好ましく、65質量部であることがさらに好ましい。 The content of the component (B ′) is preferably 20 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass as a total of the components (A ′) and (B ′). When it is 20 parts by mass or more, low light propagation loss is improved, and since the component (A ′) is sufficiently entangled and cured at the time of photocuring, the developer resistance tends to be good, and 70 masses. If it is at most part, the solubility in an alkali developer tends to be good. From the above viewpoint, the lower limit of the blending amount of the component (B ′) is more preferably 25 parts by mass, and further preferably 35 parts by mass. Moreover, as for an upper limit, it is more preferable that it is 70 mass parts, and it is further more preferable that it is 65 mass parts.
((C’)成分:重合開始剤)
重合開始剤としては、加熱又は紫外線等の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤等が挙げられるが、硬化速度が速く常温硬化が可能なことから、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤としては、クラッド材の(C)成分と同じように説明される。
(C’)成分の重合開始剤の含有量は、(A’)成分及び(B’)成分の総量100質量部に対して、0.3〜10質量部であることが好ましい。0.3質量部以上であると、硬化が十分であり、硬化不足による未反応物の析出を抑制し易い傾向にあり、10質量部以下であると、十分な光透過性が得られる傾向にある。以上の観点から、0.35〜7質量部であることがより好ましく、0.40〜5質量部であることがさらに好ましく、0.45〜3質量部であることが特に好ましい。
((C ′) component: polymerization initiator)
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it initiates polymerization by heating or irradiation with ultraviolet rays or the like, and examples thereof include a thermal radical polymerization initiator and a photo radical polymerization initiator. Since it can be cured, a radical photopolymerization initiator is preferred.
The thermal radical polymerization initiator and the photo radical polymerization initiator are explained in the same manner as the component (C) of the clad material.
It is preferable that content of the polymerization initiator of (C ') component is 0.3-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A') component and (B ') component. When it is 0.3 parts by mass or more, curing is sufficient, and it is easy to suppress precipitation of unreacted materials due to insufficient curing, and when it is 10 parts by mass or less, sufficient light transmittance tends to be obtained. is there. From the above viewpoint, it is more preferably 0.35 to 7 parts by mass, further preferably 0.40 to 5 parts by mass, and particularly preferably 0.45 to 3 parts by mass.
((D’)成分:熱硬化性樹脂)
コア材は、(D’)成分として熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
熱硬化性樹脂としては、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物、及び分子内にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物、分子内にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物としては、前記(D)成分の熱硬化性樹脂と同じものが挙げられる。
コア材が(D’)成分を含有する場合、その含有量は、(A’)〜(C’)成分の総量100質量部に対して、1〜40質量部であることが好ましい。1質量部以上であると、(A)成分と十分な架橋構造を形成するため、耐熱性が良好となる傾向にあり、40質量部以下であると、アルカリ現像液への溶解性が良好となる傾向にある。同様の観点から、(D’)成分の含有量は、3〜35質量部であることがより好ましく、5〜30質量部であることがさらに好ましい。
((D ′) component: thermosetting resin)
The core material may contain a thermosetting resin as a component (D ′).
The thermosetting resin is preferably at least one selected from the group consisting of a compound having two or more epoxy groups in the molecule and a compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in the molecule.
Examples of the compound having two or more epoxy groups in the molecule and the compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in the molecule include the same as the thermosetting resin of the component (D).
When a core material contains (D ') component, it is preferable that the content is 1-40 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A')-(C ') component. When it is 1 part by mass or more, it forms a sufficient cross-linked structure with the component (A), so the heat resistance tends to be good, and when it is 40 parts by mass or less, the solubility in an alkali developer is good. Tend to be. From the same viewpoint, the content of the component (D ′) is more preferably 3 to 35 parts by mass, and further preferably 5 to 30 parts by mass.
((E’)モノ(メタ)アクリレート)
本発明のコア材は、(E’)成分としてモノ(メタ)アクリレートを含有していてもよい。モノ(メタ)アクリレートとしては、特に制限は無く、例えば特開2015−215467号公報の段落[0033]に記載の(メタ)アクリレートが挙げられる。
コア材に(E’)成分を含有させる場合、その含有量は、(A’)〜(C’)成分の総量100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましい。
((E ') mono (meth) acrylate)
The core material of the present invention may contain mono (meth) acrylate as the component (E ′). There is no restriction | limiting in particular as mono (meth) acrylate, For example, the (meth) acrylate as described in Paragraph [0033] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-215467 is mentioned.
When the (E ′) component is contained in the core material, the content is preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A ′) to (C ′), and 5 parts by mass. The following is more preferable.
(添加剤)
また、この他に、本発明のコア材は、必要に応じて、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等の添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で含有していてもよい。
コア材に添加剤を含有させる場合、その含有量は、(A’)〜(C’)成分の総量100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、10質量部以下であることがより好ましく、5質量部以下であることがさらに好ましい。
(Additive)
In addition to this, the core material of the present invention may be added with an antioxidant, an anti-yellowing agent, an ultraviolet absorber, a visible light absorber, a colorant, a plasticizer, a stabilizer, a filler, etc., if necessary. You may contain the agent in the ratio which does not have a bad influence on the effect of this invention.
When the core material contains an additive, the content thereof is preferably 20 parts by mass or less, and preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A ′) to (C ′). More preferred is 5 parts by mass or less.
〔樹脂ワニス〕
(有機溶剤)
前記クラッド材及びコア材はいずれも、好適な有機溶剤を含有させて希釈した、いわゆる樹脂ワニスであってもよい。該有機溶剤としては、クラッド材及びコア材を溶解し得るものであれば特に制限はない。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p−シメン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の環状エーテル;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
[Resin varnish]
(Organic solvent)
Each of the clad material and the core material may be a so-called resin varnish diluted with a suitable organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the clad material and the core material. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene and p-cymene; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; acetone , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and γ-butyrolactone; ethylene carbonate, propylene Carbonates such as carbonates; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether Polyethylene such as tellurium, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether Alcohol alkyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate And polyhydric alcohol alkyl ether acetates such as diethylene glycol monomethyl ether acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.
これらの中でも、溶解性及び沸点の観点から、芳香族炭化水素、アルコール、ケトン、エステル、多価アルコールアルキルエーテルアセテート、アミドが好ましく、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、N,N−ジメチルアセトアミドであることがより好ましい。
また、クラッド材及びコア材は、(A)成分及び(A’)成分の製造の際に用いた有機溶剤をそのまま含有していてもよい。
有機溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
樹脂ワニス中の固形分濃度は、塗布容易性の観点から、通常、20〜80質量%であることが好ましい。
Among these, from the viewpoint of solubility and boiling point, aromatic hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, polyhydric alcohol alkyl ether acetates, and amides are preferable, and toluene, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol It should be monomethyl ether acetate, N, N-dimethylacetamide Preferred.
Moreover, the clad material and the core material may contain the organic solvent used in the production of the component (A) and the component (A ′) as they are.
An organic solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
The solid concentration in the resin varnish is usually preferably 20 to 80% by mass from the viewpoint of ease of application.
クラッド材及びコア材を樹脂ワニスとする際には、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、10〜1,000rpm(min−1)であることが好ましい。 When making a clad material and a core material into a resin varnish, it is preferable to mix by stirring. Although there is no restriction | limiting in particular in the stirring method, From the viewpoint of stirring efficiency, stirring using a propeller is preferable. Although there is no restriction | limiting in particular in the rotational speed of the propeller at the time of stirring, It is preferable that it is 10-1,000 rpm (min < -1 >).
特に制限されるわけではないが、樹脂ワニスは、孔径50μm以下のフィルタを用いて濾過することが好ましい。孔径50μm以下であると、大きな異物等が除去されて、ワニス塗布時にはじき等を生じることがなく、またコア部を伝搬する光の散乱が抑制される傾向にある。以上の観点から、孔径30μm以下のフィルタを用いて濾過することがより好ましく、孔径10μm以下のフィルタを用いて濾過することがさらに好ましい。
また、特に制限されるわけではないが、樹脂ワニスは減圧下で脱泡したものを用いることが好ましい。脱泡方法には、特に制限はなく、具体例としては、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、3〜60分であることが好ましい。3分以上であると、樹脂ワニス内に溶解した気泡を取り除ける傾向にある。60分以下であると、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が揮発しにくい傾向にある。
Although not particularly limited, the resin varnish is preferably filtered using a filter having a pore size of 50 μm or less. When the pore diameter is 50 μm or less, large foreign matters or the like are removed, and no repelling or the like occurs during varnish application, and scattering of light propagating through the core portion tends to be suppressed. From the above viewpoint, it is more preferable to filter using a filter having a pore diameter of 30 μm or less, and it is more preferable to filter using a filter having a pore diameter of 10 μm or less.
Further, although not particularly limited, it is preferable to use a resin varnish defoamed under reduced pressure. There is no restriction | limiting in particular in the defoaming method, As a specific example, the method of using a vacuum pump, a bell jar, and a defoaming apparatus with a vacuum apparatus is mentioned. Although there is no restriction | limiting in particular in the pressure at the time of pressure reduction, The pressure which the organic solvent contained in a resin varnish does not boil is preferable. Although there is no restriction | limiting in particular in vacuum degassing time, It is preferable that it is 3 to 60 minutes. If it is 3 minutes or longer, bubbles dissolved in the resin varnish tend to be removed. If it is 60 minutes or less, the organic solvent contained in the resin varnish tends to be less volatile.
本発明のクラッド材又はコア材から形成される硬化フィルムの、温度25℃における波長830〜850nmの範囲での屈折率は、1.400〜1.700であることが好ましい。1.400〜1.700であれば、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれにくい傾向にある。以上の観点から、前記屈折率は、1.425〜1.675であることがより好ましく、1.450〜1.650であることがさらに好ましい。 The refractive index of the cured film formed from the clad material or core material of the present invention in the wavelength range of 830 to 850 nm at a temperature of 25 ° C. is preferably 1.400 to 1.700. If the refractive index is 1.400 to 1.700, the refractive index is not significantly different from that of a normal optical resin, and therefore the versatility as an optical material tends to be hardly impaired. From the above viewpoint, the refractive index is more preferably 1.425 to 1.675, and further preferably 1.450 to 1.650.
本発明のクラッド材又はコア材から形成される厚み50μmの硬化フィルムの波長400nmでの透過率は80%以上であることが好ましい。80%以上であると、光の透過量が十分であるといえる。同様の観点から、該透過率は85%以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限はない。 The transmittance at a wavelength of 400 nm of a cured film having a thickness of 50 μm formed from the clad material or core material of the present invention is preferably 80% or more. If it is 80% or more, it can be said that the amount of transmitted light is sufficient. From the same viewpoint, the transmittance is more preferably 85% or more. In addition, there is no restriction | limiting in particular about the upper limit of the transmittance | permeability.
[光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム及び光導波路コア部形成用樹脂フィルム]
前記クラッド材及びコア材から、前記クラッド材を含有する光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム、及び前記コア材を含有する光導波路コア部形成用樹脂フィルムを形成することができる。以下、本発明の光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム及び光導波路コア部形成用樹脂フィルム(以下、光導波路形成用樹脂フィルムと総称することがある)について説明する。
[Resin film for forming optical waveguide cladding layer and resin film for forming optical waveguide core]
From the clad material and the core material, an optical waveguide clad layer forming resin film containing the clad material and an optical waveguide core part forming resin film containing the core material can be formed. Hereinafter, the resin film for forming an optical waveguide clad layer and the resin film for forming an optical waveguide core part of the present invention (hereinafter may be collectively referred to as an optical waveguide forming resin film) will be described.
光導波路形成用樹脂フィルムは、前記クラッド材又はコア材を樹脂ワニスの状態で基材(基材フィルム)に塗布し、次いで有機溶剤を除去することにより容易に製造することができる。また、有機溶剤を含有しないクラッド材又はコア材を、直接基材(基材フィルム)に塗布することによってフィルムを製造してもよい。 The resin film for forming an optical waveguide can be easily produced by applying the clad material or core material to a base material (base film) in the state of a resin varnish, and then removing the organic solvent. Moreover, you may manufacture a film by apply | coating the clad material or core material which does not contain an organic solvent directly to a base material (base film).
前記基材フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中でも、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンが好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as said base film, For example, Polyester, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polyolefin, such as polyethylene and a polypropylene; Polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyether Examples thereof include sulfide, polyethersulfone, polyetherketone, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, and liquid crystal polymer.
Among these, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, and polysulfone are preferable from the viewpoints of flexibility and toughness.
基材フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜選択できるが、通常、3〜250μmであることが好ましい。3μm以上であるとフィルム強度が十分となる傾向にあり、250μm以下であると、十分な柔軟性が得られる傾向にある。以上の観点から、基材フィルムの厚みは5〜200μmであることがより好ましく、7〜150μmであることがさらに好ましい。なお、クラッド材又はコア材との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを用いてもよい。 The thickness of the base film can be appropriately selected depending on the intended flexibility, but it is usually preferably 3 to 250 μm. If it is 3 μm or more, the film strength tends to be sufficient, and if it is 250 μm or less, sufficient flexibility tends to be obtained. From the above viewpoint, the thickness of the base film is more preferably 5 to 200 μm, and further preferably 7 to 150 μm. In addition, from the viewpoint of improving releasability from the clad material or the core material, a film that has been subjected to a release treatment with a silicone compound, a fluorine-containing compound, or the like may be used.
以上のようにして得られる光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層(クラッド材又はコア材から形成される層を指し、以下、同様である。)上に貼り付け、基材フィルム、樹脂層及び保護フィルムの順で積層された3層構造としてもよい。これにより、本発明は、基材フィルムと、光導波路クラッド材を含有する樹脂層と、保護フィルムとを有する光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムも提供する。
該保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどが挙げられる。これらの中でも、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、10〜250μmであることが好ましい。10μm以上であるとフィルム強度が十分であり、250μm以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、15〜200μmであることがより好ましく、20〜150μmであることがさらに好ましい。
The resin film for forming an optical waveguide obtained as described above is applied with a protective film on a resin layer (a layer formed from a clad material or a core material, hereinafter the same), if necessary. It is good also as a 3 layer structure laminated | stacked in order of the base film, the resin layer, and the protective film. Thereby, this invention also provides the resin film for optical waveguide clad layer formation which has a base film, the resin layer containing an optical waveguide clad material, and a protective film.
The protective film is not particularly limited, and examples thereof include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene. Among these, from the viewpoints of flexibility and toughness, polyesters such as polyethylene terephthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene are preferable. In addition, from the viewpoint of improving the peelability from the resin layer, a film that has been subjected to a release treatment with a silicone compound, a fluorine-containing compound, or the like may be used as necessary. The thickness of the protective film may be appropriately changed depending on the intended flexibility, but is preferably 10 to 250 μm. When it is 10 μm or more, the film strength is sufficient, and when it is 250 μm or less, sufficient flexibility is obtained. From the above viewpoint, the thickness is more preferably 15 to 200 μm, and further preferably 20 to 150 μm.
光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム及び光導波路コア部形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に限定されないが、いずれも、乾燥後の厚みで、通常、5〜500μmであることが好ましい。5μm以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は該フィルムの硬化物の強度が十分となる傾向にあり、500μm以下であると、乾燥を十分に行えるため、樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることなく、該フィルムの硬化物を加熱したときに発泡するのを抑制しやすくなる傾向にある。 The thickness of the resin layer of the resin film for forming an optical waveguide clad layer and the resin film for forming an optical waveguide core part is not particularly limited, but both are preferably 5 to 500 μm after drying. If the thickness is 5 μm or more, the thickness is sufficient, so that the strength of the resin film or the cured product of the film tends to be sufficient. If the thickness is 500 μm or less, the drying can be sufficiently performed, so the amount of residual solvent in the resin film Without increasing, it tends to suppress foaming when the cured product of the film is heated.
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。または、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。 The resin film for forming an optical waveguide thus obtained can be easily stored, for example, by winding it into a roll. Alternatively, a roll-shaped film can be cut into a suitable size and stored in a sheet shape.
[光導波路]
以下、本発明の光導波路について図面を用いて説明する。
図2は、本発明の光導波路の構成例を示す断面図である。
図2の(a)に示すように、光導波路1は基材7上に形成され、高屈折率であるコア材から形成されるコア部2、並びに、低屈折率であるクラッド材から形成される下部クラッド層6及び上部クラッド層5で構成されている。
本発明の光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムは、光導波路1の下部クラッド層6及び上部クラッド層5のうち、少なくとも1つの形成に用いることが好ましく、両方に用いることが好ましい。また、前記光導波路コア部形成用樹脂フィルムは、コア部2の形成に用いることが好ましい。このように、本発明は、コア部と、前記光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを用いて形成したクラッド層とを有する光導波路を提供する。
[Optical waveguide]
Hereinafter, the optical waveguide of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of the optical waveguide of the present invention.
As shown in FIG. 2A, the optical waveguide 1 is formed on a base material 7 and is formed of a core portion 2 formed of a core material having a high refractive index and a clad material having a low refractive index. A lower clad layer 6 and an upper clad layer 5.
The resin film for forming an optical waveguide clad layer of the present invention is preferably used for forming at least one of the lower clad layer 6 and the upper clad layer 5 of the optical waveguide 1 and is preferably used for both. The resin film for forming an optical waveguide core part is preferably used for forming the core part 2. Thus, this invention provides the optical waveguide which has a core part and the clad layer formed using the said resin film for optical waveguide clad layer formation.
各クラッド層及びコア部の形成に前記光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、クラッド層とコア部の層間密着性、及びコアパターン形成時のパターン形成性(細線又は狭線間対応性)をより向上させることができ、線幅及び線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。加えて、大面積の光導波路を一度に製造できるという生産性に優れたプロセスを提供することが可能となる。 By using the optical waveguide forming resin film for the formation of each clad layer and core part, interlayer adhesion between the clad layer and core part, and pattern formability (correspondence between fine lines or narrow lines) at the time of core pattern formation can be achieved. It is possible to further improve, and it is possible to form a fine pattern with a small line width and line. In addition, it is possible to provide a process with excellent productivity in which a large-area optical waveguide can be manufactured at a time.
光導波路1において、基材7として、例えば、シリコン基板、ガラス基板、又はFR−4等のガラスエポキシ樹脂基板のような硬い基板を用いることができる。光導波路1は、上記基板の代わりに、柔軟性及び強靭性のある前記基材フィルムを用いて、フレキシブル光導波路としてもよい。 In the optical waveguide 1, a hard substrate such as a silicon substrate, a glass substrate, or a glass epoxy resin substrate such as FR-4 can be used as the base material 7. The optical waveguide 1 may be a flexible optical waveguide using the base film having flexibility and toughness instead of the substrate.
また、柔軟性及び強靭性のある基材フィルムを光導波路1のカバーフィルム8として機能させてもよい。カバーフィルム8を配置することにより、カバーフィルム8の柔軟性及び強靭性を光導波路1に付与することが可能となる。また、光導波路1が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図2の(b)のように、上部クラッド層5の外側にカバーフィルム8が配置されていたり、図2の(c)のように、下部クラッド層6及び上部クラッド層5の両方の外側にカバーフィルム8が配置されていたりしてもよい。
光導波路1に柔軟性及び強靭性が十分に備わっているならば、図2の(d)のように、カバーフィルム8が配置されていなくてもよい。
Further, a base film having flexibility and toughness may be functioned as the cover film 8 of the optical waveguide 1. By disposing the cover film 8, the flexibility and toughness of the cover film 8 can be imparted to the optical waveguide 1. Further, since the optical waveguide 1 is not damaged or scratched, the ease of handling is improved.
From the above viewpoint, the cover film 8 is disposed outside the upper clad layer 5 as shown in FIG. 2B, or the lower clad layer 6 and the upper clad layer 5 as shown in FIG. The cover film 8 may be arrange | positioned on both the outer sides.
If the optical waveguide 1 has sufficient flexibility and toughness, the cover film 8 may not be disposed as shown in FIG.
下部クラッド層6の厚みに特に制限はないが、2〜200μmであることが好ましい。2μm以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めやすくなる傾向にあり、200μm以下であると、光導波路1全体の厚みが大き過ぎずに程良くなる傾向にある。なお、下部クラッド層6の厚みとは、コア部2と下部クラッド層6との境界から下部クラッド層6の下面までの最短距離の平均値を指す。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層6の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the lower clad layer 6, It is preferable that it is 2-200 micrometers. If the thickness is 2 μm or more, propagating light tends to be easily confined inside the core, and if it is 200 μm or less, the thickness of the entire optical waveguide 1 tends to be improved without being too large. The thickness of the lower cladding layer 6 refers to the average value of the shortest distance from the boundary between the core portion 2 and the lower cladding layer 6 to the lower surface of the lower cladding layer 6.
There is no restriction | limiting in particular about the thickness of the resin film for lower clad layer formation, and thickness is adjusted so that the thickness of the lower clad layer 6 after hardening may become said range.
コア部2の高さは、特に制限はないが、10〜100μmであることが好ましい。コア部の高さが10μm以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくならない傾向にあり、100μm以下であれば、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくならない傾向にある。以上の観点から、コア部の高さは、15〜80μmであることがより好ましく、20〜70μmであることがさらに好ましい。なお、光導波路コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。 The height of the core part 2 is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm. If the height of the core is 10 μm or more, the alignment tolerance tends not to be reduced in the coupling with the light emitting / receiving element or the optical fiber after the optical waveguide is formed. In coupling with an element or an optical fiber, coupling efficiency tends not to decrease. From the above viewpoint, the height of the core part is more preferably 15 to 80 μm, and further preferably 20 to 70 μm. In addition, there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the resin film for optical waveguide core part formation, Thickness is adjusted so that the height of the core part after hardening may become said range.
上部クラッド層5の厚みは、コア部2を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、12〜500μmであることが好ましい。上部クラッド層5の厚みとしては、最初に形成される下部クラッド層6の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部2を埋め込むという観点から、下部クラッド層6の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層5の厚みとは、コア部2と下部クラッド層6との境界から上部クラッド層5の上面までの最短距離の平均値を指す。 The thickness of the upper clad layer 5 is not particularly limited as long as the core portion 2 can be embedded, but the thickness after drying is preferably 12 to 500 μm. The thickness of the upper clad layer 5 may be the same as or different from the thickness of the lower clad layer 6 formed first, but is thicker than the thickness of the lower clad layer 6 from the viewpoint of embedding the core portion 2. It is preferable to do. The thickness of the upper clad layer 5 refers to the average value of the shortest distance from the boundary between the core portion 2 and the lower clad layer 6 to the upper surface of the upper clad layer 5.
以上のようにして製造される本発明の導波路は、コア部において、コア部を形成するコア材に、クラッド層を形成するクラッド材が混入して形成されてなる部位を有する。コア部において、前記コア材に前記クラッド材が混入して形成されてなる部位が10〜90体積%を占めることが好ましく、20〜90体積%を占めることがより好ましく、30〜90体積%を占めることがさらに好ましく、40〜90体積%を占めることが特に好ましく、さらには、50〜90体積%、60〜90体積%、60〜80体積%を占めていることも好ましい。
また、クラッド層において、クラッド層を形成するクラッド材に、コア部を形成するコア材が混入して形成されてなる部位を有していてもよい。
本発明の光導波路は、波長850nmにおける光伝搬損失として0.25dB/cm以下、さらには0.15dB/cm以下を実現することができるため、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。
The waveguide of the present invention manufactured as described above has a portion formed by mixing the core material forming the core portion with the clad material forming the cladding layer in the core portion. In the core portion, the portion formed by mixing the clad material with the core material preferably occupies 10 to 90% by volume, more preferably 20 to 90% by volume, and 30 to 90% by volume. More preferably, it occupies 40 to 90% by volume, more preferably 50 to 90% by volume, 60 to 90% by volume, and 60 to 80% by volume.
Further, the clad layer may have a portion formed by mixing the clad material forming the clad layer with the core material forming the core part.
The optical waveguide of the present invention can realize a light propagation loss of 0.25 dB / cm or less, further 0.15 dB / cm or less as a light propagation loss at a wavelength of 850 nm. It is.
以下、前記光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路1を製造する方法について説明する。
本発明の光導波路1を製造する方法としては、前述の通り、前記光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
Hereinafter, a method for manufacturing the optical waveguide 1 using the resin film for forming an optical waveguide will be described.
As described above, the method of manufacturing the optical waveguide 1 of the present invention is preferably a method of manufacturing the optical waveguide forming resin film by a lamination method.
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部及び上部クラッド層に用いて光導波路1を製造する方法について、図3を用いて説明する。
まず、図3の(a)に示すように、第1の工程として光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを基材7上に積層して下部クラッド層6を形成する。第1の工程における積層方式としては、ロールラミネータ、または平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法が挙げられるが、密着性及び追従性の観点から、平板型ラミネータを用いて減圧下で下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することが好ましい。なお、本発明において平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、40〜130℃であることが好ましく、圧着圧力は、0.1〜1MPaであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合には、保護フィルムを除去した後に積層する。
なお、真空加圧式ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめ光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを基材7上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行ってもよい。ラミネート温度は、20〜130℃であることが好ましい。20℃以上であると、下部クラッド層6を形成するための樹脂フィルムと基材7との密着性が向上する傾向にあり、130℃以下であると、樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られやすい傾向にある。以上の観点から、ラミネート温度は40〜100℃であることがより好ましい。圧力は0.2〜0.9MPaであることが好ましく、ラミネート速度は0.1〜3m/minであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
Hereinafter, a method of manufacturing the optical waveguide 1 using the optical waveguide forming resin film for the lower clad layer, the core portion, and the upper clad layer will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 3A, as a first step, a resin film for forming an optical waveguide cladding layer is laminated on a substrate 7 to form a lower cladding layer 6. As a laminating method in the first step, there is a method of laminating by pressing with a roll laminator or a flat plate laminator while heating, but from the viewpoint of adhesion and followability, a flat laminator is used. It is preferable to laminate the resin film for lower clad layer formation under reduced pressure. In the present invention, the flat plate type laminator refers to a laminator in which a laminated material is sandwiched between a pair of flat plates and pressed by pressing the flat plate. For example, a vacuum pressurizing laminator can be suitably used. The heating temperature here is preferably 40 to 130 ° C., and the pressing pressure is preferably 0.1 to 1 MPa, but these conditions are not particularly limited. When a protective film is present in the optical waveguide clad layer forming resin film, the protective film is removed and then laminated.
In addition, you may temporarily stick the resin film for optical waveguide clad layer forming on the base material 7 beforehand using a roll laminator before lamination | stacking by a vacuum pressurization type laminator. Here, from the viewpoint of improving adhesion and followability, it is preferable to perform temporary bonding while pressing, and when pressing, a laminator having a heat roll may be used while heating. The laminating temperature is preferably 20 to 130 ° C. When the temperature is 20 ° C. or higher, the adhesion between the resin film for forming the lower clad layer 6 and the base material 7 tends to be improved. When the temperature is 130 ° C. or lower, the resin layer flows too much during roll lamination. The required film thickness tends to be easily obtained. From the above viewpoint, the laminating temperature is more preferably 40 to 100 ° C. The pressure is preferably 0.2 to 0.9 MPa and the laminating speed is preferably 0.1 to 3 m / min, but these conditions are not particularly limited.
続いて、基材7上に積層された光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを光及び/又は加熱により硬化し、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムを除去し、下部クラッド層6を形成する。
下部クラッド層6を形成する際の活性光線の照射量は、0.1〜5J/cm2とすることが好ましく、加熱温度は50〜200℃とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
Subsequently, the optical waveguide clad layer forming resin film laminated on the base material 7 is cured by light and / or heating, the base film of the optical waveguide clad layer forming resin film is removed, and the lower clad layer 6 is removed. Form.
The irradiation amount of actinic rays when forming the lower cladding layer 6 is preferably 0.1 to 5 J / cm 2 and the heating temperature is preferably 50 to 200 ° C. There is no limit.
次いで、図3の(b)に示すように、第2の工程として光導波路コア部形成用樹脂フィルム9を第1の工程と同様な方法で積層する。ここで、光導波路コア部形成用樹脂フィルム9は下部クラッド層6を形成するための前記樹脂フィルムより高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。 Next, as shown in FIG. 3B, as the second step, the optical waveguide core portion-forming resin film 9 is laminated in the same manner as in the first step. Here, the resin film 9 for forming the optical waveguide core part is designed to have a higher refractive index than the resin film for forming the lower clad layer 6 and can form a core pattern with actinic rays. Preferably it consists of.
次に、図3の(c)に示すように、第3の工程としてコア部を露光し、光導波路のコアパターン(コア部2)を形成する。具体的には、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスク10を通して活性光線が画像状に照射される。また、レーザ直接描画を用いてフォトマスク10を通さずに直接活性光線を画像上に照射してもよい。活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものが挙げられる。
ここでの活性光線の照射量は、0.01〜10J/cm2であることが好ましい。0.01J/cm2以上であると、硬化反応が十分に進行し、後述する現像工程によりコア部2が流失しにくくなる傾向にあり、10J/cm2以下であると、露光量過多によりコア部2が太るということがなく、微細なパターンを形成しやすい傾向にある。以上の観点から、0.05〜5J/cm2であることがより好ましく、0.1〜3J/cm2であることがさらに好ましい。
なお、コア部2の解像度及び密着性向上の観点から、露光後に加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後の加熱までの時間は、10分以内であることが好ましい。10分以内であると紫外線照射により発生した活性種が失活しにくい傾向にある。露光後加熱の温度は40〜160℃であることが好ましく、時間は30秒〜10分であることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 3C, the core portion is exposed as a third step to form a core pattern (core portion 2) of the optical waveguide. Specifically, actinic rays are irradiated in an image form through a photomask 10 having a negative or positive mask pattern called an artwork. Alternatively, the active light beam may be directly irradiated on the image without passing through the photomask 10 by using laser direct drawing. Examples of the active light source include known light sources that effectively emit ultraviolet rays, such as carbon arc lamps, mercury vapor arc lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, and xenon lamps. In addition, there are those that effectively radiate visible light such as a photographic flood bulb and a solar lamp.
The actinic ray irradiation amount here is preferably 0.01 to 10 J / cm 2 . If it is 0.01 J / cm 2 or more, the curing reaction sufficiently proceeds, there is a tendency that the core portion 2 is less likely to flow out by a developing step described later, if it is 10J / cm 2 or less, the core by exposure excessive The portion 2 does not become fat and tends to form a fine pattern. From the viewpoints described above, more preferably 0.05~5J / cm 2, further preferably 0.1~3J / cm 2.
In addition, you may heat after exposure from a viewpoint of the resolution of the core part 2, and adhesive improvement. The time from ultraviolet irradiation to heating after exposure is preferably within 10 minutes. If it is within 10 minutes, active species generated by ultraviolet irradiation tend to be hardly deactivated. The post-exposure heating temperature is preferably 40 to 160 ° C., and the time is preferably 30 seconds to 10 minutes.
露光後、図3の(d)に示すように、光導波路コア部形成用樹脂フィルム9の基材フィルムを除去し、アルカリ性水溶液、水系現像液等の前記コア部形成用樹脂フィルムの組成に対応した現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング、ディップ及びパドル等の公知の方法により現像する。また、必要に応じて2種類以上の現像方法を併用してもよい。 After the exposure, as shown in FIG. 3 (d), the base film of the optical waveguide core portion forming resin film 9 is removed to correspond to the composition of the core portion forming resin film such as an alkaline aqueous solution or an aqueous developer. Using the developed developer, development is performed by a known method such as spraying, rocking dipping, brushing, scraping, dipping or paddle. Moreover, you may use together 2 or more types of image development methods as needed.
上記アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ;リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩;ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩;水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ジアミノプロパノール−2−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。現像に用いるアルカリ性水溶液のpHは9〜11であることが好ましく、その温度は光導波路コア部形成用樹脂フィルムの現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、及び現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。 The base of the alkaline aqueous solution is not particularly limited. For example, an alkali hydroxide such as lithium, sodium or potassium hydroxide; an alkali carbonate such as lithium, sodium, potassium or ammonium carbonate or bicarbonate; Alkali metal phosphates such as potassium phosphate and sodium phosphate; Alkali metal pyrophosphates such as sodium pyrophosphate and potassium pyrophosphate; Sodium salts such as borax and sodium metasilicate; Tetramethylammonium hydroxide, Triethanolamine And organic bases such as ethylenediamine, diethylenetriamine, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol and 1,3-diaminopropanol-2-morpholine. The pH of the alkaline aqueous solution used for development is preferably 9 to 11, and the temperature is adjusted according to the developability of the resin film for forming an optical waveguide core part. Further, in the alkaline aqueous solution, a surfactant, an antifoaming agent, a small amount of an organic solvent for accelerating development, and the like may be mixed.
前記水系現像液としては、水又はアルカリ性水溶液と1種類以上の有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。水系現像液のpHは、前記コア部形成用樹脂フィルムの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8〜12であることが好ましく、pH9〜10であることが特に好ましい。
該有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール;アセトン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテルなどが挙げられる。
これらは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
有機溶剤の濃度は、通常、2〜90質量%であることが好ましく、その温度は光導波路コア部形成用樹脂フィルムの現像性に合わせて調節される。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
The aqueous developer is not particularly limited as long as it is composed of water or an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents. The pH of the aqueous developer is preferably as low as possible within the range where the development of the resin film for forming a core part can be sufficiently performed, preferably pH 8-12, and particularly preferably pH 9-10.
Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; ketones such as acetone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol mono Examples thereof include polyhydric alcohol alkyl ethers such as ethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol monobutyl ether.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
In general, the concentration of the organic solvent is preferably 2 to 90% by mass, and the temperature is adjusted in accordance with the developability of the resin film for forming an optical waveguide core part. Further, a small amount of a surfactant, an antifoaming agent or the like may be mixed in the aqueous developer.
現像後の処理として、酸性水溶液等の洗浄液を用いて洗浄処理を行ってもよい。洗浄方法としては、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。 As a treatment after development, a washing treatment may be performed using a washing solution such as an acidic aqueous solution. The cleaning method is not particularly limited, and examples thereof include a spray method, a dipping method, a paddle method, a spin method, a brushing method, and a scraping method. Moreover, you may use these washing | cleaning methods together as needed.
前記酸性水溶液の酸としては特に制限はなく、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸;ギ酸、酢酸、マロン酸、コハク酸等のカルボン酸;乳酸、サリチル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシ酸などが挙げられる。酸は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、酸性度が高い、揮発性が低い、酸化力が小さいという観点から、硫酸が好ましい。 The acid of the acidic aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, and phosphoric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, malonic acid, and succinic acid; lactic acid, salicylic acid, malic acid, tartaric acid, Examples include hydroxy acids such as citric acid. An acid may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, sulfuric acid is preferable from the viewpoint of high acidity, low volatility, and low oxidizing power.
洗浄に用いる酸性水溶液のpHは、0を超え5以下であることが好ましい。0を超えるものであれば、酸性度、腐食性が強すぎることがなく、5以下であれば、コアパターン内に残存した不安定な1価の塩を、元の酸性官能基に効果的に変換することができる。以上の観点から、酸性水溶液のpHは0.1〜4であることがより好ましく、0.3〜3であることがさらに好ましい。酸性水溶液の温度はpHに合わせて調節される。また酸性水溶液中には、有機溶剤、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。 The pH of the acidic aqueous solution used for washing is preferably more than 0 and 5 or less. If it exceeds 0, the acidity and corrosivity are not too strong, and if it is 5 or less, the unstable monovalent salt remaining in the core pattern is effectively used as the original acidic functional group. Can be converted. From the above viewpoint, the pH of the acidic aqueous solution is more preferably from 0.1 to 4, and further preferably from 0.3 to 3. The temperature of the acidic aqueous solution is adjusted according to the pH. Further, an organic solvent, a surfactant, an antifoaming agent, or the like may be mixed in the acidic aqueous solution.
また、現像後の処理として、必要に応じて、水と前記有機溶剤からなる洗浄液を用いて光導波路のコア部2を洗浄してもよい。該有機溶剤は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。有機溶剤の濃度は通常、2〜90質量%とすることが好ましく、その温度は光導波路コア部形成用樹脂フィルムの現像性に合わせて調節される。 In addition, as a treatment after development, the core portion 2 of the optical waveguide may be washed with a washing liquid composed of water and the organic solvent as necessary. The organic solvent may be used alone or in combination of two or more. In general, the concentration of the organic solvent is preferably 2 to 90% by mass, and the temperature is adjusted according to the developability of the resin film for forming an optical waveguide core part.
現像後又は洗浄後の処理として、一般的には60〜250℃程度の加熱又は0.1〜1,000mJ/cm2程度の露光を行うことにより、コア部2をさらに硬化することがあるが、本発明においては、当該処理を行なわずに、コア部の硬化を進めない状態で以下の上部クラッド層5を形成することが好ましい。これにより、クラッド材がコア部へ効率的に浸透し易くなる傾向にある。 As processing after development or after washing, the core portion 2 may be further cured by heating at about 60 to 250 ° C. or exposure at about 0.1 to 1,000 mJ / cm 2. In the present invention, it is preferable to form the following upper clad layer 5 without carrying out the treatment and without proceeding with the hardening of the core. As a result, the clad material tends to efficiently penetrate into the core portion.
続いて、図3の(e)に示すように、第4の工程として、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを第1及び第2の工程と同様の方法で積層して上部クラッド層5を形成する。ここで、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムは、光導波路コア部形成用樹脂フィルムよりも低屈折率である。また、上部クラッド層5の厚みは、コア部2の高さより大きくすることが好ましい。
次いで、第1の工程と同様な方法で光導波路クラッド層形成用樹脂フィルムを光及び/又は熱によって硬化し、上部クラッド層5を形成する。
上記クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムがポリエチレンテレフタレート(PET)の場合、活性光線の照射量は、0.1〜5J/cm2であることが好ましい。一方、基材フィルムがポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン又はポリスルホン等の場合、PETに比べて紫外線等の短波長の活性光線を通しにくいことから、活性光線の照射量は、0.5〜30J/cm2であることが好ましい。0.5J/cm2以上であると、硬化反応が十分に進行する傾向にあり、30J/cm2以下であると、光照射の時間を低減できる傾向にある。以上の観点から、3〜27J/cm2であることがより好ましく、5〜25J/cm2であることがさらに好ましい。
なお、より硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射することが可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。活性光線照射中及び/又は照射後の加熱温度は50〜200℃であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
上部クラッド層5を形成後、必要であれば基材フィルムを除去して、光導波路1を作製することができる。
Subsequently, as shown in FIG. 3E, as the fourth step, the upper clad layer 5 is formed by laminating the resin film for forming the optical waveguide clad layer in the same manner as in the first and second steps. To do. Here, the optical waveguide clad layer forming resin film has a lower refractive index than the optical waveguide core portion forming resin film. Further, the thickness of the upper clad layer 5 is preferably larger than the height of the core portion 2.
Next, the resin film for forming an optical waveguide cladding layer is cured by light and / or heat in the same manner as in the first step, and the upper cladding layer 5 is formed.
When the base film of the resin film for forming a clad layer is polyethylene terephthalate (PET), the active light irradiation amount is preferably 0.1 to 5 J / cm 2 . On the other hand, when the base film is polyethylene naphthalate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyphenylene ether, polyether sulfide, polyethersulfone, or polysulfone, actinic rays having a short wavelength such as ultraviolet rays are used compared to PET. Since it is difficult to pass through, the irradiation amount of actinic rays is preferably 0.5 to 30 J / cm 2 . When it is 0.5 J / cm 2 or more, the curing reaction tends to proceed sufficiently, and when it is 30 J / cm 2 or less, the light irradiation time tends to be reduced. From the viewpoints described above, more preferably 3~27J / cm 2, further preferably 5~25J / cm 2.
In addition, in order to make it harden | cure, the double-sided exposure machine which can irradiate actinic light simultaneously from both surfaces can be used. Moreover, you may irradiate actinic light, heating. The heating temperature during and / or after irradiation with actinic rays is preferably 50 to 200 ° C., but these conditions are not particularly limited.
After forming the upper cladding layer 5, the base film can be removed if necessary to produce the optical waveguide 1.
本発明の光導波路は、透明性及び光伝搬性に優れているため、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態としては、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光/電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器等が挙げられる。なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなくガラスエポキシ基板等のリジッド基板、ポリイミド基板などのフレキシブル基板のどちらを用いてもよい。 Since the optical waveguide of the present invention is excellent in transparency and light propagation properties, it may be used as an optical transmission line of an optical module. Examples of the optical module include an optical waveguide with an optical fiber in which an optical fiber is connected to both ends of the optical waveguide, an optical waveguide with a connector in which a connector is connected to both ends of the optical waveguide, and a light in which the optical waveguide and the printed wiring board are combined. Examples thereof include an electrical composite substrate, an optical / electrical conversion module that combines an optical waveguide and an optical / electrical conversion element that mutually converts an optical signal and an electrical signal, and a wavelength multiplexer / demultiplexer that combines an optical waveguide and a wavelength division filter. In the photoelectric composite substrate, the printed wiring board to be combined is not particularly limited, and either a rigid substrate such as a glass epoxy substrate or a flexible substrate such as a polyimide substrate may be used.
次に、下記の実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、これらの実施例は本発明をいかなる意味においても制限するものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but these examples are not intended to limit the present invention in any way.
合成例1
[(A)クラッド層形成用ポリマー;(メタ)アクリルポリマー(A−1)の作製]
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下漏斗、及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン100質量部を投入し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、共重合モノマーとして、メタクリル酸30質量部、メタクリル酸メチル35質量部、メタクリル酸n−ブチル35質量部[メタクリル酸:メタクリル酸メチル:メタクリル酸n−ブチル(モル比)=0.35:0.35:0.25]、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3質量部及びメチルエチルケトン85質量部の混合物を、3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポリマー(A−1)溶液(固形分濃度:35質量%)を得た。
Synthesis example 1
[(A) Polymer for forming clad layer; production of (meth) acrylic polymer (A-1)]
100 parts by mass of methyl ethyl ketone was put into a flask equipped with a stirrer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, a dropping funnel, and a thermometer, and stirred while introducing nitrogen gas. The liquid temperature was raised to 65 ° C., and 30 parts by mass of methacrylic acid, 35 parts by mass of methyl methacrylate, 35 parts by mass of n-butyl methacrylate [methacrylic acid: methyl methacrylate: n-butyl methacrylate (mol) Ratio) = 0.35: 0.35: 0.25], a mixture of 3 parts by mass of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 85 parts by mass of methyl ethyl ketone was added dropwise over 3 hours, The mixture was stirred at 65 ° C. for 3 hours, and further stirred at 95 ° C. for 1 hour to obtain a (meth) acrylic polymer (A-1) solution (solid content concentration: 35 mass%).
[重量平均分子量の測定]
(メタ)アクリルポリマー(A−1)の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(構成装置:東ソー株式会社製のオンラインデガッサ「SD−8022」、デュアルポンプ「DP−8020」及び示差屈折率検出器「RI−8020」)を用いて測定した結果、80,000であった。なお、カラムは日立化成株式会社製「Gelpack GL−A150−S」及び「Gelpack GL−A160−S」を使用した。溶離液としてはテトラヒドロフランを用い、サンプル濃度0.5mg/mlとし、溶出速度を1ml/分として測定した。
[Measurement of weight average molecular weight]
The weight average molecular weight (in terms of standard polystyrene) of the (meth) acrylic polymer (A-1) is determined by GPC (component device: online degasser “SD-8022” manufactured by Tosoh Corporation, dual pump “DP-8020”, and differential refractive index detection. It was 80,000 as a result of measuring using a device "RI-8020"). As the column, “Gelpack GL-A150-S” and “Gelpack GL-A160-S” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. were used. Tetrahydrofuran was used as the eluent, the sample concentration was 0.5 mg / ml, and the elution rate was 1 ml / min.
合成例2
[(A’)コア部形成用ポリマー;(メタ)アクリルポリマー(A’−1)の作製]
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下漏斗、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート47質量部及び乳酸メチル24質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、メチルメタクリレート34質量部、ベンジルメタクリレート34質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート14質量部、メタクリル酸18質量部[メチルメタクリレート:ベンジルメタクリレート:2−ヒドロキシエチルメタクリレート:メタクリル酸(モル比)=0.34:0.19:0.11:0.21]、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)2.5質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート43質量部、及び乳酸メチル24質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポリマー(A’−1)溶液(固形分濃度:43質量%)を得た。
合成例1と同様の方法で、(メタ)アクリルポリマー(A’−1)の重量平均分子量を測定した結果、34,000であった。また、以下の方法に従って測定した酸価は、120mgKOH/gであった。
[酸価の測定]
酸価は(メタ)アクリルポリマー(A’−1)溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
Synthesis example 2
[(A ′) Core Part Forming Polymer; Production of (Meth) acrylic Polymer (A′-1)]
In a flask equipped with a stirrer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, a dropping funnel, and a thermometer, 47 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 24 parts by mass of methyl lactate were weighed and stirred while introducing nitrogen gas. . The liquid temperature was raised to 65 ° C., 34 parts by weight of methyl methacrylate, 34 parts by weight of benzyl methacrylate, 14 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 18 parts by weight of methacrylic acid [methyl methacrylate: benzyl methacrylate: 2-hydroxyethyl methacrylate: methacrylic acid (Molar ratio) = 0.34: 0.19: 0.11: 0.21], 2.5 parts by mass of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 43 masses of propylene glycol monomethyl ether acetate And a mixture of 24 parts by mass of methyl lactate were added dropwise over 3 hours, followed by stirring at 65 ° C. for 3 hours, and further stirring at 95 ° C. for 1 hour, Solid content concentration: 43 mass%) was obtained.
It was 34,000 as a result of measuring the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A'-1) by the method similar to the synthesis example 1. Moreover, the acid value measured according to the following method was 120 mgKOH / g.
[Measurement of acid value]
The acid value was calculated from the amount of 0.1 mol / L potassium hydroxide aqueous solution required to neutralize the (meth) acrylic polymer (A′-1) solution. At this time, the point at which the phenolphthalein added as an indicator changed color from colorless to pink was defined as the neutralization point.
実施例1
[光導波路クラッド材1の調合]
(A)成分として、合成例1で得た(メタ)アクリルポリマー(A−1)溶液143質量部(固形分換算で50質量部)、(B)成分として、ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−400」、(B1)成分に相当する。)45質量部及びペンタエリスリトールトリアクリレート(共栄社化学株式会社製「PE−3A」、(B2−2)成分に相当する。)5質量部、(C)成分として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア819」)1質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度25℃、回転数400rpmの条件で6時間撹拌し、樹脂ワニス状の光導波路クラッド材1を得た。
該光導波路クラッド材1は、孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製「PF020」)及び孔径0.5μmのメンブレンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製「J050A」)を用いて、温度25℃、圧力0.4MPaの条件で、得られた樹脂ワニスを加圧濾過し、続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度50mmHgの条件で15分間減圧脱泡してから、後述の樹脂フィルムの製造に用いた。
Example 1
[Preparation of optical waveguide cladding material 1]
As the component (A), 143 parts by mass (50 parts by mass in terms of solid content) of the (meth) acrylic polymer (A-1) solution obtained in Synthesis Example 1, and as the component (B), polyethylene glycol diacrylate (Shin Nakamura Chemical) "A-400" manufactured by Kogyo Co., Ltd., corresponding to component (B1).) 45 parts by mass and pentaerythritol triacrylate (corresponding to "PE-3A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., (B2-2) component) As a component (C), 5 parts by mass, 1 part by mass of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by BASF Japan Ltd.) is weighed into a wide-mouthed plastic bottle, and a stirrer is used. Then, the mixture was stirred for 6 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a rotational speed of 400 rpm to obtain a resin varnish-like optical waveguide clad material 1.
The optical waveguide clad material 1 is made by using a polyflon filter having a pore diameter of 2 μm (“PF020” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) and a membrane filter having a pore diameter of 0.5 μm (“J050A” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) at a temperature of 25 ° C. The obtained resin varnish was filtered under pressure at a pressure of 0.4 MPa, and subsequently degassed under reduced pressure for 15 minutes using a vacuum pump and a bell jar at a reduced pressure of 50 mmHg. Used for.
[光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1の作製]
上記で得られた光導波路クラッド材1を、PETフィルム(東洋紡株式会社製「コスモシャインA4100」、厚み50μm)の非処理面上に、塗工機(株式会社ヒラノテクシード製「マルチコーターTM−MC」)を用いて塗布した。100℃で20分乾燥した後、保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスA31」、厚み25μm)を貼付け、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層の厚みに付いては、実施例中に記載する。また、下部クラッド層の硬化後の膜厚と塗工後の膜厚は同一であった。本実施例で用いた上部クラッド層形成用樹脂フィルムの膜厚についても実施例中に記載する。実施例中に記載する上部クラッド層形成用樹脂フィルムの膜厚は塗工後の膜厚とする。
[Preparation of resin film 1 for forming optical waveguide cladding layer]
The optical waveguide clad material 1 obtained above was coated on a non-treated surface of a PET film (“Cosmo Shine A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 50 μm) (“Multicoater TM-MC” manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.). ) Was applied. After drying at 100 ° C. for 20 minutes, a surface release treatment PET film (“Purex A31” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd., thickness 25 μm) was applied as a protective film to obtain a resin film 1 for forming an optical waveguide cladding layer. At this time, the thickness of the resin layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine. In this embodiment, the thickness of the lower clad layer used is described in the embodiment. Moreover, the film thickness after hardening of a lower clad layer and the film thickness after coating were the same. The film thickness of the upper clad layer forming resin film used in this example is also described in the examples. The film thickness of the upper clad layer forming resin film described in the examples is the film thickness after coating.
実施例2〜5
[光導波路クラッド材2〜5の調合]
実施例1において、(B)成分として、ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−400」)の代わりに、ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−600」)、ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−1000」)、ポリエチレンプリピレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−1000PER」)又はポリエチレンプリピレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−3000PER」)を用いたこと以外は同様にして、それぞれ光導波路クラッド材2〜5を得た。
[光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム2〜5の作製]
そして、実施例1において、光導波路クラッド材1の代わりに上記光導波路クラッド材2〜5を用いたこと以外は同様にして、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム2〜5を作製した。
Examples 2-5
[Preparation of optical waveguide cladding materials 2 to 5]
In Example 1, instead of polyethylene glycol diacrylate (“A-400” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) as component (B), polyethylene glycol diacrylate (“A-600” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) was used. ), Polyethylene glycol diacrylate (“A-1000” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), polyethylene propylene glycol diacrylate (“A-1000PER” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), or polyethylene propylene glycol diacrylate (new) Optical waveguide cladding materials 2 to 5 were obtained in the same manner except that “A-3000PER” manufactured by Nakamura Chemical Co., Ltd. was used.
[Production of resin films 2 to 5 for forming optical waveguide cladding layer]
In Example 1, resin films 2 to 5 for forming an optical waveguide cladding layer were produced in the same manner except that the optical waveguide cladding materials 2 to 5 were used instead of the optical waveguide cladding material 1.
実施例6
[光導波路クラッド材6((D)成分の熱硬化性樹脂を含有する。)の調合]
(A)成分として、合成例1で得た(メタ)アクリルポリマー(A−1)溶液143質量部(固形分換算で50質量部)、(B)成分として、ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製「A−400」、(B1)成分に相当する。)40質量部及びペンタエリスリトールトリアクリレート(共栄社化学株式会社製「PE−3A」、(B2−2)成分に相当する。)5質量部、(C)成分として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア819」)1質量部、(D)成分として、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル(共栄社化学株式会社製「エポライト4000」)5質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度25℃、回転数400rpmの条件で6時間撹拌することによって、樹脂ワニス状の光導波路クラッド材6を得た。
そして、実施例1において、光導波路クラッド材1の代わりに光導波路クラッド材6を用いたこと以外は同様にして、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム6を作製した。
Example 6
[Preparation of optical waveguide cladding material 6 (containing thermosetting resin of component (D)]]
As the component (A), 143 parts by mass (50 parts by mass in terms of solid content) of the (meth) acrylic polymer (A-1) solution obtained in Synthesis Example 1, and as the component (B), polyethylene glycol diacrylate (Shin Nakamura Chemical) “A-400” manufactured by Kogyo Co., Ltd. (corresponding to component (B1).) 40 parts by mass and pentaerythritol triacrylate (corresponding to “PE-3A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., (B2-2) component) 5 parts by weight, 1 part by weight of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by BASF Japan Ltd.) as component (C), and hydrogenated bisphenol A di-component as component (D) 5 parts by mass of glycidyl ether (“Epolite 4000” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) is weighed in a wide-mouthed plastic bottle, and a temperature of 25 is measured using a stirrer. , By stirring 6 hours at a rotation speed 400rpm conditions, to obtain a resin varnish-shaped optical waveguide cladding material 6.
Then, in Example 1, an optical waveguide clad layer forming resin film 6 was produced in the same manner except that the optical waveguide clad material 6 was used instead of the optical waveguide clad material 1.
参考例1
[光導波路コア材1の調合]
(A’)成分として、合成例2で得た(メタ)アクリルポリマー(A’−1)溶液140質量部(固形分換算で60質量部)、(B’)成分として、下記のエトキシ化ビスフェノールAジアクリレート(日立化成株式会社製「ファンクリルFA−324A」)40質量部、
さらに(C’)成分として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア819」)1質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度25℃、回転数400rpmの条件で、6時間撹拌して、樹脂ワニス状の光導波路コア材1を調合した。
該光導波路コア材1は、孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製「PF020」)及び孔径0.5μmのメンブレンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製「J050A」)を用いて、温度25℃、圧力0.4MPaの条件で加圧濾過し、続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度50mmHgの条件で15分間減圧脱泡してから、後述の樹脂フィルムの製造に用いた。
Reference example 1
[Preparation of optical waveguide core material 1]
As component (A ′), 140 parts by mass (60 parts by mass in terms of solid content) of the (meth) acrylic polymer (A′-1) solution obtained in Synthesis Example 2, and as component (B ′), the following ethoxylated bisphenol 40 parts by mass of A diacrylate (“Fancryl FA-324A” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Furthermore, as a component (C ′), 1 part by mass of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by BASF Japan Ltd.) is weighed into a wide-mouthed plastic bottle, and a stirrer is used. The resin varnish-like optical waveguide core material 1 was prepared by stirring for 6 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a rotational speed of 400 rpm.
The optical waveguide core material 1 has a temperature of 25 ° C. using a polyflon filter having a pore diameter of 2 μm (“PF020” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) and a membrane filter having a pore diameter of 0.5 μm (“J050A” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) The solution was filtered under pressure at a pressure of 0.4 MPa, then degassed under reduced pressure for 15 minutes using a vacuum pump and a bell jar under conditions of a reduced pressure of 50 mmHg, and then used for production of a resin film described later.
[光導波路コア部形成用樹脂フィルム1の作製]
上記で得られた光導波路コア材1を、PETフィルム(東洋紡株式会社製「コスモシャインA1517」、厚み16μm)の非処理面上に塗工機(株式会社ヒラノテクシード製「マルチコーターTM−MC」)を用いて塗布した。100℃で20分乾燥した後、保護フィルムとして離型PETフィルム(帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスA31」、厚み25μm)を貼付け、光導波路コア部形成用樹脂フィルム1を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、50μmとなるように調節した。
[Preparation of resin film 1 for forming optical waveguide core]
The optical waveguide core material 1 obtained above was coated on a non-treated surface of a PET film (“Cosmo Shine A1517” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 16 μm) (“Multicoater TM-MC” manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.). It applied using. After drying at 100 ° C. for 20 minutes, a release PET film (“Purex A31” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd., thickness: 25 μm) was attached as a protective film to obtain a resin film 1 for forming an optical waveguide core part. At this time, the thickness of the resin layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine, but in this example, the thickness after curing was adjusted to 50 μm.
(波長850nmにおける光線透過率の測定)
保護フィルム(ピューレックスA31)を除去した前記光導波路コア部形成用樹脂フィルム1を、スライドガラス(サイズ:76mm×26mm、厚さ:1mm)上に前記真空ラミネータを用いて、圧力0.4MPa、温度50℃及び加圧時間30秒の条件で積層した。次いで、前記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1,000mJ/cm2照射し、さらに160℃で1時間加熱し、光線透過率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長850nmにおける光線透過率を、分光光度計(株式会社日立ハイテクノロージーズ製、「U−3310」)を用いて測定したところ、99.8%であった。
(Measurement of light transmittance at a wavelength of 850 nm)
The resin film 1 for forming an optical waveguide core part from which the protective film (Purex A31) has been removed is placed on a slide glass (size: 76 mm × 26 mm, thickness: 1 mm) using the vacuum laminator, a pressure of 0.4 MPa, Lamination was performed under conditions of a temperature of 50 ° C. and a pressurization time of 30 seconds. Next, ultraviolet rays (wavelength 365 nm) were irradiated at 1,000 mJ / cm 2 with the ultraviolet exposure machine, and further heated at 160 ° C. for 1 hour to prepare a sample for measuring light transmittance. When the light transmittance of this sample at a wavelength of 850 nm was measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, “U-3310”), it was 99.8%.
(全光線透過率、YI値、及びヘイズの測定)
前記光線透過率測定用のサンプルを用いて、全光線透過率、YI(Yellowness Index)値、及びヘイズを測定した。測定には色度計(日本電飾工業株式会社製「COH−300A」)を使用した。YI値は0.15以下が好ましく、0.1以下がより好ましい。
全光線透過率は99.6%、YI値は0.09、ヘイズは0.1%であった。
(Measurement of total light transmittance, YI value, and haze)
Using the sample for measuring light transmittance, total light transmittance, YI (Yellowness Index) value, and haze were measured. A chromaticity meter (“COH-300A” manufactured by Nippon Denka Kogyo Co., Ltd.) was used for the measurement. The YI value is preferably 0.15 or less, and more preferably 0.1 or less.
The total light transmittance was 99.6%, the YI value was 0.09, and the haze was 0.1%.
実施例7
[光導波路の製造]
真空加圧式ラミネータ(株式会社名機製作所製「MVLP−500/600」)を用い、圧力0.4MPa、温度80℃及び加圧時間30秒の条件で、保護フィルムを除去した実施例1で得た光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1(クラッド層樹脂厚さ:15μm)を、ガラスエポキシ樹脂基板(日立化成株式会社製「MCL−E−679FB」、板厚0.6mm、銅箔はエッチングにより除去)上に積層した。
次に、紫外線露光機(大日本スクリーン株式会社製「MAP−1200−L」)を用い、紫外線(波長365nm)を4,000mJ/cm2照射後、基材フィルム(コスモシャインA4100)を除去し、下部クラッド層6を形成した。
Example 7
[Manufacture of optical waveguides]
Obtained in Example 1 in which a protective film was removed using a vacuum pressure laminator (“MVLP-500 / 600” manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) under conditions of a pressure of 0.4 MPa, a temperature of 80 ° C., and a pressurization time of 30 seconds. The optical waveguide clad layer forming resin film 1 (cladding layer resin thickness: 15 μm) was etched with a glass epoxy resin substrate (“MCL-E-679FB” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., plate thickness 0.6 mm, copper foil was etched) Removal) was laminated on top.
Next, the substrate film (Cosmo Shine A4100) is removed after irradiating the ultraviolet ray (wavelength 365 nm) with 4,000 mJ / cm 2 using an ultraviolet exposure machine (Dainippon Screen Co., Ltd. “MAP-1200-L”). The lower clad layer 6 was formed.
続いて、ロールラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製「HLM−1500」)を用い、保護フィルムを除去した参考例1で得た光導波路コア部形成用樹脂フィルム1を、下部クラッド層6上に、圧力0.5MPa、温度50℃、速度0.2m/minの条件で積層した。
次いで、幅35μmの光導波路形成用パターンを有するネガ型フォトマスクを介し、前記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を1,800mJ/cm2照射して、コア部2を露光した。基材フィルム(コスモシャインA1517)を除去した後、スプレー式現像装置(株式会社山縣機械製「RX−40D」)を用い、1質量%炭酸ナトリウム水溶液にて温度30℃、スプレー圧0.15MPa、現像時間90秒の条件で現像した。続いて、0.3質量%硫酸水溶液(pH1)を用いて洗浄した後、さらに純水にて洗浄し、コアパターンを形成した。
Subsequently, the resin film 1 for forming an optical waveguide core part obtained in Reference Example 1 from which the protective film was removed using a roll laminator (“HLM-1500” manufactured by Hitachi Chemical Technoplant Co., Ltd.) is formed on the lower clad layer 6. And a pressure of 0.5 MPa, a temperature of 50 ° C., and a speed of 0.2 m / min.
Subsequently, the core part 2 was exposed by irradiating 1,800 mJ / cm < 2 > of ultraviolet rays (wavelength 365 nm) with the said ultraviolet exposure machine through the negative photomask which has an optical waveguide formation pattern of width 35 micrometers. After removing the base film (Cosmo Shine A1517), using a spray-type developing device (“RX-40D” manufactured by Yamazaki Kikai Co., Ltd.), a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution at a temperature of 30 ° C., a spray pressure of 0.15 MPa Development was performed under conditions of a development time of 90 seconds. Subsequently, the substrate was washed with a 0.3% by mass sulfuric acid aqueous solution (pH 1), and further washed with pure water to form a core pattern.
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルムを除去した実施例1で得た光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1(クラッド層樹脂厚さ:70μm)を、コア部2及び下部クラッド層6上に、圧力0.4MPa、温度80℃及び加圧時間30秒の条件で積層した。紫外線(波長365nm)を4,000mJ/cm2照射し、基材フィルム(コスモシャインA4100)を除去して、上部クラッド層5を形成し、図1(a)に示す光導波路1を得た。その後、ダイシングソー(株式会社ディスコ製「DAD−341」)を用いて長さ10cmのリジッド光導波路を切り出した。下記測定方法に従って、得られた光導波路の光伝搬損失を測定した。結果を表1に示す。 Next, the resin film 1 for forming an optical waveguide clad layer (cladding layer resin thickness: 70 μm) obtained in Example 1 from which the protective film was removed using the vacuum pressure laminator was used for the core portion 2 and the lower clad layer 6. On top of this, lamination was performed under conditions of a pressure of 0.4 MPa, a temperature of 80 ° C., and a pressing time of 30 seconds. Ultraviolet rays (wavelength 365 nm) were irradiated at 4,000 mJ / cm 2 , the base film (Cosmo Shine A4100) was removed, and the upper cladding layer 5 was formed to obtain the optical waveguide 1 shown in FIG. Thereafter, a rigid optical waveguide having a length of 10 cm was cut out using a dicing saw (“DAD-341” manufactured by DISCO Corporation). According to the following measurement method, the optical propagation loss of the obtained optical waveguide was measured. The results are shown in Table 1.
[光伝搬損失の測定]
光導波路の光伝搬損失を、光源に波長850nmを中心波長とするVCSEL(EXFO社製「FLS−300−01−VCL」)、受光センサ(株式会社アドバンテスト製「Q82214」)、入射ファイバ(SI−10/125シングルモードファイバ、NA=0.14)、及び出射ファイバ(SI−114/125、NA=0.22)を用いて測定した。光伝搬損失は、光損失測定値(dB)を光導波路長(10cm)で割ることにより算出し、以下の基準で評価した。
A:0.15dB/cm以下
B:0.15dB/cmより大きく、0.20dB/cm以下
C:0.20dB/cmより大きい
[Measurement of optical propagation loss]
The optical propagation loss of the optical waveguide is a VCSEL (“FLS-300-01-VCL” manufactured by EXFO) having a wavelength of 850 nm as a light source, a light receiving sensor (“Q82214” manufactured by Advantest Co.), and an incident fiber (SI−). 10/125 single mode fiber, NA = 0.14), and output fiber (SI-114 / 125, NA = 0.22). The optical propagation loss was calculated by dividing the optical loss measurement value (dB) by the optical waveguide length (10 cm), and evaluated based on the following criteria.
A: 0.15 dB / cm or less B: Greater than 0.15 dB / cm and 0.20 dB / cm or less C: Greater than 0.20 dB / cm
実施例8〜11
実施例7において、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1の代わりに、実施例2〜5で得た光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム2〜5(クラッド層樹脂厚さ:70μm)を用いたこと以外は同様にして光導波路を製造し、光伝搬損失を測定した。結果を表1に示す。
Examples 8-11
In Example 7, instead of the optical waveguide clad layer forming resin film 1, the optical waveguide clad layer forming resin films 2 to 5 (cladding layer resin thickness: 70 μm) obtained in Examples 2 to 5 were used. An optical waveguide was manufactured in the same manner except that, and the optical propagation loss was measured. The results are shown in Table 1.
実施例12
実施例7において、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1の代わりに、実施例6で得た光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム6(クラッド層樹脂厚さ:70μm)を用いたこと、及び、下部クラッド層6の形成後と上部クラッド層5の形成後にそれぞれ170℃で1時間加熱硬化処理を行なったこと以外は同様にして光導波路を製造し、光伝搬損失を測定した。結果を表1に示す。
Example 12
In Example 7, instead of the optical waveguide clad layer forming resin film 1, the optical waveguide clad layer forming resin film 6 (clad layer resin thickness: 70 μm) obtained in Example 6 was used, and the lower part An optical waveguide was manufactured in the same manner except that the heat curing treatment was performed at 170 ° C. for 1 hour after the formation of the clad layer 6 and the upper clad layer 5, and the optical propagation loss was measured. The results are shown in Table 1.
実施例13
上記で作製した光導波路における、コア部の内部の屈折率分布を確認するために、下記のようなサンプルを作製し、屈折率を測定し、屈折率分布について評価した。
(コア部の内部の屈折率変化の測定)
(1)コアパターンの形成
ポリイミド基板(東レ・デュポン(株)社製「カプトン200EN」、サイズ:60×20mm、厚さ:50μm)上に、ロールラミネータ(日立化成テクノプラント株式会社製「HLM−1500」)を用いて、保護フィルムを除去した光導波路コア部形成用樹脂フィルム1(厚み:5μm)を、圧力0.5MPa、温度50℃、速度0.2m/minの条件で積層した。
次いで、紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を1,000mJ/cm2照射して、光導波路コア部形成用樹脂フィルム1を露光した。その後、基材フィルム(コスモシャインA1517)を除去した後、スプレー式現像装置(株式会社山縣機械製「RX−40D」)を用い、1質量%炭酸ナトリウム水溶液にて温度30℃、スプレー圧0.15MPa、現像時間90秒の条件で現像した。続いて、0.3質量%硫酸水溶液(pH1)を用いて洗浄した後、さらに純水にて洗浄した。
(2)上部クラッド層の形成
続いて光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1(厚み:70μm)を上記コアフィルム上に積層し、紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を4,000mJ/cm2照射した。
(3)屈折率の測定
次いで、樹脂層(すなわち、光導波路コア部形成用樹脂フィルム1由来のコア材及び光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1由来のクラッド材)をポリイミド基板から剥がし、これをサンプルBとした。
サンプルBのポリイミド基板と接していた面(光導波路コア1フィルム側)について、プリズム結合式屈折率計(Metricon社製「Model2020」)を用いて屈折率を測定し、屈折率Bとした。
Example 13
In order to confirm the refractive index distribution inside the core part in the optical waveguide produced as described above, the following samples were prepared, the refractive index was measured, and the refractive index distribution was evaluated.
(Measurement of refractive index change inside the core)
(1) Formation of core pattern On a polyimide substrate (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., size: 60 × 20 mm, thickness: 50 μm), a roll laminator (“HLM-” manufactured by Hitachi Chemical Technoplant Co., Ltd.) 1500 ”), the optical waveguide core portion-forming resin film 1 (thickness: 5 μm) from which the protective film was removed was laminated under the conditions of a pressure of 0.5 MPa, a temperature of 50 ° C., and a speed of 0.2 m / min.
Next, ultraviolet light (wavelength 365 nm) was irradiated with 1,000 mJ / cm 2 with an ultraviolet exposure machine to expose the optical waveguide core portion forming resin film 1. Then, after removing the base film (Cosmo Shine A1517), using a spray type developing device (“RX-40D” manufactured by Yamazaki Kikai Co., Ltd.), a 1% by weight aqueous sodium carbonate solution at a temperature of 30 ° C. and a spray pressure of 0. Development was performed under conditions of 15 MPa and a development time of 90 seconds. Subsequently, the substrate was washed with a 0.3% by mass sulfuric acid aqueous solution (pH 1), and further washed with pure water.
(2) Formation of upper clad layer Subsequently, an optical waveguide clad layer forming resin film 1 (thickness: 70 μm) is laminated on the core film, and ultraviolet rays (wavelength 365 nm) are irradiated with 4,000 mJ / cm 2 with an ultraviolet exposure machine. did.
(3) Measurement of refractive index Next, the resin layer (that is, the core material derived from the resin film 1 for forming an optical waveguide core part and the clad material derived from the resin film 1 for forming an optical waveguide cladding layer) is peeled off from the polyimide substrate. Sample B was designated.
The refractive index of the surface of sample B that was in contact with the polyimide substrate (optical waveguide core 1 film side) was measured using a prism-coupled refractometer (“Model 2020” manufactured by Metricon), and the refractive index B was obtained.
(サンプルA、C、Dの作製及び屈折率測定)
サンプルA:上記サンプルBの作製の「(2)上部クラッド層の形成」で使用した光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1(厚み:70μm)について、紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を4,000mJ/cm2照射したものをサンプルAとした。得られたサンプルAについて、サンプルBと同様の条件で屈折率を測定し、屈折率A(クラッド材1の屈折率)とした。
サンプルC及びD:光導波路コア部形成用樹脂フィルム1の厚みを10μm及び15μmに変更した光導波路コア部形成用樹脂フィルム2及び3を準備した。次いで、サンプルBの作製において、光導波路コア部形成用樹脂フィルム1を、各々光導波路コア部形成用樹脂フィルム2及び3に変更したこと以外は、サンプルBと同様にして、サンプルC及びDを作製した。得られたサンプルC及びDについて、サンプルBと同様の条件で屈折率を測定し、屈折率C及びDとした。
(Preparation of samples A, C, and D and measurement of refractive index)
Sample A: For the optical waveguide clad layer forming resin film 1 (thickness: 70 μm) used in “(2) Formation of upper clad layer” in the preparation of sample B, ultraviolet rays (wavelength 365 nm) were applied with an ultraviolet exposure machine. Sample A was irradiated with 000 mJ / cm 2 . About the obtained sample A, the refractive index was measured on the same conditions as the sample B, and it was set as the refractive index A (refractive index of the clad material 1).
Samples C and D: Optical waveguide core portion forming resin films 2 and 3 in which the thickness of the optical waveguide core portion forming resin film 1 was changed to 10 μm and 15 μm were prepared. Next, in the preparation of Sample B, Samples C and D were prepared in the same manner as Sample B, except that the optical waveguide core portion forming resin film 1 was changed to the optical waveguide core portion forming resin films 2 and 3, respectively. Produced. About the obtained samples C and D, the refractive index was measured on the same conditions as the sample B, and it was set as the refractive indexes C and D.
実施例14〜18
実施例13において、光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム1の代わりに、実施例2〜6で得た光導波路クラッド層形成用樹脂フィルム2〜6(厚みはいずれも70μm)を用いたこと以外は同様にしてサンプルA〜Dを作製し、屈折率A〜Dを測定した。結果を表2に示す。
Examples 14-18
In Example 13, instead of using the resin film 1 for forming an optical waveguide cladding layer, the resin films 2 to 6 for forming an optical waveguide cladding layer obtained in Examples 2 to 6 (all thicknesses are 70 μm) were used. Similarly, Samples A to D were prepared, and refractive indexes A to D were measured. The results are shown in Table 2.
表2の結果から、本発明のクラッド材を用いた実施例7〜12で作製した光導波路のコア部(コアパターン)の屈折率は、上部クラッド層からの距離が0μmから15μmとなるにしたがい、徐々に(緩やかに)屈折率が変化していることが分かる。すなわち、本発明で得られた光導波路は、コアパターン外周周辺部4からコアパターン中心部へかけての屈折率変化が緩やかな分布となっている。そのため、従来の光導波路に比べて、より一層の光伝搬損失の低減が可能となったものと推察する。 From the results of Table 2, the refractive index of the core portion (core pattern) of the optical waveguides produced in Examples 7 to 12 using the clad material of the present invention is as the distance from the upper clad layer becomes 0 μm to 15 μm. It can be seen that the refractive index changes gradually (slowly). That is, the optical waveguide obtained by the present invention has a gradual distribution of refractive index change from the core pattern outer periphery 4 to the core pattern center. Therefore, it is presumed that the optical propagation loss can be further reduced as compared with the conventional optical waveguide.
本発明の光導波路クラッド材は光伝搬損失の低減が可能であるため、光導波路のクラッド層の材料として有用である。 Since the optical waveguide cladding material of the present invention can reduce the light propagation loss, it is useful as a material for the cladding layer of the optical waveguide.
1 光導波路
2 コア部
3 コアパターン中心部
4 コアパターン外周周辺部
5 上部クラッド層
6 下部クラッド層
7 基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical waveguide 2 Core part 3 Core pattern center part 4 Core pattern outer periphery periphery part 5 Upper clad layer 6 Lower clad layer 7 Base material
Claims (17)
(B)2つ以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物が、(B1)ポリエチレングリコールに由来する構造単位を有するポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含有する、光導波路クラッド材。 (A) a polymer having an acidic substituent, (B) a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups, and (C) a polymerization initiator,
(B) An optical waveguide cladding material in which the polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated groups contains (B1) polyalkylene glycol di (meth) acrylate having a structural unit derived from polyethylene glycol.
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